TWI744282B - 光學薄膜 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種光學薄膜，其為可顯示出對420nm附近的短波長之可見光具有高度吸收選擇性，而具有高度的藍光阻斷之機能，使用於顯示裝置時，可賦予良好的顯示特性之光學薄膜。

滿足下述式(1)及(2)之光學薄膜。

A(420)≧1 (1)

A(450)/A(420)≦0.3 (2)

〔式中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度〕。

Description

光學薄膜

本發明為有關光學薄膜及含有前述光學薄膜之顯示裝置。

有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等的平面面板顯示裝置(FPD)中，多使用偏光板或相位差薄膜等光學薄膜。以往，該些光學薄膜為防止受到紫外線而劣化等，多採取於偏光板之保護薄膜上添加紫外線吸收劑等對策(專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]特開2006-308936號公報

近年來，顯示器中，常產生長時間觀看顯示器時會有疲勞或視力減低之問題，其對應之方法，一般為 尋求可阻斷短波長之可見光的藍光阻斷機能。另外，為使顯示裝置顯現出良好的色彩表現之目的，又以不易吸收藍色光線的波長450nm附近之光線者為佳。因此，急需尋求一種可以選擇吸收波長420nm附近之光線的光學薄膜。

本發明，則以提供一種可顯示出對420nm附近的短波長之可見光具有高度吸收選擇性，而具有高度的藍光阻斷之機能，使用於顯示裝置時，可賦予良好的顯示特性光學薄膜為目的。

本發明可提供以下之適當的態樣〔1〕~〔15〕者。

〔1〕一種光學薄膜，其特徵為，滿足下述式(1)及(2)者；A(420)≧1 (1)

A(450)/A(420)≦0.3 (2)〔式中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度〕。

〔2〕如前述〔1〕記載之光學薄膜，其至少含有1個黏著劑層。

〔3〕如前述〔1〕或〔2〕記載之光學薄膜，其中，前述 黏著劑層為存在於光學薄膜的構成之內部，或存在於光學薄膜之最表面。

〔4〕如前述〔2〕或〔3〕記載之光學薄膜，其中，前述黏著劑層為由含有：

(A)丙烯酸樹脂

(B)交聯劑

(C)滿足下述式(3)之光選擇吸收性化合物：ε(450)/ε(420)≦0.3 (3)〔式中，ε(450)表示波長450nm中之克吸光係數、ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數〕之黏著劑組成物所形成者。

〔5〕如前述〔4〕記載之光學薄膜，其中，前述黏著劑組成物為含有：(A)以丙烯酸樹脂的固形成份全體量為基準，(A-1)：式(A-1)所示(甲基)丙烯酸酯單體為50~99.9質量%；

〔式(A-1)中，R^p表示氫原子或甲基，R^q表示碳數 1~20之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子，可被-O-(C₂H₄O)_n-R^r所取代(n表示0~4之整數，R^r表示碳數1~12之烷基或碳數1~12之芳基)〕與，(A-2)：具有極性官能基之不飽和單體0.1~50質量%作為構成成份之共聚物，且重量平均分子量為50萬~200萬之丙烯酸樹脂，及(B)相對於前述丙烯酸樹脂100質量份，為0.01~10質量份之交聯劑。

〔6〕如前述〔4〕或〔5〕記載之光學薄膜，其中，相對於丙烯酸樹脂100質量份，為含有0.01~10質量份之前述光選擇吸收性化合物。

〔7〕如前述〔1〕~〔6〕之任一者所記載的光學薄膜，其為含有滿足下述式(3)、式(4)及式(5)之光選擇吸收性化合物。

ε(450)/ε(420)≦0.3 (3)

λmax≦430nm (4)

ε(420)≧20 (5)〔式中，ε(450)表示波長450nm中之克吸光係數、ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數、λmax表示光選擇吸收性化合物之最大吸收波長〕。

〔8〕如前述〔4〕~〔7〕之任一者所記載的光學薄膜， 其中，前述光選擇吸收性化合物為由具有二次甲基(Dimethine)骨架之化合物、偶氮化合物，及具有吡唑酮(pyrazolone)骨架之化合物所成之群所選出之化合物。

〔9〕如前述〔4〕~〔8〕之任一者所記載的光學薄膜，其中，前述光選擇吸收性化合物為具有二次甲基骨架之化合物，且為二次甲基骨架的一邊之側至少具有1個電子吸引性基，另一邊之側至少具有1個電子供應性基之化合物。

〔10〕如前述〔4〕~〔9〕之任一者所記載的光學薄膜，其中，前述光選擇吸收性化合物為含有由式(I)所表示之化合物、式(II)所表示之化合物，及式(III)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種：

〔式(I)中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，R²及R³，互相獨立表示氫原子或碳數1~12之烷基，R⁴及R⁵互相獨立表示之碳數1~50之烷基，或至少具有1個伸甲基之碳數3~50之烷基，且該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代之烷基， 該烷基上的碳原子可鍵結取代基，R⁴及R⁵可互相連結形成環構造，R⁴及R⁵所形成之環構造中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個，可被-CO-、-NR⁶-、-NCH₂COOR^6-1-、-O-、-CS-或-COO-所取代，R⁶及R^6-1互相獨立表示之碳數1~12之烷基；A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子；X¹及X²各自獨立表示-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-NR⁷-、-NR⁸CO-，或-CONR⁹-，R⁷、R⁸及R⁹各自獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基〕

〔式(II)中，R¹⁰及R¹¹互相獨立表示之碳數1~12之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，R¹⁰及R¹¹可互相連結形成環構造，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕

〔式(III)中，Z¹表示氫原子、碳數1~10之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，X³及X⁴互相獨立表示之電子吸引性基，R¹表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。

〔11〕如前述〔10〕記載之光學薄膜，其中，前述式(I)及式(II)中之X¹及X²，互相獨立由-CO-、-COO-或-CONR⁹-所選出。

〔12〕如前述〔10〕或〔11〕記載之光學薄膜，其中，式(I)中之R²及R³為氫原子，A為伸甲基或硫原子。

〔13〕如前述〔10〕記載之光學薄膜，其中，前述式(II)所表示之化合物為，式(II)中之R¹⁰及R¹¹為碳數1~10之烷基的化合物，或下述式(II-1)所表示之化合物。

〔式(II-1)中，Y¹表示伸甲基或氧原子，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。

〔14〕如前述〔1〕~〔13〕之任一者所記載的光學薄膜，其至少含有1個偏光板，且滿足下述式(1-1)及 (2-1)。

Ap(420)≧1 (1-1)

Ap(450)/Ap(420)≦0.3 (2-1) 〔式中，Ap(420)表示偏光板透過方向之波長420nm中的光學薄膜之吸光度，Ap(450)表示偏光板透過方向之波長450nm中的光學薄膜之吸光度〕。

〔15〕如前述〔1〕~〔14〕之任一者所記載的光學薄膜，其中，至少含有1個相位差薄膜。

〔16〕一種顯示裝置，其特徵為，含有前述〔1〕~〔15〕之任一者所記載的光學薄膜。

依本發明之內容，可提供一種顯示出對420nm附近的短波長之可見光具有高度吸收選擇性，而具有高度的藍光阻斷之機能，使用於顯示裝置時，可賦予良好的顯示特性光學薄膜。

[實施發明之形態]

以下，將對本發明之實施形態進行詳細之說明。又，本發明之範圍並不受此處說明之實施形態所限制，於無損本發明主旨之範圍內，可進行各種之變更。

本發明之光學薄膜，為滿足滿足下述式(1)及(2)之光學薄膜。

A(420)≧1 (1)

A(450)/A(420)≦0.3 (2)

式(1)及(2)中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度。滿足前述式(1)及(2)時，該光學薄膜於波長420nm附近顯示出高選擇吸收性，而具有高藍光阻斷機能，故組合於顯示裝置時，可賦予良好的顯示特性。又，本說明書中之「藍光」，係指波長380~450nm範圍的光線之意。

A(420)之值越大時，表示波長420nm中之吸收越大，該數值未達1時，於波長420nm中之吸收較小，而難以確保對420nm附近的短波長之可見光具有充分的高吸收性。因此，本發明之光學薄膜中之A(420)之值，較佳為2.0以上，更佳為2.5以上，特佳為3.0以上。A(420)之值的上限並未有特別限制，就避免光選擇吸收性化合物由含有該化合物之層於存放時發生滲出(Bleed Out)現象，通常以5.0以下為佳。

A(450)/A(420)之值表示相對於波長420nm中之吸收的大小之波長450nm中之吸收的大小，該數值越小時，表示於420nm附近的波長區域具有特殊的吸收。該數值越小時，表示其為具有優良光選擇吸收性之光學薄膜。該數值超過0.3時，將無法充分吸收420nm附近之光線，且因其會吸收有機EL元件等的顯示元件所發光的450nm附近之藍色光，故將其使用於顯示裝置時， 將無法得到良好的色彩表現，而會有降低顯示裝置之顯示特性的傾向。因此，本發明之光學薄膜中之A(450)/A(420)之值，較佳為0.25以下，更佳為0.20以下，特佳為0.15以下，特佳為0.10以下，特佳為0.08以下。其下限值並未有特別限制，但就光學薄膜耐光性之觀點，通常以0.001以上為佳。本發明之一適當的實施態樣中，A(450)/A(420)之值為0.001~0.08。

本發明之光學薄膜，為滿足前述式(1)及(2)之光學薄膜，可列舉如，由黏著劑所形成之黏著劑薄膜(以下，亦記載為黏著劑層)、相位差薄膜、偏光薄膜(以下，亦記載為偏光板)，及保護薄膜等。又，本發明之光學薄膜，可為含有由黏著劑層、相位差薄膜，及偏光板所成之群所選出之至少1個之光學薄膜的層合光學薄膜。

滿足前述式(1)及(2)之光學薄膜的吸收特性，例如，可以使用添加對420nm附近的波長區域具有選擇吸收性之化合物的方式而可控制。對420nm的波長區域具有選擇吸收性之化合物，例如，滿足下述式(3)之化合物等。

ε(450)/ε(420)≦0.3 (3)

式(3)中，ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數，ε(450)表示波長450nm中之克吸光係數。此處，克 吸光係數之單位為定義為L/(g‧cm)。

ε(450)/ε(420)之值表示相對於波長420nm中之吸收大小的波長450nm中之吸收大想，該數值越小時，表示於420nm附近的波長區域具有特殊的吸收。含有具有該些吸收特性的化合物之光學薄膜時，可賦予光學薄膜於420nm附近的波長區域中之高選擇吸收性。因此，前述化合物之ε(450)/ε(420)之值，以0.25以下為佳，以0.20以下為較佳，以0.15以下為更佳，以0.10以下為特佳，以0.05以下為最佳。其下限值並未有特別之限制，就光學薄膜的耐光性觀點，通常以0.001以上為佳。本發明之一適當的實施態樣中，前述化合物之ε(450)/ε(420)之值為0.002~0.015。

因此，本發明之一適當的實施態樣中，光學薄膜以含有滿足前述式(3)的光選擇吸收性化合物者為佳。又，本發明中，滿足前述式(3)之具有吸收特性的化合物中，於420nm附近的波長區域具有高選擇吸收性之化合物，以下稱為「光選擇吸收性化合物」。

〔光選擇吸收性化合物〕

本發明中，光選擇吸收性化合物，除滿足前述式(3)以外，以再滿足下述式(4)及(5)者為佳。

λmax≦430nm (4)

ε(420)≧20 (5) 式(4)中，λmax表示光選擇吸收性化合物之最大吸收波長。式(5)中，ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數，克吸光係數之單位定義為L/(g‧cm)。

滿足前述式(4)及(5)之情形，為該光選擇吸收性化合物的最大吸收為存在於430nm以下之短波長側，且，對波長420nm附近具有強大吸收之化合物。含有該些光選擇吸收性化合物時，可得到不會影響顯示特性的具有高度藍光阻斷機能之光學薄膜。又，就少量即可發揮強大吸收效果之部份為有利者。本發明中，光選擇吸收性化合物的最大吸收波長λmax，以420nm以下為較佳，以415nm以下為更佳。又，就光選擇吸收性之觀點，光選擇吸收性化合物的最大吸收波長λmax以存在於380nm以上者為佳，以存在於390nm以上者為較佳。又，ε(420)之值，以20以上為佳，以40以上為較佳，以50以上為更佳，以70以上為特佳。其上限值並未有特別之限制，通常為500以下。

本發明之光學薄膜所含有的光選擇吸收性化合物，例如，就光選擇吸收性、容易與光學薄膜配合等的觀點，光選擇吸收性化合物以由具有二次甲基骨架之化合物、偶氮化合物，及具有吡唑酮(pyrazolone)骨架之化合物所成之群所選出之化合物為佳。其中，又以具有二次甲基骨架之化合物為佳，以二次甲基骨架所連結之基中，二次甲基骨架的一邊之側至少具有1個電子吸引性基，另一邊之側至少具有1個電子供應性基之化合物為較佳。只 要為具有該些構造之化合物時，可經由電子供應性基與電子吸引性之組合，而可對最大吸收波長的位置進行調整，且可在不會降低化合物的克吸光係數之狀態下，對420nm附近之光線進行選擇性吸收，而為較佳。

本發明之光學薄膜中，光選擇吸收性化合物，以含有由下述式(I)所表示之化合物、式(II)所表示之化合物，及式(III)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種為佳：

〔式(I)中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，R²及R³，互相獨立表示氫原子或碳數1~12之烷基，R⁴及R⁵互相獨立表示之碳數1~50之烷基，或至少具有1個伸甲基之碳數3~50之烷基，且該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代之烷基，該烷基上的碳原子可鍵結取代基，R⁴及R⁵可互相連結形成環構造，R⁴及R⁵所形成之環構造中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個，可被-CO-、-NR⁶-、-NCH₂COOR^6-1-、-O-、-CS-或-COO-所取代，R⁶及R^6-1互相獨立表示之碳數1~12之烷基； A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子；X¹及X²各自獨立表示-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-NR⁷-、-NR⁸CO-，或-CONR⁹-，R⁷、R⁸及R⁹各自獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基〕

〔式(II)中，R¹⁰及R¹¹互相獨立表示之碳數1~12之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，R¹⁰及R¹¹可互相連結形成環構造，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕

〔式(III)中，Z¹表示氫原子、碳數1~10之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子或硫 原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，X³及X⁴互相獨立表示之電子吸引性基，R¹表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。

〈式(I)所表示之化合物〉

式(I)中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基。就具有高光選擇吸收性之觀點，R¹較佳為碳數1~8之烷基、更佳為碳數1~5之烷基、特佳為碳數1~3之烷基。其中，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代。該烷基，可列舉如，甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、tert-丁基、n-己基、n-辛基、n-癸基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基等。

式(I)中，R²及R³互相獨立表示氫原子或碳數1~12之烷基。就具有高光選擇吸收性之觀點，R²及R³互相獨立、較佳表示氫原子或碳數1~10之烷基、更佳為氫原子或碳數1~8之烷基、特佳為氫原子或碳數1~5之烷基、最佳為氫原子或碳數1~3之烷基、極佳為氫原子。

式(I)中，R⁴及R⁵互相獨立表示碳數1~50之烷基，或至少具有1個伸甲基的碳數3~50之烷基，且該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代的烷基。碳數1~50之烷基，就與後述丙烯酸樹脂(A)之親和性、對各種有機溶劑之溶解性等觀點，以碳數2~40之烷基為佳，以 碳數3~35之烷基為較佳，以碳數4~30之烷基為更佳。特別是R⁴及R⁵為碳數3~50之烷基時，就與疏水性物質之親和性，及對疏水性溶劑之溶解性等觀點，R⁴及R⁵以碳數3~12之具有分支構造的烷基為較佳，以碳數6~10之具有分支構造的烷基為更佳。其中，具有分支構造的烷基係指，該烷基所具有的碳原子中之至少1個為三級碳，或四級碳之烷基之意。碳數3~12之具有分支構造的烷基之具體例，可列舉如，具有下述構造之烷基等。

至少具有1個伸甲基的碳數3~50之烷基，就與親水性材料，及疏水性材料之親和性，即，光選擇吸收性化合物為具有兩親媒性之觀點，其碳數較佳為3~45、更佳為3~40、特佳為4~35、最佳為5~30、極佳為5~20之烷基。其中，至少具有1個伸甲基的碳數3~50之烷基中，該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代，其例如，乙氧基、丙氧基、2-甲氧基乙氧甲基、二乙二醇 基、三乙二醇基、二丙二醇基、三丙二醇基等。

又，R⁴及R⁵之烷基上的碳原子可鍵結取代基。取代基，可列舉如，鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基(sulfinyl)、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷基胺磺醯基、碳數2~12之N,N-二烷基胺磺醯基等。

又，R⁴及R⁵可互相連結形成環構造。R⁴及R⁵所形成之環構造中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被-CO-、-NR⁶-、-NCH₂COOR^6-1-、-O-、-CS-或-COO-所取代。其中，R⁶及R^6-1互相獨立表示碳數1~12之烷基。

式(I)中，A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子。就可發生高度的光選擇吸收性之觀點，A較佳為伸甲基或硫原子。

式(I)中，X¹及X²各自獨立表示-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-NR⁷-、-NR⁸CO-或-CONR⁹-。其中，R⁷、R⁸及R⁹各自獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基。就式(I)所表示之化合物之耐光性，及對有機溶劑之溶解性等觀點，X¹及X²以互相獨立為-CO-、-COO-或-CONR⁹-為佳，以-CO-較佳。

式(I)所表示之化合物，例如，式(I)中之X¹及X²以互相獨立為-CO-、-COO-，或-CONR⁹-之化合物 為佳，以下述式(I-1)所表示之化合物為較佳：

〔式(I-1)中，R¹~R⁵及A表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。

式(I-1)所表示之化合物，就化合物具有良好的耐光性，且具有特別優良的光選擇吸收性等，而為更佳。

又，以式(I)中之R²及R³中之任一者皆為氫原子、A為伸甲基或硫原子之化合物亦為佳，以式(I-1)中之R²及R³中之任一者皆為氫原子、A為伸甲基或硫原子之化合物為較佳。

又，式(I)所表示之化合物，例如，以式(I-2)或式(I-3)所表示之化合物為較佳：

〔式(I-2)及式(I-3)中，A¹表示伸甲基或硫原子，R¹²及R¹³表示互相獨立之碳數1~6之烷基，R¹表示與式(I)中內容為相同之意義〕。

式(I-2)或式(I-3)所表示之化合物，因具有特別 優良的光選擇吸收性，且就製造上的經濟性之觀點為優良等，而為較佳。

式(I)所表示之化合物，例如，具體上，可列舉以下等之化合物。

〈式(II)所表示之化合物〉

式(II)中，R¹⁰及R¹¹互相獨立表示碳數1~12之烷基、芳烷基、芳基或雜環基。R¹⁰及R¹¹為烷基時，就與後述丙烯酸樹脂(A)之相溶性等觀點，其碳數以1~10為佳，以2~8為較佳，以2~6為更佳。其中，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個被氧原子或硫原子所取代。該烷基，可列舉如，甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、tert-丁基、n-己基、n-辛基、n-癸基、甲氧基、乙氧基及異丙氧基等。

式(II)中，R¹⁰及R¹¹所表示的芳烷基、芳基及雜環基，可具有取代基。取代基，可列舉如，鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基等。該些芳烷基，可列舉如，以碳數7~10之芳烷基為佳，例如苄基、苯乙基等。芳基，可列舉如，以碳數6~12之芳基為佳，例如，苯基、萘基等。又，雜環基，可列舉如，以碳數3~9之雜環基為佳，例如，吡咯基、吡啶基、吡咯烷基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等。

又，R¹⁰及R¹¹可互相連結形成環構造。由R¹⁰及R¹¹所形成之環構造，例如4~8員環之含氮環構造等，又以5員環或6員環之含氮環構造為佳。具體而言，例如，吡咯啶環、二氫吡咯(pyrroline)環、咪唑啶環、咪唑啉環、噁唑啉環、噻唑啉(thiazolines)環、哌啶環、嗎啉環、哌嗪環等。又，該些之環亦可具有取代基。取代基，可列舉如，與R¹⁰及R¹¹所表示的芳基及雜環基所可 具有的取代基之例示內容為相同之內容。

式(II)中，R⁴、R⁵、X¹及X²，可列舉如，分別與式(I)中所例示之內容為相同之內容。

式(II)所表示之化合物，例如，式(II)中之X¹及X²，互相獨立為-CO-、-COO-，或-CONR⁹-之化合物為佳。又，以式(II)中之R¹⁰及R¹¹的任一者皆為碳數1~10之烷基的化合物，及下述式(II-1)所表示之化合物亦佳：

〔式(II-1)中，Y¹表示伸甲基或氧原子，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。

具有該些構造之化合物，就與後述丙烯酸樹脂(A)之相溶性等觀點，及化合物具有極優良的耐光性之觀點，而為更佳。

又，式(II)所表示之化合物，例如，以下述式(II-2)所表示之化合物為較佳：

〔式(II-2)中，R⁴、R⁵、R¹⁰及R¹¹，表示與式(I)或式(II)中具有相同之意義〕。

式(II-2)所表示之化合物，就與後述丙烯酸樹脂(A)之相溶性或化合物具有極優良的耐光性之特徵，故就製造上具有經濟性之觀點，而為更佳。

式(II-2)所表示之化合物，例如，以下述式(II-3)~(II-6)所表示之化合物為更佳。

〔式中，Y¹表示伸甲基或氧原子，R¹表示與式(I)中具有相同之意義，R¹²及R¹³表示與式(I-3)中具有相同之意義〕。

式(II-3)~(II-6)所表示之化合物，就與後述丙烯酸樹脂(A)之相溶性或化合物具有極優良的耐光性之特徵，且具有極優良的光選擇吸收性等，而為更佳。

式(II)所表示之化合物，具體上，可列舉以下等之化合物。

〈式(III)所表示之化合物〉

式(III)中，Z¹表示氫原子、碳數1~6之烷基、芳烷基、芳基或雜環基。其中，前述烷基為具有至少1個伸 甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子或硫原子所取代。該烷基，可列舉如，甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、tert-丁基、n-己基、甲氧基、乙氧基及異丙氧基等。

Z¹所表示的芳烷基、芳基及雜環基亦可具有取代基。該些取代基，可列舉如，與前述式(II)中之R¹⁰及R¹¹所表示的芳烷基、芳基及雜環基所可具有的取代基之例示內容為相同者。該些芳烷基，可列舉如，以碳數7~10之芳烷基為佳，例如苄基、苯乙基等。芳基，可列舉如，以碳數6~12之芳基為佳，例如，苯基、萘基等。

又，雜環基，可列舉如，以碳數3~9之雜環基為佳，例如，吡咯基、吡啶基、吡咯烷基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等。就製造上之簡易性之觀點，Z¹以氫原子、苯基，或萘基為佳，以氫原子或苯基為較佳。

式(III)中，X³及X⁴互相獨立表示電子吸引性。電子吸引性，可列舉如，-CN(氰基)、-NO₂(硝基)、鹵素原子、被鹵素原子所取代之烷基、-Y²-R¹⁴〔式中，R¹⁴表示氫原子、碳數2~50之烷基，或至少具有1個伸甲基的碳數2~50之烷基，且該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代之烷基，該烷基上的碳原子可鍵結取代基，Y²表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSO-、-NR¹⁵CO-或-CONR¹⁶-(R¹⁵及R¹⁶各自獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基)〕等。就化合物之耐光性，及光選擇吸收 性之觀點，以X³及X⁴互相獨立為-CN、-CO-或-COO-為佳，以X³及X⁴之任一者皆為-CN者為較佳。

式(III)中，R¹例如與式(I)中所例示之內容為相同之內容。

式(III)所表示之化合物，例如，以下述式(III-1)所表示之化合物為較佳：

〔式中，Z^1-1表示氫原子或苯基，R¹表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。

式(III-1)所表示之化合物，就與後述丙烯酸樹脂(A)之相溶性等觀點，而為更佳。

式(III)所表示之化合物，具體上，可列舉如以下等之化合物。

本發明中，光選擇吸收性化合物，以至少含有由例如式(I)所表示之化合物、式(II)所表示之化合物及式(III)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種為佳。式(I)、(III)、(III)所表示之化合物，其可單獨使用各別1種，或將不同的複數種類組合使用皆可。

式(I)所表示之化合物，例如，可將2-甲基二氫吡咯使用甲基化劑而形成1,2-二甲基吡咯啉 (pyrrolinium)鹽，隨後與N,N’-二苯基甲脒進行反應，最後在乙酸酐、胺觸媒的存在下，與活性伸甲基化合物進行反應之方式而可製得。式(II)所表示之化合物，例如，於胺觸媒存在下，使丙二醛二苯胺鹽酸鹽與活性伸甲基化合物進行反應，隨後再與二級胺進行反應之方式而可製得。式(III)所表示之化合物，例如，可於鹼觸媒存在下，使吲哚-3-羧基醛與活性伸甲基化合物進行反應之方式而可製得。又，該些化合物亦可使用市售物品。

本發明之光學薄膜的吸收特性，可經由添加前述光選擇吸收性化合物之方式進行控制，其含量，可於考慮所使用的光選擇吸收性化合物之種類或其組合、所使用的溶劑之種類或量、添加光選擇吸收性化合物之層及該層(例如黏著劑層)之膜厚等，作適當之決定即可。

又，本發明之光學薄膜，除如上所述般，為於420nm附近具有高選擇吸收性之光選擇吸收性化合物以外，亦可含有於200~400nm的波長區域具有吸收，且為該領域中一般所使用的公知的紫外線吸收劑。該些紫外線吸收劑，例如，2-(5-氯-2H-苯併三唑-2-基)-6-tert-丁基-4-甲酚、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三

-2-基)-5-〔2-(2-乙基己醯基氧基)乙氧基〕酚、2,4,6-參(2-羥基-4-己基氧基-3-甲基苯基)-1,3,5-三

等。經併用紫外線吸收劑時，因可抑制構成顯示裝置的各種構件受到紫外線所造成的性能劣化，而可提高光學薄膜之耐光性。

其中，構成本發明之光學薄膜的構成構件， 以至少含有1個黏著劑層者為佳，但只要具有所期待之光學機能者時，並未有特別之限制。含有黏著劑層之光學薄膜，例如，黏著劑層以外亦含有其他偏光板作為構成構件之光學薄膜(層合光學薄膜)或，再含有相位差薄膜等作為構成構件之光學薄膜(層合光學薄膜)等。該些之各構成構件所形成之層結構並未有特別之限制，通常偏光板或相位差薄膜等光學薄膜為介由黏著劑層貼著於顯示元件。黏著劑層，可存在於構成光學薄膜的構成構件之結構內部亦可，存在於最表面亦可。

本發明之光學薄膜中，例如，可於黏著劑層、偏光板、保護薄膜，或相位差薄膜等中，含有光選擇吸收性化合物。就使光學薄膜薄層化之觀點，特別是以黏著劑層中含有光選擇吸收性化合物者為佳。

以下，將對本發明之一適當的實施態樣中之本發明的光學薄膜之構成內容進行詳細之說明。

〔黏著劑層〕

本發明中，構成黏著劑層之黏著劑，例如，可使用具有丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等基底聚合物的黏著劑。該些之中，又就高耐熱性、耐光性之觀點，構成本發明光學薄膜之黏著劑層，以由含有丙烯酸樹脂作為基底聚合物之黏著劑組成物所形成者為佳。

本發明之一適當的實施態樣中，本發明之光 學薄膜中之黏著劑層，為由含有

(A)丙烯酸樹脂

(B)交聯劑，及

(C)滿足前述式(3)之光選擇吸收性化合物的黏著劑組成物所形成。

〈丙烯酸樹脂(A)〉

就由黏著劑組成物所製得的黏著劑層之接著性能與耐久性之觀點，形成構成本發明之光學薄膜的黏著劑層之丙烯酸樹脂，以使用下述式(A-1)所表示之(甲基)丙烯酸酯單體(以下，亦稱為「單體(A-1)」)，與(A-2)具有極性官能基之不飽和單體(以下，亦稱為「單體(A-2)」)為構成成份之共聚物的丙烯酸樹脂(以下，亦稱為「丙烯酸樹脂(A)」)為佳：

前述式(A-1)中，R^p為氫原子或甲基。R^q表示碳數1~20之烷基或芳烷基，較佳為碳數1~10之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子，可被-O-(C₂H₄O)_n-R^r所取代。其中，n較佳表示0~4、更佳表示0~3之整數，R^r較佳表示碳數1~12之烷基、更佳表 示碳數1~5之烷基、較佳表示碳數1~12之芳基、更佳表示碳數1~10之芳基。

單體(A-1)，具體而言，可列舉如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸n-丁酯、丙烯酸n-辛酯、丙烯酸月桂酯等直鏈狀之丙烯酸烷酯；丙烯酸異丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯等分枝狀之丙烯酸烷酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸n-丁酯、甲基丙烯酸n-辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等直鏈狀之甲基丙烯酸烷酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯等分枝狀之甲基丙烯酸烷酯；丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等之具有芳香族基之丙烯酸酯；丙烯酸苯氧酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等之具有芳香族基之甲基丙烯酸酯等例示。該些可單獨使用亦可、將複數種組合使用亦可。其中，就可產生黏著性之觀點，以丙烯酸n-丁酯為佳。

單體(A-2)中，極性官能基可為，由游離羧基、羥基、胺基、環氧環起至雜環基等皆可使用。單體(A-2)中，較佳為具有極性官能基之(甲基)丙烯酸系化合物。其例如，丙烯酸、甲基丙烯酸，及β-羧基乙基丙烯酸酯等之具有游離羧基之不飽和單體；(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-或3-氯-2-羥基丙酯，及二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等之具有羥基之不飽和單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、四氫糠基(甲基)丙烯 酸酯、己內酯變性四氫糠基丙烯酸酯、3,4-環氧環己甲基(甲基)丙烯酸酯、縮水甘油(甲基)丙烯酸酯，及2,5-二氫呋喃等之具有雜環基之不飽和單體；N,N-二甲胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等之與雜環相異的具有胺基之不飽和單體等。該些之單體(A-2)，可分別單獨使用亦可、使用相異的複數種類亦可。

該些之中，又就可提高黏著劑層之接著力、使耐久性更提升之觀點，以構成丙烯酸樹脂(A)的單體(A-2)中之1個為含有該具有羥基之不飽和單體者為佳。

具有單體(A-1)與單體(A-2)與作為結構單位的丙烯酸樹脂(A)，以其固形成份全體之量為基準時，單體(A-1)所衍生之結構單位較佳為含有50~99.9質量%、更佳為含有70~99.9質量%之比例。又，單體(A-2)所衍生之結構單位，較佳為含有0.1~50質量%、更佳為含有0.1~30質量%之比例。單體(A-1)與單體(A-2)之比例於前述範圍內時，可提供一種具有更優良加工性之黏著劑層的黏著劑組成物。

又，丙烯酸樹脂(A)，亦可含有單體(A-1)與單體(A-2)以外的其他之單體(以下，亦稱為「單體(A-3)」)作為構成成份。其他之單體，例如，分子內具有脂環式構造之(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯系單體、乙烯基系單體、分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體、(甲基)丙烯酸基醯胺衍生物等。

脂環式構造為，通常具有碳數為5以上、較佳為5~7左右的環烯烴構造。具有脂環式構造的丙烯酸酯之具體例，可列舉如，丙烯酸異莰酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸二環戊烷酯、丙烯酸環十二烷酯、丙烯酸甲酯環己酯、丙烯酸三甲基環己酯、丙烯酸tert-丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯、丙烯酸環己基苯酯等，具有脂環式構造的甲基丙烯酸酯之具體例，可列舉如，甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸二環戊烷酯、甲基丙烯酸環十二烷酯、甲基丙烯酸甲酯環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸tert-丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯酯等。

苯乙烯系單體，除苯乙烯以外，又例如，甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等之烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等之鹵化苯乙烯；又例如，硝基苯乙烯、乙醯基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、二乙烯基苯等。

乙烯基系單體，可列舉如，乙酸乙烯基、丙酸乙烯基、丁酸乙烯基、2-乙基己酸乙烯基、月桂酸乙烯基等之脂肪酸乙烯基酯；氯化乙烯基或溴化乙烯基等之鹵化乙烯基；氯化亞乙烯等之鹵化亞乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等之含氮芳香族乙烯基；丁二烯、異丁烯、氯丁烯等之共共軛二烯單體；此外，又例 如，丙烯腈、甲基丙烯腈等。

分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體，可列舉如，1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個之(甲基)丙烯醯基之單體等。

(甲基)丙烯酸基醯胺衍生物，例如，N-羥甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、2-羥基乙基(甲基)丙烯酸基醯胺、3-羥基丙基(甲基)丙烯酸基醯胺、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸基醯胺、5-羥基戊基(甲基)丙烯酸基醯胺、6-羥基己基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-甲氧甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-乙氧甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-丙氧甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-丁氧甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-二甲胺基丙基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-(1,1-二甲基-3氧雜丁基)(甲基)丙烯酸基醯胺、N-〔2-(2-氧雜-1-咪唑啶基)乙基〕(甲基)丙烯酸基醯胺、2-丙烯醯胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸等。

前述單體(A-1)、單體(A-2)及其他的單體(A-3)，可分別單獨，或將複數種組合使用皆可。本 發明中，黏著劑組成物所使用的丙烯酸樹脂(A)中，前述單體(A-3)所衍生之結構單位，依丙烯酸樹脂(A)之固形成份全體之量為基準時，通常為含有0~20質量份、較佳為含有0~10質量份之比例。

前述丙烯酸樹脂(A)，依凝膠滲透色層分析法(GPC)之標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)，較佳為50萬~200萬、更佳為60萬~180萬、特佳為70萬~170萬。該標準聚苯乙烯換算重量平均分子量為50萬以上時，可提高高溫高濕下之接著性，具有降低玻璃基板(影像顯示元件)與黏著劑層之間產生浮凸或剝離之可能性的傾向，此外，亦具有提高回復性的傾向，而為更佳。又，該重量平均分子量為200萬以下時，將該黏著劑層貼合於光學薄膜等之情形中，即使光學薄膜的尺寸產生變化，伴隨該尺寸變化而使黏著劑層也會隨之變動，而可消除液晶晶胞等的影像顯示元件之周邊部的亮度與中心部的亮度差，而具有抑制白化或色不均衡性(nonuniformity)之傾向，而為更佳。重量平均分子量(Mw)與數平均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)所表示之分子量分佈，通常為2~10左右之範圍。

前述丙烯酸樹脂(A)，例如，可使用溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、懸濁聚合法等各種公知的各種方法分別製得。於該丙烯酸樹脂之製造中，通常為使用聚合起始劑。聚合起始劑，相對於製造丙烯酸樹脂所使用的全部單體的合計100質量份，為使用0.001~5質 量份左右。

聚合起始劑，可使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。光聚合起始劑，例如，4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑，例如，2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-碳腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥甲基丙腈)等之偶氮系化合物；月桂基過氧化物、tert-丁基氫化過氧化物、過氧化苯甲醯酯、tert-丁基過氧化苯甲酸酯、異丙苯氫化過氧化物、二異丙基過氧化二碳酸酯、二丙基過氧化二碳酸酯、tert-丁基過氧化新癸酸酯、tert-丁基過氧化特戊酸酯(pivalate)、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等之有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過酸化氫等之無機過氧化物等。又，過氧化物與還原劑合併使用之氧化還原系起始劑等，亦可作為聚合起始劑使用。

丙烯酸樹脂(A)之製造方法，於上所示之方法中，又以溶液聚合法為佳。列舉溶液聚合法的具體例說明時，例如，將所期待之單體及有機溶劑混合，於氮氣的氣體環境下，添加熱聚合起始劑，並於40~90℃左右、較佳為50~80℃左右，進行3~12小時左右之攪拌等方法。又，為控制反應等目的，可以連續地或間歇地於聚合中添加單體或熱聚合起始劑，或於溶解於有機溶劑之狀態下添加亦可。其中，有機溶劑，例如，可使用甲苯、二甲 苯等之芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯類；丙醇、異丙醇等之脂肪族醇類；丙酮、2-丁酮、甲基異丁酮等之酮類等。

本發明之一實施態樣中，黏著劑組成物可含有1種或2種以上的前述丙烯酸樹脂(A)。

黏著劑組成物，除前述丙烯酸樹脂(A)以外，可再含有與其相異的丙烯酸樹脂。該些丙烯酸樹脂，例如，以(甲基)丙烯酸酯所衍生之結構單位作為主成份者(例如，聚(甲基)丙烯酸甲酯)，且重量平均分子量為5萬~30萬之範圍內的較低分子量者等。

黏著劑組成物中，含有與丙烯酸樹脂(A)與相異之丙烯酸樹脂時，該與丙烯酸樹脂(A)相異的丙烯酸樹脂之含量，相對於丙烯酸樹脂(A)100質量份，通常為50質量份以下為佳，又以30質量份以下為較佳。

將黏著劑組成物所含有的丙烯酸樹脂(為2種以上組合時，為該些之混合物)，溶解於乙酸乙酯，而調整至固形成份濃度為20質量%之溶液，以於25℃中具有20Pa‧s以下，又以具有0.1~7Pa‧s的黏度者為佳。

此時的黏度為20Pa‧s以下時，可提高高溫高濕下之接著性，且可降低顯示元件與黏著劑層之間產生浮凸或剝離的傾向，此外，亦具有提高回復性之傾向，而為更佳。黏度為為使用布氏黏度計而可測定。

〈交聯劑〉

本發明中，黏著劑組成物可含有交聯劑。交聯劑，例如，可使用與丙烯酸樹脂(A)中特別具有極性官能基的不飽和單體所衍生之結構單位反應，而與丙烯酸樹脂(A)形成交聯之化合物。具體而言，可列舉如，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、吖環丙烷(aziridine)系化合物、金屬螯合物系化合物等例示。該些之中，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物及吖環丙烷(aziridine)系化合物中，分子內至少具有2個可以丙烯酸樹脂(A)中之極性官能基反應之官能基。

異氰酸酯系化合物，為分子內至少具有2個異氰氧基(-NCO)之化合物，例如，伸甲苯基二異氰酸酯、伸六甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又，該些之異氰酸酯化合物，與甘油或三羥甲基丙烷等聚醇反應而得之加成物，或異氰酸酯化合物之二聚體、三聚物等之化合物，皆可作為黏著劑所使用的交聯劑。亦可將2種以上的異氰酸酯系化合物混合使用。

環氧系化合物，為分子內至少具有2個環氧基之化合物，例如，雙酚A型之環氧樹脂、乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙三醇二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、N,N-二縮水甘油苯胺、N,N，N,N’- 四縮水甘油-m-二甲苯二胺、1,3-雙(N,N’-二縮水甘油胺甲基)環己烷等。其可將2種以上的環氧系化合物混合使用。

吖環丙烷(aziridine)系化合物，為分子內至少具有2個稱為乙烯亞胺的由1個氮原子與2個碳原子所形成之3員環的骨架之化合物，例如，二苯基甲烷-4,4’-雙(1-吖環丙烷甲醯胺)、甲苯-2,4-雙(1-吖環丙烷甲醯胺)、三乙烯三聚氰胺、異鄰苯二甲醯基雙-1-(2-甲基吖環丙烷)、三-1-吖環丙烷基次膦(phosphine)氧化物、伸六甲基-1,6-雙(1-吖環丙烷甲醯胺)、三羥甲基丙烷-三-β-吖環丙烷基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-吖環丙烷基丙酸酯等。

金屬螯合物系化合物，例如，鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、釩、鉻及鋯等之多價金屬，與乙醯基丙酮或乙酸乙酸乙酯配位而形成之化合物等。

該些之交聯劑之中，又以異氰酸酯系化合物，即，二甲苯二異氰酸酯、伸甲苯基二異氰酸酯或伸六甲基二異氰酸酯，或該些之異氰酸酯化合物，與甘油或三羥甲基丙烷等聚醇反應而得之加成物，或異氰酸酯化合物之二聚體、三聚物等的混合物、該些之異氰酸酯系化合物經混合而得之物等，皆適合使用。

適當的異氰酸酯系化合物，可列舉如，伸甲苯基二異氰酸酯、伸甲苯基二異氰酸酯與聚醇反應而形成之加成物、伸甲苯基二異氰酸酯之二聚體，及伸甲苯基二異氰酸 酯之三聚物，又，伸六甲基二異氰酸酯、伸六甲基二異氰酸酯與聚醇反應而形成之加成物、伸六甲基二異氰酸酯之二聚體，及伸六甲基二異氰酸酯之三聚物等。

本發明中，黏著劑組成物，相對於前述丙烯酸樹脂的固形成份100質量份(含有2種以上丙烯酸樹脂時，為合計100質量份)，較佳為含有0.01~10質量份、更佳為含有0.01~0.08質量份、特佳為含有0.01~0.06質量份之交聯劑。交聯劑的量為0.01質量份以上時，以其具有可提高黏著劑層的耐久性之傾向而為較佳，又，為10質量份以下時，於將該黏著劑組成物所得之黏著劑使用於液晶顯示裝置時，可避免白化現象明顯化。

本發明之一適當的實施態樣中，形成構成本發明之光學薄膜的黏著劑層之黏著劑組成物，於依丙烯酸樹脂的固形成份全體量為基準時，為由單體(A-1)50~99.9質量%，與單體(A-2)0.1~50質量%作為構成成份之共聚物，且重量平均分子量為50萬~200萬之丙烯酸樹脂(A)，且含有相對於前述丙烯酸樹脂100質量份為0.01~10質量份之交聯劑。

〈光選擇吸收性化合物〉

又，本發明之一適當的實施態樣中，黏著劑組成物為含有滿足前述式(3)之光選擇吸收性化合物。如上所述般，本發明之光學薄膜中，光選擇吸收性化合物可包含於構成光學薄膜的任一構成構件(層)中，黏著劑層經添加 光選擇吸收性化合物時，可於無須設置保護薄膜下即可構成光學薄膜，故黏著劑層中含有光選擇吸收性化合物時，就光學薄膜薄層化之觀點為有利者。

滿足前述式(3)之光選擇吸收性化合物，例如，可使用先前說明般的光選擇吸收性化合物、式(I)所表示之化合物、式(II)所表示之化合物及式(III)所表示之化合物等。光選擇吸收性化合物，例如，可僅單獨使用1種，或將複數種組合使用皆可。該些化合物，只要少量即可發揮出高吸收效果，且可維持高黏著力之狀態，製得對於420nm附近的短波長區域具有高吸收特性之黏著劑層。

黏著劑組成物中的光選擇吸收性化合物之含量，相對於前述丙烯酸樹脂之固形成份100質量份(含有2種以上丙烯酸樹脂時，為合計100質量份)，較佳為0.01~10質量份，更佳為0.1~8質量份、特佳為0.4~6質量份。光選擇吸收性化合物於含有前述範圍內之量時，可製得對420nm附近的波長區域具有高吸收特性之黏著劑層，含有該化合物之光學薄膜時，可具有優良的藍光阻斷機能。

又，本發明中之黏著劑組成物，以含有矽烷系化合物為佳，即，於添加交聯劑前的丙烯酸樹脂中，以含有矽烷系化合物者為佳。因矽烷系化合物可提高對玻璃的黏著力，故含有矽烷系化合物時，可提高挾夾於玻璃基板的顯示元件與黏著劑層之密著性。

矽烷系化合物，例如，乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙甲基二甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基二甲氧甲基矽烷等。其亦可使用2種以上的矽烷系化合物。

矽烷系化合物，可為聚矽氧低聚物形式者亦可。聚矽氧低聚物以(單體)低聚物形式表示者，例如，以下所列舉之內容。

3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物等的含有氫硫基丙基之共聚物；氫硫甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、氫硫甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、氫硫甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等的含有氫硫甲基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等的含有甲基丙烯醯氧基 丙基之共聚物；3-丙烯醯基氧丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等之含有丙烯醯基氧丙基的共聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等之含有乙烯基的共聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物等之含有胺基的共聚物等。

該些之矽烷系化合物，大部份的情形為液體。黏著劑組成物中的矽烷系化合物之添加量，相對於丙烯酸樹脂之固形成份100質量份(使用2種以上時，為合計100質量份)，通常為使用0.01~10質量份左右、較佳為使用0.01~5質量份之比例。相對於丙烯酸樹脂之固形成份100質量份，矽烷系化合物之量為0.01質量份以上時，就提高黏著劑層與顯示元件之密著性之觀點而為較佳。又，其量為10質量份以下時，具有抑制矽烷系化合物滲出(Bleed Out)黏著劑層之傾向，而為更佳。

黏著劑組成物，可再含有交聯觸媒、抗靜電劑、耐候安定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料、丙烯酸樹脂以外之樹脂。又，黏著劑組成物可添加紫外線硬化性化合物，使形成黏著劑層後經由照射紫外線而硬化，而形成更硬的黏著劑層者為有用者。其中，又以於黏著劑組成物中同時添加交聯劑與交聯觸媒時，可使黏著劑層於短時間內經由熟成而製得，於所製得之光學薄膜(層合光學薄膜)中，可抑制偏光板或相位差薄膜等與黏著劑層之間發生浮凸或剝離，而於黏著劑層內產生發泡等現象，且也具有良好的回復性。交聯觸媒，例如，伸六甲基二胺、伸乙基二胺、聚乙烯亞胺、伸六甲基四胺、二伸乙基三胺、三乙烯四胺、異佛爾酮二胺、伸三甲基二胺、聚胺樹脂、三聚氰胺樹脂等之胺系化合物等。黏著劑組成物添加作為交聯觸媒的胺系化合物時，交聯劑以使用異氰酸酯系化合物為佳。

構成黏著劑的前述各成份，只要可以溶解於溶劑之狀態構成黏著劑組成物者即可。該溶劑，例如，甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑(cellosolve)、丁基溶纖劑、丙二醇單甲醚等的醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯溶劑；丙酮、2-丁酮、甲基異丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮、甲基異丁酮等的酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等的脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等的腈溶劑； 四氫呋喃、二甲氧基乙烷等的醚溶劑；及氯仿、氯苯等的氯化烴溶劑。其中，就各成份之溶解性，及降低環境負荷之觀點，以2-丁酮、甲基異丁酮等為佳。

黏著劑層，例如可使用上述黏著劑組成物作為有機溶劑溶液，並以層合之方式使用模具塗佈或凹版塗佈等方式將其塗佈於薄膜或層(例如偏光板或保護薄膜等)上，並使其乾燥之方法即可製得。又，於實施離型處理的塑膠薄膜(亦稱為覆蓋膜(separate film))上所形成的片狀黏著劑，也可以設置以層合方式轉印於薄膜或層之方法。黏著劑層之厚度並未有特別之限定，通常以30μm以下者為佳，且以3μm以上者為佳，特佳為3~20μm。黏著劑層之厚度為30μm以下時，可提高高溫高濕下之接著性，且具有可降低顯示元件與黏著劑層之間產生浮凸或剝離的傾向，且具有提升回復性之傾向而為更佳，又其厚度為3μm以上時，即使貼合的光學薄膜之尺寸發生變化時，黏著劑層將會隨著該尺寸變化而變動，而可消除液晶晶胞(顯示元件)之周邊部的亮度與中心部之亮度間的差異，而具有抑制白化或色不均衡性(nonuniformity)之傾向，而為更佳。

本發明之光學薄膜中，黏著劑層以具有滿足前述式(1)及(2)之光學特性者為佳。滿足前述式(1)及(2)時，含有該黏著劑層的光學薄膜於波長420nm附近顯示出高度選擇吸收性，而具有高藍光阻斷機能，故組合於顯示裝置時，可賦予良好的顯示特性。

〔光學薄膜〕

本發明之光學薄膜中，例如，前述黏著劑層層合於偏光板或相位差薄膜等之上方，並介由該黏著劑層使光學薄膜貼著於顯示元件。

本發明之光學薄膜，以至少含有1個偏光板為佳。其中，偏光板係指，相對於自然光等之入射光，具有以偏光射出之機能的光學薄膜之意。偏光板，可列舉如，薄膜面可吸收入射方向的具有振動面的直線偏光，並具有與其垂直交叉的振動面之具有可穿透直線偏光性質的直線偏光板(亦稱為偏光鏡)、薄膜面反射入射方向的具有振動面的直線偏光，並具有與其垂直交叉的振動面之具有可穿透直線偏光性質的偏光分離薄膜、偏光板與後述相位差薄膜層合而得之橢圓偏光板等。偏光板，特別是直線偏光板之適當的具體例，可列舉如，一軸延伸後的聚乙烯醇系樹脂薄膜或聚合性液晶化合物的聚合物上，經吸附碘或二色性染料等之二色性色素而形成配向者等。

本發明之光學薄膜至少含有偏光板時，光學薄膜以滿足下述式(1-1)及(2-1)之光學特性者為佳。

Ap(420)≧1 (1-1)

Ap(450)/Ap(420)≦0.3 (2-1)〔式中，Ap(420)表示偏光板透過方向之波長420nm中的光學薄膜之吸光度，Ap(450)表示偏光板透過方向之 波長450nm中的光學薄膜之吸光度〕。

滿足前述式(1-1)及(2-1)時，於波長420nm附近具有高度選擇吸收性，而形成具有高度藍光阻斷機能之光學薄膜，故組合於顯示裝置時，可賦予良好的顯示特性。

又，本發明之光學薄膜，以至少含有1個相位差薄膜者為佳。其中，相位差薄膜係指具有光學異向性之光學薄膜，例如，將聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚亞乙烯氟化物/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、伸乙基-乙酸乙烯基共聚物皂化物、聚氯化乙烯酯等所形成之高分子薄膜，延伸1.01~6倍左右而得之延伸薄膜等。其中，又以聚碳酸酯薄膜或環烯烴系樹脂薄膜，經一軸延伸或二軸延伸而得之高分子薄膜為佳。

又，本發明之光學薄膜含有相位差薄膜時，就薄型化之觀點，以含有經由塗佈聚合性液晶化合物形成配向而產生光學異向性的相位差薄膜為較佳。

此外，本發明之光學薄膜含有相位差薄膜時，相位差薄膜以具有逆波長分散性者為佳。逆波長分散性係指，短波長之面內相位差值具有較長波長之面內相位差值為更大之光學特性，較佳為、相位差薄膜滿足下述式(6)及式(7)者。又，Re(λ)為表示相對於波長λnm之光線的面內相位差值。

Re(450)/Re(550)≦1 (6)

1≦Re(630)/Re(550) (7)

本發明之光學薄膜中，相位差薄膜具有逆波長分散性時，以可降低顯示裝置的黑顯示時的著色之觀點，而為較佳，又以於前述式(6)中，為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93者較佳。

本發明之光學薄膜中，相位差薄膜為由聚合性液晶化合物的配向狀態中之聚合物所形成之層(以下，亦稱為「光學異向性層」)為佳。聚合性液晶化合物，例如，就可產生前述逆波長分散性之觀點，或，波長340nm~400nm具有最大吸收之觀點而言，以下述式(B)之結構為特佳。具有下述式(B)等之結構的聚合性液晶化合物時，以其亦具有可吸收短波長的紫外光之性質，故可對顯示裝置賦予充分的紫外光吸收特性。

L¹-G¹-D¹-Ar-D²-G²-L² (B)

式(B)中，Ar為2價的芳香族基，該芳香族基中，至少含有氮原子、氧原子、硫原子中之一個以上。

D¹及D²，分別獨立表示為，單鍵、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR⁴R⁵-、-CR⁴R⁵-CR⁶R⁷-、-O-CR⁴R⁵-、-CR⁴R⁵-O-CR⁶R⁷-、-CO-O-CR⁴R⁵-、-O-CO-CR⁴R⁵-、-CR⁴R⁵-O-CO-CR⁶R⁷-、-CR⁴R⁵-CO-O-CR⁶R⁷-或NR⁴-CR⁵R⁶-或CO-NR⁴-，R⁴、R⁵、R⁶及R⁷，分別獨立表示為，氫原 子、氟原子或碳數1~4之烷基。

G¹及G²，分別獨立表示為，碳數5~8的2價的脂環式烴基，構成該脂環式烴基之伸甲基，可被氧原子、硫原子或NH-所取代，構成該脂環式烴基之伸甲基，亦可被三級氮原子所取代。

L¹及L²，分別獨立表示為，1價的有機基，L¹及L²中之至少一個具有聚合性基。

式(B)中，Ar所表示之2價的芳香族基，就產生逆波長分散性之觀點，以具有雜環之芳香族基為佳，例如，含有1個以上氮原子、氧原子、硫原子者，例如具有呋喃環、苯併呋喃環、吡咯環、噻吩環、吡啶環、噻唑環、苯併噻唑環、啡啉環等之芳香族基等。其中，具有雜環的芳香族基為苯環、噻唑環，又以具有苯併噻唑環之芳香族基為較佳，以具有苯併噻唑環之芳香族基為更佳。又，Ar中之芳香族環所含的氮原子以具有π電子者為佳。

該芳香族環所含的π電子之合計數N_π，就產生逆波長分散性之觀點，較佳為10以上、更佳為12以上、特佳為14以上，較佳為30以下，更佳為25以下。

化合物(B)中，L¹以式(B1)所表示之基為佳，又，L²以式(B2)所表示之基為佳。

P¹-F¹-(B¹-A¹)_k-E¹- (B1)

P²-F²-(B²-A²)₁-E²- (B2) 〔式(B1)及式(B2)中，B¹、B²、E¹及E²，分別獨立表示為，-CR⁴R⁵-、-CH₂-CH₂-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR¹-、-O-CH₂-、-S-CH₂-或單鍵。

A¹及A²，分別獨立表示為，碳數5~8的2價的脂環式烴基或碳數6~18的2價的芳香族烴基，構成該脂環式烴基之伸甲基，可被氧原子、硫原子或NH-所取代，構成該脂環式烴基之伸甲基，亦可被三級氮原子所取代

k及l，分別獨立表示0~3之整數。

F¹及F²表示碳數1~12的2價的脂肪族烴基。

P¹表示聚合性基。

P²表示氫原子或聚合性基。

R⁴及R⁵，分別獨立表示為，氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基。

具有式(B)之結構的化合物，例如，以下述式(B-1)所表示之化合物(以下，亦稱為「化合物(B-1)」)為佳。

〔式(B-1)中，X¹表示氧原子、硫原子或NR¹-。R¹表示氫原子或碳數1~4之烷基。

Y¹表示可具有取代基之碳數6~12之1價的芳香族烴基或可具有取代基之碳數3~12之1價的芳香族雜環式基。

Q³及Q⁴，分別獨立表示為，氫原子、可具有取代基之碳數1~20之1價的脂肪族烴基、碳數3~20之1價的脂環式烴基、可具有取代基之碳數6~20之1價的芳香族烴基、鹵素原子、氰基、硝基、-NR²R³或-SR²，或Q³與Q⁴互相鍵結，與該些所鍵結之碳原子共同形成芳香環或芳香族雜環。R²及R³，分別獨立表示為，氫原子或碳數1~6之烷基。

D¹、D²、G¹、G²、L¹及L²，分別獨立表示為，與前述式(B)中為相同之意義〕。

較佳之化合物(B-1)，可列舉如，特表2011-207765號公報所記載之聚合性液晶化合物等。

其他的聚合性液晶化合物之具體例，可列舉如，液晶便覽(液晶便覽編集委員會編、丸善(股)平成12年10月30日發行)之「3.8.6網絡(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」所記載的化合物中之具有聚合性基之化合物，及，特開2010-31223號公報、特開2010-270108號公報、特開2011-6360號公報及特開2011-207765號公報所記載之聚 合性液晶化合物等。

由聚合性液晶化合物的配向狀態中之聚合物製造相位差薄膜時，為將聚合性液晶化合物，依情形之不同亦可為以稀釋於溶劑之方式含有的組成物(以下，亦稱為「光學異向性層形成用組成物」)塗佈於基材，或形成於基材上的配向膜上，依必要之情形，而將溶劑乾燥後進行聚合而製得聚合性液晶化合物的配向狀態中之聚合物。聚合性液晶化合物於維持配向狀態下進行聚合時，可製得維持配向狀態下之液晶硬化膜，並使用該液晶硬化膜構成相位差薄膜。

相位差薄膜中的聚合性液晶化合物之含量，就提高聚合性液晶化合物之配向性的觀點，相對於光學異向性層形成用組成物的固形成份100質量份，通常為70~99.5質量份，較佳為80~99質量份，更佳為80~94質量份。本說明書中之「固形成份」係指，由光學異向性層形成用組成物中去除溶劑後的成份之合計之意。

光學異向性層形成用組成物，除聚合性液晶化合物以外，亦可含有其他的溶劑、光聚合起始劑、聚合阻礙劑、光增感劑、均染劑等的公知的成份。

溶劑，以可溶解聚合性液晶化合物等之光學異向性層形成用組成物的構成成份之有機溶劑為佳，又以可溶解聚合性液晶化合物等之光學異向性層形成用組成物的構成成份之溶劑，且相對於聚合性液晶化合物之聚合反應為惰性之溶劑較佳。具體而言，水、甲醇、乙醇、乙二 醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑(cellosolve)、丁基溶纖劑、丙二醇單甲醚、酚等的醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等的酯溶劑；丙酮、甲基乙酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮、甲基異丁酮等的酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等的非氯化脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等的非氯化芳香族烴溶劑；乙腈等的腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等的醚溶劑；及氯仿、氯苯等的氯化烴溶劑等。亦可將2種以上的有機溶劑組合使用。其中，又以醇溶劑、酯溶劑、酮溶劑、非氯化脂肪族烴溶劑及非氯化芳香族烴溶劑為佳。

溶劑之含量，相對於光學異向性層形成用組成物的固形成份100質量份，以10~10000質量份為佳，更佳為100~5000質量份。光學異向性層形成用組成物中的固形成份濃度，較佳為2~50質量%，更佳為5~50質量%。

光聚合起始劑，以經由光照射而產生自由基者為佳。光聚合起始劑，可列舉如，苯偶因化合物、二苯甲酮化合物、苄基縮酮化合物、α-羥酮化合物、α-胺酮化合物、α-苯乙酮化合物、三

化合物、錪鹽及鋶鹽。具體而言，Irgacure(登錄商標)907、Irgacure 184、Irgacure 651、Irgacure 819、Irgacure 250、Irgacure 369(以上，皆為BAS日本股份有限公司製)等。其中，又以α-苯乙酮化合物為佳。

光聚合起始劑，就可以充分活用光源所發出之能量、具有優良生產性等目的，其最大吸收波長以300nm~380nm為佳，以300nm~360nm為較佳。

聚合起始劑之含量，就不會造成聚合性液晶化合物之配向紊亂，且可聚合聚合性液晶化合物之觀點，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份、較佳為0.5~10質量份。

聚合阻礙劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應。聚合阻礙劑，可列舉如，氫醌、甲氧基苯酚(methoxyphenol)、3,5-二-tert-丁基-4-羥基甲苯(BHT)，及具有烷醚等的取代基之氫醌類；具有丁基兒茶酚等烷醚等的取代基之兒茶酚類；五倍子酚類、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等的自由基補捉劑；噻酚類；β-萘基胺類及β-萘酚類等。

聚合阻礙劑之含量，就不會造成聚合性液晶化合物之配向紊亂，且可聚合聚合性液晶化合物之觀點，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份、較佳為0.5~10質量份。

光增感劑，可列舉如，氧葱酮、9-氧硫

等的氧葱酮類；蒽及烷醚等的具有取代基的蒽類；啡噻

(phenothiazine)；紅荧烯(rubrene)等。使用光增感劑時，可使光聚合起始劑高感度化。光增感劑之含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份、較佳為0.5~10質量份。

均染劑，可列舉如，有機變性聚矽氧油系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系之均染劑。具體而言，例如，SH7PA、DC11PA、SH28PA、ST80PA、SH8400、SH8700(以上，全部為東麗‧道康寧(股)製)、KP321、KP323、KP340、X22-161A、(以上，全部為信越化學工業(股)製)、TSF400、TSF4440、TSF4445、(以上，全部為MOMENTIVE-日本合同股份有限公司製)、美格氟(登錄商標)同R-30、同F-445、同F-477、同F-483(以上，任一者皆為DIC(股)製)、商品名E1830、同E5844((股)大金精密化學研究所製)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353及BYK-361N(任一者皆為商品名：BM Chemie公司製)等。亦可將2種以上的均染劑組合使用。

使用均染劑時，可形成更平滑的光學異向性層。

又，具有光學異向性層的光學薄膜之製造過程，可控制光學異向性層形成用組成物之流動性、調整相位差薄膜之交聯密度等。均染劑之含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份、較佳為0.1~10質量份。

上述光學薄膜中，偏光板中，構成其之偏光鏡，多使用例如於由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光鏡的一側面或兩面上，貼附有保護薄膜之狀態者。通常，於其一側之面上形成有黏著劑層。又，偏光板與相位差薄膜層合 而得之橢圓偏光板，於偏光鏡的一側面或兩面上，多為貼附有保護薄膜之狀態。該些橢圓偏光板形成黏著劑層時，通常為於該相位差薄膜側形成黏著劑層。

保護薄膜，多使用透明的樹脂薄膜，該透明樹脂，例如，三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素為代表的乙醯基纖維素系樹脂、以聚甲基丙烯酸甲酯為代表的甲基丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碸樹脂等。構成保護薄膜之樹脂，一般以添加水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯併三唑系化合物、三

系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等一般的紫外線吸收劑而得的薄膜為佳，使用該些保護薄膜可以適當地抑制因紫外線造成顯示裝置之劣化。保護薄膜，較佳為使用三乙醯基纖維素薄膜等乙醯基纖維素系樹脂薄膜。又，未接著於偏光板或相位差薄膜的保護薄膜之面，亦可具有表面處理層，例如，可具有硬塗覆層、防眩層、抗反射層、抗靜電層等。

又，就保護光學薄膜表面不受損傷或污染等目的，可於與前述偏光板之黏著劑層為相反側之面上，貼附可於貼附顯示元件等之後，可經由剝離而去除的保護薄膜。

又，本發明之光學薄膜中，於該黏著劑層表面上，貼著剝離薄膜，並將其進行預保護至使用時為佳。此處所使用的剝離薄膜，例如，可將聚乙烯對苯二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯、聚碳酸酯、聚芳酯等之各種樹 脂所形成的薄膜作為基材，並於基材與黏著劑層之接合面，施以聚矽氧處理等離型處理者。

本發明之光學薄膜(層合光學薄膜)，例如，可於上述等剝離薄膜上，塗佈先前說明之黏著劑組成物，而形成黏著劑層，再於所得黏著劑層上再貼合光學薄膜之方法，或於光學薄膜上塗佈黏著劑組成物，形成黏著劑層，並於該黏著劑面貼合剝離薄膜予以保護，而形成層合光學薄膜之方法等方式而可製得。

就光學薄膜薄層化之觀點，本發明之光學薄膜(層合光學薄膜)中，偏光板與黏著劑層之合計厚度，較佳為30~500μm，更佳為30~300μm、特佳為30~100μm。又，本發明之光學薄膜，除偏光板與黏著劑層以外，再含有相位差薄膜之情形，於偏光板、黏著劑層及相位差薄膜的合計厚度，較佳為30~550μm，更佳為30~400μm，特佳為30~150μm。本發明之一適當的實施態樣中，可提供一種經由將光選擇吸收性化合物貼合於黏著劑層之方式而製得之未設置保護薄膜的薄型之光學薄膜。

其他之實施態樣中，本發明提供一種含有本發明之前述光學薄膜的顯示裝置。本發明之顯示裝置，經含有本發明之光學薄膜時，可於420nm附近的波長區域顯示出高度光選擇吸收性，而具有高度的藍光阻斷機能。又，因於450nm附近的波長區域不易被吸收，故可於不會阻礙該波長區域的吸收下，顯示出優良的色彩表現，而可賦予顯示裝置良好的顯示特性。又，顯示裝置因具備有 藍光阻斷機能，故相對於以往例如必須內藏或再加付藍光阻斷機能的薄膜等之技術，本發明之光學薄膜中，因光學薄膜本體具有藍光阻斷機能，故可使顯示裝置的製造步驟簡略化之觀點，於工業上為有利者，此外，亦可使顯示裝置形成薄型化。

[實施例]

以下，將使用實施例及比較例對本發明做更詳細之說明。實施例及比較例中的「%」及「份」，於無特別記載時，係指「質量%」及「質量份」。

以下之實施例中，重量平均分子量及數平均分子量之測定方法中，GPC裝置為使用管柱「TSK gel XL(東曹(股)製)」4柱，及「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」1柱，共計5根以直列相連配置，溶出液使用四氫呋喃，並依樣品濃度5mg/mL、樣品導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件進行測定，隨後以標準聚苯乙烯換算方式算出。

〈丙烯酸樹脂之製作〉

依表1所示組成內容，及以下之方法製得丙烯酸樹脂(A)及丙烯酸樹脂(B)。

〔聚合例1〕：丙烯酸樹脂(A)之製作

於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應容器中，加入作為溶劑之乙酸乙酯81.8份、單體(A-1)之丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份，及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、單體(A-2)之丙烯酸2-羥基乙酯1.0份及丙烯酸0.6份之混合溶液，使用氮氣體取代裝置內空氣，於不含氧氣體之環境，將內溫升高至55℃。隨後，將於乙酸乙酯10份中溶解偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份的溶液全量添加於其中。保持該溫度至添加起始劑後1小時，其次將內溫保持於54~56℃中，以添加速度17.3份/小時之方式，將乙酸乙酯連續添加於反應容器內。於丙烯酸樹脂之濃度達35%之時點，停止添加乙酸乙酯，保持該溫度至開始添加乙酸乙酯後經過12小時為止。最後加入乙酸乙酯，將丙烯酸樹脂之濃度調整至20%，而製得丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得丙烯酸樹脂，經GPC測量之聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)為142萬、分子量分佈(Mw/Mn)為5.2。將該成份作為丙烯酸樹脂(A)。

〔聚合例2〕：丙烯酸樹脂(B)之製作

於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應容器中，添加作為溶劑之乙酸乙酯81.8份、單體(A-1)之丙烯酸丁酯96.0份及單體(A-2)之丙烯酸4.0份的混合溶液，使用氮氣體取代裝置內的空氣，使其於不含氧氣體之環境中，將內溫升溫至55℃。隨後，將於乙酸乙酯 10份中溶解偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份的溶液全量添加於其中。保持該溫度至添加起始劑後1小時，其次將內溫保持於54~56℃中，以添加速度17.3份/小時之方式，將乙酸乙酯連續添加於反應容器內。

於丙烯酸樹脂之濃度達35%之時點，停止添加乙酸乙酯，保持該溫度至開始添加乙酸乙酯後經過12小時為止。最後加入乙酸乙酯，將丙烯酸樹脂之濃度調整至20%，而製得丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得丙烯酸樹脂，經GPC測量之聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)為75萬6000、分子量分佈(Mw/Mn)為4.1。將其作為丙烯酸樹脂(B)。

表1中，單體組成內容欄中之簡稱，分別表示以下所示之單體。

〔單體(A-1)〕

BA：丙烯酸丁酯

MA：丙烯酸甲酯

PEA：丙烯酸2-苯氧基乙酯

〔單體(A-2)〕

HEA：丙烯酸2-羥基乙酯

AA：丙烯酸

使用前述所製得之丙烯酸樹脂，製作黏著劑組成物，並使用其製得實施例及比較例之光學薄膜。交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物，為分別使用以下之物。

〔交聯劑(B)〕

CORONATE L：伸甲苯基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形成份濃度75%)、日本聚胺基甲酸酯(股)製

TAKENATE D-110N：二甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形成份濃度75%)、三井化學(股)製(以下，簡稱為「D110N」)。

〔矽烷化合物〕

KBM-403：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、液體、信越化學工業(股)製(以下，簡稱為「KBM-403」)。

〔光選擇吸收性化合物〕

S0511：FEW Chemicals GmbH製、λmax=392nm、ε(420)=3.2L/(g‧cm)、ε(450)=0L/(g‧cm)(2-丁酮中)

<光選擇吸收性化合物之合成> 〔合成例1〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入參考專利文獻(特開2014-194508)而合成的化合物1之粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)3.6g、1,3-二甲基巴比妥酸(Barbituric acid)(東京化成工業(股)製)5.5g、乙腈(和光純藥工業(股)製)30g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於內溫25℃中，將N,N-二異丙基乙基胺(以下，簡稱為DIPEA。東京化成工業(股)製)4.5g，使用滴入漏斗以1小時時間滴入，於滴入結束後，再將內溫保持25℃中維持2小時。濾取析出之沈澱，隨後對該濕結晶使用純水150g合計洗淨6次。將所得結晶於70℃中減壓乾燥結果，製得黃色粉末之色素(A-1)6.1g。產率為76%。

又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=410nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為221L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.012。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成色素(A-1)。 ¹H-NMR(DMSO-d₆)δ(ppm)：2.15(quin、2H)、3.17-3.26(m、5H)、3.30(s、6H)、3.76(t、2H)、7.25(d、1H)、8.18(d、1H)

〔合成例2〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計及攪拌機之300mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入丙二醛二苯胺鹽酸鹽(東京化成工業(股)製)20g、1,3-二甲基巴比妥酸(Barbituric acid)(東京化成工業(股)製)13.3g、甲醇46g，於室溫下開始攪拌。將三乙基胺(和光純藥工業(股)製)8.6g使用滴入漏斗以30分鐘時間滴入，於室溫下持續攪拌1小時。隨後，使用油浴將 內溫升溫至65℃，進行1小時之沸點迴流。反應結束後，將內溫冷卻至室溫，濾取析出之結晶，再使用甲醇洗淨該濕結晶。將洗淨後的濕結晶於40℃中減壓乾燥結果，得橙色粉末之化合物2 18.5g。產率為84%。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成化合物2。 ¹H-NMR(DMSO-d₆)δ(ppm)：3.07(s、6H)、7.04-7.07(m、1H)、7.26-7.32(m、4H)、7.43(dd、1H)、8.07(d、1H)、8.55(d、1H)、11.4(s、1H)

〔合成例3〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入化合物2之粉末2.0g、二乙基胺(東京化成工業(股)製)1.4g、2-丙醇(Nacalai Tesque(股)製)10g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，使內溫保持於52℃、5小時，反應結束後將其冷卻至室溫。使用減壓蒸發器去除2-丙醇，所得油狀物以管柱色層分析(二氧化矽凝膠)進行精製，得橙色粉末之色素(B-1)1.1g。產率為58%。又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=404nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為80.6L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.011。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下 之波峰，故確認已生成色素(B-1)。 ¹H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：1.26-1.37(m、6H)、3.34(s、3H)、3.35(s、3H)、3.43-3.56(m、4H)、7.27-7.39(m、2H)、8.04(d、1H)

〔合成例4〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入化合物2之粉末2.0g、嗎啉(和光純藥工業(股)製)1.6g、2-丙醇(Nacalai Tesque(股)製)10g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫83℃中進行3小時之沸點迴流，反應結束後將其冷卻至室溫。濾取析出之結晶，將該濕結晶使用2-丙醇合計洗淨4次後，於40℃中進行減壓乾燥後，得橙色粉末之色素(B-2)1.6g。產率為82%。

又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=406nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為102L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.004。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成色素(B-2)。 ¹H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：3.27(s、3H)、3.29(s、3H)、3.50-3.59(m、4H)、3.72-3.78(m、4H)、7.19-7.32(m、2H)、7.95-8.06(m、1H)

〔合成例5〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入化合物2之粉末2.0g、哌啶(和光純藥工業(股)製)1.6g、2-丙醇(Nacalai Tesque(股)製)10g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫83℃中進行3小時之沸點迴流，反應結束後將其冷卻至室溫。濾取析出之結晶，將該濕結晶使用2-丙醇合計洗淨4次後，於40℃中進行減壓乾燥，而得橙色粉末之色素(B-3)1.7g。產率為85%。

又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=404nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為84.5L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.004。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成色素(B-3)。 ¹H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：1.72-1.74(m、6H)、3.32(s、3H)、3.33(s、3H)、3.49-3.61(m、4H)、7.28-7.37(m、2H)、7.98-8.09(m、1H)

〔合成例6〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計及攪拌機之300mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入丙二醛二苯胺鹽酸鹽(東京化成工業(股)製)20g、5,5-二甲-1,3-環己二酮(dimedone)(東京化成工業(股)製)11.9g、甲醇46g，於室溫下開始攪拌。將三乙基胺(和光純藥工業(股)製)8.6g使用滴入漏斗以30分鐘時間滴入，於室溫下持續攪拌1小時。隨後，使用油浴將內溫升溫至65℃，進行1小時之沸點迴流。反應結束後，將內溫冷卻至室溫，濾取析出之結晶，再使用甲醇洗淨該濕結晶。將洗淨後的濕結晶於40℃中減壓乾燥結果，得橙色粉末之化合物3 17.7g。產率為85%。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成化合物3。 ¹H-NMR(DMSO-d₆)δ(ppm)：0.95(s、6H)、2.30(s、4H)、7.08-7.13(m、1H)、7.30-7.40(m、4H)、7.53(dd、1H)、7.91(d、1H)、8.51(d、1H)、11.2(s、1H)

〔合成例7〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入化合物3之粉末3.0g、哌啶(和光純藥工業(股)製)2.5g、2-丙醇(Nacalai Tesque(股)製)15g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫83℃中進行3小時之沸點迴流，反應 結束後將其冷卻至室溫。濾取析出之結晶，該濕結晶使用2-丙醇共計洗淨2次後，於40℃中減壓乾燥結果，得橙色粉末之色素(B-4)0.9g。產率為31%。

又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=413nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為238L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.009。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成色素(B-4)。 ¹H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：1.04(s、6H)、1.69-1.73(m、6H)、2.39(d、4H)、3.48-3.58(m、4H)、7.32-7.45(m、2H)、7.88(d、1H)

〔合成例8〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧基醛5.0g、哌啶(和光純藥工業(股)製)1.8g、丙二腈(東京化成工業(股)製)1.5g、乙醇(和光 純藥工業(股)製)20g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，使內溫於80℃中保持18小時。反應結束後冷卻至室溫，濾取析出之結晶，該結晶於60℃中減壓乾燥結果，得黃色粉末之色素(C-1)4.9g。產率為82%。

又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=392nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為23.9L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.007。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成色素(C-1)。 ¹H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：3.71(s、3H)、7.34-7.38(m、2H)、7.44-7.47(m、4H)、7.60-7.63(m、3H)、8.37-8.40(m、1H)

〔合成例9〕

於設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內，將其設為氮氣的氣體環境，加入1-甲基吲哚-3-羧基醛1.0g、哌啶(和光純藥工業(股)製)0.53g、丙 二腈(東京化成工業(股)製)0.46g、乙醇(和光純藥工業(股)製)4g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫78℃中，進行18小時之沸點迴流。反應結束後冷卻至室溫，濾取析出之結晶，該結晶於60℃中進行減壓乾燥結果，得黃色粉末之色素(C-2)0.96g。產率為74%。

又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定最大吸收波長(λmax)結果，得知λmax=392nm(於2-丁酮中)，ε(420)之值為48.4L/(g‧cm)，ε(450)/ε(420)之值為0.004。

使用¹H-NMR進行解析結果，因觀測出以下之波峰，故確認已生成色素(C-2)。 ¹H-NMR(CDCl3)δ(ppm)：3.95(s、3H)、7.26-7.44(m、4H)、7.71-7.75(m、1H)、8.03(s、1H)、8.43(s、1H)

<黏著劑組成物及黏著劑薄片(光學薄膜)之製作> (a)黏著劑組成物之製作(製造例1~18)

混合下述表2所記載之丙烯酸樹脂、光選擇吸收性化合物、交聯劑及矽烷化合物，製得黏著劑組成物。又，表2中的各成份之添加量，為相對於前述聚合例1及2所製得之丙烯酸樹脂中的固形成份100質量份之質量份。又，交聯劑及光選擇吸收性化合物，為分別添加於作為2-丁酮溶液之丙烯酸樹脂中。

(a-1)製造例1~9的黏著劑組成物之製作

依表2所示的配方，相對於丙烯酸樹脂(A)之固形成份100質量份，分別依表2所示各別的量添加交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物。再添加2-丁酮，使固形成份濃度達14%，使用攪拌機(YAMATO科學(股)製、Three-One Motor)，以300rpm攪拌混合30分鐘，製得各黏著劑組成物。

(a-2)製造例10~18之黏著劑組成物之製作

除將丙烯酸樹脂(A)變更為丙烯酸樹脂(B)以外，其他皆依與前述製造例1~9相同方法，依表2所示的配方製造各黏著劑組成物。

(b)黏著劑薄片之製作 〔實施例1〕

將前述(a)之製造例1所製得之黏著劑組成物，使用塗佈機以乾燥後的黏著劑層厚度為20μm之方式塗佈於施以離型處理的聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜(琳德(股)製、SP-PLR382050、以下，簡稱為「隔離膜(spacer)」)之離型處理面，經100℃、1分鐘乾燥結果，製得黏著劑薄片。

所得黏著劑薄片之光學特性，為使用分光光度計(UV-3150；(股)島津製作所製)予以測定。結果係如表3所示。表中的A(420)表示波長420nm中之吸 光度、T(420)表示波長420nm中之透過率(%)、A(450)表示波長450nm中之吸光度、T(450)表示波長450nm中之透過率(%)。

〔實施例2~14及比較例1~4〕

使用製造例2~18所製得之黏著劑組成物，依與前述實施例1相同方法製得實施例2~14及比較例1~4之黏著劑薄片，所得黏著劑薄片之光學特性，依與前述實施例1相同方法進行測定。結果係如表3所示。

實施例1~14之黏著劑薄片，其A(420)之 值為1以上，且，A(450)/A(420)之值為0.3以下，除具有良好的藍光阻斷機能的同時，於波長450nm中也具有良好的透過率。又，比較例1及2之黏著劑薄片，其A(420)之值未達1，而得知其於波長420nm中之光吸收並不充分，故也不具有充分的藍光阻斷效果。又，比較例3及4之黏著劑薄片，因未使用光選擇吸收性化合物，故不具有藍光阻斷機能。

<光學薄膜(層合光學薄膜)之製作(實施例15~28、比較例5~8)>

於光學異向性層或層合光學薄膜等的製造中，為使用以下所示的「光配向膜形成用組成物」、「摩擦配向性聚合物組成物」、「含有聚合性液晶化合物之組成物」及「偏光板」。

<光配向膜形成用組成物之製作>

將下述構造之光配向性材料5份與環戊酮(溶劑)95份，以組成份方式混合，將所得混合物於80℃中攪拌1小時結果，製得光配向膜形成用組成物。下述光配向性材料，為使用特開2013-33248號公報記載之方法所合成者。

<含有聚合性液晶化合物的組成物A之製作>

將下述構造的聚合性液晶化合物A，與聚丙烯酸酯化合物(均染劑)，與下述聚合起始劑與溶劑，以組成份方式混合，製得含有聚合性液晶化合物之組成物A。

聚合性液晶化合物A(12.0部)：

聚合性液晶化合物A，為依特開2011-207765號公報所記載之方法合成者。

聚合性液晶化合物A之最大吸收波長λmax(LC)為350nm。

聚合起始劑(0.72份)：2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；BASF日本(股)製)

均染劑(0.12份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)

溶劑：環戊酮(100份)

〔實施例15〕 <偏光板之製造>

將厚度30μm之聚乙烯醇薄膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)，經由乾式延伸以一軸延伸方式延伸約4倍，再於保持緊張狀態下，浸漬於40℃之純水40秒鐘之後，浸漬於28℃的碘/碘化鉀/水的重量比為0.044/5.7/100的染色水溶液中30秒鐘，進行染色處理。隨後，將其浸漬於70℃的碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100的硼酸水溶液中120秒鐘。隨後，使用8℃的純水洗淨15秒鐘後，於保持300N張力之狀態，進行60℃、50秒鐘，再進行75℃、20秒鐘之乾燥，而製得厚度12μm的吸附碘而形成配向之聚乙烯醇薄膜的偏光鏡。

於所得的偏光鏡，與環烯烴聚合物薄膜(COP、日本ZEON(股)製ZF-4無UV吸收特性30μm)之間，注入水系接著劑，使用夾輥(Nip roll)將其貼合。使所得的貼合物之張力保持於430N/m之狀態下，於60℃中乾燥2分鐘，而製得單面具有作為保護薄膜之環烯烴薄膜的42μm之偏光板。又，上述水系接著劑，為於水100份中，添加羧基變性聚乙烯醇((股)KURARAY製；KURARAY POVAL KL318)3份，與水溶性聚醯胺環氧樹脂(住化化學科技(股)製；SUMIZER樹脂650；固形成份濃度30%之水溶液)1.5份予以製得。

依以下所示方法，測定所得偏光板之偏光度 Py及單體透過率Ty。

使用設置有偏光鏡固定器之分光光度計(UV-3150；(股)島津製作所製)之裝置，依雙光束法以2nm間隔測定380~680nm之波長範圍中的透過軸方向之單體透過率(T¹)及吸收軸方向之單體透過率(T²)。

使用下述式(p)及(q)，算出各波長中之單體透過率、偏光度，再依據JIS Z8701的2度視野(C光源)進行視感度之修正，而算出視感度補正單體透過率(Ty)及視感度補正偏光度(Py)。其結果得知，視感度補正單體透過率Ty為43.0%、視感度補正偏光度Py為99.99%之吸收型偏光板。

單體透過率Ty(%)={(T¹+T²)/2}×100 (p)

偏光度Py(%)={(T¹-T²)/(T¹+T²)}×100 (q)

<光學異向性層之製造>

使用電暈處理裝置(AGF-B10、春日電機(股)製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件對環烯烴聚合物薄膜(COP、日本ZEON(股)製ZF-14)進行1次處理。將光配向膜形成用組成物使用棒狀塗佈機塗佈於實施電暈處理後之表面，於80℃中進行1分鐘乾燥，再使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；牛尾電機(股)製)，以100mJ/cm²之積算光量實施偏光UV曝光。所得配向膜之膜厚使用橢圓偏光計(日本分光(股) 製橢圓偏光計M-220)測定結果，為100nm。

隨後，將含有先前所製得之聚合性液晶化合物的組成物A所形成之塗佈液，使用棒狀塗佈機塗佈於配向膜上，以120℃進行1分鐘乾燥後，再使用高壓水銀燈(UNICURE VB-15201BY-A、牛尾電機(股)製)，由塗佈含有聚合性液晶化合物的組成物之面，照射紫外線(氮氣氣體環境下、波長313nm中之積算光量：500mJ/cm²)之方式，而形成含有光學異向性層1之光學薄膜。所得光學異向性層1之膜厚經使用雷射顯微鏡(奧林帕斯(股)製、LEXT OLS3000)測定結果，為2μm。

於所得光學薄膜之光學異向性層1之側貼合黏著劑薄片1之後，使用電暈處理裝置(AGF-B10、春日電機(股)製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行1次處理，使其貼合於偏光板。此時，為以相對於偏光板之吸收軸，光學異向性層的遲相軸之關係為45°之方式層合，而形成圓偏光板。隨後，將基材的COP薄膜剝離，而製得偏光板上轉印有光學異向性層1的光學薄膜1(圓偏光板1)。所得光學薄膜1之厚度為64μm。

為測定光學薄膜1之光學特性，而製得轉印於玻璃的測定用樣品。該樣品之波長450nm、波長550nm以及波長630nm之相位差值，為使用雙折射測定裝置(KOBRA-WR；王子計測機器(股)製)予以測定，波長420nm以及波長450nm之吸光度為使用分光光度計(UV-3150；(股)島津製作所製)予以測定。又，光源側因配 置偏光稜鏡而形成完全直線偏光，該直線偏光以照射測定樣品之方式予以測定。此時，因直線偏光係以相對於光學薄膜的偏光板側之透過軸為平行之方式射入，故可測定偏光板之透過方向的波長420nm中之光學薄膜的吸光度A(420)，及，偏光板之透過方向的波長450nm中之光學薄膜的吸光度A(450)。其結果係如表4所示。又，光學薄膜1為具有下述式(1)、(2)及式(6)~(8)所表示之全部光學特性。

A(420)≧1 (1)

A(450)/A(420)≦0.3 (2)

Re(450)/Re(550)≦1 (6)

1≦Re(630)/Re(550) (7)

100nm≦Re(550)≦170nm (8)

〔實施例16~28、比較例5~8〕

分別使用下述表4所記載之黏著劑組成物，依與前述實施例15相同之方法，製得轉印有光學異向性層之光學薄膜(圓偏光板)。所得光學薄膜(圓偏光板)之光學特性，為依與實施例15相同方法予以測定。

實施例15~28之光學薄膜，於波長420nm中具有高吸收，但於波長450nm中則無吸收，且裝設於顯示裝置時，也未出現顯示性能降低之情形。又，亦確認出可滿足作為圓偏光板之性能。相對於此，比較例5~8之光學薄膜，得知其於波長420nm中之吸收較低，且A(450)/A(420)之值更大，故並不具有充分的藍光阻斷機能。

Claims (16)

1. 一種光學薄膜，其係至少含有1個黏著劑層，且滿足下述式(1)及(2)；A(420)≧1 (1) A(450)/A(420)≦0.3 (2)〔式中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度〕；其中，前述黏著劑層為由含有：(A)丙烯酸樹脂(B)交聯劑，及(C)滿足下述式(3)之光選擇吸收性化合物：ε(450)/ε(420)≦0.3 (3)〔式中，ε(450)表示波長450nm中之克吸光係數、ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數〕之黏著劑組成物所形成者，且相對於丙烯酸樹脂100質量份，為含有0.1~10質量份之前述光選擇吸收性化合物。
2. 如請求項1之光學薄膜，其中，前述黏著劑層為存在於光學薄膜的構成之內部，或存在於光學薄膜之最表面。
3. 如請求項1之光學薄膜，其中，前述黏著劑組成物為含有：(A)以丙烯酸樹脂的固形成份全體量為基準，將(A-1)：式(A-1)所示(甲基)丙烯酸酯單體50~99.9質量%，

   

   〔式(A-1)中，R^p表示氫原子或甲基，R^q表示碳數1~20之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子可被-O-(C₂H₄O)_n-R^r所取代(n表示0~4之整數，R^r表示碳數1~12之烷基或碳數1~12之芳基)〕與，(A-2)：具有極性官能基之不飽和單體0.1~50質量%作為構成成份之共聚物，且重量平均分子量為50萬~200萬之丙烯酸樹脂，及(B)相對於前述丙烯酸樹脂100質量份，為0.01~10質量份之交聯劑。
4. 如請求項1之光學薄膜，其為含有滿足下述式(3)、式(4)及式(5)之光選擇吸收性化合物： ε(450)/ε(420)≦0.3 (3) λmax≦430nm (4) ε(420)≧20 (5)〔式中，ε(450)表示波長450nm中之克吸光係數、ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數、λmax表示光選擇吸收性化合物之最大吸收波長〕。
5. 如請求項1之光學薄膜，其中，前述光選擇吸收性化合物為，由具有二次甲基骨架之化合物、偶氮化合物及具有吡唑酮(pyrazolone)骨架之化合物所成之群所選出之化合物。
6. 如請求項1之光學薄膜，其中，前述光選擇吸收性化合物為，具有二次甲基骨架之化合物，且於二次甲基骨架的一邊之側至少具有1個電子吸引性基，另一邊之側至少具有1個電子供應性基之化合物。
7. 如請求項1之光學薄膜，其中，前述光選擇吸收性化合物含有由式(I)所表示之化合物、式(II)所表示之化合物，及式(III)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種：

   

   〔式(I)中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1 個可被氧原子或硫原子所取代，R²及R³互相獨立表示氫原子或碳數1~12之烷基，R⁴及R⁵互相獨立表示碳數1~50之烷基，或至少具有1個伸甲基之碳數3~50之烷基且該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代之烷基，該烷基上的碳原子可鍵結取代基，R⁴及R⁵可互相連結形成環構造，R⁴及R⁵所形成之環構造中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被-CO-、-NR⁶-、-NCH₂COOR^6-1-、-O-、-CS-或-COO-所取代，R⁶及R^6-1互相獨立表示碳數1~12之烷基；A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子；X¹及X²各自獨立表示-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-NR⁷-、-NR⁸CO-，或-CONR⁹-，R⁷、R⁸及R⁹各自獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基〕

   

   〔式(II)中，R¹⁰及R¹¹互相獨立表示碳數1~12之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，R¹⁰及R¹¹可互相連結形成環構造，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕

   

   〔式(III)中，Z¹表示氫原子、碳數1~10之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，X³及X⁴互相獨立表示之電子吸引性基，R¹表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。
8. 如請求項7之光學薄膜，其中，前述式(I)及式(II)中之X¹及X²，互相獨立由-CO-、-COO-或-CONR⁹-所選出。
9. 如請求項7之光學薄膜，其中，式(I)中之R²及R³為氫原子，A為伸甲基或硫原子。
10. 如請求項7之光學薄膜，其中，前述式(II)所表示之化合物為式(II)中之R¹⁰及R¹¹為碳數1~10之烷基的化合物，或下述式(II-1)所表示之化合物：

    

    〔式(II-1)中，Y¹表示伸甲基或氧原子，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。
11. 如請求項1~10中任一項之光學薄膜，其至少含有1個偏光板，且滿足下述式(1-1)及(2-1)：Ap(420)≧1 (1-1) Ap(450)/Ap(420)≦0.3 (2-1)〔式中，Ap(420)表示偏光板透過方向之波長420nm中的光學薄膜之吸光度，Ap(450)表示偏光板透過方向之波長450nm中的光學薄膜之吸光度〕。
12. 如請求項1~10中任一項之光學薄膜，其至少含有1個相位差薄膜。
13. 一種顯示裝置，其特徵為，含有如請求項1~12中任一項之光學薄膜。
14. 一種光學薄膜，其係至少含有1個黏著劑層，且滿足下述式(1)及(2)；A(420)≧1 (1) A(450)/A(420)≦0.3 (2)〔式中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度〕；其中，前述黏著劑層為由含有： (A)丙烯酸樹脂(B)交聯劑，及(C)滿足下述式(3)之光選擇吸收性化合物：ε(450)/ε(420)≦0.3 (3)〔式中，ε(450)表示波長450nm中之克吸光係數、ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數〕之黏著劑組成物所形成者，前述光選擇吸收性化合物含有由式(I)所表示之化合物、式(II)所表示之化合物，及式(III)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種：

    

    〔式(I)中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，R²及R³互相獨立表示氫原子或碳數1~12之烷基，R⁴及R⁵互相獨立表示碳數1~50之烷基，或至少具有1個伸甲基之碳數3~50之烷基且該伸甲基中之至少1個被氧原子所取代之烷基，該烷基上的碳原子可鍵結取代基，R⁴及R⁵可互相連結形成環構造，R⁴及R⁵所形成之環構造中具有至少1個伸甲基之 情形時，該伸甲基中之至少1個可被-CO-、-NR⁶-、-NCH₂COOR^6-1-、-O-、-CS-或-COO-所取代，R⁶及R^6-1互相獨立表示碳數1~12之烷基；A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子；X¹及X²各自獨立表示-CO-、-COO-或-CONR⁹-，R⁹表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基〕

    

    〔式(II)中，R¹⁰及R¹¹互相獨立表示碳數1~12之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，R¹⁰及R¹¹可互相連結形成環構造，R⁴、R⁵、X¹及X²表示與式(I)中之內容為相同之意義〕

    

    〔式(III)中，Z¹表示氫原子、碳數1~10之烷基、芳烷基、芳基或雜環基，該烷基中具有至少1個伸甲基之情形時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子或硫原子所取代，該芳烷基、芳基及雜環基可具有取代基，X³及X⁴互相獨立表示之電子吸引性基，R¹表示與式(I)中之內容為相同之意義〕。
15. 一種光學薄膜，其係至少含有1個偏光板，且滿足下述式(1-1)及(2-1)，以及滿足下述式(1)及(2)：Ap(420)≧1 (1-1) Ap(450)/Ap(420)≦0.3 (2-1)〔式中，Ap(420)表示偏光板透過方向之波長420nm中的光學薄膜之吸光度，Ap(450)表示偏光板透過方向之波長450nm中的光學薄膜之吸光度〕；A(420)≧1 (1) A(450)/A(420)≦0.3 (2)〔式中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度〕。
16. 一種光學薄膜，其係至少含有1個相位差薄膜，且滿足下述式(1)及(2)； A(420)≧1 (1) A(450)/A(420)≦0.3 (2)〔式中，A(420)表示波長420nm中之光學薄膜的吸光度，A(450)表示波長450nm中之光學薄膜的吸光度〕。