JP2019089997A - 粘着剤組成物及び粘着剤層付フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の、紫外線から４００ｎｍ付近の短波長の可視光による劣化について良好な抑制機能を有する粘着剤組成物を提供する。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を含む粘着剤組成物。［式中、Ｒ１及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、複素環基を表す。Ｒ１Ａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基又は電子吸引性基を表す。］【選択図】なし

Description

本発明は、粘着剤組成物及びそれを用いた粘着剤層付フィルムに関する。

有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）は、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子や偏光板等の光学フィルムといった様々な部材が用いられており、これらの部材の貼合には粘着剤が使用される。また、これらの部材に用いられる有機ＥＬ化合物及び液晶化合物は紫外線（ＵＶ）により劣化すると考えられてきたが、紫外線に加えて、短波長域の可視光でも性能劣化が進むことが明らかになってきた。このため、偏光板などの光学フィルムには、紫外線に加えて４００ｎｍ付近の光に対する吸収特性を有することが求められている。一方、表示装置に良好な表示特性を付与するためには、４４０ｎｍを超える可視光域（例えば、青色光）に対しては吸収特性を示さない必要があり、４００ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を有することが重要となる。
このような問題を解決する手段として、特許文献１には、偏光板の保護フィルムに紫外線吸収剤を添加することが記載されていた。

特開２００６−３０８９３６号公報

しかしながら、前記特許文献１に記載の偏光板は、４００ｎｍ付近の可視光に対する吸収特性が低く、耐光性において必ずしも満足のいくものではなかった。また近年、液晶ディスプレイ等の表示装置において、長時間のディスプレイ視認時における疲労や視力低下の問題があり、その対策として短波長の可視光をカットすることが求められている。一方で、良好な色彩表現のためには、波長４４０ｎｍ付近の光を吸収しにくいことが好ましい。そのため、波長４２０ｎｍ付近の光を選択的に吸収することができる光学フィルムが求められている。

本発明は、表示装置に用いた場合に、良好な表示特性を有し、かつ紫外線から４００ｎｍ付近の短波長の可視光による光学フィルムの劣化を抑制することが可能な粘着剤層付フィルム（光学積層体）及び該粘着剤層付フィルムを形成することができる粘着剤組成物を提供することを目的とする。

本発明は、以下の発明を含む。
［１］式（Ｉ）で表される化合物を含む粘着剤組成物。

［式中、Ｒ^１及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ａ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていてもよい。
Ｒ^１Ａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ｂ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよい。
Ｒ^１Ｂは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基又は電子吸引性基を表す。
Ｒ^１及びＲ^２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^６は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成してもよい。］
［２］式（Ｉ）で表される化合物が、式（１）を満たす化合物である［１］に記載の粘着剤組成物。
ε（４０５）≧２０ （１）
〔式中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
［３］式（Ｉ）で表される化合物が、式（２）を満たす化合物である［１］に記載の粘着剤組成物。
ε（４２０）≧５ （２）
〔式中、ε（４２０）は波長４２０ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
［４］さらに、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）及び架橋剤（Ｂ）を含む［１］〜［３］のいずれかに記載の粘着剤組成物。
［５］式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部である［４］に記載の粘着剤組成物。
［６］架橋剤（Ｂ）の含有量が、（メタ）アクリル樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である［４］又は［５］に記載の粘着剤組成物。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の粘着剤組成物から形成された粘着剤層と樹脂フィルムとを含む光学積層体。
［８］樹脂フィルムは、位相差フィルム及び偏光フィルムから選ばれる少なくとも１種のフィルムである［７］に記載の光学積層体。
［９］［１］〜［６］のいずれかに記載の粘着剤組成物から形成される粘着剤層と、偏光フィルムと、位相差フィルムとを含む光学積層体。
［１０］粘着剤層の厚みが、０．１〜３０μｍである［７］〜［９］のいずれかに記載の光学積層体。
［１１］粘着剤層が、下記式（５）を満たす［７］〜［１０］のいずれかに記載の光学積層体。
Ａ（４０５）≧０．５（５）
［式中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
［１２］粘着剤層が、さらに下記式（６）を満たす［１１］に記載の光学積層体。
Ａ（４２０）≧０．１（６）
［式中、Ａ（４２０）は波長４２０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
［１３］粘着剤層が、さらに下記式（７）を満たす［１１］又は［１２］に記載の光学積層体。
Ａ（４４０）≦０．１ （７）
［式中、Ａ４４０は波長４４０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
［１４］［７］〜［１３］のいずれかに記載の光学積層体を含む表示装置。

良好な表示特性を有し、かつ紫外線から４００ｎｍ付近の短波長の可視光による光学フィルムの劣化を抑制することが可能な粘着剤層付フィルム（光学積層体）を提供する。また、該粘着剤層付フィルムを形成し得る粘着剤を提供する。

本発明の光学積層体の層構成の一例を示す。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す。 本発明の学積層体の層構成の一例を示す。 本発明の光学積層体の層構成の一例を示す。

本発明の粘着剤組成物は、式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）という場合がある。）を少なくとも１種以上含む。

＜化合物（Ｉ）＞

［式中、Ｒ^１及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ａ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていてもよい。
Ｒ^１Ａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ｂ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよい。
Ｒ^１Ｂは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基又は電子吸引性基を表す。
Ｒ^１及びＲ^２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^６は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成してもよい。］

Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル、２−へキシル−オクチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Ａに記載の基が挙げられる。
群Ａ：ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルシリル基、炭素数２〜８のアルキルカルボニル基、＊−Ｒ^ａ１−（Ｏ−Ｒ^ａ２）_ｔ１−Ｒ^ａ３（Ｒ^ａ１及びＲ^ａ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表し、Ｒ^ａ３は炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｓ１は１〜３の整数を表す。）で表される基等が挙げられる。
炭素数１〜１２のアルキルシリル基としては、メチルシリル基、エチルシリル、プロピルシリル基等のモノアルキルシリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルエチルシリル基等のジアルキルシリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。
炭素数２〜８のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数７〜１５のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。アラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−が、−ＣＯＯ−に置き換わった基としては２-フェニル酢酸エチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数７〜１５のアラルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数３〜１５の複素環基としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基、フラニル基等の炭素数３〜１５の脂肪族複素環基及び炭素数３〜１５の芳香族複素環基が挙げられ、炭素数３〜９の芳香族複素環基であることが好ましい。

Ｒ^１Ａ及びＲ^１Ｂで表される炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^１Ｂで表される炭素数１〜６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数１〜６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等炭素数６〜１５のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族複素環としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３〜９の芳香族複素環基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^６及びＲ^７で表される電子吸引性基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、式（Ｉ−１）で表される基が挙げられる。

［式中、Ｒ^１１は、水素原子又は炭素数１〜２５のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていてもよい。
Ｘ^１は、＊^１−ＣＯ−、＊^１−ＣＯＯ−、＊^１−ＯＣＯ−、＊^１−ＮＲ^１２ＣＯ−又は＊^１−ＣＯＮＲ^１３−を表す。
Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。
＊^１は、Ｒ^１１との結合手を表す。
＊は、炭素原子との結合手を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ−ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基の炭素数としては、通常１〜２５である。

Ｒ^１１で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^１２及びＲ^１３で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^１Ａで表される炭素数１〜６のアルキル基と同じ基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ^６及びＲ^７より形成される環構造としては、例えば、メルドラム酸構造、バルビツール酸構造、ジメドン構造等が挙げられる。Ｒ^６及びＲ^７より形成される環構造は置換基を有していてもよく、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基等が挙げられる。

Ｒ^２及びＲ^３が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ^２と結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４〜１４員環の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよいし、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。また、これらの環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２及びＲ^３が互いに結合して形成される環構造は、具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドール環、イソインドール環、ピロール環、ピリミジン環及び下記に記載の環等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ^１及びＲ^２が結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４〜１４員環の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ^１及びＲ^２が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよいし、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。また、これらの環は置換基を有していてもよい。Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して形成される環構造具体的には、Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して形成される環構造と同じものが挙げられる。

Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造としては、４〜１４員環の含窒素環構造が挙げられ、５員環〜９員環の含窒素環構造が好ましい。Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよいし、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。また、これらの環は置換基を有していてもよい。Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造は、具体的には、前記Ｒ^２とＲ^３により形成される環構造として例示したものと同じものが挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６が互いに連結して形成される環構造としては、Ｒ^３−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｒ^６が環の骨格を形成する環構造である。例えば、フェニル基等が挙げられる。

Ｒ^２とＲ^３が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては式（Ｉ−Ａ）で表される化合物が挙げられ、Ｒ^２及びＲ^４が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ａ）、式（Ｉ−Ｂ）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立して、含窒素環を表す。］

環Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立して、環の構成単位として窒素原子を含有する含窒素環を表す。環Ｗ^１及びＷ^２は、単環であってもよいし、多環であってもよく、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。また、環Ｗ^１及びＷ^２は、脂肪族環であってもよいし、芳香族環であってもよい。環Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立して、５員環〜９員環の環であることが好ましい。

式（Ｉ−Ａ）で表される化合物は、式（Ｉ−Ａ−１）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ａ）中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ａ^１は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^１Ｄ−を表す。
Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
Ｒ^１Ｄは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］
Ｒ^１４及びＲ^１５で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルブチル基等が挙げられる。
Ｒ^１Ｄで表される炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^１Ａで表される炭素数１〜６のアルキル基と同じものが挙げられる。

式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物は、式（Ｉ−Ｂ−１）で表される化合物及び式（Ｉ−Ｂ−２）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ｂ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基を表す。］

［式（Ｉ−Ｂ−２）中、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^３０は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基、炭素数２〜１３のアシル基、炭素数２〜１３のアシルオキシ基又は炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基を表す。
Ｒ^３１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアミノ基、又は複素環基を表す。］

Ｒ^３０で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１４で表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。
Ｒ^３０は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、アミノ基又はメルカプト基であることが好ましい。

Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１４で表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルコキシ基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
Ｒ^３１で表される置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基等の１つの炭素数１〜８のアルキル基で置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ基等の２つの炭素数１〜８のアルキル基で置換されたアミノ基；等が挙げられる。
Ｒ^３１で表される複素環としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基等の炭素数４〜９の含窒素複素環基等が挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ^２及びＲ^４が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｃ）中、Ｒ^１、Ｒ^６及びＲ^７は上記と同じ意味を表す。
Ｒ^２１、Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。
Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立して、−ＣＨ_２−又は−Ｎ（Ｒ^２５）＝を表す。
Ｒ^２５は、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。］

Ｒ^２５で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^２５で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基：ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基：ビフェニル基等が挙げられ、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基であることが好ましい。Ｒ^２５で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ^３及びＲ^６が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−D）で表される化合物等も挙げられる。

［式（Ｉ−D）中、Ｒ^４、Ｒ⁵、Ｒ⁷は上記と同じ意味を表す。
Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、ヒドロキシ基、アラルキル基を表す。］

Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１Ａ及びＲ^１Ｂで表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8で表される炭素数１〜１２のアルキル基が有していてもよい置換基としてはヒドロキシ基等が挙げられる。
Ｒ^２5、Ｒ^２6、Ｒ^２7及びＲ^２8で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７が互いに連結して環構造を形成している化合物（Ｉ）としては、式（Ｉ−Ｅ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｃ）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ^３は、環構造を表す。］
環Ｗ^３としては、単環であってもよいし、多環であってもよい。また、環Ｗ^３は、脂肪族であってもよいし、芳香族であってもよい。環Ｗ^３は、例えば５員環〜９員環の環が挙げられ、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を環の構成単位として含む複素環であってもよい。

式（Ｉ−Ｅ）で表される化合物は、式（ＩＥ−１）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ｅ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^ｑは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−基は−ＮＲ^２Ｄ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｓ−に置換されていてもよく、Ｒ^１７及びＲ^１８は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^１８及びＲ^１９は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^１９及びＲ^ｑは、互いに連結して環構造を形成してもよい。
Ｒ^２Ｄは水素原子、又は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−基は−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｓ−に置換されていてもよい。
ｍ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して１〜３の整数を表す。］

化合物（Ｉ）は下記式（１）、式（２）の少なくとも一方を満たすことが好ましい。
ε（４０５）≧２０ （１）
ε（４２０）≧５ （２）
〔式中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４２０）は波長４２０ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）で定義する。〕

化合物（Ｉ）のε（４０５）の値が大きいほど波長４０５ｎｍの光を吸収しやすく、紫外線又短波長の可視光における位相差フィルムの劣化を抑制する。ε（４０５）の値が２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）未満であると、粘着剤層中における化合物（Ｉ）の含有量を増大させないと、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の短波長の可視光による劣化抑制機能を発現しにくい傾向にある。化合物（Ｉ）の含有量が増大すると、化合物（Ｉ）がブリードアウト又は不均一に分散してしまい、光吸収機能が不十分となることがある。ε（４０５）の値は２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることが好ましく、３０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがより好ましく、４０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがさらにより好ましく、通常５００Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下である。

化合物（Ｉ）のε（４２０）の値が大きいほど波長４２０ｎｍの光を吸収しやすい。ε（４２０）の値が５未満であると、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の短波長の可視光による劣化抑制機能を発現するために、粘着剤組成物中の化合物（Ｉ）の含有量が増大する。粘着剤組成物中の化合物（Ｉ）の含有量が増大すると、化合物（Ｉ）がブリードアウト又は不均一に分散してしまい、光吸収機能が不十分となることがある。ε（４２０）の値は５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることが好ましく、１０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがより好ましく、２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがさらにより好ましく、通常５００Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下である。

さらに、化合物（Ｉ）は下記式（３）、式（４）の少なくともいずれか一方を満たすことが好ましい。
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （３）
ε（４２０）／ε（４４０）≧４ （４）
〔式中、ε（４０５）、ε（４４０）は上記と同じ意味を表す。波長４４０ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。〕

化合物（Ｉ）のε（４０５）／ε（４４０）の値が大きいほど、表示装置の色彩表現を阻害することなく、４０５ｎｍ付近の光を吸収し位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の光劣化を抑制することができる。ε（４０５）／ε（４４０）の値は２０以上が好ましく、４０以上がより好ましく、７０以上がさらにより好ましく、８０以上が特により好ましい。

化合物（Ｉ）のε（４２０）／ε（４４０）の値が大きいほど、表示装置の色彩表現を阻害することなく、４２０ｎｍ付近の光を吸収し位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の光劣化を抑制することができる。そのため、ε（４２０）／ε（４４０）の値は４以上が好ましく、６以上がより好ましく、１０以上がさらにより好ましく、２０以上が特により好ましい。

式（Ｉ）で表される化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、粘着剤組成物の固形分１００質量％中、通常０．０１〜２０質量％であり、好ましくは０．０５〜１５質量％であり、より好ましくは０．１〜１０質量％であり、さらに好ましくは０．１〜５質量％である。

本発明において、粘着剤層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル系、ゴム系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系などのベースポリマーを有する粘着剤を用いることができる。これらの中でも、高い耐熱性、耐光性の観点から、本発明の光学フィルムを構成する粘着剤層は、（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとして含む粘着剤組成物から形成されることが好ましい。
本発明の粘着剤組成物は、さらに樹脂、架橋剤及びシラン化合物を含有することが好ましく、帯電防止剤をさらに含有することがより好ましい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、（メタ）アクリル酸エステル由来の構成単位を主成分（好ましくは５０質量％以上含む）重合体であることが好ましい。（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、一種以上の（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位（例えば、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位）を含んでもよい。なお本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のいずれでもよいことを意味し、他に、（メタ）アクリレートなどというときの「（メタ）」も同様の趣旨である。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、下記式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる

［式（Ｉ）中、Ｒ¹ は水素原子又はメチル基で表し、Ｒ² は炭素数１〜１４のアルキル基または炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、該アルキル基または該アラルキル基の水素原子は、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。］

式（Ｉ）において、Ｒ²は、好ましくは、炭素数１〜１４のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数１〜８のアルキル基である。

式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルとしては、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ノニル、（メタ）アクリル酸ｎ−デシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、等の（メタ）アクリル酸の直鎖状アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｉ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ノニル、（メタ）アクリル酸ｉ−ステアリル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、等の（メタ）アクリル酸の分枝状アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸シクロへキシル、（メタ）アクリル酸イソボロニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸シクロドデシル、（メタ）アクリル酸メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、α−エトキシアクリル酸シクロヘキシル、等の（メタ）アクリル酸の脂環骨格含有アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸の芳香環骨格含有エステル；
等が挙げられる。
また、（メタ）アクリル酸アルキルエステルにおけるアルキル基に置換基が導入された置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを挙げることもできる。置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルの置換基は、アルキル基の水素原子を置換する基であり、その具体例はフェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基を含む。置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして、具体的には、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシメチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−フェノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸フェノキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸フェノキシポリ（エチレングリコール）等が挙げられる。

これらの（メタ）アクリル酸エステルは、それぞれ単独で用いることができるほか、異なる複数のものを用いてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、ホモポリマーのガラス転移温度Ｔｇが０℃未満である（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）由来の構成単位、及びホモポリマーのＴｇが０℃以上である（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）由来の構成単位を含有することが好ましい。このことは、粘着剤層の高温耐久性を高めるうえで有利である。（メタ）アクリル酸アルキルエステルのホモポリマーのＴｇは、例えばＰＯＬＹＭＥＲ ＨＡＮＤＢＯＯＫ（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）などの文献値を採用することができる。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）の具体例は、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−及びｉ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−へキシル、アクリル酸ｎ−ヘプチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−オクチル、アクリル酸２−エチルへキシル、アクリル酸ｎ−及びｉ−ノニル、アクリル酸ｎ−及びｉ−デシル、アクリル酸ｎ−ドデシル等のアルキル基の炭素数が２〜１２程度の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを含む。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）は、１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。なかでも、光学フィルムに積層した際の追従性やリワーク性の観点から、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸２−エチルへキシルなどが好ましい。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ１）以外の（メタ）アクリル酸アルキルエステルである。（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）の具体例は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ｔ−ブチル等を含む。

（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。中でも、高温耐久性の観点から、（メタ）アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル等を含むことが好ましく、アクリル酸メチルを含むことがより好ましい。

式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、（メタ）アクリル系樹脂に含まれる全構造単位中、５０質量％以上であることが好ましく、６０〜９５質量％であることが好ましく、６５〜９５質量％以上であることがより好ましい。

（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位が好ましく、極性官能基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位がより好ましい。極性官能基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、置換もしくは無置換アミノ基、エポキシ基等の複素環基などが挙げられる。
極性官能基を有する単量体としては、
（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸２−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシドデシル、アクリル酸１０−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１４−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１４−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１５−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１５−ヒドロキシヘプタデシル等のヒドロキシ基を有する単量体；
（メタ）アクリル酸、カルボキシアルキル（メタ）アクリレート（例えば、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート）、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基を有する単量体；
アクリロイルモルホリン、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，５−ジヒドロフラン等の複素環基を有する単量体；
アミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の置換もしくは無置換アミノ基を有する単量体が挙げられる。
なかでも、（メタ）アクリル酸エステル重合体と架橋剤との反応性の点で、ヒドロキシ基またはおよびカルボキシル基を有する単量体が好ましく、ヒドロキシ基およびカルボキシル基を有する単量体のいずれもを含むことがより好ましい。
ヒドロキシ基を有する単量体としては、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、アクリル酸６−ヒドロキシヘキシルが好ましい。特に、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルおよびアクリル酸５−ヒドロキシペンチルを用いることで良好な耐久性を得ることができる。
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸を用いることが好ましい。

粘着剤層の外面に積層することができるセパレートフィルムの剥離力亢進を防ぐ観点から、アミノ基を有する単量体を実質的に含まないことが好ましい。ここで実質的に含まないとは、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）を構成する全構成単位１００重量部中、０．１重量部以下であることをいう。

（メタ）アクリル酸エステル重合体中の極性官能基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは、０．５質量部以上１５質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下、特に好ましくは１質量部以上７質量部以下である。

（メタ）アクリル酸エステル重合体中の芳香族基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル酸エステル重合体の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは４質量部以上２０質量部以下、さらに好ましくは４質量部以上１６質量部以下である。

（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、スチレン系単量体に由来する構造単位、ビニル系単量体に由来する構造単位、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位、（メタ）アクリルアミド系単量体に由来する構造単位などが挙げられる。

スチレン系単量体としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン等のアルキルスチレン；フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン等のハロゲン化スチレン；ニトロスチレン；アセチルスチレン；メトキシスチレン；および、ジビニルベンゼンが挙げられる。

ビニル系単量体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル等の脂肪酸ビニルエステル；塩化ビニル、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル；塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン；ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等の含窒素複素芳香族ビニル；ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン；および、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリルが挙げられる。

分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等の分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の分子内に３個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体が挙げられる。

（メタ）アクリルアミド系単量体としては、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（５−ヒドロキシペンチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（６−ヒドロキシヘキシル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−オキソ−１−イミダゾリジニル）エチル〕（メタ）アクリルアミド、２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１−メチルエトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１−メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチルエトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−エトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−プロポキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１−メチルエトキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１−メチルプロポキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−メチルプロポキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ブトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１，１−ジメチルエトキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。なかでも、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）アクリルアミドおよびＮ−（２−メチルプロポキシメチル）アクリルアミドが好ましい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍw）は、好ましくは、５０万〜２５０万である。重量平均分子量が５０万以上であると、高温環境における粘着剤層の耐久性が向上し、被着体と粘着剤層との間の浮き剥れや、粘着剤層の凝集破壊などの不具合を抑制しやすい。重量平均分子量が２５０万以下であると、粘着剤組成物を例えばシート状に加工（基材に塗工する）際の塗工性の観点で有利である。粘着剤層の耐久性及び粘着剤組成物の塗工性の両立の観点から、重量平均分子量は好ましくは６０万〜１８０万であり、よく好ましくは７０万〜１７０万であり、特に好ましくは１００万〜１６０万である。また、重量平均分子量（Ｍw）と数平均分子量（Ｍn）との比で表される分子量分布（Ｍw／Ｍn）は、通常２〜１０、好ましくは３〜８、さらに好ましくは３〜６である。 重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより分析でき、標準ポリスチレン換算の値である。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、酢酸エチルに溶解させ、濃度２０質量％の溶液としたとき、２５℃における粘度が、２０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．１〜１５Ｐａ・ｓであることがより好ましい。該範囲の粘度であると、粘着剤組成物を基材に塗工する際の塗工性の観点から有利である。なお、粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定できる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば−６０〜２０℃、好ましくは−５０〜１５℃、さらに好ましくは−４５〜１０℃、特に−４０〜０℃であってもよい。Ｔｇが上限値以下であると粘着剤層の被着体基材に対するするぬれ性の向上に有利であり、下限値以上であると粘着剤層の耐久性の向上に有利である。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定できる。

（メタ）アクリル酸樹脂（Ａ）は、例えば、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法などの公知の方法によって製造することができ、特に溶液重合法が好ましい。溶液重合法としては、例えば、単量体及び有機溶媒を混合し、窒素雰囲気下、熱重合開始剤を添加し、４０〜９０℃、好ましくは５０〜８０℃程度の温度条件下、３〜１５時間程度攪拌する方法が挙げられる。反応制御のため、重合中、連続的又は間歇的に単量体や熱重合開始剤を添加してもよい。該単量体や熱開始剤は有機溶媒に添加した状態であってもよい。

重合開始剤としては、熱重合開始剤や光重合開始剤等が用いられる。光重合開始剤としては、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンなどが挙げられる。熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）などのアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイドなどの有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素などの無機過酸化物などが挙げられる。また、過酸化物と還元剤とを併用したレドックス系開始剤なども使用できる。

重合開始剤の割合は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する単量体の総量１００質量部に対して、０．００１〜５質量部程度である。（メタ）アクリル系樹脂の重合は、活性エネルギー線（例えば紫外線など）による重合法を使用してもよい。

有機溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。

樹脂（Ａ）の含有量は、粘着剤組成物の固形分１００質量％中、通常６０質量％〜９９．９質量％であり、好ましくは７０質量％〜９９．５質量％であり、より好ましくは８０質量％〜９９質量％である。

粘着剤組成物は、架橋剤（ｂ）を含むことができる。該架橋剤（ｂ）は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）中の極性官能基（例えばヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、複素環基等）と反応する。架橋剤（Ｂ）は（メタ）アクリル系樹脂等と架橋構造を形成し、耐久性やリワーク性に有利な架橋構造を形成する。

架橋剤（ｂ）としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ及び粘着剤層の耐久性、架橋速度などの観点から、イソシアネート系架橋剤であることが好ましい。

イソシアネート系化合物としては、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物が好ましく、例えば、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネートなど）、脂環族イソシアネート系化合物（例えばイソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート）、芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等）などが挙げられる。また架橋剤（Ｂ）は、前記イソシアネート化合物の多価アルコール化合物による付加体（アダクト体）［例えば、グリセロール、トリメチロールプロパンなどによる付加体］、イソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール等と付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート化合物などの誘導体であってもよい。架橋剤（Ｂ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、代表的には芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート）、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネート）又はこれらの多価アルコール化合物（例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン）による付加体、又はイソシアヌレート体が挙げられる。架橋剤（Ｂ）が、芳香族イソシアネート系化合物及び／又はこれらの多価アルコール化合物、又はイソシアヌレート体による付加体であると、最適な架橋密度（又は架橋構造）の形成に有利なためか、粘着剤層の耐久性を向上できる。特に、トリレンジイソシアネート系化合物及び／又はこれらの多価アルコール化合物による付加体であると、例えば粘着剤層を偏光板に適用した場合等であっても耐久性を向上することができる。

架橋剤（ｂ）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常０．０１〜１５質量部であり、好ましくは０．０５〜１０重量部であり、より好ましくは０．１〜５重量部である。

樹脂組成物は、さらにシラン化合物（Ｄ）を含んでいてもよい。
シラン化合物（Ｄ）としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シラン化合物（Ｄ）は、シリコーンオリゴマーであってもよい。シリコーンオリゴマーの具体例を、モノマー同士の組み合わせの形で表記すると次のとおりである。

３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトプロピル基含有オリゴマー；メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトメチル基含有オリゴマー；３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー等の３−グリジドキシプロピル基含有のコポリマー；３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメタクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー；３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のアクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー；ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のビニル基含有オリゴマー；３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー等のアミノ基含有のコポリマーなど。

シラン化合物（Ｄ）は、下記式（ｄ１）で表されるシラン化合物であってもよい。粘着剤組成物が下記式（ｄ１）で表されるシラン化合物を含むと、密着性（又は接着性）をさらに向上できるため、耐剥がれ性に良好な粘着剤層を形成できる。特に、高温環境下で、粘着剤層を透明電極やガラスに適用（又は積層）した場合においても、密着性（又は接着性）を維持でき、高い耐久性を示すことができる。

（式中、Ｂは、炭素数１〜２０のアルカンジイル基又は炭素数３〜２０の二価の脂環式炭化水素基を示し、前記アルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されてもよく、Ｒ^７は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を示す）

式（ｄ１）において、Ｂは、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基などの炭素数１〜２０のアルカンジイル基；シクロブチレン基（例えば１，２−シクロブチレン基）、シクロペンチレン基（例えば１，２−シクロペンチレン基）、シクロヘキシレン基（例えば１，２−シクロへキシレン基）、シクロオクチレン基（例えば１，２−シクロオクチレン基）などの炭素数３〜２０の二価の脂環式炭化水素基、又はこれらのアルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−が、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換された基を示す。好ましいＢは、炭素数１〜１０のアルカンジイル基である。Ｒ^７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹及びＲ¹²はそれぞれ独立して、前記Ｒ７に例示の炭素数１〜５のアルキル基、又はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基を示す。好ましいＲ８、Ｒ９、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルコキシ基である。これらのシラン化合物（Ｄ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

具体的な前記式（ｄ１）で表されるシラン化合物としては、例えば、（トリメトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）プロパン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ブタン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ブタン、１，５−ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリエトキシシリル）ペンタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，６−ビス（トリエトキシシリル）ヘキサン、１，６−ビス（トリプロポキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタン、１，８−ビス（トリエトキシシリル）オクタン、１，８−ビス（トリプロポキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−５アルコキシシリル）Ｃ１−１０アルカン；ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジメトキシエチルシリル）エタン、１，４−ビス（ジメトキシメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジメトキシエチルシリル）ブタン、１，６−ビス（ジメトキシメチルシリル）ヘキサン、１，６−ビス（ジメトキシエチルシリル）ヘキサン、１，８−ビス（ジメトキシメチルシリル）オクタン、１，８−ビス（ジメトキシエチルシリル）オクタンなどのビス（ジＣ１−５アルコキシＣ１−５アルキルシリル）Ｃ１−１０アルカン；１，６−ビス（メトキシジメチルシリル）ヘキサン、１，８−ビス（メトキシジメチルシリル）オクタンなどのビス（モノＣ１−５アルコキシ−ジＣ１−５アルキルシリル）Ｃ１−１０アルカンなどが挙げられる。これらのうち、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ブタン、１，５−ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−３アルコキシシリル）Ｃ１−１０アルカンが好ましく、特に、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタンが好ましい。

シラン化合物（Ｄ）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常０．０１〜１０重量部であり、好ましくは０．０３〜５重量部であり、より好ましくは０．０５〜２重量部であり、さらに好ましくは０．１〜１重量部である。上記上限値以下であると、粘着剤層からのシラン化合物（Ｄ）のブリードアウトの抑制に有利であり、上記下限値以上であると、粘着剤層と、金属層やガラス基板等との密着性（又は接着性）を向上しやすくなり、耐剥がれ性などの向上に有利である。

粘着剤組成物は、さらに帯電防止剤を含有していてもよい。
帯電防止剤としては、界面活性剤、シロキサン化合物、導電性高分子、イオン性化合物等が挙げられ、イオン性化合物であることが好ましい。イオン性化合物としては、慣用のものが挙げられる。イオン性化合物を構成するカチオン成分としては、有機カチオン、無機カチオンなどが挙げられる。有機カチオンとしては、例えばピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。無機カチオンとしては、例えばリチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、セシウムカチオンなどのアルカリ金属カチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオンなどのアルカリ土類金属カチオンなどが挙げられる。特に（メタ）アクリル系樹脂との相溶性の観点からピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、リチウムカチオン、カリウムカチオンが好ましい。イオン性化合物を構成するアニオン成分としては、無機アニオン及び有機アニオンのいずれでもよいが、帯電防止性能の点で、フッ素原子を含むアニオン成分が好ましい。フッ素原子を含むアニオン成分としては、例えばヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ_６−）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ−］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ_２）_２Ｎ−］、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ−]などが挙げられる。これらのイオン性化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。特に、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ−］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ_２）_２Ｎ−］、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ−]が好ましい。
粘着剤組成物から形成される粘着剤層の帯電防止性能の経時安定性の点で、室温で固体であるイオン性化合物が好ましい。

帯電防止剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、例えば、０．０１〜２０質量部、好ましくは０．１〜１０質量部、さらに好ましくは１〜７質量である。

粘着剤組成物は、溶剤、架橋触媒、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、顔料、防錆剤、無機フィラー、光散乱性微粒子等の添加剤を１種又は２種以上含有することができる。

＜粘着剤層及び粘着剤層付光学フィルムの構成並びに製造方法＞
本発明は、前記粘着剤組成物からなる粘着剤層を包含する。該粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物を、溶剤に溶解又は分散して溶剤含有の粘着剤組成物とし、次いで、これを光学フィルム又は離形フィルムの表面に塗布・乾燥することにより形成できる。

また、本発明は、樹脂フィルムと、該樹脂フィルムの少なくとも一方の面に積層された前記粘着剤層とを含む光学積層体も包含する。

図１〜図４に本発明の粘着剤組成物から形成された粘着剤層を含む光学積層体の一例を示す概略断面図を示した。
図１に記載の光学積層体１０は、樹脂フィルム２と、該樹脂フィルム２の片面に粘着剤層１が積層された積層体である。なお、樹脂フィルム２は、粘着剤層１の両面に積層されてもよい。
図２に記載の光学積層体１０Ａは、保護フィルム８、接着剤層７、偏光フィルム９、接着剤層７、保護フィルム８、粘着剤層１、樹脂フィルム２を含む積層体である。
図３に記載の光学積層体１０Ｂ及び図３に記載の光学積層体１０Ｃは、保護フィルム８、接着剤層７、偏光フィルム９、接着剤層７、保護フィルム８、粘着剤層１、光学フィルム４０、粘着剤層７ａ、発光素子３０（液晶セル、有機ＥＬセル）を含む積層体であって、光学フィルム４０が多層構造を有する光学積層体である。光学フィルム４０は図に示すように多層構造であってもよいし、単層構造であってもよい。接着剤層７は公知の接着剤から形成された接着剤層であればよく、粘着剤層７ａは公知の粘着剤から形成された粘着剤層であってもよいし、本発明の粘着剤組成物から形成された粘着剤層であってもよい。

粘着剤層１を樹脂フィルム２の表面に積層する際には、樹脂フィルム２及び／又は粘着剤層１の貼合面にプライマー層を形成させてもよいし、プラズマ処理、コロナ処理等の表面活性化処理を行ってもよい。

光学積層体１０は、粘着剤層１の外面に積層されるセパレートフィルム（剥離フィルム）を含んでいてもよい。このセパレートフィルムは通常、粘着剤層１の使用時（例えば透明導電極やガラス基板への積層時）に剥離除去される。セパレートフィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアレートなどの各種樹脂からなるフィルムの粘着剤層１が形成される面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものであってよい。

光学積層体１０は、上記粘着剤組成物を構成する各成分を溶剤に溶解又は分散して溶剤含有の粘着剤組成物とし、次いで、これを樹脂フィルム２の表面に塗布・乾燥して粘着剤層１を形成することによって得ることができる。また光学積層体１０は、セパレートフィルムの離型処理面に上記と同様にして粘着剤層１を形成し、該粘着剤層１を樹脂フィルム２の表面に積層（転写）することによっても得ることができる。

粘着剤層の厚みは、通常０．１〜３０μｍであり、粘着剤層付光学フィルムの耐久性や粘着剤層付光学フィルムのリワーク性などの観点から、好ましくは３〜３０μｍであり、さらに好ましくは５〜２５μｍである。粘着剤層の厚みが上記上限値以下であると、リワーク性が良好になり、上記下限値以上であると、耐久性が良好となる。

粘着剤層の２３℃における貯蔵弾性率は、通常１００ＭＰａ以上であり、好ましくは３００ＭＰａ以上であり、より好ましくは５００ＭＰａ以上であり、１００００ＭＰａ以下であることが好ましい。粘着剤層の貯蔵弾性率は、市販の粘弾性測定装置、例えば、ＲＥＯＭＥＴＲＩＣ社製の粘弾性測定装置「ＤＹＮＡＭＩＣ ＡＮＡＬＹＺＥＲ ＲＤＡ ＩＩ」を用いて測定することができる。

粘着剤層は、下記式（５）を満たすことが好ましい。
Ａ（４０５）≧０．５ （５）
［式中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
Ａ（４０５）の値が大きいほど波長４０５ｎｍにおける吸収が高いことを表し、Ａ（４０５）の値が０．５未満であると、波長４０５ｎｍにおける吸収が低く、紫外線における有機ＥＬ素子等の表示装置や位相差フィルムの劣化が起こりやすい。Ａ（４０５）の値は、好ましくは０．６以上であり、より好ましくは０．８以上であり、特に好ましくは１．０以上である。

粘着剤層は、さらに下記式（６）を満たすことが好ましい。
Ａ（４２０）≧０．１ （６）
［式中、Ａ（４２０）は波長４２０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
Ａ（４２０）の値が大きいほど波長４２０ｎｍにおける吸収が高いことを表し、Ａ（４２０）の値が０．１未満であると、波長４２０ｎｍにおける吸収が低く、紫外線における有機ＥＬ素子等の表示装置や位相差フィルムの劣化が起こりやすい。Ａ（４２０）の値は、好ましくは０．１以上であり、より好ましくは０．１５以上であり、特に好ましくは０．２以上である。

粘着剤層は、さらに下記式（７）を満たすことが好ましい。
Ａ（４４０）≦０．１ （７）
［式（６）中、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
Ａ（４４０）の値が小さいほど波長４４０ｎｍにおける吸収が低いことを表し、Ａ（４４０）の値が０．１を超えると、表示装置における良好な色彩表現を損なう傾向にある。また表示装置の発光を阻害するため、輝度も低下してしまう。Ａ（４４０）の値は、好ましくは０．０５以下であり、より好ましくは０．０４以下であり、特に好ましくは０．０３である。

粘着剤層は、下記式（８）及び式（９）の少なくともいずれか一方を満たすことが好ましい。
Ａ（４０５）／Ａ（４４０）≧５ （８）
Ａ（４２０）／Ａ（４４０）≧１．５ （９）
［式中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表し、Ａ（４４０）は、波長４４０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表し、Ａ（４２０）は、波長４２０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す］

Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は、波長４４０ｎｍにおける吸収の大きさに対する波長４０５ｎｍの吸収の大きさを表し、この値が大きいほど４０５ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを表す。Ａ（４０５）／Ａ（４４０）の値は１０以上であることが好ましく、３０以上であることがより好ましく、特に好ましくは６０以上である。

Ａ（４２０）／Ａ（４４０）の値は、波長４４０ｎｍにおける吸収の大きさに対する波長４２０ｎｍの吸収の大きさを表し、この値が大きいほど４２０ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを表す。Ａ（４２０）／Ａ（４４０）の値は１．５以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましく、特に好ましくは５以上である。

＜樹脂フィルム＞
本発明の光学積層体１０を構成する樹脂フィルム２は、光学フィルムであることが好ましい。光学フィルムとは、光線を透過、反射、吸収する等の光学機能を有するフィルムを意味する。
樹脂フィルム２は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。単層構造の光学フィルムとしては、偏光子、位相差フィルム、輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルムが挙げられる。多層構造の光学フィルムとしては、偏光板、位相差板、前記に記載の単層構造の光学フィルムの積層体等が挙げられる。単層構造の光学フィルムを積層する際には、接着剤層や粘着剤層を介していてもよい。
樹脂フィルム２は、位相差フィルム、偏光板であることが好ましい。

＜位相差フィルム＞
位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであり、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、オレフィン系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ポリサルホンおよびポリエーテルサルホン等のサルホン系樹脂、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、液晶ポリエステル樹脂、トリアセチルセルロースを含むセルロース系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニル系樹脂、アクリル樹脂などからなる樹脂フィルムを、１．０１〜６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムが挙げられる。なかでも、シクロオレフィン系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルムおよびポリカーボネートフィルムを一軸延伸または二軸延伸した樹脂フィルムが好ましい。また、位相差フィルムは、液晶性化合物を基材に塗布・配向によって光学異方性を発現させた位相差フィルムであってもよい。なお、本明細書において、位相差フィルムは、ゼロレタデーションフィルムを含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。
なお、本明細書において、位相差フィルムは、ゼロレタデーションフィルムを含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。

ゼロレタデーションフィルムとは、正面レタデーションＲ_eと厚み方向のレタデーションＲ_thとが、ともに−１５〜１５ｎｍであり、光学的に等方なフィルムをいう。ゼロレタデーションフィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（鎖状ポリオレフィン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂など）またはポリエチレンテレフタレート系樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられ、レタデーション値の制御が容易で、入手も容易であるという点で、セルロース系樹脂またはポリオレフィン系樹脂が好ましい。ゼロレタデーションフィルムは、保護フィルムとしても用いることができる。ゼロレタデーションフィルムとしては、富士フイルム（株）から販売されている“Ｚ−ＴＡＣ”（商品名）、コニカミノルタオプト（株）から販売されている“ゼロタック（登録商標）”、日本ゼオン（株）から販売されている“ＺＦ−１４”（商品名）などが挙げられる。

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムや、無機層状化合物の塗布によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、温度補償型位相差フィルムと称されるフィルム、ＪＸ日鉱日石エネルギー（株）から販売されている“ＮＨフィルム”（商品名；棒状液晶が傾斜配向したフィルム）、富士フイルム（株）から販売されている“ＷＶフィルム”（商品名；円盤状液晶が傾斜配向したフィルム）、住友化学（株）から販売されている“ＶＡＣフィルム”（商品名；完全二軸配向型のフィルム）、住友化学（株）から販売されている“new VACフィルム”（商品名；二軸配向型のフィルム）などが挙げられる。

本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムは、液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムであることが好ましい。

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、以下の第一の形態〜第五の形態が挙げられる。
第一の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム
第二の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム
第三の形態：棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム
第四の形態：円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム
第五の形態：円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルム

たとえば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（有機ＥＬ表示装置）に用いられる光学フィルムとしては、第一の形態、第二の形態、第五の形態が好適に用いられる。またはこれらの形態の位相差フィルムを積層させて用いてもよい。

位相差フィルムが、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層（以下、「光学異方性層」と称する場合がある）である場合、位相差フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式（１０）および式（１１）を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （１０）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （１１）
本発明の光学フィルムにおいて、位相差フィルムが第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式（１０）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。さらに１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１５０が好ましい。

位相差フィルムが、光学異方性層を有するフィルムである場合の重合性液晶化合物としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報、特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１１−１６２６７８号、特開２０１６−８１０３５号公報、国際公開第２０１７／０４３４３８号及び特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物等が挙げられる。

重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差フィルムを製造する方法は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法等が挙げられる。

第２の形態の場合、正面位相差値Ｒｅ（５５０）は０〜１０ｎｍの範囲に、好ましくは０〜５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Ｒ_thは、−１０〜−３００ｎｍの範囲に、好ましくは−２０〜−２００ｎｍの範囲に調整すればよい。厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Ｒ_thは、面内の進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ₅₀と面内の位相差値Ｒ₀ とから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒ_thは、面内の位相差値Ｒ₀、進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ_５0、位相差フィルムの厚みｄ、及び位相差フィルムの平均屈折率ｎ₀から、以下の式 (１２)〜（１４）によりｎ_x、ｎ_y及びｎ_z を求め、これらを式（１５）に代入して、算出することができる。

Ｒ_ｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］×ｄ （１５）
Ｒ_０ ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ （１２）
Ｒ_5０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （１３）
(ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ)／３＝ｎ_０ （１４）
ここで、
φ＝sin^−１〔sin（４０°）／ｎ_０〕
ｎ_ｙ'＝ｎ_ｙ×ｎ_ｚ／〔ｎ_ｙ ^２×sin^２（φ）＋ｎ_ｚ ^２×cos^２（φ）〕^１／２

位相差フィルムは、二以上の層を有する多層フィルムであってもよい。例えば、位相差フィルムの片面又は両面に保護フィルムが積層されたものや、二以上の位相差フィルムが粘着剤又は接着剤を介して積層されたものが挙げられる。

光学フィルムが二以上の位相差フィルムが積層された多層フィルムである場合、本発明の光学フィルムを含む光学積層体の構成としては、図３に示したように、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差層５０と透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差層７０とを、接着剤又は粘着剤６０を介して積層した光学フィルム４０を含む構成が挙げられる。また、図４に示したように、１／４波長位相差層５０ａとポジティブＣ層８０とを、接着剤層又は粘着剤層を介して積層した好学フィルム４０を含む構成も挙げられる。

図３の１／４波長分の位相差を付与する１／４波長位相差層５０、および透過光に１／２波長分の位相差を付与する１／２波長位相差層７０は上記第一の形態の光学フィルムであっても第五の形態の光学フィルムであってもよい。図３の構成の場合、少なくとも片方が第五の形態であることがより好ましい。

図４の構成の場合、１／４波長位相差層５０ａは上記第一の形態の光学フィルムであることが好ましく、さらに式（８）、式（９）を満たすことがより好ましい。

＜偏光板＞
偏光板は、偏光子の片面又は両面に、保護フィルムが貼着された状態で用いられることが多い。通常、その一方の面に粘着剤層が形成される。また、偏光板と位相差フィルムを積層した楕円偏光板は、偏光子の片面又は両面に、保護フィルムが貼着された状態であることが多い。このような楕円偏光板に粘着剤層を形成する場合は、通常、その位相差フィルム側に粘着剤層が形成される。

偏光子は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有するフィルムであり、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着配向させたフィルムを用いることができる。二色性色素としては、例えば、ヨウ素や二色性有機染料などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、酢酸ビニルと共重合可能な単量体（例えば不飽和カルボン酸、オレフィン、ビニルエーテル、不飽和スルホン酸、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミドなど）と酢酸ビニルとの共重合体などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタールなどであってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常、１０００〜１００００、好ましくは１５００〜５０００である。なお、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２６に準拠して求めることができる。

通常、ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものを偏光子の原反フィルムとして用いる。ポリビニルアルコール系樹脂は、公知の方法で製膜することができる。原反フィルムの厚みは、通常１〜１５０μｍであり、延伸のしやすさなどを考慮すれば、好ましくは１０μｍ以上である。

偏光子は、例えば、原反フィルムに対して、一軸延伸する工程、二色性色素でフィルムを染色してその二色性色素を吸着させる工程、ホウ酸水溶液でフィルムを処理する工程、及び、フィルムを水洗する工程が施され、最後に乾燥して製造される。偏光子の厚みは、通常１〜３０μｍであり、粘着剤層付樹脂フィルム１の薄膜化の観点から、好ましくは２０μｍ以下、さらに好ましくは１５μｍ以下、特に１０μｍ以下である。

保護フィルムとしては、透明な熱可塑性樹脂フィルムであることが好ましい。熱可塑性樹脂フィルムとしては、例えば、酢酸セルロース樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂からなるフィルムが挙げられる。

偏光子と保護フィルムとの貼着には、公知の接着剤が用いられる。接着剤としては、水系接着剤であってもよいし、活性エネルギー硬化型接着剤であってもよい。

集光フィルムは、光路制御等を目的に用いられるもので、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、ドット付設シート等であることができる。

輝度向上フィルムは、偏光板を適用した液晶表示装置における輝度を向上させる目的で使用される。具体的には、屈折率の異方性が互いに異なる薄膜フィルムを複数枚積層して反射率に異方性が生じるように設計された反射型偏光分離シート、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層を基材フィルム上に支持した円偏光分離シート等が挙げられる。

本発明の光学積層体は、偏光板と粘着剤層と位相差フィルムとをこの順に含む積層フィルムであることが好ましい。

本発明の粘着剤組成物から形成される粘着剤層を含む光学積層体は、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子に積層させて、有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）に用いる事ができる。

以下、実施例および比較例により本発明をさらに詳細に説明する。実施例および比較例中の「％」および「部」は、特記しない限り、「質量％」および「質量部」である。

また、以下の例において、重量平均分子量および数平均分子量の測定は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）装置（ＧＰＣ−８１２０、東ソー（株）製）にカラムとして、４本の「ＴＳＫ ｇｅｌ ＸＬ（東ソー（株）製）」、及び「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２（昭和電工（株）製）」を１本、計５本を直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて、試料濃度５ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で行い、標準ポリスチレン換算により算出した。

＜アクリル樹脂の調製＞
表１に示す組成に従い、以下の方法により、アクリル樹脂（Ａ）およびアクリル樹脂（Ｂ）を調製した。

［重合例１］：アクリル樹脂（Ａ）の調製
冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、単量体（Ａ−１）としてアクリル酸ブチル７０．４部、アクリル酸メチル２０．０部、およびアクリル酸２−フェノキシエチル８．０部、単量体（Ａ−２）としてアクリル酸２−ヒドロキシエチル１．０部、単量体（Ａ−３）としてアクリル酸０．６部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。開始剤の添加した後１時間この温度で保持し、次いで内温を５４〜５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られたアクリル樹脂は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが１４２万、Ｍｗ／Ｍｎが５．２であった。これをアクリル樹脂（Ａ）とする。

［重合例２］：アクリル樹脂（Ｂ）の調製
冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、単量体（Ａ−１）としてアクリル酸ブチル９６．０部および単量体（Ａ−３）としてアクリル酸４．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。開始剤の添加した後１時間この温度で保持し、次に内温を５４〜５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られたアクリル樹脂は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが７５万６０００、Ｍｗ／Ｍｎが４．１であった。これをアクリル樹脂（Ｂ）とする。

表１中、単量体組成の欄にある符号は、それぞれ次の単量体を意味する。
［単量体（Ａ−１）］
ＢＡ ：アクリル酸ブチル
ＭＡ ：アクリル酸メチル
ＰＥＡ ：アクリル酸２−フェノキシエチル
［単量体（Ａ−２）］
ＨＥＡ ：アクリル酸２−ヒドロキシエチル
［単量体（Ａ−３）］
ＡＡ ：アクリル酸

＜光選択吸収性化合物の合成＞
［合成例１］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド２．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）０．７２ｇ、シアノ酢酸ブチル（東京化成工業株式会社製）１．３ｇ、１−ブタノール（和光純薬工業株式会社製）８ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０１で表される化合物を２．７ｇ得た。収率は８７％であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０１で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： ０．９４（ｔ、３Ｈ）、１．４２（ｓｅｘｔ、２Ｈ）、１．６９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．７１（ｓ、３Ｈ）、４．２３（ｔ、２Ｈ）、７．４０−７．４３（ｍ、５Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、３Ｈ）、８．１４（ｓ、１Ｈ）、８．４５−８．４７（ｍ、１Ｈ）

＜グラム吸光係数ε測定＞
得られた光選択吸収性化合物（１）のグラム吸光係数を測定するために、光選択吸収性化合物（１）を２−ブタノンに溶解させた。得られた溶液を１ｃｍの石英セルに入れ、石英セルを分光光度計ＵＶ−２４５０（株式会社島津製作所製）にセットし、ダブルビーム法により１ｎｍステップ３００〜８００ｎｍの波長範囲で吸光度を測定した。得られた吸光度の値と、溶液中の光吸収性化合物濃度、石英セルの光路長から、波長ごとのグラム吸光係数を下記式から算出した。
ε（λ）＝Ａ（λ）／ＣＬ
〔式中、ε（λ）は波長λｎｍにおける化合物のグラム吸光係数Ｌ／（ｇ・ｃｍ）を表し、Ａ（λ）は波長λｎｍにおける吸光度を表し、Ｃは濃度ｇ／Ｌを表し、Ｌは石英セルの光路長ｃｍを表す。〕
ＵＶＡ−０１で表される化合物の吸収極大波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４０５）の値は４３Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は８．８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

［合成例２］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．７ｇ、シアノ酢酸２−エトキシエチル（東京化成工業株式会社製）５．８ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。内温２５℃にてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＰＥＡと略す。東京化成工業株式会社製）４．７ｇを１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。得られた混合物を、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去した。得られた油状物にトルエンを加えて生成した不溶成分を濾過で取り除いた。減圧エバポレーターを用いて濾液を再度濃縮し、濃縮後の溶液をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、トルエン中から再結晶することで目的物を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０２を表される化合物を５．２ｇ得た。収率は６５％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−０２を表される化合物のε（４０５）の値は５８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は１．９Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０２で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２１（ｔ、３Ｈ）、２．１０（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、２．９８−３．０４（ｍ、５Ｈ）、３．５４−３．７２（ｍ、６Ｈ）、４．３１（ｔ、２Ｈ）、５．５３（ｄ、２Ｈ）、７．９３（ｄ、２Ｈ）

［合成例３］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド３．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．２ｇ、シアノ酢酸２−エトキシエチル（東京化成工業株式会社製）２．２ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）１２ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。その後、室温まで冷却し、減圧エバポレーターでアセトニトリルを除去した。得られた粗結晶をトルエンに溶解し、該トルエン溶液を分液漏斗中で１％塩酸によって計２回分液洗浄し、続いて純水で水層のｐＨが６以上になるまで分液洗浄した。洗浄後のトルエン溶液を芒硝で乾燥後、減圧エバポレーターを用いてトルエンを除去し、得られた結晶を６０℃減圧乾燥することでＵＶＡ−０３で表される化合物を黄色粉末として４．０ｇ得た。収率は８４％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−０３で表される化合物のε（４０５）の値は３８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は８．４Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０３で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．２１（ｔ、３Ｈ）、３．５６（ｑ、２Ｈ）、３．６９−３．７３（ｍ、５Ｈ）、４．３７（ｍ、２Ｈ）、７．３６−７．４４（ｍ、５Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、３Ｈ）、８．４２−８．４６（ｍ、１Ｈ）

［合成例４］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２−エチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）６．９ｇ、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、ＵＶＡ−０４を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０４を４．６ｇ得た。収率は５０％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ε（４０５）の値は４７Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は１．５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０４が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８７−０．９４（ｍ、６Ｈ）、１．３２−１．６７（ｍ、８Ｈ）、１．５９−１．６６（ｍ、２Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．００（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、２Ｈ）、７．８７（ｄ、２Ｈ）

［合成例５］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド１０．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸（東京化成工業株式会社製）４．０ｇ、エタノール（和光純薬工業株式会社製）４０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて２４時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−Ｍ−０３で表される化合物を１０ｇ得た。収率は７８％であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−Ｍ−０３で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： ３．７１（ｓ、３Ｈ）、７．３４−７．４２（ｍ、２Ｈ）、７．５１−７．９５（ｍ、６Ｈ）、８．２６−８．２９（ｍ、１Ｈ）

［合成例６］

１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ、東京化成工業株式会社製）１．４ｇ、をクロロホルム２．０ｇに溶解し、溶解液（１）を得た。
ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、合成例５で得られたＵＶＡ−Ｍ−０３で表される化合物２．０ｇ、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）１．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ、東京化成工業株式会社製）２０ｍｇ、クロロホルム８ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌し、氷浴で内温０℃まで冷却した。内温０℃に保ったフラスコ内へ溶解液（１）を２時間かけて滴下し、滴下終了後に０℃でさらに６時間保温した。その後、減圧エバポレーターを用いてクロロホルムを除去した。得られた油状物を酢酸エチルに溶解し、分液漏斗中、１０％希硫酸で分液洗浄し、続いて純水で酢酸エチル溶液を水層のｐＨが６以上になるまで分液洗浄した。洗浄後の有機層を芒硝で乾燥し、芒硝を除去した後に減圧エバポレーターで酢酸エチルを除去し、ＵＶＡ−０５で表される化合物を黄色油状物として２．５ｇ得た。収率は８３％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−０５で表される化合物のε（４０５）の値は３８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は８．３Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０５で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．２６（ｔ、１Ｈ）、２．０４（ｓ、１Ｈ）、３．３７（ｓ、３Ｈ）、３．６４−３．７１（ｍ、１２Ｈ）、４．３７（ｄｄ、２Ｈ）、７．３５−７．４６（ｍ、５Ｈ）、７．５４−７．５９（ｍ、３Ｈ）、８．４２−８．４６（ｍ、１Ｈ）

［合成例７］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド３．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．２ｇ、シアノ酢酸２−エチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）２．８ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）１２ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。その後、室温まで冷却し、減圧エバポレーターでアセトニトリルを除去した。得られた油状物を酢酸エチルに溶解し、該酢酸エチル溶液を分液漏斗中で１％塩酸によって計２回分液洗浄し、続いて純水で水層のｐＨが６以上になるまで分液洗浄した。洗浄後の酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥後、減圧エバポレーターを用いて酢酸エチルを除去し、橙色油状物としてＵＶＡ−０６で表される化合物を５．５ｇ得た。収率は１０４％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−０６で表される化合物のε（４０５）の値は３１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は６．２Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０６で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： ０．９０（ｔ、６Ｈ）、１．０３−１．６２（ｍ、１０Ｈ）、２．３５（ｓ、１Ｈ）、３．７２（ｓ、３Ｈ）、４．１３（ｑ、２Ｈ）、７．１６−７．２６（ｍ、１Ｈ）、７．３６−７．４４（ｍ、４Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、２Ｈ）、８．４４−８．４９（ｍ、１Ｈ）

［合成例８］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）６．３ｇ、メルドラム酸（東京化成工業株式会社製）４．４ｇ、トリエチルアミン（和光純薬工業株式会社製）６．３ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）１３０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスを用いて内温７８℃に加温し、３０分間保温した。その後、内温を室温まで冷却し、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去した。得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製した。目的化合物を含んだカラム溶出液に対し、再度減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去することで黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０７で表される化合物を１．５ｇ得た。収率は２０％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−０７で表される化合物のε（４０５）の値は７２Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は５．０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０７で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．７０（ｓ、６Ｈ）、２．１６（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．１５−３．２２（ｍ、５Ｈ）、３．７７（ｔ、２Ｈ）、６．９５（ｄ、２Ｈ）、８．１０（ｄ、２Ｈ）

［合成例９］

特許文献（ＤＥ１０１ ０９ ２４３ Ａ１）記載の方法に従い、ＵＶＡ−０８で表される化合物を合成した。精製はカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して行った。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ε（４０５）の値は５５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は１７Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０８で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．３１（ｔ、３Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、３．０１（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．２３（ｑ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、１Ｈ）、７．９２（ｄ、１Ｈ）

［合成例１０］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド５．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．８ｇ、マロノニトリル（東京化成工業株式会社製）１．５ｇ、エタノール（和光純薬工業株式会社製）２０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。その後室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０９で表される化合物を４．９ｇ得た。収率は８２％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−０９で表される化合物のε（４０５）の値は９３Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は２４Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−０９ＵＶＡ−０９で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： ３．７１（ｓ、３Ｈ）、７．３４−７．３８（ｍ、２Ｈ）、７．４４−７．４７（ｍ、４Ｈ）、７．６０−７．６３（ｍ、３Ｈ）、８．３７−８．４０（ｍ、１Ｈ）

［合成例１１］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド３．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．１ｇ、シアノ酢酸エチル（東京化成工業株式会社製）１．６ｇ、エタノール（和光純薬工業株式会社製）１２ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。その後、室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−１０で表される化合物を３．６ｇ得た。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−１０で表される化合物のε（４０５）の値は４９Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は９．６Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−１０で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．３４（ｔ、３Ｈ）、３．７２（ｓ、３Ｈ）、４．２９（ｑ、２Ｈ）、７．３８−７．４３（ｍ、５Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、３Ｈ）、８．１５（ｓ、１Ｈ）、８．４１−８．４７（ｍ、１Ｈ）

［合成例１２］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気において、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２−エチルブチル（東京化成工業株式会社製）６．６ｇ、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。その後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、ＵＶＡ−１１で表される化合物を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−１１で表される化合物を３．０ｇ得た。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−１１で表される化合物のε（４０５）の値は４８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は１．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

［合成例１３］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気において、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２で表される化合物１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２−オクチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）１０ｇ、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを、得られた混合物に１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。その後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、ＵＶＡ−１２を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−１１で表される化合物を４．６ｇ得た。収率は５６％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−１１で表される化合物のε（４０５）の値は４５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は２．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

［合成例１４］

ジムロート冷却管、温度計および攪拌機を設置した３００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、マロンアルデヒドジアニリド塩酸塩（東京化成工業（株）製）２０ｇ、１，３−ジメチルバルビツール酸（東京化成工業（株）製）１３．３ｇ、メタノール４６ｇを仕込み、室温にて撹拌を開始した。トリエチルアミン（和光純薬工業（株）製）８．６ｇを滴下漏斗から３０分かけて滴下し、室温にて１時間撹拌を継続した。その後、オイルバスを用いて内温６５℃に昇温し、１時間沸点還流した。反応終了後に内温を室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、さらにメタノールで該湿結晶を洗浄した。洗浄後の湿結晶を４０℃で減圧乾燥することにより、橙色粉末としてＵＶＡ−Ｍ−０４で表される化合物を１８．５ｇ得た。収率は８４％であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−Ｍ−０４で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ_６）δ（ｐｐｍ）： ３．０７（ｓ、６Ｈ）、７．０４−７．０７（ｍ、１Ｈ）、７．２６−７．３２（ｍ、４Ｈ）、７．４３（ｄｄ、１Ｈ）、８．０７（ｄ、１Ｈ）、８．５５（ｄ、１Ｈ）、１１．４（ｓ、１Ｈ）

［合成例１５］
ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、ＵＶＡ−Ｍ−０４で表される化合物２．０ｇ、モルホリン（和光純薬工業（株）製）１．６ｇ、２−プロパノール（ナカライテスク（株）製）１０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温して内温８３℃にて３時間沸点還流し、反応終了後に室温まで冷却した。析出した結晶を濾取し、該湿結晶を２−プロパノールで計４回洗浄後、４０℃で減圧乾燥することにより橙色粉末としてＵＶＡ−１３で表される化合物を１．６ｇ得た。収率は８２％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−１３で表される化合物のε（４０５）の値は３１４Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は８５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−１３で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：３．２７（ｓ、３Ｈ）、３．２９（ｓ、３Ｈ）、３．５０−３．５９（ｍ、４Ｈ）、３．７２−３．７８（ｍ、４Ｈ）、７．１９−７．３２（ｍ、２Ｈ）、７．９５−８．０６（ｍ、１Ｈ）

［合成例１６］
ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、ＵＶＡ−Ｍ−０４で表される化合物２．０ｇ、ジエチルアミン（東京化成工業（株）製）１．４ｇ、２−プロパノール（ナカライテスク（株）製）１０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温して内温５２℃にて５時間保温し、反応終了後に室温まで冷却した。減圧エバポレーターを用いて２−プロパノールを除去し、得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、橙色粉末としてＵＶＡ−１４で表される化合物を１．１ｇ得た。収率は５８％であった。
上記と同じ方法でグラム吸光度係数を求めると、ＵＶＡ−１４で表される化合物のε（４０５）の値は３０３Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）の値は８１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、ＵＶＡ−１４で表される化合物が生成されたことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）： １．２６−１．３７（ｍ、６Ｈ）、３．３４（ｓ、３Ｈ）、３．３５（ｓ、３Ｈ）、３．４３−３．５６（ｍ、４Ｈ）、７．２７−７．３９（ｍ、２Ｈ）、８．０４（ｄ、１Ｈ）

［合成例１７］
Anal. Chem. 2017, 89, 9432-9437を参照して、式（Ｍ−１）で表される化合物からＵＶＡ−１５で表される化合物を合成した。

得られた光吸収性化合物のグラム吸光係数測定の結果を表２に示す。

＜粘着剤組成物および粘着剤シートの調製＞
（ａ−１）実施例１〜２１及び比較例１の粘着剤組成物の調製
アクリル樹脂（Ａ）の固形分１００質量部に対し、架橋剤、シラン化合物および光選択吸収性化合物を、表３に示すそれぞれの量で配合した。さらに固形分濃度が１４％となるように２−ブタノンを添加し、攪拌機（ヤマト科学株式会社製スリーワンモーター）を用いて、３００ｒｐｍで３０分間攪拌混合し、各粘着剤組成物を調製した。また、架橋剤および光選択吸収性化合物は、それぞれ２−ブタノン溶液としてアクリル樹脂中に添加した。

（ａ−２）実施例２２〜３４及び比較例２の粘着剤組成物の調製
アクリル樹脂（Ａ）を、アクリル樹脂（Ｂ）に変更した以外は、前記実施例１〜２１及び比較例１と同じ方法により、表３に示す処方に従い各粘着剤組成物を調製した。

（ａ−３）実施例３５〜３６
光選択吸収化合物をＵＶＡ−１５で表される化合物に代え、さらにその添加量をアクリル樹脂（Ａ）の固形分１００質量部に対し、表３に示す量とした以外、実施例１〜２１と同じ方法で粘着剤組成物を調製した。

なお、表３中に示す架橋剤、シラン化合物、光選択吸収性化合物は、それぞれ以下に示すものである。
［架橋剤（Ｂ）］
コロネートＬ：トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５％）、日本ポリウレタン株式会社製。
［シラン化合物］
ＫＢＭ−４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、液体、信越化学工業株式会社製（以下、「ＫＢＭ−４０３」と略記する）。
［光選択吸収性化合物（紫外線吸収剤）］
ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３〔λｍａｘ＝３５３ｎｍ、ε（４０５）＝１．４Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）吸収なし〕：２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、固体、ケミプロ化成株式会社製（以下、「ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３」と略記する）。
ＳＵＭＩＳＯＲＢ ３００〔λｍａｘ＝３５４ｎｍ、ε（４０５）＝１．９Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）＝吸収なし〕：２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、固体、住化ケムテックス株式会社製（以下、「ＳＵＭＩＳＯＲＢ ３００」と略記する）。
なお、ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３及びＳＵＭＩＳＯＲＢ ３００のグラム吸光度係数は上記に記載の方法と同じ方法で求めた。

（ｂ）粘着剤シートの作製
離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製ＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０、以下、「セパレーター」と略記する）の離型処理面に、前記の（ａ）で調製したそれぞれの粘着剤組成物を、乾燥後の粘着剤層の厚さが２０μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥させて粘着剤シートを作製した。

＜粘着剤層の吸光度測定＞
得られた粘着剤層の吸光度を測定するために、粘着剤層をガラスに貼合し、セパレーターを剥離した後、粘着剤層にシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン株式会社製ＺＦ−１４）を貼合し、粘着剤層評価用積層体を作製した。作製した粘着剤層評価用積層体を分光光度計ＵＶ−２４５０（株式会社島津製作所製）にセットし、ダブルビーム法により１ｎｍステップ３００〜８００ｎｍの波長範囲で吸光度を測定した。作製した粘着剤層の吸光度を表４に示す。

＜光学積層体の作製（実施例３７〜７１、比較例３、４）＞
光学異方性層や積層体等の製造には、以下に示す「光配向膜形成用組成物」、「ラビング配向性ポリマー組成物」、「重合性液晶化合物を含む組成物」、および「偏光板」を用いた。

＜光配向膜形成用組成物の調製＞
下記構造の光配向性材料５部とシクロペンタノン（溶剤）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。下記光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。

＜重合性液晶化合物を含む組成物Ａの調製＞
下記構造の重合性液晶化合物Ａと、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）と、下記の重合開始剤と溶剤とを成分として混合し、重合性液晶化合物を含む組成物を得た。
重合性液晶化合物Ａ（１２．０部）：

重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で合成した。重合性液晶化合物Ａの極大吸収波長λｍａｘ（ＬＣ）は、３５０ｎｍであった。
重合開始剤（０．７２部）：２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）
レベリング剤（０．１２部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
溶剤：シクロペンタノン（１００部）

〔実施例３７〕
＜偏光板の製造＞
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、乾式延伸により約４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０４４／５．７／１００である染色水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００であるホウ酸水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み１２μｍの偏光子を得た。

得られた偏光子と、シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ、日本ゼオン株式会社製 ＺＦ−４ ＵＶ吸収特性無し ３０μｍ）の間に水系接着剤を注入し、ニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてシクロオレフィンフィルムを有する４２μｍの偏光板を得た。なお、上記水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製；クラレポバール ＫＬ３１８）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス株式会社製；スミレーズレジン６５０；固形分濃度３０％の水溶液）１．５部とを添加して調製した。

以下のようにして、得られた偏光板の偏光度Ｐｙおよび単体透過率Ｔｙを測定した。
透過軸方向の単体透過率（Ｔ^１）および吸収軸方向の単体透過率（Ｔ^２）を、分光光度計（ＵＶ−２４５０；株式会社島津製作所製）に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いて、ダブルビーム法により２ｎｍステップ３８０〜６８０ｎｍの波長範囲で測定した。下記式（ｐ）ならびに（ｑ）を用いて、各波長における単体透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野(Ｃ光源)により視感度補正を行い、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）および視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果、視感度補正単体透過率Ｔｙが４３．０％、視感度補正偏光度Ｐｙが９９．９９％の吸収型偏光板を得た。
単体透過率Ｔｙ（％）＝｛（Ｔ^１＋Ｔ^２）／２｝×１００ （ｐ）
偏光度Ｐｙ（％）＝｛（Ｔ^１−Ｔ^２）／（Ｔ^１＋Ｔ^２）｝×１００ （ｑ）

＜光学異方性層の製造＞
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ、日本ゼオン株式会社製 ＺＦ−１４）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、光配向膜形成用組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をエリプソメータ Ｍ−２００（日本分光株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、配向膜上に、先に調製した重合性液晶化合物を含む組成物Ａからなる塗工液を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、重合性液晶化合物を含む組成物を塗布した面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３１３ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、光学異方性層１を含む光学フィルムを形成した。得られた光学異方性層１の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ オリンパス株式会社製）で測定したところ、２μｍであった。

得られた光学フィルムの光学異方性層１側に製造例２で作製した粘着剤組成物を貼合した後、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した偏光板に貼合した。このとき、偏光板の吸収軸に対して光学異方性層の遅相軸の関係が４５°となるように積層し、円偏光板を形成した。その後、基材のＣＯＰフィルムを剥離することにより、偏光板に光学異方性層１を転写した光学積層体１（円偏光板１）を得た。得られた光学積層体１の厚さは６４μｍであった。

光学積層体１の光学特性を測定するために、ガラスに転写することで測定用サンプルを作製した。このサンプルの波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍならびに波長６３０ｎｍの位相差値を複屈折測定装置（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ；王子計測機器株式会社製）により測定し、た。透過率を分光光度計（ＵＶ−２４５０；株式会社島津製作所製）により測定した。なお、光源側に偏光プリズムを配置することで完全直線偏光とし、この直線偏光を測定用サンプルに照射することで測定した。この際、光学積層体の偏光板側の透過軸と平行に直線偏光を入射することで、偏光板の透過方向の波長４０５ｎｍにおける光学積層体の透過率Ｔｐ（４０５）、偏光板の透過方向の波長４２０ｎｍにおける光学積層体の透過率Ｔｐ（４２０）、光板の透過方向の波長４４０ｎｍにおける光学積層体の透過率Ｔｐ（４４０）を測定した。その結果を表５に示す。

〔実施例３８〜７１、比較例３、４〕
それぞれ、上記表４の実施例１〜３５に記載の粘着剤組成物を用いて、前記実施例３７と同様の方法により光学異方性層を転写した光学積層体（円偏光板）を作製した。得られた光学積層体（円偏光板）の光学特性を、実施例１と同様の方法により測定した。

＜光学積層体の評価＞
上記で作製した光学積層体について、光学耐久性試験、耐熱試験、耐湿熱試験および耐ヒートショック試験を行い、評価を行った。なお、各試験は、以下の方法に従い行った。

光学耐久性試験（表６では「ＳＷＯＭ」と表記）：サンシャインウェザーメーター（スガ試験機株式会社製：型番ＳＵＮＳＨＩＮＥ ＷＥＡＴＨＥＲ ＭＥＴＥＲ Ｓ８０）に光学積層体を投入し、１００時間照射した後、波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍならびに波長６３０ｎｍの位相差値を測定した。光学耐久性試験前後の位相差値の変化から、以下の基準に従い評価を行った。結果を表６に示す。
〔光学耐久性試験の評価基準〕
Ａ：光学耐久性試験前後のＲｅ変化が５未満。
Ｂ：光学耐久性試験前後のＲｅ変化が５以上１０未満。
Ｃ：光学耐久性試験前後のＲｅ変化が１０以上。
耐熱試験（表６では「耐熱」と表記）：恒温槽（エスペック株式会社製：型番ＰＬ−３ＫＴ）に光学積層体を投入し、温度８５℃の乾燥条件下で２５０時間、５００時間それぞれ放置した後、光学積層体の外観状態を目視で観察し、以下の評価基準に従い評価を行った。結果を表６に示す。
〔耐熱試験の評価基準〕
Ａ：５００時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｂ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｃ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化が顕著に認められる。

耐湿熱試験（表６では「耐湿熱」と表記）：恒温槽（エスペック株式会社製：型番ＰＨ−４ＫＴ）に光学積層体を投入し、温度６０℃、相対湿度９０％で２５０時間、５００時間それぞれ放置した後、光学積層体の外観状態を目視で観察し、以下の評価基準に従い評価を行った。結果を表６に示す。
〔耐湿熱試験の評価基準〕
Ａ：５００時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｂ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｃ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化が顕著に認められる。

光選択吸収性化合物を添加していない比較例３及び４では、光学耐久性試験後のＲｅ（４５０）の値が１０以上と大きく変化した。また、一方、Ａ（４０５）、Ａ（４２０）の値がそれぞれ０．５、０．１を超え、かつＡ（４０５）／Ａ（４４０）、Ａ（４２０）／Ａ（４４０）の値がそれぞれ１０、１を超えた本発明に従う光学積層体（実施例３６〜７０）では光学耐久性試験後のＲｅ（４５０）の変化は５未満となり改善した。特に、特定の構造を有する光選択吸収性化合物を含む光学積層体（実施例３６〜６８及び実施例７１）においては、各耐久試験後も浮き、剥れ、発泡等を生じず、外観変化も無く、耐久性に優れることが分かった。

続いて、作製した光学積層体の透過率を分光光度計により測定し、ＯＬＥＤディスプレイにおける光取出し効率を推定した。結果を表７に示す。
なお、光取出し効率はＯＬＥＤ発光スペクトルおよび光学積層体の透過スペクトルに基づき、以下に従い算出した。
青、緑、赤の光取出し効率はそれぞれ波長４２０〜５６０ｎｍ、４８０〜６５５ｎｍ、５３５〜７５５ｎｍにおける光取り出し効率である。
ＯＬＥＤ光取り出し効率（％）＝ＯＬＥＤ発光スペクトル×光学積層体の透過率

本発明に従う光学積層体（実施例３７〜７０）は、光選択吸収性化合物を添加していない比較例３及び４と同等の光取出し効率を示し、表示特性が損なわれないことが分かった。

本発明の粘着剤組成物を用いた粘着剤層付フィルムは、良好な表示特性を有し、かつ紫外線から４００ｎｍ付近の短波長の可視光による光学フィルムの劣化を抑制することが可能である。

１０ 光学フィルム
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ 光学積層体
１ 粘着剤層
２０ 樹脂フィルム
７、６０ 接着剤層
７ａ 粘着剤層
８ 保護フィルム
９ 偏光フィルム
４０ 光学フィルム
５０、５０ａ １／４波長位相差層
６０ 接着剤層
７０ １／２波長位相差層
８０ ポジティブＣ層
３０ 発光素子

Claims (14)

1. 式（Ｉ）で表される化合物を含む粘着剤組成物。
   

   

   ［式中、Ｒ^１及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ａ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていてもよい。
   Ｒ^１Ａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ｂ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよい。
   Ｒ^１Ｂは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基又は電子吸引性基を表す。
   Ｒ^１及びＲ^２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^６は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成してもよい。］
2. 式（Ｉ）で表される化合物が、式（１）を満たす化合物である請求項１に記載の粘着剤組成物。
   ε（４０５）≧２０ （１）
   〔式中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
3. 式（Ｉ）で表される化合物が、式（２）を満たす化合物である請求項１に記載の粘着剤組成物。
   ε（４２０）≧５ （２）
   〔式中、ε（４２０）は波長４２０ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
4. さらに、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）及び架橋剤（Ｂ）を含む請求項１〜３のいずれかに記載の粘着剤組成物。
5. 式（Ｉ）で表される化合物の含有量が、（メタ）アクリル系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部である請求項４に記載の粘着剤組成物。
6. 架橋剤（Ｂ）の含有量が、（メタ）アクリル樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である請求項４又は５に記載の粘着剤組成物。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の粘着剤組成物から形成された粘着剤層と樹脂フィルムとを含む光学積層体。
8. 樹脂フィルムは、位相差フィルム及び偏光フィルムから選ばれる少なくとも１種のフィルムである請求項７に記載の光学積層体。
9. 請求項１〜６のいずれかに記載の粘着剤組成物から形成される粘着剤層と、偏光フィルムと、位相差フィルムとを含む光学積層体。
10. 粘着剤層の厚みが、０．１〜３０μｍである請求項７〜９のいずれかに記載の光学積層体。
11. 粘着剤層が、下記式（５）を満たす請求項７〜１０のいずれかに記載の光学積層体。
    Ａ（４０５）≧０．５（５）
    ［式中、Ａ（４０５）は波長４０５ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
12. 粘着剤層が、さらに下記式（６）を満たす請求項１１に記載の光学積層体。
    Ａ（４２０）≧０．１（６）
    ［式中、Ａ（４２０）は波長４２０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
13. 粘着剤層が、さらに下記式（７）を満たす請求項１１又は１２に記載の光学積層体。
    Ａ（４４０）≦０．１ （７）
    ［式中、Ａ４４０は波長４４０ｎｍにおける粘着剤層の吸光度を表す。］
14. 請求項７〜１３のいずれかに記載の光学積層体を含む表示装置。

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