TWI756441B - 光學膜 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種光學膜，其係藉由對波長405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件中由紫外線所引發之劣化具有良好的抑制機能。
本發明之光學膜係包含至少1層之光選擇吸收層及至少1層之氧遮蔽層，且滿足下述式(1)及式(2)：A(405)≧0.5 (1)
氧穿透率≦500 (2)
[式(1)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度]。

Description

光學膜
本發明係關於光學膜。
在有機EL(electroluminescent；電激)顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置(FPD(flat planel display)：平面顯示器)中，已使用有機EL元件、液晶單元等顯示元件或偏光板等光學膜等各式各樣的構件。此等構件中所使用之有機EL化合物及液晶化合物等為有機物，因而紫外線(UV)所引發之劣化易於成為問題。為了解決此種問題，舉例而言，在專利文獻1中已記載將370nm以下的波長區域的紫外線吸收能力優異的紫外線吸收劑添加至偏光板之保護膜中而得之偏光板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-308936號公報
此外，近年的顯示裝置的薄型化正進行中， 使聚合性液晶化合物進行配向/光硬化而成之液晶系相位差膜的開發正在進展。已清楚得知此等液晶系相位差膜或有機EL發光元件不僅是紫外線引發之劣化，在短波長可見光下亦有發生劣化之傾向。然而，即便專利文獻1所記載之偏光板係370nm以下的波長區域的紫外線吸收能力優異，400nm附近的可見光吸收性能卻低，會有液晶系相位差膜或有機EL發光元件的劣化抑制不夠充分之情形。再者，在近年的顯示裝置中，正謀求更良好的顯示特性。
本發明係提供藉由對波長405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件中之紫外線或短波長可見光所引發之劣化具有良好的抑制機能之光學膜。
本發明包含以下發明。
[1]一種光學膜，係包含至少1層之光選擇吸收層及至少1層之氧遮蔽層之光學膜，且滿足下述式(1)及式(2)：A(405)≧0.5 (1)
氧穿透度≦500 (2)
[式(1)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度]。
[2]如[1]所記載之光學膜，係滿足下述式(3)：A(440)≦0.1 (3)
[式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度]。
[3]如[1]或[2]所記載之光學膜，其更滿足式(4)：A(405)/A(440)≧5 (4)
[式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度]。
[4]如[1]至[3]中任一項所記載之光學膜，其中，光選擇吸收層為具有光選擇吸收機能之黏著劑層。
[5]如[4]所記載之光學膜，其中，光選擇吸收層為由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)及光選擇吸收化合物(C)之黏著劑組成物所形成之黏著劑層。
[6]如[5]所記載之光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，交聯劑(B)的含量為0.01至15質量份。
[7]如[5]或[6]所記載之光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，光選擇吸收化合物(C)的含量為0.01至20質量份。
[8]如[5]至[7]中任一項所記載之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(C)為滿足下述式(5)之化合物：ε(405)≧20 (5)[式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數]。
[9]如[8]所記載之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(C)為滿足下述式(6)之化合物：ε(405)/ε(440)≧20 (6)[式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm之克吸光係數]。
[10]如[5]至[9]中任一項所記載之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(C)為在分子內具有部花青素(merocyanine)結構 之化合物。
[11]如[1]至[10]中任一項所記載之光學膜，其中，氧遮蔽層為由選自聚酯系樹脂(E)、聚乙烯醇系樹脂(F)、聚醯胺系樹脂(G)、聚醯亞胺系樹脂(H)及纖維素系樹脂(I)之至少1種樹脂所形成之樹脂層。
[12]如[1]至[11]中任一項所記載之光學膜，其中，氧遮蔽層為由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光膜。
[13]一種顯示裝置，係包含[1]至[12]之光學膜。
本發明之光學膜係藉由對405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，而對相位差膜或有機EL發光元件中之短波長可見光所引發之劣化具有良好的抑制機能。此外，本發明之光學膜係即便在耐候性試驗後亦對波長405nm附近的短波長可見光顯示較高的吸收選擇性，可保持抑制短波長可見光所引發之劣化。在將本發明之光學膜使用於顯示裝置中之情況，可賦予良好的顯示特性及耐久性。
1‧‧‧光學膜
1A、1B、1C‧‧‧光學積層體
10‧‧‧光選擇吸收層
20‧‧‧氧遮蔽層
30‧‧‧黏著劑層
30a‧‧‧接著劑層
40‧‧‧光學膜
50、50a‧‧‧1/4波長相位差層
60‧‧‧接著劑層
70‧‧‧1/2波長相位差層
80‧‧‧正C層
90‧‧‧保護膜
100‧‧‧偏光板
110‧‧‧發光元件
第1圖呈示本發明相關之光學膜之一例之概略剖面圖。
第2圖呈示包含本發明相關之光學膜之光學積層體之一例之概略剖面圖。
第3圖呈示包含本發明相關之光學膜之光學積層體之 一例之概略剖面圖。
第4圖呈示包含本發明相關之光學膜之光學積層體之一例之概略剖面圖。
本發明之光學膜為包含至少1層之光選擇吸收層及至少1層之氧遮蔽層，且滿足下述式(1)及式(2)之光學膜。
A(405)≧0.5 (1)
氧穿透度≦500 (2)[式(1)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度。]
A(405)的值越大，表示在波長405nm之吸收越高，若A(405)的值未達0.5，則在波長405nm之吸收低，抑制在紫外線或短波長可見光下之相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的劣化之效果小。由耐候劣化抑制之觀點而言，A(405)的值較佳為0.6以上，更佳為0.8以上，特佳為1.0以上。並無特別上限，惟通常為10以下。
氧穿透度的值越小，表示光學膜的氧穿透越少，若氧穿透度的值為500以下，則使氧難以穿透，可抑制光選擇吸收層本身中由紫外線或短波長可見光所引發之劣化。氧穿透度的值較佳為100以下，更佳為50以下。氧穿透度的單位為「cm3/(m2‧24h‧atm)」。另外，氧穿透度可依照JIS K 7126-1所記載之方法予以測定。
本發明之光學膜較佳係更滿足下述式(3)。
A(440)≦0.1 (3)
[式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度。]
A(440)的值越小，表示在波長440nm之吸收越低，若A(440)的值超過0.1，則會有損及顯示裝置中之良好的色彩表現之傾向。此外，由於會有阻礙顯示裝置的發光之傾向，因而顯示裝置的亮度亦有降低之可能性。由抑制顯示裝置的發光阻礙之觀點而言，A(440)的值較佳為0.05以下，更佳為0.04以下，特佳為0.03。下限並無特別限制，通常為0.00001以上。
本發明之光學膜較佳係更滿足下述式(4)。
A(405)/A(440)≧5 (4)
[式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度。]
A(405)/A(440)的值表示在波長405nm之吸收的大小相對於在波長440nm之吸收的大小，此值越大，表示在405nm附近的波長區域越有特異性吸收。A(405)/A(440)的值較佳為10以上，更佳為30以上，特佳為60以上。
本發明之膜通常為0.2μm至600μm。
<光選擇吸收層>
光選擇吸收層為對波長405nm的光具有高吸收性能之層，係滿足上述式(1)。光選擇吸收層可為形成光學膜之任何層，較佳為具有光選擇吸收機能之黏著劑層。具有光選擇吸收機能之黏著劑層係由具有光選擇吸收機能之黏著劑組成物所形成。
光選擇吸收層(較佳為具有光選擇吸收機能之黏著劑層)的厚度通常為0.1μm至50μm，較佳為1μm至30μm，更佳為4μm至20μm。
具有光選擇吸收機能之黏著劑組成物較佳為包含光吸收性化合物(C)、樹脂(A)及交聯劑(B)之黏著劑組成物，更佳為更包含矽烷化合物(D)之黏著劑組成物。
光吸收性化合物(C)為選擇性地吸收波長405nm的光之化合物，較佳為滿足式(5)之化合物，更佳為更滿足式(6)之化合物。
ε(405)≧20 (5)
[式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數。克吸光係數的單位為L/(g‧cm)。]
ε(405)/ε(440)≧20 (6)
[式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm之克吸光係數。]
另外，克吸光係數可藉由實施例所記載之方法予以測定。
ε(405)的值越大的化合物越易於吸收波長405nm的光，抑制在紫外線或短波長可見光下之相位差膜的劣化。ε(405)的值未達20L/(g‧cm)時，若不增大光選擇吸收層中之光選擇吸收化合物(C)的含量，則會有難以表現出相位差膜或有機EL發光元件中由紫外線或短波長可見光所引發之劣化抑制機能之傾向。若光選擇吸收化合物(C)的含量增大，則光選擇吸收層中之光選擇吸收化合物(C) 會滲出或不均勻地分散，會有光吸收機能變得不充分之情形。ε(405)的值較佳為20L/(g‧cm)以上，更佳為30L/(g‧cm)以上，再佳為40L/(g‧cm)以上，通常為500L/(g‧cm)以下。
ε(405)/ε(440)的值越大的化合物越可在不會阻礙顯示裝置的色彩表現之情形下，吸收405nm附近的光，抑制相位差膜或有機EL元件等顯示裝置的光劣化。ε(405)/ε(440)的值較佳為20以上，更佳為40以上，再佳為70以上，特佳為80以上。
此外，光選擇吸收化合物(C)較佳為分子內包含部花青素結構之化合物。作為包含部花青素結構之化合物，係分子內含有-(N-C=C-C=C)-所示之部分結構之化合物，可列舉例如部花青素系化合物、花青素系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物等，較佳為部花青素系化合物、花青素系化合物及苯并三唑系化合物。
光選擇吸收化合物(C)較佳為式(I)所示之化合物(以下，有時稱為化合物(I))。
Figure 107121711-A0202-12-0008-1
[式中，R1及R5各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25的烷基、可具有取代基之碳數7至15的芳烷基、碳數6至15的芳基、雜環基，該烷基或芳烷基中所包含之-CH2-可置換成-NR1A-、-CO-、-SO2-、 -O-或-S-。
R1A表示氫原子或碳數1至6的烷基。
R2、R3及R4各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6的烷基、可具有取代基之芳香族烴基或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基中所包含之-CH2-可經-NR1B-、-CO-、-NO2-、-O-或-S-置換。
R1B表示氫原子或碳數1至6的烷基。
R6及R7各自獨立地表示氫原子、碳數1至25的烷基或電子吸引性基，或者R6及R7可彼此連結而形成環結構。
R1及R2可彼此連結而形成環結構，R2及R3可彼此連結而形成環結構，R2及R4可彼此連結而形成環結構，R3及R6可彼此連結而形成環結構。]
作為R1及R5所表示之碳數1至25的烷基，可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等。
作為R1及R5所表示之碳數1至25的烷基可具有之取代基，可列舉羥基、氰基等。
作為R1及R5所表示之碳數7至15的芳烷基，可列舉苄基、苯乙基等。作為芳烷基中所包含之-CH2-經置換成-SO2-或-COO-之基，可列舉2-苯基乙酸乙酯基等。
作為R1及R5所表示之碳數7至15的芳烷基可具有之取代基，可列舉以下群組A所記載之基。
群組A：可列舉硝基、羥基、羧基、磺酸基、氰基、胺基、鹵素原子、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷基矽基、碳數2至8的烷羰基、＊-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1及Ra2各自獨立地表示碳數1至6的烷二基，Ra3表示碳數1至6的烷基，s1表示1至3的整數。)所示之基等。
作為碳數1至12的烷基矽基，可列舉甲基矽基、乙基矽基、丙基矽基等單烷基矽基；二甲基矽基、二乙基矽基、甲基乙基矽基等二烷基矽基；三甲基矽基、三乙基矽基、三丙基矽基等三烷基矽基。
作為碳數2至8的烷羰基，可列舉甲羰基、乙羰基等。
作為鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子等。
作為R1及R5所表示之碳數6至15的芳基，可列舉苯基、萘基、蒽基等。
作為R1及R5所表示之碳數6至15的芳基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R1及R5所表示之碳數6至15的雜環基，可列舉吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、
Figure 107121711-A0202-12-0010-32
唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9的芳香族雜環基。
作為R1A及R1B所表示之碳數1至6的烷基，可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基等。
作為R2、R3及R4所表示之碳數1至6的烷基，可列舉與R1B所表示之碳數1至6的烷基相同者。
作為R2、R3及R4所表示之碳數1至6的烷基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族烴基，可列舉苯基、萘基、蒽基等碳數6至15的芳基；苄基、苯乙基等碳數7至15的芳烷基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族烴基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族雜環，可列舉吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、
Figure 107121711-A0202-12-0011-33
唑基、吡咯基、噻唑基及呋喃基等碳數3至9的芳香族雜環基。
作為R2、R3及R4所表示之芳香族雜環可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R6及R7所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1及R5所表示之碳數1至25的烷基相同者。
作為R6及R7所表示之碳數1至25的烷基可具有之取代基，可列舉上述群組A所記載之基。
作為R6及R7所表示之電子吸引性基，可列舉例如氰基、硝基、鹵素原子、經鹵素原子取代之烷基、式(I-1)所示之基。
*-X1-R11 (I-1)
[式中，R11表示氫原子或碳數1至25的烷基，該烷基中所包含之亞甲基中之至少1者可置換成氧原子。
X1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、- CSS-、-COS-、-NR12CO-或CONR13-。
R12及R13各自獨立地表示氫原子、碳數1至6的烷基或苯基。]
作為鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為經鹵素原子取代之烷基，可列舉例如三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基及全氟己基等全氟烷基等。作為經鹵素原子取代之烷基的碳數，通常為1至25。
作為R11所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1及R5所表示之烷基相同者。
作為R12及R13所表示之碳數1至6的烷基，可列舉與R1A所表示之碳數1至6的烷基相同者。
R6及R7可彼此連結而形成環結構，作為由R6及R7所形成之環結構，可列舉例如米氏酸(meldrum’s acid)結構、巴比妥酸(barbituric acid)結構、雙甲酮(dimedone)結構等。
作為R2及R3彼此鍵結所形成之環結構，係包含與R2鍵結之氮原子之含氮環結構，可列舉例如4至14員環的含氮雜環。R2及R3彼此連結所形成之環結構可為單環，亦可為多環。具體而言，可列舉吡咯啶環、吡咯啉環、咪唑啶環、咪唑啉環、
Figure 107121711-A0202-12-0012-34
唑啉環、噻唑啉環、哌啶環、嗎啉環、哌
Figure 107121711-A0202-12-0012-35
環、吲哚環、異吲哚環等。
作為R1及R2彼此鍵結所形成之環結構，係 包含與R1及R2鍵結之氮原子之含氮環結構，可列舉例如4至14員環(較佳為4至8員環)的含氮雜環。R1及R2彼此連結所形成之環結構可為單環，亦可為多環。具體而言，可列舉與R2及R3彼此連結所形成之環結構相同者。
作為R2及R4彼此鍵結所形成之環結構，可列舉4至14員環的含氮環結構，較佳為5員環至9員環的含氮環結構。R2及R4彼此鍵結所形成之環結構可為單環，亦可為多環。此等環可具有取代基，作為此種環結構，可列舉與前述例示作為由R2及R3所形成之環結構者相同者。
作為R3及R6彼此連結所形成之環結構，係R3-C=C-C=C-R6形成環的骨架之環結構。可列舉例如苯基等。
作為R2及R3彼此連結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-A)所示之化合物，作為R2及R4彼此連結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-B)所示之化合物等。
Figure 107121711-A0202-12-0013-2
[式(I-A)、式(I-B)中，R1、R3、R4、R5、R6及R7各自表示與上述相同意義。
環W1及環W2各自獨立地表示含氮環。]
環W1及環W2表示含有氮原子作為環的構成單元之含氮環。環W1及環W2可為單環，亦可為多環，亦可包含氮以外之雜原子作為環的構成單元。環W1及環W2較佳係各自獨立地為5員環至9員環的環。
式(I-A)所示之化合物較佳為式(I-A-1)所示之化合物。
Figure 107121711-A0202-12-0014-3
[式(I-A)中，R1、R4、R5、R6及R7各自表示與上述相同意義。
A1表示-CH2-、-O-、-S-或-NR1D-。
R14及R15各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基。
R1D表示氫原子或碳數1至6的烷基。]
式(I-B)所示之化合物較佳為式(I-B-1)所示之化合物及式(I-B-2)所示之化合物。
Figure 107121711-A0202-12-0014-4
[式(I-B-1)中，R1、R6及R7各自表示與上述相同意義。
R16各自獨立地表示氫原子或碳數1至12的烷基、芳基。]
Figure 107121711-A0202-12-0015-5
[式(I-B-2)中，R3、R5、R6及R7各自表示與上述相同意義。
R30表示氫原子、氰基、硝基、鹵素原子、巰基、胺基、碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、碳數6至18的芳香族烴基、碳數2至13的醯基、碳數2至13的醯氧基或碳數2至13的烷氧羰基。
R31表示碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、巰基、碳數1至12的烷硫基、可具有取代基之胺基或雜環基。]
作為R30所表示之鹵素原子，可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
作為R30所表示之碳數2至13的醯基，可列舉乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
作為R30所表示之碳數2至13的醯氧基，可列舉甲羰氧基、乙羰氧基、丙羰氧基、丁羰氧基等。
作為R30所表示之碳數2至13的烷氧羰基，可列舉甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧羰基、丁氧羰基等。
作為R30所表示之碳數6至18的芳香族烴基，可列舉 苯基、萘基、聯苯基等碳數6至18的芳基；苄基、苯乙基等碳數7至18的芳烷基。
作為R30所表示之碳數1至12的烷基，可列舉與R14所表示之碳數1至12的烷基相同者。
作為R30所表示之碳數1至12的烷基，可列舉甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等。
R30較佳為碳數1至12的烷基、碳數1至12的烷氧基、胺基或巰基。
作為R31所表示之碳數1至12的烷基，可列舉與R14所表示之碳數1至12的烷基相同者。
作為R31所表示之碳數1至12的烷氧基，可列舉與R30所表示之碳數1至12的烷氧基相同者。
作為R31所表示之碳數1至12的烷硫基，可列舉甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基、戊硫基、己硫基等。
作為R31所表示之可具有取代基之胺基，可列舉胺基；N-甲基胺基、N-乙基胺基等經1個碳數1至8的烷基取代之胺基；N,N-二甲基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-甲基乙基胺基等經2個碳數1至8的烷基取代之胺基；等。
作為R31所表示之雜環，可列舉吡咯啶基、哌啶基、嗎啉基等碳數4至9的含氮雜環基等。
作為R3及R6彼此連結形成環結構，且R2及R4彼此鍵結形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-C)所示之化合物等。
Figure 107121711-A0202-12-0017-6
[式(I-C)中，R1、R5及R7表示與上述相同意義。
R21、R22各自獨立地表示氫原子、碳數1至12的烷基或羥基。
X2及X3各自獨立地表示-CH2-或-N(R25)=。
R25表示氫原子、碳數1至25的烷基、可具有取代基之芳香族烴基。]
作為R25所表示之碳數1至25的烷基，可列舉與R1所表示之碳數1至25的烷基相同者。
作為R25所表示之芳香族烴基，可列舉苯基、萘基等芳基；苄基、苯乙基等芳烷基；聯苯基等，較佳為碳數6至20的芳香族烴基。作為R25所表示之芳香族烴基可具有之取代基，可列舉羥基等。
R3及R6較佳係各自獨立地為電子吸引性基。
作為R1及R2彼此連結而形成環結構，且R3及R6彼此鍵結而形成環結構之式(I)所示之化合物，可列舉式(I-D)所示之化合物等。
Figure 107121711-A0202-12-0018-7
[式(I-D)中，R4、R5、R7表示與上述相同意義。
R25、R26、R27及R28各自獨立地表示氫原子、可具有取代基之碳數1至12的烷基、羥基、芳烷基。]
作為R25、R26、R27及R28所表示之碳數1至12的烷基，可列舉與R1A及R1B所表示之碳數1至12的烷基相同者。作為R25、R26、R27及R28所表示之碳數1至12的烷基可具有之取代基，可列舉羥基。
作為R25、R26、R27及R28所表示之芳烷基，可列舉苄基、苯乙基等碳數7至15的芳烷基。
作為R6及R7彼此連結而形成環結構之化合物(I)，可列舉式(I-E)所示之化合物等。
Figure 107121711-A0202-12-0018-8
[式(I-E)中，R1、R3、R4、R5各自表示與上述相同意義。
環W3表示環狀化合物。]
環W3為5員環至9員環的環，亦可包含氮原子、氧原子、硫原子等雜原子作為環的構成單元。
式(I-E)所示之化合物較佳為式(IE-1)所 示之化合物。
Figure 107121711-A0202-12-0019-9
[式(I-C-1)中，R1、R2、R3及R5各自表示與上述相同意義。
R17、R18、R19、Rq各自獨立地表示氫原子或可具有取代基之碳數1至12的烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基中所包含之-CH2-基可置換成-NR1D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-，R17及R18可彼此連結而形成環結構，R18及R19可彼此連結而形成環結構，R19及Rq可彼此連結而形成環結構。m、p、q各自獨立地表示0至3的整數。]
作為式(I)所示之化合物，可列舉以下化合物。
Figure 107121711-A0202-12-0020-10
Figure 107121711-A0202-12-0021-11
Figure 107121711-A0202-12-0022-12
Figure 107121711-A0202-12-0023-13
Figure 107121711-A0202-12-0024-14
Figure 107121711-A0202-12-0025-15
Figure 107121711-A0202-12-0026-16
Figure 107121711-A0202-12-0027-17
Figure 107121711-A0202-12-0028-18
相對於後述之樹脂(A)(較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂(A))100質量份，光選擇吸收化合物(C)的含量通常為0.01至20質量份，較佳為0.05至10質量份，更佳為0.1至5質量份，再佳為0.1至5質量份。
樹脂(A)較佳為(甲基)丙烯酸樹脂(A)。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳為以源自(甲基)丙烯酸酯之構成單元作為主成分(較佳係包含50質量%以上)之聚合 物。源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元亦可包含一種以上源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體之結構單元(例如源自具有極性官能基之單體之結構單元)。另外，在本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸，係意味丙烯酸或甲基丙烯酸之任一者，此外，提及(甲基)丙烯酸酯等時之「(甲基)」亦為同樣的意旨。
作為(甲基)丙烯酸酯，可列舉下述式(I)所示之(甲基)丙烯酸酯。
Figure 107121711-A0202-12-0029-19
[式(I)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數1至14的烷基或碳數7至20的芳烷基，該烷基或該芳烷基之氫原子可經碳數1至10的烷氧基置換。]
在式(I)中，R2較佳為碳數1至14的烷基，更佳為碳數1至8的烷基。
作為式(I)所示之(甲基)丙烯酸酯，可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸之直鏈狀烷酯；(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基) 丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸之分枝狀烷酯；(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸之含脂環骨架之烷酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸之含芳香環骨架之酯；等。
此外，亦可列舉對(甲基)丙烯酸烷酯中之烷基導入取代基而得之含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯。含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯之取代基為將烷基之氫原子進行置換之基，其具體例包含苯基、烷氧基、苯氧基。作為含取代基之(甲基)丙烯酸烷酯，具體而言，可列舉(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)酯等。
此等(甲基)丙烯酸酯可各自單獨使用，除此以外，亦可使用不同的複數種。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係含有源自均 聚物的玻璃轉移溫度Tg未達0℃之(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之構成單元，及源自均聚物的Tg為0℃以上之(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之構成單元。含有源自丙烯酸烷酯(a1)之構成單元及源自丙烯酸烷酯(a2)之構成單元在提高黏著劑層的高溫耐久性方面實屬有利。(甲基)丙烯酸烷酯之均聚物的Tg可採用例如POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等之文獻值。
作為(甲基)丙烯酸烷酯(a1)之具體例，可列舉丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二酯等烷基的碳數為2至12左右之(甲基)丙烯酸烷酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a1)可僅使用1種，亦可併用2種以上。該等之中，由將光選擇吸收層積層於其他層時之追隨性或再加工性之觀點而言，較佳為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a2)為(甲基)丙烯酸烷酯(a1)以外之(甲基)丙烯酸烷酯。(甲基)丙烯酸烷酯(a2)之具體例包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等。
(甲基)丙烯酸烷酯(a2)可僅使用1種，亦可併用2種以上。該等之中，由高溫耐久性之觀點而言，(甲基)丙烯酸烷酯(a2)較佳係包含丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、 丙烯酸異冰片酯等，更佳係包含丙烯酸甲酯。
在(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中所包含之所有結構單元中，式(I)所示之源自(甲基)丙烯酸酯之結構單元較佳為50質量%以上，更佳為60至95質量%，更佳為65至95質量%以上。
作為源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體之結構單元，較佳為源自具有極性官能基之單體之結構單元，更佳為源自具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯之結構單元。作為極性官能基，可列舉羥基、羧基、經取代或未經取代之胺基、環氧基等雜環基等。
作為具有極性官能基之單體，可列舉：(甲基)丙烯酸1-羥甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥己酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥己酯、(甲基)丙烯酸3-羥庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥己酯、(甲基)丙烯酸4-羥庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥己酯、(甲基)丙烯酸5-羥庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥辛酯、(甲基) 丙烯酸5-羥壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸6-羥庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥十一酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥十一酯、(甲基)丙烯酸8-羥十二酯、(甲基)丙烯酸9-羥壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥十一酯、(甲基)丙烯酸9-羥十二酯、(甲基)丙烯酸9-羥十三酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸10-羥十一酯、(甲基)丙烯酸10-羥十二酯、丙烯酸10-羥十三酯、(甲基)丙烯酸10-羥十四酯、(甲基)丙烯酸11-羥十一酯、(甲基)丙烯酸11-羥十二酯、(甲基)丙烯酸11-羥十三酯、(甲基)丙烯酸11-羥十四酯、(甲基)丙烯酸11-羥十五酯、(甲基)丙烯酸12-羥十二酯、(甲基)丙烯酸12-羥十三酯、(甲基)丙烯酸12-羥十四酯、(甲基)丙烯酸13-羥十五酯、(甲基)丙烯酸13-羥十四酯、(甲基)丙烯酸13-羥十五酯、(甲基)丙烯酸14-羥十四酯、(甲基)丙烯酸14-羥十五酯、(甲基)丙烯酸15-羥十五酯、(甲基)丙烯酸15-羥十七酯等具有羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧烷酯(例如(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯)、馬來酸、馬來酸酐、富馬酸、巴豆酸等具有羧基之單體； 丙烯醯嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、己內酯改質丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有經取代或未經取代之胺基之單體。
該等之中，就(甲基)丙烯酸酯聚合物與交聯劑之反應性方面而言，較佳為具有羥基之單體或/及具有羧基之單體，更佳係包含具有羥基之單體及具有羧基之單體二者。
作為具有羥基之單體，較佳為丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸3-羥丙酯、丙烯酸4-羥丁酯、丙烯酸5-羥戊酯、丙烯酸6-羥己酯。特定而言，可藉由使用丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸4一羥丁酯及丙烯酸5-羥戊酯而獲得良好的耐久性。
作為具有羧基之單體，較佳係使用丙烯酸。
由防止可積層於黏著劑層外表面之分離膜的剝離力亢進之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係實質上不含源自具有胺基之單體之結構單元。在此處，所謂實質上不含，係指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有構成單元100質量份中為0.1質量份以下。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有結構單元100質量份，源自具有極性官能基之單體之結構單元 的含量較佳為20質量份以下，更佳為0.5質量份以上且15質量份以下，再佳為0.5質量份以上且10質量份以下，特佳為1質量份以上且7質量份以下。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之所有結構單元100質量份，源自具有芳香族基之單體之結構單元的含量較佳為20質量份以下，更佳為4質量份以上且20質量份以下，再佳為4質量份以上且16質量份以下。
作為源自(甲基)丙烯酸酯以外之單體之結構單元，亦可列舉源自苯乙烯系單體之結構單元、源自乙烯系單體之結構單元、源自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體之結構單元、源自(甲基)丙烯醯胺系單體之結構單元等。
作為苯乙烯系單體，可列舉苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；及二乙烯基苯。
作為乙烯系單體，可列舉乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、酪酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯；偏二氯乙烯等偏二鹵化乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯丁 二烯等共軛二烯；及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
作為分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體，可列舉1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等在分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體。
作為(甲基)丙烯醯胺系單體，可列舉N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基](甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯 醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-[2-(2-甲基丙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-[2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基](甲基)丙烯醯胺等。該等之中，較佳為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的重量平均分子量(Mw)較佳為50萬至250萬。若重量平均分子量為50萬以上，則高溫環境下之黏著劑層的耐久性提升，易於抑制被黏體與黏著劑層之間之浮起剝落或黏著劑層的凝集破壞等不良情形。若重量平均分子量為250萬以下，則就將黏著劑組成物加工成例如片狀(塗佈於基材)時之塗佈性之觀點而言實屬有利。由兼顧黏著劑層的耐久性及黏著劑組成物的塗佈性之觀點而言，重量平均分子量較佳為60萬至180萬，更佳為70萬至170萬，特佳為100萬至160萬。此外，以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比表示之分子量分佈(Mw/Mn)通常為2至10，較佳為3至8，更佳為3至6。重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析予以分析，其係標準聚苯乙烯換算之值。
使(甲基)丙烯酸系樹脂(A)溶解於乙酸乙酯中，製成濃度20質量%的溶液時，在25℃之黏度較佳為20Pa‧s以下，更佳為0.1至15Pa‧s。若為該範圍的黏度， 則由將黏著劑組成物塗佈於基材時之塗佈性之觀點而言實屬有利。另外，黏度可藉由布魯克非黏度計(Brookfield viscometer)予以測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)可為例如-60至20℃，較佳為-50至15℃，更佳為-45至10℃，特佳為-40至0℃。若Tg為上限值以下，則有利於黏著劑層對被黏體基材之浸潤性的提升，若為下限值以上，則有利於黏著劑層的耐久性的提升。另外，玻璃轉移溫度可藉由示差掃描熱量計(DSC)予以測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)可藉由例如溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等公知的方法予以製造，特佳為溶液聚合法。作為溶液聚合法，可列舉例如將單體及有機溶媒混合，於氮環境下，添加熱聚合起始劑，在40至90℃，較佳為50至80℃左右的溫度條件下，攪拌3至15小時左右之方法。為了控制反應，亦可在聚合中連續地或間歇地添加單體或熱聚合起始劑。該單體或熱起始劑亦可為添加至有機溶媒中之狀態。
作為聚合起始劑，係使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑，可列舉4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑，可列舉2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮 雙(2-羥甲基丙腈)等偶氮系化合物；月桂基過氧化物、第三丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯、過氧苯甲酸第三丁酯、異丙苯氫過氧化物、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。此外，亦可使用併用過氧化物及還原劑之氧化還原系起始劑等。
相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂之單體的總量100質量份，聚合起始劑的比例為0.001至5質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂的聚合亦可使用利用活性能量線(例如紫外線等)之聚合法。
作為有機溶媒，可列舉甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
在黏著劑組成物100質量%中，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的含量通常為60質量%至99.9質量%，較佳為70質量%至99.5質量%，更佳為80質量%至99質量%。
黏著劑組成物可包含交聯劑(B)。該交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中之極性官能基(例如羥基、胺基、羧基、雜環基等)進行反應。交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)等形成交聯結構，形成有利於耐久性或再加工性之交聯結構。
作為交聯劑(B)，可列舉異氰酸酯系交聯劑、 環氧系交聯劑、氮雜環丙烷系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑等，特定而言，由黏著劑組成物的適用期(pot life)及黏著劑層的耐久性、交聯速度等之觀點而言，較佳為異氰酸酯系交聯劑。
作為異氰酸酯系化合物，較佳為分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物，可列舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。此外，交聯劑(B)亦可為前述異氰酸酯化合物之多元醇化合物之加成物(加成體)[例如與甘油、三羥甲基丙烷等之加成物]、三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物、與聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而得之胺基甲酸酯預聚物型異氰酸酯化合物等衍生物。交聯劑(B)可單獨或組合二種以上而使用。此等之中，就代表性而言，可列舉芳香族異氰酸酯系化合物(例如伸甲苯基二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)或此等之多元醇化合物(例如甘油、三羥甲基丙烷)之加成物，或三聚異氰酸酯體。若交聯劑(B)為芳香族異氰酸酯系化合物及/或此等之多元醇化合物或三聚異氰酸酯體之加成物，則可能由於有利於最適的交聯 密度(或交聯結構)的形成，可提升黏著劑層的耐久性。特定而言，若為伸甲苯基二異氰酸酯系化合物及/或此等之多元醇化合物之加成物，則即便在例如將黏著劑層應用於偏光板之情況，亦可提升耐久性。
相對於樹脂(A)(較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂(A))100質量份，交聯劑(B)的含量通常為0.01至15質量份，較佳為0.05至10質量份，更佳為0.1至5質量份。
作為矽烷化合物(D)，可列舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(D)亦可為聚矽氧寡聚物。若以單體彼此之組合之形式記述聚矽氧寡聚物之具體例，則如下。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含巰基丙基之寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三 乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含巰基甲基之寡聚物；3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含3-環氧丙氧基丙基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲 氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷寡聚物等含乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含胺基之共聚物等。
矽烷化合物(D)亦可為下述式(d1)所示之矽烷化合物。若黏著劑組成物包含下述式(d1)所示之矽烷化合物，則可進一步提升密接性(或接著性)，因而可形成耐剝落性良好的黏著劑層。特定而言，在高溫環境下將黏著 劑層應用(或積層)於透明電極或玻璃之情況，亦可維持密接性(或接著性)，可顯示高度耐久性。
Figure 107121711-A0202-12-0044-20
(式中，B表示碳數1至20的烷二基或碳數3至20的二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可置換成-O-或-CO-，Rd7表示碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12各自獨立地表示碳數1至5的烷基或碳數1至5的烷氧基。)
在式(d1)中，B表示亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1至20的烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20的二價脂環式烴基；或構成此等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-經置換成-O-或-CO-之基。較佳的B為碳數1至10的烷二基。Rd7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基等碳數1至5的烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12各自獨立地表示前述Rd7中所例示之碳數1至5的烷基，或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等碳數1至5的烷氧基。較佳的Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12各自獨立地為碳數1 至5的烷氧基。此等矽烷化合物(D)可單獨或組合二種以上而使用。
作為具體的前述式(d1)所示之矽烷化合物，可列舉例如(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷烴；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷烴；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基-二C1-5烷基矽基)C1-10烷烴等。此等之中，較佳為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10 烷烴，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
相對於樹脂(A)(較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂(A))100質量份，矽烷化合物(D)的含量通常為0.01至10質量份，較佳為0.03至5質量份，更佳為0.05至2質量份，再佳為0.1至1質量份。若為上述上限值以下，則有利於抑制矽烷化合物(D)自黏著劑層中滲出，若為上述下限值以上，則易於提升黏著劑層與金屬層或玻璃基板等之密接性(或接著性)，有利於提升耐剝落性等。
黏著劑組成物可更含有抗靜電劑。
作為抗靜電劑，可列舉界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，較佳為離子性化合物。作為離子性化合物，可列舉慣用者。作為構成離子性化合物之陽離子成分，可列舉有機陽離子、無機陽離子等。作為有機陽離子，可列舉例如吡啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。作為無機陽離子，可列舉例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子；鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。特定而言，由與(甲基)丙烯酸系樹脂之相容性之觀點而言，較佳為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。作為構成離子性化合物之陰離子成分，無機陰離子及有機陰離子皆可，就抗靜電性能之方面而言，較佳為包含氟原子之陰離子成分。作為包含氟原子之陰離子成分，可列舉 例如六氟磷酸鹽陰離子(PF6 -)、雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]等。此等離子性化合物可單獨或組合二種以上而使用。特佳為雙(三氟甲烷磺醯基)醯亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)醯亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸鹽陰離子[(C6F5)4B-]。
就由黏著劑組成物所形成之黏著劑層的抗靜電性能的經時安定性之方面而言，較佳為於室溫呈固體之離子性化合物。
相對於樹脂(A)(較佳為(甲基)丙烯酸系樹脂(A))100質量份，抗靜電劑的含量為例如0.01至20質量份，較佳為0.1至10質量份，更佳為1至7質量份。
黏著劑組成物可含有1種或2種以上之溶劑、交聯觸媒、增黏劑、可塑劑、軟化劑、顏料、防鏽劑、無機填料、光散射性微粒子等添加劑。
本發明之光學膜亦可具有2種以上光選擇吸收層。在具有2種以上光選擇吸收層之情況，較佳係至少1者為具有光選擇吸收機能之黏著劑層。
<氧遮蔽層>
氧遮蔽層係滿足上述式(2)。
氧遮蔽層的厚度通常為0.1μm至500μm，較佳為1μm至200μm，更佳為5μm至100μm，特佳為5μm至50μm。
本發明之光學膜亦可具有2種以上之氧遮蔽層。在具有2種以上氧遮蔽層之情況，其合計的厚度通常為0.2μm至500μm，較佳為1μm至200μm。此外，在具有2種以上氧遮蔽層之情況，只要2種以上氧遮蔽層之合計滿足上述式(2)即可，較佳係各氧遮蔽層為滿足上述式(2)之層。
氧遮蔽層較佳為由選自聚酯系樹脂(E)、聚乙烯醇系樹脂(F)、聚醯胺系樹脂(G)、聚醯亞胺系樹脂(H)及纖維素系樹脂(I)之至少1種樹脂所形成之樹脂層。
聚酯系樹脂(E)為主鏈具有酯鍵的重複單元之聚合物樹脂，一般而言係藉由多元羧酸或其衍生物與多元醇或其衍生物之縮合聚合而獲得。
作為提供聚酯之多元羧酸或其衍生物，可列舉對酞酸、異酞酸、酞酸、2,6-萘二羧酸、二苯基二羧酸、二苯基碸二羧酸、二苯氧基乙烷二羧酸、二羧酸5-磺酸鈉等芳香族二羧酸；草酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、二聚酸、馬來酸、富馬酸等脂肪族二羧酸；1,4-環己烷二羧酸等脂環族二羧酸；對羥基苯甲酸等羥基羧酸以及該等之衍生物。作為二羧酸之衍生物，可列舉例如對酞酸二甲酯、對酞酸二乙酯、對酞酸2-羥乙基甲酯、2,6-萘二羧酸二甲酯、異酞酸二甲酯、己二酸二甲酯、馬來酸二乙酯、二聚酸二甲酯等酯化物。該等之中，就成型性、操作性之方面而言，較佳係使用對酞酸、異酞酸、2,6-萘二羧酸、1,4-環己烷二羧酸及該等之酯化物。
作為提供聚酯之多元醇或其衍生物，可列舉乙二醇、 二乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、新戊二醇等脂肪族二羥基化合物；二乙二醇、聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇等聚烷二醇；1,4-環己烷二甲醇、螺二醇等脂環族二羥基化合物；雙酚A、雙酚S等芳香族二羥基化合物以及該等之衍生物。該等之中，就成型性、操作性之方面而言，較佳係使用乙二醇、二乙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、1,4-環己烷二甲醇。
作為聚酯系樹脂，可列舉例如聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對酞酸三亞甲酯、聚萘二甲酸三亞甲酯、聚對酞酸環己烷二甲酯、聚萘二甲酸環己烷二甲酯等。此等之中，較佳為聚對酞酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等。
聚乙烯醇系樹脂(F)可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而獲得，可列舉例如屬於乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯、能夠與乙酸乙烯酯進行共聚合之單體(例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等)與乙酸乙烯酯之共聚物等。
聚乙烯醇系樹脂(F)的皂化度較佳為85至100莫耳%，更佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂(F)亦可經改質，例如亦可為經醛類改質而得之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至5000。另外，聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可按照JIS K 6726予以求出。
聚醯胺系樹脂(G)為在重複單元中包含醯胺鍵而作為主鏈之聚合物樹脂，有例如芳香環骨架藉由醯胺鍵進行鍵結而得之芳香族聚醯胺(聚芳醯胺)或脂肪族骨架藉由醯胺鍵進行鍵結而得之脂肪族聚醯胺等。一般而言，可藉由多元羧酸或其衍生物與多元胺之聚合反應等獲得。
作為提供聚醯胺之多元羧酸或其衍生物，可列舉對酞醯氯、2-氯-對酞醯氯、異酞醯二氯、萘二甲醯氯、聯苯二甲醯氯、聯三苯二甲醯氯等。
作為提供聚醯胺之多元胺，可列舉例如4,4’-二胺基二苯基醚、3,4’-二胺基二苯基醚、4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、2,2’-二三氟甲基-4,4’-二胺基聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙(4-胺基苯基)六氟丙烷等，較佳係可列舉4,4’-二胺基二苯基碸、3,3’-二胺基二苯基碸、2,2’-二三氟甲基-4,4’-二胺基聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、1,4-環己烷二胺、1,4-降冰片烯二胺。
作為聚醯亞胺系樹脂(H)，係在重複單元中包含醯亞胺鍵之樹脂，一般為將二胺類及四羧酸二酐作為起始原料，藉由聚縮合而獲得之縮合型聚醯亞胺。作為二胺類，可使用芳香族二胺類、脂環式二胺類、脂肪族二胺類等。作為四羧酸二酐，可使用芳香族四羧酸二酐、脂環 式四羧酸二酐、非環式脂肪族四羧酸二酐等。二胺類及四羧酸二酐各可單獨使用，亦可併用2種以上而使用。亦可使用選自醯氯化合物等四羧酸化合物類似物之四羧酸化合物代替四羧酸二酐作為起始原料。
作為纖維素系樹脂(I)，較佳為纖維素酯系樹脂，即，纖維素中之羥基的至少一部分經乙酸酯化之樹脂，亦可為一部分經乙酸酯化，一部分經其他酸酯化之混合酯。纖維素酯系樹脂較佳為乙醯基纖維素系樹脂。作為乙醯基纖維素系樹脂之具體例，可列舉三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等。
乙醯基纖維素之原料棉可使用在日本發明協會公開技法2001-1745等中公知的木材紙漿或棉絨等纖維素原料。此外，乙醯基纖維素可以木材化學180至190頁(共立出版，右田等人，1968年)等所記載之方法予以合成。
在此等樹脂中，可更包含溶劑、可塑劑、有機酸、色素、抗靜電劑、界面活性劑、潤滑劑、難燃劑、填料、橡膠粒子、相位差調整劑。
氧遮蔽層較佳為可由此等樹脂使用公知的成形加工法形成之膜。作為成形加工法，可列舉壓縮成形法、轉移成形法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗佈法(例如流延法)、壓延成形法、熱壓法等。
氧遮蔽層較佳為由選自聚酯系樹脂(E)、聚 乙烯醇系樹脂(F)及聚醯亞胺系樹脂(H)之至少1種樹脂所形成之層，更佳為由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光膜。
偏光膜為具有吸收平行於其吸收軸之振動面之直線偏光，而穿透直交於吸收軸(與穿透軸平行)之振動面之直線偏光之性質之膜，可使用例如使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而得之膜。作為二色性色素，可列舉例如碘或二色性有機染料等。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而獲得。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，可列舉例如屬於乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯、能夠與乙酸乙烯酯進行共聚合之單體(例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺等)與乙酸乙烯酯之共聚物等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85至100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經改質，例如亦可為經醛類改質而得之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度通常為1000至10000，較佳為1500至5000。另外，聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可按照JIS K 6726予以求出。
通常，使用將聚乙烯醇系樹脂製膜而得之物作為偏光膜之原材膜。聚乙烯醇系樹脂可以公知的方法進行製膜。原材膜的厚度通常為1至150μm，若考慮到延伸容易度等，較佳為10μm以上。
關於偏光膜，舉例而言，可對原材膜施加 單軸延伸之步驟、以二色性色素將膜進行染色並使該二色性色素進行吸附之步驟、以硼酸水溶液對膜進行處理之步驟及將膜進行水洗之步驟，最後進行乾燥而予以製造。偏光件2的厚度通常為1至30μm，由附黏著劑層之光學膜1的薄膜化之觀點而言，較佳為20μm以下，更佳為15μm以下，特佳為10μm以下。
使二色性色素吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜而成之偏光件2係除了使用聚乙烯醇系樹脂膜的單獨膜作為原材膜，並對此膜施加單軸延伸處理及二色性色素的染色處理之方法(設為方法(1))以外，亦可藉由對基材膜塗佈含有聚乙烯醇系樹脂之塗佈液(水溶液等)，進行乾燥而獲得具有聚乙烯醇系樹脂層之基材膜後，對各基材膜進行單軸延伸，對延伸後之聚乙烯醇系樹脂層施加二色性色素的染色處理，接著剝離去除基材膜之方法(設為方法(2))而獲得。作為基材膜，可使用由熱可塑性樹脂所組成之膜，較佳為由聚對酞酸乙二酯等聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂、降冰片烯系樹脂等環狀聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯系樹脂等所構成之膜。若利用上述方法(2)，則薄膜偏光膜的製作變得容易，即便是例如厚度7μm以下的偏光膜的製作亦可容易地施行。
偏光膜的至少一面較佳係經由接著劑設置有保護膜。
作為接著劑，係使用公知的接著劑，可為水系接著劑，亦可為活性能量線硬化型接著劑。
作為水系接著劑，可列舉慣用的水系接著劑(例如由聚乙烯醇系樹脂水溶液所構成之接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑、醛化合物、環氧化合物、三聚氰胺系化合物、羥甲基化合物、異氰酸酯化合物、胺化合物、多價金屬鹽等交聯劑等)。此等之中，可適宜地使用由聚乙烯醇系樹脂水溶液所組成之水系接著劑。另外，在使用水系接著劑之情況，將偏光膜與保護膜進行貼合後，較佳係實施乾燥以去除水系接著劑中所包含之水之步驟。乾燥步驟後，亦可設有於例如20至45℃左右的溫度進行熟化之熟化步驟。由水系接著劑所形成之接著劑層通常為0.001至5μm。
所謂上述活性能量線硬化性接著劑，係指藉由照射紫外線或電子線等活性能量線而進行硬化之接著劑，可列舉例如包含聚合性化合物及光聚合起始劑之硬化性組成物、包含光反應性樹脂之硬化性組成物、包含黏合劑樹脂及光反應性交聯劑之硬化性組成物等，較佳為紫外線硬化性接著劑。
在使用活性能量線硬化性接著劑之情況，將偏光膜與保護膜進行貼合後，視需要施行乾燥步驟，接著施行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑進行硬化之硬化步驟。活性能量線之光源並無特別限定，較佳為在波長400nm以下具有發光分佈之紫外線。由活性能量線硬化性接著劑所形成之接著劑層通常為0.1至10μm。
將偏光膜與保護膜進行貼合之方法，可列舉對此等中至少任一者的貼合面施加皂化處理、電暈處理、電漿處理等表面活性化處理之方法等。在保護膜係貼合於偏光膜的兩面之情況，用於貼合此等樹脂膜之接著劑可為同種類的接著劑，亦可為不同種類的接著劑。
作為保護膜，較佳為由具有透光性之熱塑性樹脂所形成之膜。具體而言，可列舉由聚烯烴系樹脂；纖維素系樹脂；聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；或此等之混合物、共聚合物等所構成之膜。在保護膜係設於偏光膜的兩面之情況，所使用之保護膜可為由不同的熱塑性樹脂所組成之膜，亦可為由相同的熱塑性樹脂所組成之膜。
在保護膜係積層於偏光膜的至少一面之情況，保護膜較佳為由聚烯烴系樹脂、纖維素系樹脂所構成之保護膜。藉由使用此等膜，可在無損偏光膜的光學特性之情形下有效地抑制在高溫環境下之偏光膜的收縮。另外，保護膜亦可為氧遮蔽層。
偏光板的較佳構成係保護膜經由接著劑層積層於偏光膜的至少一面而得之偏光板。在保護膜僅積層於偏光膜的一面之情況，更佳係積層於觀看側。積層於觀看側之保護膜較佳為由三乙醯基纖維素系樹脂或環烯烴系樹脂所組成之保護膜。保護膜可為未延伸膜，亦可沿任意方向進行延伸並具有相位差。在積層於觀看側之保護膜的表面亦可設有硬塗層或防眩層等表面處理層。
在保護膜係積層於偏光膜的兩面之情況，面板側(與觀看側相反之側)之保護膜較佳為由三乙醯基纖維素系樹脂、環烯烴系樹脂或丙烯酸系樹脂所構成之保護膜或相位差膜。相位差膜亦可為後述之零延遲膜。
此外，氧遮蔽層亦可為於樹脂層形成之表面處理層。作為表面處理層，較佳為在依據JIS K 5600-5-4(1999)之鉛筆硬度試驗(荷重4.9N)中，具有H以上的硬度之硬塗層，更佳為具有3H以上的硬度之硬塗層。表面處理層一般而言係積層於光學膜的最表面。
硬塗層可列舉例如由熱硬化性組成物所形成之層、由活性能量線(較佳為紫外線)硬化性樹脂組成物所形成之層，較佳為由紫外線硬化性樹脂組成物所形成之層。
紫外線硬化性樹脂組成物可列舉包含藉由紫外線照射進行自由基聚合反應而硬化之化合物或藉由紫外線照射進行陽離子聚合反應而硬化之化合物之組成物等，較佳為包含自由基聚合性(甲基)丙烯酸系化合物之組成物。具體而言，可列舉日本專利特開2002-265650公報所記載之組成物。
<光學積層體>
將本發明之光學膜及包含本發明之光學膜之光學積層體的層構成之一例之剖面模式圖示於第1圖至第4圖。
本發明之光學膜包含至少1層光選擇吸收層及至少1層氧遮蔽層。本發明之光學膜例如如第1圖所示，光選擇 吸收層10與氧遮蔽層20可直接積層，亦可在光選擇吸收層10與氧遮蔽層20之間包含其他層。
第2圖所記載之光學積層體1A為保護膜90、接著劑層30a、氧遮蔽層20、接著劑層30a、保護膜90、光選擇吸收層10積層而得之光學積層體。在氧遮蔽層20為由聚乙烯醇系樹脂膜所形成之偏光膜之情況，第2圖所記載之光學積層體1A中之「保護膜90、接著劑層30a、氧遮蔽層20、保護膜90」依序積層而得之積層體係兼作為偏光板100。另外，保護膜90可為具有相位差之相位差膜，亦可為氧遮蔽層。
第3圖所記載之光學積層體1B為保護膜90、接著劑層30a、氧遮蔽層20、接著劑層30a、保護膜90、光選擇吸收層10、光學膜40、黏著劑層30積層而得之光學積層體，光學膜40為屬於多層結構之光學積層體。黏著劑層30可與例如其他層或液晶單元進行貼合。
第4圖所記載之光學積層體1C為保護膜90、接著劑層30a、氧遮蔽層20、接著劑層30a、保護膜90、光選擇吸收層10、光學膜40、黏著劑層30、發光元件110(液晶單元、OLED單元)積層而得之光學積層體，光學膜40為屬於多層結構之光學積層體。
相較於光選擇吸收層，氧遮蔽層較佳係更位於觀看側(與發光元件相反之側)。
光學膜40為具有使光線穿透、反射、吸收等之光學機能之膜，可為單層的膜，亦可為多層的膜。光 學膜40可列舉例如偏光膜、相位差膜、亮度提升膜、防眩膜、抗反射膜、擴散膜、集光膜、窗膜(window film)等，較佳為偏光膜、相位差膜、窗膜或此等之積層膜。
所謂相位差膜，係顯示光學異向性之光學膜，可列舉例如藉由將由聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等所構成之高分子膜延伸成1.01至6倍左右所獲得之延伸膜等。該等之中，較佳為將聚碳酸酯膜或環烯烴系樹脂膜進行單軸延伸或雙軸延伸而得之高分子膜。另外，在本說明書中，相位差膜包含零延遲膜，亦包含被稱為單軸性相位差膜、低光彈性率相位差膜、廣視野角相位差膜等之膜。
作為藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現光學異向性之膜或藉由無機層狀化合物的塗佈而表現出光學異向性之膜，可列舉被稱為溫度補償型相位差膜之膜、由JX液晶Film股份有限公司所販售之「NH Film」(商品名；棒狀液晶傾斜配向而得之膜)、由富士Film股份有限公司所販售之「WV Film」(商品名；圓盤狀液晶傾斜配向而得之膜)、由住友化學股份有限公司所販售之「VAC Film」(商品名；完全雙軸配向型膜)、「new VAC Film」(商品名；雙軸配向型膜)等。
所謂零延遲膜，係指正面延遲Re及厚度方向的延遲Rth皆為-15至15nm，在光學上等向之膜。作為 零延遲膜，可列舉由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對酞酸乙二酯系樹脂所組成之樹脂膜，就延遲值的控制容易且購入亦容易之方面而言，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零延遲膜亦可用作保護膜。作為零延遲膜，可列舉由富士Film股份有限公司所販售之「Z-TAC」(商品名)、由Konica Minolta股份有限公司所販售之「ZeroTAC(註冊商標)」、由日本Zeon股份有限公司所販售之「ZF-14」(商品名)等。
在本發明之光學膜中，相位差膜較佳為使聚合性液晶化合物硬化而成之相位差膜。
作為藉由液晶性化合物的塗佈/配向而表現光學異向性之膜，可列舉：第一形態：棒狀液晶化合物係對支持基材沿水平方向進行配向而得之相位差膜、第二形態：棒狀液晶化合物係對支持基材沿垂直方向進行配向而得之相位差膜、第三形態：棒狀液晶化合物係在面內沿螺旋狀將配向的方向進行變化之相位差膜、第四形態：圓盤狀液晶化合物係進行傾斜配向之相位差膜、第五形態：圓盤狀液晶化合物係對支持基材沿垂直方向進行配向而得之雙軸性相位差膜。
舉例而言，作為有機電致發光顯示器中所使用之光學膜，係適宜地使用第一形態、第二形態、第五 形態。或者亦可將該等積層而使用。
在相位差膜為由聚合性液晶化合物為配向狀態之聚合物所構成之層(以下，有時稱為「光學異向性層」)之情況，相位差膜較佳係具有逆波長分散性。所謂逆波長分散性，係在短波長之液晶配向面內相位差值成為小於在長波長之液晶配向面內相位差值之光學特性，較佳係相位差膜滿足下述式(7)及式(8)。另外，Re(λ)表示對波長λnm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
在本發明之光學膜中，在相位差膜為第一形態且具有逆波長分散性之情況，在顯示裝置中之黑顯示時之著色減低，因而較佳，在前述式(7)中，若0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93，即更佳。再者，較佳為120≦Re(550)≦150。
作為相位差膜為具有光學異向性層之膜時之聚合性液晶化合物，可列舉在液晶便覽(液晶便覽編輯委員會編，丸善(股)平成12年10月30日發行)之「3.8.6網絡(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列液晶材料」所記載之化合物中具有聚合性基之化合物，以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2011-162678號、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號公報及日本特表2011-207765號公報所記載之聚合性液晶化合物。
由聚合性液晶化合物於配向狀態下之聚合物製造相位差膜之方法可列舉例如日本特開2010-31223號公報所記載之方法。
在第二形態之情況，正面相位差值Re(550)只要調整成0至10nm的範圍，較佳為0至5nm的範圍即可，厚度方向的相位差值Rth只要調整成-10至-300nm的範圍，較佳為-20至-200nm的範圍即可。表示厚度方向的折射率異向性之厚度方向的相位差值Rth可由使面內的進相軸傾斜50度作為傾斜軸所測定之相位差值R50及面內的相位差值R0予以算出。即，厚度方向的相位差值Rth可由面內的相位差值R0、使進相軸傾斜50度作為傾斜軸所測定之相位差值R50、相位差膜的厚度d及相位差膜的平均折射率n0，藉由下式(10)至(12)求出nx、ny及nz，將此等代入式(9)，而予以算出。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (9)
R0=(nx-ny)×d (10)
Figure 107121711-A0202-12-0061-28
(nx+ny+nz)/3=n0 (12)
在此處，
Figure 107121711-A0202-12-0061-21
相位差膜亦可為具有二層以上之多層膜。可列舉例如保護膜係積層於相位差膜的單面或兩面而得者， 或二層以上相位差膜係經由黏著劑或接著劑積層而得者。
在光學膜40為二層以上相位差膜積層而得之多層膜之情況，包含本發明之光學膜之光學積層體的構成，可列舉如第3圖所示，包含將對穿透光賦予1/4波長份的相位差之1/4波長相位差層50及對穿透光賦予1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70經由接著劑或黏著劑60進行積層而得之光學膜40之構成。此外，亦可列舉如第4圖所示，包含將1/4波長相位差層50a及正C層80經由接著劑層或黏著劑層進行積層而得之光學膜40之構成。
第3圖之賦予1/4波長份的相位差之1/4波長相位差層50及對穿透光賦予1/2波長份的相位差之1/2波長相位差層70可為上述第一形態的光學膜，亦可為上述第五形態的光學膜。在第3圖之構成之情況，更佳係至少一方為第五形態。
在第4圖之構成之情況，1/4波長相位差層50a較佳為上述第一形態的光學膜，更佳係更滿足式(7)、式(8)。
所謂窗膜，係意味在可撓性顯示器等可撓性液晶顯示裝置中之前面板，一般而言係配置於顯示裝置的最表面。窗膜可列舉例如由聚醯亞胺樹脂所構成之樹脂膜。窗膜亦可為諸如包含例如聚醯亞胺及氧化矽之樹脂膜之有機材料與無機材料之混成膜。此外，窗膜亦可在其表面配置用於賦予表面硬度或防污性、耐指紋性之機能之硬 塗層。作為窗膜，可列舉例如日本特開2017-94488號所記載之膜等。
相位差膜的厚度通常為0.1至100μm。
在相位差膜為多層之情況，只要合計的厚度為0.2至200μm即可。
偏光膜可列舉與上述氧遮蔽層中所記載之偏光膜同樣者。
在偏光板與面板之間，如第4圖所示，可更積層其他層或膜。在使用作為有機EL顯示器用圓偏光板之情況，較佳係積層具有1/4波長相位差層及1/2波長相位差層之相位差層、逆波長分散性1/4波長層。相位差層由薄膜化之觀點而言較佳為液晶系相位差膜。
在光選擇吸收層10為具有光選擇吸收機能之黏著劑層之情況，亦可包含積層於光選擇吸收層10外表面之分離膜(剝離膜)。此分離膜通常係在使用光選擇吸收層10時(例如積層於光學膜40上時)予以剝離去除。分離膜可為例如對由聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂所構成之膜的形成有光選擇吸收層10之面施加聚矽氧處理等離型處理而得者。
在光選擇吸收層10為具有光選擇吸收機能之黏著劑層之情況，可將構成上述黏著劑組成物之各成分溶解或分散於溶劑中而製成含溶劑之黏著劑組成物，接著，將其塗佈/乾燥於氧遮蔽層20的表面而形成光選擇吸收層10，藉此獲得本發明之光學膜。此外，本發明之光學膜 亦可藉由以與上述同樣之方式將光選擇吸收層10形成於分離膜的離型處理面，將此光選擇吸收層10積層(轉印)於氧遮蔽層20的表面而獲得。在氧遮蔽層及光選擇吸收層之間，亦可經由其他膜或層進行積層。即便在未直接積層之情況，本發明之光學膜亦可表現出優異的光學特性及耐久性。
本發明之光學膜可適宜地使用於有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置中。作為本發明之光學膜之較佳形態係偏光板。若將屬於本發明之光學膜之偏光板配置於有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置中，則可提供顯示性能優異，且耐久性良好的顯示裝置。
[實施例]
以下，呈示實施例及比較例進一步具體說明本發明，但本發明不受此等例所限定。例中，表示含量或使用量之%及份，在沒有特別斷定之前提下為質量基準。
<偏光膜的製作>
[製造例1]
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度30μm的聚乙烯醇膜[Kuraray(股)製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PE#3000」]浸漬於37℃的純水中後，於30℃浸漬於包含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(質量比)=0.04/1.5/100)中。然後，於56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸 之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(質量比)=12/3.6/100)中。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃進行乾燥，而獲得碘係吸附配向於聚乙烯醇之厚度約12μm的偏光件。延伸主要係在碘染色及硼酸處理之步驟中施行，總延伸倍率為5.3倍。
[製造例2]
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%、厚度75μm的聚乙烯醇膜[Kuraray(股)製之商品名「Kuraray Vinylon VF-PS#7500」]浸漬於37℃的純水中後，於30℃浸漬於包含碘及碘化鉀之水溶液(碘/碘化鉀/水(重量比)=0.04/1.5/100)中。然後，於56.5℃浸漬於包含碘化鉀及硼酸之水溶液(碘化鉀/硼酸/水(重量比)=12/3.6/100)中。將膜以10℃的純水洗淨後，於85℃進行乾燥，而獲得碘係吸附配向於聚乙烯醇之厚度約28μm的偏光件。延伸主要係在碘染色及硼酸處理之步驟中施行，總延伸倍率為5.3倍。
<氧遮蔽層>
PET：厚度38μm的聚對酞酸乙二酯膜(購自東麗(股)之商品名「R64S」)
PVA：厚度28μm的偏光膜(製造例2所製作)
COP：厚度50μm的環烯烴膜(購自日本Zeon(股)之商品名「ZB-12」)
<氧穿透度的評估>
使用GTR Tec(股)公司製差壓式氣體穿透率測定裝置(GTR-30AS型)，按照JIS K 7126-1(差壓法)，各自評估「PET」、「PVA」及「COP」的氧穿透度。測定條件如以下。將結果示於表1。另外，表1中之氧穿透度的單位為cm3/(m2‧24h‧atm)。
測定溫度：30℃
穿透面積：15.2cm2(
Figure 107121711-A0202-12-0066-29
44mm)
穿透氣體：氧(超高純度)
供給氣壓：2kgf/cm2(差壓：223cmHg)
<光選擇吸收性化合物的合成>
(合成例1)光選擇吸收性化合物(1)的合成
Figure 107121711-A0202-12-0066-22
使已設置戴氏(Pimroth)冷卻管、溫度計之200mL四口燒瓶內成為氮環境，饋入參考專利文獻(日本專利特開2014-194508)所合成之式(aa)所示之化合物10份、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6份、氰基乙酸2-乙基己酯(有時稱為DIPEA；東京化成工業股份有限公司製)6.9 份及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60份，以磁力攪拌器進行攪拌。於內溫25℃由滴液漏斗耗費1小時滴加DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5份，滴加終了後於內溫25℃再保溫2小時。反應終了後，使用減壓蒸發器去除乙腈，供予管柱層析(矽膠)而進行精製，對包含式(aa1)所示之光選擇吸收性化合物(1)之流出液使用減壓蒸發器去除溶媒，獲得黃色結晶。藉由將該結晶進行60℃減壓乾燥，而以黃色粉末之形式獲得光選擇吸收性化合物(1)4.6份。產率為50%。
施行1H-NMR解析，結果觀測到以下峰值，故可確認已生成光選擇吸收性化合物1。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m、6H)、1.32-1.67(m、8H)、1.59-1.66(m、2H)、2.09(quin、2H)、3.00(m、5H)、3.64(t、2H)、4.10(dd、2H)、5.52(d、2H)、7.87(d、2H)
<克吸光係數ε測定>
為了測定所獲得之光選擇吸收性化合物(1)的克吸光係數，使光選擇吸收性化合物(1)溶解於2-丁酮中。將所獲得之溶液(濃度；0.006g‧L-1)裝入1cm的石英槽中，將石英槽置於分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)，藉由雙束法以1nm步距測定300至800nm波長範圍的吸光度。由所獲得之吸光度的值及溶液中之光吸收性化合物濃度、石英槽的光路徑長度，使用下述式算出各波長之克吸光係數。
ε(λ)=A(λ)/CL
[式中，ε(λ)表示在波長λnm之化合物的克吸光係數L/(g‧cm)，A(λ)表示在波長λnm之吸光度，C表示濃度g/L，L表示石英槽的光路徑長度cm。]
測定光選擇吸收性化合物(1)的吸收極大波長(λmax)，結果λmax=389nm(2-丁酮中)，ε(405)的值為47L/(g‧cm)，ε(440)的值為0.1L/(g‧cm)以下，ε(405)/ε(440)的值為80以上。
(合成例2)(甲基)丙烯酸系樹脂的調製
藉由以下方法調製(甲基)丙烯酸系樹脂。關於重量平均分子量及數量平均分子量的測定，係在GPC裝置中直列地連接配置4根「TSK gel XL(東曹(股)製)」及1根「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」共計5根作為管柱，使用四氫呋喃作為溶出液，在試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件下施行，藉由標準聚苯乙烯換算加以算出。
在具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，饋入將作為溶媒之乙酸乙酯81.8份、丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、丙烯酸2-羥乙酯1.0份及丙烯酸0.6份混合而得之溶液。將反應容器內之空氣以氮氣進行置換後，使內溫成為60℃。然後，添加使偶氮雙異丁腈0.12份溶解於乙酸乙酯10份中而得之溶液。於相同溫度保持1小時後， 一面將內溫保持於54至56℃，一面以添加速度17.3份/小時將乙酸乙酯以使聚合物的濃度大致成為35%之方式連續地加至反應容器內。自乙酸乙酯的添加開始起至經過12小時為止將內溫保持於54至56℃後，加入乙酸乙酯並以使聚合物的濃度成為20%之方式進行調整，而獲得(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸乙酯溶液。(甲基)丙烯酸系樹脂的重量平均分子量Mw為139萬，重量平均分子量Mw與數量平均分子量Mn之比Mw/Mn為5.32。
(合成例3)黏著劑組成物的調製
在上述所獲得之(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固形份100份，混合交聯劑(Coronate L，固形份75%)0.4份、矽烷化合物(KBM-403)0.4份及合成例1所獲得之光選擇吸收性化合物(1)2份，再以使固形份濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯而獲得黏著劑組成物。上述交聯劑的摻合量為有效成分之重量份數。
合成例3所使用之交聯劑及矽烷化合物的詳情如以下。
交聯劑：伸甲苯基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成體的乙酸乙酯溶液(固形份濃度75%)，購自東曹股份有限公司之商品名「Coronate L」。
矽烷化合物：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷，購自信越化學工業股份有限公司之商品名「KBM403」。
<光選擇吸收層(黏著劑層)的製作>
使用塗佈器將上述所調製之各黏著劑組成物以乾燥後之厚度成為20μm之方式塗佈於經施加離型處理之由聚對酞酸乙二酯膜所構成之分離膜[購入自Lintec(股)之商品名「PLR-382190」]的離型處理面，於100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層(黏著劑片)之光選擇吸收層(1)。
(實施例1)
對氧遮蔽層的「PET」單面施加電暈放電處理後，藉由層壓機貼合上述所製作之光選擇吸收層(1)中之與分離膜相反側之面(黏著劑層面)後，在溫度23℃、相對濕度65%之條件下熟化7日，獲得包含氧遮蔽層及光選擇吸收層之光學膜(附黏著劑之光學膜)(1)。接著，將附黏著劑之光學膜裁成30mm×30mm的大小，貼合至無鹼玻璃[Corning公司製之商品名「EAGLE XG」]，將其作為樣品。以上述所記載之方法測定所製作之樣品之氧遮蔽層。此外，使用分光光度計(UV-2450：島津製作所股份有限公司製)測定所製作之樣品的波長300至800nm範圍之吸光度。將結果示於表1。另外，無鹼玻璃單質在波長450nm之吸光度為0。
<吸光度保持率的評估>
將測定吸光度後之樣品在63℃、50%相對濕度條件下 投入Sunshine Weather Meter(Suga試驗機股份有限公司製)中24小時，實施24小時的耐候性試驗。以與上述同樣的方法測定所取出之樣品的吸光度。由所測定之吸光度，基於下述式，求出405nm之樣品的吸光度保持率。將結果示於表1。吸光度保持率越高，越無光選擇吸收機能的劣化，顯示出良好的耐候性。
吸光度保持率=耐久試驗後之A(405)/耐久試驗前之A(405)×100
(實施例2)
除了對氧遮蔽層使用「PVA」代替「PET」以外，與實施例1同樣地施行操作，獲得光學膜(2)。使用與上述同樣的方法，對所獲得之光學膜(2)施行氧穿透度的測定、吸光度的測定、吸光度保持率的評估。將結果示於表1。
(比較例1)
除了對氧遮蔽層使用「COP」代替「PET」以外，與實施例1同樣地施行操作，獲得光學膜(3)。使用與上述同樣的方法，對所獲得之光學膜(3)施行氧穿透度的測定、吸光度的測定、吸光度保持率的評估。將結果示於表1。
(實施例3)
將厚度25μm的由三乙醯基纖維素膜所構成之透明保護膜(Konica Minolta股份有限公司製：商品名「KC2UA」) 經由由聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成之接著劑貼合於合成例1所獲得之偏光膜(氧穿透度為10以下)的單面。其次，將厚度23μm的由環狀聚烯烴所構成之零相位差膜(日本Zeon股份有限公司製：商品名「ZEONOR」)經由由聚乙烯醇系樹脂的水溶液所構成之接著劑貼合於偏光膜中之與三乙醯基纖維素膜相反側之面，製作偏光板。
除了以所製作之偏光板作為氧遮蔽層以外，與實施例1同樣地施行操作，獲得光學膜(4)。使用與上述同樣的方法，對所獲得之光學膜(4)施行氧穿透度的測定、吸光度的測定、吸光度保持率的評估。將結果示於表1。
Figure 107121711-A0202-12-0072-23
本發明之光學膜對波長405nm附近的光具有良好的吸收性能。因此，若將本發明之光學膜積層於相位差膜或有機EL元件，則本發明之光學膜對相位差膜或 有機EL元件可遮蔽波長405nm附近的光，可抑制因短波長可見光兩者所致之相位差膜或有機EL元件的劣化。本發明之光學膜係即便在耐候性試驗後，波長405nm附近的光吸收機能亦良好，具有良好的耐候性(耐久性)。在將本發明之光學膜使用於液晶顯示裝置中之情況，可更加抑制劣化。
[產業上之可利用性]
本發明之光學膜可適宜地使用於液晶面板及液晶顯示裝置中。
由於本案的圖僅為例舉，並非本案的代表圖。
故本案無指定代表圖。

Claims (11)

  1. 一種光學膜，係包含至少1層之光選擇吸收層及至少1層之氧遮蔽層，且滿足下述式(1)及式(2)：A(405)≧0.5 (1) 氧穿透度≦500 (2)式(1)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度；氧穿透度的單位為cm3/(m2‧24h‧atm)；其中，光選擇吸收層為由包含(甲基)丙烯酸系樹脂(A)、交聯劑(B)及光選擇吸收化合物(C)之黏著劑組成物所形成之黏著劑層，光選擇吸收化合物(C)為滿足下述式(5)之化合物：ε(405)≧20 (5)式(5)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，係滿足下述式(3)：A(440)≦0.1 (3)式(3)中，A(440)表示在波長440nm之吸光度。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其更滿足式(4)：A(405)/A(440)≧5 (4)式(4)中，A(405)表示在波長405nm之吸光度，A(440)表示在波長440nm之吸光度。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，光選 擇吸收層為具有光選擇吸收機能之黏著劑層。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，交聯劑(B)的含量為0.01至15質量份。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，光選擇吸收化合物(C)的含量為0.01至20質量份。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(C)為滿足下述式(6)之化合物：ε(405)/ε(440)≧20 (6)式(6)中，ε(405)表示在波長405nm之化合物的克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm之克吸光係數。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，光選擇吸收化合物(C)為分子內具有部花青素(merocyanine)結構之化合物。
  9. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，氧遮蔽層為由選自聚酯系樹脂(E)、聚乙烯醇系樹脂(F)、聚醯胺系樹脂(G)、聚醯亞胺系樹脂(H)及纖維素系樹脂(I)之至少1種樹脂所形成之樹脂層。
  10. 如申請專利範圍第1或2項所述之光學膜，其中，氧遮蔽層為由聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光膜。
  11. 一種顯示裝置，係包含申請專利範圍第1至10項所述之光學膜。
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