TW202129321A - 光學積層體及影像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之課題為提供一種在高溫高濕下於偏光片端部之掉色受到抑制之新穎光學積層體。
本發明之解決該課題之手段為一種光學積層體，係具有偏光片、及與前述偏光片相接而積層之光選擇吸收性黏著劑層，其中，前述偏光片係吸附配向有碘，且硼含量為5.0質量%以下，前述光選擇吸收性黏著劑層為由含有光選擇吸收劑之黏著劑組成物所形成，且在波長410nm的吸光度為0.1以上1.6以下。
Description
本發明係關於光學積層體及顯示裝置。
於偏光片的單面或兩面積層貼合保護膜所成之偏光板為光學構件，該光學構件係廣泛用於以可攜裝置、電視為首之液晶顯示裝置或有機電致發光(有機EL)顯示裝置等影像顯示裝置，尤其近年來廣泛用於行動電話或智慧型手機、平板型終端之類之各種可攜式機器。
偏光板大多是經由黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層而貼合於影像顯示元件(液晶單元或有機EL顯示元件等)並使用(例如日本特開2010-229321號公報(專利文獻1))。因此，偏光板有時係以於其中一面預先設置有黏著劑層之附黏著劑層之偏光板之形態而流通於市場。
又，可攜式機器亦經常在高溫高濕之嚴苛環境下使用，對於偏光片係要求高耐久性。日本特開2013-105036號公報(專利文獻2)中記載藉由提高偏光片中之硼酸含量並生成大量硼酸交聯，而使I3錯合物以高配向、高穩定性地存在，而獲得抑制了漏藍光(blue leakage)的產生之低溫高濕耐久性優異之偏光片。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本特開2010-229321號公報。
專利文獻2：日本特開2013-105036號公報。
偏光板有在高溫高濕環境下於偏光片端部容易產生掉色的問題。該問題在僅於偏光片單面積層貼合保護膜所成的構成中更為顯著。雖已知有藉由提高偏光片中之硼含量而抑制偏光片掉色之方法，但使用該方法會有容易因加熱而收縮的問題。
本發明之目的在於提供一種在高溫高濕下於偏光片端部之掉色受到抑制之新穎光學積層體。
本發明提供以下所例示之光學積層體及使用該光學積層體之影像顯示裝置。
〔1〕一種光學積層體，係具有偏光片、及與前述偏光片相接而積層之光選擇吸收性黏著劑層，其中，
前述偏光片係吸附配向有碘，且硼含量為5.0質量%以下，
前述光選擇吸收性黏著劑層為由含有光選擇吸收劑之黏著劑組成物所形成，且在波長410nm的吸光度為0.1以上1.6以下。
〔2〕如〔1〕所述之光學積層體，其更具有保護膜，前述保護膜係積層於前述偏光片之與前述光選擇吸收性黏著劑層側相反之側。
〔3〕如〔1〕或〔2〕所述之光學積層體，其中，前述光選擇吸收性黏著劑層之每單位面積之前述光選擇吸收劑的含量為0.01g/m2以上5g/m2以下。
〔4〕如〔1〕至〔3〕中任一項所述之光學積層體，其中，前述黏著劑組成物中，相對於全樹脂成分100質量份含有前述光選擇吸收劑0.1質量份以上10質量份以下。
〔5〕如〔1〕至〔4〕中任一項所述之光學積層體，其中，前述光選擇吸收性黏著劑層之厚度為0.1μm以上150μm以下。
〔6〕如〔1〕至〔5〕中任一項所述之光學積層體，其中，前述光選擇吸收劑為分子量為100以上3000以下之有機系光選擇吸收劑。
〔7〕如〔1〕至〔6〕中任一項所述之光學積層體，其更具有λ/4相位差層，前述λ/4相位差層係積層於前述光選擇吸收性黏著劑層之與前述偏光片相反之側。
〔8〕如〔1〕至〔7〕中任一項所述之光學積層體，其為抗反射用偏光板。
〔9〕一種影像顯示裝置，係包含影像顯示面板、及配置於前述影像顯示面板的前表面之〔8〕所述之光學積層體。
〔10〕如〔9〕所述之影像顯示裝置，其中，前述影像顯示面板為有機EL顯示面板。
根據本發明，可提供在高溫高濕環境下於偏光片端部之掉色受到抑制之光學積層體、及含有該光學積層體之影像顯示裝置。
10:偏光片
11:保護膜
20:光選擇吸收性黏著劑層
30:第一相位差層
31:第二相位差層
32:第二黏著劑層
33:接著劑層
50:光學積層體之端部
51:掉色區域
52:非掉色區域
100,200:光學積層體
300:相位差積層體
圖1係表示本發明之光學積層體之一例的概略剖面圖。
圖2係表示本發明之光學積層體之另一例的概略剖面圖。
圖3係表示光學顯微鏡的觀察影像之一例的圖。
圖4係表示將觀察影像轉換為黑白256階所得的數據之一例的圖。
以下，一邊參照圖式一邊說明本發明之實施型態，但本發明並不限定於以下實施型態。以下所有圖式中，為了容易理解而適當調整比例尺來表示各構成要件，圖式所示之各構成要件的比例尺未必與實際之構成要件的比例尺一致。
<光學積層體>
本發明之光學積層體係具有偏光片、及與前述偏光片相接而積層之光選擇吸收性黏著劑層。將本發明之光學積層體之層構成之一例表示於圖1、圖2。
圖1為本發明之光學積層體之一例的概略剖面圖。圖1所示之光學積層體100依序具有保護膜11、偏光片10、及光選擇吸收性黏著劑層20。
圖2為本發明之光學積層體之一例的概略剖面圖。圖2所示之光學積層體200具有：圖1所示之光學積層體100、及積層於光學積層體100之光選擇吸收性黏著劑層20側之相位差積層體300。相位差積層體300係由光學積層體100之光選擇吸收性黏著劑層20側起依序具有第一相位差層30、接著劑層33、第二相位差層31、及第二黏著劑層32。
光學積層體100、200之厚度係因應對光學積層體所要求的功能及光學積層體之用途等而異，故無特別限定，惟例如為5μm以上200μm以下，可為10μm以上150μm以下，也可為120μm以下。
光選擇吸收性黏著劑層含有光選擇吸收劑。本發明之光學積層體中，至少光選擇吸收性黏著劑層具有光選擇吸收性能，藉此使光學積層體整體具有光選擇吸收性能。因此，本發明之光學積層體當用於影像顯示元件上時，具有保護影像顯示元件不受紫外線影響的功能。
本發明之光學積層體可為除了光選擇吸收性黏著劑層以外亦包括具有光選擇吸收性能的層之構成。其他層可舉例如保護膜11。本發明中，藉由光選擇吸收性黏著劑層具有光選擇吸收性能，並有助於顯現光學積層體整體之光選擇吸收性能之構成，而可提高其他層中的光選擇吸收性能之設計自由度。例如保護膜11為了提高光選擇吸收性能而有需要使其厚度較厚的設計的情形，但藉由使光選擇吸收性能之設計自由度高而使保護膜11之薄膜化更為容易。
本發明人等得到了黏著劑層所含之光選擇吸收劑含量與在高溫高濕下於偏光片端部的掉色程度之間有相關性的見解。根據該見解，認為在高溫高濕下黏著劑層中之光選擇吸收劑容易轉移至偏光片側，該轉
移為產生掉色之主因之一。本發明人等進一步努力檢討，發現即使在黏著劑層含有光選擇吸收劑時，藉由調整黏著劑層之吸光度，可抑制在高溫高濕下於偏光片端部的掉色，從而完成本發明。
[偏光片]
偏光片具有以下性質，該性質為：吸收具有與其吸收軸平行之振動面之線性偏光，且使具有與吸收軸正交(與穿透軸平行)之振動面之線性偏光穿透。本發明之光學積層體中的偏光片10係吸附配向有碘，且硼含量為5.0質量%以下。
藉由硼含量為5.0質量%以下，較佳為4.5質量%以下之構成，可抑制因加熱所產生的收縮。硼含量較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上。偏光片10中，硼含量越少則越容易產生在高溫高濕下於偏光片端部的掉色。咸認偏光片10中的硼會提高偏光片10之交聯度，有助於在偏光片10中穩定地保持碘，故硼含量若變少則無法穩定地保持碘，而會產生掉色。本發明中，即使偏光片10之硼含量為5.0質量%以下仍可抑制在高溫高濕下的掉色。
偏光片10可舉出吸附了具有吸收異向性之二色性色素之延伸膜或延伸層、含有聚合性液晶化合物的硬化物及二色性色素之液晶硬化層等。二色性色素為在分子之長軸方向的吸光度與在短軸方向的吸光度具有相異性質之色素，色素適合使用碘。
屬於吸附了具有吸收異向性之色素的延伸膜或延伸層之偏光片通常可經過下述步驟而製造：將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸之步驟；以碘等二色性色素來染色聚乙烯醇系樹脂膜，藉此吸附該二色性色素之步
驟；以硼酸水溶液來處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；以及在硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。
偏光片之厚度通常為30μm以下，較佳為15μm以下，更佳為13μm以下，又更佳為10μm以下，特佳為8μm以下。偏光片之厚度通常為2μm以上，較佳為3μm以上，例如可為5μm以上。
聚乙烯醇系樹脂係藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯以外，亦可使用乙酸乙烯酯和可與乙酸乙烯酯共聚之其他單體的共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚之其他單體可舉例如不飽和羧酸系化合物、烯烴系化合物、乙烯基醚系化合物、不飽和碸系化合物、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺系化合物。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85莫耳%以上100莫耳%以下左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，亦可使用經醛類改質之聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度通常為1000以上10000以下，較佳為1500以上5000以下。
屬於吸附了具有吸收異向性之色素的延伸層之偏光片通常可經過下述步驟而製造：將含有上述聚乙烯醇系樹脂之塗布液塗布於基材膜上之步驟；將所得積層膜單軸延伸之步驟；以碘等二色性色素來染色經單軸延伸之積層膜之聚乙烯醇系樹脂層，藉此吸附二色性色素並形成偏光片之步驟；以硼酸水溶液來處理吸附有二色性色素之膜之步驟；以及在硼酸水溶液處理後進行水洗之步驟。用以形成偏光片之基材膜亦可作為保護膜11使用。視需要可從偏光片剝離去除基材膜。基材膜之材料及厚度係可與後述保護膜11之材料及厚度相同。
[保護膜]
保護膜11可設為由光學透明之熱塑性樹脂，例如：環狀聚烯烴系樹脂；包括三乙酸纖維素、二乙酸纖維素等樹脂之乙酸纖維素系樹脂；包括聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等樹脂之聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂；聚丙烯系樹脂、此等中一種或二種以上之混合物所構成之塗層或膜。保護膜11可含有後述光選擇吸收劑。又，保護膜11所含之光選擇吸收劑係被保持於保護膜11內，故不易轉移至偏光片。
可於保護膜11上形成硬塗層。硬塗層可形成於保護膜11的一面，也可形成於兩面。藉由設置硬塗層而可形成提高了硬度及耐擦痕性之保護膜11。硬塗層例如可為丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺甲酸乙酯(urethane)系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等的硬化層。為了提高強度，硬塗層可含有添加劑。添加劑並無限定，可舉出無機系微粒子、有機系微粒子、或此等之混合物。硬塗層例如為紫外線硬化型樹脂的硬化層。紫外線硬化型樹脂可舉例如丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯系樹脂、胺甲酸乙酯系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂等。
保護膜之厚度通常為1至100μm，(從強度或處理性等觀點來看)較佳為5至80μm，更佳為8至60μm，又更佳為12至45μm。
保護膜11之樹脂膜例如經由接著劑層而貼合於偏光片10。會形成接著劑層之接著劑可舉出水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑、或熱硬化性接著劑，較佳為使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。
欲經由接著劑層而貼合之相對向的二個表面可預先進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，也可具有底漆層等。
[光選擇吸收性黏著劑層]
將黏著劑組成物溶解或分散於有機溶劑而形成稀釋液，將該稀釋液塗布於基材上並乾燥，藉此可形成光選擇吸收性黏著劑層20。基材適合為塑膠膜，具體而言可舉出實施了脫模處理之剝離膜。剝離膜可舉出在由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等樹脂所構成之膜的一面實施了聚矽氧處理等脫模處理者。
光選擇吸收性黏著劑層之厚度例如為0.1μm以上150μm以下。當與影像顯示面板積層時通常為8μm以上60μm以下，以薄型化此點來看較佳為30μm以下，更佳為25μm以下，特佳為20μm以下。當與其他光學膜例如λ/4相位差層積層時，通常為2μm以上30μm以下，較佳為25μm以下，更佳為20μm以下，特佳為18μm以下，較佳為3μm以上，例如可為10μm以上，但以進一步薄型化此點來看較佳為10μm以下，特佳為7μm以下。
光選擇吸收性黏著劑層之在波長410nm的吸光度較佳為0.1以上1.6以下，更佳為0.2以上1.5以下。其原因為藉由使光選擇吸收性黏著劑層20具有如此吸光度，可使光學積層體整體展現所期望的光選擇吸收性能，且容易使光學積層體整體構成為薄型。
光選擇吸收性黏著劑層中，
在波長390nm的吸光度通常為5.0以下，也可為4.5以下，在波長400nm的吸光度通常為5.0以下，也可為4.5以下，在波長420nm的吸光
度通常為1.00以下，較佳為0.60以下，更佳為0.40以下，且為0.00以上，
在波長430nm的吸光度通常未滿0.20，較佳為0.18以下，更佳為0.10以下，特佳為0.05以下，且為0.00以上，
在波長440nm的吸光度通常未滿0.10，較佳為0.05以下，且為0.00以上。
藉由使在個別波長的吸光度成為上述範圍，可充分吸收紫外線區域的光，且可使可見光區域的光直接穿透。
光選擇吸收性黏著劑層之每單位面積之光選擇吸收劑的含量較佳為0.01g/m2以上5g/m2以下。藉由設為該範圍而可抑制在高溫高濕下產生之偏光片的掉色。
[黏著劑組成物]
黏著劑組成物係含有樹脂及光選擇吸收劑，較佳為更含有交聯劑。
樹脂例如為以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺甲酸乙酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系之類之樹脂作為主成分之樹脂。其中較佳為以(甲基)丙烯酸系樹脂(A)作為主成分之樹脂。
(光選擇吸收劑)
光選擇吸收劑是會選擇性吸收特定波長的光者，較佳為含有在波長360nm至420nm至少具有一個吸收極大值之化合物，更佳為含有在380nm至410nm具有吸收極大值之化合物。
含有在波長350nm附近具有吸收極大值之化合物之光選擇吸收劑(以下，有時稱為光選擇吸收劑(A))可舉例如氧基二苯基酮系光選擇
吸收劑、苯并三唑系光選擇吸收劑、水楊酸酯系光選擇吸收劑、二苯基酮系光選擇吸收劑、氰基丙烯酸酯系光選擇吸收劑、三嗪系光選擇吸收劑等有機系光選擇吸收劑。更具體而言可舉例如5-氯-2-(3,5-二第二丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、(2-2H-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二烷基)-4-甲基苯酚、2-羥基-4-苯甲基氧基二苯基酮、2,4-苯甲基氧基二苯基酮等。該等有機系光選擇吸收劑可為1種或併用2種以上。有機系光選擇吸收劑之分子量較佳為100以上3000以下。
光選擇吸收劑(A)可使用市售品，例如三嗪系光選擇吸收劑可舉出CHEMIPRO KASEI股份有限公司製之「Kemisorb 102」、ADEKA股份有限公司製之「ADK STAB LA46」、「ADK STAB LAF70」、BASF JAPAN公司製之「TINUVIN 109」、「TINUVIN 171」、「TINUVIN 234」、「TINUVIN 326」、「TINUVIN 327」、「TINUVIN 328」、「TINUVIN 928」、「TINUVIN 400」、「TINUVIN 460」、「TINUVIN 405」、「TINUVIN 477」等。苯并三唑系光選擇吸收劑可舉出ADEKA股份有限公司製之「ADK STAB LA31」及「ADK STAB LA36」、Sumika Chemtex股份有限公司製之「Sumisorb 200」、「Sumisorb 250」、「Sumisorb 300」、「Sumisorb 340」及「Sumisorb 350」、CHEMIPRO KASEI股份有限公司製之「Kemisorb 74」、「Kemisorb 79」及「Kemisorb 279」、BASF公司製之「TINUVIN 99-2」、「TINUVIN 900」及「TINUVIN 928」等。
又，光選擇吸收劑(A)可為無機系光選擇吸收劑。無機系光選擇吸收劑可舉出氧化鈦、氧化鋅、氧化銦、氧化錫、滑石、高嶺土、碳酸鈣、氧化鈦系複合氧化物、氧化鋅系複合氧化物、ITO(摻錫氧化銦)、
ATO(摻銻氧化錫)等。氧化鈦系複合氧化物可舉例如摻雜二氧化矽、氧化鋁之氧化鈦等。該等無機系光選擇吸收劑可使用1種或併用2種以上。又，也可併用有機系光選擇吸收劑與無機系光選擇吸收劑。
含有在波長405nm附近具有吸收極大值之化合物之光選擇吸收劑(以下，有時稱為光選擇吸收劑(B))較佳為滿足下式(5)之化合物，更佳為同時還滿足下式(6)之化合物。
ε(405)≧20 (5)
〔式(5)中，ε(405)表示在波長405nm的化合物之克吸光係數。
克吸光係數之單位為L/(g‧cm)〕
ε(405)/ε(440)≧20 (6)
[式(6)中，ε(405)表示在波長405nm的化合物之克吸光係數，ε(440)表示在波長440nm的克吸光度係數]。
又，克吸光度係數係以實施例所記載方法測定。
ε(405)值越大的化合物越容易吸收波長405nm的光，而抑制在紫外線或短波長可見光中之光學積層體及影像顯示裝置之劣化。當ε(405)值未滿20L/(g‧cm)時，若不增加黏著劑組成物中的光選擇吸收劑(B)的含量，則有相位差膜或有機EL發光元件難以展現抑制因紫外線或短波長可見光所造成的劣化的功能之傾向。ε(405)值較佳為20L/(g‧cm)以上，更佳為30L/(g‧cm)以上，又更佳為40L/(g‧cm)以上，通常為500L/(g‧cm)以下。
ε(405)/ε(440)值越大的化合物越可在不阻礙影像顯示裝置之色彩表現下吸收405nm附近的光，並抑制相位差膜或有機EL元件等顯
示裝置之光劣化。ε(405)/ε(440)值較佳為20以上，更佳為40以上，又更佳為70以上，特佳為80以上。
選擇性吸收波長405nm的光之化合物較佳為分子內含有部花青素(merocyanine)結構之化合物。分子內含有部花青素結構之化合物之分子量較佳為100以上3000以下。分子內含有部花青素結構之化合物為分子內含有-(N-C=C-C=C)-所示之部分結構之化合物，可舉例如部花青素系化合物、花青(cyanine)系化合物、吲哚系化合物、苯并三唑系化合物等。較佳為部花青素系化合物、花青系化合物、及苯并三唑系化合物，更佳為式(I)所示之化合物。
[式中，R1及R5分別獨立表示氫原子、可具有取代基之碳數1至25之烷基、可具有取代基之碳數7至15之芳烷基、碳數6至15之芳基、雜環基，該烷基或芳烷基所含有的-CH2-可經-NR1A-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-取代。
R1A表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R2、R3及R4分別獨立表示氫原子、可具有取代基之碳數1至6之烷基、可具有取代基之芳香族烴基、或可具有取代基之芳香族雜環基，該烷基所含有的-CH2-可經-NR1B-、-CO-、-SO2-、-O-或-S-取代。
R1B表示氫原子或碳數1至6之烷基。
R6及R7分別獨立表示氫原子、碳數1至25之烷基、或拉電子基，或者R6及R7可互相連結而形成環結構。
R1及R2可互相連結而形成環結構，R2及R3可互相連結而形成環結構，R2及R4可互相連結而形成環結構，R3及R6可互相連結而形成環結構]。
R1及R5所示之碳數1至25之烷基可舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、2-氰基丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基、1-甲基丁基、3-甲基丁基、正辛基、正癸基、2-己基-辛基等。
R1及R5所示之碳數1至25之烷基可具有之取代基可舉出以下群A所記載的基。
群A：可舉出硝基、羥基、羧基、磺酸基、氰基、胺基、鹵原子、碳數1至6之烷氧基、碳數1至12之烷基矽基、碳數2至8之烷基羰基、*-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3所示之基(Ra1及Ra2分別獨立表示碳數1至6之烷二基，Ra3表示碳數1至6之烷基，t1表示1至3之整數)等。
碳數1至12之烷基矽基可舉出：甲基矽基、乙基矽基、丙基矽基等單烷基矽基；二甲基矽基、二乙基矽基、甲基乙基矽基等二烷基矽基；三甲基矽基、三乙基矽基、三丙基矽基等三烷基矽基。
碳數2至8之烷基羰基可舉出甲基羰基、乙基羰基等。
鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子等。
R1及R5所示之碳數7至15之芳烷基可舉出苯甲基、苯基乙基等。芳烷基所含有的-CH2-已取代成-SO2-或-COO-之基可舉出2-苯乙酸乙酯基等。
R1及R5所示之碳數7至15之芳烷基可具有之取代基可舉出上述群A所記載的基。
R1及R5所示之碳數6至15之芳基可舉出苯基、萘基、蔥基等。
R1及R5所示之碳數6至15之芳基可具有之取代基可舉出上述群A所記載的基。
R1及R5所示之碳數6至15之雜環基可舉出吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基、及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
R1A及R1B所示之碳數1至6之烷基可舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第三丁基、第二丁基、正戊基、正己基等。
R2、R3及R4所示之碳數1至6之烷基可舉出與R1B所示之碳數1至6之烷基相同者。
R2、R3及R4所示之碳數1至6之烷基可具有之取代基可舉出上述群A所記載的基。
R2、R3及R4所示之芳香族烴基可舉出：苯基、萘基、蔥基等碳數6至15之芳基；苯甲基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
R2、R3及R4所示之芳香族烴基可具有之取代基可舉出上述群A所記載的基。
R2、R3及R4所示之芳香族雜環可舉出吡啶基、吡咯啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、吡咯基、噻唑基、及呋喃基等碳數3至9之芳香族雜環基。
R2、R3及R4所示之芳香族雜環可具有之取代基可舉出上述群A所記載的基。
R6及R7所示之碳數1至25之烷基可舉出與R1及R5所示之碳數1至25之烷基相同者。
R6及R7所示之碳數1至25之烷基可具有之取代基可舉出上述群A所記載的基。
R6及R7所示之碳數1至25之烷基可舉出與R1及R5所示之碳數1至25之烷基相同者。
R6及R7所示之拉電子基可舉例如氰基、硝基、鹵原子、經鹵原子取代之烷基、式(I-1)所示之基。
*-X1-R11 (I-1)
[式中，R11表示氫原子或碳數1至25之烷基，該烷基所含有的亞甲基中之至少1個可經氧原子取代。
X1表示-CO-、-COO-、-OCO-、-CS-、-CSO-、-CSS-、-NR12CO-或-CONR13-。
R12及R13分別獨立表示氫原子、碳數1至6之烷基、或苯基]。
鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
經鹵原子取代之烷基可舉例如三氟甲基、全氟乙基、全氟丙基、全氟異丙基、全氟丁基、全氟第二丁基、全氟第三丁基、全氟戊基、及全氟己基等全氟烷基等。經鹵原子取代之烷基碳數通常為1至25。
R6及R7可互相連結而形成環結構，R6及R7所形成之環結構可舉例如米氏酸(Meldrum's acid)結構、巴比妥酸結構、5,5-二甲基-1,3-環己二酮(dimedone)結構等。
R11所示之碳數1至25之烷基可舉出與R1及R5所示之烷基相同者。
R2及R3互相鍵結所形成之環結構為含有與R2鍵結之氮原子之含氮環結構，可舉例如4至14員環之含氮雜環。R2及R3互相連結所形成之環結構可為單環或多環。具體而言可舉出吡咯啶環、吡咯啉環、咪唑啶環、咪唑啉環、噁唑啉環、噻唑啉環、哌啶環、嗎啉環、哌嗪環、吲哚環、異吲哚環等。
R1及R2互相鍵結所形成之環結構為含有R1及R2所鍵結之氮原子之含氮環結構，可舉例如4至14員環(較佳為4至8員環)之含氮雜環。R1及R2互相連結所形成之環結構可為單環或多環。具體而言可舉出與R2及R3互相連結所形成之環結構相同者。
R2及R4互相鍵結所形成之環結構可舉出4至14員環之含氮環結構，較佳為5員環至9員環之含氮環結構。R2及R4互相鍵結所形成之環結構可為單環或多環。該等環可具有取代基，如此環結構可舉出與前述R2及R3所形成之環結構所例示者相同者。
R3及R6互相連結所形成之環結構為R3-C=C-C=C-R6形成環之骨架之環結構。可舉例如苯基等。
R2及R3互相連結而形成有環結構之式(I)所示之化合物可舉出式(I-A)所示之化合物，R2及R4互相連結而形成有環結構之式(I)所示之化合物可舉出式(I-B)所示之化合物等。
[式(I-A)、式(I-B)中，R1、R3、R4、R5、R6及R7分別表示與上述同義。
環W1及環W2分別獨立表示含氮環]。
環W1及環W2表示含有氮原子作為環的構成單元之含氮環。環W1及環W2可分別獨立地為單環或多環，也可含有氮以外之雜原子作為環的構成單元。環W1及環W2較佳係分別獨立地為5員環至9員環之環。
式(I-A)所示之化合物較佳為式(I-A-1)所示之化合物。
[式(I-A-1)中，R1、R4、R5、R6及R7分別表示與上述同義。
A1表示-CH2-、-O-、-S-或-NR1D-。
R14及R15分別獨立表示氫原子或碳數1至12之烷基。
R1D表示氫原子或碳數1至6之烷基]。
式(I-B)所示之化合物較佳為式(I-B-1)所示之化合物及式(I-B-2)所示之化合物。
[式(I-B-1)中，R1、R6及R7分別表示與上述同義。
R16分別獨立表示氫原子或碳數1至12之烷基、芳基]。
[式(I-B-2)中，R3、R5、R6及R7分別表示與上述同義。
R30表示氫原子、氰基、硝基、鹵原子、巰基、胺基、碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、碳數6至18之芳香族烴基、碳數2至13之醯基、碳數2至13之醯基氧基、或碳數2至13之烷氧基羰基。
R31表示碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、巰基、碳數1至12之烷基硫基、可具有取代基之胺基或雜環基]。
R30所示之鹵原子可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。
R30所示之碳數2至13之醯基可舉出乙醯基、丙醯基及丁醯基等。
R30所示之碳數2至13之醯基氧基可舉出甲基羰基氧基、乙基羰基氧基、丙基羰基氧基、丁基羰基氧基等。
R30所示之碳數2至13之烷氧基羰基可舉出甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基等。
R30所示之碳數6至18之芳香族烴基可舉出：苯基、萘基、聯苯基等碳數6至18之芳基；苯甲基、苯基乙基等碳數7至18之芳烷基。
R30所示之碳數1至12之烷基可舉出與R14所示之碳數1至12之烷基相同者。
R30所示之碳數1至12之烷基可舉出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等。
R30較佳為碳數1至12之烷基、碳數1至12之烷氧基、胺基、或巰基。
R31所示之碳數1至12之烷基可舉出與R14所示之碳數1至12之烷基相同者。
R31所示之碳數1至12之烷氧基可舉出與R30所示之碳數1至12之烷氧基相同者。
R31所示之碳數1至12之烷基硫基可舉出甲基硫基、乙基硫基、丙基硫基、丁基硫基、戊基硫基、己基硫基等。
R31所示之可具有取代基之胺基可舉出：胺基；N-甲基胺基、N-乙基胺基等經1個碳數1至8之烷基取代之胺基；N,N-二甲基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-甲基乙基胺基等經2個碳數1至8之烷基取代之腔基等。
R31所示之雜環可舉出吡咯啶基、哌啶基、嗎啉基等碳數4至9之含氮雜環基等。
R3及R6互相連結而形成環結構且R2及R4互相鍵結而形成環結構之式(I)所示之化合物可舉出式(I-C)所示之化合物等。
[式(I-C)中，R1、R6及R7表示與上述同義。
R21、R22分別獨立表示氫原子、碳數1至12之烷基或羥基。
X2及X3分別獨立表示-CH2-或-N(R25)=。
R25表示氫原子、碳數1至25之烷基、可具有取代基之芳香族烴基]。
R25所示之碳數1至25之烷基可舉出與R1所示之碳數1至25之烷基相同者。
R25所示之芳香族烴基可舉出：苯基、萘基等芳基；苯甲基、苯基乙基等芳烷基；聯苯基等，較佳為碳數6至20之芳香族烴基。R25所示之芳香族烴基可具有之取代基可舉出羥基等。
R3及R6較佳係分別獨立地為拉電子基。
R1及R2互相連結而形成環結構且R3及R6互相鍵結而形成環結構之式(I)所示之化合物可舉出式(I-D)所示之化合物等。
[式(I-D)中，R4、R5、R7表示與上述同義。
R25、R26、R27及R28分別獨立表示氫原子、可具有取代基之碳數1至12之烷基、羥基、芳烷基]。
R25、R26、R27及R28所示之碳數1至12之烷基可舉出與R1A及R1B所示之碳數1至12之烷基相同者。R25、R26、R27及R28所示之碳數1至12之烷基可具有之取代基可舉出羥基。
R25、R26、R27及R28所示之芳烷基可舉出苯甲基、苯基乙基等碳數7至15之芳烷基。
R6及R7互相連結而形成有環結構之化合物(I)可舉出式(I-E)所示之化合物等。
[式(I-E)中，R1、R2、R3、R4、R5分別表示與上述同義。
環W3表示環狀化合物]。
環W3為5員環至9員環之環，可含有氮原子、氧原子、硫原子等雜原子作為環的構成單元。
式(I-E)所示之化合物較佳為式(IE-1)所示之化合物。
[式(IE-1)中，R1、R2、R3及R5分別表示與上述同義。
R17、R18、R19、Rq分別獨立表示氫原子或可具有取代基之碳數1至12之烷基、芳烷基、芳基，該烷基或芳烷基所含有的-CH2-基可經-NR1D-、-C(=O)-、-C(=S)-、-O-、-S-取代，R17及R18可互相連結而形成環結構，R18及R19可互相連結而形成環結構，R19及Rq可互相連結而形成環結構。m、p、q分別獨立表示0至3之整數]。
式(I)所示之化合物可舉出以下化合物。
光選擇吸收劑之合計含量若是以使黏著劑層之在波長410nm的吸光度成為0.1以上1.6以下之方式選擇，則無限定，但在黏著劑組成物中，例如相對於全樹脂成分100質量份為0.01至20質量份，較佳為0.05至15質量份，更佳為0.1至10質量份。
光選擇吸收劑(A)與光選擇吸收劑(B)的質量比(光選擇吸收劑(A)/光選擇吸收劑(B))通常為0.05至20，較佳為0.1至10。
((甲基)丙烯酸系樹脂(A))
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳為以源自於(甲基)丙烯酸酯的構成單元作為主成分(較佳為含有50質量%以上)之聚合物。源自於(甲基)丙烯酸酯的結構單元可含有一種以上源自於(甲基)丙烯酸酯以外之單體的結構單元(例如源自於具有極性官能基之單體的結構單元)。又，本說明書中，(甲基)丙烯酸是意指丙烯酸或甲基丙烯酸之任一者皆可，此外，(甲基)丙烯酸酯等時的「(甲基)」亦同。
(甲基)丙烯酸酯可舉出下式(X)所示之(甲基)丙烯酸酯。
[式(X)中，R101表示氫原子或甲基，R102表示碳數1至14之烷基或碳數7至20之芳烷基，該烷基或該芳烷基之氫原子可經碳數1至10之烷氧基取代]。
式(X)中，R102較佳為碳數1至14之烷基，更佳為碳數1至8之烷基。
式(X)所示之(甲基)丙烯酸酯可舉出：
(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸之直鏈狀烷酯；
(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸異戊酯等(甲基)丙烯酸之分支狀烷酯；
(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸環十二烷酯、(甲基)丙烯酸甲基環己酯、(甲基)丙烯酸三甲基環己酯、(甲基)丙烯酸第三丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸之含脂環骨架之烷酯；
(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸之含芳香環骨架之酯等。
又，可舉出於(甲基)丙烯酸烷酯中的烷基導入了取代基之含有取代基之(甲基)丙烯酸烷酯。含有取代基之(甲基)丙烯酸烷酯之取代基為會取代烷基之氫原子的基，其具體例包括苯基、烷氧基、苯氧基。含有取代基之(甲基)丙烯酸烷酯具體而言可舉出(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇、(甲基)丙烯酸苯氧基聚(乙二醇)等。
該等(甲基)丙烯酸酯可分別單獨使用，也可使用相異複數者。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係含有源自於均聚物之玻璃轉移溫度Tg未滿0℃之丙烯酸烷酯(a1)的構成單元、及源自於均聚物之Tg為0℃以上之丙烯酸烷酯(a2)的構成單元。含有源自於丙烯酸烷酯(a1)的構成單元及源自於丙烯酸烷酯(a2)的構成單元，係有利於提高黏著劑層之高
溫耐久性。(甲基)丙烯酸烷酯之均聚物之Tg例如可採用POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience)等文獻值。
丙烯酸烷酯(a1)之具體例可舉出丙烯酸乙酯、丙烯酸正及異丙酯、丙烯酸正及異丁酯、丙烯酸正戊酯、丙烯酸正及異己酯、丙烯酸正庚酯、丙烯酸正及異辛酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正及異壬酯、丙烯酸正及異癸酯、丙烯酸正十二烷酯等烷基碳數為2至12左右之丙烯酸烷酯等。
丙烯酸烷酯(a1)可僅使用1種或併用2種以上。其中，從將本發明之黏著劑層積層於光學積層體時之追隨性或重工性之觀點來看，較佳為丙烯酸正丁酯、丙烯酸正辛酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
丙烯酸烷酯(a2)為丙烯酸烷酯(a1)以外之丙烯酸烷酯。丙烯酸烷酯(a2)之具體例包括丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸第三丁酯等。
丙烯酸烷酯(a2)可僅使用1種或併用2種以上。其中，從高溫耐久性之觀點來看，丙烯酸烷酯(a2)較佳為含有丙烯酸甲酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸異莰酯等，更佳為含有丙烯酸甲酯。
在(甲基)丙烯酸系樹脂所含有全結構單元中，源自於式(X)所示之(甲基)丙烯酸酯的結構單元較佳為50質量%以上，更佳為60至95質量%，又更佳為65至95質量%以上。
源自於(甲基)丙烯酸酯以外之單體的結構單元較佳為源自於具有極性官能基之單體的結構單元，更佳為源自於具有極性官能基之(甲
基)丙烯酸酯的結構單元。極性官能基可舉出羥基、羧基、取代或無取代胺基、環氧基等雜環基等。
具有極性官能基之單體可舉出：
(甲基)丙烯酸1-羥基甲酯、(甲基)丙烯酸1-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸1-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸1-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸1-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸2-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸3-羥基己酯、(甲基)丙烯酸3-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸4-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸4-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸2-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-氯-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸5-羥基戊酯、(甲基)丙烯酸5-羥基己酯、(甲基)丙烯酸5-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸5-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸5-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸6-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸6-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸6-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基庚酯、(甲基)丙烯酸7-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸7-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸7-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸7-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸8-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸8-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸8-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基壬酯、(甲基)丙烯酸9-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸9-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸10-
羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十二烷酯、丙烯酸10-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸10-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十一烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸11-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十二烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十三烷酯、(甲基)丙烯酸12-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸13-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十四烷酯、(甲基)丙烯酸14-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十五烷酯、(甲基)丙烯酸15-羥基十七烷酯等具有羥基之單體；
(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基烷酯(例如(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯)、馬來酸、馬來酸酐、延胡索酸、巴豆酸等具有羧基之單體；
丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、乙烯基吡啶、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、己內酯改質丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基環己基甲酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、2,5-二氫呋喃等具有雜環基之單體；
(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯等具有取代或無取代胺基之單體。
其中，從(甲基)丙烯酸酯聚合物與交聯劑的反應性之觀點來看，較佳為具有羥基之單體或/及具有羧基之單體，更佳為含有具有羥基之單體及具有羧基之單體兩者。
具有羥基之單體較佳為丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸3-羥基丙酯、丙烯酸4-羥基丁酯、丙烯酸5-羥基戊酯、丙烯酸6-羥基己酯。尤其，藉由使用丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸4-羥基丁酯及丙烯酸5-羥基戊酯而可得良好耐久性。
具有羧基之單體較佳為使用丙烯酸。
從防止可積層於黏著劑層外表面之分離膜的剝離力增強之觀點來看，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)較佳係實質上不含有源自於具有胺基之單體的結構單元。在此，實質上不含有是指在構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全構成單元100質量份中為0.1質量份以下。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全結構單元100質量份，源自於具有極性官能基之單體的結構單元的含量較佳為20質量份以下，更佳為0.5質量份以上15質量份以下，又更佳為0.5質量份以上10質量份以下，特佳為1質量份以上7質量份以下。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之全結構單元100質量份，源自於具有芳香族基之單體的結構單元的含量較佳為20質量份以下，更佳為4質量份以上20質量份以下，又更佳為4質量份以上16質量份以下。
源自於(甲基)丙烯酸酯以外之單體的結構單元可舉出源自於苯乙烯系單體的結構單元、源自於乙烯基系單體的結構單元、源自於分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體的結構單元、源自於(甲基)丙烯醯胺系單體的結構單元等。
苯乙烯系單體可舉出：苯乙烯；甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、
丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等鹵化苯乙烯；硝基苯乙烯；乙醯基苯乙烯；甲氧基苯乙烯；及二乙烯基苯。
乙烯基系單體可舉出：乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等脂肪酸乙烯酯；氯乙烯、溴乙烯等鹵化乙烯基；偏二氯乙烯等偏二鹵乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等含氮雜芳香族乙烯基；丁二烯、異戊二烯、氯丁二烯等共軛二烯；及丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈。
分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體可舉出：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體。
(甲基)丙烯醯胺系單體可舉出N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-(2-羥基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(3-羥基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(4-羥基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-(5-羥基戊基)(甲基)丙烯醯胺、N-(6-羥基己基)(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(3-二甲基胺基丙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3-側氧基丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-側氧基-1-咪唑啶基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸、N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、
N-(1-甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基乙氧基甲基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-乙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丙氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-甲基丙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、N-(2-丁氧基乙基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(1,1-二甲基乙氧基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺等。其中較佳為N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、及N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之重量平均分子量(Mw)較佳為50萬至250萬。重量平均分子量若為50萬以上，則會提升高溫環境中之黏著劑層之耐久性，容易抑制黏附體與黏著劑層之間的浮起剝離、或黏著劑層之內聚破壞等不良狀況。重量平均分子量若為250萬以下，則從塗布性之觀點來看為有利。從兼具黏著劑層之耐久性及黏著劑組成物之塗布性之觀點來看，重量平均分子量較佳為60萬至180萬，更佳為70萬至170萬，特佳為100萬至160萬。又，以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)的比所示之分子量分佈(Mw/Mn)通常為2至10，較佳為3至8，更佳為3至6。重量平均分子量可藉由凝膠滲透層析法分析，且為標準聚苯乙烯換算值。
(甲基)丙烯酸樹脂(A)在溶解於乙酸乙酯中而形成濃度20質量%之溶液時，在25℃的黏度較佳為20Pa‧s以下，更佳為0.1至15Pa‧
s。若為該範圍之黏度，則從將黏著劑組成物塗布於基材時之塗布性之觀點來看為有利。又，黏度可藉由布氏(Brookfield)黏度計測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之玻璃轉移溫度(Tg)例如為-60至20℃，較佳為-50至15℃，更佳為-45至10℃，尤其可為-40至0℃。Tg若為上限值以下，則有利於提高黏著劑層對於黏附體基材之可濕性，若為下限值以上，則有利於提高黏著劑層之耐久性。又，玻璃轉移溫度可藉由示差掃描熱量計(DSC)測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(A)例如可藉由溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等公知方法製造，尤佳為溶液聚合法。溶液聚合法可舉例如將單體及有機溶劑混合，在氮環境下添加熱聚合起始劑，在40至90℃(較佳為50至80℃左右)之溫度條件下攪拌3至15小時左右之方法。為了控制反應，聚合中可連續性或間歇性添加單體或熱聚合起始劑。該單體或熱聚合起始劑亦可為添加於有機溶劑中之狀態。
聚合起始劑可使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。光聚合起始劑可舉出4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑可舉出：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等偶氮系化合物；過氧化月桂基、氫過氧化第三丁基、過氧化苯甲醯、過氧苯甲酸第三丁酯、氫過氧化異丙苯、過氧二碳酸二異丙酯、過氧二碳酸二丙酯、過氧新癸酸第三丁酯、過氧新戊酸第三丁酯、(3,5,5-三甲基己
醯基)過氧化物等有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等無機過氧化物等。又，可使用併用了過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等。
相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(A)之單體總量100質量份，聚合起始劑之比例為0.001至5質量份左右。(甲基)丙烯酸系樹脂之聚合可使用藉由活性能量線(例如紫外線等)而進行之聚合法。
有機溶劑可舉出甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類等。
在黏著劑組成物100質量%中，(甲基)丙烯酸系樹脂(A)的含量通常為60質量%至99.9質量%，較佳為70質量%至99.5質量%，更佳為80質量%至99質量%。
交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂(A)中的極性官能基(例如羥基、胺基、羧基、雜環基等)反應。交聯劑(B)係與(甲基)丙烯酸系樹脂等形成交聯結構，而形成有利於耐久性或重工性之交聯結構。
交聯劑(B)可舉出異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、氮丙啶(aziridine)系交聯劑、金屬螫合物系交聯劑等，尤其從黏著劑組成物之適用期(pot life)及黏著劑層之耐久性、交聯速度等觀點來看，較佳為異氰酸酯系交聯劑。
異氰酸酯系化合物較佳為分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物，可舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯)、芳香族異氰酸酯系化合物(例
如甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。又，交聯劑(B)可為前述異氰酸酯化合物之利用多元醇化合物所形成之加成物(adduct)[例如利用甘油、三羥甲基丙烷等所形成之加成物]、異三聚氰酸酯化物、縮二脲型化合物、使其與聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等進行加成反應而成之胺甲酸乙酯(urethane)預聚物型異氰酸酯化合物等衍生物。交聯劑(B)可單獨使用或組合二種以上使用。此等中，具代表性者可舉出芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯)、脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯)、或此等的利用多元醇化合物(例如甘油、三羥甲基丙烷)所形成之加成物、或異三聚氰酸酯體。交聯劑(B)若為芳香族異氰酸酯系化合物及/或此等的利用多元醇化合物、或異三聚氰酸酯體所形成之加成物，則有利於形成最合適的交聯密度(或交聯結構)，而可提高黏著劑層之耐久性。尤其，若為甲苯二異氰酸酯系化合物及/或此等的利用多元醇化合物所形成之加成物，例如即使在將黏著劑層應用於偏光板時等亦可提高耐久性。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，交聯劑(B)的含量通常為0.01至15質量份，較佳為0.05至10質量份，更佳為0.1至5質量份。
會形成本發明之光選擇吸收性黏著劑層之黏著劑組成物可更含有矽烷化合物(D)。
矽烷化合物(D)可舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷、3-
縮水甘油基氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油基氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
矽烷化合物(D)可為聚矽氧寡聚物。若以單體彼此的組合之形式來表示聚矽氧寡聚物之具體例，則如下所述。
3-巰基丙基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-巰基丙基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基丙基之寡聚物；巰基甲基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、巰基甲基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物等含有巰基甲基之寡聚物；3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基甲基二甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-縮水甘油基氧基丙基甲基二乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物等含有3-縮水甘油基氧基丙基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯
氧基丙基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基之寡聚物；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、3-丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物等含有丙烯醯氧基丙基之寡聚物；乙烯基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷寡聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷寡聚物等含有乙烯基之寡聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基
二乙氧基矽烷/四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷/四乙氧基矽烷共聚物等含有胺基之共聚物等。
矽烷化合物(D)可為下式(d1)所示之矽烷化合物。黏著劑組成物若含有下式(d1)所示之矽烷化合物，則可進一步提高對於基材或玻璃、透明電極等之密著性，故可形成在高溫環境下不易產生浮起剝離或發泡等之耐久性良好之黏著劑層。
(式中，B表示碳數1至20之烷二基或碳數3至20之二價脂環式烴基，構成前述烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-可經-O-或-CO-取代，Rd7表示碳數1至5之烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12分別獨立表示碳數1至5之烷基或碳數1至5之烷氧基)。
式(d1)中，B表示亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四亞甲基、六亞甲基、七亞甲基、八亞甲基等碳數1至20之烷二基；伸環丁基(例如1,2-伸環丁基)、伸環戊基(例如1,2-伸環戊基)、伸環己基(例如1,2-伸環己基)、伸環辛基(例如1,2-伸環辛基)等碳數3至20之二價脂環式烴基、或構成該等烷二基及前述脂環式烴基之-CH2-經-O-或-CO-取代之基。較佳之B為碳數1至10之烷二基。Rd7表示甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基、戊基等碳數1至5之烷基，Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12
分別獨立表示前述R21所例示之碳數1至5之烷基、或甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基等碳數1至5之烷氧基。較佳之Rd8、Rd9、Rd10、Rd11及Rd12分別獨立地為碳數1至5之烷氧基。該等矽烷化合物(D)可單獨使用或組合二種以上使用。
具體之前述式(d1)所示之矽烷化合物可舉例如：(三甲氧基矽基)甲烷、1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,2-雙(三乙氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,3-雙(三乙氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,4-雙(三乙氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,5-雙(三乙氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,6-雙(三乙氧基矽基)己烷、1,6-雙(三丙氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三乙氧基矽基)辛烷、1,8-雙(三丙氧基矽基)辛烷等雙(三C1-5烷氧基矽基)C1-10烷；雙(二甲氧基甲基矽基)甲烷、1,2-雙(二甲氧基甲基矽基)乙烷、1,2-雙(二甲氧基乙基矽基)乙烷、1,4-雙(二甲氧基甲基矽基)丁烷、1,4-雙(二甲氧基乙基矽基)丁烷、1,6-雙(二甲氧基甲基矽基)己烷、1,6-雙(二甲氧基乙基矽基)己烷、1,8-雙(二甲氧基甲基矽基)辛烷、1,8-雙(二甲氧基乙基矽基)辛烷等雙(二C1-5烷氧基C1-5烷基矽基)C1-10烷；1,6-雙(甲氧基二甲基矽基)己烷、1,8-雙(甲氧基二甲基矽基)辛烷等雙(單C1-5烷氧基-二C1-5烷基矽基)C1-10烷等。此等中較佳為1,2-雙(三甲氧基矽基)乙烷、1,3-雙(三甲氧基矽基)丙烷、1,4-雙(三甲氧基矽基)丁烷、1,5-雙(三甲氧基矽基)戊烷、1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷等雙(三C1-3烷氧基矽基)C1-10烷，特佳為1,6-雙(三甲氧基矽基)己烷、1,8-雙(三甲氧基矽基)辛烷。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，矽烷化合物(D)的含量通常為0.01至10質量份，較佳為0.03至5質量份，更佳為0.05至2質量份，又更佳為0.1至1質量份。若為上述上限值以下，則有利於抑制矽烷化合物(A)從黏著劑層滲出，若為上述下限值以上，則容易提高黏著劑層與金屬層或玻璃基板等的密著性(或接著性)，有利於提高耐剝離性等。
黏著劑組成物可更含有抗靜電劑。
抗靜電劑可舉出界面活性劑、矽氧烷化合物、導電性高分子、離子性化合物等，較佳為離子性化合物。離子性化合物可舉出慣用者。構成離子性化合物之陽離子成分可舉出有機陽離子、無機陽離子等。有機陽離子可舉例如吡啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、銨陽離子、鋶陽離子、鏻陽離子等。無機陽離子可舉例如鋰陽離子、鉀陽離子、鈉陽離子、銫陽離子等鹼金屬陽離子、鎂陽離子、鈣陽離子等鹼土金屬陽離子等。尤其從與(甲基)丙烯酸系樹脂的相溶性之觀點來看，較佳為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、鋰陽離子、鉀陽離子。構成離子性化合物之陰離子成分可為無機陰離子及有機陰離子之任一者，但從防靜電性能之觀點來看，較佳為含有氟原子之陰離子成分。含有氟原子之陰離子成分可舉例如六氟磷酸根陰離子(PF6-)、雙(三氟甲磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸根陰離子[(C6F5)4B-]等。該等離子性化合物可單獨使用或組合二種以上使用。特佳為雙(三氟甲磺醯基)亞胺陰離子[(CF3SO2)2N-]、雙(氟磺醯基)亞胺陰離子[(FSO2)2N-]、四(五氟苯基)硼酸根陰離子[(C6F5)4B-]。
就由黏著劑組成物所形成之黏著劑層之防靜電性能的經時穩定性之觀點來看，較佳為在室溫為固體之離子性化合物。
相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(A)100質量份，抗靜電劑的含量例如為0.01至20質量份，較佳為0.1至10質量份，更佳為1至7質量份。
黏著劑組成物可含有一種或二種以上之溶劑、交聯觸媒、增黏劑、塑化劑、軟化劑、顏料、防鏽劑、無機填料、光散射性微粒子等添加劑。
[相位差層]
本發明之光學積層體可進一步具有積層於光選擇吸收性黏著劑層之與偏光片相反之側之相位差層。相位差層可為1層或2層以上。圖2所示之光學積層體200具有第一相位差層30及第二相位差層31。
相位差層為顯示光學異向性之光學膜。顯示光學異向性之光學膜可舉例如藉由將由聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯、乙酸纖維素、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等所構成之高分子膜延伸成1.01至6倍左右而得之延伸膜等。延伸膜中較佳為將乙酸纖維素、聚酯、聚碳酸酯膜或環烯烴系樹脂膜經單軸延伸或雙軸延伸之高分子膜。又，相位差層可為由聚合性液晶化合物的硬化物所構成之相位差層，且係藉由將聚合性液晶化合物塗布於基材並配向而展現光學異向性。
又，本說明書中，相位差層包括零延遲之相位差層，也包括被稱為單軸性相位差膜、低光彈性模數相位差膜、廣視角相位差膜等的膜。
零延遲之相位差層是指正面延遲Re與厚度方向之延遲Rth皆為-15至15nm，而為光學上等向性膜。零延遲膜可舉出由纖維素系樹脂、聚烯烴系樹脂(鏈狀聚烯烴系樹脂、聚環烯烴系樹脂等)或聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂所構成之樹脂膜，從容易控制延遲值且容易取得之觀點來看，較佳為纖維素系樹脂或聚烯烴系樹脂。零延遲膜亦可作為保護膜使用。零延遲膜可舉出FUJIFILM股份有限公司所販售之「Z-TAC」(商品名)、KONICA MINOLTA OPTO股份有限公司所販售之「ZeroTAC(註冊商標)」、日本ZEON股份有限公司所販售之「ZF-14」(商品名)等。
本發明之光學積層體中，相位差層較佳為屬於聚合性液晶化合物的硬化物之相位差層。
屬於聚合性液晶化合物的硬化物之相位差層可舉出第一形態至第五形態。
第一形態：棒狀液晶化合物相對於支持基材在水平方向配向之相位差層。
第二形態：棒狀液晶化合物相對於支持基材在垂直方向配向之相位差層。
第三形態：棒狀液晶化合物在面內螺旋狀地改變配向方向之相位差層。
第四形態：圓盤狀液晶化合物傾斜配向之相位差層。
第五形態：圓盤狀液晶化合物相對於支持基材在垂直方向配向之雙軸性相位差層。
例如有機電致發光顯示器所使用之光學膜適合使用第一形態、第二形態、第五形態。或者，可積層該等形態之相位差層來使用。
相位差層為由聚合性液晶化合物之在配向狀態中的聚合物所構成之層(以下，有時稱為「光學異向性層」)時，相位差層較佳為具有逆波長色散性。逆波長色散性是指在短波長的液晶配向面內相位差值小於在長波長的液晶配向面內相位差值之光學特性，較佳為相位差膜滿足下式(7)及式(8)。又，Re(λ)表示對於波長λnm的光之面內相位差值。
Re(450)/Re(550)≦1 (7)
1≦Re(630)/Re(550) (8)
本發明之光學積層體中，相位差層為第一形態且具有逆波長色散性時，由於會降低在顯示裝置之黑顯示時的著色，故較佳，前述式(7)中更佳為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93。又更佳為120≦Re(550)≦150。
形成相位差層時所使用之聚合性液晶化合物可舉出：液晶便覽(液晶便覽編輯委員會編，丸善股份有限公司，平成12年10月30日發行)之「3.8.6網絡(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」所記載之化合物中具有聚合性基之化合物；以及日本特開2010-31223號公報、日本特開2010-270108號公報、日本特開2011-6360號公報、日本特開2011-207765號公報、日本特開2011-162678號公報、日本特開2016-81035號公報、國際公開第2017/043438號、及日本特表2011-207765號公報所記載之聚合性液晶化合物等。
由聚合性液晶化合物之在配向狀態中的聚合物來製造相位差層之方法可舉例如日本特開2010-31223號公報所記載方法等。
屬於使聚合性液晶化合物硬化所成之液晶硬化層之相位差層之厚度例如為0.1μm以上10μm以下，較佳為0.5μm以上8μm以下，更佳為1μm以上6μm以下。
藉由塗布、配向液晶性化合物而展現光學異向性之相位差層、或藉由塗布無機層狀化合物而展現光學異向性之相位差層可舉出被稱為溫度補償型相位差膜的膜、JX日礦日石能源股份有限公司所販售之「NH FILM」(商品名；棒狀液晶傾斜配向的膜)、FUJIFILM股份有限公司所販售之「WV FILM」(商品名；圓盤狀液晶傾斜配向的膜)、住友化學股份有限公司所販售之「VAC FILM」(商品名；完全雙軸配向型膜)、住友化學股份有限公司所販售之「new VAC FILM」(商品名；雙軸配向型膜)等。
相位差層可為會對穿透光賦予1/4波長分之相位差之λ/4相位差層、會對穿透光賦予1/2波長分之相位差之λ/2相位差層、正A板、及正C板。如圖2所示之光學積層體200般，含有第一相位差層30及第二相位差層31時，第一相位差層30與第二相位差層31之組合可舉出λ/2相位差層與λ/4相位差層之組合、λ/4相位差層與正C層之組合等。
本發明之光學積層體可構成為具有λ/4相位差層之圓偏光板。圓偏光板可作為抗反射用偏光板使用。
[貼合層]
本發明之光學積層體可含有用以接合2個層之貼合層。貼合層可舉出接著劑層、黏著劑層(以下，亦稱為「第二黏著劑層」)等。圖2所示之光學積層體200係具有中介於第一相位差層30與第二相位差層31之間並接合
此等之接著劑層33、及積層於第二相位差層31之與接著劑層33相反之側的表面之第二黏著劑層32。
接著劑層可使用水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑、或熱硬化性接著劑等。接著劑層之厚度例如為10nm以上20μm以下，較佳為100nm以上10μm以下，更佳為500nm以上5μm以下。
第二黏著劑層可由與形成上述光選擇吸收性黏著劑層之黏著劑組成物相同之黏著劑組成物所構成，也可由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺甲酸乙酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系之類之樹脂作為主成分之黏著劑組成物(以下，亦稱為「第二黏著劑組成物」)所構成。第二黏著劑組成物適合為以透明性、耐候性、耐熱性等優異之(甲基)丙烯酸系樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物。第二黏著劑組成物可為活性能量線硬化型、熱硬化型。第二黏著劑層之厚度例如為0.1至150μm，通常為8至60μm，從薄型化觀點來看為30μm以下，較佳為20μm以下。
<光學積層體之製造方法>
光學積層體100、200可藉由包括經由貼合層將構成積層體100、200的層彼此貼合之步驟的方法而製造。經由貼合層將層彼此貼合時，為了提高密著性，較佳為對於貼合面之一面或兩面施行例如電暈處理等表面活化處理。
<光學積層體>
本發明之光學積層體為平面狀，其面積例如為30mm×30mm至180mm×90mm。本發明之光學積層體可為長方形、正方形等矩形，也可為構成矩形的邊之一部分具有經切割而成的切口部之形狀、或半圓形狀、面
內具有貫通孔之形狀等所謂的異形形狀。在光學積層體的外形具有直線的邊時，構成光學積層體之偏光片之吸收軸可與該邊平行或正交，也可傾斜，例如以45°角度交叉。光學積層體具有相位差層且該相位差層於面內具有慢軸時，該慢軸與構成光學積層體之偏光片之吸收軸可以45°相交，也可以15°相交，也可以75°相交。
<影像顯示裝置>
光學積層體100、200係配置於影像顯示面板的前表面(視覺辨識側)並可作為影像顯示裝置之構成要件來使用。屬於圓偏光板之光學積層體亦可作為影像顯示裝置中賦予抗反射功能之抗反射用偏光板來使用。影像顯示裝置無特別限定，可舉例如有機電致發光(有機EL)顯示裝置、無機電致發光(無機EL)顯示裝置、液晶顯示裝置、電場發光顯示裝置等影像顯示裝置。
(實施例)
以下雖舉出實施例來更詳細說明本發明，但本發明並不限定於此等。實施例及比較例中之「%」及「份」在未有特別說明下為「質量%」及「質量份」。
[單面保護偏光板之製作]
(偏光片之製作)
將厚度20μm、聚合度2400、皂化度99%以上之聚乙烯醇膜在熱輥上單軸延伸為延伸倍率4.1倍，在保持緊繃狀態下於每100重量份水含有碘0.05重量份及碘化鉀5重量份之染色浴中於28℃浸漬60秒。
接著，於每100重量份水含有硼酸5.5重量份及碘化鉀15重量份之硼酸水溶液1中於64℃浸漬110秒。接著，於每100重量份水含
有硼酸5.5重量份及碘化鉀15重量份之硼酸水溶液2中於67℃浸漬30秒。其後，使用10℃純水來水洗並乾燥，而獲得偏光片。所得偏光片之厚度為8μm，硼含量為4.3重量%。
(水系接著劑之調製)
相對於水100重量份溶解羧基改質聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司，商品名「KL-318」)3質量份，於此水溶液添加屬於水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑(田岡化學工業股份有限公司，商品名「Sumirez Resin(註冊商標)650(30)，固體成分濃度30重量%之水溶液)1.5質量份，而調製水系接著劑。
(保護膜A、保護膜B及剝離膜B)
保護膜A使用已於厚度25μm之降莰烯系樹脂所構成之延伸膜形成有厚度3μm之硬塗層的膜(日本製紙股份有限公司製，商品名「COP25ST-HC」)。
保護膜B使用厚度20μm之三乙酸纖維素膜〔FUJIFILM股份有限公司製，商品名「ZRG20SL」〕。
剝離膜B使用三乙酸纖維素膜(FUJIFILM股份有限公司製，「TD80UL」)。剝離膜之厚度為80μm，透濕度為502g/m2‧24hr。
(單面保護偏光板之製作)
連續地輸送所製作的偏光片的同時從保護膜A之卷連續地拉出保護膜A，並且，由剝離膜B之卷連續地拉出剝離膜B。在偏光片與經電暈處理的保護膜A之間注入水系接著劑的同時，並於偏光片與剝離膜B之間注入純水，通過貼合輥，而得到由保護膜A/水系接著劑/偏光片/純水/剝離膜B
所構成之積層膜。輸送積層膜並在乾燥爐進行80℃、300秒之加熱處理，藉此使水系接著劑乾燥的同時揮發去除存在於偏光片與剝離膜B之間的純水，而得到附剝離膜之單面保護偏光板。由附剝離膜之單面保護偏光板剝離剝離膜B，而得到單面保護偏光板。
[兩面保護偏光板之製作]
在上述單面保護偏光板之製作中，使用保護膜B來代替剝離膜B，而得到由保護膜A/水系接著劑/偏光片/水系接著劑/保護膜B所構成之積層膜，除此之外以相同方式獲得兩面保護偏光板。
[相位差積層體之製作]
(第一液晶硬化層)
第一液晶硬化層(第一相位差層)使用由向列型液晶化合物經硬化而成的層、配向膜、及透明基材所構成且會賦予λ/4之相位差的層。又，向列型液晶化合物經硬化而成的層及配向層之合計厚度為2μm。
(第二液晶硬化層之製作)
將聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製，A-600)10.0質量份、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製，A-TMPT)10.0質量份、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製，A-HD-N)10.0質量份、作為光聚合起始劑之IRGACURE 907(BASF公司製，Irg-907)1.50質量份溶解於溶劑之甲基乙基酮70.0質量份中作為配向層形成用組成物，而調製配向層形成用塗布液。
準備厚度20μm之長條狀的環狀烯烴系樹脂(COP)膜(日本ZEON股份有限公司製)作為基材膜，於基材膜單面以棒塗布器塗布配向層形成用塗布液。
對於塗布後之塗布層以溫度80℃施行60秒的熱處理後，照射紫外線(UVB)220mJ/cm2，使配向層形成用組成物聚合並硬化，而於基材膜上形成厚度2.3μm之配向層。
將光聚合性向列型液晶化合物(默克(Merck)公司製，RMM28B)20.0質量份、作為光聚合起始劑之IRGACURE 907(BASF公司製，Irg-907)1.0質量份溶解於溶劑之丙二醇單甲基醚乙酸酯80.0質量份中作為相位差層形成用組成物，而調製相位差層形成用塗布液。
於先前所得的配向層上塗布相位差層形成用塗布液，對於塗布層以溫度80℃施行60秒的熱處理。其後照射紫外線(UVB)220mJ/cm2，使相位差層形成用組成物聚合並硬化，而於配向層上形成厚度0.7μm之相位差層。如此而於基材膜上獲得由配向層與相位差層所構成之厚度3μm之第二液晶硬化層(第二相位差層)。
(相位差積層體之製作)
將第一液晶層與第二液晶層藉由紫外線硬化型接著劑(厚度1μm)以使個別之液晶層面(與基材膜相反側之面)成為貼合面之方式貼合。接著，照射紫外線使紫外線硬化型接著劑硬化，而製作具有第一液晶硬化層及第二液晶硬化層之2層相位差層之相位差積層體。具有第一液晶硬化層、紫外線硬化型接著劑層、及第二液晶硬化層之相位差積層體之厚度為6μm。
[光選擇吸收性黏著劑層之製作]
(丙烯酸系樹脂(A-1)之調製)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中加入作為溶劑之乙酸乙酯86.4份、丙烯酸丁酯61.9份、丙烯酸2-羥基乙酯1.9份之混合溶液，一邊以氮氣取代裝置內之空氣而成為不含氧狀態一邊使內溫提高至60℃。其後添加將偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.4份溶解於乙酸乙酯10份中而成之溶液總量。將所得混合物於60℃保持1小時，接著，一邊將內溫保持於50至70℃一邊將乙酸乙酯以添加速度17.3份/hr連續地添加於反應容器內，在丙烯酸樹脂濃度成為35%之時間點停止添加乙酸乙酯，進一步在從開始添加乙酸乙酯起直到經過12小時為止保溫於該溫度。最後加入乙酸乙酯以使丙烯酸樹脂濃度成為20%之方式調節，而調製丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得丙烯酸樹脂之由GPC所得之聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw為60萬，Mw/Mn為7.0。將其作為丙烯酸系樹脂(A-1)。由DSC所得之玻璃轉移溫度為-52.9℃。
(黏著劑層(1)之製作)
於丙烯酸系樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中，相對於該溶液之固體成分100份，混合交聯劑(CORONATE L，固體成分75%：TOSOH製)0.5份、矽烷化合物(信越化學工業製：KBM-403)0.5份、及日本特開2019-007001號公報之段落[0142]所記載之合成例2中作為光選擇吸收化合物(2)而記載之下式(aa2)所示之化合物(光選擇吸收劑)5.4份，進一步以使固體成分濃度成為14%之方式添加2-丁酮，而得到黏著劑組成物(1)。又，上述交聯劑(CORONATE L)之摻配量為以有效成分而言之質量份數。
於施行過脫模處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(LINTEC公司製，SP-PLR382050，以下簡稱為「分隔片」)之脫模處理面使用塗敷器將上述所調製之黏著劑組成物(1)以使乾燥後黏著劑層厚度成為17μm之方式塗布，以100℃乾燥1分鐘，而製作黏著劑層。將所得之黏著劑層作為黏著劑層(1)。表1表示黏著劑層(1)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
(黏著劑層(2)之製作)
將光選擇吸收劑摻配量設為2.5份，並以使乾燥後黏著劑層厚度成為5μm之方式進行，除此之外以與黏著劑層(1)相同方法而製作黏著劑層(2)。表1表示黏著劑層(2)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
(黏著劑層(3)之製作)
將光選擇吸收劑摻配量設為3.7份，並以使乾燥後黏著劑層厚度成為5μm之方式進行，除此之外以與黏著劑層(1)相同方法而製作黏著劑層(3)。表1表示黏著劑層(3)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
(黏著劑層(4)之製作)
將光選擇吸收劑摻配量設為2.5份，並以使乾燥後黏著劑層厚度成為17μm之方式進行，除此之外以與黏著劑層(1)相同方法而製作黏著劑層(4)。
表1表示黏著劑層(4)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
(黏著劑層(5)之製作)
將光選擇吸收劑摻配量設為3.7份，並以使乾燥後黏著劑層厚度成為17μm之方式進行，除此之外以與黏著劑層(1)相同方法而製作黏著劑層(5)。
表1表示黏著劑層(5)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
(黏著劑層(6)之製作)
將光選擇吸收劑摻配量設為5.4份，並以使乾燥後黏著劑層厚度成為17μm之方式進行，除此之外以與黏著劑層(1)相同方法而製作黏著劑層(6)。
表1表示黏著劑層(6)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
(黏著劑層(7)之製作)
將光選擇吸收劑摻配量設為2.9份，並以使乾燥後黏著劑層厚度成為17μm之方式進行，除此之外以與黏著劑層(1)相同方法而製作黏著劑層(7)。
表1表示黏著劑層(7)之每單位面積之光選擇吸收劑的含量。
[第二黏著劑層之製作]
於上述丙烯酸樹脂(A-1)之乙酸乙酯溶液(樹脂濃度：20%)中混合交聯劑(CORONATE L，固體成分75%：TOSOH製)0.5份、及矽烷化合物(信越化學工業製：KBM-403)0.5份，進一步以使固體成分濃度成為14%之方式添加2-丁酮，而得到黏著劑組成物。又，上述交聯劑(CORONATE L)之摻配量為以有效成分而言之質量份數。
於光選擇吸收性黏著劑層之製作中所使用之分隔片之脫模處理面使用塗敷器將黏著劑組成物以使乾燥後黏著劑層厚度成為15μm或25μm之方式塗布，以100℃乾燥1分鐘，而製作第二黏著劑層。
[光學積層體之製作]
(參考例1)
於所製作之兩面保護偏光板之保護膜B側貼合黏著劑層(1)，剝離分隔片。將黏著劑層(1)之剝離了分隔片的面與所製作之相位差積層體之第一液晶硬化層側貼合，剝離第二液晶硬化層之基材膜。於剝離了基材膜的面貼合具有表1所記載的厚度之附分隔片之第二黏著劑層。
(實施例1)
於所製作之單面保護偏光板之偏光片側貼合黏著劑層(2)，剝離分隔片。將黏著劑層(2)之剝離了分隔片的面與所製作之相位差積層體之第一液晶硬化層側貼合，剝離第二液晶硬化層之基材膜。於剝離了基材膜的面貼合具有表1所記載的厚度之附分隔片之第二黏著劑層。實施例1之光學積層體具有如圖2所示之構成。
(實施例2、3及比較例1、2)
藉由與實施例1之光學積層體相同之方法，使用表1所示之黏著劑層來代替實施例1之黏著劑層(2)，且使用具有表1所記載的厚度之附分隔片之第二黏著劑層，而分別製作實施例2、3及比較例1、2之光學積層體。實施例2、3及比較例1、2之光學積層體具有如圖2所示之構成。
(實施例4)
於所製作之單面保護偏光板之偏光片側貼合黏著劑層(4)，剝離分隔片，而得到實施例4之光學積層體。實施例4之光學積層體具有如圖1所示之構成。
(實施例5及比較例3)
藉由與實施例4之光學積層體相同之方法，使用表1所示之黏著劑層來代替實施例4之黏著劑層(4)，且使用具有表1所記載的厚度之附分隔片
之第二黏著劑層，而分別製作實施例5及比較例3之光學積層體。實施例5及比較例3之光學積層體具有如圖1所示之構成。
[黏著劑層之吸光度測定]
將黏著劑層(1)至黏著劑層(7)分別貼合於玻璃，剝離分隔片後，於黏著劑層貼合環烯烴聚合物(COP)膜(日本ZEON股份有限公司製，ZF-14)，而製作黏著劑層評估用積層體。將黏著劑層評估用積層體設於分光光度計UV-2450(島津製作所股份有限公司製)，藉由雙光束法以1nm階級於300至800nm之波長範圍測定吸光度。將所製作之黏著劑層之在波長410nm的吸光度示於表1。又，在波長410nm的玻璃的吸光度及COP膜的吸光度皆為0。
[重量平均分子量(Mw)之測定]
關於丙烯酸樹脂(A-1)之重量平均分子量(Mw)，係作為聚苯乙烯換算的數量平均分子量(Mn)，移動相使用四氫呋喃，並藉由下述粒徑篩析層析法(SEC)而求出。將欲測定之(甲基)丙烯酸系聚合物以約0.05質量%之濃度溶解於四氫呋喃，並於SEC注入10μL。
移動相係以1.0mL/分鐘之流量流動。管柱使用PLgel MIXED-B(Polymer Laboratories製)。檢測器使用UV-VIS檢測器(商品名：Agilent GPC)。
[硼含量之測定]
將偏光片0.2g溶解於1.9wt%甘露醇水溶液200g。將所得之水溶液以1mol/L NaOH水溶液滴定，比較中和所需NaOH液量與檢量線，藉此計算出偏光片之硼含量。
[耐濕熱試驗及掉色之觀察]
剝離參考例1、實施例1至5、及比較例1至3所得之光學積層體之分隔片並貼合於無鹼玻璃板後，於溫度65℃、濕度90%RH之環境下放置500小時。其後，在與試驗之光學積層體相反的無鹼玻璃面貼合會成為正交偏光鏡關係之偏光板，以光學顯微鏡觀察並保存觀察影像。光學顯微鏡使用keyence股份有限公司製之「VHX-500」。圖3表示光學顯微鏡的觀察影像之一例。圖3中，若從光學積層體之端部50往內側方向沿箭頭所示之直線(由端部50於垂直方向延伸存在之直線)觀察，則可知有掉色區域51及未產生掉色區域(非掉色區域)52。
[藉由影像處理測定掉色量]
將顯微鏡的觀察影像使用影像分析軟體「ImageJ(免費軟體)」轉換為黑白256階(0至255)。轉換為黑白256階(0至255)之方法係使用取RGB值之平均之方法。圖4表示轉換後數據之一例。相對於光學積層體之端部50，以垂直方向(圖3中箭頭)之階度側面圖(profile)中的掉色區域51與非掉色區域52之中間點(掉色層次的中間)作為光學積層體之掉色端部(圖4)，測定從光學積層體之端部50到掉色端部之距離(μm)來作為掉色距離。將光學積層體之掉色距離示於表1。掉色距離越小則掉色範圍越狹窄，而耐濕熱性優異。
[表1]
10:偏光片
11:保護膜
20:光選擇吸收性黏著劑層
100:光學積層體
Claims (10)
- 一種光學積層體，係具有偏光片、及與前述偏光片相接而積層之光選擇吸收性黏著劑層，其中，前述偏光片係吸附配向有碘，且硼含量為5.0質量%以下，前述光選擇吸收性黏著劑層為由含有光選擇吸收劑之黏著劑組成物所形成，且在波長410nm的吸光度為0.1以上1.6以下。
- 如請求項1所述之光學積層體，其更具有保護膜，前述保護膜係積層於前述偏光片之與前述光選擇吸收性黏著劑層側相反之側。
- 如請求項1或2所述之光學積層體，其中，前述光選擇吸收性黏著劑層之每單位面積之前述光選擇吸收劑的含量為0.01g/m2以上5g/m2以下。
- 如請求項1至3中任一項所述之光學積層體，其中，前述黏著劑組成物中，相對於全樹脂成分100質量份含有前述光選擇吸收劑0.1質量份以上10質量份以下。
- 如請求項1至4中任一項所述之光學積層體，其中，前述光選擇吸收性黏著劑層之厚度為0.1μm以上150μm以下。
- 如請求項1至5中任一項所述之光學積層體，其中，前述光選擇吸收劑為分子量為100以上3000以下之有機系光選擇吸收劑。
- 如請求項1至6中任一項所述之光學積層體，其更具有λ/4相位差層，前述λ/4相位差層係積層於前述光選擇吸收性黏著劑層之與前述偏光片相反之側。
- 如請求項1至7中任一項所述之光學積層體，其為抗反射用偏光板。
- 一種影像顯示裝置，係包含影像顯示面板、及配置於前述影像顯示面板的前表面之請求項8所述之光學積層體。
- 如請求項9所述之影像顯示裝置，其中，前述影像顯示面板為有機EL顯示面板。
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