KR20220116503A - 광학 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 고온고습 하에서 편광자의 단부에 있어서 색빠짐이 억제된 신규의 광학 적층체를 제공한다.
[해결수단] 편광자와, 상기 편광자에 접하여 적층된 광선택 흡수성 점착제층을 갖는 광학 적층체로서, 상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되며, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이고, 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 포함하는 점착제 조성물로 형성되고, 파장 410 nm에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 1.6 이하인 광학 적층체.

Description

광학 적층체 및 화상 표시 장치
본 발명은 광학 적층체 및 표시 장치에 관한 것이다.
편광자의 편면 또는 양면에 보호 필름을 적층 접합하여 이루어지는 편광판은, 모바일·텔레비전을 비롯한 액정 표시 장치나 유기 일렉트로루미네센스(유기 EL) 표시 장치 등의 화상 표시 장치, 특히 최근에는 휴대전화나 스마트폰, 태블릿형 단말과 같은 각종 모바일 기기에 널리 이용되고 있는 광학 부재이다.
편광판은 점착제층을 통해 화상 표시 소자(액정 셀이나 유기 EL 표시 소자등)에 맞붙여 이용되는 경우가 많다(예컨대 일본 특허공개 2010-229321호 공보(특허문헌 1)). 이 때문에, 편광판은 그 한쪽의 면에 미리 점착제층이 마련된 점착제층 구비 편광판의 형태로 시장에 유통되는 경우가 있다.
또한, 모바일 기기는 고온고습의 가혹한 환경 하에서 사용되는 경우도 많아, 편광자에는 높은 내구성이 요구되고 있다. 일본 특허공개 2013-105036호 공보(특허문헌 2)에는, 편광자 내의 붕산 함유량을 높여, 붕산 가교를 많이 생성시킴으로써, I3 착체가 고배향으로 높은 안정성으로 존재하게 되고, 블루 리크의 발생이 억제되어 저온고습 내구성이 우수한 편광자를 얻을 수 있다는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본 특허공개 2010-229321호 공보 특허문헌 2: 일본 특허공개 2013-105036호 공보
편광판에 있어서, 고온고습 환경 하에서는 편광자의 단부에 있어서 색빠짐이 생기기 쉽다고 하는 문제가 있었다. 이러한 문제는 편광자의 한 면만에 보호 필름이 적층 접합되어 이루어지는 구성에서 현저했다. 편광자 내의 붕소 함유량을 높임으로써 편광자의 색빠짐을 억제하는 방법이 알려져 있지만, 이러한 방법에 의하면, 가열에 의해서 수축되기 쉽다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은, 고온고습 하에서 편광자의 단부에 있어서 색빠짐이 억제된 신규의 광학 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 이하에 예시하는 광학 적층체 및 그것을 이용한 화상 표시 장치를 제공한다.
[1] 편광자와, 상기 편광자에 접하여 적층된 광선택 흡수성 점착제층을 갖는 광학 적층체로서,
상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되며, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이고,
상기 광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 포함하는 점착제 조성물로 형성되며, 파장 410 nm에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 1.6 이하인 광학 적층체.
[2] 상기 편광자의 상기 광선택 흡수성 점착제층 측과는 반대측에 적층된 보호 필름을 더 갖는 [1]에 기재한 광학 적층체.
[3] 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 단위면적당 상기 광선택 흡수제의 함유량이 0.01 g/㎡ 이상 5 g/㎡ 이하인 [1] 또는 [2]에 기재한 광학 적층체.
[4] 상기 점착제 조성물은, 전체 수지 성분 100 질량부에 대하여 상기 광선택 흡수제를 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하 포함하는 [1]∼[3]의 어느 한 항에 기재한 광학 적층체.
[5] 상기 광선택 흡수성 점착제층은, 두께가 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하인 [1]∼[4]의 어느 한 항에 기재한 광학 적층체.
[6] 상기 광선택 흡수제는, 분자량이 100 이상 3000 이하인 유기계 광선택 흡수제인 [1]∼[5]의 어느 한 항에 기재한 광학 적층체.
[7] 상기 광선택 흡수성 점착제층의 상기 편광자와는 반대측에 적층된 λ/4 위상차층을 더 갖는 [1]∼[6]의 어느 한 항에 기재한 광학 적층체.
[8] 반사 방지용 편광인 [1]∼[7]의 어느 한 항에 기재한 광학 적층체.
[9] 화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널의 앞면에 배치된 [8]에 기재한 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치.
[10] 상기 화상 표시 패널은 유기 EL 표시 패널인 [9]에 기재한 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 고온고습 환경 하에서는 편광자의 단부에 있어서 색빠짐이 억제된 광학 적층체 및 이것을 포함하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 다른 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 광학현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시하는 도면이다.
도 4는 관찰 화상을 흑백 256 계조로 변환한 데이터의 일례를 도시하는 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 모든 도면에서는 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해서 축척을 적절하게 조정하여 도시하고 있고, 도면에 도시되는 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척이 반드시 일치하지는 않는다.
<광학 적층체>
본 발명의 광학 적층체는, 편광자와, 상기 편광자에 접하여 적층된 광선택 흡수성 점착제층을 갖는다. 본 발명의 광학 적층체의 층 구성의 일례를 도 1, 도 2에 도시한다.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 1에 도시하는 광학 적층체(100)는 보호 필름(11)과 편광자(10)와 광선택 흡수성 점착제층(20)을 이 순서로 갖는다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도이다. 도 2에 도시하는 광학 적층체(200)는, 도 1에 도시하는 광학 적층체(100)와, 광학 적층체(100)의 광선택 흡수성 점착제층(20) 측에 적층된 위상차 적층체(300)를 갖는다. 위상차 적층체(300)는, 광학 적층체(100)의 광선택 흡수성 점착제층(20) 측에서부터 순서대로 제1 위상차층(30)과 접착제층(33)과 제2 위상차층(31)과 제2 점착제층(32)을 갖는다.
광학 적층체(100, 200)의 두께는, 광학 적층체에 요구되는 기능 및 광학 적층체의 용도 등에 따라서 다르기 때문에 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 5 ㎛ 이상 200 ㎛ 이하이며, 10 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하라도 좋고, 120 ㎛ 이하라도 좋다.
광선택 흡수성 점착제층은 광선택 흡수제를 포함한다. 본 발명의 광학 적층체는, 적어도 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수 성능을 가짐으로써, 광학 적층체 전체적으로도 광선택 흡수 성능을 갖는다. 따라서, 본 발명의 광학 적층체는, 화상 표시 소자 상에 이용된 경우에는, 화상 표시 소자를 자외선으로부터 보호하는 기능을 갖는다.
본 발명의 광학 적층체는, 광선택 흡수성 점착제층 이외에도, 광선택 흡수 성능을 갖는 층을 포함하는 구성이라도 좋다. 다른 층으로서는 예컨대 보호 필름(11)을 들 수 있다. 본 발명에서는, 광선택 흡수성 점착제층이 광선택 흡수 성능을 가져, 광학 적층체 전체의 광선택 흡수 성능의 발현에 기여하는 구성임으로써, 다른 층에 있어서의 광선택 흡수 성능의 설계 자유도를 향상시킬 수 있다. 예컨대 보호 필름(11)은, 광선택 흡수 성능을 향상시키기 위해서는 그 두께를 두껍게 하는 설계가 필요하게 되는 경우가 있지만, 광선택 흡수 성능의 설계 자유도가 높음으로써 보호 필름(11)의 박막화가 용이하게 된다.
본 발명자들은, 점착제층에 포함되는 광선택 흡수제의 함유량과, 고온고습 하에서의 편광자 단부에 있어서의 색빠짐 정도의 사이에 상관이 있다는 지견을 얻었다. 이러한 지견에 입각하면, 고온고습 하에서는 점착제층 내의 광선택 흡수제가 편광자측으로 이행하기 쉬우며, 이러한 이행이 색빠짐을 생기게 하는 요인의 하나라고 생각된다. 본 발명자들은, 더욱 예의 검토를 거듭하여, 점착제층이 광선택 흡수제를 포함하는 경우라도, 점착제층의 흡광도를 조정함으로써, 고온고습 하에서의 편광자 단부에 있어서의 색빠짐을 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명에 도달한 것이다.
[편광자]
편광자는, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선편광을 투과하는 성질을 갖는다. 본 발명의 광학 적층체에 있어서의 편광자(10)는, 요오드가 흡착 배향되며, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이다. 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하, 바람직하게는 4.5 질량% 이하인 구성에 의해, 가열에 의해 생기는 수축을 억제할 수 있다. 붕소의 함유량은 0.5 질량% 이상인 것이 바람직하고, 1 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다. 편광자(10)에 있어서, 붕소의 함유량이 적어질수록 고온고습 하에서의 편광자 단부에 있어서의 색빠짐이 생기기 쉽게 된다. 편광자(10) 내의 붕소는, 편광자(10)의 가교도를 향상시켜, 편광자(10) 내에 요오드를 안정적으로 유지하는 데 기여하고 있기 때문에, 붕소의 함유량이 적어지면 요오드를 안정적으로 유지할 수 없게 되어, 색빠짐을 일으키게 된다고 생각된다. 본 발명에서는, 편광자(10)에 관해서, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하라도 고온고습 하에서의 색빠짐을 억제할 수 있다.
편광자(10)는, 흡수 이방성을 갖는 2색성 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층, 중합성 액정 화합물의 경화물 및 2색성 색소를 포함하는 액정 경화층 등을 들 수 있다. 2색성 색소는, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 다른 성질을 갖는 색소를 말하며, 색소로서는 요오드가 적합하게 이용된다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름 또는 연신층인 편광자는, 통상 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 요오드 등의 2색성 색소로 염색함으로써 그 2색성 색소를 흡착시키는 공정, 2색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다.
편광자의 두께는 통상 30 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 15 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 13 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 8 ㎛ 이하이다. 편광자의 두께는 통상 2 ㎛ 이상이며, 3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 예컨대 5 ㎛ 이상이라도 좋다.
폴리비닐알코올계 수지는 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체가 이용된다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예컨대 불포화 카르복실산계 화합물, 올레핀계 화합물, 비닐에테르계 화합물, 불포화 술폰계 화합물, 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드계 화합물을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는 통상 85 몰% 이상 100 몰% 이하 정도이고, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋으며, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈 등도 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는 통상 1000 이상 10000 이하이고, 바람직하게는 1500 이상 5000 이하이다.
흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신층인 편광자는, 통상 상기 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 도포액을 기재 필름 상에 도포하는 공정, 얻어진 적층필름을 일축 연신하는 공정, 일축 연신된 적층 필름의 폴리비닐알코올계 수지층을 요오드 등의 2색성 색소로 염색함으로써 2색성 색소를 흡착시켜 편광자로 하는 공정, 2색성 색소가 흡착된 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 편광자를 형성하기 위해서 이용하는 기재 필름은 보호 필름(11)으로서 이용하여도 좋다. 필요에 따라서 기재필름을 편광자로부터 박리 제거하여도 좋다. 기재 필름의 재료 및 두께는 후술하는 보호 필름(11)의 재료 및 두께와 같아도 좋다.
[보호 필름]
보호 필름(11)은, 광학적으로 투명한 열가소성 수지, 예컨대 환상 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 등의 수지로 이루어지는 아세트산셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 수지로 이루어지는 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지; (메트)아크릴계 수지; 폴리프로필렌계 수지, 이들 중 1종 또는 2종 이상의 혼합물로 이루어지는 코팅층 또는 필름으로 할 수 있다. 보호 필름(11)은 후술하는 광선택 흡수제를 포함하고 있어도 좋다. 또한, 보호 필름(11)에 포함되는 광선택 흡수제는 보호 필름(11) 내에 유지되기 때문에 편광자로의 이행은 생기기 어렵다.
보호 필름(11) 상에 하드코트층이 형성되어 있어도 좋다. 하드코트층은 보호 필름(11)의 한쪽 면에 형성되어 있어도 좋고, 양면에 형성되어 있어도 좋다. 하드코트층을 설치함으로써 경도 및 스크래치성을 향상시킨 보호 필름(11)으로 할 수 있다. 하드코트층은, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등의 경화층이라도 좋다. 하드코트층은 강도를 향상시키기 위해서 첨가제를 포함하고 있어도 좋다. 첨가제는 한정되지 않으며, 무기계 미립자, 유기계 미립자 또는 이들의 혼합물을 들 수 있다. 하드코트층은 예컨대 자외선 경화형 수지의 경화층이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예컨대 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다.
보호 필름의 두께는 통상 1∼100 ㎛이지만, (강도나 취급성 등의 관점에서) 5∼80 ㎛인 것이 바람직하고, 8∼60 ㎛인 것이 보다 바람직하고, 12∼45 ㎛인 것이 더욱 바람직하다.
보호 필름(11)인 수지 필름은 예컨대 접착제층을 통해 편광자(10)에 맞붙여진다. 접착제층을 형성하는 접착제로서는, 수계 접착제, 활성에너지선 경화성 접착제 또는 열 경화성 접착제를 들 수 있고, 수계 접착제, 활성에너지선 경화성 접착제를 이용하는 것이 바람직하다. 접착제층을 통해 맞붙여지는 대향하는 2개의 표면은, 미리 코로나 처리, 플라즈마 처리, 화염 처리 등을 행하여도 좋고, 프라이머층 등을 갖고 있어도 좋다.
[광선택 흡수성 점착제층]
광선택 흡수성 점착제층(20)은, 점착제 조성물을, 유기 용제에 용해 또는 분산한 희석액을 기재 상에 도포하여, 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 기재로서 플라스틱 필름이 적합하며, 구체적으로는 이형 처리가 실시된 박리 필름을 들 수 있다. 박리 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 등의 수지로 이루어지는 필름의 한쪽 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 실시된 것을 들 수 있다.
광선택 흡수성 점착제층의 두께는 예컨대 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이다. 화상 표시 패널과 적층하는 경우에는 통상 8 ㎛ 이상 60 ㎛ 이하이며, 박형화의 점에서는 30 ㎛ 이하, 나아가서는 25 ㎛ 이하, 특히 20 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 다른 광학 필름, 예컨대 λ/4 위상차층과 적층하는 경우에는 통상 2 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 25 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 특히 바람직하게는 18 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 3 ㎛ 이상이며, 예컨대 10 ㎛ 이상이라도 좋지만, 한층 더 박형화한다는 점에서는 10 ㎛ 이하, 특히 7 ㎛ 이하가 바람직하다.
광선택 흡수성 점착제층은, 파장 410 nm에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 1.6 이하인 것이 바람직하고, 0.2 이상 1.5 이하인 것이 더욱 바람직하다. 광선택 흡수성 점착제층(20)이 이와 같은 흡광도를 가짐으로써, 광학 적층체 전체적으로 원하는 광선택 흡수 성능을 발현하면서 광학 적층체 전체를 박형으로 구성하기 쉽게 되기 때문이다.
광선택 흡수성 점착제층은,
파장 390 nm에 있어서의 흡광도가 통상 5.0 이하이며, 4.5 이하라도 좋고, 파장 400 nm에 있어서의 흡광도가 통상 5.0 이하이며, 4.5 이하라도 좋고, 파장 420 nm에 있어서의 흡광도가 통상 1.00 이하, 바람직하게는 0.60 이하, 더욱 바람직하게는 0.40 이하이며, 0.00 이상이고,
파장 430 nm에 있어서의 흡광도가 통상 0.20 미만, 바람직하게는 0.18 이하, 더욱 바람직하게는 0.10 이하, 특히 바람직하게는 0.05 이하이며, 0.00 이상이고,
파장 440 nm에 있어서의 흡광도가 통상 0.10 미만, 바람직하게는 0.05 이하이며, 0.00 이상이다.
각각의 파장에 있어서의 흡광도가 상기 범위에 있음으로써, 자외선 영역의 빛을 충분히 흡수하면서 가시광 영역의 빛은 그대로 투과할 수 있다.
광선택 흡수성 점착제층은, 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량이 0.01 g/㎡ 이상 5 g/㎡ 이하인 것이 바람직하다. 이러한 범위임으로써, 고온고습 하에서 발생하는 편광자의 색빠짐을 억제할 수 있다.
[점착제 조성물]
점착제 조성물은, 수지와 광선택 흡수제를 포함하며, 추가로 가교제를 포함하는 것이 바람직하다. 수지는, 예컨대 (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 수지이다. 이 중에서도 (메트)아크릴계 수지(A)를 주성분으로 하는 수지가 바람직하다.
(광선택 흡수제)
광선택 흡수제는, 특정 파장의 빛을 선택적으로 흡수하는 것으로, 파장 360 nm∼420 nm에 적어도 하나의 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 380 nm∼410 nm에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
파장 350 nm 근방에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 광선택 흡수제(이하, 광선택 흡수제(A)라고 하는 경우가 있음)로서는, 예컨대 옥시벤조페논계 광선택 흡수제, 벤조트리아졸계 광선택 흡수제, 살리실산에스테르계 광선택 흡수제, 벤조페논계 광선택 흡수제, 시아노아크릴레이트계 광선택 흡수제, 트리아진계 광선택 흡수제 등의 유기계 광선택 흡수제를 들 수 있다. 보다 구체적으로는 예컨대 5-클로로-2-(3,5-디-sec-부틸-2-히드록실페닐)-2H-벤조트리아졸, (2-2H-벤조트리아졸-2-일)-6-(직쇄 및 측쇄 도데실)-4-메틸페놀, 2-히드록시-4-벤질옥시벤조페논, 2,4-벤질옥시벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 유기계 광선택 흡수제는 1종류 또는 2종류 이상을 병용하여도 좋다. 유기계 광선택 흡수제의 분자량은 100 이상 3000 이하인 것이 바람직하다.
광선택 흡수제(A)는 시판 제품을 이용하여도 좋으며, 예컨대 트리아진계 광선택 흡수제로서, 케미프로가세이가부시키가이샤 제조의 「Kemisorb 102」, 가부시키가이샤ADEKA 제조의 「아데카스타브 LA46」, 「아데카스타브 LAF70」, BASF재팬사 제조의 「티누빈 109」, 「티누빈 171」, 「티누빈 234」, 「티누빈 326」, 「티누빈 327」, 「티누빈 328」, 「티누빈 928」, 「티누빈 400」, 「티누빈 460」, 「티누빈 405」, 「티누빈 477」 등을 들 수 있다. 벤조트리아졸계 광선택 흡수제로서는, 가부시키가이샤ADEKA 제조의 「아데카스타브 LA31」 및 「아데카스타브 LA36」, 스미카켐텍스가부시키가이샤 제조의 「스미소브 200」, 「스미소브 250」, 「스미소브 300」, 「스미소브 340」 및 「스미소브 350」, 케미프로가세이가부시키가이샤 제조의 「Kemisorb 74」, 「Kemisorb 79」 및 「Kemisorb 279」, BASF사 제조의 「TINUVIN 99-2」, 「TINUVIN 900」 및 「TINUVIN 928」등을 들 수 있다.
또한, 광선택 흡수제(A)는 무기계 광선택 흡수제라도 좋다. 무기계 광선택 흡수제로서는, 산화티탄, 산화아연, 산화인듐, 산화주석, 탈크, 카올린, 탄산칼슘, 산화티탄계 복합 산화물, 산화아연계 복합 산화물, ITO(주석 도핑 산화인듐), ATO(안티몬 도핑 산화주석) 등을 들 수 있다. 산화티탄계 복합 산화물로서는, 예컨대 실리카, 알루미나를 도핑한 산화티탄 등을 들 수 있다. 이들 무기계 광선택 흡수제는 1종류 또는 2종류 이상 병용하여 이용할 수 있다. 또한, 유기계 광선택 흡수제와 무기계 광선택 흡수제를 병용하여도 상관없다.
파장 405 nm 근방에 흡수 극대를 갖는 화합물을 포함하는 광선택 흡수제(이하, 광선택 흡수제(B)라고 하는 경우가 있음)로서는, 하기 식 (5)를 만족하는 화합물인 것이 바람직하고, 또한 하기 식 (6)을 만족하는 화합물인 것이 보다 바람직하다.
ε(405)≥20 (5)
〔식 (5) 중, ε(405)는 파장 405 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·cm)이다.〕
ε(405)/ε(440)≥20 (6)
[식 (6) 중, ε(405)는 파장 405 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 그램 흡광도 계수를 나타낸다.]
여기서, 그램 흡광도 계수는 실시예에 기재한 방법으로 측정한다.
ε(405)의 값이 큰 화합물일수록 파장 405 nm의 빛을 흡수하기 쉽고, 자외선 또 단파장의 가시광에 있어서의 광학 적층체 및 화상 표시 장치의 열화를 억제한다. ε(405)의 값이 20 L/(g·cm) 미만이면, 점착제 조성물 내에 있어서의 광선택 흡수제(B)의 함유량을 증대시키지 않으면, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 어려운 경향이 있다. ε(405)의 값은 20 L/(g·cm) 이상인 것이 바람직하고, 30 L/(g·cm) 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 L/(g·cm) 이상인 것이 보다 더 바람직하고, 통상 500 L/(g·cm) 이하이다.
ε(405)/ε(440)의 값이 큰 화합물일수록 화상 표시 장치의 색채 표현을 저해하지 않고서 405 nm 부근의 빛을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 빛 열화를 억제할 수 있다. ε(405)/ε(440)의 값은 20 이상이 바람직하며, 40 이상이 보다 바람직하고, 70 이상이 보다 더 바람직하고, 80 이상이 특히 더 바람직하다.
파장 405 nm의 빛을 선택적으로 흡수하는 화합물은 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물인 것이 바람직하다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물의 분자량은 100 이상 3000 이하인 것이 바람직하다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물로서는, -(N-C=C-C=C)-로 표시되는 부분 구조를 분자 내에 함유하고 있는 화합물이며, 예컨대 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물, 인돌계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물 및 벤조트리아졸계 화합물이며, 보다 바람직하게는 식 (I)로 표시되는 화합물이다.
Figure pct00001
[식 중, R1 및 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 7∼15의 아랄킬기, 탄소수 6∼15의 아릴기, 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH2-는 -NR1A-, -CO-, -SO2-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.
R1A는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼6의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 -CH2-는 -NR1B-, -CO-, -SO2-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.
R1B는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기 또는 전자 흡인성 기를 나타내거나, R6 및 R7이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다.
R1 및 R2는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R2 및 R3은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R2 및 R4는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R3 및 R6은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다.]
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 1-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, n-옥틸기, n-데실, 2-헥실-옥틸기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 이하의 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
군 A: 니트로기, 히드록시기, 카르복시기, 술포기, 시아노기, 아미노기, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬실릴기, 탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기, *-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1 및 Ra2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타내고, Ra3은 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, t1은 1∼3의 정수를 나타낸다.)으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.
탄소수 1∼12의 알킬실릴기로서는, 메틸실릴기, 에틸실릴, 프로필실릴기 등의 모노알킬실릴기; 디메틸실릴기, 디에틸실릴기, 메틸에틸실릴기 등의 디알킬실릴기; 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리프로필실릴기 등의 트리알킬실릴기를 들 수 있다.
탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기로서는 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기로서는 벤질기, 페닐에틸기 등을 들 수 있다. 아랄킬기에 포함되는 -CH2-가 -SO2- 또는 -COO-로 치환된 기로서는 2-페닐아세트산에틸기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기로서는 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 복소환기로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는 R1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등 탄소수 6∼15의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 복소환으로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 복소환가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는 R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는 R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 전자 흡인성 기로서는, 예컨대 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, 식 (I-1)로 표시되는 기를 들 수 있다.
Figure pct00002
[식 중, R11은 수소 원자 또는 탄소수 1∼25의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 메틸렌기의 적어도 하나는 산소 원자로 치환되어 있어도 좋다.
X1은 -CO-, -COO-, -OCO-, -CS-, -CSO-, -CSS-, -NR12CO- 또는 -CONR13-을 나타낸다.
R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.]
할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
할로겐 원자로 치환된 알킬기로서는, 예컨대 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로 치환된 알킬기의 탄소수는 통상 1∼25이다.
R6 및 R7은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있어도 좋으며, R6 및 R7로 형성되는 고리 구조로서는, 예컨대 멜드럼산(Meldrum's acid) 구조, 바르비투르산(barbituric acid) 구조, 디메돈 구조 등을 들 수 있다.
R11로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는 R1 및 R5로 표시되는 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R2 및 R3이 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R2와 결합한 질소 원자를 포함하는 함질소환 구조이며, 예컨대 4∼14원환의 함질소 복소환을 들 수 있다. R2 및 R3이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조는 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋다. 구체적으로는 피롤리딘환, 피롤린환, 이미다졸리딘환, 이미다졸린환, 옥사졸린환, 티아졸린환, 피페리딘환, 모르폴린환, 피페라진환, 인돌환, 이소인돌환 등을 들 수 있다.
R1 및 R2가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R1 및 R2가 결합한 질소 원자를 포함하는 함질소환 구조이며, 예컨대 4∼14원환(바람직하게는 4∼8원환)의 함질소 복소환을 들 수 있다. R1 및 R2가 서로 연결하여 형성되는 고리 구조는 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋다. 구체적으로는 R2 및 R3이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조와 같은 것을 들 수 있다.
R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, 4∼14원환의 함질소환 구조를 들 수 있고, 5원환∼9원환의 함질소환 구조가 바람직하다. R2 및 R4가 서로 결합하여 형성되는 고리 구조는 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋다. 이들 고리는 치환기를 갖고 있어도 좋고, 이러한 고리 구조로서는 상기 R2와 R3에 의해 형성되는 고리 구조로서 예시한 것과 같은 것을 들 수 있다.
R3 및 R6이 서로 연결하여 형성되는 고리 구조로서는 R3-C=C-C=C-R6이 고리의 골격을 형성하는 고리 구조이다. 예컨대 페닐기 등을 들 수 있다.
R2와 R3이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 식 (I)로 표시되는 화합물로서는 식 (I-A)로 표시되는 화합물을 들 수 있고, R2 및 R4가 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 식 (I)로 표시되는 화합물로서는 식 (I-B)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure pct00003
[식 (I-A), 식 (I-B) 중, R1, R3, R4, R5, R6 및 R7은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
고리 W1 및 고리 W2는 각각 독립적으로 함질소환을 나타낸다.]
고리 W1 및 고리 W2는 고리의 구성 단위로서 질소 원자를 함유하는 함질소환을 나타낸다. 고리 W1 및 고리 W2는 각각 독립적으로 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋으며, 질소 이외의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다. 고리 W1 및 고리 W2는 각각 독립적으로 5원환∼9원환의 고리인 것이 바람직하다.
식 (I-A)로 표시되는 화합물은 식 (I-A-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00004
[식 (I-A-1) 중, R1, R4, R5, R6 및 R7은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
A1은 -CH2-, -O-, -S- 또는 -NR1D-을 나타낸다.
R14 및 R15는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.
R1D는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.]
식 (I-B)로 표시되는 화합물은 식 (I-B-1)로 표시되는 화합물및 식 (I-B-2)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00005
[식 (I-B-1) 중, R1, R6 및 R7은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R16은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기를 나타낸다.]
Figure pct00006
[식 (I-B-2) 중, R3, R5, R6 및 R7은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R30은 수소 원자, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 2∼13의 아실기, 탄소수 2∼13의 아실옥시기 또는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기를 나타낸다.
R31은 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 머캅토기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기 또는 복소환기를 나타낸다.]
R30으로 표시되는 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실기로서는 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실옥시기로서는 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기로서는 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로서는 페닐기, 나프틸기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼18의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼18의 아랄킬기를 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는 R14로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜톡시기 등을 들 수 있다.
R30은 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 아미노기 또는 머캅토기인 것이 바람직하다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는 R14로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기로서는 R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기와 같은 것을 들 수 있다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬티오기로서는 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있다.
R31로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기로서는 아미노기; N-메틸아미노기, N-에틸아미노기 등의 하나의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-메틸에틸아미노기 등의 2개의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; 등을 들 수 있다.
R31로 표시되는 복소환으로서는 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기 등의 탄소수 4∼9의 함질소 복소환기 등을 들 수 있다.
R3 및 R6이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하며 또한 R2 및 R4가 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (I)로 표시되는 화합물로서는 식 (I-C)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure pct00007
[식 (I-C) 중, R1, R6 및 R7은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R21, R22는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼12의 알킬기 또는 히드록시기를 나타낸다.
X2 및 X3은 각각 독립적으로 -CH2- 또는 -N(R25)=를 나타낸다.
R25는 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기를 나타낸다.]
R25로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는 R1로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R25로 표시되는 방향족 탄화수소기로서는 페닐기, 나프틸기 등의 아릴기: 벤질기, 페닐에틸기 등의 아랄킬기: 비페닐기 등을 들 수 있고, 탄소수 6∼20의 방향족 탄화수소기인 것이 바람직하다. R25로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 히드록시기 등을 들 수 있다.
R3 및 R6은 각각 독립적으로 전자 흡인성 기인 것이 바람직하다.
R1 및 R2가 서로 연결하여 고리 구조를 형성하며 또한 R3 및 R6이 서로 결합하여 고리 구조를 형성하는 식 (I)로 표시되는 화합물로서는 식 (I-D)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure pct00008
[식 (I-D) 중, R4, R5, R7은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R25, R26, R27 및 R28은 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖더라도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 히드록시기, 아랄킬기를 나타낸다.]
R25, R26, R27 및 R28로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는 R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다. R25, R26, R27 및 R28로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는 히드록시기를 들 수 있다.
R25, R26, R27 및 R28로 표시되는 아랄킬기로서는 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.
R6 및 R7이 서로 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)로서는 식 (I-E)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure pct00009
[식 (I-E) 중, R1, R2, R3, R4, R5는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다. 고리 W3은 환상 화합물을 나타낸다]
고리 W3은 5원환∼9원환의 고리이며, 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다.
식 (I-E)로 표시되는 화합물은 식 (IE-1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00010
[식 (IE-1) 중, R1, R2, R3 및 R5는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R17, R18, R19, Rq는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 갖더라도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 아랄킬기, 아릴기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH2-기는 -NR1D-, -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, -S-로 치환되어 있어도 좋으며, R17 및 R18은 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R18 및 R19는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R19 및 Rq는 서로 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다. m, p, q는 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다.]
식 (I)로 표시되는 화합물로서는 이하의 화합물을 들 수 있다.
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
Figure pct00016
Figure pct00017
Figure pct00018
Figure pct00019
Figure pct00020
광선택 흡수제의 합계 함유량은, 점착제층의 파장 410 nm에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 1.6 이하가 되도록 선택되면 한정되지 않지만, 점착제 조성물에 있어서, 예컨대 전체 수지 성분 100 질량부에 대하여 0.01∼20 질량부이며, 바람직하게는 0.05∼15 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.1∼10 질량부이다.
광선택 흡수제(A)와 광선택 흡수제(B)의 질량비(광선택 흡수제(A)/광선택 흡수제(B))는 통상 0.05∼20이며, 바람직하게는 0.1∼10이다.
((메트)아크릴계 수지(A))
(메트)아크릴계 수지(A)는, (메트)아크릴산에스테르 유래의 구성 단위를 주성분(바람직하게는 50 질량% 이상 포함함)으로 하는 중합체인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, 1종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위(예컨대 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위)를 포함하여도 좋다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 또는 메타크릴산의 어느 것이라도 좋다는 것을 의미하고, 그 밖에, (메트)아크릴레이트 등이라고 할 때의 「(메트)」도 같은 취지이다.
(메트)아크릴산에스테르로서는 하기 식 (X)으로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다.
Figure pct00021
[식 (X) 중, R101은 수소 원자 또는 메틸기로 나타내고, R102는 탄소수 1∼14의 알킬기 또는 탄소수 7∼20의 아랄킬기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 상기 아랄킬기의 수소 원자는 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.]
식 (X)에 있어서, R102는 바람직하게는 탄소수 1∼14의 알킬기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8의 알킬기이다.
식 (X)으로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르로서는,
(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산 n-프로필, (메트)아크릴산 n-부틸, (메트)아크릴산 n-펜틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산 n-헵틸, (메트)아크릴산 n-옥틸, (메트)아크릴산 n-노닐, (메트)아크릴산 n-데실, (메트)아크릴산 n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄상 알킬에스테르;
(메트)아크릴산 i-프로필, (메트)아크릴산 i-부틸, (메트)아크릴산 t-부틸, (메트)아크릴산 i-펜틸, (메트)아크릴산 i-헥실, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 i-옥틸, (메트)아크릴산 i-노닐, (메트)아크릴산 i-스테아릴, (메트)아크릴산 i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분기상 알킬에스테르;
(메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르;
(메트)아크릴산페닐 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르; 등을 들 수 있다.
또한, (메트)아크릴산알킬에스테르에 있어서의 알킬기에 치환기가 도입된 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수도 있다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르의 치환기는, 알킬기의 수소 원자를 치환하는 기이며, 그 구체예는 페닐기, 알콕시기, 페녹시기를 포함한다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르로서 구체적으로는 (메트)아크릴산 2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등을 들 수 있다.
이들 (메트)아크릴산에스테르는 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에 다른 복수의 것을 이용하여도 좋다.
(메트)아크릴계 수지(A)는, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 0℃ 미만인 아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구성 단위 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구성 단위 및 아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것은, 점착제층의 고온내구성을 높이는 데에 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌치를 채용할 수 있다.
아크릴산알킬에스테르(a1)의 구체예로서는, 아크릴산에틸, 아크릴산 n- 및 i-프로필, 아크릴산 n- 및 i-부틸, 아크릴산 n-펜틸, 아크릴산 n- 및 i-헥실, 아크릴산 n-헵틸, 아크릴산 n- 및 i-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산 n- 및 i-노닐, 아크릴산 n- 및 i-데실, 아크릴산 n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도인 아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.
아크릴산알킬에스테르(a1)은 1종만을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다. 그 중에서도, 본 발명의 점착제층을 광학 적층체에 적층했을 때의 추종성이나 재작업 가능성(Reworkability)의 관점에서, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산 2-에틸헥실 등이 바람직하다.
아크릴산알킬에스테르(a2)는 아크릴산알킬에스테르(a1) 이외의 아크릴산알킬에스테르이다. 아크릴산알킬에스테르(a2)의 구체예는 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산 t-부틸 등을 포함한다.
아크릴산알킬에스테르(a2)는 1종만을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다. 그 중에서도, 고온내구성의 관점에서, 아크릴산알킬에스테르(a2)는 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
식 (I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지에 포함되는 전체 구조 단위 중, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60∼95 질량%인 것이 바람직하고, 65∼95 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로서는, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위가 바람직하고, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위가 보다 바람직하다. 극성 작용기로서는 히드록시기, 카르복실기, 치환 혹은 무치환 아미노기, 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.
극성 작용기를 갖는 단량체로서는,
(메트)아크릴산 1-히드록시메틸, (메트)아크릴산 1-히드록시에틸, (메트)아크릴산 1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 1-히드록시부틸, (메트)아크릴산 1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 2-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-히드록시부틸, (메트)아크릴산 3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 3-히드록시헥실, (메트)아크릴산 3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 4-히드록시헥실, (메트)아크릴산 4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산 2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산 5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산 5-히드록시헥실, (메트)아크릴산 5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 5-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시헥실, (메트)아크릴산 6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 6-히드록시노닐, (메트)아크릴산 6-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산 7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 7-히드록시노닐, (메트)아크릴산 7-히드록시데실, (메트)아크릴산 7-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산 8-히드록시노닐, (메트)아크릴산 8-히드록시데실, (메트)아크릴산 8-히드록시운데실, (메트)아크릴산 8-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시노닐, (메트)아크릴산 9-히드록시데실, (메트)아크릴산 9-히드록시운데실, (메트)아크릴산 9-히드록시도데실, (메트)아크릴산 9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시데실, (메트)아크릴산 10-히드록시운데실, (메트)아크릴산 10-히드록시도데실, 아크릴산 10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시운데실, (메트)아크릴산 11-히드록시도데실, (메트)아크릴산 11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 12-히드록시도데실, (메트)아크릴산 12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산 12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산 14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산 15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 단량체;
(메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대 카르복시에틸 (메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸 (메트)아크릴레이트), 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기를 갖는 단량체;
아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등의 복소환기를 갖는 단량체;
아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르 중합체와 가교제의 반응성이라는 점에서, 히드록시기를 갖는 단량체 또는 및 카르복실기를 갖는 단량체가 바람직하고, 히드록시기를 갖는 단량체 및 카르복실기를 갖는 단량체 모두를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
히드록시기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 3-히드록시프로필, 아크릴산 4-히드록시부틸, 아크릴산 5-히드록시펜틸, 아크릴산 6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히 아크릴산 2-히드록시에틸, 아크릴산 4-히드록시부틸 및 아크릴산 5-히드록시펜틸을 이용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다.
카르복실기를 갖는 단량체로서는 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.
점착제층의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 막는다는 관점에서, (메트)아크릴계 수지(A)는, 아미노기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다는 것은, (메트)아크릴계 수지(A)를 구성하는 전체 구성 단위 100 질량부 중 0.1 질량부 이하인 것을 말한다.
극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.
방향족기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A)의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 16 질량부 이하이다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로서는, 스티렌계 단량체에 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위, (메트)아크릴아미드계 단량체에 유래하는 구조 단위 등도 들 수 있다.
스티렌계 단량체로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.
비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산 비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 함질소 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공역 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.
분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체로서는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
(메트)아크릴아미드계 단량체로서는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도 N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.
(메트)아크릴계 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은 바람직하게는 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 환경에 있어서의 점착제층의 내구성이 향상되어, 피착체와 점착제층 사이의 부유 박리나 점착제층의 응집 파괴 등의 문제점을 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 도공성의 관점에서 유리하다. 점착제층의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립이라는 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이며, 보다 바람직하게는 70만∼170만이고, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는, 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6이다. 중량 평균 분자량은 겔 파미에이션 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있으며, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.
(메트)아크릴산 수지(A)는, 아세트산에틸에 용해시켜 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가 20 Pa·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 Pa·s인 것이 보다 바람직하다. 상기 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 여기서, 점도는 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴계 수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는 예컨대 -60∼20℃, 바람직하게는 -50∼15℃, 더욱 바람직하게는 -45∼10℃, 특히 -40∼0℃라도 좋다. Tg가 상한치 이하이면 점착제층의 피착체 기재에 대한 습윤성의 향상에 유리하고, 하한치 이상이면 점착제층의 내구성 향상에 유리하다. 여기서, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴계 수지(A)는, 예컨대, 용액중합법, 괴상중합법, 현탁중합법, 유화중합법 등의 공지된 방법에 의해서 제조할 수 있고, 특히 용액중합법이 바람직하다. 용액중합법으로서는, 예컨대 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기 하에 열중합개시제를 첨가하여, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건 하에 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해서 중합 중에 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합개시제를 첨가하여도 좋다. 상기 단량체나 열중합개시제는 유기 용매에 첨가한 상태라도 좋다.
중합개시제로서는, 열중합개시제나 광중합개시제 등이 이용된다. 광중합개시제로서는 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다. 열중합개시제로서는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물; 라우릴퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 또한, 과산화물과 환원제를 병용한 레독스계 개시제 등도 사용할 수 있다.
중합개시제의 비율은, (메트)아크릴계 수지(A)를 구성하는 단량체의 총량 100 질량부에 대하여 0.001∼5 질량부 정도이다. (메트)아크릴계 수지의 중합은 활성에너지선(예컨대 자외선 등)에 의한 중합법을 사용하여도 좋다.
유기 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴계 수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물 100 질량% 중, 통상 60 질량%∼99.9 질량%이며, 바람직하게는 70 질량%∼99.5 질량%이고, 보다 바람직하게는 80 질량%∼99 질량%이다.
가교제(B)는 (메트)아크릴계 수지(A) 내의 극성 작용기(예컨대 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 복소환기 등)와 반응한다. 가교제(B)는 (메트)아크릴계 수지 등과 가교 구조를 형성하며, 내구성이나 재작업 가능성에 유리한 가교 구조를 형성한다.
가교제(B)로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.
이소시아네이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하며, 예컨대 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 이소포론디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트, 수첨 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한, 가교제(B)는, 상기 이소시아네이트 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형 이소시아네이트 화합물 등의 유도체라도 좋다. 가교제(B)는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알코올 화합물(예컨대 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(B)가, 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물, 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등이라도 내구성을 향상시킬 수 있다.
가교제(B)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 통상 0.01∼15 질량부이며, 바람직하게는 0.05∼10 질량부이며, 보다 바람직하게는 0.1∼5 질량부이다.
본 발명의 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물은 실란 화합물(D)을 더 포함하고 있어도 좋다.
실란 화합물(D)로서는, 예컨대 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
실란 화합물(D)은 실리콘 올리고머라도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를 모노머끼리의 조합 형태로 표기하면 다음과 같다.
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.
실란 화합물(D)은 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물이라도 좋다. 점착제 조성물이 하기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물을 포함하면, 기재나 유리, 투명 전극 등에 대한 밀착성을 더욱 향상시킬 수 있기 때문에, 고온 환경 하에 있어서의 들뜸 박리나 발포 등이 발생하기 어려운 내구성이 양호한 점착제층을 형성할 수 있다.
Figure pct00022
(식 중, B는, 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어도 좋으며, Rd7은 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, Rd8, Rd9, Rd10, Rd11 및 Rd12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다)
식 (d1)에 있어서, B는 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기 등의 탄소수 1∼20의 알칸디일기; 시클로부틸렌기(예컨대 1,2-시클로부틸렌기), 시클로펜틸렌기(예컨대 1,2-시클로펜틸렌기), 시클로헥실렌기(예컨대 1,2-시클로헥실렌기), 시클로옥틸렌기(예컨대 1,2-시클로옥틸렌기) 등의 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기, 또는 이들의 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기를 나타낸다. 바람직한 B는 탄소수 1∼10의 알칸디일기이다. Rd7은 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 펜틸기 등의 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, Rd8, Rd9, Rd10, Rd11 및 Rd12는 각각 독립적으로 상기 R21에 예시한 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, i-프로폭시기, 부톡시기, s-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다. 바람직한 Rd8, Rd9, Rd10, Rd11 및 Rd12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알콕시기이다. 이들 실란 화합물(D)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
구체적인 상기 식 (d1)로 표시되는 실란 화합물로서는, 예컨대 (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리C1-5알콕시실릴)C1-10알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디C1-5알콕시C1-5알킬실릴)C1-10알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노C1-5알콕시-디C1-5알킬실릴)C1-10알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리C1-3알콕시실릴)C1-10알칸이 바람직하고, 특히 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.
실란 화합물(D)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 통상 0.01∼10 질량부이며, 바람직하게는 0.03∼5 질량부이고, 보다 바람직하게는 0.05∼2 질량부이고, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 질량부이다. 상기 상한치 이하이면, 점착제층으로부터의 실란 화합물(A)의 블리드아웃의 억제에 유리하고, 상기 하한치 이상이면, 점착제층과 금속층이나 유리 기판 등과의 밀착성(또는 접착성)을 향상시키기 쉽게 되어, 내박리성 등의 향상에 유리하다.
점착제 조성물은 대전방지제를 더 함유하고 있어도 좋다.
대전방지제로서는, 계면활성제, 실록산 화합물, 도전성 고분자, 이온성 화합물 등을 들 수 있고, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 이온성 화합물로서는 관용의 것을 들 수 있다. 이온성 화합물을 구성하는 양이온 성분으로서는 유기 양이온, 무기 양이온 등을 들 수 있다. 유기 양이온으로서는, 예컨대 피리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 무기 양이온으로서는, 예컨대 리튬 양이온, 칼륨 양이온, 나트륨 양이온, 세슘 양이온 등의 알칼리 금속 양이온, 마그네슘 양이온, 칼슘 양이온 등의 알칼리 토류 금속 양이온 등을 들 수 있다. 특히 (메트)아크릴계 수지와의 상용성이라는 관점에서 피리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 피롤리디늄 양이온, 리튬 양이온, 칼륨 양이온이 바람직하다. 이온성 화합물을 구성하는 음이온 성분으로서는, 무기 음이온 및 유기 음이온의 어느 것이라도 좋지만, 대전 방지 성능의 점에서, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온 성분으로서는, 예컨대 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6-), 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-] 등을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 특히 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-]이 바람직하다.
점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 대전 방지 성능의 시간 경과에 따른 안정성이라는 점에서, 실온에서 고체인 이온성 화합물이 바람직하다.
대전방지제의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여 예컨대 0.01∼20 질량부, 바람직하게는 0.1∼10 질량부, 더욱 바람직하게는 1∼7 질량부이다.
점착제 조성물은, 용제, 가교 촉매, 택키파이어, 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.
[위상차층]
본 발명의 광학 적층체는, 광선택 흡수성 점착제층의 편광자와는 반대측에 적층된 위상차층을 더 포함하여도 좋다. 위상차층은 1층 또는 2층 이상이라도 좋다. 도 2에 도시하는 광학 적층체(200)는 제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(31)을 포함한다.
위상차층은 광학 이방성을 보이는 광학 필름이다. 광학 이방성을 보이는 광학 필름으로서는, 예컨대 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 고분자 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 연신 필름 중에서도, 아세틸셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 고분자 필름인 것이 바람직하다. 또한, 위상차층은, 중합성 액정 화합물을 기재에 도포·배향함으로써 광학 이방성을 발현시킨, 중합성 액정 화합물의 경화물로 이루어지는 위상차층이라도 좋다.
또한, 본 명세서에 있어서, 위상차층은 제로 리타데이션인 위상차층을 포함하며, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등이라고 불리는 필름도 포함한다.
제로 리타데이션인 위상차층이란, 정면 리타데이션(Re)과 두께 방향의 리타데이션(Rth)이 모두 -15∼15 nm이며, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄상 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지로 이루어지는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션 값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는 후지필름(주)에서 판매하고 있는 “Z-TAC”(상품명), 코니카미놀타옵트(주)에서 판매하고 있는 “제로태크(등록상표)”, 닛폰제온(주)에서 판매하고 있는 “ZF-14”(상품명) 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 적층체에 있어서, 위상차층은 중합성 액정 화합물의 경화물인 위상차층이 바람직하다.
중합성 액정 화합물의 경화물인 위상차층으로서는 제1 형태∼제5 형태를 들 수 있다.
제1 형태: 막대형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수평 방향으로 배향한 위상차층
제2 형태: 막대형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향한 위상차층
제3 형태: 막대형 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향 방향이 변화되고 있는 위상차층
제4 형태: 원반형 액정 화합물이 경사 배향되어 있는 위상차층
제5 형태: 원반형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향한 이축성의 위상차층
예컨대 유기 일렉트로루미네센스 디스플레이에 이용되는 광학 필름에는 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들 형태의 위상차층을 적층시켜 이용하여도 좋다.
위상차층이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 이루어지는 층(이하, 「광학 이방성층」이라고 부르는 경우가 있음)인 경우, 위상차층은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차값보다도 작아지는 광학 특성이며, 바람직하게는 위상차 필름이 하기 식 (7) 및 식 (8)을 만족하는 것이다. 여기서, Re(λ)는 파장 λ nm의 빛에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.
Re(450)/Re(550)≤1 (7)
1≤Re(630)/Re(550) (8)
본 발명의 광학 적층체에 있어서, 위상차층이 제1 형태이면서 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑 표시시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 120≤Re(550)≤150이 더욱 바람직하다.
위상차층의 형성에 이용되는 중합성 액정 화합물로서는, 액정편람(액정편람편집위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성 기를 갖는 화합물, 그리고 일본 특허공개 2010-31223호 공보, 일본 특허공개 2010-270108호 공보, 일본 특허공개 2011-6360호 공보, 일본 특허공개 2011-207765호 공보, 일본 특허공개 2011-162678호 공보, 일본 특허공개 2016-81035호 공보, 국제공개 제2017/043438호 및 일본 특허공표 2011-207765호 공보에 기재된 중합성 액정 화합물 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 위상차층을 제조하는 방법은, 예컨대 일본 특허공개 2010-31223호 공보에 기재된 방법 등을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물을 경화하여 이루어지는 액정 경화층인 위상차층의 두께는, 예컨대 0.1 ㎛ 이상 10 ㎛ 이하이며, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상 8 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상 6 ㎛ 이하이다.
액정성 화합물의 도포·배향에 의해서 광학 이방성을 발현시킨 위상차층이나, 무기 층상 화합물의 도포에 의해서 광학 이방성을 발현시킨 위상차층으로서는, 온도 보상형 위상차 필름이라고 불리는 필름, JX닛코닛세키에네르기(주)에서 판매하고 있는 “NH 필름”(상품명; 막대형 액정이 경사 배향된 필름), 후지필름(주)에서 판매하고 있는 “WV 필름”(상품명; 원반형 액정이 경사 배향된 필름), 스미토모가가쿠(주)에서 판매하고 있는 “VAC 필름”(상품명; 완전 이축 배향형 필름), 스미토모가가쿠(주)에서 판매하고 있는 “new VAC 필름”(상품명; 이축 배향형 필름) 등을 들 수 있다.
위상차층은, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 λ/4 위상차층, 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 λ/2 위상차층, 포지티브 A 플레이트 및 포지티브 C 플레이트일 수 있다. 도 2에 도시하는 광학 적층체(200)와 같이, 제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(31)을 포함하는 경우, 제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(31)의 조합으로서, λ/2 위상차층과 λ/4 위상차층의 조합, λ/4 위상차층과 포지티브 C층의 조합 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 적층체는 λ/4 위상차층을 갖는 원편광판으로서 구성하여도 좋다. 원편광판은 반사 방지용 편광판으로서 이용할 수 있다.
[접합층]
본 발명의 광학 적층체는 2개의 층을 접합하기 위한 접합층을 포함할 수 있다. 접합층으로서는 접착제층, 점착제층(이하, 「제2 점착제층」이라고도 함) 등을 들 수 있다. 도 2에 도시하는 광학 적층체(200)는, 제1 위상차층(30)과 제2 위상차층(31)의 사이에 개재하여 이들을 접합하는 접착제층(33)과, 제2 위상차층(31)의 접착제층(33)과는 반대측의 표면에 적층된 제2 점착제층(32)을 포함한다.
접착제층에는, 수계 접착제, 활성에너지선 경화성 접착제 또는 열 경화성 접착제 등이 이용된다. 접착제층의 두께는 예컨대 10 nm 이상 20 ㎛ 이하, 바람직하게는 100 nm 이상 10 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 500 nm 이상 5 ㎛ 이하이다.
제2 점착제층은, 상기한 광선택 흡수성 점착제층을 형성하는 점착제 조성물과 동일한 점착제 조성물로 구성되어도 좋고, (메트)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물(이하, 「제2 점착제 조성물」이라고도 함)로 구성되어도 좋다. 제2 점착제 조성물로서는, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 제2 점착제 조성물은 활성에너지선 경화형, 열 경화형이라도 좋다. 제2 점착제층의 두께는 예컨대 0.1∼150 ㎛이며, 통상 8∼60 ㎛이고, 박형화의 점에서는 30 ㎛ 이하, 나아가서는 20 ㎛ 이하가 바람직하다.
<광학 적층체의 제조 방법>
광학 적층체(100, 200)는, 접합층을 통해 적층체(100, 200)를 구성하는 층들을 맞붙이는 공정을 포함하는 방법에 의해서 제조할 수 있다. 접합층을 통해 층들을 맞붙이는 경우에는, 밀착성을 높이기 위해, 접합면의 한쪽 또는 양쪽에 대하여, 예컨대 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
<광학 적층체>
본 발명의 광학 적층체는 평면형이며, 그 면적은 예컨대 30 mm×30 mm∼180 mm×90 mm이다. 본 발명의 광학 적층체는 장방형, 정방형 등의 직사각형이라도 좋고, 직사각형을 구성하는 변의 일부가 절결된 절결부를 갖는 형상이나, 반원 형상, 면내에 관통 구멍을 갖는 형상 등의, 소위 이형 형상이라도 좋다. 광학 적층체를 구성하는 편광자의 흡수축은, 광학 적층체의 외형이 직선의 변을 갖는 경우에는, 그 변에 평행하여도 좋고, 직교하여도 좋고, 비스듬히 예컨대 45°의 각도로 교차하여도 좋다. 광학 적층체가 위상차층을 갖고, 이 위상차층이 면내에 지상축을 갖는 경우, 이 지상축과, 광학 적층체를 구성하는 편광자의 흡수축은 45°로 교차하고 있어도 좋고, 15°로 교차하고 있어도 좋고, 75°로 교차하고 있어도 좋다.
<화상 표시 장치>
광학 적층체(100, 200)는, 화상 표시 패널의 앞면(시인측)에 배치되어, 화상 표시 장치의 구성 요소로서 이용할 수 있다. 원편광판인 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 있어서 반사 방지 기능을 부여하는 반사 방지용 편광판으로서 이용할 수도 있다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 유기 일렉트로루미네센스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로루미네센스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 들어 본 발명을 보다 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 실시예 및 비교예에서의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 「질량%」 및 「질량부」이다.
[편면 보호 편광판의 제작]
(편광자의 제작)
두께 20 ㎛, 중합도 2400, 비누화도 99% 이상의 폴리비닐알코올 필름을, 열롤 상에서 연신 배율 4.1배로 일축 연신하고, 긴장 상태를 유지한 채로 물 100 중량부당 요오드 0.05 중량부 및 요오드화칼륨 5 중량부를 함유하는 염색욕에 28℃에서 60초간 침지했다.
이어서, 물 100 중량부당 붕산 5.5 중량부 및 요오드화칼륨 15 중량부를 함유하는 붕산 수용액 1에, 64℃에서 110초간 침지했다. 이어서, 물 100 중량부당 붕산 5.5 중량부 및 요오드화칼륨 15 중량부를 함유하는 붕산 수용액 2에, 67℃에서 30초간 침지했다. 그 후, 10℃의 순수를 이용하여 수세하고, 건조하여, 편광자를 얻었다. 얻어진 편광자의 두께는 8 ㎛이며, 붕소 함유량은 4.3 중량%였다.
(수계 접착제의 조정)
물 100 중량부에 대하여, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올(가부시키가이샤쿠라레, 상품명 「KL-318」)을 3 질량부 용해하고, 그 수용액에 수용성 에폭시 수지인 폴리아미드에폭시계 첨가제(다오카가가쿠고교가부시키가이샤, 상품명 「스미레즈레진(등록상표) 650(30), 고형분 농도 30 중량%의 수용액)를 1.5 질량부 첨가하여, 수계 접착제를 조제했다.
(보호 필름 A, 보호 필름 B 및 박리 필름 B)
보호 필름 A로서, 두께 25 ㎛의 노르보르넨계 수지로 이루어지는 연신 필름에, 두께 3 ㎛의 하드코트층을 형성한 필름(닛폰세이시가부시키가이샤 제조, 상품명 「COP25ST-HC」)을 이용했다.
보호 필름 B로서, 두께 20 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름〔후지필름(주) 제조의 상품명 「ZRG20SL」〕을 이용했다.
박리 필름 B로서, 트리아세틸셀룰로오스 필름(후지필름가부시키가이샤 제조, 「TD80UL」)을 이용했다. 박리 필름의 두께는 80 ㎛이며, 투습도는 502 g/㎡·24 hr였다.
(편면 보호 편광판의 제작)
제작한 편광자를 연속적으로 반송함과 더불어 보호 필름 A의 롤로부터 보호 필름 A를 연속적으로 풀어내고, 또한, 박리 필름 B의 롤로부터 박리 필름 B를 연속으로 풀어냈다. 편광자와 코로나 처리한 보호 필름 A의 사이에 수계 접착제를 주입함과 더불어, 편광자와 박리 필름 B의 사이에 순수를 주입하고, 접합 롤에 통과시켜, 보호 필름 A/수계 접착제/편광자/순수/박리 필름 B로 이루어지는 적층 필름을 얻었다. 적층 필름을 반송하여, 건조로에서 80℃, 300초의 가열 처리를 행함으로써, 수계 접착제를 건조시킴과 더불어, 편광자와 박리 필름 B의 사이에 개재하는 순수를 휘발 제거하여, 박리 필름 구비 편면 보호 편광판을 얻었다. 박리 필름 구비 편면 보호 편광판으로부터 박리 필름 B를 박리하여, 편면 보호 편광판을 얻었다.
[양면 보호 편광판의 제작]
상기 편면 보호 편광판의 제작에 있어서, 박리 필름 B 대신에 보호 필름 B를 이용하여, 보호 필름 A/수계 접착제/편광자/수계 접착제/보호 필름 B로 이루어지는 적층 필름을 얻었다는 점 이외에는 같은 식으로 하여 양면 보호 편광판을 얻었다.
[위상차 적층체의 제작]
(제1 액정 경화층)
제1 액정 경화층(제1 위상차층)으로서, 네마틱 액정 화합물이 경화한 층과 배향막과 투명 기재로 이루어지는 λ/4의 위상차를 부여하는 층을 이용했다. 또한, 네마틱 액정 화합물이 경화한 층, 배향층의 합계 두께는 2 ㎛였다.
(제2 액정 경화층의 제작)
배향층 형성용 조성물로서, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트(신나카무라가가쿠고교가부시키가이샤 제조, A-600) 10.0 질량부와, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(신나카무라가가쿠고교가부시키가이샤 제조, A-TMPT) 10.0 질량부와, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트(신나카무라가가쿠고교가부시키가이샤 제조, A-HD-N) 10.0 질량부와, 광중합개시제로서 이르가큐어 907(BASF사 제조, Irg-907) 1.50 질량부를, 용매 메틸에틸케톤 70.0 질량부 중에서 용해시켜, 배향층 형성용 도공액을 조제했다.
기재 필름으로서 두께 20 ㎛의 장척형 환상 올레핀계 수지(COP) 필름(닛폰제온가부시키가이샤 제조)을 준비하고, 기재 필름의 편면에, 배향층 형성용 도공액을 바코터로 도포했다.
도공 후의 도포층에 온도 80℃에서 60초 동안의 열처리를 실시한 후, 자외선(UVB)을 220 mJ/㎠ 조사하여, 배향층 형성용 조성물을 중합하고, 경화시켜, 기재 필름 상에 두께 2.3 ㎛의 배향층을 형성했다.
위상차층 형성용의 조성물로서, 광중합성 네마틱 액정 화합물(멜크사 제조, RMM28B) 20.0 질량부와, 광중합개시제로서 이르가큐어 907(BASF사 제조, Irg-907) 1.0 질량부를, 용매 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80.0 질량부 중에 용해시켜, 위상차층 형성용 도공액을 조제했다.
앞서 얻어진 배향층 상에 위상차층 형성용 도공액을 도포하고, 도포층에 온도 80℃에서 60초 동안의 열처리를 실시했다. 그 후, 자외선(UVB)을 220 mJ/㎠ 조사하여, 위상차층 형성용의 조성물을 중합하고, 경화시켜, 배향층 상에 두께 0.7 ㎛의 위상차층을 형성했다. 이와 같이 하여 기재 필름 상에 배향층과 위상차층으로 이루어지는 두께 3 ㎛의 제2 액정 경화층(제2 위상차층)을 얻었다.
(위상차 적층체의 제작)
제1 액정층과 제2 액정층을, 자외선 경화형 접착제(두께 1 ㎛)에 의해, 각각의 액정층 면(기재 필름과는 반대측의 면)이 접합면이 되도록 맞붙였다. 이어서, 자외선을 조사하여 자외선 경화형 접착제를 경화시켜, 제1 액정 경화층과 제2 액정 경화층의 2층의 위상차층을 포함하는 위상차 적층체를 제작했다. 제1 액정 경화층과 자외선 경화형 접착제층과 제2 액정 경화층을 포함하는 위상차 적층체의 두께는 6 ㎛였다.
[광선택 흡수성 점착제층의 제작]
(아크릴계 수지(A-1)의 조제)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 갖춘 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 86.4 부, 아크릴산부틸 61.9 부, 아크릴산 2-히드록시에틸 1.9 부의 혼합 용액을 주입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불포함으로 하면서 내부 온드를 60℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제) 0.4 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 얻어진 혼합물을 60℃에서 1시간 유지하고, 이어서 내부 온도를 50∼70℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3 부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 가하고, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸 첨가 시작에서부터 12시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온했다. 마지막으로 아세트산에틸을 가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제했다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)이 60만, Mw/Mn이 7.0이었다. 이것을 아크릴계 수지(A-1)로 한다. DSC 에 의한 유리 전이 온도는 -52.9℃였다.
(점착제층(1)의 제작)
아크릴계 수지(A-1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 상기 용액의 고형분 100 부에 대하여, 가교제(콜로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5 부, 실란 화합물(신에츠가가쿠고교 제조: KBM-403) 0.5 부 및 일본 특허공개 2019-007001호 공보의 단락 [0142]에 기재된 합성예 2에 광선택 흡수 화합물(2)로서 기재되어 있는 하기 식 (aa2)로 표시되는 화합물(광선택 흡수제) 5.4 부를 혼합하고, 추가로 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여, 점착제 조성물(1)을 얻었다. 여기서, 상기 가교제(콜로네이트 L)의 배합량은 유효 성분으로서의 질량부수이다.
Figure pct00023
이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(린테크사 제조 SP-PLR382050, 이하 「세퍼레이터」라고 약기함)의 이형 처리면에, 상기에서 조제한 점착제 조성물(1)을, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 점착제층을 제작했다. 얻어진 점착제층을 점착제층(1)으로 했다. 표 1에 점착제층(1)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
(점착제층(2)의 제작)
광선택 흡수제의 배합량을 2.5 부로 하고, 건조 후의 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되게 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 같은 방법에 의해서 점착제층(2)를 제작했다. 표 1에 점착제층(2)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
(점착제층(3)의 제작)
광선택 흡수제의 배합량을 3.7 부로 하고, 건조 후의 점착제층의 두께가 5 ㎛가 되게 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 같은 방법에 의해서 점착제층(3)을 제작했다. 표 1에 점착제층(3)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
(점착제층(4)의 제작)
광선택 흡수제의 배합량을 2.5 부로 하고, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되게 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 같은 방법에 의해서 점착제층(4)를 제작했다. 표 1에 점착제층(4)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
(점착제층(5)의 제작)
광선택 흡수제의 배합량을 3.7 부로 하고, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되게 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 같은 방법에 의해서 점착제층(5)를 제작했다. 표 1에 점착제층(5)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
(점착제층(6)의 제작)
광선택 흡수제의 배합량을 5.4 부로 하고, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되게 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 같은 방법에 의해서 점착제층(6)을 제작했다. 표 1에 점착제층(6)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
(점착제층(7)의 제작)
광선택 흡수제의 배합량을 2.9 부로 하고, 건조 후의 점착제층의 두께가 17 ㎛가 되게 한 점 이외에는, 점착제층(1)과 같은 방법에 의해서 점착제층(7)을 제작했다. 표 1에 점착제층(7)의 단위면적당 광선택 흡수제의 함유량을 기재한다.
[제2 점착제층의 제작]
상기 아크릴 수지(A-1)의 아세트산에틸 용액(수지 농도: 20%)에, 가교제(콜로네이트 L, 고형분 75%: 도소 제조) 0.5 부 및 실란 화합물(신에츠가가쿠고교 제조: KBM-403) 0.5 부를 혼합하고, 추가로 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하여 점착제 조성물을 얻었다. 여기서, 상기 가교제(콜로네이트 L)의 배합량은 유효 성분으로서의 질량부수이다.
광선택 흡수성 점착제층의 제작에 이용한 세퍼레이터의 이형 처리면에, 점착제 조성물을, 건조 후의 점착제층의 두께가 15 ㎛ 또는 25 ㎛가 되게 애플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 제2 점착제층을 제작했다.
[광학 적층체의 제작]
(참고예 1)
제작한 양면 보호 편광판의 보호 필름 B측에 점착제층(1)을 맞붙이고, 세퍼레이터를 박리했다. 점착제층(1)의 세퍼레이터를 박리한 면과 제작한 위상차 적층체의 제1 액정 경화층 측을 맞붙이고, 제2 액정 경화층의 기재 필름을 박리했다. 기재 필름을 박리한 면에, 표 1에 기재한 두께를 갖는 세퍼레이터 구비 제2 점착제층을 맞붙였다.
(실시예 1)
제작한 편면 보호 편광판의 편광자측에 점착제층(2)을 맞붙이고, 세퍼레이터를 박리했다. 점착제층(2)의 세퍼레이터를 박리한 면과 제작한 위상차 적층체의 제1 액정 경화층 측을 맞붙이고, 제2 액정 경화층의 기재 필름을 박리했다. 기재 필름을 박리한 면에, 표 1에 기재한 두께를 갖는 세퍼레이터 구비 제2 점착제층을 맞붙였다. 실시예 1의 광학 적층체는 도 2에 도시하는 것과 같은 구성을 갖고 있었다.
(실시예 2, 3 및 비교예 1, 2)
실시예 1의 광학 적층체와 같은 방법에 의해, 실시예 1의 점착제층(2) 대신에 표 1에 기재하는 점착제층을 이용하고, 또한 표 1에 기재한 두께를 갖는 세퍼레이터 구비 제2 점착제층을 이용하여, 실시예 2, 3 및 비교예 1, 2의 광학 적층체를 각각 제작했다. 실시예 2, 3 및 비교예 1, 2의 광학 적층체는 도 2에 도시하는 것과 같은 구성을 갖고 있었다.
(실시예 4)
제작한 편면 보호 편광판의 편광자측에 점착제층(4)을 맞붙이고, 세퍼레이터를 박리하여 실시예 4의 광학 적층체를 얻었다. 실시예 4의 광학 적층체는 도 1에 도시하는 것과 같은 구성을 갖고 있었다.
(실시예 5 및 비교예 3)
실시예 4의 광학 적층체와 같은 방법에 의해, 실시예 4의 점착제층(4) 대신에 표 1에 기재하는 점착제층을 이용하고, 또한 표 1에 기재한 두께를 갖는 세퍼레이터 구비 제2 점착제층을 이용하여, 실시예 5 및 비교예 3의 광학 적층체를 각각 제작했다. 실시예 5 및 비교예 3의 광학 적층체는 도 1에 도시하는 것과 같은 구성을 갖고 있었다.
[점착제층의 흡광도 측정]
점착제층(1)부터 점착제층(7)을 각각 유리에 맞붙이고, 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층에 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름(닛폰제온가부시키가이샤 제조 ZF-14)를 맞붙여, 점착제층 평가용 적층체를 제작했다. 점착제층 평가용 적층체를 분광광도계 UV-2450(가부시키가이샤시마즈세이사쿠쇼 제조)에 셋트하고, 더블빔법에 의해 1 nm 스텝 300∼800 nm의 파장 범위에서 흡광도를 측정했다. 제작한 점착제층의 파장 410 nm에 있어서의 흡광도를 표 1에 나타낸다. 또한, 파장 410 nm에 있어서의 유리의 흡광도 및 COP 필름의 흡광도는 모두 0이다.
[중량 평균 분자량(Mw)의 측정]
아크릴 수지(A-1)의 중량 평균 분자량(Mw)은, 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량(Mn)으로서, 이동상에 테트라히드로푸란을 이용하여, 하기 사이즈 배제 크로마토그래피(SEC)에 의해 구했다. 측정하는 (메트)아크릴계 폴리머를 약 0.05 질량%의 농도로 테트라히드로푸란에 용해시켜, SEC에 10 μL 주입했다. 이동상은 1.0 mL/분의 유량으로 흘렸다. 컬럼으로서, PLgel MIXED-B(폴리마라보라토리즈 제조)를 이용했다. 검출기에는 UV-VIS 검출기(상품명: Agilent GPC)를 이용했다.
[붕소 함유량의 측정]
편광자 0.2 g을 1.9 wt% 만니톨 수용액 200 g에 용해했다. 얻어진 수용액을 1 mol/L NaOH 수용액으로 적정(滴定)하여, 중화에 필요한 NaOH액의 양과 검량선의 비교에 의해, 편광자의 붕소 함유량을 산출했다.
[내습열 시험 및 색빠짐의 관찰]
참고예 1, 실시예 1∼5 및 비교예 1∼3에서 얻어진 광학 적층체의 세퍼레이터를 박리하여, 무알칼리 유리판에 맞붙인 후, 온도 65℃, 습도 90% RH의 환경 하에 500시간 방치했다. 그 후, 시험한 광학 적층체와는 반대의 무알칼리 유리면에 직교 니콜의 관계가 되는 편광판을 맞붙이고, 광학현미경으로 관찰하여, 관찰 화상을 보존했다. 광학현미경은 가부시키가이샤키엔스 제조의 「VHX-500」을 이용했다. 도 3은 광학현미경에서의 관찰 화상의 일례를 도시한다. 도 3에서, 광학 적층체의 단부(50)에서부터 내측 방향으로 화살표로 나타내는 직선(단부(50)에서부터 수직 방향으로 뻗어 있는 직선)을 따라 관찰하면, 색빠짐 영역(51)과 색빠짐이 생기지 않은 영역(비(非)색빠짐 영역)(52)이 있는 것을 알 수 있다.
[화상 처리에 의한 색빠짐량의 측정]
현미경에서의 관찰 화상을 화상 해석 소프트웨어 「ImageJ(프리 소프트웨어)」를 사용하여 흑백 256 계조(0∼255)로 변환했다. 흑백 256 계조(0∼255)로 변환하는 방법은 RGB 값의 평균을 취하는 방법을 사용했다. 도 4는 변환 후의 데이터의 일례를 도시한다. 광학 적층체의 단부(50)에 대하여 수직 방향(도 3에서 화살표)의 계조 프로파일에 있어서의 색빠짐 영역(51)과 비색빠짐 영역(52)의 중간점(색빠짐그레데이션의 중간)을 광학 적층체의 색빠짐 단부로 하고(도 4), 광학 적층체의 단부(50)에서부터 색빠짐 단부의 거리(㎛)를 색빠짐 거리로 하여 측정했다. 광학 적층체의 색빠짐 거리를 표 1에 나타낸다. 색빠짐 거리가 작을수록 색빠짐 범위가 좁고, 내습열성이 우수하다.
Figure pct00024
10: 편광자, 11: 보호 필름, 20: 광선택 흡수성 점착제층, 30: 제1 위상차층, 31: 제2 위상차층, 32: 제2 점착제층, 33: 접착제층, 50: 광학 적층체의 단부, 51: 색빠짐 영역, 52: 비색빠짐 영역, 100, 200: 광학 적층체, 300: 위상차 적층체.

Claims (10)

  1. 편광자와, 상기 편광자에 접하여 적층된 광선택 흡수성 점착제층을 갖는 광학 적층체로서,
    상기 편광자는, 요오드가 흡착 배향되며, 붕소의 함유량이 5.0 질량% 이하이고,
    상기 광선택 흡수성 점착제층은, 광선택 흡수제를 포함하는 점착제 조성물로 형성되고, 파장 410 nm에 있어서의 흡광도가 0.1 이상 1.6 이하인 광학 적층체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 편광자의 상기 광선택 흡수성 점착제층 측과는 반대측에 적층된 보호 필름을 더 갖는 광학 적층체.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 점착제층은 단위면적당 상기 광선택 흡수제의 함유량이 0.01 g/㎡ 이상 5 g/㎡ 이하인 광학 적층체.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 점착제 조성물은 전체 수지 성분 100 질량부에 대하여 상기 광선택 흡수제를 0.1 질량부 이상 10 질량부 이하 포함하는 광학 적층체.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 점착제층은 두께가 0.1 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하인 광학 적층체.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수제는 분자량이 100 이상 3000 이하인 유기계 광선택 흡수제인 광학 적층체.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광선택 흡수성 점착제층의 상기 편광자와는 반대측에 적층된 λ/4 위상차층을 더 갖는 광학 적층체.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 방지용 편광판인 광학 적층체.
  9. 화상 표시 패널과, 상기 화상 표시 패널의 앞면에 배치된 제8항에 기재한 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 화상 표시 패널은 유기 EL 표시 패널인 화상 표시 장치.
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