JP2021099479A - 光学積層体および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高温高湿下で偏光子の端部において色抜けが抑制された新規の光学積層体を提供する。【解決手段】偏光子１０と、前記偏光子に接して積層された光選択吸収性粘着剤層２０と、を有する光学積層体１００であって、前記偏光子は、ヨウ素が吸着配向され、ホウ素の含有量が５．０質量％以下であり、前記光選択吸収性粘着剤層は、光選択吸収剤を含む粘着剤組成物から形成され、波長４１０ｎｍにおける吸光度が０．１以上１．６以下である、光学積層体。【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体および表示装置に関する。

偏光子の片面又は両面に保護フィルムを積層貼合してなる偏光板は、モバイル・テレビをはじめとする液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置等の画像表示装置、とりわけ近年では携帯電話やスマートフォン、タブレット型端末のような各種モバイル機器に広く用いられている光学部材である。
偏光板は、粘着剤層を介して画像表示素子（液晶セルや有機ＥＬ表示素子等）に貼合して用いられることが多い（例えば、特開２０１０−２２９３２１号公報（特許文献１））。このため、偏光板は、その一方の面に予め粘着剤層が設けられた粘着剤層付偏光板の形態で市場流通されることがある。

また、モバイル機器は高温高湿の過酷な環境下で使われることも多く、偏光子としては高い耐久性が求められている。特開２０１３−１０５０３６号公報（特許文献２）には、偏光子中のホウ酸含有量を高くして、ホウ酸架橋を多く生成させることにより、Ｉ_３錯体が高配向で高い安定性で存在することになり、ブルーリークの発生が抑えられ低温高湿耐久性に優れた偏光子が得られることが記載されている。

特開２０１０−２２９３２１号公報 特開２０１３−１０５０３６号公報

偏光板において、高温高湿の環境下では偏光子の端部において色抜けが生じやすいという問題があった。かかる問題は、偏光子の片面のみに保護フィルムが積層貼合されてなる構成において顕著であった。偏光子中のホウ素含有量を高くすることにより偏光子の色抜けを抑制する方法が知られているものの、かかる方法によると、加熱によって収縮しやすいという問題があった。

本発明は、高温高湿下で偏光子の端部において色抜けが抑制された新規の光学積層体を提供することを目的とする。

本発明は、以下に例示する光学積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供する。
〔１〕 偏光子と、前記偏光子に接して積層された光選択吸収性粘着剤層と、を有する光学積層体であって、
前記偏光子は、ヨウ素が吸着配向され、ホウ素の含有量が５．０質量％以下であり、
前記光選択吸収性粘着剤層は、光選択吸収剤を含む粘着剤組成物から形成され、波長４１０ｎｍにおける吸光度が０．１以上１．６以下である、光学積層体。
〔２〕 前記偏光子の前記光選択吸収性粘着剤層側とは反対側に積層された保護フィルムをさらに有する、〔１〕に記載の光学積層体。
〔３〕 前記光選択吸収性粘着剤層は、単位面積当たりの前記光選択吸収剤の含有量が０．０１ｇ／ｍ^２以上５ｇ／ｍ^２以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
〔４〕 前記粘着剤組成物は、全樹脂成分１００質量部に対して前記光選択吸収剤を０．１質量部以上１０質量部以下含む、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔５〕 前記光選択吸収性粘着剤層は、厚みが０．１μｍ以上１５０μｍ以下である、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕 前記光選択吸収剤は、分子量が１００以上３０００以下の有機系光選択吸収剤である、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔７〕 前記光選択吸収性粘着剤層の前記偏光子とは反対側に積層されたλ／４位相差層をさらに有する、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔８〕 反射防止用偏光板である、〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔９〕 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの前面に配置された〔８〕に記載の光学積層体とを含む、画像表示装置。
〔１０〕 前記画像表示パネルは、有機ＥＬ表示パネルである、〔９〕に記載の画像表示装置。

本発明によれば、高温高湿の環境下では偏光子の端部において色抜けが抑制された光学積層体およびこれを含む画像表示装置を提供することができる。

本発明の光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明の光学積層体の他の一例を示す概略断面図である。 光学顕微鏡での観察画像の一例を示す図である。 観察画像を白黒２５６階調に変換したデータの一例を示す図である。

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の全ての図面においては、各構成要素を理解し易くするために縮尺を適宜調整して示しており、図面に示される各構成要素の縮尺と実際の構成要素の縮尺とは必ずしも一致しない。

＜光学積層体＞
本発明の光学積層体は、偏光子と、前記偏光子に接して積層された光選択吸収性粘着剤層と、を有する。本発明の光学積層体の層構成の一例を、図１、図２に示す。
図１は、本発明の光学積層体の一例の概略断面図である。図１に示す光学積層体１００は、保護フィルム１１と、偏光子１０と、光選択吸収性粘着剤層２０とをこの順に有する。

図２は、本発明の光学積層体の一例の概略断面図である。図２に示す光学積層体２００は、図１に示す光学積層体１００と、光学積層体１００の光選択吸収性粘着剤層２０の側に積層された位相差積層体３００とを有する。位相差積層体３００は、光学積層体１００の光選択吸収性粘着剤層２０側から順に、第１位相差層３０と、接着剤層３３と、第２位相差層３１と、第２粘着剤層３２とを有する。

光学積層体１００、２００の厚みは、光学積層体に求められる機能および光学積層体の用途等に応じて異なるため特に限定されないが、例えば５μｍ以上２００μｍ以下であり、１０μｍ以上１５０μｍ以下であってもよく、１２０μｍ以下であってもよい。

光選択吸収性粘着剤層は、光選択吸収剤を含む。本発明の光学積層体は、少なくとも光選択吸収性粘着剤層が光選択吸収性能を有することにより、光学積層体全体としても光選択吸収性能を有する。したがって、本発明の光学積層体は、画像表示素子上に用いられた場合には、画像表示素子を紫外線から保護する機能を有する。

本発明の光学積層体は、光選択吸収性粘着剤層以外にも、光選択吸収性能を有する層を含む構成であってもよい。他の層としては、例えば、保護フィルム１１が挙げられる。本発明においては、光選択吸収性粘着剤層が光選択吸収性能を有し、光学積層体全体の光選択吸収性能の発現に寄与する構成であることにより、他の層における光選択吸収性能の設計の自由度を向上させることができる。例えば、保護フィルム１１は、光選択吸収性能を向上させるためにはその厚みを厚くする設計が必要となる場合があるが、光選択吸収性能の設計の自由度が高いことにより、保護フィルム１１の薄膜化が容易となる。

本発明者らは、粘着剤層に含まれる光選択吸収剤の含有量と、高温高湿下での偏光子の端部における色抜けの程度との間に相関があるとの知見を得た。かかる知見に基づくと、高温高湿下では、粘着剤層中の光選択吸収剤が偏光子側に移行しやすく、かかる移行が色抜けを生じさせる要因の一つであると考えられる。本発明者らは、さらに鋭意検討を重ね、粘着剤層が光選択吸収剤を含む場合であっても、粘着剤層の吸光度を調整することにより、高温高湿下での偏光子の端部における色抜けを抑制できることを見出し、本発明に至ったものである。

［偏光子］
偏光子は、その吸収軸に平行な振動面をもつ直線偏光を吸収し、吸収軸に直交する（透過軸と平行な）振動面をもつ直線偏光を透過する性質を有する。本発明の光学積層体における偏光子１０は、ヨウ素が吸着配向され、ホウ素の含有量が５．０質量％以下である。ホウ素の含有量が５．０質量％以下であり、好ましくは４．５質量％以下である構成により、加熱により生じる収縮を抑制することができる。ホウ素の含有量は０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましい。偏光子１０において、ホウ素の含有量が少なくなるほど、高温高湿下での偏光子の端部における色抜けが生じやすくなる。偏光子１０中のホウ素は、偏光子１０の架橋度を向上させ、偏光子１０中にヨウ素を安定的に保持するのに寄与しているため、ホウ素の含有量が少なくなるとヨウ素を安定的に保持することができなくなり、色抜けを生じさせることになると考えられる。本発明においては、偏光子１０について、ホウ素の含有量が５．０質量％以下であっても、高温高湿下での色抜けを抑制することができる。

偏光子１０は、吸収異方性を有する二色性色素を吸着させた延伸フィルムまたは延伸層、重合性液晶化合物の硬化物および二色性色素を含む液晶硬化層等が挙げられる。二色性色素は、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいい、色素としてはヨウ素が好適に用いられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムまたは延伸層である偏光子は、通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ素等の二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、およびホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。

偏光子の厚みは、通常３０μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１３μｍ以下であり、さらに好ましくは１０μｍ以下であり、特に好ましくは８μｍ以下である。偏光子の厚みは、通常２μｍ以上であり、３μｍ以上であることが好ましい、例えば５μｍ以上であってよい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば不飽和カルボン酸系化合物、オレフィン系化合物、ビニルエーテル系化合物、不飽和スルホン系化合物、アンモニウム基を有する（メタ）アクリルアミド系化合物が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール、ポリビニルアセタール等も使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１０００以上１００００以下であり、好ましくは１５００以上５０００以下である。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸層である偏光子は、通常、上記ポリビニルアルコール系樹脂を含む塗布液を基材フィルム上に塗布する工程、得られた積層フィルムを一軸延伸する工程、一軸延伸された積層フィルムのポリビニルアルコール系樹脂層をヨウ素等の二色性色素で染色することにより、二色性色素を吸着させて偏光子とする工程、二色性色素が吸着されたフィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、およびホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造することができる。偏光子を形成するために用いる基材フィルムは、保護フィルム１１として用いてもよい。必要に応じて、基材フィルムを偏光子から剥離除去してもよい。基材フィルムの材料および厚みは、後述する保護フィルム１１の材料および厚みと同様であってよい。

［保護フィルム］
保護フィルム１１は、光学的に透明な熱可塑性樹脂、例えば環状ポリオレフィン系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等の樹脂からなる酢酸セルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の樹脂からなるポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂；ポリプロピレン系樹脂、これらのうち１種または２種以上の混合物からなるコーティング層またはフィルムとすることができる。保護フィルム１１は、後述する光選択吸収剤を含んでいてもよい。なお、保護フィルム１１に含まれる光選択吸収剤は、保護フィルム１１内に保持されるため偏光子への移行は生じにくい。

保護フィルム１１上にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層は、保護フィルム１１の一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。ハードコート層を設けることにより、硬度およびスクラッチ性を向上させた保護フィルム１１とすることができる。ハードコート層は、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等の硬化層であってよい。ハードコート層は、強度を向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。ハードコート層は、例えば紫外線硬化型樹脂の硬化層である。紫外線硬化型樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。

保護フィルムの厚みは通常１〜１００μｍであるが、（強度や取扱性等の観点から）５〜８０μｍであることが好ましく、８〜６０μｍであることがより好ましく、１２〜４５μｍであることがさらに好ましい。

保護フィルム１１である樹脂フィルムは、例えば接着剤層を介して偏光子１０に貼合される。接着剤層を形成する接着剤としては、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤、または熱硬化性接着剤を挙げることができ、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いることが好ましい。接着剤層を介して貼合される対向する二つの表面は、予めコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理等を行ってもよく、プライマー層等を有していてもよい。

［光選択吸収性粘着剤層］
光選択吸収性粘着剤層２０は、粘着剤組成物を、有機溶剤に溶解または分散した希釈液を基材上に塗布し、乾燥させることで形成できる。基材としては、プラスチックフィルムが好適であり、具体的には、離型処理が施された剥離フィルムが挙げられる。剥離フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等の樹脂からなるフィルムの一方の面に、シリコーン処理等の離型処理が施されたものが挙げられる。

光選択吸収性粘着剤層の厚みは例えば０．１μｍ以上１５０μｍ以下である。画像表示パネルと積層する場合には通常、８μｍ以上６０μｍ以下であり、薄型化の点では、３０μｍ以下、更には２５μｍ以下、特には２０μｍ以下であることが好ましい。他の光学フィルム、例えばλ／４位相差層と積層する場合には、通常２μｍ以上３０μｍ以下であり、好ましくは２５μｍ以下、更に好ましくは２０μｍ以下、特に好ましくは１８μｍ以下であり、好ましくは３μｍ以上であり、例えば１０μｍ以上であってもよいが、更なる薄型化の点では１０μｍ以下、とりわけ７μｍ以下が好ましい。

光選択吸収性粘着剤層は、波長４１０ｎｍにおける吸光度が０．１以上１．６以下であることが好ましく、０．２以上１．５以下であることがさらに好ましい。光選択吸収性粘着剤層２０がこのような吸光度を有することにより、光学積層体全体として所望の光選択吸収性能を発現しつつ、光学積層体全体を薄型に構成しやすくなるからである。

光選択吸収性粘着剤層は、
波長３９０ｎｍにおける吸光度が通常５．０以下であり、４．５以下であってもよく、
波長４００ｎｍにおける吸光度が通常５．０以下であり、４．５以下であってもよく、
波長４２０ｎｍにおける吸光度が通常１．００以下、好ましくは０．６０以下、更に好ましくは０．４０以下であり、０．００以上であり、
波長４３０ｎｍにおける吸光度が通常０．２０未満、好ましくは０．１８以下、更に好ましくは０．１０以下、特に好ましくは０．０５以下であり、０．００以上であり、
波長４４０ｎｍにおける吸光度が通常０．１０未満、好ましくは０．０５以下であり、０．００以上である。
それぞれの波長における吸光度が上記範囲にあることにより、紫外線領域の光を十分に吸収しつつ、可視光領域の光はそのまま透過することができる。

光選択吸収性粘着剤層は、単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量が０．０１ｇ／ｍ^２以上５ｇ／ｍ^２以下であることが好ましい。かかる範囲であることにより、高温高湿下で発生する偏光子の色抜けを抑制することができる。

［粘着剤組成物］
粘着剤組成物は、樹脂と光選択吸収剤とを含み、さらに架橋剤を含むことが好ましい。樹脂は、例えば、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする樹脂である。この中でも、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）を主成分とする樹脂が好ましい。

（光選択吸収剤）
光選択吸収剤は、特定の波長の光を選択的に吸収するものであり、波長３６０ｎｍ〜４２０ｎｍに少なくとも１つの吸収極大を有する化合物を含むことが好ましく、３８０ｎｍ〜４１０ｎｍに吸収極大を有する化合物を含むことがより好ましい。

波長３５０ｎｍ近傍に吸収極大を有する化合物を含む光選択吸収剤（以下、光選択吸収剤（Ａ）という場合がある。）としては、例えば、オキシベンゾフェノン系光選択吸収剤、ベンゾトリアゾール系光選択吸収剤、サリチル酸エステル系光選択吸収剤、ベンゾフェノン系光選択吸収剤、シアノアクリレート系光選択吸収剤、トリアジン系光選択吸収剤等の有機系光選択吸収剤が挙げられる。より具体的には、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等が挙げられる。これらの有機系光選択吸収剤は１種類又は２種類以上を併用してもよい。有機系光選択吸収剤の分子量は、１００以上３０００以下であることが好ましい。

光選択吸収剤（Ａ）は、市販品を用いてもよく、例えば、トリアジン系光選択吸収剤として、ケミプロ化成株式会社製の「Ｋｅｍｉｓｏｒｂ １０２」、株式会社ＡＤＥＫＡ製の「アデカスタブ ＬＡ４６」、「アデカスタブ ＬＡＦ７０」、ＢＡＳＦジャパン社製の「チヌビン１０９」、「チヌビン１７１」、「チヌビン２３４」、「チヌビン３２６」、「チヌビン３２７」、「チヌビン３２８」、「チヌビン９２８」、「チヌビン４００」、「チヌビン４６０」、「チヌビン４０５」、「チヌビン４７７」等が挙げられる。ベンゾトリアゾール系光選択吸収剤としては、株式会社ＡＤＥＫＡ製の「アデカスタブ ＬＡ３１」および「アデカスタブ ＬＡ３６」、住化ケムテックス株式会社製の「スミソーブ
２００」、「スミソーブ ２５０」、「スミソーブ ３００」、「スミソーブ ３４０」および「スミソーブ ３５０」、ケミプロ化成株式会社製の「Ｋｅｍｉｓｏｒｂ ７４」、「Ｋｅｍｉｓｏｒｂ ７９」および「Ｋｅｍｉｓｏｒｂ ２７９」、ＢＡＳＦ社製の「ＴＩＮＵＶＩＮ ９９−２」、「ＴＩＮＵＶＩＮ ９００」および「ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８」などが挙げられる。

また、光選択吸収剤（Ａ）は無機系光選択吸収剤であってもよい。無機系光選択吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、酸化チタン系複合酸化物、酸化亜鉛系複合酸化物、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）等が挙げられる。酸化チタン系複合酸化物としては、例えば、シリカ、アルミナをドープした酸化亜鉛等が挙げられる。これらの無機系光選択吸収剤は１種類、または、２種類以上併用して用いることができる。また、有機系光選択吸収剤と無機系光選択吸収剤とを併用してもかまわない。

波長４０５ｎｍ近傍に吸収極大を有する化合物を含む光選択吸収剤（以下、光選択吸収剤（Ｂ）という場合がある。）としては、下記式（５）を満たす化合物であることが好ましく、さらに下記式（６）を満たす化合物であることがより好ましい。
ε（４０５）≧２０ （５）
〔式（５）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表す。グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である。〕
ε（４０５）／ε（４４０）≧２０ （６）
［式（６）中、ε（４０５）は波長４０５ｎｍにおける化合物のグラム吸光係数を表し、ε（４４０）は波長４４０ｎｍにおけるグラム吸光度係数を表す。］
なお、グラム吸光度係数は、実施例に記載の方法で測定する。

ε（４０５）の値が大きい化合物ほど波長４０５ｎｍの光を吸収しやすく、紫外線又短波長の可視光における光学積層体及び画像表示装置の劣化を抑制する。ε（４０５）の値が２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）未満であると、粘着剤組成物中における光選択吸収剤（Ｂ）の含有量を増大させないと、位相差フィルムや有機ＥＬ発光素子の紫外線や短波長の可視光による劣化抑制機能を発現しにくい傾向にある。ε（４０５）の値は２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることが好ましく、３０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがより好ましく、４０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以上であることがさらにより好ましく、通常５００Ｌ／（ｇ・ｃｍ）以下である。

ε（４０５）／ε（４４０）の値が大きい化合物ほど、画像表示装置の色彩表現を阻害することなく、４０５ｎｍ付近の光を吸収し位相差フィルムや有機ＥＬ素子等の表示装置の光劣化を抑制することができる。ε（４０５）／ε（４４０）の値は２０以上が好ましく、４０以上がより好ましく、７０以上がさらにより好ましく、８０以上が特により好ましい。

波長４０５ｎｍの光を選択的に吸収する化合物は、分子内にメロシアニン構造を含む化合物であることが好ましい。分子内にメロシアニン構造を含む化合物の分子量は、１００以上３０００以下であることが好ましい。分子内にメロシアニン構造を含む化合物としては、−（Ｎ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ）−で示される部分構造を分子内に含有している化合物であって、例えば、メロシアニン系化合物、シアニン系化合物、インドール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物等が挙げられる。好ましくはメロシアニン系化合物、シアニン系化合物及びベンゾトリアゾール系化合物であり、より好ましくは式（Ｉ）で表される化合物である。

［式中、Ｒ^１及びＲ^５は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数７〜１５のアラルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、複素環基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ａ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−に置換されていてもよい。
Ｒ^１Ａは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表し、該アルキル基に含まれる−ＣＨ_２−は−ＮＲ^１Ｂ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていてもよい。
Ｒ１Ｂは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基又は電子吸引性基を表すか、Ｒ^６及びＲ^７が互いに連結して環構造を形成してもよい。
Ｒ^１及びＲ^２は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^３は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^２及びＲ^４は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^６は、互いに連結して環構造を形成してもよい。］

Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、２−シアノプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル、２−へキシル−オクチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、以下の群Ａに記載の基が挙げられる。
群Ａ：ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルシリル基、炭素数２〜８のアルキルカルボニル基、＊−Ｒ^ａ１−（Ｏ−Ｒ^ａ２）_ｔ１−Ｒ^ａ３（Ｒ^ａ１及びＲ^ａ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表し、Ｒ^ａ３は炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｔ１は１〜３の整数を表す。）で表される基等が挙げられる。
炭素数１〜１２のアルキルシリル基としては、メチルシリル基、エチルシリル、プロピルシリル基等のモノアルキルシリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、メチルエチルシリル基等のジアルキルシリル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基が挙げられる。
炭素数２〜８のアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数７〜１５のアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等が挙げられる。アラルキル基に含まれる−ＣＨ_２−が、−ＳＯ_２−又は−ＣＯＯ−に置き換わった基としては２-フェニル酢酸エチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数７〜１５のアラルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５のアリール基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数６〜１５の複素環基としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３〜９の芳香族複素環基が挙げられる。

Ｒ^１Ａ及びＲ^１Ｂで表される炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。

Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、Ｒ^１Ｂで表される炭素数１〜６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される炭素数１〜６のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等炭素数６〜１５のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては上記群Ａに記載の基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族複素環としては、ピリジル基、ピロリジル基、キノリル基、チオフェン基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、ピロール基、チアゾリル基及びフラニル基等の炭素数３〜９の芳香族複素環基が挙げられる。
Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表される芳香族複素環が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数１〜２５のアルキル基が有していてもよい置換基としては、上記群Ａに記載の基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^６及びＲ^７で表される電子吸引性基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、式（Ｉ−１）で表される基が挙げられる。

［式中、Ｒ^１１は、水素原子又は炭素数１〜２５のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていてもよい。
Ｘ^１は、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＳ−、−ＣＳＯ−、−ＣＳＳ−、−ＮＲ^１２ＣＯ−又はＣＯＮＲ１３−を表す。
Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ−ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ−ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等のパーフルオロアルキル基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されたアルキル基の炭素数としては、通常１〜２５である。

Ｒ^６及びＲ^７は互いに連結して環構造を形成していてもよく、Ｒ^６及びＲ^７より形成される環構造としては、例えば、メルドラム酸構造、バルビツール酸構造、ジメドン構造等が挙げられる。
Ｒ^１１で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１及びＲ^５で表されるアルキル基と同じものが挙げられる。

Ｒ^２及びＲ３が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ^２と結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４〜１４員環の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、オキサゾリン環、チアゾリン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、インドール環、イソインドール環等が挙げられる。

Ｒ^１及びＲ^２が互いに結合して形成される環構造としては、Ｒ^１及びＲ^２が結合している窒素原子を含む含窒素環構造であって、例えば、４〜１４員環（好ましくは４〜８員環）の含窒素複素環が挙げられる。Ｒ^１及びＲ^２が互いに連結して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。具体的には、Ｒ^２及びＲ^３が互いに連結して形成される環構造と同じものが挙げられる。

Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造としては、４〜１４員環の含窒素環構造が挙げられ、５員環〜９員環の含窒素環構造が好ましい。Ｒ^２及びＲ^４が互いに結合して形成される環構造は、単環であってもよいし、多環であってもよい。これらの環は置換基を有していてもよく、このような環構造としては、前記Ｒ^２とＲ^３により形成される環構造として例示したものと同じものが挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６が互いに連結して形成される環構造としては、Ｒ^３−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−Ｒ^６が環の骨格を形成する環構造である。例えば、フェニル基等が挙げられる。

Ｒ^２とＲ^３が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては式（Ｉ−Ａ）で表される化合物が挙げられ、Ｒ^２及びＲ^４が互いに連結して環構造を形成している式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ａ）、式（Ｉ−Ｂ）中、Ｒ^１、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、それぞれ独立して、含窒素環を表す。］

環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、環の構成単位として窒素原子を含有する含窒素環を表す。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、それぞれ独立して、単環であってもよいし、多環であってもよく、窒素以外のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、それぞれ独立して、５員環〜９員環の環であることが好ましい。

式（Ｉ−Ａ）で表される化合物は、式（Ｉ−Ａ−１）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ａ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ａ^１は、−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^１Ｄ−を表す。
Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。
Ｒ^１Ｄは、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。］

式（Ｉ−Ｂ）で表される化合物は、式（Ｉ−Ｂ−１）で表される化合物及び式（Ｉ−Ｂ−２）で表される化合物であることが好ましい。

［式（Ｉ−Ｂ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^１６は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜１２のアルキル基、アリール基を表す。］

［式（Ｉ−Ｂ−２）中、Ｒ^３、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^３０は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、メルカプト基、アミノ基、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基、炭素数２〜１３のアシル基、炭素数２〜１３のアシルオキシ基又は炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基を表す。
Ｒ^３１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、メルカプト基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアミノ基又は複素環基を表す。］

Ｒ^３０で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ^３０で表されるＲ^３０で表される炭素数２〜１３のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアシルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数２〜１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基が挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１４で表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基等が挙げられる。
Ｒ^３０は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、アミノ基又はメルカプト基であることが好ましい。

Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１４で表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルコキシ基としては、Ｒ^３０で表される炭素数１〜１２のアルコキシ基と同じものが挙げられる。
Ｒ^３１で表される炭素数１〜１２のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
Ｒ^３１で表される置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基等の１つの炭素数１〜８のアルキル基で置換されたアミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ基等の２つの炭素数１〜８のアルキル基で置換されたアミノ基；等が挙げられる。
Ｒ^３１で表される複素環としては、ピロリジニル基、ピペリジニル基、モルホリニル基等の炭素数４〜９の含窒素複素環基等が挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ^２及びＲ^４が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｃ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｃ）中、Ｒ^１、Ｒ^６及びＲ^７は上記と同じ意味を表す。
Ｒ^２１、Ｒ^２２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基又はヒドロキシ基を表す。
Ｘ^２及びＸ^３は、それぞれ独立して、−ＣＨ_２−又は−Ｎ（Ｒ^２５）＝を表す。
Ｒ^２５は、水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。］

Ｒ^２５で表される炭素数１〜２５のアルキル基としては、Ｒ^１で表される炭素数１〜２５のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ｒ^２５で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基等のアリール基：ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基：ビフェニル基等が挙げられ、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基であることが好ましい。Ｒ^２５で表される芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシ基等が挙げられる。

Ｒ^３及びＲ^６は、それぞれ独立して、電子吸引性基であることが好ましい。

Ｒ^１及びＲ^２が互いに連結して環構造を形成し、かつＲ^３及びＲ^６が互いに結合して環構造を形成する式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−Ｄ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｄ）中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^７は上記と同じ意味を表す。
Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７及びＲ^２８は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、ヒドロキシ基、アラルキル基を表す。］

Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７及びＲ^２８で表される炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ^１Ａ及びＲ^１Ｂで表される炭素数１〜１２のアルキル基と同じものが挙げられる。Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７及びＲ^２８で表される炭素数１〜１２のアルキル基が有していてもよい置換基としてはヒドロキシ基が挙げられる。
Ｒ^２５、Ｒ^２６、Ｒ^２７及びＲ^２８で表されるアラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基等の炭素数７〜１５のアラルキル基が挙げられる。

Ｒ^６及びＲ^７が互いに連結して環構造を形成している化合物（Ｉ）としては、式（Ｉ−Ｅ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ−Ｅ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。環Ｗ^３は、環状化合物を表す]
環Ｗ^３は、５員環〜９員環の環であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を環の構成単位として含んでいてもよい。

式（Ｉ−Ｅ）で表される化合物は、式（ＩＥ−１）で表される化合物であることが好ましい。

［式（ＩＥ−１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^５は、それぞれ上記と同じ意味を表す。
Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^ｑは、それぞれ独立して、水素原子又は置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、該アルキル基又はアラルキル基に含まれる−ＣＨ２−基は−ＮＲ^１Ｄ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｓ−に置換されていてもよく、Ｒ^１７及びＲ^１８は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^１８及びＲ^１９は互いに連結して環構造を形成してもよく、Ｒ^１９及びＲ^ｑは、互いに連結して環構造を形成してもよい。ｍ、ｐ、ｑはそれぞれ独立して０〜３の整数を表す。］

式（Ｉ）で表される化合物としては、以下の化合物が挙げられる。

光選択吸収剤の合計の含有量は、粘着剤層の波長４１０ｎｍにおける吸光度が０．１以上１．６以下となるように選択されれば限定されないが、粘着剤組成物において、例えば、全樹脂成分１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部であり、好ましくは０．０５〜１５質量部であり、より好ましくは０．１〜１０質量部である。
光選択吸収剤（Ａ）と光選択吸収剤（Ｂ）との質量比（光選択吸収剤（Ａ）／光選択吸収（Ｂ））は、通常０．０５〜２０であり、好ましくは０．１〜１０である。

（（メタ）アクリル系樹脂（Ａ））
（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、（メタ）アクリル酸エステル由来の構成単位を主成分（好ましくは５０質量％以上含む）とする重合体であることが好ましい。（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、一種以上の（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位（例えば、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位）を含んでもよい。なお本明細書において、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のいずれでもよいことを意味し、他に、（メタ）アクリレートなどというときの「（メタ）」も同様の趣旨である。

（メタ）アクリル酸エステルとしては、下記式（Ｘ）で示される（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる

［式（Ｘ）中、Ｒ^１０１は水素原子又はメチル基で表し、Ｒ^１０２は炭素数１〜１４のアルキル基または炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、該アルキル基または該アラルキル基の水素原子は、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。］

式（Ｘ）において、Ｒ^１０２は、好ましくは、炭素数１〜１４のアルキル基であり、より好ましくは、炭素数１〜８のアルキル基である。

式（Ｘ）で示される（メタ）アクリル酸エステルとしては、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ヘプチル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ノニル、（メタ）アクリル酸ｎ−デシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ドデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、等の（メタ）アクリル酸の直鎖状アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ペンチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｉ−オクチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ノニル、（メタ）アクリル酸ｉ−ステアリル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、等の（メタ）アクリル酸の分枝状アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸シクロへキシル、（メタ）アクリル酸イソボロニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸シクロドデシル、（メタ）アクリル酸メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、α−エトキシアクリル酸シクロヘキシル、等の（メタ）アクリル酸の脂環骨格含有アルキルエステル；
（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸の芳香環骨格含有エステル；
等が挙げられる。
また、（メタ）アクリル酸アルキルエステルにおけるアルキル基に置換基が導入された置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを挙げることもできる。置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルの置換基は、アルキル基の水素原子を置換する基であり、その具体例はフェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基を含む。置換基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルとして、具体的には、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシメチル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸２−（２−フェノキシエトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸フェノキシジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸フェノキシポリ（エチレングリコール）等が挙げられる。

これらの（メタ）アクリル酸エステルは、それぞれ単独で用いることができるほか、異なる複数のものを用いてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、ホモポリマーのガラス転移温度Ｔｇが０℃未満であるアクリル酸アルキルエステル（ａ１）由来の構成単位、及びホモポリマーのＴｇが０℃以上であるアクリル酸アルキルエステル（ａ２）由来の構成単位を含有することが好ましい。アクリル酸アルキルエステル（ａ１）由来の構成単位及びアクリル酸アルキルエステル（ａ２）由来の構成単位を含有することは、粘着剤層の高温耐久性を高めるうえで有利である。（メタ）アクリル酸アルキルエステルのホモポリマーのＴｇは、例えばＰＯＬＹＭＥＲ ＨＡＮＤＢＯＯＫ（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ）などの文献値を採用することができる。

アクリル酸アルキルエステル（ａ１）の具体例としては、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−及びｉ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−へキシル、アクリル酸ｎ−ヘプチル、アクリル酸ｎ−及びｉ−オクチル、アクリル酸２−エチルへキシル、アクリル酸ｎ−及びｉ−ノニル、アクリル酸ｎ−及びｉ−デシル、アクリル酸ｎ−ドデシル等のアルキル基の炭素数が２〜１２程度のアクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。

アクリル酸アルキルエステル（ａ１）は、１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。なかでも、本発明の粘着剤層を光学積層体に積層した際の追従性やリワーク性の観点から、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸２−エチルへキシルなどが好ましい。

アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、アクリル酸アルキルエステル（ａ１）以外の（アクリル酸アルキルエステルである。アクリル酸アルキルエステル（ａ２）の具体例は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸ｔ−ブチル等を含む。

アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、１種のみを用いてもよいし２種以上を併用してもよい。中でも、高温耐久性の観点から、アクリル酸アルキルエステル（ａ２）は、アクリル酸メチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸イソボロニル等を含むことが好ましく、アクリル酸メチルを含むことがより好ましい。

式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位は、（メタ）アクリル系樹脂に含まれる全構造単位中、５０質量％以上であることが好ましく、６０〜９５質量％であることが好ましく、６５〜９５質量％以上であることがより好ましい。

（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、極性官能基を有する単量体に由来する構造単位が好ましく、極性官能基を有する（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位がより好ましい。極性官能基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、置換もしくは無置換アミノ基、エポキシ基等の複素環基などが挙げられる。
極性官能基を有する単量体としては、
（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸１−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸２−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシヘプチル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸７−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシノニル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシドデシル、アクリル酸１０−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシウンデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１１−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシドデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシトリデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１３−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１４−ヒドロキシテトラデシル、（メタ）アクリル酸１４−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１５−ヒドロキシペンタデシル、（メタ）アクリル酸１５−ヒドロキシヘプタデシル等のヒドロキシ基を有する単量体；
（メタ）アクリル酸、カルボキシアルキル（メタ）アクリレート（例えば、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート）、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基を有する単量体；
アクリロイルモルホリン、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、ビニルピリジン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，５−ジヒドロフラン等の複素環基を有する単量体；
アミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の置換もしくは無置換アミノ基を有する単量体が挙げられる。
なかでも、（メタ）アクリル酸エステル重合体と架橋剤との反応性の点で、ヒドロキシ基を有する単量体またはおよびカルボキシル基を有する単量体が好ましく、ヒドロキシ基を有する単量体およびカルボキシル基を有する単量体のいずれもを含むことがより好ましい。

ヒドロキシ基を有する単量体としては、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸５−ヒドロキシペンチル、アクリル酸６−ヒドロキシヘキシルが好ましい。特に、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸４−ヒドロキシブチルおよびアクリル酸５−ヒドロキシペンチルを用いることで良好な耐久性を得ることができる。
カルボキシル基を有する単量体としては、アクリル酸を用いることが好ましい。

粘着剤層の外面に積層することができるセパレートフィルムの剥離力亢進を防ぐ観点から、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、アミノ基を有する単量体に由来の構造単位を実質的に含まないことが好ましい。ここで実質的に含まないとは、（メタ）アクリル系樹脂（ａ）を構成する全構成単位１００質量部中、０．１質量部以下であることをいう。

極性官能基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは、０．５質量部以上１５質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下、特に好ましくは１質量部以上７質量部以下である。

芳香族基を有する単量体に由来する構造単位の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の全構造単位１００質量部に対して、好ましくは２０質量部以下、より好ましくは４質量部以上２０質量部以下、さらに好ましくは４質量部以上１６質量部以下である。

（メタ）アクリル酸エステル以外の単量体に由来する構造単位としては、スチレン系単量体に由来する構造単位、ビニル系単量体に由来する構造単位、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体に由来する構造単位、（メタ）アクリルアミド系単量体に由来する構造単位なども挙げられる。

スチレン系単量体としては、スチレン；メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン等のアルキルスチレン；フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン等のハロゲン化スチレン；ニトロスチレン；アセチルスチレン；メトキシスチレン；および、ジビニルベンゼンが挙げられる。

ビニル系単量体としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニル等の脂肪酸ビニルエステル；塩化ビニル、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル；塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニリデン；ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等の含窒素複素芳香族ビニル；ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン；および、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリルが挙げられる。

分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有する単量体としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等の分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の分子内に３個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体が挙げられる。

（メタ）アクリルアミド系単量体としては、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（５−ヒドロキシペンチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（６−ヒドロキシヘキシル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−オキソ−１−イミダゾリジニル）エチル〕（メタ）アクリルアミド、２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１−メチルエトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１−メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メチルプロポキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチルエトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−エトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−プロポキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１−メチルエトキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１−メチルプロポキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−メチルプロポキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ブトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（１，１−ジメチルエトキシ）エチル〕（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。なかでも、Ｎ−（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）アクリルアミドおよびＮ−（２−メチルプロポキシメチル）アクリルアミドが好ましい。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍw）は、好ましくは、５０万〜２５０万である。重量平均分子量が５０万以上であると、高温環境における粘着剤層の耐久性が向上し、被着体と粘着剤層との間の浮き剥れや、粘着剤層の凝集破壊などの不具合を抑制しやすい。重量平均分子量が２５０万以下であると、塗工性の観点で有利である。粘着剤層の耐久性及び粘着剤組成物の塗工性の両立の観点から、重量平均分子量は好ましくは６０万〜１８０万であり、よく好ましくは７０万〜１７０万であり、特に好ましくは１００万〜１６０万である。また、重量平均分子量（Ｍw）と数平均分子量（Ｍn）との比で表される分子量分布（Ｍw／Ｍn）は、通常２〜１０、好ましくは３〜８、さらに好ましくは３〜６である。重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより分析でき、標準ポリスチレン換算の値である。

（メタ）アクリル酸樹脂（Ａ）は、酢酸エチルに溶解させ、濃度２０質量％の溶液としたとき、２５℃における粘度が、２０Ｐａ・ｓ以下であることが好ましく、０．１〜１５Ｐａ・ｓであることがより好ましい。該範囲の粘度であると、粘着剤組成物を基材に塗工する際の塗工性の観点から有利である。なお、粘度は、ブルックフィールド粘度計により測定できる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、例えば−６０〜２０℃、好ましくは−５０〜１５℃、さらに好ましくは−４５〜１０℃、特に−４０〜０℃であってもよい。Ｔｇが上限値以下であると粘着剤層の被着体基材に対するするぬれ性の向上に有利であり、下限値以上であると粘着剤層の耐久性の向上に有利である。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量計（ＤＳＣ）により測定できる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）は、例えば、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法などの公知の方法によって製造することができ、特に溶液重合法が好ましい。溶液重合法としては、例えば、単量体及び有機溶媒を混合し、窒素雰囲気下、熱重合開始剤を添加し、４０〜９０℃、好ましくは５０〜８０℃程度の温度条件下、３〜１５時間程度攪拌する方法が挙げられる。反応制御のため、重合中、連続的又は間歇的に単量体や熱重合開始剤を添加してもよい。該単量体や熱開始剤は有機溶媒に添加した状態であってもよい。

重合開始剤としては、熱重合開始剤や光重合開始剤等が用いられる。光重合開始剤としては、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンなどが挙げられる。熱重合開始剤としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）などのアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイドなどの有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素などの無機過酸化物などが挙げられる。また、過酸化物と還元剤とを併用したレドックス系開始剤なども使用できる。

重合開始剤の割合は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）を構成する単量体の総量１００質量部に対して、０．００１〜５質量部程度である。（メタ）アクリル系樹脂の重合は、活性エネルギー線（例えば紫外線など）による重合法を使用してもよい。

有機溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが挙げられる。

（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）の含有量は、粘着剤組成物１００質量％中、通常６０質量％〜９９．９質量％であり、好ましくは７０質量％〜９９．５質量％であり、より好ましくは８０質量％〜９９質量％である。

架橋剤（Ｂ）は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）中の極性官能基（例えばヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、複素環基等）と反応する。架橋剤（Ｂ）は（メタ）アクリル系樹脂等と架橋構造を形成し、耐久性やリワーク性に有利な架橋構造を形成する。

架橋剤（Ｂ）としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ及び粘着剤層の耐久性、架橋速度などの観点から、イソシアネート系架橋剤であることが好ましい。

イソシアネート系化合物としては、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物が好ましく、例えば、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネートなど）、脂環族イソシアネート系化合物（例えばイソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート）、芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等）などが挙げられる。また架橋剤（Ｂ）は、前記イソシアネート化合物の多価アルコール化合物による付加体（アダクト体）［例えば、グリセロール、トリメチロールプロパンなどによる付加体］、イソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール等と付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネート化合物などの誘導体であってもよい。架橋剤（Ｂ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらのうち、代表的には芳香族イソシアネート系化合物（例えばトリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート）、脂肪族イソシアネート系化合物（例えばヘキサメチレンジイソシアネート）又はこれらの多価アルコール化合物（例えば、グリセロール、トリメチロールプロパン）による付加体、又はイソシアヌレート体が挙げられる。架橋剤（Ｂ）が、芳香族イソシアネート系化合物及び／又はこれらの多価アルコール化合物、又はイソシアヌレート体による付加体であると、最適な架橋密度（又は架橋構造）の形成に有利なためか、粘着剤層の耐久性を向上できる。特に、トリレンジイソシアネート系化合物及び／又はこれらの多価アルコール化合物による付加体であると、例えば粘着剤層を偏光板に適用した場合等であっても耐久性を向上することができる。

架橋剤（Ｂ）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、通常０．０１〜１５質量部であり、好ましくは０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．１〜５質量部である。

本発明の光選択吸収性粘着剤層を形成する粘着剤組成物は、さらにシラン化合物（Ｄ）を含んでいてもよい。
シラン化合物（Ｄ）としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シラン化合物（Ｄ）は、シリコーンオリゴマーであってもよい。シリコーンオリゴマーの具体例を、モノマー同士の組み合わせの形で表記すると次のとおりである。

３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトプロピル基含有オリゴマー；メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメルカプトメチル基含有オリゴマー；３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−グリジドキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー等の３−グリジドキシプロピル基含有のコポリマー；３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のメタクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー；３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のアクリロイルオキシプロピル基含有オリゴマー；ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランオリゴマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランオリゴマー等のビニル基含有オリゴマー；３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー等のアミノ基含有のコポリマーなど。

シラン化合物（Ｄ）は、下記式（ｄ１）で表されるシラン化合物であってもよい。粘着剤組成物が下記式（ｄ１）で表されるシラン化合物を含むと、基材やガラス、透明電極等に対する密着性をさらに向上できるため、高温環境下における浮き剥がれや発泡等の発生しにくい耐久性良好な粘着剤層を形成できる。

（式中、Ｂは、炭素数１〜２０のアルカンジイル基又は炭素数３〜２０の二価の脂環式炭化水素基を示し、前記アルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されてもよく、Ｒ^ｄ７は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、Ｒ^ｄ１０、Ｒ^ｄ１１及びＲ^ｄ１２はそれぞれ独立して、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を示す）

式（ｄ１）において、Ｂは、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基などの炭素数１〜２０のアルカンジイル基；シクロブチレン基（例えば１，２−シクロブチレン基）、シクロペンチレン基（例えば１，２−シクロペンチレン基）、シクロヘキシレン基（例えば１，２−シクロへキシレン基）、シクロオクチレン基（例えば１，２−シクロオクチレン基）などの炭素数３〜２０の二価の脂環式炭化水素基、又はこれらのアルカンジイル基及び前記脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−が、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換された基を示す。好ましいＢは、炭素数１〜１０のアルカンジイル基である。Ｒｄ７はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、Ｒ^ｄ１０、Ｒ^ｄ１１及びＲ^ｄ１２はそれぞれ独立して、前記Ｒ^２１に例示の炭素数１〜５のアルキル基、又はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基を示す。好ましいＲ^ｄ８、Ｒ^ｄ９、Ｒ^ｄ１０、Ｒ^ｄ１１及びＲ^ｄ１２はそれぞれ独立して炭素数１〜５のアルコキシ基である。これらのシラン化合物（Ｄ）は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

具体的な前記式（ｄ１）で表されるシラン化合物としては、例えば、（トリメトキシシリル）メタン、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，２−ビス（トリエトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，３−ビス（トリエトキシシリル）プロパン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ブタン、１，４−ビス（トリエトキシシリル）ブタン、１，５−ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、１，５−ビス（トリエトキシシリル）ペンタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，６−ビス（トリエトキシシリル）ヘキサン、１，６−ビス（トリプロポキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタン、１，８−ビス（トリエトキシシリル）オクタン、１，８−ビス（トリプロポキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−５アルコキシシリル）Ｃ１−１０アルカン；ビス（ジメトキシメチルシリル）メタン、１，２−ビス（ジメトキシメチルシリル）エタン、１，２−ビス（ジメトキシエチルシリル）エタン、１，４−ビス（ジメトキシメチルシリル）ブタン、１，４−ビス（ジメトキシエチルシリル）ブタン、１，６−ビス（ジメトキシメチルシリル）ヘキサン、１，６−ビス（ジメトキシエチルシリル）ヘキサン、１，８−ビス（ジメトキシメチルシリル）オクタン、１，８−ビス（ジメトキシエチルシリル）オクタンなどのビス（ジＣ１−５アルコキシＣ１−５アルキルシリル）Ｃ１−１０アルカン；１，６−ビス（メトキシジメチルシリル）ヘキサン、１，８−ビス（メトキシジメチルシリル）オクタンなどのビス（モノＣ１−５アルコキシ−ジＣ１−５アルキルシリル）Ｃ１−１０アルカンなどが挙げられる。これらのうち、１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタン、１，３−ビス（トリメトキシシリル）プロパン、１，４−ビス（トリメトキシシリル）ブタン、１，５−ビス（トリメトキシシリル）ペンタン、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタンなどのビス（トリＣ１−３アルコキシシリル）Ｃ１−１０アルカンが好ましく、特に、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、１，８−ビス（トリメトキシシリル）オクタンが好ましい。

シラン化合物（Ｄ）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０３〜５質量部であり、より好ましくは０．０５〜２質量部であり、さらに好ましくは０．１〜１質量部である。上記上限値以下であると、粘着剤層からのシラン化合物（Ａ）のブリードアウトの抑制に有利であり、上記下限値以上であると、粘着剤層と、金属層やガラス基板等との密着性（又は接着性）を向上しやすくなり、耐剥がれ性などの向上に有利である。

粘着剤組成物は、さらに帯電防止剤を含有していてもよい。
帯電防止剤としては、界面活性剤、シロキサン化合物、導電性高分子、イオン性化合物等が挙げられ、イオン性化合物であることが好ましい。イオン性化合物としては、慣用のものが挙げられる。イオン性化合物を構成するカチオン成分としては、有機カチオン、無機カチオンなどが挙げられる。有機カチオンとしては、例えばピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、アンモニウムカチオン、スルホニウムカチオン、ホスホニウムカチオンなどが挙げられる。無機カチオンとしては、例えばリチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン、セシウムカチオンなどのアルカリ金属カチオン、マグネシウムカチオン、カルシウムカチオンなどのアルカリ土類金属カチオンなどが挙げられる。特に（メタ）アクリル系樹脂との相溶性の観点からピリジニウムカチオン、イミダゾリウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、リチウムカチオン、カリウムカチオンが好ましい。イオン性化合物を構成するアニオン成分としては、無機アニオン及び有機アニオンのいずれでもよいが、帯電防止性能の点で、フッ素原子を含むアニオン成分が好ましい。フッ素原子を含むアニオン成分としては、例えばヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ_６−）、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ−］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ_２）_２Ｎ−］、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ−]などが挙げられる。これらのイオン性化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。特に、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドアニオン［（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｎ−］、ビス（フルオロスルホニル）イミドアニオン［（ＦＳＯ_２）２Ｎ−］、テトラ(ペンタフルオロフェニル)ボレートアニオン[（Ｃ_６Ｆ_５）_４Ｂ−]が好ましい。
粘着剤組成物から形成される粘着剤層の帯電防止性能の経時安定性の点で、室温で固体であるイオン性化合物が好ましい。

帯電防止剤の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂（Ａ）１００質量部に対して、例えば、０．０１〜２０質量部、好ましくは０．１〜１０質量部、さらに好ましくは１〜７質量である。

粘着剤組成物は、溶剤、架橋触媒、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、顔料、防錆剤、無機フィラー、光散乱性微粒子等の添加剤を１種又は２種以上含有することができる。

［位相差層］
本発明の光学積層体は、光選択吸収性粘着剤層の偏光子とは反対側に積層された位相差層をさらに含んでもよい。位相差層は１層または２層以上であってもよい。図２に示す光学積層体２００は、第１位相差層３０と第２位相差層３１を含む。

位相差層は、光学異方性を示す光学フィルムである。光学異方性を示す光学フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを１．０１〜６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。延伸フィルムの中でも、アセチルセルロース、ポリエステル、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムであることが好ましい。また、位相差層は、重合性液晶化合物を基材に塗布・配向によって光学異方性を発現させた、重合性液晶化合物の硬化物からなる位相差層であってもよい。

なお、本明細書において、位相差層は、ゼロレタデーションである位相差層を含み、一軸性位相差フィルム、低光弾性率位相差フィルム、広視野角位相差フィルムなどと称されるフィルムも含む。
ゼロレタデーションである位相差層とは、正面レタデーションＲeと厚み方向のレタデーションＲthとが、ともに−１５〜１５ｎｍであり、光学的に等方なフィルムをいう。ゼロレタデーションフィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（鎖状ポリオレフィン系樹脂、ポリシクロオレフィン系樹脂など）またはポリエチレンテレフタレート系樹脂からなる樹脂フィルムが挙げられ、レタデーション値の制御が容易で、入手も容易であるという点で、セルロース系樹脂またはポリオレフィン系樹脂が好ましい。ゼロレタデーションフィルムは、保護フィルムとしても用いることができる。ゼロレタデーションフィルムとしては、富士フイルム（株）から販売されている“Ｚ−ＴＡＣ”（商品名）、コニカミノルタオプト（株）から販売されている“ゼロタック（登録商標）”、日本ゼオン（株）から販売されている“ＺＦ−１４”（商品名）などが挙げられる。

本発明の光学積層体において、位相差層は、重合性液晶化合物の硬化物である位相差層が好ましい。
重合性液晶化合物の硬化物である位相差層としては、第一の形態〜第五の形態が挙げられる。
第一の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差層
第二の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差層
第三の形態：棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差層
第四の形態：円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差層
第五の形態：円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差層
たとえば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられる光学フィルムとしては、第一の形態、第二の形態、第五の形態が好適に用いられる。またはこれらの形態の位相差層を積層させて用いてもよい。

位相差層が、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層（以下、「光学異方性層」と称する場合がある）である場合、位相差層は逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式（７）および式（８）を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （７）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （８）
本発明の光学積層体において、位相差層が第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式（７）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。さらに１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１５０が好ましい。

位相差層の形成に用いられる重合性液晶化合物としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報、特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１１−１６２６７８号公報、特開２０１６−８１０３５号公報、国際公開第２０１７／０４３４３８号及び特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物等が挙げられる。
重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差層を製造する方法は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法等が挙げられる。

重合性液晶化合物を硬化してなる液晶硬化層である位相差層の厚みは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは０．５μｍ以上８μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ以上６μｍ以下である。

液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させた位相差層や、無機層状化合物の塗布によって光学異方性を発現させた位相差層としては、温度補償型位相差フィルムと称されるフィルム、ＪＸ日鉱日石エネルギー（株）から販売されている“ＮＨフィルム”（商品名；棒状液晶が傾斜配向したフィルム）、富士フイルム（株）から販売されている“ＷＶフィルム”（商品名；円盤状液晶が傾斜配向したフィルム）、住友化学（株）から販売されている“ＶＡＣフィルム”（商品名；完全二軸配向型のフィルム）、住友化学（株）から販売されている“new VACフィルム”（商品名；二軸配向型のフィルム）などが挙げられる。

位相差層は、透過光に１／４波長分の位相差を付与するλ／４位相差層、透過光に１／２波長分の位相差を付与するλ／２位相差層、ポジティブＡプレート、およびポジティブＣプレートであることができる。図２に示す光学積層体２００のように、第１位相差層３０と第２位相差層３１を含む場合、第１位相差層３０と第２位相差層３１の組合せとして、λ／２位相差層とλ／４位相差層の組合わせ、λ／４位相差層とポジティブＣ層の組合せ等が挙げられる。

本発明の光学積層体は、λ／４位相差層を有する円偏光板として構成してもよい。円偏光板は、反射防止用偏光板として用いることができる。

［貼合層］
本発明の光学積層体は、２つの層を接合するための貼合層を含むことができる。貼合層としては、接着剤層、粘着剤層（以下、「第２粘着剤層」ともいう）等が挙げられる。図２に示す光学積層体２００は、第１位相差層３０と第２位相差層３１との間に介在してこれらを接合する接着剤層３３と、第２位相差層３１の接着剤層３３とは反対側の表面に積層された第２粘着剤層３２とを含む。

接着剤層には、水系接着剤、活性エネルギー線硬化性接着剤、または熱硬化性接着剤等が用いられる。接着剤層の厚みは、例えば１０ｎｍ以上２０μｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以上１０μｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以上５μｍ以下である。

第２粘着剤層は、上記した光選択吸収性粘着剤層を形成する粘着剤組成物と同様の粘着剤組成物から構成されてもよいし、（メタ）アクリル系、ゴム系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系のような樹脂を主成分とする粘着剤組成物（以下、「第２粘着剤組成物」ともいう）で構成されてもよい。第２粘着剤組成物としては、透明性、耐候性、耐熱性等に優れる（メタ）アクリル系樹脂をベースポリマーとする粘着剤組成物が好適である。第２粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型、熱硬化型であってもよい。第２粘着剤層の厚みは、例えば０．１〜１５０μｍであり、通常８〜６０μｍであり薄型化の点では３０μｍ以下、更には２０μｍ以下が好ましい。

＜光学積層体の製造方法＞
光学積層体１００、２００は、貼合層を介して積層体１００を構成する層同士を貼合する工程を含む方法によって製造することができる。貼合層を介して層同士を貼合する場合には、密着性を高めるために、貼合面の一方または両方に対して、例えばコロナ処理等の表面活性化処理を施すことが好ましい。

＜光学積層体＞
本発明の光学積層体は、平面状であり、その面積は例えば３０ｍｍ×３０ｍｍ〜１８０ｍｍ×９０ｍｍである。本発明の光学積層体は長方形、正方形などの矩形であってもよいし、矩形を構成する辺の一部が切り欠かれた切欠き部を有する形状や、半円形状、面内に貫通孔を有する形状などの、いわゆる異形形状であってもよい。光学積層体を構成する偏光子の吸収軸は、光学積層体の外形が直線の辺を有する場合には、その辺に平行であってもよいし、直交していてもよいし、斜め、例えば４５°の角度で交差していてもよい。光学積層体が位相差層を有し、この位相差層が面内に遅相軸を有する場合、この遅相軸と、光学積層体を構成する偏光子の吸収軸とは４５°で交わっていてもよいし、１５°で交わっていてもよいし、７５°で交わっていてもよい。

＜画像表示装置＞
光学積層体１００、２００は、画像表示パネルの前面（視認側）に配置されて、画像表示装置の構成要素として用いることができる。円偏光板である光学積層体は、画像表示装置において反射防止機能を付与する反射防止用偏光板として用いることもできる。画像表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。

以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。実施例および比較例中の「％」および「部」は、特記しない限り、「質量％」および「質量部」である。

［片面保護偏光板の作製］
（偏光子の作製）
厚み２０μｍ、重合度２４００、ケン化度９９％以上のポリビニルアルコールフィルムを、熱ロール上で延伸倍率４．１倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水１００重量部あたりヨウ素０．０５重量部およびヨウ化カリウム５重量部を含有する染色浴に２８℃で６０秒間浸漬した。

次いで、水１００重量部あたりホウ酸５．５重量部およびヨウ化カリウム１５重量部を含有するホウ酸水溶液１に、６４℃で１１０秒間浸漬した。次いで、水１００重量部あたりホウ酸５．５重量部およびヨウ化カリウム１５重量部を含有するホウ酸水溶液２に、６７℃で３０秒間浸漬した。その後、１０℃の純水を用いて水洗し、乾燥して、偏光子を得た。得られた偏光子の厚みは８μｍであり、ホウ素含有量は４．３重量％あった。

（水系接着剤の調整）
水１００重量部に対し、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ、商品名「ＫＬ−３１８」）を３質量部溶解し、その水溶液に水溶性エポキシ樹脂であるポリアミドエポキシ系添加剤（田岡化学工業株式会社、商品名「スミレーズレジン（登録商標）６５０（３０）、固形分濃度３０重量％の水溶液）を１．５質量部添加して、水系接着剤を調製した。

（保護フィルムＡ、保護フィルムＢおよび剥離フィルムＢ）
保護フィルムＡとして、厚み２５μｍのノルボルネン系樹脂からなる延伸フィルムに、厚み３μｍのハードコート層を形成したフィルム（日本製紙株式会社製、商品名「ＣＯＰ２５ＳＴ−ＨＣ」）を用いた。
保護フィルムＢとして、厚み２０μｍのトリアセチルセルロースフィルム〔富士フィルム（株）製の商品名「ＺＲＧ２０ＳＬ」〕を用いた。
剥離フィルムＢとして、トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム株式会社製、「ＴＤ８０ＵＬ」）を用いた。剥離フィルムの厚みは８０μｍであり、透湿度は５０２ｇ／ｍ２・２４ｈｒであった。

（片面保護偏光板の作製）
作製した偏光子を連続的に搬送するとともに保護フィルムＡのロールから保護フィルムＡを連続的に巻出し、また、剥離フィルムＢのロールから剥離フィルムＢを連続で巻きだした。偏光子とコロナ処理した保護フィルムＡとの間に水系接着剤を注入するとともに、偏光子と剥離フィルムＢとの間に純水を注入し、貼合ロールに通して、保護フィルムＡ／水系接着剤／偏光子／純水／剥離フィルムＢからなる積層フィルムを得た。積層フィルムを搬送し、乾燥炉で８０℃、３００秒の加熱処理を行うことにより、水系接着剤を乾燥させるとともに、偏光子と剥離フィルムＢとの間に介在する純水を揮発除去して、剥離フィルム付片面保護偏光板を得た。剥離フィルム付片面保護偏光板から剥離フィルムＢを剥離し、片面保護偏光板を得た。

［両面保護偏光板の作製］
上記片面保護偏光板の作製において、剥離フィルムＢに代えて保護フィルムＢを用いて、保護フィルムＡ／水系接着剤／偏光子／水系接着剤／保護フィルムＢからなる積層フィルムを得た点以外は、同様にして両面保護偏光板を得た。

［位相差積層体の作製］
（第１液晶硬化層）
第１液晶硬化層（第１位相差層）として、ネマチック液晶化合物が硬化した層と、配向膜と、透明基材とからなるλ／４の位相差を与える層を用いた。なお、ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層の合計の厚みは２μｍであった。

（第２液晶硬化層の作製）
配向層形成用の組成物として、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−６００）１０．０質量部と、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＴＭＰＴ）１０．０質量部と、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業株式会社製、Ａ−ＨＤ−Ｎ）１０．０質量部と、光重合開始剤としてイルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製、Ｉｒｇ−９０７）１．５０質量部とを、溶媒メチルエチルケトン７０．０質量部中で溶解させ、配向層形成用塗工液を調整した。

基材フィルムとして厚み２０μｍの長尺状の環状オレフィン系樹脂（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン株式会社製）を準備し、基材フィルムの片面に、配向層形成用塗工液をバーコーターにて塗布した。

塗工後の塗布層に温度８０℃で６０秒間の熱処理を施した後、紫外線（ＵＶＢ）を２２０ｍＪ／ｃｍ^２照射し、配向層形成用の組成物を重合し、硬化させて、基材フィルム上に厚み２．３μｍの配向層を形成した。

位相差層形成用の組成物として、光重合性ネマチック液晶化合物（メルク社製、ＲＭＭ２８Ｂ）２０．０質量部と、光重合開始剤としてイルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製、Ｉｒｇ−９０７）１．０質量部とを、溶媒プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８０．０質量部中に溶解させ、位相差層形成用塗工液を調整した。

先に得られた配向層上に位相差層形成用塗工液を塗布し、塗布層に温度８０℃で６０秒間の熱処理を施した。その後、紫外線（ＵＶＢ）を２２０ｍＪ／ｃｍ^２照射し、位相差層形成用の組成物を重合し、硬化させて、配向層上に厚み０．７μｍの位相差層を形成した。この様にして基材フィルム上に配向層と位相差層とからなる厚み３μｍの第２液晶硬化層（第２位相差層）を得た。

（位相差積層体の作製）
第１液晶層と第２液晶層とを、紫外線硬化型接着剤（厚み１μｍ）により、それぞれの液晶層面（基材フィルムとは反対側の面）が貼合面となるように貼り合わせた。次いで、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させて、第１液晶硬化層と第２液晶硬化層の２層の位相差層を含む位相差積層体を作製した。第１液晶硬化層と、紫外線硬化型接着剤層と、第２液晶硬化層を含む位相差積層体の厚みは６μｍであった。

［光選択吸収性粘着剤層の作製］
（アクリル系樹脂（Ａ−１）の調整）
冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８６．４部、アクリル酸ブチル６１．９部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル１．９部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を６０℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。得られた混合物を６０℃で１時間保持し、次いで内温を５０〜７０℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られたアクリル樹脂は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが６０万、Ｍｗ／Ｍｎが７．０であった。これをアクリル系樹脂（Ａ−１）とする。ＤＳＣによるガラス転移温度は−５２．９℃であった。

（粘着剤層（１）の作製）
アクリル系樹脂（Ａ−１）の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、該溶液の固形分１００部に対して、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％：東ソー製）０．５部、シラン化合物（信越化学工業製：ＫＢＭ−４０３）０．５部および特開２０１９−００７００１号公報の段落［０１４２］に記載の合成例２に光選択吸収化合物（２）として記載されている下記式（ａａ２）で表される化合物（光選択吸収剤）５．４部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように２−ブタノンを添加し、粘着剤組成物（１）を得た。なお、上記架橋剤（コロネートＬ）の配合量は、有効成分としての質量部数である。

離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製ＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０、以下、「セパレーター」と略記する）の離型処理面に、上記で調製した粘着剤組成物（１）を、乾燥後の粘着剤層の厚みが１７μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥させて粘着剤層を作製した。得られた粘着剤層を粘着剤層（１）とした。表１に粘着剤層（１）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

（粘着剤層（２）の作製）
光選択吸収剤の配合量を２．５部として、乾燥後の粘着剤層の厚みが５μｍとなるようにした点以外は、粘着剤層（１）と同様の方法によって、粘着剤層（２）を作製した。表１に粘着剤層（２）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

（粘着剤層（３）の作製）
光選択吸収剤の配合量を３．７部として、乾燥後の粘着剤層の厚みが５μｍとなるようにした点以外は、粘着剤層（１）と同様の方法によって、粘着剤層（３）を作製した。表１に粘着剤層（３）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

（粘着剤層（４）の作製）
光選択吸収剤の配合量を２．５部として、乾燥後の粘着剤層の厚みが１７μｍとなるようにした点以外は、粘着剤層（１）と同様の方法によって、粘着剤層（４）を作製した。表１に粘着剤層（４）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

（粘着剤層（５）の作製）
光選択吸収剤の配合量を３．７部として、乾燥後の粘着剤層の厚みが１７μｍとなるようにした点以外は、粘着剤層（１）と同様の方法によって、粘着剤層（５）を作製した。表１に粘着剤層（５）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

（粘着剤層（６）の作製）
光選択吸収剤の配合量を５．４部として、乾燥後の粘着剤層の厚みが１７μｍとなるようにした点以外は、粘着剤層（１）と同様の方法によって、粘着剤層（６）を作製した。表１に粘着剤層（６）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

（粘着剤層（７）の作製）
光選択吸収剤の配合量を２．９部として、乾燥後の粘着剤層の厚みが１７μｍとなるようにした点以外は、粘着剤層（１）と同様の方法によって、粘着剤層（７）を作製した。表１に粘着剤層（７）の単位面積当たりの光選択吸収剤の含有量を示す。

［第２粘着剤層の作製］
上記アクリル樹脂（Ａ−１）の酢酸エチル溶液（樹脂濃度：２０％）に、架橋剤（コロネートＬ、固形分７５％：東ソー製）０．５部およびシラン化合物（信越化学工業製：ＫＢＭ−４０３）０．５部を混合し、さらに固形分濃度が１４％となるように２−ブタノンを添加して粘着剤組成物を得た。なお、上記架橋剤（コロネートＬ）の配合量は、有効成分としての質量部数である。

光選択吸収性粘着剤層の作製に用いたセパレーターの離型処理面に、粘着剤組成物を、乾燥後の粘着剤層の厚みが１５μｍまたは２５μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥させて第２粘着剤層を作製した。

［光学積層体の作製］
（参考例１）
作製した両面保護偏光板の保護フィルムＢ側に粘着剤層（１）を貼合し、セパレーターを剥離した。粘着剤層（１）のセパレーターを剥離した面と作製した位相差積層体の第１液晶硬化層側とを貼合し、第２液晶硬化層の基材フィルムを剥離した。基材フィルムを剥離した面に、表１に記載の厚みを有するセパレーター付き第２粘着剤層を貼合した。

（実施例１）
作製した片面保護偏光板の偏光子側に粘着剤層（２）を貼合し、セパレーターを剥離した。粘着剤層（２）のセパレーターを剥離した面と作製した位相差積層体の第１液晶硬化層側とを貼合し、第２液晶硬化層の基材フィルムを剥離した。基材フィルムを剥離した面に、表１に記載の厚みを有するセパレーター付き第２粘着剤層を貼合した。実施例１の光学積層体は、図２に示すような構成を有していた。

（実施例２，３、および比較例１，２）
実施例１の光学積層体と同様の方法により、実施例１の粘着剤層（２）に代えて表１に示す粘着剤層を用い、また表１に記載の厚みを有するセパレータ付き第２粘着剤層を用いて、実施例２，３、および比較例１，２の光学積層体をそれぞれ作製した。実施例２，３、および比較例１，２の光学積層体は、図２に示すような構成を有していた。

（実施例４）
作製した片面偏光板の偏光子側に粘着剤層（４）を貼合し、セパレータを剥離して実施例４の光学積層体を得た。実施例４の光学積層体は、図１に示すような構成を有していた。

（実施例５および比較例３）
実施例４の光学積層体の同様の方法により、実施例４の粘着剤層（４）に代えて表１に示す粘着剤層を用い、また表１に示す記載の厚みを有するセパレータ付き第２粘着剤層を用いて、実施例５および比較例３の光学積層体をそれぞれ作製した。実施例５および比較例３の光学積層体は、図１に示すような構成を有していた。

［粘着剤層の吸光度測定］
粘着剤層（１）から粘着剤層（７）をそれぞれガラスに貼合し、セパレーターを剥離した後、粘着剤層にシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン株式会社製ＺＦ−１４）を貼合し、粘着剤層評価用積層体を作製した。粘着剤層評価用積層体を分光光度計ＵＶ−２４５０（株式会社島津製作所製）にセットし、ダブルビーム法により１ｎｍステップ３００〜８００ｎｍの波長範囲で吸光度を測定した。作製した粘着剤層の波長４１０ｎｍにおける吸光度を表１に示す。なお、波長４１０ｎｍにおける、ガラスの吸光度及びＣＯＰフィルムの吸光度はいずれも０である。

［重量平均分子量（Ｍｗ）の測定］
アクリル樹脂（Ａ−１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）として、移動相にテトラヒドロフランを用い、下記のサイズエクスクルージョンクロマトグラフィー（ＳＥＣ）により求めた。測定する（メタ）アクリル系ポリマーを約０．０５質量％の濃度でテトラヒドロフランに溶解させ、ＳＥＣに１０μＬ注入した。移動相は、１．０ｍＬ／分の流量で流した。カラムとして、ＰＬｇｅｌ ＭＩＸＥＤ−Ｂ（ポリマーラボラトリーズ製）を用いた。検出器にはＵＶ−ＶＩＳ検出器（商品名：Ａｇｉｌｅｎｔ ＧＰＣ）を用いた。

［ホウ素含有量の測定］
偏光子０．２ｇを１．９ｗｔ％マンニトール水溶液２００ｇに溶解した。得られた水溶液を１ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ水溶液で滴定し、中和に要したＮａＯＨ液の量と検量線の比較により、偏光子のホウ素含有量を算出した。

［耐湿熱試験および色抜けの観察］
参考例１、実施例１〜５および比較例１〜３で得られた光学積層体のセパレーターを剥離し、無アルカリガラス板に貼合した後、温度６５℃、湿度９０％ＲＨの環境下に５００時間放置した。その後、試験した光学積層体とは逆の無アルカリガラス面にクロスニコルの関係になる偏光板を貼合し、光学顕微鏡にて観察し、観察画像を保存した。光学顕微鏡は、株式会社キーエンス製の「ＶＨＸ−５００」を用いた。図３は、光学顕微鏡での観察画像の一例を示す。図３において、光学積層体の端部５０から内側方向に矢印に示す直線（端部５０から垂直方向に延在する直線）に沿って観察すると、色抜け領域５１と色抜けが生じていない領域（非色抜け領域）５２とがあることがわかる。

［画像処理による色抜け量の測定］
顕微鏡での観察画像を、画像解析ソフト「ＩｍａｇｅＪ（フリーソフト）」を使用し、白黒２５６階調（０〜２５５）に変換した。白黒２５６階調（０〜２５５）に変換する方法は、ＲＧＢ値の平均をとる方法を使用した。図４は変換後のデータの一例を示す。光学積層体の端部５０に対して垂直方向（図３中矢印）の階調プロファイルにおける色抜け領域５１と非色抜け領域５２の中間点（色抜けグラデーションの中間）を光学積層体の色抜け端部とし（図４）、光学積層体の端部５０から色抜け端部の距離（μｍ）を色抜け距離として測定した。光学積層体の色抜け距離を表１に示す。色抜け距離が小さいほど、色抜け範囲が狭く、耐湿熱性に優れる。

１０ 偏光子、１１ 保護フィルム、２０ 光選択吸収性粘着剤層、３０ 第１位相差層、３１ 第２位相差層、３２ 第２粘着剤層、３３ 接着剤層、５０ 光学積層体の端部、５１ 色抜け領域、５２ 非色抜け領域、１００，２００ 光学積層体、３００ 位相差積層体。

Claims (10)

1. 偏光子と、前記偏光子に接して積層された光選択吸収性粘着剤層と、を有する光学積層体であって、
   前記偏光子は、ヨウ素が吸着配向され、ホウ素の含有量が５．０質量％以下であり、
   前記光選択吸収性粘着剤層は、光選択吸収剤を含む粘着剤組成物から形成され、波長４１０ｎｍにおける吸光度が０．１以上１．６以下である、光学積層体。
2. 前記偏光子の前記光選択吸収性粘着剤層側とは反対側に積層された保護フィルムをさらに有する、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記光選択吸収性粘着剤層は、単位面積当たりの前記光選択吸収剤の含有量が０．０１ｇ／ｍ^２以上５ｇ／ｍ^２以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
4. 前記粘着剤組成物は、全樹脂成分１００質量部に対して前記光選択吸収剤を０．１質量部以上１０質量部以下含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体。
5. 前記光選択吸収性粘着剤層は、厚みが０．１μｍ以上１５０μｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学積層体。
6. 前記光選択吸収剤は、分子量が１００以上３０００以下の有機系光選択吸収剤である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学積層体。
7. 前記光選択吸収性粘着剤層の前記偏光子とは反対側に積層されたλ／４位相差層をさらに有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学積層体。
8. 反射防止用偏光板である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学積層体。
9. 画像表示パネルと、前記画像表示パネルの前面に配置された請求項８に記載の光学積層体とを含む、画像表示装置。
10. 前記画像表示パネルは、有機ＥＬ表示パネルである、請求項９に記載の画像表示装置。

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