TWI744270B - 光吸收性化合物、以及包含該化合物之聚合物組成物、聚合物薄膜及硬化膜 - Google Patents

光吸收性化合物、以及包含該化合物之聚合物組成物、聚合物薄膜及硬化膜 Download PDF

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Abstract

本發明的課題係以提供一種可選擇性吸收波長400nm附近的光，同時對各種溶劑等之溶解性及/或與疏水性物質的親和性優異之光吸收性化合物作為目的。又，本發明亦以提供一種包含該光吸收性化合物之光學薄膜及硬化膜作為目的。

本發明的解決手段為一種下述式(I)表示之化合物。

Description

光吸收性化合物、以及包含該化合物之聚合物組成物、聚合物薄膜及硬化膜
本發明係關於光吸收性化合物、以及包含該化合物之聚合物組成物、聚合物薄膜及硬化膜。
有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等之平面面板顯示裝置(FPD)中，使用有稱為有機EL元件或液晶晶胞等之顯示元件、及偏光板或相位差板等之光學薄膜的各式各樣構件。此等之構件所使用之有機EL化合物及液晶化合物等之材料由於有有機物，因紫外線(UV)導致劣化而變成問題。為了解決這般的問題，正作出於顯示裝置所使用之偏光板之保護薄膜添加紫外線吸收劑等之對策。例如專利文獻1中，藉由於此等之顯示裝置所使用之偏光板的保護薄膜添加UV吸收劑，實現防止構件之劣化。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2006-308936號公報
近年來在顯示顯示器，在長時間之顯示器視別時有疲勞或視力降低的問題，作為其對策，近年來正尋求切斷短波長之可見光的藍光切斷功能。
另一方面，為了良好之色彩表現，難以吸收藍色光即波長430nm附近之光故較佳。因此，變成需要可選擇性吸收波長400nm附近之光的光吸收劑。
又，該光吸收劑必須溶解於黏著劑或溶劑等。光吸收劑之溶解性不夠充分時，例如於相位差薄膜等之光學薄膜添加光吸收劑後施加熱進行拉伸時，光吸收劑滲出(bleed out)薄膜表面，無法充分表現光吸收性。因此，為了作為光吸收劑使用，必須與疏水性物質之親和性或對各種溶劑的溶解性優異。
因此，本發明係以提供一種可選擇性吸收波長400nm附近的光，同時對各種溶劑等之溶解性及/或與疏水性物質的親和性優異之光吸收性化合物作為目的。又，本發明亦以提供一種包含該光吸收性化合物之光學薄膜及硬化膜作為目的。
本發明係提供以下之適合態樣[1]~[12]者。
[1]一種下述式(I)表示之化合物，
Figure 105143400-A0202-12-0003-3
(式(I)中，A係表示亞甲基、第二級胺基、氧原子或硫原子，R1係表示氫原子、或碳數1~10之烷基，該烷基具有至少一個亞甲基的情況下，該亞甲基之至少一個可被氧原子或硫原子所取代，R2及R3係分別獨立表示氫原子、或碳數1~12之烷基，R4為碳數3~50之烷基、或具有至少一個亞甲基之碳數3~50之烷基，該亞甲基之至少一個係表示被氧原子取代之烷基，該烷基上之碳原子中可與取代基鍵結，X1係表示電子吸引基，Y1係表示-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-NR5-、-NR6CO-、或-CONR7-，R5、R6及R7係分別獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基)。
[2]如前述[1]之化合物，其中，式(I)中之R4係具有碳數3~12之分支構造的烷基。
[3]如前述[1]之化合物，其中，前述式(I)表示之化合物係以下述式(I-I)表示，
Figure 105143400-A0202-12-0004-4
(式(I-I)中，R4-1係表示碳數1~6之烷基，n係表示1~10之整數，A、R1、R2及R3係與式(I)中相同)。
[4]如前述[3]之化合物，其中，前述式(I-I)表示之化合物係以下述式(I-II)表示，
Figure 105143400-A0202-12-0004-5
(式(I-II)中，R4-1及n係與式(I-I)中相同)。
[5]一種聚合物組成物，其係含有如前述[1]~[4]中任一項之化合物與聚合物。
[6]如前述[5]之聚合物組成物，其中，前述聚合物係選自由聚(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸乙酯、聚酯、聚碳酸酯、聚環烯烴及三乙醯基纖維素所構造之群組中之至少1種。
[7]如前述[5]或[6]之聚合物組成物，其中，前述聚合物係將下述式(A-1)表示之(甲基)丙烯酸酯單體(A-1)、與 具有羥基之(甲基)丙烯酸單體(A-2)作為構成單位之共聚物，重量平均分子量為50萬~200萬之聚(甲基)丙烯酸酯，
Figure 105143400-A0202-12-0005-6
(式(A-1)中，Rp係表示氫原子或甲基，Rq係表示碳數1~20之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子可被-O-(C2H4O)n-Rr所取代，n係表示0~4之整數，Rr係表示碳數1~12之烷基、碳數1~12之芳基)；前述聚合物組成物係包含相對於前述聚合物100質量份為0.01~5質量份之交聯劑、及0.01~10質量份之前述化合物。
[8]一種聚合物薄膜，其係由如前述[5]~[7]中任一項之聚合物組成物所構成。
[9]一種黏著劑，其係由如前述[7]之聚合物組成物所構成。
[10]一種光聚合性組成物，其係包含具有光聚合性官能基之單體、光聚合起始劑、溶劑、及如前述[1]~[4]中任一項之化合物。
[11]一種硬化膜，其係由如前述[10]之光聚合性組成物的硬化物所構成之硬化膜，滿足下述式(1)~(3)， (1)0nm≦Re<10nm (2)A(420)/A(400)≦0.4 (3)Hz≦3；(式(1)中，Re係表示於波長550nm之面內相位差值，式(2)中之A(420)係表示在420nm之吸光度，A(400)係表示在400nm之吸光度，式(3)中之Hz係表示濁度)。
[12]一種圖像顯示裝置，其係具備選自由如前述[8]之聚合物薄膜、如前述[9]之黏著劑、及如前述[11]之硬化膜所構造之群組中之至少1種。
根據本發明，可提供一種可選擇性吸收波長400nm附近的光，同時對各種溶劑等之溶解性及/或與疏水性物質的親和性優異之光吸收性化合物。又，本發明可提供一種包含該光吸收性化合物之光學薄膜及黏著劑。
1‧‧‧偏光板
2‧‧‧表面處理層
3‧‧‧(第二)保護薄膜
4‧‧‧第一保護薄膜
6‧‧‧層間黏著劑
7‧‧‧相位差薄膜
10‧‧‧偏光板
15‧‧‧附黏著劑之偏光板
20‧‧‧黏著劑薄片
30‧‧‧圖像顯示元件(玻璃基板)
40‧‧‧光學層合體
[圖1]表示在本發明之一實施態樣之光學層合體的層構造之例之剖面示意圖。
[圖2]表示在本發明之一實施態樣之光學層合體的層構造之例之剖面示意圖。
根據本發明之一實施態樣，提供下述式(I)表示之化合物(I)。
Figure 105143400-A0202-12-0007-7
在上述式(I)，A係表示亞甲基、第二級胺基、氧原子或硫原子。A從表現高度光選擇吸收性的觀點來看，係表示較佳為亞甲基、第二級胺基或氧原子。
在上述式(I)，R1係表示氫原子、或碳數1~10之烷基。R1從表現高度光選擇吸收性的觀點來看，係表示較佳為碳數1~8，更佳為碳數1~5，再更佳為碳數1~3之烷基。於此，該烷基具有至少一個亞甲基的情況下，該亞甲基之至少一個可被氧原子或硫原子所取代。作為該烷基，例如可列舉甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、tert-丁基、n-己基、n-辛基、n-癸基、甲氧基、乙氧基、及異丙氧基等。
在上述式(I)，R2及R3係分別獨立表示氫原子、或碳數1~12之烷基。R2及R3從表現高度光選擇吸收性的觀點來看，分別獨立表示較佳為氫原子或碳數1~10之烷基，更佳為氫原子或碳數1~8之烷基，再更佳為 氫原子或碳數1~5之烷基，特佳為氫原子或碳數1~3之烷基。
在上述式(I)，R4為碳數3~50之烷基、或具有至少一個亞甲基之碳數3~50之烷基，該亞甲基之至少一個表示被氧原子取代之烷基。
在R4之碳數3~50之烷基，從與疏水性物質的親和性、對疏水性溶劑的溶解性及製造上之經濟性的觀點來看，碳數較佳為8~45(例如10~45)，更佳為12~40，再更佳為13~35，特佳為14~30。尚，該烷基上之碳原子中可與取代基鍵結。
在R4之具有至少一個亞甲基之碳數3~50之烷基，從與疏水性物質的親和性、對疏水性溶劑的溶解性及製造上之經濟性的觀點來看，係表示碳數較佳為3~40，更佳為4~35，特佳為5~30之烷基。於此，在具有至少一個亞甲基之碳數3~50之烷基，該亞甲基之至少一個被氧原子取代，例如可列舉乙氧基、丙氧基、2-甲氧基乙氧基甲基。又，亦可列舉二乙二醇基、三乙二醇基等之聚乙二醇基、及二丙二醇基、三丙二醇基等之聚丙二醇等。
又，R4之烷基上之碳原子中可與取代基鍵結。作為取代基，例如可列舉鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷基胺 基、碳數2~12之N,N-二烷基胺基、碳數1~6之N-烷基胺磺醯基、碳數2~12之N,N-二烷基胺磺醯基等。
R4為碳數3~50之烷基的情況下，從與疏水性物質的親和性、及對疏水性溶劑的溶解性的觀點來看，R4更佳為具有碳數3~12之分支構造之烷基，再更佳為具有碳數6~10之分支構造之烷基。
於此，所謂具有分支構造之烷基，係表示該烷基所具有之碳原子中之至少一個為第三級碳、或第四級碳之烷基。作為具有碳數3~12之分支構造之烷基的具體例，可列舉具有下述構造之烷基。
Figure 105143400-A0202-12-0010-8
*係表示連結部。
在上述式(I)，X1係表示電子吸引基。從提昇光選擇吸收性的觀點來看，X1較佳為-NO2、-CN、-COR8、-COOR9、-OR10、鹵素原子(-F、-Cl、-Br、-I)、-CSR11、-CSOR12、或-CSNR13，更佳為硝基、氰基、或-COOR9，再更佳為氰基、或-COOR9。於此，R8、R9、 R10、R11、R12及R13係分別獨立表示氫原子、碳數1~6、例如碳數2~5之烷基、或苯基。
在上述式(I)，Y1係表示-CO-、-COO-、-OCO-、-O-、-S-、-NR5-、-NR6CO-、-CONR7-、或-CS-，從提昇光選擇吸收性的觀點來看，較佳係表示-CO-、-COO-、-OCO-、或-O-，更佳係表示-CO-、-COO-、或-OCO-。於此，R5、R6及R7係分別獨立表示氫原子、碳數1~6，例如碳數2~5之烷基或苯基。
在本發明較佳之實施態樣，上述式(I)表示之化合物(I)以下述式(I-I)表示。
Figure 105143400-A0202-12-0011-9
從對各種溶劑的溶解性及/或與各種化合物的親和性優異的觀點來看較佳。
在上述式(I-I)，R4-1係表示碳數1~6之烷基，較佳為碳數2~5之烷基，更佳為3~4之烷基。
n係表示1~10之整數，從對各種溶劑的溶解性及/或與各種化合物的親和性優異的觀點來看，較佳為1~8之整數，更佳為1~6之整數，例如為1~4之整數，尤其是1~3之整數。尚，n為上述範圍內時，提昇每1質量份所 具有之光吸收性，構成光學層合體之構件所包含之化合物(I)即使是少量，亦可表現藍光切斷功能，又，例如於黏著劑含有該化合物(I)的情況下，難以阻礙其黏著功能，又於保護薄膜含有該化合物(I)的情況下，難以阻礙作為保護薄膜之光學功能。
A、R1、R2及R3係與上述式(I)中相同。
在本發明更佳之實施態樣，上述式(I-I)表示之化合物更佳為以下述式(I-II)表示。
Figure 105143400-A0202-12-0012-10
上述式(I-I)表示之化合物為上述式(I-II)表示之化合物時，由於對各種溶劑的溶解性及/或與各種化合物的親和性優異，將該化合物均勻溶解在溶劑變容易，又，同時由於與各種化合物的親和性亦優異，顯示雙親性，於構成光學層合體之構件包含該化合物情況下，難以產生滲出，可穩定發揮光吸收功能。
在式(I-II)，R4-1及n係與式(I-I)中相同。
上述化合物(I)係對各種溶劑的溶解性及/或與各種化合物的親和性優異。作為該溶劑，例如可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、1-丁醇、2-丁醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單甲基醚等之醇溶 劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯溶劑；丙酮、2-丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等之酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯、均三甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷、1,4-二噁烷等之醚溶劑；及、二氯甲烷、氯仿、氯苯等之氯化烴溶劑。
該溶劑中有親水性溶劑及疏水性溶劑。例如醇溶劑雖因碳數而異，但一般為具有親水性之溶劑。另外，戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑一般為具有疏水性之溶劑。上述化合物(I)從於黏著劑薄片或光學薄膜等之聚合物薄膜含有該化合物(I)的情況下，難以產生滲出的觀點及可擴散溶劑之選擇性的觀點來看，較佳為可溶於親水性溶劑或疏水性溶劑，更佳為可溶於親水性溶劑及疏水性溶劑，亦即具有雙親性。
上述化合物(I)較佳為滿足下述式(a)。
ε(420)/ε(4O0)≦0.4 (a)
式(a)中，ε(420)/ε(400)之值係表示在波長400nm之吸收的強度相對於在波長420nm之吸收的強度，此值越小，與420nm附近之波長區域的吸收比較，顯示於400nm附近之波長區域越有特異性吸收。此值越小，成為淡黃色越少之透明化合物。
上述化合物(I)為滿足上述式(a)的情況下，除了吸收波長400nm之光之外，由於難以吸收波長420nm 之光，同時難以吸收藍色之可見光，故可提供將本發明之化合物(I)作為具有藍光切斷功能，同時難以阻礙良好色彩表現之光吸收劑，可作為光選擇吸收性化合物使用。進而，包含該化合物(I)之光學層合體的情況下，藉由構成光學層合體之構件(例如相位差薄膜等之光學薄膜、有機EL元件或液晶顯示元件等之顯示元件)為短波長之可見光(亦即波長400nm附近之光)，可抑制性能劣化。在上述化合物(I)之ε(420)/ε(400)之值較佳為0.4以下，更佳為0.25以下，再更佳為0.2以下，特佳為0.15以下，更特別佳為0.1以下，又更特別佳為0.05以下，例如為0.03以下。其下限值雖並非特別限定者，但從藉由上述化合物(I)維持400nm附近之吸收能的觀點來看，通常較佳為0.005以上。在本發明適合之一實施態樣，ε(420)/ε(400)之值為0.01~0.1。
又，上述化合物(I)除了上述式(a)，以進一步滿足下述式(b)及(c)較佳。
λmax<420nm (b)
ε(400)≧40 (c)
式(b)中，λmax係表示化合物(I)之極大吸收波長。式(c)中，ε(400)係表示在波長400nm之克吸光係數，克吸光係數的單位以L/(g．cm)定義。
滿足上述式(b)及(c)的情況下，化合物(I)之極大吸收存在於較420nm更短波長側，且可說是對於波長400nm附近顯示較高吸收的化合物。藉由化合物(I)滿足這 般之式，包含該化合物(I)之聚合物薄膜或黏著劑等之構件不對顯示特性帶來影響，可具有高耐光性。在本發明，化合物(I)之極大吸收λmax更佳為415nm以下，再更佳為410nm以下。
又，上述化合物(I)滿足上述式(c)的情況下，由於具有高度光吸收性，構成光學層合體之構件所包含之化合物(I)即使為少量，亦可表現藍光切斷功能，又，例如於黏著劑含有該化合物(I)的情況下，難以阻礙其黏著功能，又於保護薄膜含有該化合物(I)的情況下，難以阻礙作為保護薄膜之光學功能。ε(400)之值更佳為60以上，再更佳為80以上，特佳為100以上。
尚，ε(400)之值通常為500以下。
上述式(I-II)表示之化合物，例如將2-甲基吡咯啉藉由甲基化劑而成為1,2-二甲基吡咯鎓鹽，接著與N,N’-二苯基甲脒進行反應，最後於乙酸酐及胺觸媒存在下，可藉由反應活性亞甲基化合物製造。又，作為此等之化合物可使用市售者。上述式(I)及(I-I)表示之化合物亦可同樣製造。
在本發明之另一實施態樣，提供一種含有上述化合物(I)與聚合物之聚合物組成物(以下，亦稱為「本發明之聚合物組成物」)。藉由使用該聚合物組成物，可得到構成光學層合體之各種構件。該光學層合體由於含有光吸收性及光選擇吸收性優異之上述化合物(I)，可表現藍光切斷功能。進而，FPD之構成構件即顯示元件或光學薄 膜之性能，不僅紫外線，藉由短波長區域之可見光，亦即波長400nm附近之光亦劣化雖為這次所發現，但可抑制因構成圖像顯示裝置所包含之光學層合體的構件之短波長的可見光導致之劣化。作為構成光學層合體之構件，可列舉黏著劑及聚合物薄膜等。作為聚合物薄膜，可列舉偏光板及相位差薄膜等之光學薄膜、保護薄膜、黏著劑薄片、以及前面板等。尚，本發明之聚合物組成物所包含之聚合物，可因應製造之構件選擇。
於此，針對光學層合體，將幾個適合之層構造之例於圖1及圖2以剖面示意圖表示。於圖1所示之例，於偏光板1一側的面，將可具有表面處理層2之第一保護薄膜4貼著在與其表面處理層2相反側的面，於偏光板1之另一面，貼著第二保護薄膜3，構成偏光板10。構成偏光板10之第二保護薄膜3之外側中，設置黏著劑薄片20，構成附黏著劑之偏光板15。而且將與其黏著劑薄片20之偏光板10相反側的面，貼合在圖像顯示元件30，構成光學層合體40。該光學層合體可使用在圖像顯示裝置。尚，包含該化合物(I)之構件相較於易劣化之光學薄膜或有機EL元件等之圖像顯示元件，以配置在目視側較佳。藉由該配置，可抑制易劣化之構件功能的降低。
又，於圖2所示之例，於偏光板1一側的面，將可具有表面處理層2之第一保護薄膜4貼著在與其表面處理層2相反側的面，於偏光板1之另一面，貼著第二保護薄膜3，進而於第二保護薄膜3之外側，透過層間 黏著劑6貼著相位差薄膜7，而構成偏光板10。構成偏光板10之相位差薄膜7之外側中，設置黏著劑薄片20，構成附黏著劑之偏光板15。而且將與該黏著劑薄片20之相位差薄膜7相反側的面貼合在圖像顯示元件30，而構成光學層合體40。
在此等之例，第一保護薄膜4及第二保護薄膜3一般雖為由三乙醯基纖維素薄膜或聚環烯烴構成，但其他亦可用先前描述之各種透明樹脂薄膜構成。又，可形成於第一保護薄膜4的表面之表面處理層可為硬塗層、防眩層、抗反射層、防靜電層等。此等當中，亦可設置複數之層。
如圖2所示之例，偏光板10中層合相位差薄膜7的情況下，若為中小型之液晶顯示裝置，作為此相位差薄膜7之適合例，可列舉1/4波長板。此情況下，一般雖為偏光板1之吸收軸與1/4波長板之相位差薄膜7的滯相軸幾乎以45度交叉的方式配置，但因應圖像顯示元件30之特性，亦有將其角度從45度偏移某種程度的情況。另外，若為電視等之大型液晶顯示裝置，將圖像顯示元件30之相位差補償或可視角補償為目的，配合該圖像顯示元件30之特性使用具有各種相位差值之相位差薄膜。此情況下，一般為偏光板1之吸收軸與相位差薄膜7之滯相軸以成為幾乎垂直或幾乎平行的關係的方式配置。將相位差薄膜7以1/4波長板構成的情況下，適合使用單軸或雙軸之拉伸薄膜。又，將相位差薄膜7以圖像顯示元件30 之相位差補償或可視角補償的目的設置的情況下，除了單軸或雙軸拉伸薄膜之外，除了單軸或雙軸拉伸之外亦可將往厚度方向配向之薄膜、於支持薄膜上塗佈液晶等之相位差表現物質使其配向固定之薄膜等之被稱為光學補償薄膜者作為相位差薄膜7使用。
同樣如圖2所示之例，於偏光板10之構成中將相位差薄膜7透過層間黏著劑6貼合的情況下，該層間黏著劑6中，使用一般之丙烯酸系黏著劑雖為通例，但亦可使用於此本發明所規定之聚合物薄膜之一個即黏著劑薄片。如先前描述之大型液晶顯示裝置，偏光板1之吸收軸與相位差薄膜7之滯相軸以成為幾乎垂直或幾乎平行的關係的方式配置的情況下，於偏光板10製作時將偏光板1與相位差薄膜7透過層間黏著劑6貼合時，可進行輥對輥(Roll to Roll)貼合。
將黏著劑薄片形成在相位差薄膜上之附黏著劑之相位差薄膜，除了將其黏著劑薄片貼合在圖像顯示元件可成為光學層合體之外，亦可於其相位差薄膜側貼合偏光板。
於此，所謂偏光板，係對於自然光等之入射光，具有出射偏光之功能的光學薄膜。偏光板中，有吸收具有入射於偏光板面之某方向的振動面之直線偏光，具有與其垂直的振動面之具有透過直線偏光之性質的線性偏光板、具有入射於薄膜面之某方向的振動面之直線偏光，具有與其垂直的振動面之具有透過直線偏光之性質的偏光分 離薄膜、層合偏光板與後述之相位差薄膜之橢圓偏光板等。作為偏光板，尤其是線性偏光板(亦有被稱為偏光子或偏光子薄膜的情況)之適合具體例，可列舉於單軸拉伸之聚乙烯醇系樹脂薄膜吸附配向碘或二色性染料等之二色性色素者。
所謂相位差薄膜，係表示光學異向性之光學薄膜，例如可列舉藉由將由聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴(降莰烯或四環十二烯或該等之衍生物的聚合物)、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚偏二氟乙烯/聚甲基甲基丙烯酸酯、液晶聚酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化物、聚氯乙烯等之聚合物所構成之聚合物薄膜拉伸至1.01~6倍左右所得之拉伸薄膜等。其中，較佳為單軸拉伸或雙軸拉伸聚碳酸酯薄膜或聚環烯烴薄膜之聚合物薄膜。在本發明之一實施態樣，可藉由薄膜化含有上述化合物(I)與上述聚合物之聚合物組成物，單軸拉伸或雙軸拉伸所得之薄膜，而得到相位差薄膜。又，藉由液晶化合物之塗佈暨配向，表現光學異向性之薄膜亦可作為相位差薄膜使用。
進而，於此等光學薄膜貼著保護薄膜者亦可作為光學薄膜使用。作為保護薄膜，係使用透明之樹脂薄膜，作為該透明樹脂，例如可列舉三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素所代表之乙醯基纖維素系樹脂、聚甲基甲基丙烯酸酯所代表之甲基丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴系樹 脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碸樹脂等。構成保護薄膜之樹脂中，可摻合水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、三嗪系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等之紫外線吸收劑，此情況下，藉由與本發明之光吸收性化合物的效果的協同效果，可適當抑制顯示裝置的劣化。作為保護薄膜，適合使用三乙醯基纖維素薄膜等之乙醯基纖維素系樹脂薄膜。
於上說明之光學薄膜當中，線性偏光板係構成其之偏光子，例如於由聚乙烯醇系樹脂所構成之偏光板的單面或雙面，以貼著保護薄膜的狀態使用較多。又，前述之橢圓偏光板雖為層合線性偏光板與相位差薄膜者，但其偏光板，亦以於偏光板的單面或雙面層合保護薄膜的狀態較多。
又，所謂保護薄膜，係以將被保護體之光學薄膜等的表面從傷痕或污染保護為目的而使用之薄膜。作為保護薄膜之基材，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯等之聚烯烴；聚氟乙烯、聚偏氟乙烯、聚氟化乙烯等之氟化聚烯烴；聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸乙二酯/間苯二甲酸酯共聚物等之聚酯；尼龍6、尼龍6,6等之聚醯胺；聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯醇、維綸等之乙烯聚合物；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、玻璃紙、三乙醯基纖維素等之纖維素聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基 丙烯酸乙酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯等之丙烯酸聚合物；其他有聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醯亞胺、聚胺基甲酸乙酯等。
所謂黏著劑薄片，係由黏著劑所構成之薄片。黏著劑係將上述光學薄膜或保護薄膜等之聚合物薄膜用以與其他構件接合之劑。構成黏著劑之聚合物並非被特別限定者，例如可列舉聚(甲基)丙烯酸酯、矽氧聚合物、聚胺基甲酸乙酯、及橡膠等。上述聚合物可單獨或組合使用。其中，以藉由選擇聚合物所導入之單體的種類，可對黏著劑輕易賦予功能性的點來看，作為上述聚合物，適合採用聚(甲基)丙烯酸酯。
尚，黏著劑薄片的厚度雖並未特別限定，但通常較佳為30μm以下，又，較佳為10μm以上，更佳為10~20μm。黏著劑薄片的厚度為30μm以下時，有提昇於高溫高濕下之接著性，於玻璃基板(圖像顯示元件)與黏著劑薄片之間發生漂浮或剝離的可能性降低的傾向，而且有提昇再加工性的傾向，又其厚度為10μm以上時，即使貼合於此之光學薄膜的尺寸變動，由於隨著該尺寸變動黏著劑薄片亦隨著變動，液晶晶胞(圖像顯示元件)之周邊部的亮度與中心部的亮度之間差異消失，有抑制白斑點或色不勻的傾向。
上述聚合物組成物所含有之聚合物，從可適合製造構成光學層合體之構件的觀點來看，較佳為選自由上述之聚(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸乙酯、聚酯、聚碳 酸酯、聚環烯烴及三乙醯基纖維素所構造之群組中之至少1種。
上述聚合物組成物相對於上述聚合物(固形分)100質量份，較佳為含有0.001~5質量份(例如0.001~4質量份)，更佳為0.2~4質量份(0.2~3質量份)，再更佳為0.3~3質量份(例如0.3~2質量份)之上述化合物(I)。上述化合物(I)的含量為上述下限值以上時，吸收之光量增多，可表現較高藍光切斷功能，進而，可抑制因構成光學層合體之構件(例如相位差薄膜等之光學薄膜、或有機EL元件等之圖像顯示元件)之短波長的可見光導致之劣化。又，上述化合物(I)的含量為上述上限值以下時，將聚合物組成物用在黏著劑的情況下，可充分發揮黏著功能，又，使用聚合物組成物，難以阻礙作為所得之光學薄膜或保護薄膜之光學功能。尚，上述化合物(I）由於光吸收性高，即使在聚合物組成物的含量較低，亦可得到具有較高光吸收性之聚合物組成物。由於化合物(I)的含量低，可難以阻礙作為黏著劑之黏著功能或作為光學薄膜之光學功能。
在本發明較佳之實施態樣，上述聚合物係將下述式(A-1)表示之(甲基)丙烯酸酯單體(A-1)、與具有羥基之(甲基)丙烯酸單體(A-2)作為構成單位之聚(甲基)丙烯酸酯(A)。
Figure 105143400-A0202-12-0023-11
在下式(A-1)，Rp係表示氫原子或甲基。又，Rq係表示較佳為碳數1~20，更佳為碳數1~10之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子可被-O-(C2H4O)n-Rr取代，n係表示較佳為0~4，更佳為0~3之整數，Rr係表示較佳為碳數1~12，更佳為碳數1~8之烷基，較佳為碳數1~12，更佳為碳數1~8之芳基。
作為上述式(A-1)表示之(甲基)丙烯酸酯單體(A-1)，具體而言，例示有丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸n-丁酯、丙烯酸n-辛酯、丙烯酸月桂酯等之直鏈狀之丙烯酸烷酯；丙烯酸異丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯等之分支狀之丙烯酸烷酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸n-丁酯、甲基丙烯酸n-辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等之直鏈狀之甲基丙烯酸烷酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯等之分支狀之甲基丙烯酸烷酯；丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等之具有芳香族基之丙烯酸酯；甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等之具有芳香族基之甲基丙烯酸酯等。
具有羥基之(甲基)丙烯酸單體(A-2)係具有至少一個羥基。具有羥基之(甲基)丙烯酸單體(A-2)較佳為以下述式(A-2)表示。
Figure 105143400-A0202-12-0024-12
在式(A-2)，Rp’係表示氫原子或甲基。又，Rq’係較佳為碳數1~20，更佳為碳數1~10之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子當中之m個為被OH基取代之基。尚，構成該烷基或該芳烷基之氫原子可被-O-(C2H4O)n’-Rr’取代，n’係表示較佳為0~4，更佳為0~3之整數，Rr’係表示較佳為碳數1~12，更佳為碳數1~8之烷基，較佳為碳數1~12，更佳為碳數1~8之芳基。m較佳為1~10之整數，更佳為1~6之整數，更佳為1~4之整數，特佳為1~2之整數，例如為1。
作為具有上述羥基之(甲基)丙烯酸單體(A-2)，具體而言，可列舉(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-或3-氯-2-羥基丙酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等。
上述聚(甲基)丙烯酸酯(A)係將其固形分全體的量作為基準，可將源自上述單體(A-1)的構成單位通常以60~99.9質量%，較佳為以80~99.6質量%的比例含有，又，源自具有羥基之單體(A-2)的構成單位通常以0.1~40質量%，較佳為0.4~20質量%，更佳為0.5~10質量%的比例含有。
將單體(A-1)與(A-2)作為構成單位之聚合物可將其他單體(以下，亦稱為「單體(A-3)」)作為構成單位含有。作為單體(A-3)，可列舉具有單體(A-2)以外之極性官能基之單體。作為具有單體(A-2)以外之極性官能基的單體，例如可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、β-羧基乙基丙烯酸酯等之具有游離羧基之單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質四氫糠基丙烯酸酯、3,4-環氧環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、2,5-二氫呋喃等之具有雜環基之單體；N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等之具有與雜環不同胺基之單體等。此等單體(A-3)可分別單獨使用，亦可使用不同之複數者。
上述聚(甲基)丙烯酸酯(A)係將其固形分全體的量作為基準，可將源自單體(A-3)之構成單位通常以0.1~50質量%，較佳為0.1~20質量%，更佳為0.1~10質量%的比例含有。
本發明所使用之聚(甲基)丙烯酸酯(A)除了於上說明之單體(A-1)、(A-2)及(A-3)之外，亦可包含將該等以外之單體作為構成單位。作為此等之例，可列舉於分子內具有脂環式構造之(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯系單體、乙烯系單體、於分子內具有複數(甲基)丙烯醯基之單體、(甲基)丙烯醯胺衍生物等。
所謂脂環式構造，係碳數通常為5以上，較佳為5~7左右的環石蠟構造。作為具有脂環式構造之丙 烯酸酯的具體例，可列舉丙烯酸異莰酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸二環戊烷(Pentanyl)酯、丙烯酸環十二烷酯、丙烯酸甲基環己酯、丙烯酸三甲基環己酯、丙烯酸tert-丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯、丙烯酸環己基苯酯等，作為具有脂環式構造之甲基丙烯酸酯的具體例，可列舉甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸二環戊烷酯、甲基丙烯酸環十二烷酯、甲基丙烯酸甲基環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸tert-丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯酯等。
作為苯乙烯系單體，除了苯乙烯之外，亦可列舉甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等之烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等之鹵素化苯乙烯；以及硝基苯乙烯、乙醯基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、及二乙烯苯等。
作為乙烯系單體，可列舉乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、酪酸乙烯酯、2-乙基己烷酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等之脂肪酸乙烯酯；氯乙烯或溴化乙烯等之鹵素化乙烯；氯化亞乙烯等之鹵素化亞乙烯；乙烯吡啶、乙烯吡咯烷酮、乙烯咔唑等之含氮芳香族乙烯；丁二烯、異戊二烯、氯戊二烯等之共軛二烯單體；以及、丙烯腈、及甲基丙烯腈等。
作為於分子內具有複數(甲基)丙烯醯基之單 體，可列舉1,4-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等之於分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等之於分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體等。
作為(甲基)丙烯醯胺衍生物，可列舉N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、2-羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、3-羥基丙基(甲基)丙烯醯胺、4-羥基丁基(甲基)丙烯醯胺、5-羥基戊基(甲基)丙烯醯胺、6-羥基己基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丙氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N-(1,1-二甲基-3氧代丁基)(甲基)丙烯醯胺、N-〔2-(2-氧代-1-咪唑啶基)乙基〕(甲基)丙烯醯胺、2-丙烯醯基胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸等。
上述單體(A-1)、(A-2)及(A-3)以外之單體可分別以單獨、或組合2種以上使用。在可使用在黏著劑之聚(甲基)丙烯酸酯(A)，源自上述單體(A-1)、(A-2)及(A-3)以外之單體的構成單位，將(A)之固形分全體的量為基準，通常以0~20質量%，較佳為0~10質量%的比例含有。尚，聚(甲基)丙烯酸酯(A)所包含之源自單體之構造單 位的合計成為100質量%。
有關本發明之一實施態樣之聚合物組成物，可含有1種或2種以上之上述聚(甲基)丙烯酸酯(A)。
上述聚(甲基)丙烯酸酯(A)藉由凝膠滲透層析(GPC)之標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)較佳為50萬~200萬，更佳為55萬~180萬，再更佳為60萬~150萬。該標準聚苯乙烯換算重量平均分子量為上述下限值以上時，有提昇於高溫高濕下之接著性，於玻璃基板(圖像顯示元件)與黏著劑薄片之間降低發生漂浮或剝離之可能性的傾向，而且有提昇再加工性的傾向。又，此重量平均分子量為上述上限值以下時，將該黏著劑薄片貼合於光學薄膜等的情況下，即使光學薄膜的尺寸變動，由於隨著該尺寸變動黏著劑薄片亦隨著變動，液晶晶胞等之圖像顯示元件之周邊部的亮度與中心部的亮度之間差異消失，有抑制白斑點或色不勻的傾向。重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)(Mn)的比(Mw/Mn)所表示之分子量分布，通常為2~10左右的範圍。
上述聚(甲基)丙烯酸酯(A)亦可僅以如上述之比較高分子量者構成，且除了該聚(甲基)丙烯酸酯(A)，亦可以與其不同之聚(甲基)丙烯酸酯的混合物構成。作為可混合使用之聚(甲基)丙烯酸酯，例如其係將源自(甲基)丙烯酸酯之構成單位作為主成分者(例如聚甲基(甲基)丙烯酸酯)，可列舉重量平均分子量有5萬~30萬的範圍者。
聚合物組成物所含有之聚(甲基)丙烯酸酯(組 合2種類以上的情況下為該等之混合物)，以將此溶解在乙酸乙酯，調整至固形分濃度20質量%之溶液在25℃顯示20Pa．s以下，進而顯示0.1~7Pa．s之黏度較佳。此時之黏度為20Pa．s以下時，提昇於高溫高濕下之接著性，有於圖像顯示元件與黏著劑薄片之間發生漂浮或剝離的可能性降低的傾向，而且有提昇再加工性的傾向。黏度可藉由布魯克非(Brookfield)黏度計測定。
聚(甲基)丙烯酸酯，例如可藉由溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法等周知之各種方法製造。在此聚(甲基)丙烯酸酯的製造，通常使用聚合起始劑。聚合起始劑相對於聚(甲基)丙烯酸酯的製造所使用之全部單體的合計100質量份，係使用0.001~5質量份左右。
作為聚合起始劑，係使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。作為光聚合起始劑，例如可列舉4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。作為熱聚合起始劑，例如可列舉2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環已烷-1-碳化腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等之偶氮系化合物；月桂基過氧化物、tert-丁基過氧化氫、過氧化苯甲醯基、tert-丁基過氧苯甲酸酯、異丙苯過氧化氫、二異丙基過氧二碳酸酯、二丙基過氧二碳酸酯、tert-丁基過氧新癸酸酯、tert-丁基過氧特戊酸酯、 (3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等之有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等之無機過氧化物等。又，併用過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等亦可作為聚合起始劑使用。
作為聚(甲基)丙烯酸酯之製造方法，上所示之方法當中，較佳為溶液聚合法。列舉溶液聚合法之具體例進行說明時，可列舉混合期望之單體及有機溶劑，在氮環境下，添加熱聚合起始劑，在40~90℃左右，較佳為60~80℃左右攪拌3~10小時左右之方法等。又，為了調控反應，可將單體或熱聚合起始劑於聚合中連續性或間歇性添加、或可用溶解於有機溶劑的狀態添加。於此，作為有機溶劑，例如可使用甲苯、二甲苯等之芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等之酯類；丙基醇、異丙基醇等之脂肪族醇類；丙酮、2-丁酮、甲基異丁基酮等之酮類等。
在本發明之一實施態樣，上述聚合物組成物除了上述聚合物及上述化合物(I)之外，如有必要可含有交聯劑。交聯劑係與聚(甲基)丙烯酸酯(A)中尤其是源自羥基或含有極性官能基之單體的構成單位進行反應，使聚(甲基)丙烯酸酯(A)交聯之化合物。具體而言，例示有異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、氮丙啶系化合物、金屬螯合物系化合物等。此等當中，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物及氮丙啶系化合物係於分子內具有至少2個聚(甲基)丙烯酸酯(A)中之羥基及視情況可與極性官能基進行反應之官能基。
異氰酸酯系化合物係於分子內具有至少2個異氰酸酯基(-NCO)之化合物，例如可列舉甲伸苯基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、氫化伸茬基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又，於此等之異氰酸酯系化合物，將讓丙三醇或三羥甲基丙烷等之多元醇進行反應之加成物、或異氰酸酯系化合物成為二聚物、三聚物等者亦可成為黏著劑所使用之交聯劑。亦可混合2種以上之異氰酸酯系化合物使用。
環氧系化合物係於分子內具有至少2個環氧基之化合物，例如可列舉雙酚A型之環氧樹脂、乙二醇二環氧丙基醚、聚乙二醇二環氧丙基醚、甘油二環氧丙基醚、甘油三環氧丙基醚、1,6-己烷二醇二環氧丙基醚、三羥甲基丙烷三環氧丙基醚、N,N-二環氧丙基苯胺、N,N,N’,N’-四環氧丙基-m-二甲苯二胺、1,3-雙(N,N’-二環氧丙基胺基甲基)環已烷等。亦可混合2種以上之環氧系化合物使用。
氮丙啶系化合物係於分子內具有至少2個被稱為乙烯亞胺之由1個氮原子與2個碳原子所構成之3員環骨架的化合物，例如可列舉二苯基甲烷-4,4’-雙(1-氮丙啶羧醯胺)、甲苯-2,4-雙(1-氮丙啶羧醯胺)、三乙烯三聚氰胺、間苯二甲醯基雙-1-(2-甲基氮丙啶)、參-1-氮丙啶基氧化膦、六亞甲基-1,6-雙(1-氮丙啶羧醯胺)、三羥甲基丙烷- 三-β-氮丙啶基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯等。
作為金屬螯合物系化合物，例如可列舉於鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、釩、鉻及鋯等之多價金屬配位乙醯基丙酮或乙醯乙酸乙酯之化合物等。
此等之交聯劑當中，優選使用異氰酸酯系化合物，特別是伸茬基二異氰酸酯、甲伸苯基二異氰酸酯或六亞甲基二異氰酸酯、或讓此等之異氰酸酯系化合物，於丙三醇或三羥甲基丙烷等之多元醇進行反應之加成物、或將異氰酸酯系化合物成為二聚物、三聚物等之混合物、混合此等之異氰酸酯系化合物者等。作為適合之異氰酸酯系化合物，可列舉可使甲伸苯基二異氰酸酯、甲伸苯基二異氰酸酯於多元醇反應之加成物、使甲伸苯基二異氰酸酯之二聚物、及甲伸苯基二異氰酸酯之三聚物、又六亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯於多元醇反應之加成物、六亞甲基二異氰酸酯之二聚物、及六亞甲基二異氰酸酯之三聚物。
上述聚合物組成物相對於上述聚合物(固形分)100質量份，較佳為含有0.01~5質量份，更佳為0.05~2質量份，再更佳為0.1~1質量份之交聯劑。交聯劑的含量為上述下限值以上時，有提昇由上述聚合物組成物所得之黏著劑薄片的耐久性的傾向，又，為上述上限值以下時，將由該聚合物組成物所得之聚合物薄膜適用在液晶顯示裝置時之白斑點變不醒目。
上述聚合物組成物含有聚(甲基)丙烯酸酯(A)的情況下，可適合將該聚合物組成物作為黏著劑使用。上述化合物(I)難以阻礙黏著功能，上述聚合物組成物作為黏著劑可發揮較高黏著功能，同時由於上述化合物(I)特定範圍之光選擇吸收性優異，可得到黏著功能及光選擇吸收性雙方優異之黏著劑。進而，由於上述化合物(I)與聚(甲基)丙烯酸酯的親和性優異，難以產生化合物(I)的滲出，可發揮穩定之光吸收性。又，亦可從該黏著劑得到黏著劑薄片。
又，上述聚合物組成物中，較佳為含有矽烷系化合物，特佳為於摻合交聯劑之前的聚合物含有矽烷系化合物。由於矽烷系化合物提昇對於玻璃之黏著力，藉由包含矽烷系化合物，提昇作為黏著劑薄片之黏著力，在適用黏著劑薄片之基材難以發生剝離或漂浮。
在上述聚合物組成物之矽烷系化合物的摻合量，相對於上述聚合物(固形分)100質量份(使用2種類以上的情況為該等之合計100質量份)，通常以0.01~10質量份左右，較佳為0.05~5質量份的比例使用。矽烷系化合物的含量為上述下限值以上時，提昇聚合物組成物的密著性。又，該量為上述上限值以下時，有抑制來自聚合物組成物之矽烷系化合物的滲出的傾向。
上述聚合物組成物可進一步包含交聯觸媒、防靜電劑、耐候穩定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料、丙烯酸樹脂以外之樹脂等。又，使 用上述聚合物組成物形成黏著劑薄片的情況下，亦有用於聚合物組成物摻合紫外線硬化性化合物，塗佈在基材等之後照射紫外線使其硬化，而成為更硬之黏著劑薄片。其中，若於聚合物組成物亦與交聯劑一起摻合交聯觸媒，可用短時間之熟成調製黏著劑薄片，可抑制於黏著劑薄片與基材之間發生漂浮或剝離、或於黏著劑薄片內引起發泡，又，亦有再加工性變良好的情況。作為交聯觸媒，例如可列舉六亞甲基二胺、乙二胺、聚乙烯亞胺、六亞甲基四胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、異佛爾酮二胺、三亞甲基二胺、聚胺基樹脂、三聚氰胺樹脂等之胺系化合物等。於聚合物組成物作為交聯觸媒摻合胺系化合物的情況下，作為交聯劑，適合異氰酸酯系化合物。
構成聚合物組成物之上述各成分，可用溶解於溶劑的狀態構成聚合物組成物。作為該溶劑，例如可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單甲基醚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯溶劑；丙酮、2-丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等之酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等之醚溶劑；及、氯仿、氯苯等之氯化烴溶劑；等。其中，從聚合物組成物的溶解性或時間穩定性、薄膜作成時於乾燥步驟之殘存溶劑量調控等之觀點來看，較佳 為2-丁酮、乙酸乙酯、甲苯等。
上述聚合物薄膜較佳為滿足下述式(d)。
A(420)/A(400)≦0.4 (d)
式(d)中，A(400)係表示在波長400nm之吸光度，A(420)係表示在波長420nm之吸光度。A(420)/A(400)之值已表示在波長400nm之吸收的強度相對於在波長420nm之吸收的強度，此值越小，與420nm附近之波長區域的吸收比較，顯示於400nm附近之波長區域越有特異性吸收。此值越小，成為淡黃色越少之透明聚合物薄膜。
上述聚合物薄膜滿足上述式(d)的情況下，除了吸收波長400nm之光之外，由於難以吸收波長420nm之光，同時難以吸收藍色之可見光，故變成具有藍光切斷功能，同時難以阻礙良好色彩表現之聚合物薄膜，將該聚合物薄膜組入光學層合體的情況下，可藉由構成光學層合體之構件(例如相位差薄膜等之光學薄膜、有機EL元件或液晶顯示元件等之顯示元件)為短波長之可見光(亦即波長400nm附近之光)，抑制性能劣化。在上述聚合物薄膜之A(420)/A(400)之值較佳為0.4以下，更佳為0.3以下，再更佳為0.25以下，特佳為0.2以下，更特別佳為0.15以下，例如為0.1以下。其下限值雖並非被特別限定者，但從維持在上述聚合物薄膜之400nm附近的吸收能的觀點來看，通常以0.01以上較佳。在本發明適合之一實施態樣，A(420)/A(400)之值為0.05~0.15。
又，本發明之聚合物薄膜較佳為滿足下述式 (e)。
A(400)≧0.5 (e)
A(400)之值越大，顯示在波長400nm的吸收越高，此值未滿0.5時，在波長400nm的吸收較弱，難以確保相對於400nm附近之短波長的可見光之充分高的耐光性。據此，在本發明之聚合物薄膜之A(400)之值較佳為0.8以上，更佳為1以上，再更佳為1.2以上，特佳為1.5以上，更特別佳為1.8以上，例如為2以上。A(400)之值的上限雖並非被特別限定者，但從在聚合物薄膜之化合物(I)之回避滲出的觀點來看，通常以5以下較佳。
在本發明之另一實施態樣，亦可提供一種包含具有光聚合性官能基之單體(B)、光聚合起始劑(C)、溶劑(D)、及上述化合物(I)之光聚合性組成物(以下，亦稱為「本發明之光聚合性組成物」)。又，藉由將本發明之光聚合性組成物塗佈於基材，引起硬化反應，可提供硬化膜。該硬化膜可作為保護薄膜、外塗層、或隔離膜薄膜使用。
本發明之光聚合性組成物相對於具有光聚合性官能基之單體(B)，含有較佳為0.005~0.5質量份，更佳為0.007~0.3質量份，再更佳為0.008~0.2質量份，例如為0.01~0.1質量份之上述化合物(I)。上述化合物(I)的含量為上述下限值以上時，所吸收之光量增多，可表現較高藍光切斷功能，可抑制因硬化膜本身之短波長的可見光導致之劣化，又，可抑制其他構件的劣化。又上述化合 物(I)的含量為上述上限值以下時，在由光聚合性組成物之聚合物所構成之硬化膜，難以產生化合物(I)的滲出，且不會阻礙具有光聚合性官能基之單體(B)的硬化，可得到良好之硬化膜。尚，上述化合物(I)由於光吸收性較高，即使在光聚合性組成物的含量較低，亦可得到具有較高光吸收性之光聚合性組成物。由於化合物(I)的含量低，能夠不易阻礙作為保護薄膜之光學功能。
所謂具有光聚合性官能基之單體(B)所具有之光聚合性基，係指可藉由由光聚合起始劑所產生之活性自由基或酸等，可參與聚合反應之基。作為光聚合性基，可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙基、環氧丙基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙基及環氧丙基，更佳為丙烯醯氧基。
作為單體(B)之具體例，可列舉聚酯(甲基)丙烯酸酯單體、單官能(甲基)丙烯酸酯單體、多官能(甲基)丙烯酸酯單體、胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯單體、環氧(甲基)丙烯酸酯單體等。
所謂單官能丙烯酸酯，係具有1個選自由丙烯醯氧基(CH2=CH-COO-)及甲基丙烯醯氧基(CH2=C(CH3)-COO-)所構造之群組中之基(以下，亦有記為(甲基)丙烯醯氧基的情況)的化合物。又，所謂(甲基)丙烯酸酯，係意指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
作為具有1個(甲基)丙烯醯氧基之單官能丙烯 酸酯，可列舉從碳數4至16之烷基(甲基)丙烯酸酯、從碳數2至14之β羧基烷基(甲基)丙烯酸酯、從碳數2至14之烷基化苯基(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯及異冰片基(甲基)丙烯酸酯等。
所謂多官能(甲基)丙烯酸酯單體，係具有2個以上(甲基)丙烯醯氧基之化合物，較佳為具有2至6個(甲基)丙烯醯氧基的化合物。
作為具有2個(甲基)丙烯醯氧基之多官能丙烯酸酯，可列舉1,3-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；1,3-丁烷二醇(甲基)丙烯酸酯；1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；聚乙二醇二丙烯酸酯；雙酚A之雙(丙烯醯氧基乙基)醚；乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯及3-甲基戊烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
作為具有3~6個(甲基)丙烯醯氧基之多官能丙烯酸酯，可列舉三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；參(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯；乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇四(甲基)丙烯 酸酯；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯；三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；己內酯改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質參(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質三季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質三季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯；己內酯改質季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物；己內酯改質二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯與酸酐的反應物、及己內酯改質三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯與酸酐等。
所謂己內酯改質，係意指於源自(甲基)丙烯酸酯化合物之醇的部位與(甲基)丙烯醯氧基之間，導入己內酯之開環體、或、開環聚合物。
多官能丙烯酸酯可從市場取得。作為市售 品，可列舉A-DOD-N、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、HD-N、NOD-N、NPG、TMPT(新中村化學(股)製)、“ARONIX M-220”、同“M-325”、同“M-240”、同“M-270”同“M-309”同“M-310”、同“M-321”、同“M-350”、同“M-360”、同“M-305”、同“M-306”、同“M-450”、同“M-451”、同“M-408”、同“M-400”、同“M-402”、同“M-403”、同“M-404”、同“M-405”、同“M-406”(東亞合成(股)製)、“EBECRYL11”、同“145”、同“150”、同“40”、同“140”、同“180”、DPGDA、HDDA、TPGDA、HPNDA、PETIA、PETRA、TMPTA、TMPEOTA、DPHA、EBECRYL系列(Daicel Orneex(股)製)等。
聚酯(甲基)丙烯酸酯單體，例如由東亞合成(股)被作為商品名『Aronix』販賣。又，胺基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯單體，例如由Daicel Orneex(股)被作為商品名『EBECRYL』販賣。
單體(B)可為脂肪族或脂環式烷基構造之單體，雖可為具有芳香族性之構造的單體，但欲得到無著色之硬化膜的情況下，較佳為脂肪族或脂環式烷基構造的單體。
在光聚合性組成物之單體(B)的含有比例，從得到高強度之硬化膜的觀點來看，相對於光聚合性組成物之固形分100質量份通常為70~99.5質量份，較佳為80 ~99質量份，更佳為90~98質量份，再更佳為93~97質量份。所謂在本說明書之固形分，係指從光聚合性組成物去除溶劑之成分的合計量。
光聚合起始劑(C)係藉由光之作用產生活性自由基之光聚合起始劑，可得到單體(B)等之聚合反應的化合物。作為光聚合起始劑(C)，例如可列舉安息香系化合物、二苯甲酮系化合物、烷基苯酮系化合物、醯基氧化膦系化合物、三嗪系化合物、碘鎓鹽及鋶鹽等。作為光聚合起始劑(C)之具體例，可列舉可使用在上述聚(甲基)丙烯酸酯的聚合之光聚合起始劑。此等光聚合起始劑可單獨使用，亦可組合二種以上使用。
光聚合起始劑中可使用市售者。作為市售之聚合起始劑，可列舉Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250及、369(BASF日本(股))；SEIKUOL(註冊商標)BZ、Z、及BEE(精工化學(股))；kayacure(註冊商標)BP100、及UVI-6992(陶氏公司製)；ADEKA OPTOMERSP-152、及SP-170((股)ADEKA)；TAZ-A、及TAZ-PP(日本Siber Hegner公司)；及TAZ-104(三和化工公司)等。
光聚合起始劑(C)的含量，從不會引起起因於光聚合起始劑的著色，可從本發明之光聚合性組成物形成良好之硬化膜，進而得到耐光性優異之硬化膜的觀點來看，相對於單體(B)100質量份通常為0.1~30質量份，較佳為0.3~10質量份，更佳為0.4~8質量份。
作為上述溶劑(D)，較佳為可完全溶解單體(B) 及上述化合物(I)者，又，較佳為對單體(B)之聚合反應為惰性之溶劑。
作為溶劑(D)，可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、丙二醇單甲基醚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等之酯溶劑；丙酮、2-丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊基酮、甲基異丁基酮等之酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等之醚溶劑；N,N’-二甲基甲醯胺、N,N’-二甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基亞碸等之非質子性極性溶劑；及、氯仿、氯苯等之氯化烴溶劑。此等溶劑可單獨使用，亦可組合二種以上使用。
上述溶劑(D)的含量較佳為相對於光聚合性組成物的總量為30~98質量%。換言之，在光聚合性組成物之固形分較佳為2~70質量%。該固形分為70質量%以下時，由於降低光聚合性組成物的黏度，藉由由該組成物所形成之硬化膜的厚度略成為均勻，有該硬化膜難以產生不均的傾向。又，該固形分可考量欲製造之硬化膜的厚度來決定。
光聚合性組成物除了單體(B)、光聚合起始劑(C)及溶劑(D)之外，如有必要可包含增感劑、阻聚劑、及/或整平劑等。
作為增感劑，較佳為光增感劑。作為增感劑，例如可列舉氧蔥酮及噻噸酮等之氧蔥酮化合物(例如2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等)；蔥及含有烷氧基之蔥(例如二丁氧基蔥等)等之蔥化合物；酚噻嗪及紅熒烯等。
在光聚合性組成物之增感劑的含量相對於光聚合性組成物之固形分100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
作為上述阻聚劑，可列舉氫醌、對甲氧基酚、3,5-二-tert-丁基-4-羥基甲苯(BHT)、含有烷氧基之氫醌、含有烷氧基之鄰苯二酚(例如丁基鄰苯二酚等)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等之自由基捕捉劑；硫酚類；β-萘基胺類及β-萘酚類等。
在光聚合性組成物之阻聚劑的含量相對於單體(B)的含量100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
所謂整平劑，係具有調整光聚合性組成物之流動性，使光聚合性組成物之塗佈膜更平坦之功能者，例如可列舉界面活性劑。作為較佳之整平劑，可列舉將聚丙烯酸酯化合物作為主成分之整平劑、將含有氟原子之化合物作為主成分之整平劑、及矽氧系整平劑等。
作為將聚丙烯酸酯化合物作為主成分之整平劑，可列舉BYK-350、BYK-352、BYK-353、BYK-354、BYK-355、BYK-358N、BYK-361N、BYK-380、BYK-381 及、BYK-392(BYK ChemIe公司)等。
作為將含有氟原子之化合物作為主成分之整平劑，可列舉Megafac(註冊商標)R-08、R-30、R-90、F-410、F-411、F-443、F-445、F-470、F-471、F-477、F-479、F-482、F-483(DIC(股))；Surflon(註冊商標)S-381、S-382、S-383、S-393、SC-101、SC-105、KH-40及、SA-100(AGC清美化學(股))；E1830及、E5844((股)大金精細化工研究所)；EFTOP EF301、EF303、EF351及、EF352(三菱材料電子化成(股))等。
作為矽氧系整平劑，可列舉DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、SF8410、FZ2123(以上，全部為東麗道康寧(股)製)、KP-323、KP-326、KP-341、KP-104、KP-110、KP-112(以上，全部為信越化學工業(股)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上，全部為邁圖高新材料暨日本合同會公司製)等。
在光聚合性組成物之整平劑的含量，相對於光聚合性組成物之固形分100質量份，通常為0.01質量份以上5質量份以下，較佳為0.05質量份以上4質量份以下，更佳為0.1質量份以上3質量份以下。整平劑的含量為上述範圍內時，由於所得之硬化膜有更為平滑之傾向故較佳。相對於單體(B)之整平劑的含量超過上述範圍時，由於所得之硬化膜有容易產生不均的傾向故不佳。光 聚合性組成物可含有2種類以上之整平劑。
由該光聚合性組成物之硬化物所構成之硬化膜，較佳為滿足下述式(1)~(3)。
(1)0nm≦Re<10nm
(2)A(420)/A(400)≦0.4
(3)Hz≦3
在式(1)，Re係表示於波長550nm之面內相位差值。Re較佳為未滿10nm，更佳為未滿8nm，再更佳為未滿5nm。Re未滿上述上限值時，硬化膜光學性均勻，不會降低顯示器之顯示性能，可作為保護薄膜等利用。
在式(2)，A(420)係表示在420nm之吸光度，A(400)係表示在400nm之吸光度。A(420)/A(400)較佳為0.4以下，更佳為0.25以下，再更佳為0.2以下，更特別佳為0.1以下，例如為0.05以下。A(420)/A(400)為上述上限值以下時，除了難以吸收420nm附近之光之外，由於可選擇性吸收400nm附近之光，成為具有藍光切斷功能同時難以阻礙良好之色彩表現的硬化膜，將該硬化膜組入光學層合體的情況下，可藉由構成光學層合體之構件為短波長之可見光，抑制性能劣化。尚，A(420)/A(400)之下限值通常為0.01以上。在本發明適合之一實施態樣，A(420)/A(400)之值為0.02~0.15。
在式(3)，Hz係表示濁度。Hz較佳為3以下，更佳為2以下，再更佳為1以下。Hz為上述上限值以下時，為透明之硬化膜，不會降低顯示器之顯示性能可 作為保護薄膜等利用。尚，Hz之下限值通常為0.01以上。
又，上述硬化膜亦以滿足下述式(4)較佳。
(4)A(400)≧0.5
A(400)之值越大顯示在波長400nm之吸收越高，此值未滿0.5時，在波長400nm之吸收較弱，變成難以確保相對於400nm附近之短波長的可見光之充分高的耐光性。據此，在本發明之硬化膜之A(400)之值較佳為0.8以上，更佳為1以上，再更佳為1.2以上，例如為1.4以上。A(400)之值的上限雖並非被特別限定者，但從在硬化膜之化合物(I)之回避滲出的觀點來看，通常以5以下較佳。
在上述硬化膜，上述化合物(I)由於與各種化合物的親和性優異，難以產生化合物(I)之滲出，可發揮穩定之光吸收性。
上述硬化膜的厚度雖可由其用途適當調節，但通常為0.1~50μm，較佳為0.5~30μm，更佳為1~10μm。液晶硬化膜的厚度可用干涉膜厚計、雷射顯微鏡、或、觸針式膜厚計測定。
在本發明之另一實施態樣，亦可提供一種具備選自由上述聚合物薄膜、上述黏著劑及上述硬化膜所構造之群組中之至少1種的圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置由於具備含有上述化合物(I)之構件，可表示藍光切斷功能，進而可抑制相位差薄膜等之光學薄膜或顯示元件的劣化。又，上述化合物(I)由於相對於波長400nm附近之光 之光選擇吸收性優異，難以吸收藍色光之波長430nm附近之光，圖像顯示裝置可表現良好之色彩表現。
[實施例]
以下，藉由實施例進一步詳細說明本發明。例中之「%」及「份」除非另有說明，係質量%及質量份。
(合成例1)
Figure 105143400-A0202-12-0047-13
將設置戴氏冷卻管及溫度計之200mL-四口燒瓶內定為氮環境，投入參考專利文獻(日本特開2014-194508)合成之化合物UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)3.7g、氰基乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業(股)製)5.8g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)60g，以磁力攪拌器攪拌。在內溫25℃將N,N-二異丙基乙基胺(以下，簡稱為DIPEA。東京化成工業(股)製)4.7g從滴下漏斗花1小時滴下，滴下結束後在內溫25℃進一步保溫2小時。反應結束後，使用減壓蒸發器去除乙腈，於所得之 油狀物加入甲苯，將經生成之不溶成分以過濾去除。將濾液再度使用減壓蒸發器進行濃縮，將濃縮後之溶液供於管柱層析(二氧化矽凝膠)進行純化，藉由從甲苯中進行再結晶，而得到目的物。藉由將該結晶於60℃進行減壓乾燥，而得到5.2g作為黃色粉末之化合物UVA-01。收率為65%。又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定吸收極大波長(λmax)時，λmax=389nm(2-丁酮中)，ε(400)為125L/(g．cm)，ε(420)/ε(400)為0.0153。
而且進行1H-NMR解析時，從觀測以下之峰值，確認已生成化合物UVA-01。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t、3H)、2.10(quIn.2H)、2.98-3.04(m、5H)、3.54-3.72(m、6H)、4.31(t、2H)、5.53(d、2H)、7.93(d、2H)
(合成例2)
Figure 105143400-A0202-12-0048-14
將設置Dean-Stark管、戴氏冷卻管、及溫度計之100mL-四口燒瓶內定為氮氣流條件，投入氰基乙酸(東京化成工業(股)製)2.0g、三乙二醇單甲基醚(東京化成工業(股)製)4.25g、p-甲苯磺酸．一水合物(簡稱為p-TsOH．H2O，和光純藥工業(股)製)0.22g、及甲苯10g，以磁力攪 拌器攪拌。於油浴加溫，在內溫110℃進行沸點迴流，邊將副產物之水對系統外去除邊保溫4小時。反應結束後冷卻至室溫，將甲苯溶液以純水進行分液洗淨。洗淨係重複實施至水層pH>5為止。將洗淨後之有機層使用減壓蒸發器進行減壓濃縮來去除甲苯，而得到4.9g作為無色油狀物之化合物UVA-M-03。收率為90%。
Figure 105143400-A0202-12-0049-15
將設置戴氏冷卻管及溫度計之100mL-四口燒瓶內定為氮環境，投入上述之UVA-M-02粉末2.00g及UVA-M-03油狀物1.41g、以及乙酸酐(和光純藥工業(股)製)0.64g及乙腈26g，以磁力攪拌器攪拌。在內溫25℃將三乙基胺(和光純藥工業(股)製)0.65g花1小時滴下，滴下結束後在內溫25℃進而保溫2小時。反應結束後將溶液使用減壓蒸發器去除乙腈，將所得之油狀物供於管柱層析(二氧化矽凝膠)進行純化，而得到1.1g作為黃色油狀物之化合物UVA-02。收率為53%。又，使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定吸收極大波長(λmax)時，λmax=388nm(2-丁酮中)，ε(400)為95.2L/(g．cm)，ε(420)/ε(400)為0.0161。
(合成例3)
Figure 105143400-A0202-12-0050-16
將設置戴氏冷卻管及溫度計之200mL-四口燒瓶內定為氮環境，投入參考專利文獻(日本特開2014-194508)合成之UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業(股)製)3.6g、氰基乙酸2-乙基己酯(東京化成工業(股)製)6.9g、及乙腈(和光純藥工業(股)製)60g，以磁力攪拌器攪拌。在內溫25℃將DIPEA(東京化成工業(股)製)4.5g從滴下漏斗花1小時滴下，滴下結束後在內溫25℃進而保溫2小時。反應結束後，使用減壓蒸發器去除乙腈，供於管柱層析(二氧化矽凝膠)進行純化，將包含UVA-03之流出液使用減壓蒸發器，去除溶劑，而得到黃色結晶。藉由將該結晶於60℃進行減壓乾燥，而得到4.6g作為黃色粉末之UVA-03。收率為50%。使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定吸收極大波長(λmax)時，λmax=389nm(2-丁酮中)，ε(400)為108L/(g．cm)，ε(420)/ε(400)為0.0132。而且進行1H-NMR解析時，從觀測以下之峰值，確認生成化合物UVA-03。
1H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m、6H)、1.32-1.67(m、8H)、1.59-1.66(m、2H)、2.09(quIn、2H)、3.00(m、5H)、3.64(t、2H)、4.10(dd、2H)、5.52(d、2H)、7.87(d、2H)
(合成例4)
Figure 105143400-A0202-12-0051-17
依照專利文獻(DE101 09 243 A1)所記載之方法，合成化合物UVA-R01。純化係供於管柱層析(二氧化矽凝膠)進行。使用分光光度計UV-3150((股)島津製作所製)測定吸收極大波長(λmax)時，λmax=389nm(2-丁酮中)，ε(400)為146L/(g．cm)，ε(420)/ε(400)為0.0122。而且進行1H-NMR解析時，從觀測以下之峰值，確認生成化合物UVA-R01。
1H-NMR(CDCl3)δ：1.31(t、3H)、2.09(quIn.2H)、3.01(m、5H)、3.64(t、2H)、4.23(q、2H)、5.52(d、1H)、7.92(d、1H)
(實施例1)
將以合成例1所記載之方法所得之化合物UVA-01 50mg與下述所記載之溶劑450mg混合，調製10質量%溶液，在室溫25±3℃進行UVA-01之溶解性試驗。又，將UVA-01 50mg與下述所記載之溶劑950mg混合，調製5質量%溶液，進行同樣之溶解性試驗。在將個別之溶液調整後60分鐘後，在目視確認化合物UVA-01之溶解性。將結果示於表1。尚，試驗結果之評估基準係如以下。
A：有10質量%以上之溶解性
B：有5質量%以上未滿10質量%之溶解性
C：只能確認有未滿5質量%之溶解性
(使用之溶劑)
2-丁酮(關東化學(股)製，以下記為MEK)
2-丙醇(Nacalai Tesque(股)製，以下記為IPA)
甲苯(Nacalai Tesque(股)製，以下記為TOL)
乙酸乙酯(Nacalai Tesque(股)製，以下記為EAC)
氯仿(關東化學(股)製，以下記為CHF)
丙二醇單甲基醚乙酸酯(東京化成工業(股)製，以下記為PGMEA)
(實施例2及3)
除了取代UVA-01改使用UVA-02或UVA-03之外，其他與實施例1同樣進行，進行溶解性試驗。將結果示於表1。
(比較例1)
除了取代UVA-01改使用UVA-R01之外，其他與實施例1同樣進行，進行溶解性試驗。將結果示於表1。
Figure 105143400-A0202-12-0053-18
在以下之聚合例，重量平均分子量及數量平均分子量(Mn)之測定，係於凝膠滲透層析(以下記為GPC)裝置(GPC-8120、東曹(股)製)，作為管柱串聯4管之“TSK gel XL”(東曹(股)製)及1管之“Shodex GPC KF-802”(昭和電工(股)製)之合計5管來配置，使用四氫呋喃作為溶出液，以樣品濃度5mg/mL、樣品導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘的條件，由標準聚苯乙烯換算進行。
(聚合例1)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容 器，投入作為溶劑之乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)之丙烯酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份、及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、作為單體(A-2)之丙烯酸2-羥基乙酯1.0份、作為單體(A-3)之丙烯酸0.6份的混合溶液，以氮氣體取代裝置內之空氣邊成為不含氧邊將內溫提昇至55℃。然後，總量添加2,2’-偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解在乙酸乙酯10份之溶液。添加聚合起始劑後，以此溫度保持1小時，其次邊將內溫保持在54~56℃，以速度17.3份/hr邊對反應容器內連續性加入乙酸乙酯，於生成之丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時間點停止乙酸乙酯的添加，進而，從乙酸乙酯之添加開始至經過12小時為止，以此溫度保溫。最後加入乙酸乙酯，以丙烯酸樹脂的濃度成為20%的方式進行調節，調製丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂藉由GPC之聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw為142萬，Mw/Mn為5.2。將此所得之丙烯酸樹脂定為丙烯酸樹脂A。
(聚合例2)
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器，投入作為溶劑之乙酸乙酯81.8份、作為單體(A-1)之丙烯酸丁酯96.0份及作為單體(A-3)之丙烯酸4.0份的混合溶液，以氮氣體取代裝置內之空氣邊成為不含氧邊將內溫提昇至55℃。然後，總量添加2,2’-偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解在乙酸乙酯10份之溶液。添加聚合起 始劑後，以此溫度保持1小時，其次邊將內溫保持在54~56℃，以速度17.3份/hr邊對反應容器內連續性加入乙酸乙酯，於生成之丙烯酸樹脂的濃度成為35%的時間點停止乙酸乙酯的添加，進而，從乙酸乙酯之添加開始至經過12小時為止，以此溫度保溫。最後加入乙酸乙酯，以丙烯酸樹脂的濃度成為20%的方式進行調節，調製丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所得之丙烯酸樹脂藉由GPC之聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw為75萬6000，Mw/Mn為4.1。將此所得之丙烯酸樹脂定為丙烯酸樹脂B。
將在聚合例1及2之單體組成、所得之丙烯酸樹脂A及B的重量平均分子量Mw及Mw/Mn之一覽示於表2。尚，表中之單體組成的簡稱分別表示以下之單體。
單體(A-1)
BA：丙烯酸丁酯
MA：丙烯酸甲酯
PEA：丙烯酸2-苯氧基乙酯
單體(A-2)
HEA：丙烯酸2-羥基乙酯
單體(A-3)
AA：丙烯酸
Figure 105143400-A0202-12-0056-19
其次，使用於聚合例1或2製造之丙烯酸樹脂，調製黏著劑樹脂，適用在光學薄膜。尚，作為交聯劑及矽烷系化合物，分別使用以下者。
[交聯劑]
Coronate L：甲伸苯基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)、日本聚胺基甲酸乙酯工業(股)製。
Takenate D-110N：伸茬基二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液(固形分濃度75%)、三井化學(股)製(以下簡稱為D110N)。
[矽烷系化合物]
KBM-403：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、信越化學工業(股)製(以下簡稱為KBM-403)。
(製造例1~8)
(a)黏著劑組成物之調製
混合下述表3所記載之丙烯酸樹脂、交聯劑、矽烷系化合物、及光選擇吸收性化合物，分別製作黏著劑組成物(1)~(8)。各成分之添加份數作為相對於上述聚合例1及2所製作之丙烯酸樹脂中之固形分100質量份之質量份數，記載於表3。於此，以黏著劑組成物(1)~(8)之固形分濃度分別成為14%的方式添加2-丁酮，使用攪拌機(Three One MotorBL-300、大和科學(股)製)，以300rpm攪拌混合30分鐘，調製黏著劑組成物(1)~(8)。
Figure 105143400-A0202-12-0058-20
(b)黏著劑薄片之製作
將於前述(a)調製之個別的黏著劑組成物(1)~(8)於實施脫模處理之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(SP-PLR382050、Lintec(股)製，以下簡稱為隔離膜)的脫模處理面，使用塗抹器，以乾燥後之黏著層厚度成為20μm的方式進行塗 佈，然後以100℃乾燥1分鐘，製作黏著劑薄片(1)~(8)。
(實施例4)
針對黏著劑薄片(1)，將從加熱至70℃的狀態降溫至-40℃，其次昇溫至70℃的過程作為1循環(30分鐘)，將此實施合計100循環重複耐熱震(Heat shock)試驗(以下簡稱為「耐HS」)。以目視觀察試驗後之黏著劑薄片，依下述之基準評估薄片中之結晶析出有無。將評估用樣品每1條件合計作成5片，依下述基準進行評估。將評估結果記載於表4。
[結晶析出之評估基準]
A：幾乎無觀察到漂浮、剝離、發泡等之外觀變化。
B：承認漂浮、剝離、發泡等之外觀變化顯著。
(實施例5~9及比較例2~3)
除了取代黏著劑薄片(1)，改使用下述表4所記載之黏著劑薄片之外，其他與實施例3同樣進行，實施耐HS試驗，評估試驗後之黏著劑薄片中之結晶析出有無。
將評估結果記載於表4。
Figure 105143400-A0202-12-0060-21
於實施例4~9，幾乎無觀察到漂浮、剝離、發泡等之外觀變化的樣品有4片以上。另外，於比較例2及3，觀察到漂浮、剝離、發泡等之外觀變化顯著的樣品有2片以上。由以上，瞭解到本案發明之化合物係與疏水性物質的親和性或對各種溶劑的溶解性優異。
(實施例10)
混合EBECRYL4858(Daicel Orneex(股)製)20份、合成例1所記載之方法所得之UVA-010.80份、Irgacure-184(BASF日本(股)製)0.21份、o-二甲苯(關東化學(股)製)26份、及N-甲基-2-吡咯烷酮(關東化學(股)製)24份， 藉由在室溫攪拌2小時，製作均勻溶液。將所得之溶液使用旋塗塗佈於玻璃基板上，於熱板上在110℃乾燥1分鐘，使用接著高壓水銀燈，在氮環境下以照射強度36mW/cm2照射紫外線30秒，製作硬化膜。
將所得之硬化膜的厚度以雷射顯微鏡(LEXT OLS3000、奧林巴斯(股)製)測定之結果為2.3μm。濁度係使用霧度計(HZ-2、須賀試驗機(股)製)測定之結果為1.3。又，測定(測定機器：UV-3150、(股)島津製作所製)所得之硬化膜的吸收光譜的結果，為A(400)=1.41、A(420)=0.048，A(420)/A(400)=0.034。
面內相位差值係使用雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製之KOBRA-WR)，在波長550nm測定之結果為1nm。
據此，確認滿足下述式(1)~(3)全部之事。
式(1)0nm≦Re<10nm
式(2)A(420)/A(400)≦0.4
式(3)Hz≦3
Figure 105143400-A0202-11-0002-2

Claims (10)

  1. 一種以下述式(I-I)表示之化合物，
    Figure 105143400-A0305-02-0065-1
     (式(I-I)中，R4-1係表示碳數1~6之烷基，n係表示1~10之整數，A係表示亞甲基或第二級胺基，R1係表示氫原子，或碳數1~10之烷基，該烷基具有至少一個亞甲基的情況下，該亞甲基之至少一個可被氧原子或硫原子所取代，R2及R3係分別獨立表示氫原子，或碳數1~12之烷基)。
  2. 如請求項1之化合物，其中，前述式(I-I)表示之化合物係以下述式(I-II)表示，
    Figure 105143400-A0305-02-0065-2
     (式(I-II)中，R4-1及n係與式(I-I)中相同)。
  3. 一種聚合物組成物，其係含有如請求項1或2之化合物與聚合物。
  4. 如請求項3之聚合物組成物，其中，前述聚合物係選自由聚(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸乙酯、聚酯、聚 碳酸酯、聚環烯烴及三乙醯基纖維素所構造之群組中之至少1種。
  5. 如請求項3或4之聚合物組成物，其中，前述聚合物係將下述式(A-1)表示之(甲基)丙烯酸酯單體(A-1)、與具有羥基之(甲基)丙烯酸單體(A-2)作為構成單位之共聚物，重量平均分子量為50萬~200萬之聚(甲基)丙烯酸酯，
    Figure 105143400-A0305-02-0066-3
     (式(A-1)中，Rp係表示氫原子或甲基，Rq係表示碳數1~20之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子可被-O-(C2H4O)n-Rr取代，n係表示0~4之整數，Rr係表示碳數1~12之烷基、碳數1~12之芳基)；前述聚合物組成物係包含相對於前述聚合物100質量份為0.01~5質量份之交聯劑、及0.01~10質量份之前述化合物。
  6. 一種聚合物薄膜，其係由如請求項3或4之聚合物組成物所構成。
  7. 一種黏著劑，其係由如請求項5之聚合物組成物所構成。
  8. 一種光聚合性組成物，其係包含具有光聚合性官能基之單體、光聚合起始劑、溶劑、及如請求項1或2之 化合物。
  9. 一種硬化膜，其係由如請求項8之光聚合性組成物的硬化物所構成之硬化膜，滿足下述式(1)~(3)，(1)0nm≦Re<10nm (2)A(420)/A(400)≦0.4 (3)Hz≦3(式(1)中，Re係表示於波長550nm之面內相位差值，式(2)中之A(420)係表示在420nm之吸光度，A(400)係表示在400nm之吸光度，式(3)中之Hz係表示濁度)。
  10. 一種圖像顯示裝置，其係具備選自由如請求項6之聚合物薄膜、如請求項7之黏著劑、及如請求項9之硬化膜所構造之群組中之至少1種。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170077817A (ko) * 2015-12-28 2017-07-06 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 광학 적층체
JP6777401B2 (ja) * 2016-02-12 2020-10-28 住友化学株式会社 光学フィルム
WO2017208905A1 (ja) * 2016-05-31 2017-12-07 住友化学株式会社 ポリメチン化合物の製造方法
TW201942605A (zh) * 2018-02-09 2019-11-01 日商住友化學股份有限公司 圓偏光板及光學顯示器件
TWI825234B (zh) * 2018-11-30 2023-12-11 日商富士軟片股份有限公司 聚合性組成物和隱形眼鏡
JP7291786B2 (ja) * 2019-07-09 2023-06-15 富士フイルム株式会社 粘着剤シート、積層体、表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置
US11930683B2 (en) * 2020-08-10 2024-03-12 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Color filter layer and display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10109243A1 (de) * 2001-02-26 2002-09-05 Few Chemicals Gmbh UV- und blaues Licht absorbierende Merocyaninverbindungen
JP2007072163A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Fujifilm Corp 光学補償素子及びその製造方法、液晶表示装置及び液晶プロジェクタ
JP2007284516A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Toyo Ink Mfg Co Ltd 紫外線遮断性樹脂組成物及びその利用
JP2011073214A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
TW201323570A (zh) * 2011-08-25 2013-06-16 Lg Chemical Ltd 壓敏性黏著劑

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB835275A (en) * 1956-11-16 1960-05-18 Ilford Ltd Improvements in or relating to the production of cyanine dyes
JPS59149350A (ja) * 1983-02-16 1984-08-27 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JP2811100B2 (ja) * 1989-12-05 1998-10-15 コニカ株式会社 発汗性の改良されたハロゲン化銀写真感光材料
JPH09251199A (ja) * 1996-03-15 1997-09-22 Konica Corp 透過型ホログラム用ハロゲン化銀感光材料及びその画像形成方法
JPH11295855A (ja) * 1998-04-09 1999-10-29 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料容器
JP2006308936A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Fuji Photo Film Co Ltd 偏光板および液晶表示装置
JP5078386B2 (ja) * 2006-05-08 2012-11-21 株式会社Ａｄｅｋａ 新規化合物、該化合物を用いた光学フィルター及び光学記録材料
JP2009067973A (ja) * 2006-09-29 2009-04-02 Fujifilm Corp 紫外線吸収剤を含む高分子材料
CN106414398B (zh) * 2014-05-15 2019-04-05 Dic株式会社 化合物、活性能量射线固化性组合物、其固化物、印刷油墨和喷墨记录用油墨

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10109243A1 (de) * 2001-02-26 2002-09-05 Few Chemicals Gmbh UV- und blaues Licht absorbierende Merocyaninverbindungen
JP2007072163A (ja) * 2005-09-07 2007-03-22 Fujifilm Corp 光学補償素子及びその製造方法、液晶表示装置及び液晶プロジェクタ
JP2007284516A (ja) * 2006-04-14 2007-11-01 Toyo Ink Mfg Co Ltd 紫外線遮断性樹脂組成物及びその利用
JP2011073214A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及び平版印刷版の製版方法
TW201323570A (zh) * 2011-08-25 2013-06-16 Lg Chemical Ltd 壓敏性黏著劑

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