TWI731012B - 光學層合體 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種對於400nm附近的短波長之可見光顯示出高吸收選擇性而具有高耐光性，且使用於顯示裝置時，可得到良好的顯示特性之光學層合體。

一種含有至少1個偏光板，與至少1個黏著劑層的光學層合體，其為滿足下述式(1)及(2)之光學層合體：A(400)≧0.5 (1) A(420)/A(400)≦0.3 (2)(式中，A(400)表示偏光板之穿透方向中的波長400nm中之光學層合體的吸光度，A(420)表示偏光板之穿透方向中的波長420nm中之光學層合體的吸光度)。

Description

光學層合體

本發明為有關含有光學層合體及前述光學層合體之顯示裝置。

有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等之顯示裝置(FPD：平面面板顯示器；flat-panel display)中，多使用有機EL元件、液晶晶胞等之顯示元件或偏光板等之光學薄膜等各式各樣的構件。因該些構件所使用之有機EL化合物及液晶化合物等為有機物，故容易產生受到紫外線(UV)而劣化等問題。為解決該些問題，一般為對於顯示裝置所使用之偏光板的保護薄膜添加紫外線吸收劑等對策。例如，專利文獻1中，揭示一種對於370nm以下之波長區域具有優良的紫外線吸收能力，但對於不會影響液晶顯示的400nm以上的可見光之吸收區，則添加有紫外線吸收劑之偏光板等記載。

又，伴隨近年來顯示裝置之薄型化，已知已有不具有保護薄膜之光學薄膜。該些光學薄膜中，必須將添加於以往保護薄膜中之成份添加於其他構件中，例如， 將紫外線吸收機能賦予於層合於光學薄膜的黏著劑層等。專利文獻2中，則揭示一種將由含有紫外線吸收單體的單體混合物所合成之紫外線吸收性樹脂組成物，塗佈於該基材之一側面上形成黏著薄片之記載。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]特開2006-308963號公報

[專利文獻2]特開2008-56859號公報

以往，構成顯示裝置之各種構件，常受到380nm以下波長區域之紫外線而劣化，但已知除紫外線以外，於短波長區域之可見光也會造成性能劣化之因素之一。因此，偏光板等之光學薄膜中，則尋求一種除紫外線以外，對於400nm附近之光線具有吸收特性者。另一方面，為對顯示裝置賦予良好的顯示特性等目的，對於超過430nm之可見光區域(例如，藍色光)並不需要顯示出吸收特性，但以對於400nm附近的短波長之可見光線具有高吸收選擇性者方為重要條件。但是，前述專利文獻1所記載之偏光板，其對於400nm附近的可見光具有低吸收特性，故於耐光性中，仍不屬可滿足該條件之發明。

此外，對於顯示裝置之薄型化需求而言，為使其具有充分的UV吸收特性，且可達成光學薄膜之薄型化等目的，而將紫外線吸收劑添加於黏著劑層時，對於形成黏著劑層之黏著劑組成物或黏著劑塗覆液而言，其對於紫外線吸收劑必須具有高溶解性，若溶解性不充分時，形成黏著劑層之後，受到紫外線吸收劑長時間的滲出結果，雖不會阻礙黏著劑層之黏著機能，但將不容易製得具有高耐光性且為薄型之光學薄膜。

本發明，為以提供一種對於400nm附近的短波長之可見光顯示出高吸收選擇性而具有高耐光性，且使用於顯示裝置時，可得到良好的顯示特性之光學層合體為目的。

本發明為提供以下較佳態樣[1]~[10]者。

[1]一種光學層合體，其為含有至少1個偏光板，與至少1個黏著劑層的光學層合體，其特徵為，滿足下述式(1)及(2)：A(400)≧0.5 (1) A(420)/A(400)≦0.3 (2)[式中，A(400)表示偏光板之穿透方向中的波長400nm中之光學層合體的吸光度，A(420)表示偏光板之穿透方向中的波長420nm中之光學層合體的吸光度]。

[2]如前述[1]記載之光學層合體，其中黏著劑層為由含有(A)、(B)、(C)的黏著劑組成物所形成； (A)丙烯酸樹脂，其為基於丙烯酸樹脂的固形成份全體量，含有(A-1)：式(A-1)所示(甲基)丙烯酸酯單體50~99.9質量%，

[式(A-1)中，R^p表示氫原子或甲基，R^q表示碳數1~20之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子，可被-O-(C₂H₄O)_n-R^r所取代(n表示0~4之整數，R^r表示為碳數1~12之烷基或碳數1~12之芳基)]，與(A-2)：具有極性官能基之不飽和單體0.1~50質量%，為構成成份之共聚物，且其為重量平均分子量為50萬~200萬之丙烯酸樹脂、(B)相對於前述丙烯酸樹脂100質量份，為0.01~10質量份之交聯劑，及(C)滿足下述式(3)之光選擇吸收性化合物：_ε(420)/_ε(400)≦0.3 (3)[式中，ε(400)表示波長400nm中之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm之克吸光係數]。

[3]如前述[1]或[2]記載之光學層合體，其為含有滿足前述式(3)、下述式(4)及(5)之光選擇吸收性化合物：λmax<420nm (4) _ε(400)≧40 (5) (式中，λ max表示光選擇吸收性化合物之最大吸收波長，ε(400)表示波長400nm時之克吸光係數)。

[4]如前述[2]或[3]記載之光學層合體，其中，相對於丙烯酸樹脂(A)100質量份，含有0.01~10質量份之光選擇吸收性化合物。

[5]如前述[2]~[4]中任一項所記載的光學層合體，其中，前述光選擇吸收性化合物為含有由式(I)所表示之化合物，及式(II)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種；式(I)：

[式中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，R²及R³表示互相獨立之氫原子或碳數1~12之烷基，A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子，X¹及X²表示各自獨立之電子吸引性基，X¹及X²可互相連結形成環結構]式(II)：

[式中，A¹表示氫原子、碳數1~6之烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子、硫原子所取代，該芳香族烴基及芳香族雜環基可具有取代基，R¹、X¹及X²，表示與前述為相同之意義]。

[6]如前述[2]~[5]中任一項所記載的光學層合體，其中，前述光選擇吸收性化合物含有由式(I-II)所表示之化合物，及前述式(II-I)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種；

(式中，R^4'表示氫原子或碳數2~20之烷基，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子所取代，R¹表示與前述為相同之意義)式(II-I)：

(式中，R¹及R^4'，表示與前述為相同之意義)。

[7]如前述[1]~[6]中任一項所記載的光學層合體，其含有至少1個相位差薄膜。

[8]如前述[7]記載之光學層合體，其中，相位差薄膜為由聚合性液晶化合物於配向狀態下之聚合物所形成之層。

[9]如前述[1]~[8]中任一項所記載的光學層合體，其具有50~900μm之厚度。

[10]一種顯示裝置，其特徵為，含有前述[1]~[9]中任一項所記載的光學層合體。

本發明之結果，可提供一種對於400nm附近的短波長之可見光，可顯示高吸收特性且具有高耐光性，於使用於顯示裝置時，可得到良好的顯示特性之光學層合體。

[實施發明之形態]

以下，將對本發明之實施形態做詳細之說明。又，本發明之範圍並不受此處說明的實施形態所限 定，只要無損本發明之主旨之範圍時，可進行各種之變更。

本發明之光學層合體為含有，至少1個偏光板，與至少1個黏著劑層，且較佳為含有至少1個相位差薄膜，且為滿足下述式(1)及(2)之光學層合體。

A(400)≧0.5 (1)

A(420)/A(400)≦0.3 (2)

式(1)及(2)中，A(400)表示偏光板之穿透方向中的波長400nm中之光學層合體的吸光度，A(420)表示偏光板之穿透方向中的波長420nm中之光學層合體的吸光度。滿足前述式(1)及(2)時，該光學層合體於波長400nm附近顯示出高選擇吸收性，而可抑制因400nm附近的短波長之可見光所造成之劣化，故與顯示裝置組裝時，可得到良好的顯示特性。

A(400)之值越大時，顯示出對波長400nm時之吸收越高，該數值未達0.5時，於波長400nm時之吸收較弱，而對於400nm附近的短波長之可見光難以確保極高之耐光性。因此，本發明之光學層合體中之A(400)之值，較佳為0.7以上，更佳為0.8以上，更較佳為1.0以上。A(400)之值的上限並未有特別之限定，但為避免光選擇吸收性化合物長時間地滲出於含有該化合物之層時，通常以5.0以下為佳。

A(420)/A(400)之值表示，相對於波長420nm時之吸收的強度之波長400nm時之吸收的強度之意，該數值越小時，表示400nm附近的波長區域具有特異的吸 收。該數值越小時，可形成黃色度極少之具有優良的透明的色選擇性之光學層合體。該數值超過0.30時，會有無法充分吸收400nm附近的光線，而吸收有機EL元件等顯示元件所發出之420nm附近的藍色光線，故將其使用於顯示裝置時，會阻礙良好的色彩表現，而會有降低顯示裝置之顯示特性的傾向。因此，本發明之光學層合體中，A(420)/A(400)之值，較佳為0.27以下，更佳為0.25以下，更較佳為0.23以下，特較佳為0.2以下。其下限值並未有特別之限定，但就耐光性之觀點，通常以0.01以上為佳。本發明之較佳的一實施態樣中，A(420)/A(400)之值為0.01~0.27。

欲滿足前述式(1)及(2)之光學層合體的吸收特性時，例如，可經由添加對於400nm附近的波長區域具有選擇吸收性的化合物之方式而可控制。對400nm之波長區域具有選擇吸收性之化合物，例如，滿足下述式(3)之化合物等。

_ε(420)/_ε(400)≦0.3 (3)

式(3)中，ε(400)表示波長400nm時之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm時之克吸光係數，克吸光係數之單位為以L/(g‧cm)定義。

ε(420)/ε(400)之值，表示相對於波長420nm時之吸收的強度之波長400nm時之吸收的強度之意，該數值越小時，表示400nm附近的波長區域具有特異的吸收。光學層合體含有具有該吸收特性的化合物時，可賦予 光學層合體於400nm附近之波長區域具有高選擇吸收性。因此，前述化合物之ε(420)/ε(400)之值，以0.27以下為佳，以0.25以下為較佳，以0.23以下為更佳，以0.2以下為特佳。其下限值並未有特別之限定，就耐光性之觀點，通常以0.005以上為佳。本發明之較佳的一實施態樣中，前述化合物之ε(420)/ε(400)之值為0.005~0.27。

因此，本發明之較佳的一實施態樣中，光學層合體以含有滿足前述式(3)的光選擇吸收性化合物者為佳。又，本發明中，具有滿足前述式(3)吸收特性之化合物，對於400nm附近的波長區域具有高選擇吸收性之化合物亦稱為「光選擇吸收性化合物」。

[光選擇吸收性化合物]

本發明中，光選擇吸收性化合物除前述式(3)以外，以再滿足下述式(4)及(5)者為佳。

λmax<420nm (4)

_ε(400)≧40 (5)

式(4)中，λ max表示光選擇吸收性化合物的最大吸收波長。式(5)中，ε(400)表示波長400nm時之克吸光係數，克吸光係數之單位為以L/(g‧cm)定義。

滿足前述式(4)及(5)時，該光選擇吸收性化合物的最大吸收為存在於較420nm為更短之波長側，且，可稱為對於波長400nm附近具有高吸收之化合物。含有該些光選擇吸收性化合物時，可製得不會影響顯示特性且具有高耐光性的光學層合體。又，對於少量且可發揮高吸 收效果之觀點，亦為有利者。本發明中，光選擇吸收性化合物的最大吸收λ max，以410nm以下為較佳，以400nm以為更佳。又，就光選擇吸收性之觀點，化合物之最大吸收以存在於370nm以上者為佳，以存在380nm以上者為更佳。又，ε(400)之值，以60以上為較佳，以80以上為更佳，以100以上為特佳。其上限並未有特別之限定，通常為500以下。

本發明之光學層合體所含的光選擇吸收性化合物，只要為具有上述吸收特性之化合物者，並未有特別限定之內容，例如可為公知之紫外線吸收劑等。公知之紫外線吸收劑之例，可列舉如，KEMISORB 111、KEMISORB 73(以上，任一者皆為CHEMIPRO化成股份有限公司製)、SUMISORB 300(住化CHEMTEX股份有限公司製)等。

就光吸收選擇性、容易添加於光學層合體等之觀點，本發明之光學層合體，以含有由下述式(I)所表示之化合物及式(II)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種的光選擇吸收性化合物為佳。

前述式(I)及(II)中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，就高光吸收選擇性之觀點，較佳為表示碳數1~8，更佳為表示碳數1~5，更較佳為表示碳數1~3之烷基。其中，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代。該烷基，可列舉如，甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、tert-丁基、n-己基、n-辛基、n-癸基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基等。

前述式(I)中，R²及R³表示互相獨立之氫原子或碳數1~12之烷基，就高光吸收選擇性之觀點，較佳為氫原子或碳數1~10之烷基，更佳為氫原子或碳數1~8之烷基，更較佳為氫原子或碳數1~5之烷基，特較佳為氫原子或碳數1~3之烷基、非常佳為表示氫原子。

前述式(I)及(II)中，X¹及X²表示互相獨立之電子吸引性基。電子吸引性基，例如，-CN(氰基)、-NO₂(硝基)、鹵素原子、被鹵素原子所取代之烷基、-Y¹-R⁴[式中，R⁴表示氫原子、碳數2~50之烷基，或至少具有1個伸甲基之碳數2~50之烷基，該伸甲基中之至少1個可被氧原子所取代之烷基，該烷基上之碳原子可鍵結取代基，Y¹表示-CO-、-COO-、-OCO-、-NR⁵CO-或-CONR⁶-(R⁵及 R⁶各自獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基或苯基)]等。X¹及X²可互相連結形成環結構。X¹及X²所形成之環結構，例如，米氏酸(Meldrum's acid)結構、巴比妥酸(Barbituric acid)結構、雙甲酮結構等。

X¹及X²，就光吸收選擇性及與黏著劑所使用的丙烯酸組成物之相溶性的觀點，以-CN(氰基)、-NO₂(硝基)、-Y¹-R⁴中之Y¹為-CO-、-COO-、-OCO-者為佳，以-CN(氰基)、-Y¹-R⁴中之Y¹為-COO-者為較佳。又，X¹及X²互相連結形成環結構者亦佳。

前述式(I)中，A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子，就可產生高光選擇吸收性之觀點，較佳為表示伸甲基或氧原子。

前述式(II)中，A¹表示氫原子、碳數1~6之烷基、芳香族烴基或芳香族雜環基。其中，前述烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被二級胺基、氧原子、硫原子所取代亦可。該烷基，可列舉如，甲基、乙基、n-丙基、異丙基、n-丁基、tert-丁基、n-己基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基等。

前述式(II)中之A¹所例示之芳香族烴基及芳香族雜環基亦可具有取代基。取代基，例如鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、甲氧基、乙氧基、異丙氧基等。

該些芳香族烴基，以碳數3~9之芳香族烴基為佳，例如，苯基、萘基等。又，芳香族雜環基，以碳數3~9 之芳香族雜環基為佳，例如，吡咯基、吡啶基、喹啉基、噻吩基、咪唑基、噁唑基、噻唑基等。就容易製造之觀點，A¹以苯基或萘基為佳，以苯基為較佳。

前述式(I)所表示之光選擇吸收性化合物，具體而言，例如以下所示之化合物。

下述式(I-I)：

所表示之化合物[式(I-I)中，A、R¹~R⁴、X¹及Y¹分別表示與前述為相同之意義]等。

其中，又以黏著劑層含有光選擇吸收性化合物之情形，就與黏著劑所使用的丙烯酸組成物之相溶性的觀點，光學層合體以含有式(I-I)所表示之光選擇吸收性化合物為佳。

式(I-I)中之R⁴中之碳數2~50之烷基，就對疏水性物質及疏水性溶劑之溶解性，及經濟性之觀點，其碳數以2~30為佳，以2~20為較佳，以2~10為更佳。

R⁴中之至少具有1個伸甲基之碳數2~50之烷基，就對疏水性物質及疏水性溶劑之溶解性，及經濟性 之觀點，碳數較佳為2~40，更佳為2~30，更較佳為2~20，特較佳為2~10，極佳為表示4~10之烷基。其中，至少具有1個伸甲基之碳數2~50之烷基中，該伸甲基中之至少1個可被氧原子所取代，例如，甲氧基、乙氧基、丙氧基、2-甲氧基乙氧基甲基、二乙二醇基、三乙二醇基、二丙二醇基、三丙二醇基等。

又，R⁴之烷基上之碳原子可鍵結取代基。取代基，例如鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基(sulfinyl)基、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷胺磺醯基、碳數2~12之N,N-二烷胺磺醯基等。

特別是，R⁴為碳數3~50之烷基時，就與疏水性物質之親和性，及對疏水性溶劑之溶解性的觀點，R⁴為碳數3~12之具有分支結構的烷基為較佳，以碳數6~10之具有分支結構的烷基為更佳。

其中，具有分支結構的烷基係指，該烷基所具有的碳原子中之至少一個為三級碳，或四級碳的烷基之意。碳數3~12之具有分支結構的烷基之具體例，可列舉如，具有下述結構的烷基等。

＊表示連結部。

式(I-I)中之Y¹，就光吸收選擇性及與黏著劑所使用的丙烯酸組成物之相溶性觀點，較佳為-CO-、-COO-或-OCO-。

前述式(I-I)所表示之化合物，例如下述式(I-II)所表示之化合物等。

式(I-II)所表示之化合物，因具有高光吸收選擇性，故黏著劑層含有該光選擇吸收性化合物時，可與黏著劑所使用的丙烯酸組成物具有高相溶性，故光學層合體以含有式(I-II)所表示之光選擇吸收性化合物者為佳。

式(I-II)中，R¹表示與前述為相同之意義。R^4'表示氫原子或碳數2~20之烷基，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子所取代亦可。該些烷基，可列舉如，前述式(I-I)中之R⁴中所例示之內容等。其中，就可對光學層合體賦予高耐光性之觀點，R^4'已可被氧原子所取代之碳數3~18之烷基為佳，以可被氧原子所取代之碳數5~15之烷基為較佳。

前述式(I-II)所表示之化合物，例如，下述式(I-III)所表示之化合物等。

[式中，R^4"表示碳數1~6之烷基，n表示1~10之整數]

式(I-III)所表示之光選擇吸收性化合物，對400nm附近的波長區域具有高選擇吸收性，且，對於各種溶劑具有優良溶解性及/或對各種化合物具有優良親和性。因此， 極容易溶解於該領域中的一般所使用的各種溶劑，又，亦不易產生滲出現象，而可賦予光學層合體極高之耐光性。因此，式(I-III)所表示之光選擇吸收性化合物，為本發明中最佳的光選擇吸收性化合物之一。

式(I-III)中，R^4"較佳為碳數2~5之烷基，更佳為3或4之烷基。又，n就合成上之觀點，較佳為1~8之整數，更佳為1~6之整數，例如1~4之整數，特別是以1~3之整數。n為前述範圍內時，因對疏水性溶劑具有優良的溶解性，故例如容易溶解於一般溶解黏著劑組成物所使用的各種疏水性溶劑。

式(I-III)所表示之化合物，具體而言，例如以下所例示之內容等。

前述式(II)所表示之光選擇吸收性化合物，具體而言，例如以下所示之化合物。

及

所表示之化合物[式中，R¹及R^4'與前述式(I-II)中之化合物為具有相同之意義]等。

其中，就容易製造之觀點，又以式(II)所表示之光選擇吸收性化合物為式(II-I)所表示之化合物為佳，就對光學層合體賦予高耐光性之觀點，R^4'以可被氧原子所取代之碳數2~20之烷基的式(II-I)所表示之化合物為佳，以可被氧原子所取代之碳數5~15之烷基的式(II-I)所表示之化合物為較佳。

式(II-I)所表示之化合物，具體而言，可列舉如，以下所示之化合物。

本發明中，光選擇吸收性化合物，以含有由式(I)所表示之化合物及式(II)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種為佳，以含有由式(I-II)所表示之化合物及式(II-I)所表示之化合物所成之群所選出之至少1種為佳。又，就光吸收選擇性及與黏著劑所使用的丙烯酸組成 物之相溶性等觀點，以式(I)所表示之化合物為佳，以式(I-I)及(II-I)所表示之化合物為較佳，以式(I-II)及式(I-III)所表示之化合物為更佳。式(I)、(II)、(I-I)、(II-I)、(I-II)、(I-III)所表示之化合物，可分別單獨僅使用1種亦可、將相異的複數種組合使用亦可，其亦可含有式(I)、(II)、(I-I)、(II-I)、(I-II)、(I-III)所表示之化合物的組合。

例如，式(I-II)所表示之化合物，可將2-甲基二氫吡咯(pyrroline)經由甲基化劑而形成1,2-二甲基吡咯啉鹽，隨後，與N,N'-二苯基甲脒反應，最後於乙酸酐，及胺觸媒存在下，與活性甲基化合物反應之方式而可製得。前述式(I)、(I-I)及(I-III)所表示之化合物，可依與前述式(I-II)所表示之化合物為相同之方法而製得。式(II)及(II-I)所表示之化合物，將使3-甲醯基吲哚與活性甲基化合物進行反應(Knoevenagel反應)而可製得，於反應中可併用胺觸媒。式(II)及(II-I)中之R¹為碳數1~10之烷基時，對3-甲醯基吲哚，可於鹼觸媒存在下與鹵化烷基進行反應，隨後再與活性甲基化合物反應，即可製得目的物之光選擇吸收性化合物。又，該些化合物亦可使用市售之成品。

本發明之光學層合體的吸收特性，可經由添加前述光選擇吸收性化合物予以控制，其含量，可配合所使用的光選擇吸收性化合物之種類或其組合、所使用的溶劑之種類或量、添加光選擇吸收性化合物之層及其層(例 如黏著劑層)之膜厚等適當決定即可。

又，本發明之光學層合體，除上述於400nm附近顯示高選擇吸收性之光選擇吸收性化合物以外，於200~400nm之波長區域亦具有吸收，故可含有該領域中一般所使用的公知之紫外線吸收劑。該些紫外線吸收劑，例如，2-(5-氯-2H-苯併三唑-2-基)-6-tert-丁基-4-甲酚、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三

-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯氧)乙氧基]酚、2,4,6-參(2-羥基-4-己基氧基-3-甲基苯基)-1,3,5-三

等。經併用紫外線吸收劑結果，可有效地抑制構成顯示裝置的各種構件因紫外線所造成的性能劣化，而可使光學層合體之耐光性更向上提升。

其中，構成本發明之光學層合體之構成構件，為含有至少1個偏光板與至少1個黏著劑層，只要可達到所期待的光學機能之構成時，並未有特別之限定。例如，偏光板及黏著劑層以外，尚含有其他保護薄膜或相位差薄膜等作為構成構件之光學層合體等。該些各構成構件所構成之層結構並未有特別之限定，通常，偏光板或相位差薄膜等之光學薄膜，為介由黏著劑層貼著於顯示元件之方式構成光學層合體。

本發明之光學層合體中，例如，保護薄膜或相位差薄膜等中，可含有光選擇吸收性化合物，但就光學層合體之薄層化觀點，特別是以黏著劑層含有光選擇吸收性化合物者為佳。

以下，將詳細說明本發明之較佳的一實施態 樣中之本發明之光學層合體之構成。

[黏著劑層]

本發明中，構成黏著劑層之黏著劑，可列舉如，可使用具有丙烯酸基系、橡膠系、胺基甲酸酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等基礎聚合物之黏著劑。該些之中，就高耐熱性、耐光性之觀點，構成本發明之光學層合體的黏著劑層，以由具有丙烯酸樹脂作為基礎聚合物之黏著劑組成物所形成者為佳。

本發明之較佳的一實施態樣中，光學層合體之黏著劑層為由含有(A)依丙烯酸樹脂之固形成份全體的量為基準，(A-1)：下述式(A-1)所表示之(甲基)丙烯酸酯單體90~99.9質量%；

與(A-2)：具有極性官能基之不飽和單體0.1~10質量%為構成成份之共聚物，重量平均分子量為50萬~200萬之丙烯酸樹脂、(B)相對於前述丙烯酸樹脂100質量份，為0.01~10質量份之交聯劑，及(C)滿足前述式(3)之光選擇吸收性化合物、的黏著劑組成物所形成者。

前述式(A-1)中，R^p為氫原子或甲基。R^q表示碳數1~20之烷基或芳烷基，較佳為碳數1~10之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子，可被-O-(C₂H₄O)_n-R^r所取代。其中，n較佳為表示0~4，更佳為0~3之整數，R^r較佳為表示碳數1~12之烷基，更佳為碳數1~5之烷基，較佳為碳數1~12之芳基，更佳為碳數1~10之芳基。

前述式(A-1)所表示之(甲基)丙烯酸酯單體(A-1)(以下，亦稱為「單體(A-1)」)，具體而言，可列舉如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸n-丁酯、丙烯酸n-辛酯、丙烯酸月桂酯等直鏈狀之丙烯酸烷酯；丙烯酸異丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯等分枝狀之丙烯酸烷酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸n-丁酯、甲基丙烯酸n-辛酯、甲基丙烯酸月桂酯等直鏈狀之甲基丙烯酸烷酯；甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸異辛酯等分枝狀之甲基丙烯酸烷酯；丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯等具有芳香族基之丙烯酸酯；丙烯酸苯氧酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苄酯等具有芳香族基之甲基丙烯酸酯等例示。該些可單獨使用亦可、將複數種組合使用亦可。其中，就產生黏著性之觀點，以丙烯酸n-丁酯為佳。

具有極性官能基之不飽和單體(A-2)(以下，亦稱為「單體(A-2)」)中，極性官能基，可例如由游離羧基、羥基、胺基、環氧環開始的雜環基等。單體(A-2)， 較佳為具有極性官能基之(甲基)丙烯酸系化合物。其例如，丙烯酸、甲基丙烯酸，及β-羧基乙基丙烯酸酯等之具有游離羧基之不飽和單體；(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-或3-氯-2-羥基丙酯，及二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯等之具有羥基之不飽和單體；丙烯醯基嗎啉、乙烯基己內醯胺、N-乙烯基-2-吡咯啶酮、四氫糠基(甲基)丙烯酸酯、己內酯改性四氫糠基丙烯酸酯、3,4-環氧環己基甲基(甲基)丙烯酸酯、縮水甘油(甲基)丙烯酸酯，及2,5-二氫呋喃等具有雜環基之不飽和單體；N,N-二甲胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等具有與雜環相異之胺基的不飽和單體等。該些單體(A-2)，可分別單獨使用亦可、使用相異的複數種亦可。

該些之中，就提高與黏著劑層之接著力、使耐久性更向上提升之觀點，以含有具有羥基之不飽和單體作為構成丙烯酸樹脂(A)之單體(A-2)之1者為佳。

單體(A-1)與單體(A-2)於作為結構單位之丙烯酸樹脂(以下，亦稱為「丙烯酸樹脂(A)」)時，於以其固形成份全體之量為基準時，由單體(A-1)所產生之結構單位，較佳為含有50~99.9質量%，更佳為含有70~99.9質量%之比例。又，單體(A-2)所產生之結構單位，較佳為含有0.1~50質量%，更佳為含有0.1~30質量%之比例。單體(A-1)與單體(A-2)之比例於前述範圍內時，可提供具有作為具有優良加工性之黏著劑層的黏著劑組成物。

又，丙烯酸樹脂(A)，可含有單體(A-1)與單體 (A-2)以外的其他單體(以下，亦稱為「單體(A-3)」)作為構成成份。其他單體，例如，分子內具有脂環式結構之(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯系單體、乙烯基系單體、分子內具有複數(甲基)丙烯醯基之單體、(甲基)丙烯酸基醯胺衍生物等。

脂環式結構係指，碳數為通常5以上，較佳為5~7左右的環烴結構。具有脂環式結構之丙烯酸酯的具體例，可列舉如，丙烯酸異莰酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸二環戊烷酯、丙烯酸環十二烷酯、丙烯酸甲酯環己酯、丙烯酸三甲基環己酯、丙烯酸tert-丁基環己酯、α-乙氧基丙烯酸環己酯、丙烯酸環己基苯酯等；具有脂環式結構之甲基丙烯酸酯的具體例，可列舉如，甲基丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸二環戊烷酯、甲基丙烯酸環十二烷酯、甲基丙烯酸甲酯環己酯、甲基丙烯酸三甲基環己酯、甲基丙烯酸tert-丁基環己酯、甲基丙烯酸環己基苯酯等。

苯乙烯系單體，除苯乙烯以外，可列舉如，甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯、辛基苯乙烯等烷基苯乙烯；氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯等之鹵化苯乙烯；此外，又例如，硝基苯乙烯、乙醯基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、二乙烯基苯等。

乙烯基系單體，可列舉如，乙酸乙烯酯、丙 酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、2-乙基己烷酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯等之脂肪酸乙烯酯；氯化乙烯基或溴化乙烯基等之鹵化乙烯基；氯化亞乙烯等之鹵化亞乙烯；乙烯基吡啶、乙烯基吡咯啶酮、乙烯基咔唑等之含氮芳香族乙烯基；丁二烯、異丁烯、氯丁烯等之共軛二烯單體；此外，又例如丙烯腈、甲基丙烯腈等。

分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體，可列舉如，1,4-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等分子內具有2個(甲基)丙烯醯基之單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等分子內具有3個(甲基)丙烯醯基之單體等。

(甲基)丙烯酸基醯胺衍生物，可列舉如，N-羥甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、2-羥乙酯(甲基)丙烯酸基醯胺、3-羥基丙基(甲基)丙烯酸基醯胺、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸基醯胺、5-羥基戊基(甲基)丙烯酸基醯胺、6-羥基己基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-乙氧基甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-丙氧基甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酸基醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-二甲胺基丙基(甲基)丙烯酸基醯胺、N-(1,1-二甲基-3氧雜丁基)(甲基)丙烯酸基醯胺、N-[2-(2-氧雜-1-咪唑啶基)乙 基](甲基)丙烯酸基醯胺、2-丙烯醯胺基-2-甲基-1-丙烷磺酸等。

前述單體(A-1)、單體(A-2)及其他單體(A-3)，可分別單獨，或將複數種組合使用皆可。本發明中，黏著劑組成物所使用之丙烯酸樹脂(A)中，前述單體(A-3)所產生之結構單位，依丙烯酸樹脂(A)之固形成份全體之量為基準時，通常為含有0~20質量份，較佳為含有0~10質量份之比例。

本發明之一實施態樣中，黏著劑組成物可含有1種或2種以上之前述丙烯酸樹脂(A)。

前述丙烯酸樹脂(A)，經使用凝膠滲透色層分析(GPC)之標準聚苯乙烯換算的重量平均分子量(Mw)，較佳為50萬~200萬，更佳為60萬~180萬，更較佳為70萬~170萬。該標準聚苯乙烯換算重量平均分子量為50萬以上時，具有提高於高溫高濕下之接著性、降低玻璃基板(畫像顯示元件)與黏著劑層之間產生之浮起或剝離可能性之傾向，此外，並具有提高重現性之傾向，而為較佳。又，該重量平均分子量為200萬以下時，將該黏著劑層貼合於光學薄膜時，即使光學薄膜尺寸產生變化時，因黏著劑薄片追隨該尺寸變化而變動，故可消除液晶晶胞等畫像顯示元件的周邊部的亮度與中心部亮度之差異，而具有抑制褪色或顏色不均勻性(nonuniformity)之傾向而為較佳。重量平均分子量(Mw)與數平均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)所表示之分子量分佈，通常為2~10左右之範圍。

前述丙烯酸樹脂(A)，例如，可使用溶液聚合法、乳化聚合法、塊狀聚合法、懸濁聚合法等公知的各種方法分別製得。該丙烯酸樹脂之製造中，通常會使用聚合起始劑。聚合起始劑，一般相對於製造丙烯酸樹脂時所使用的全部單體之合計100質量份，為使用0.001~5質量份左右。

聚合起始劑，可使用熱聚合起始劑或光聚合起始劑等。光聚合起始劑，例如，4-(2-羥基乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮等。熱聚合起始劑，例如，2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1'-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2'-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2'-偶氮雙(2-羥基甲基丙腈)等之偶氮系化合物；月桂基過氧化物、tert-丁基氫過氧化物、過氧化苯甲醯酯、tert-丁基過氧化苯甲酸酯、異丙苯氫過氧化物、二異丙基過氧化二碳酸酯、二丙基過氧化二碳酸酯、tert-丁基過氧化新癸酯、tert-丁基過氧化特戊酸酯、(3,5,5-三甲基己醯基)過氧化物等之有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等之無機過氧化物等。又，過氧化物與還原劑合併使用的氧化還原系起始劑等，亦可作為聚合起始劑使用。

丙烯酸樹脂(A)之製造方法，於上所示之方法中，又以溶液聚合法為佳。列舉溶液聚合法之具體例說明如下，將所期待之單體及有機溶劑混合，於氮氛圍下，添 加熱聚合起始劑，於40~90℃左右，較佳為60~80℃左右進行3~10小時左右之攪拌等方法等。又，就控制反應之觀點，可將單體或熱聚合起始劑連續性的或間歇性的添加於聚合反應中，亦可將其溶解於有機溶劑之狀態下添加。其中，有機溶劑，例如，可使用甲苯、二甲苯等芳香族烴類；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類；丙醇、異丙醇等脂肪族醇類；丙酮、2-丁酮、甲基異丁酮等酮類等。

黏著劑組成物，除前述丙烯酸樹脂(A)以外，可再含有與其相異之丙烯酸樹脂。該些丙烯酸樹脂，例如，以(甲基)丙烯酸酯所產生之結構單位為主成份者(例如，聚甲基(甲基)丙烯酸酯)，且其重量平均分子量為5萬~30萬之範圍的具有較低分子量者等。

黏著劑組成物於含有與丙烯酸樹脂(A)相異之丙烯酸樹脂時，與丙烯酸樹脂(A)相異之丙烯酸樹脂之含量，相對於丙烯酸樹脂(A)100質量份，通常為50質量份以下為佳，又以30質量份以下為較佳。

黏著劑組成物所含有之丙烯酸樹脂(由2種類以上組合時，為該些之混合物)，於將其溶解於乙酸乙酯而將固形成份濃度調整為20質量%之溶液，以其於25℃時顯示20Pa‧s以下，又以顯示0.1~7Pa‧s之黏度者為佳。

此時之黏度為20Pa‧s以下時，可提高高溫高濕下之接著性，而會有降低顯示元件與黏著劑層之間產生浮起或剝離可能性之傾向，此外，亦具有提高重現性之傾向而為 較佳。黏度可依布氏黏度計予以測定。

黏著劑組成物中，交聯劑例如，可使用特別是可與丙烯酸樹脂(A)中具有極性官能基之不飽和單體所產生之結構單位進行反應，而與丙烯酸樹脂(A)形成交聯之化合物。具體而言，可列舉如，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物、吖環丙烷(aziridine)系化合物、金屬螯合物系化合物等例示。該些之中，異氰酸酯系化合物、環氧系化合物及吖環丙烷(aziridine)系化合物，於分子內至少具有2個可與丙烯酸樹脂(A)中之極性官能基產生反應之官能基。

異氰酸酯系化合物為，分子內至少具有2個異氰氧基(-NCO)之化合物，例如，伸甲苯基二異氰酸酯、伸六甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等。又，該些異氰酸酯化合物，可與甘油或三羥甲基丙烷等聚醇進行反應形成加成物，或異氰酸酯化合物作為二聚物、三聚物等，亦可作為黏著劑所使用之交聯劑。該些2種以上之異氰酸酯系化合物，亦可混合使用。

環氧系化合物為分子內至少具有2個環氧基之化合物，例如，雙酚A型之環氧樹脂、乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙三醇二縮水甘油醚、丙三醇三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基 丙烷三縮水甘油醚、N,N-二縮水甘油苯胺、N,N,N',N'-四縮水甘油-m-二甲苯二胺、1,3-雙(N,N'-二縮水甘油胺基甲基)環己烷等。其可將2種以上的環氧系化合物混合使用。

吖環丙烷(aziridine)系化合物為，分子內至少具有2個具有稱為伸乙基亞胺的1個氮原子與2個碳原子所形成之3員環的骨架之化合物，例如，二苯基甲烷-4,4'-雙(1-吖環丙烷甲酰胺)、甲苯-2,4-雙(1-吖環丙烷甲酰胺)、三伸乙基三聚氰胺、異鄰苯二甲醯基雙-1-(2-甲基吖環丙烷)、三-1-吖環丙烷基次膦(tris-1-aziridinyl phosphine)氧化物、伸六甲基-1,6-雙(1-吖環丙烷甲酰胺)、三羥甲基丙烷-三-β-吖環丙烷基丙酸酯、四羥甲基甲烷-三-β-吖環丙烷基丙酸酯等。

金屬螯合物化合物，例如，鋁、鐵、銅、鋅、錫、鈦、鎳、銻、鎂、釩、鉻及鋯等多價金屬，與乙醯基丙酮或或乙醯乙酸乙酯形成配位之化合物等。

該些交聯劑之中，又以異氰酸酯系化合物，即，二甲苯二異氰酸酯、伸甲苯基二異氰酸酯或伸六甲基二異氰酸酯，或該些異氰酸酯化合物與甘油或三羥甲基丙烷等聚醇反應而得之加成物，或異氰酸酯化合物形成二聚物、三聚物等時之混合物、該些異氰酸酯系化合物混合而得者等，為較佳使用者。較佳之異氰酸酯系化合物，可列舉如，伸甲苯基二異氰酸酯、伸甲苯基二異氰酸酯與聚醇反應而得之加成物、伸甲苯基二異氰酸酯之二聚物，及伸 甲苯基二異氰酸酯之三聚物，又，伸六甲基二異氰酸酯、伸六甲基二異氰酸酯與聚醇反應而得之加成物、伸六甲基二異氰酸酯之二聚物，及伸六甲基二異氰酸酯之三聚物等。

本發明中，黏著劑組成物，相對於前述丙烯酸樹脂的固形成份100質量份(含有2種以上的丙烯酸樹脂時，為其之合計100質量份)，較佳為含有0.01~10質量份，更佳為含有0.01~0.08質量份，更較佳為含有0.01~0.06質量份之交聯劑。交聯劑之量為0.01質量份以上時，黏著劑層之耐久性會有提高之傾向而為較佳，又，為10質量份以下時，將由該黏著劑組成物所得之黏著劑使用於液晶顯示裝置時，可降低輪廓之明顯度。

本發明之較佳的一實施態樣為，黏著劑組成物中包含滿足前述式(3)之光選擇吸收性化合物。如上所述般，本發明之光學層合體中，光選擇吸收性化合物可包含於構成光學層合體的任一構成構件(層)中，就黏著劑層中添加光選擇吸收性化合物時，可無須設置保護薄膜而構成光學層合體之點，以黏著劑層中含有光選擇吸收性化合物，就光學層合體薄層化之觀點而言為有利者。

滿足前述式(3)之光選擇吸收性化合物，可列舉如，先前說明的光選擇吸收性化合物等，又，式(I)所表示之化合物或式(II)所表示之化合物等皆適合使用。光選擇吸收性化合物，可單獨使用1種，或將複數種組合使用亦可。其中，就對構成黏著劑組成物之其他成份或溶解該 黏著劑組成物所使用的各種溶劑具有高溶解性之點、形成黏著劑層之後不易生成滲出現象，又，可擴大使用溶劑之選擇性等觀點，以式(I-I)所表示之化合物及式(II-I)所表示之化合物為較佳，以式(I-II)所表示之化合物及式(I-III)所表示之化合物為特佳。該些化合物，只要少量即可發揮出高吸收效果，故可以在維持高黏著力的同時，得到對400nm附近的短波長區域具有高吸收特性的黏著劑層。

黏著劑組成物中之光選擇吸收性化合物之含量，相對於前述丙烯酸樹脂之固形成份100質量份(含有2種以上的丙烯酸樹脂時，為其之合計100質量份)，較佳為0.01~10質量份，更佳為0.01質量份以上，未達10質量份，更較佳為0.01~7質量份、特佳為0.01~5質量份，最佳為0.05~3質量份。光選擇吸收性化合物含有前述範圍內之量時，可製得對400nm附近之波長區域具有高吸收特性的黏著劑層，而可賦予高耐光性。

又，本發明中之黏著劑組成物，以含有矽烷系化合物者為佳，即，添加交聯劑之前的丙烯酸樹脂，以含有矽烷系化合物者為佳。矽烷系化合物因可提高對玻璃之黏著力，故含有矽烷系化合物時，可提高玻璃基板所挾夾的顯示元件與黏著劑層之密著性。

矽烷系化合物，例如，乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧 基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基二甲氧基甲基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷等。亦可使用2種以上的矽烷系化合物。

矽烷系化合物，可為聚矽氧低聚物形態者。聚矽氧低聚物以(單體)低聚物之形式表示時，例如，以下所示之化合物等。

3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-氫硫基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有氫硫基丙基之共聚物；氫硫基甲基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、氫硫基甲基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、氫硫基甲基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、氫硫基甲基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有氫硫基甲基之共聚物；3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷 -四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有甲基丙烯醯氧基丙基之共聚物；3-丙烯醯基氧丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-丙烯醯基氧丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有丙烯醯基氧丙基之共聚物；乙烯基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、乙烯基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有乙 烯基之共聚物；3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基三乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四甲氧基矽烷共聚物、3-胺基丙基甲基二乙氧基矽烷-四乙氧基矽烷共聚物等含有胺基之共聚物等。

該些矽烷系化合物，於多數情形下皆為液體。黏著劑組成物中，矽烷系化合物之添加量，相對於丙烯酸樹脂之固形成份100質量份(使用2種類以上時，為該些之合計100質量份)，通常為使用0.01~10質量份左右，較佳為使用0.01~5質量份之比例。相對於丙烯酸樹脂之固形成份100質量份，該矽烷系化合物之量為0.01質量份以上時，以其可提高黏著劑層與顯示元件之密著性而為較佳。又，該量為10質量份以下時，具有抑制矽烷系化合物滲出於黏著劑層之傾向而為較佳。

黏著劑組成物中，可再含有交聯觸媒、抗靜電劑、耐候安定劑、增黏劑、可塑劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料，及丙烯酸樹脂以外的樹脂等。又，黏著劑組成物中，添加紫外線硬化性化合物時，亦適用於形成黏著劑層之後照射紫外線使其硬化時，即可形成更硬之黏著劑層。其中，於黏著劑組成物添加交聯劑的同時亦添加交 聯觸媒時，可以短時間的熟成方式製得黏著劑層，而於所得之光學層合體中，可抑制偏光板或保護薄膜等與黏著劑層之間產生浮起或剝離，或於黏著劑層內產生發泡等現象，且亦具有良好的重現性。交聯觸媒，例如，伸六甲基二胺、乙烯二胺、聚乙烯亞胺、伸六甲基四胺、二乙烯三胺、三乙烯四胺、異佛爾酮二胺、伸三甲基二胺、聚胺樹脂、三聚氰胺樹脂等胺系化合物等。黏著劑組成物中，添加胺系化合物作為交聯觸媒時，交聯劑以使用異氰酸酯系化合物者為佳。

構成黏著劑之前述各成份，可以溶解於溶劑之狀態構成黏著劑組成物。該溶劑，例如，甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑(cellosolve)、丁基溶纖劑(cellosolve)、丙二醇單甲醚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、2-丁酮、甲基異丁酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮、甲基異丁酮等酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等之醚溶劑；及氯仿、氯苯等氯化烴溶劑等。其中，就各成份之溶解性，及降低對環境之負荷等觀點，以2-丁酮、甲基異丁酮等為佳。

黏著劑層，例如將上述黏著劑組成物作為有機溶劑溶液，將其使用刮刀塗佈(diecoater)或凹版塗佈等方式塗佈於欲層合之薄膜或層(例如偏光板或保護薄膜等) 上，再予乾燥之方法而形成。又，亦可將實施離型處理的塑膠薄膜(亦稱為覆蓋膜)上所形成之薄片狀黏著劑，轉印於欲層合的薄膜或層之方法而形成。黏著劑層之厚度並未有特別之限定，通常以30μm以下為佳，又以3μm以上為佳，更較佳為3~20μm。黏著劑層之厚度為30μm以下時，可提高高溫高濕下的接著性，而具有降低顯示元件與黏著劑層之間產生浮起或剝離可能性的傾向，且具有提高重現性之傾向而為較佳，又其厚度為3μm以上時，即使貼合於其上之光學薄膜的尺寸產生變化時，黏著劑層將會追隨該尺寸的變化而變動，而可消除液晶晶胞(顯示元件)之周邊部的亮度與中心部亮度之間的差異，而具有抑制褪色或顏色不均勻性(nonuniformity)之傾向而為較佳。

[光學薄膜]

本發明之光學層合體，例如，可將前述黏著劑層層合於偏光板或相位差薄膜等光學薄膜上，再介由該黏著劑層使光學薄膜貼著於顯示元件而構成光學層合體。其中，偏光板為相對於自然光等入射光，具有射出偏光機能的光學薄膜。偏光板，可列舉如，具有吸收射入薄膜面之方向的振動面之直線偏光，且具有穿透與其垂直交叉的振動面之直線偏光的性質之直線偏光板、具有可反射射入薄膜面之方向的振動面之直線偏光，且具有穿透與其垂直交叉的振動面之直線偏光的性質之偏光分離薄膜、偏光板與後述相位差薄膜層合而得的楕圓偏光板等。偏光板，特別是直線 偏光板(亦稱為偏光子)之較佳具體例，可列舉如，單軸延伸的聚乙烯醇系樹脂薄膜或聚合性液晶化合物之聚合物吸附碘或二色性染料等二色性色素形成配向者。

相位差薄膜係指，顯示光學異向性之光學薄膜，例如，使聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚酯、聚芳酯、聚醯亞胺、聚烯烴、聚環烯烴、聚苯乙烯、聚碸、聚醚碸、聚亞乙烯氟化物/聚甲基丙烯酸甲酯、乙醯基纖維素、乙烯-乙酸乙烯共聚物矽化物、聚氯化乙烯等所形成之高分子薄膜，經延伸1.01~6倍左右而得之延伸薄膜等。其中，又以聚碳酸酯薄膜或環烯烴系樹脂薄膜經單軸延伸或二軸延伸而得之高分子薄膜為佳。

又，本發明之光學層合體含有相位差薄膜時，就可使含有經由塗佈聚合性液晶化合物形成配向而可產生光學異向性之相位差薄膜形成薄型化之觀點而為較佳。

又，本發明之光學層合體含有相位差薄膜時，相位差薄膜以具有逆波長分散性者為佳。逆波長分散性係指，具有短波長下的面內相位差值較長波長下的面內相位差值為更大的光學特性之意，較佳為相位差薄膜滿足下述式(6)及式(7)者。又，Re(λ)表示相對於波長λ nm之光線的面內相位差值。

Re(450)/Re(550)≦1 (6)

1≦Re(630)/Re(550) (7)

本發明之光學層合體中，相位差薄膜具有逆波長分散性時，以其可降低顯示裝置於黑顯示時的著色而為較佳， 前述式(6)中，又以0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93為更佳。

本發明之光學層合體中，相位差薄膜以聚合性液晶化合物於配向狀態下之由聚合物所形成之層(以下，亦稱為「光學異向性層」)為佳。聚合性液晶化合物，就產生前述逆波長分散性之觀點，又，於波長340nm~400nm具有最大吸收之觀點，以下述式(B-1)之結構為特佳。

只要具有下述式(B-1)所示結構的聚合性液晶化合物時，其亦可吸收短波長的UV光線，且具有充分的UV吸收特性，故可抑制顯示裝置之劣化。

式(B-1)中，Ar為2價之芳香族基，該芳香族基中，含有氮原子、氧原子、硫原子中之至少一個以上，G表示2價之脂環式烴基，其中，該脂環式烴基所含之氫原子，可被鹵素原子、碳數1~4之烷基、碳數1~4之氟烷基、碳數1~4之烷氧基、氰基或硝基所取代，該脂環式烴基所含之-CH₂-(伸甲基)可被-O-、-S-或NH-所取代，B表示單鍵或2價之連結基，A表示碳數3~20之2價的脂環式烴基或碳數6~20之2價的芳香族烴基，該脂環式烴基及該芳香族烴基所含 之氫原子可被，可被鹵素原子所取代之碳數1~4之烷基、可被氟原子所取代之碳數1~4之烷氧基、氰基或硝基所取代，該脂環式烴基所含之-CH₂-，可被-O-、-S-或NR¹-所取代，該脂環式烴基所含之-CH(-)-，可被-N(-)-所取代，R¹表示氫原子或碳數1~4之烷基，k表示0~3之整數，其中，k為2以上之整數時，複數之A及B，可互相為相同或相異皆可，E表示碳數1~17之烷二基，其中，烷二基所含之氫原子，可被鹵素原子所取代，該烷二基所含之-CH₂-，可被-O-或CO-所取代，P表示聚合性基。

式(B-1)中，Ar所表示之2價之芳香族基，就產生逆波長分散性之觀點，以具有雜環之芳香族基為佳，例如，含有氮原子、氧原子、硫原子中之至少一個以上，例如具有呋喃環、苯併呋喃環、吡咯環、噻吩環、吡啶環、噻唑環、苯併噻唑環、啡啉環等之芳香族基。其中，又以具有雜環的芳香族基為苯環、噻唑環、具有苯併噻唑環之芳香族基為較佳，以具有苯併噻唑基之芳香族基為更佳。又，Ar中之芳香族環所含之氮原子以具有π電子者為佳。

該芳香族環所含之π電子之合計數N_π，就產生逆波長分散性之觀點，較佳為10以上，更佳為12以上，更較佳為14以上，較佳為30以下，更佳為25以下。

Ar所表示之芳香族環，可列舉如，以下之基等。

[式(Ar-1)~式(Ar-22)中，＊印表示連結部位，Z⁰、Z¹及Z²，各自獨立表示氫原子、鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷胺磺醯基或碳數2~12之N,N-二烷胺磺醯基。

Q¹、Q²及Q³，各自獨立表示-CR^2'R^3'-、-S-、-NR^2'-、-CO- 或O-。

R^2'及R^3'，各自獨立表示氫原子或碳數1~4之烷基。

Y¹、Y²及Y³，各自獨立表示可被取代之芳香族烴基或芳香族雜環基。

W¹及W²，各自獨立表示氫原子、氰基、甲基或鹵素原子。

m表示0~6之整數]。

鹵素原子，可列舉如，氟原子、氯原子、溴原子，及碘原子等，又以氟原子、氯原子，或溴原子為佳。

碳數1~6之烷基，可列舉如，甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基、戊基，及己基等，又以碳數1~4之烷基為佳，以碳數1~2之烷基為較佳，以甲基為特佳。

碳數1~6之烷基亞磺醯基(sulfinyl)，可列舉如，甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、丙基亞磺醯基、異丙基亞磺醯基、丁基亞磺醯基、異丁基亞磺醯基、sec-丁基亞磺醯基、tert-丁基亞磺醯基、戊基亞磺醯基、己基亞磺醯基等，又以碳數1~4之烷基亞磺醯基為佳，以碳數1~2之烷基亞磺醯基為較佳，以甲基亞磺醯基為特佳。

碳數1~6之烷基磺醯基，可列舉如，甲基磺醯基、乙基磺醯基、丙基磺醯基、異丙基磺醯基、丁基磺醯基、異丁基磺醯基、sec-丁基磺醯基、tert-丁基磺醯基、戊基磺醯基、己基磺醯基等，以碳數1~4之烷基磺 醯基為佳，以碳數1~2之烷基磺醯基為較佳，以甲基磺醯基為特佳。

碳數1~6之氟烷基，可列舉如，氟甲基、三氟甲基、氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基等，又以碳數1~4之氟烷基為佳，以碳數1~2之氟烷基為較佳，以三氟甲基為特佳。

碳數1~6之烷氧基，可列舉如，甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、sec-丁氧基、tert-丁氧基、戊基氧基、己基氧基等，又以碳數1~4之烷氧基為佳，以碳數1~2之烷氧基為較佳，以甲氧基為特佳。

碳數1~6之烷硫基，可列舉如，甲硫基、乙硫基、丙硫基、異丙硫基、丁硫基、異丁硫基、sec-丁硫基、tert-丁硫基、戊硫基、己硫基等，又以碳數1~4之烷硫基為佳，以碳數1~2之烷硫基為較佳，以甲硫基為特佳。

碳數1~6之N-烷胺基，可列舉如，N-甲胺基、N-乙胺基、N-丙胺基、N-異丙胺基、N-丁胺基、N-異丁胺基、N-sec-丁胺基、N-tert-丁胺基、N-戊胺基、N-己胺基等，又以碳數1~4之N-烷胺基為佳，以碳數1~2之N-烷胺基為較佳，以N-甲胺基為特佳。

碳數2~12之N,N-二烷胺基，可列舉如，N,N-二甲胺基、N-甲基-N-乙胺基、N,N-二乙胺基、N,N-二丙胺基、N,N-二異丙胺基、N,N-二丁胺基、N,N-二異丁 胺基、N,N-二戊胺基、N,N-二己胺基等，又以碳數2~8之N,N-二烷胺基為佳，以碳數2~4之N,N-二烷胺基為較佳，以N,N-二甲胺基為特佳。

碳數1~6之N-烷胺磺醯基，可列舉如，N-甲胺磺醯基、N-乙胺磺醯基、N-丙胺磺醯基、N-異丙胺磺醯基、N-丁胺磺醯基、N-異丁胺磺醯基、N-sec-丁胺磺醯基、N-tert-丁胺磺醯基、N-戊胺磺醯基、N-己胺磺醯基等，又以碳數1~4之N-烷胺磺醯基為佳，以碳數1~2之N-烷胺磺醯基為較佳，以N-甲胺磺醯基為特佳。

碳數2~12之N,N-二烷胺磺醯基，可列舉如，N,N-二甲胺磺醯基、N-甲基-N-乙胺磺醯基、N,N-二乙胺磺醯基、N,N-二丙胺磺醯基、N,N-二異丙胺磺醯基、N,N-二丁胺磺醯基、N,N-二異丁胺磺醯基、N,N-二戊胺磺醯基、N,N-二己胺磺醯基等，又以碳數2~8之N,N-二烷胺磺醯基為佳，以碳數2~4之N,N-二烷胺磺醯基為較佳，以N,N-二甲胺磺醯基為特佳。

Z⁰、Z¹及Z²，各自獨立表示氫原子、鹵素原子、甲基、氰基、硝基、羧基、甲基磺醯基、三氟甲基、甲氧基、甲硫基、N-甲胺基、N,N-二甲胺基、N-甲胺磺醯基或N,N-二甲胺磺醯基為佳。

R^2'及R^3'中之碳數1~4之烷基，可列舉如，甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、tert-丁基等，又以碳數1~2之烷基為佳，以甲基為較佳。

Q¹及Q²，各自獨立表示-S-、-CO-、-NH-、-N(CH₃)- 為佳，Q³以-S-、-CO-為佳。

Y¹、Y²及Y³中之芳香族烴基，可列舉如，苯基、萘基、蒽基(anthryl)、菲基、聯苯等之碳數6~20之芳香族烴基等，又以苯基、萘基為佳，以苯基為較佳。芳香族雜環基，可列舉如，至少含有一個呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯併噻唑基等氮原子、氧原子、硫原子等雜原子的碳數4~20之芳香族雜環基，又以呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基為佳。

該芳香族烴基及芳香族雜環基，可具有至少一個的取代基，取代基，可列舉如，鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷胺磺醯基、碳數2~12之N,N-二烷胺磺醯基等，又以鹵素原子、碳數1~2之烷基、氰基、硝基、碳數1~2之烷基磺醯基、碳數1~2之氟烷基、碳數1~2之烷氧基、碳數1~2之烷硫基、碳數1~2之N-烷胺基、碳數2~4之N,N-二烷胺基、碳數1~2之烷胺磺醯基為佳。

鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷胺磺醯基及碳數2~12之 N,N-二烷胺磺醯基，為與前述所列舉者為相同之內容。

式(Ar-14)中，Y¹，可與其鍵結之氮原子及Z⁰共同形成芳香族雜環基。例如，吡咯環、咪唑環、吡啶環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯啶環、哌啶環等。該些芳香族雜環基，亦可具有取代基。又，Y¹，亦可與其鍵結之氮原子及Z⁰共同形成後述之可被取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。

Y¹、Y²及Y³，可表示各自獨立表示可被取代之多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族烴基係指，由縮合多環系芳香族烴基，或芳香環集合所產生之基之意。多環系芳香族雜環基係指，由縮合多環系芳香族雜環基，或芳香環集合所產生之基之意。Y¹、Y²及Y³，各自獨立為以式(Y¹-1)~式(Y¹-7)所表示之任意之基為佳，以式(Y¹-1)或式(Y¹-4)所表示之任意之基為較佳。

[式(Y¹-1)~式(Y¹-7)中，＊印表示連結部位，Z³，各自獨立表示鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、氮氧自由基(nitroxide)、碸基、亞碸基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之硫烷基、碳數2~8之N,N-二烷胺基或碳數1~4之N-烷胺基。

V¹及V²，各自獨立表示-CO-、-S-、-NR⁴-、-O-、-Se-或-SO₂-。

W¹~W⁵，各自獨立表示-C=或-N=。

但，V¹、V²及W¹~W⁵中之至少1個表示含有S、N、O或Se之基。

R⁴表示氫原子或碳數1~4之烷基。

a，各自獨立表示0~3之整數。

b，各自獨立表示0~2之整數]。

式(Y¹-1)~式(Y¹-7)所表示之任意之基，以式(Y²-1)~式(Y²-16)所表示之任意之基為佳，以式(Y³-1)~式(Y³-6)所表示之任意之基為較佳，以式(Y³-1)或式(Y³-3)所表示之基為特佳。

下述式(Y²-1)~式(Y²-16)中，Z³、a、b、V¹、V²及W¹~W⁵，表示與上述為相同之意義。

上述式(Y³-1)~式(Y³-6)中，Z³、a、b、V¹、V²及W¹，表示與上述為相同之意義。

Z³，可列舉如，鹵素原子、碳數1~6之烷基、氰基、硝基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、羧基、碳數1~6之氟烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷胺磺醯基、碳數2~12之N,N-二烷胺磺醯基等，又以鹵素原子、甲基、乙基、異丙基、sec-丁基、氰基、硝基、碸基、氮氧自由基(nitroxide)、羧基、三氟甲基、甲氧基、硫甲基、N,N-二甲胺基或N-甲胺基為佳，以鹵素原子、甲基、乙基、異丙基、sec-丁基、氰基、硝基、三氟甲基為較佳，以甲基、乙基、異丙基、sec-丁基、戊基、己基為特佳。

鹵素原子、碳數1~6之烷基、碳數1~6之烷基亞磺醯基、碳數1~6之烷基磺醯基、碳數1~6之氟 烷基、碳數1~6之烷氧基、碳數1~6之烷硫基、碳數1~6之N-烷胺基、碳數2~12之N,N-二烷胺基、碳數1~6之N-烷胺磺醯基及碳數2~12之N,N-二烷胺磺醯基，為與前述所列舉者為相同之內容。

V¹及V²，各自獨立表示-S-、-NR⁴-或-O-為佳。

W¹~W⁵，各自獨立表示-C=或-N=為佳。

V¹、V²及W¹~W⁵中之至少1個表示含有S、N或O之基為佳。

a以0或1為佳。b以0為佳。

式(B-1)中之G，為2價之脂環式烴基，其碳數例如3~30，較佳為3~20，更佳為4~15，更較佳為5~10。2價之脂環式烴基可列舉如，環烷二基等。該脂環式烴基所含之氫原子，可被鹵素原子、碳數1~4之烷基、碳數1~4之氟烷基、碳數1~4烷氧基、氰基或硝基所取代，該脂環式烴基所含之-CH₂-(伸甲基)，可被-O-、-S-，或NH-所取代。

碳數1~4之烷基，可列舉如，甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、sec-丁基、tert-丁基等，又以碳數1~3之烷基為佳，以碳數1~2之烷基為較佳，以甲基為特佳。

碳數1~4之氟烷基，可列舉如，氟甲基、三氟甲基、氟乙基、五氟乙基、七氟丙基、九氟丁基等，又以碳數1~3之氟烷基為佳，以碳數1~2之氟烷基為較 佳，以三氟甲基為特佳。

碳數1~4之烷氧基，可列舉如，甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、sec-丁氧基、tert-丁氧基等，又以碳數1~3之烷氧基為佳，以碳數1~2之烷氧基為較佳，以甲氧基為特佳。

2價之脂環式烴基可列舉如，式(g-1)~式(g-4)所表示之基等。脂環式烴基所含之-CH₂-被-O-、-S-或N(R^5')-所取代之2價之脂環式烴基，可列舉如，式(g-5)~式(g-8)所表示之基等。R^5'表示氫原子或碳數1~4之烷基。脂環式烴基所含之-CH(-)-被-N(-)-所取代之2價之脂環式烴基，可列舉如，式(g-9)~式(g-10)所表示之基等。又以5員環或6員環之脂環式烴基為佳。

2價之脂環式烴基，可列舉如，以式(g-1)所表示之基為佳，以1,4-環己烷二基為更佳，以trans-1,4-環己烷二基為特佳。

式(B-1)中之B為單鍵或2價之連結基。2價之連結基，例如，-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-C(=S)-O-、 -O-C(=S)-、-CR^6'R^7'-、-CR^6'R^7'-CR^8'R^9'-、-O-CR^6'R^7'-、-CR^6'R^7'-O-、-CR^6'R^7'-O-CR^8'R^9'-、-CR^6'R^7'-O-CO-、-O-CO-CR^6'R^7'-、-CR^6'R^7'-O-CO-CR^8'R^9'-、-CR^6'R^7'-CO-O-CR^8'R^9'-、-NR^10'-CR^6'R^7'-、-CR^6'R^7'-NR^10'-、-CO-NR^10'-、-NR^10'-CO-、-O-、-S-、-NR^10'-、-CR^6'=CR^7'-等。R^6'、R^7'、R^8'及R^9'，各自獨立表示氫原子、氟原子或碳數1~4之烷基。R^10'表示氫原子或碳數1~4之烷基。

B以-O-、-S-、-O-CO-、-O-C(=S)-、-O-CR^6'R^7'-、-NR^10'-CR^6'R^7'-或NR^10'-CO-為佳。D¹及D²以-O-、-S-、-O-CO-、-O-C(=S)-或NR¹⁰-CO-為較佳。R^6'、R^7'、R^8'及R^9'，各自獨立表示氫原子或碳數1~4之烷基為佳，以氫原子、甲基或乙基為較佳。R^10'以氫原子、甲基或乙基為佳。

式(B-1)中之A，為表示碳數3~20之2價的脂環式烴基或碳數6~20之2價的芳香族烴基，較佳為表示碳數4~15之2價的脂環式烴基或碳數6~15之2價的芳香族烴基，更佳為表示碳數5~12之2價的脂環式烴基或碳數6~12之2價的芳香族烴基，更較佳為表示碳數6~10之2價的脂環式烴基或碳數6~10之2價的芳香族烴基。又以5員環或6員環之脂環式烴基為佳。

該脂環式烴基及該芳香族烴基所含之氫原子，可被氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等鹵素原子；甲基、乙基、異丙基、tert-丁基等碳數1~4之烷基；三氟甲基等碳數1~4之氟烷基；氰基；硝基；所取代。該 脂環式烴基所含之-CH₂-，可被-O-、-S-或NR^11'-所取代，該脂環式烴基所含之-CH(-)-，可被-N(-)-所取代，其中，R^11'表示氫原子或碳數1~4之烷基。

2價之脂環式烴基，例如上述式(g-1)~式(g-10)所表示之基。

2價之脂環式烴基，可列舉如，以式(g-1)所表示之基為佳，以1,4-環己烷二基為更佳，以trans-1,4-環己烷二基為特佳。

2價之芳香族烴基，例如，式(a-1)~式(a-8)所表示之基等。

2價之芳香族烴基，以1,4-伸苯基為佳。

式(B-1)中之k，為表示0~3之整數，較佳為1或2，更佳為1。又，k為2以上之整數時，複數的A及B，可互相為相同或相異皆可。式(B-1)所表示之聚合性液 晶化合物就工業上容易取得之觀點，以複數之A及B互相為相同者為佳。

式(B-1)中之E，表示碳數1~17，較佳為2~15，更佳為3~12，更較佳為4~10之烷二基。該烷二基所含之氫原子，可被鹵素原子所取代，該烷二基所含之-CH₂-，可被-O-或CO-所取代。

式(B-1)所表示之聚合性液晶化合物，例如以下之化合物等。該聚合性液晶化合物，可單獨使用亦可、將2種以上組合使用亦可。

於聚合性液晶化合物於配向狀態下由聚合物製造相位差薄膜時，可將聚合性液晶化合物，依情況之不同亦可使用經溶劑稀釋後的組成物(以下，亦稱為「光學異向性層形成用組成物」)塗佈於基材，或基材上所形成 之配向膜上，依情況之不同，可將溶劑乾燥後進行聚合而可製得聚合性液晶化合物於配向狀態下的聚合物。於使聚合性液晶化合物維持配向狀態下進行聚合結果，可製得維持配向狀態的液晶硬化膜，而由該液晶硬化膜構成相位差薄膜。

相位差薄膜中之聚合性液晶化合物的含量，就提高聚合性液晶化合物之配向性的觀點，相對於光學異向性層形成用組成物的固形成份100質量份，通常為70~99.5質量份，較佳為80~99質量份，更佳為80~94質量份，更較佳為80~90質量份。本說明書中之固形成份係指，由光學異向性層形成用組成物去除溶劑所得成份之合計量之意。

光學異向性層形成用組成物中，除聚合性液晶化合物以外，可含有溶劑、光聚合起始劑、聚合阻礙劑、光增感劑、均染劑等公知成份。

[溶劑]

溶劑，以可溶解聚合性液晶化合物等光學異向性層形成用組成物的構成成份之有機溶劑為佳，又以可溶解聚合性液晶化合物等之光學異向性層形成用組成物的構成成份之溶劑，且相對於聚合性液晶化合物之聚合反應為惰性之溶劑為較佳。具體而言，可列舉如，水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、甲基溶纖劑(cellosolve)、丁基溶纖劑、丙二醇單甲醚、酚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁 酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙酮、環戊酮、環己酮、甲基戊酮、甲基異丁酮等之酮溶劑；戊烷、己烷、庚烷等非氯化脂肪族烴溶劑；甲苯、二甲苯等非氯化芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶劑；及氯仿、氯苯等氯化烴溶劑；等。其可將二種以上的有機溶劑組合使用。其中，又以醇溶劑、酯溶劑、酮溶劑、非氯化脂肪族烴溶劑及非氯化芳香族烴溶劑為佳。

溶劑之含量，相對於光學異向性層形成用組成物之固形成份100質量份，以10~10000質量份為佳，更佳為100~5000質量份。光學異向性層形成用組成物中之固形成份濃度，較佳為2~50質量%，更佳為5~50質量%。”固形成份”係指，由光學異向性層形成用組成物去除溶劑所得成份之合計之意。

[光聚合起始劑]

光聚合起始劑，以經由光照射而可產生自由基者為佳。光聚合起始劑，可列舉如，安息香化合物、二苯甲酮化合物、苄基縮酮化合物、α-羥酮化合物、α-胺酮化合物、α-苯乙酮化合物、三

化合物、錪鹽及鋶鹽等。具體而言，可列舉如，Irgacure(登記商標)907、Irgacure 184、Irgacure 651、Irgacure 819、Irgacure 250、Irgacure 369(以上，全部為BASF日本股份有限公司製)、Seikuol(登記商標)BZ、Seikuol Z、Seikuol BEE(以上，全部為精 工化學股份有限公司製)、kayacure(登記商標)BP100(日本化藥股份有限公司製)、kayacure UVI-6992(陶氏公司製)、Adekaoptoma(登記商標)SP-152、Adekaoptoma SP-170(以上，全部為ADEKA股份有限公司製)、TAZ-A、TAZ-PP(以上，日本SiberHegner公司製)及TAZ-104(三和化學公司製)等。其中，又以α-苯乙酮化合物為佳，α-苯乙酮化合物，可列舉如，2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基磺胺苯基)丙烷-1-酮、2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-苄基丁烷-1-酮及2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-(4-甲基苯基甲基)丁烷-1-酮等，更佳為2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基磺胺苯基)丙烷-1-酮及2-二甲胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-2-苄基丁烷-1-酮等。α-苯乙酮化合物之市售品，可列舉如，Irgacure 369、379EG、907(以上，BASF日本(股)製)及Seikuol BEE(精工化學公司製)等。

光聚合起始劑，就使光源產生之能量得以充分活用，具有優良生產性等觀點，最大吸收波長以300nm~380nm為佳，以300nm~360nm為較佳。

聚合起始劑之含量，就不會造成聚合性液晶化合物之配向紊亂，可聚合聚合性液晶化合物之觀點，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份。

[聚合阻礙劑]

聚合阻礙劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應。

聚合阻礙劑，可列舉如，氫醌、甲氧基苯酚、3,5-二-tert-丁基-4-羥基甲苯(BHT)，及烷醚等之具有取代基的氫醌類；丁基兒茶酚等烷醚等之具有取代基的兒茶酚類；五倍子酚類、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧自由基等之自由基補捉劑；硫酚類；β-萘胺類及β-萘酚類等。

聚合阻礙劑之含量，就不會造成聚合性液晶化合物之配向紊亂，可聚合聚合性液晶化合物之觀點，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份。

[光增感劑]

光增感劑，可列舉如，氧葱酮、硫氧葱酮等之氧葱酮類；蒽及烷醚等之具有取代基的蒽類；啡噻

(phenothiazine)；紅熒烯(rubrene)等。

使用光增感劑時，可使光聚合起始劑高感度化。光增感劑之含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份。

[均染劑]

均染劑，可列舉如，有機改性聚矽氧油系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系之均染劑等。具體而言，可列舉如，DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700，FZ2123(以上，全部為東麗‧陶氏(股)製)、KP321、 KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上，全部為信越化學工業(股)製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以上，全部為Momentive Performance Materials日本合同公司製)、Fluorinert(登記商標)FC-72、同FC-40、同FC-43、同FC-3283(以上，全部為住友3M(股)製)、Megaface(登記商標)R-08、同R-30、同R-90、同F-410、同F-411、同F-443、同F-445、同F-470、同F-477、同F-479、同F-482、同F-483(以上，任一者皆為DIC(股)製)、F-Top(商品名)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(以上，全部為三菱金屬電子化成(股)製)、Surflon(登記商標)S-381、同S-382、同S-383、同S-393、同SC-101、同SC-105、KH-40、SA-100(以上，全部為AGC精密化學(股)製)、商品名E1830、同E5844((股)大金精密化學研究所製)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353及BYK-361N(以上皆為商品名：BM Chemie公司製)等。亦可將2種以上的均染劑組合使用。

使用均染劑時，可形成更平滑的光學異向性層。又，製造具有光學異向性層的光學薄膜之過程中，可以控制光學異向性層形成用組成物之流動性、或調整相位差薄膜之交聯密度等。均染劑之含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.1~10質量份。

又，貼有保護薄膜之該些光學薄膜，亦可作為光學薄膜使用。保護薄膜，可使用透明的樹脂薄膜，該透明樹脂，例如，以三乙醯基纖維素或二乙醯基纖維素為代表之乙醯基纖維素系樹脂、以聚甲基丙烯酸甲酯為代表之甲基丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚烯烴系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚碸樹脂等。構成保護薄膜之樹脂，以添加有水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、苯併三唑系化合物、三

系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等一般的紫外線吸收劑而得之薄膜為佳，其可與本件的光學層合體之發明效果具有相乘效果而可適當地抑制顯示裝置之劣化。保護薄膜，較佳為使用三乙醯基纖維素薄膜等之乙醯基纖維素系樹脂薄膜。

未接著偏光板或相位差薄膜的保護薄膜之面，可具有表面處理層，例如，可具有硬塗覆層、防眩層、抗反射層、抗靜電層等。

上述光學薄膜中，直線偏光板，又以構成其之偏光子，例如，於聚乙烯醇系樹脂所形成之偏光子的單側面或兩面，貼著保護薄膜之狀態下使用者居多。通常，多於其一側之面上形成黏著劑層。又，直線偏光板與相位差薄膜層合而得之楕圓偏光板，多於偏光子的單側面或兩面貼著保護薄膜之狀態居多。該些楕圓偏光板形成黏著劑層時，通常為於其相位差薄膜側形成黏著劑層。又，就保護光學薄膜表面無損傷或被污染等目的，於與前述偏光板之黏著劑層為相反側之面上，亦可貼著於貼附顯示元件等 後可以剝離去除的保護薄膜。

又，本發明之光學層合體中，於該黏著劑層表面，以貼著剝離薄膜方式進行保護維持至使用時為佳。其中所使用的剝離薄膜，例如，可將聚對苯二甲酸乙酯、聚對苯二甲酸丁酯、聚碳酸酯、聚芳酯等各種樹脂所形成之薄膜作為基材，於與基材之黏著劑層的接合面，施以聚矽氧處理等離型處理者亦可。

本發明之光學層合體，例如，可將先前說明之黏著劑組成物塗佈於上述剝離薄膜上，而形成黏著劑層，再於所得黏著劑層上層合光學薄膜之方法、於光學薄膜上塗佈黏著劑組成物而形成黏著劑層，於該黏著劑面貼合剝離薄膜予以保護而作為光學層合體之方法等而可製得。

本發明之光學層合體之厚度，就薄層化之觀點，較佳為50~500μm，更佳為50~300μm，更較佳為50~100μm。本發明之較佳的一實施態樣中，經使光選擇吸收性化合物包含於黏著劑層之方式，即可提供一無須設置保護薄膜的薄層之光學層合體。

於其他實施態樣中，本發明為提供一種含有本發明之前述光學層合體的顯示裝置。本發明之顯示裝置，於含有本發明之光學層合體時，於400nm附近的波長區域中顯示出高光選擇吸收性，而具有高耐光性。如此，即可抑制構成顯示裝置的光學薄膜等構成構件之劣化。又，因於420nm附近的波長區域不易形成吸收，故 不會阻礙超過420nm的波長區域之藍光，而具有優良的色彩表現，故於顯示裝置上可得到良好的顯示特性。

[實施例]

以下，將使用實施例及比較例對本發明做更詳細之說明。實施例及比較例中之「%」及「部」，無特別記載下，係指「質量%」及「質量份」。

又，於以下之例示中，重量平均分子量及數平均分子量之測定，為使用凝膠滲透色層分析法(以下，記載為GPC)。裝置(GPC-8120、東曹(股)製)中之管柱，為使用4根「TSK gel XL(東曹(股)製)」，及1根「Shodex GPC KF-802(昭和電工(股)製)」，合計5根之直列連接配置，溶取液為使用四氫呋喃，試料濃度5mg/mL、試料導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘之條件下進行，並經由標準聚苯乙烯換算所算出者。

<丙烯酸樹脂之製造>

將表1所示組成內容，依以下方法製得丙烯酸樹脂(A)及丙烯酸樹脂(B)。

[聚合例1]：丙烯酸樹脂(A)之製造

於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應容器中，添加溶劑之乙酸乙酯81.8份、單體(A-1)之丙烯 酸丁酯70.4份、丙烯酸甲酯20.0份，及丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、單體(A-2)之丙烯酸2-羥乙酯1.0份、單體(A-3)之丙烯酸0.6份的混合溶液，使用氮氣取代裝置內的空氣，於使其逐漸缺氧過程中，將內溫升溫至55℃。隨後，添加溶解有偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份的乙酸乙酯10份而得之溶液全量。添加起始劑後，於此溫度下保持1小時，其次將內溫保持54~56℃中，以添加速度17.3份/hr之方式連續性的將乙酸乙酯加入反應容器內，於丙烯酸樹脂的濃度達35%之時點，停止添加乙酸乙酯，再保持於此溫度下，開始添加乙酸乙酯至經過12小時為止。最後添加乙酸乙酯將丙烯酸樹脂的濃度調整至20%，而製得丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所製得之丙烯酸樹脂，經GPC測得之聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw為142萬、Mw/Mn為5.2。將其作為丙烯酸樹脂(A)。

[聚合例2]：丙烯酸樹脂(B)之製造

於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機的反應容器中，添加溶劑之乙酸乙酯81.8份、單體(A-1)之丙烯酸丁酯96.0份及單體(A-3)之丙烯酸4.0份的混合溶液，使用氮氣取代裝置內的空氣，於使其逐漸缺氧過程中，將內溫升溫至55℃。隨後，添加溶解有偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份的乙酸乙酯10份而得之溶液全量。添加起始劑後，於此溫度下保持1小時，隨後於內溫保持54~56℃中，以添加速度17.3份/hr之方式連續性的將乙酸乙 酯加入反應容器內，於丙烯酸樹脂的濃度達35%之時點，停止添加乙酸乙酯，再保持於此溫度下，開始添加乙酸乙酯至經過12小時為止。最後添加乙酸乙酯將丙烯酸樹脂的濃度調整至20%，而製得丙烯酸樹脂之乙酸乙酯溶液。所製得之丙烯酸樹脂，經GPC測得之聚苯乙烯換算的重量平均分子量Mw為75萬6000、Mw/Mn為4.1。將其作為丙烯酸樹脂(B)。

表1中，單體組成欄中之符號，分別表示以下的單體之意。

[單體(A-1)]

BA：丙烯酸丁酯

MA：丙烯酸甲酯

PEA：丙烯酸2-苯氧基乙酯

[單體(A-2)]

HEA：丙烯酸2-羥乙酯

[單體(A-3)]

AA：丙烯酸

使用前述製造的丙烯酸樹脂製得黏著劑組成物，並使用其製造實施例及比較例之光學薄膜。交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物，分別為使用以下之化合物。

[交聯劑(B)]

Coronate L：伸甲苯基二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物體之乙酸乙酯溶液(固形成份濃度75%)、日本聚胺甲酸酯股份有限公司製。

Takenate D-110N：二甲苯二異氰酸酯的三羥甲基丙烷加成物之乙酸乙酯溶液(固形成份濃度75%)、三井化學股份有限公司製(以下，簡稱為「D110N」)。

[矽烷化合物]

KBM-403：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、液體、信越化學工業股份有限公司製(以下，簡稱為「KBM-403」)。

[光選擇吸收性化合物]

KEMISORB 111：2,2'-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、固體、CHEMIPRO化成股份有限公司製(以下，簡稱為「KEMISORB 111」)。

KEMISORB 73：2-(3,5-二-tert-戊基-2-羥基苯基)苯併三唑、固體、CHEMIPRO化成股份有限公司製(以下，簡 稱為「KEMISORB 73」)。

SUMISORB 300：2-(3-tert-丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氯苯併三唑、固體、住化CHEMTEX股份有限公司製(以下，簡稱為「SUMISORB 300」)。

KEMISORB 10：2,4-二羥基二苯甲酮、固體、CHEMIPRO化成股份有限公司製(以下，簡稱為「KEMISORB 10」)。

KEMISORB 11：2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、固體、CHEMIPRO化成股份有限公司製(以下，簡稱為「KEMISORB 11」)。

KEMISORB 12：2-羥基-4-n-辛基氧二苯甲酮、固體、CHEMIPRO化成股份有限公司製(以下，簡稱為「KEMISORB 12」)。

Tinuvin 460：2,4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3-5-三

、固體、BASF日本股份有限公司製(以下，簡稱為「Tinuvin 460」)。

Tinuvin 477：固體、BASF日本股份有限公司製(以下，簡稱為「Tinuvin 477」)。

Tinuvin 479：固體、BASF日本股份有限公司製(以下，簡稱為「Tinuvin 479」)。

<光選擇吸收性化合物之合成>

[合成例1]

使設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧醛2.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)0.72g、氰基乙酸丁酯(東京化成工業股份有限公司製)1.3g、1-丁醇(和光純藥工業股份有限公司製)8g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫80℃下保溫18小時。反應結束後，冷卻至室溫，濾出析出之結晶，該結晶於60℃減壓乾燥結果，得黃色粉末之UVA-01 2.7g。產率為87%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=386nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為59L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.15。

於進行¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-01。

¹H-NMR(CDCl3)δ：0.94(t、3H)、1.42(sext、2H)、1.69(quin、2H)、3.71(s、3H)、4.23(t、2H)、7.40-7.43(m、5H)、7.56-7.58(m、3H)、8.14(s、1H)、8.45-8.47(m、1H)

[合成例2]

於使設置有戴氏冷卻管、溫度計之200mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加參考專利文獻(特開2014-194508)而合成的UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.7g、氰基乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業股份有限公司製)5.8g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，使用磁性攪拌子進行攪拌。使其於內溫25℃下，使用滴入漏斗以1小時時間滴入N,N-二異丙基乙胺(以下，簡稱為DIPEA。東京化成工業股份有限公司製)4.7g，滴入結束後，於內溫25℃下再保溫2小時。反應結束後，使用減壓蒸發器去除乙腈，將甲苯加入於所得之油狀物後所生成的不溶成份，以過濾方式取出去除。使用減壓蒸發器將濾液再度濃縮，濃縮後之溶液經管柱色層分析(二氧化矽凝膠)而純化，於甲苯中進行再結晶而製得目的物。該結晶於60℃減壓乾燥結果，得黃色粉末之UVA-02 5.2g。產率為65%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=389nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為125L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.015。

於進行¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-02。

¹H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t、3H)、2.10(quin.2H)、2.98-3.04(m、5H)、3.54-3.72(m、6H)、4.31(t、2H)、5.53(d、2H)、7.93(d、2H)

[合成例3]

使設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧醛3.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.2g、氰基乙酸2-乙氧基乙酯(東京化成工業股份有限公司製)2.2g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)12g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫80℃下保溫18小時。反應結束後，冷卻至室溫，使用減壓蒸發器去除乙腈。使所得之粗結晶解於甲苯中，該甲苯溶液於分液漏斗中使用1%鹽酸進行共計2次之分液洗淨，隨後持續進行分液洗淨至使純水的水層pH>6為止。洗淨後之甲苯溶液使用硫酸鈉乾燥後，使用減壓蒸發器去除甲苯，所得結晶經60℃減壓乾燥結果，得UVA-03之黃色粉末4.0g。產率為84%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=386nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為51L/(g‧cm)、ε(420)/ ε(400)之值為0.17。

於進行¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-03。

¹H-NMR(CDCl3)δ：1.21(t、3H)、3.56(q、2H)、3.69-3.73(m、5H)、4.37(m、2H)、7.36-7.44(m、5H)、7.56-7.58(m、3H)、8.42-8.46(m、1H)

[合成例4]

於使設置有戴氏冷卻管、溫度計之200mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加參考專利文獻(特開2014-194508)而合成的UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰基乙酸2-乙基己酯(東京化成工業股份有限公司製)6.9g，及乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)60g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於內溫25℃下，使用滴入漏斗以1小時時間滴入DIPEA(東京化成工業股份有限公司製)4.5g，滴入結束後，於內溫25℃下再保溫2小時。反應結束後，使用減壓蒸發器去除乙腈，使用管柱色層分析(二氧化矽凝膠)予以純化，將含有UVA-04之滲出液，使用減壓蒸發器去除溶劑，得黃色結晶。該結晶於60℃減壓乾燥結果，得黃色粉末之UVA-04 4.6g。產率為50%。使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定吸收最大波長(λ max)結果，得知λ max=389nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為108L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.013。

於進行¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-04。

¹H-NMR(CDCl3)δ：0.87-0.94(m、6H)、1.32-1.67(m、8H)、1.59-1.66(m、2H)、2.09(quin、2H)、3.00(m、5H)、3.64(t、2H)、4.10(dd、2H)、5.52(d、2H)、7.87(d、2H)

[合成例5]

於使設置有戴氏冷卻管、溫度計之200mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧醛10.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)3.6g、氰基乙酸(東京化成工業股份有限公司製)4.0g、乙醇(和光純藥工業股份有限公司製)40g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫80℃下保溫24小時。反應結束後，冷卻至室溫，濾出析出之結晶，該結晶於60℃減壓乾燥結果，得黃色粉末之UVA-M-03 10g。產率為78%。

於進行¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-M-03。

¹H-NMR(DMSO-d6)δ：3.71(s、3H)、7.34-7.42(m、2H)、7.51-7.95(m、6H)、8.26-8.29(m、1H)

[合成例6]

使設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加合成例5所得之UVA-M-03粉末2.0g、三乙二醇單甲醚(東京化成工業股份有限公司製)1.2g，N,N-二甲基-4-胺基吡啶(DMAP、東京化成工業股份有限公司製)20mg、氯仿8g，使用磁性攪拌子進行攪拌後，於冰浴內使內溫冷卻至0℃為止。使1-乙基-3-(3-二甲胺基丙基)碳二醯亞胺鹽酸鹽(EDC、東京化成工業股份有限公司製)1.4g，溶解於2.0g氯仿中，於內溫保持0℃下，使用滴入漏斗以2小時時間將該溶液滴入燒瓶內，滴入結束後於0℃下再保溫6小時。反應結束後使用減壓蒸發器去除氯仿，將所得油狀物溶解於乙酸乙酯中，於分液漏斗中，使用10%稀硫酸進行分液洗淨，隨後使用純水將乙酸乙酯溶液分液洗淨至水層pH>6為止。洗淨後之有機層使用硫酸鈉乾燥，去除硫酸鈉後，使用減壓蒸發器去 除乙酸乙酯，得目的化合物UVA-05之黃色油狀物2.5g。產率為83%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=387nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為51L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.16。

於經過¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-05。

¹H-NMR(CDCl3)δ：1.26(t、1H)、2.04(s、1H)、3.37(s、3H)、3.64-3.71(m、12H)、4.37(dd、2H)、7.35-7.46(m、5H)、7.54-7.59(m、3H)、8.42-8.46(m、1H)

[合成例7]

使設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧醛3.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.2g、氰基乙酸2-乙基己酯(東京化成工業股份有限公司製)2.8g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)12g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫80℃下保溫18小時。反應結束後，冷卻至室溫，使用減壓蒸發器去除乙腈。使所 得油狀物溶解於乙酸乙酯中，將該乙酸乙酯溶液於分液漏斗中使用1%鹽酸進行共計2次之分液洗淨，隨後持續進行分液洗淨至使純水的水層pH>6為止。洗淨後之乙酸乙酯溶液使用硫酸鈉乾燥後，使用減壓蒸發器去除乙酸乙酯，得橙色油狀物之UVA-06 5.5g。產率為104%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=386nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為43L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.14。

於經過¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-06。

¹H-NMR(CDCl3)δ：0.90(t、6H)、1.03-1.62(m、10H)、2.35(s、1H)、3.72(s、3H)、4.13(q、2H)、7.16-7.26(m、1H)、7.36-7.44(m、4H)、7.56-7.58(m、2H)、8.44-8.49(m、1H)

[合成例8]

於使設置有戴氏冷卻管、溫度計之200mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加參考專利文獻(特開2014-194508)而合成的UVA-M-02粉末10g、乙酸酐(和光純藥 工業股份有限公司製)6.3g、米氏酸(Meldrum's acid)(東京化成工業股份有限公司製)4.4g、三乙胺(和光純藥工業股份有限公司製)6.3g、乙腈(和光純藥工業股份有限公司製)130g，使用磁性攪拌子進行攪拌。使用油浴將內溫加溫至78℃，保溫30分鐘。反應結束後，將內溫冷卻至室溫為止，使用減壓蒸發器去除乙腈，將所得油狀物使用管柱色層分析(二氧化矽凝膠)進行純化。對於含有目的化合物的管柱溶取液，再度使用減壓蒸發器去除溶劑，而製得黃色結晶。將該結晶於60℃減壓乾燥結果，得黃色粉末之UVA-07 1.5g。產率為20%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=389nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為129L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.039。

於經過¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-07。

¹H-NMR(CDCl3)δ：1.70(s、6H)、2.16(quin、2H)、3.15-3.22(m、5H)、3.77(t、2H)、6.95(d、2H)、8.10(d、2H)

[合成例9]

依專利文獻(DE101 09 243 A1)記載之方法合成UVA-M-02。純化方法為使用管柱色層分析(二氧化矽凝膠)進行。使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=389nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為151L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.019。

於經過¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-08。

¹H-NMR(CDCl3)δ：1.31(t、3H)、2.09(quin.2H)、3.01(m、5H)、3.64(t、2H)、4.23(q、2H)、5.52(d、1H)、7.92(d、1H)

[合成例10]

使設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧醛5.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.8g、丙二腈(東京化成工業股份有限公司製)1.5g、乙醇(和光純藥工業股份有限公司製)20g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫80℃下保溫18小時。反應結束後，冷卻至室溫，濾出析出之結晶，該結晶於60℃減壓乾燥結 果，得黃色粉末之UVA-09 4.9g。產率為82%。又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=392nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為115L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.21。

於經過¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-09。

¹H-NMR(CDCl3)δ：3.71(s、3H)、7.34-7.38(m、2H)、7.44-7.47(m、4H)、7.60-7.63(m、3H)、8.37-8.40(m、1H)

[合成例11]

使設置有戴氏冷卻管、溫度計的100mL-四口燒瓶內形成氮氛圍中，添加2-苯基-1-甲基吲哚-3-羧醛3.0g、哌啶(和光純藥工業股份有限公司製)1.1g、氰基乙酸乙酯(東京化成工業股份有限公司製)1.6g、乙醇(和光純藥工業股份有限公司製)12g，使用磁性攪拌子進行攪拌。於油浴中加溫，於內溫80℃下保溫18小時。反應結束後，冷卻至室溫，濾出析出之結晶，該結晶於60℃減壓乾燥結果，得黃色粉末之UVA-10 3.6g。產率為85%。 又，使用分光光度計UV-3150(島津製作所股份有限公司製)測定最大吸收波長(λ max)結果，得知λ max=386nm(2-丁酮中)、ε(400)之值為66L/(g‧cm)、ε(420)/ε(400)之值為0.15。

於經過¹H-NMR解析結果，經觀察到以下的波峰結果，確認已生成化合物UVA-10。

¹H-NMR(CDCl3)δ：1.34(t、3H)、3.72(s、3H)、4.29(q、2H)、7.38-7.43(m、5H)、7.56-7.58(m、3H)、8.15(s、1H)、8.41-8.47(m、1H)

<黏著劑組成物及黏著劑薄片之製造>

(a)黏著劑組成物之製造(製造例1~39)

將下述表2記載之丙烯酸樹脂、光選擇吸收性化合物(紫外線吸收劑)、交聯劑及矽烷化合物混合，而製得黏著劑組成物。又，表2中之各成份之添加量為相對於前述聚合例1~11所製得之丙烯酸樹脂中之固形成份100質量份的質量份。又，交聯劑及光選擇吸收性化合物。分別為以2-丁酮溶液形式添加於丙烯酸樹脂中。

(a-1)製造例1~24的黏著劑組成物之製造

依表2所示之配方，以相對於丙烯酸樹脂(A)之固形成份100質量份之方式，將交聯劑、矽烷化合物及光選擇吸收性化合物，分別添加表2所示之量。再添加2-丁酮使固形成份濃度達14%，使用攪拌機(Yamato科學股份有限 公司製Three-One-Motor)，以300rpm進行30分鐘攪拌混合，而製得各黏著劑組成物。

(a-2)製造例25~39的黏著劑組成物之製造

除將丙烯酸樹脂(A)，變更為丙烯酸樹脂(B)以外，其他皆依與前述製造例1~24為相同之方法，依表2所示配方製得各黏著劑組成物。

(b)黏著劑薄片之製造

將前述(a)所製得之各個黏著劑組成物，使用塗佈機(applicator)以乾燥後的黏著劑層之厚度為20μm之方式， 塗佈於經離型處理後的聚對苯二甲酸乙酯薄膜(琳德公司製SP-PLR382050、以下，簡稱為「離型膜(separator)」)之離型處理面上，以100℃乾燥1分鐘後，製得黏著劑薄片。

<光學層合體之製造(實施例1~31、比較例1~6與參考例1及2)>

製作光學層合體所使用的聚合物薄膜、裝置及測定方法，係如以下所示。

‧環烯烴聚合物(COP)薄膜，為使用日本ZEON股份有限公司製之ZF-14。

‧電暈處理裝置，為使用春日電機股份有限公司製之AGF-B10。

‧電暈處理，為使用上述電暈處理裝置，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行1次。

‧偏光UV照射裝置，為使用牛尾電機股份有限公司製之附有偏光子單元的SPOT CURE SP-7。

‧雷射顯微鏡，為使用奧林帕斯股份有限公司製之LEXT。

‧高壓水銀燈，為使用牛尾電機股份有限公司製之UNICURE VB-15201BY-A。

‧面內相位差值，為使用雙折射測定裝置(王子計測機器股份有限公司製之KOBRA-WR)予以測定。

‧膜厚，為使用日本分光股份有限公司製之橢圓偏光 計M-220予以測定。

光學異向性層或層合體等之製造中，為使用以下所示之「光配向膜形成用組成物」、「摩擦配向性聚合物組成物」、「含聚合性液晶化合物之組成物」，及「偏光板」。

<光配向膜形成用組成物之製造>

將具有下述結構的光配向性材料5份與環戊酮(溶劑)95份作為成份予以混合，所得混合物於80℃下攪拌1小時結果，製得光配向膜形成用組成物。下述光配向性材料為依特開2013-33248號公報記載之方法所合成者。

<含聚合性液晶化合物之組成物A之製造>

將具有下述結構之聚合性液晶化合物A，與聚丙烯酸酯化合物(均染劑)(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)，與下述聚合起始劑與溶劑作為成份予以混合，製得含聚合性液晶化合物之組成物。

聚合性液晶化合物A(12.0份)：

聚合性液晶化合物A，為依特開2010-31223 號公報所記載之方法合成者。聚合性液晶化合物A之最大吸收波長λ max(LC)為350nm。

聚合起始劑(0.72份)：2-二甲胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；汽巴特用化學公司製)

均染劑(0.12份)：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)

溶劑：環戊酮(100份)

[實施例1]

<偏光板之製造>

將厚度30μm的聚乙烯醇薄膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)，使用乾式延伸以一軸延伸至約4倍，再保持於緊張狀態下，浸漬40℃之純水40秒鐘之後，再浸漬於28℃的碘/碘化鉀/水之重量比為0.044/5.7/100的染色水溶液中30秒鐘，進行染色處理。隨後，再於70℃下浸漬於碘化鉀/硼酸/水之重量比為11.0/6.2/100的硼酸水溶液中120秒鐘。隨後，使用8℃的純水洗淨15秒鐘之後，於保持300N之張力的狀態下，以60℃、50秒鐘，隨後再進行75℃、20秒鐘之乾燥，製得厚度12μm的吸附碘之形成配向的聚乙烯醇薄膜之偏光子。

於所得之偏光子，與環烯烴聚合物薄膜(COP、日本ZEON股份有限公司製ZF-4無UV吸收性30μm)之間，注入水系接著劑，再使用夾輥(Nip roll)使其 貼合。使所得貼合物之張力保持於430N/m中，於60℃下乾燥2分鐘，製得單側面具有環烯烴薄膜之保護薄膜的42μm之偏光板。又，上述水系接著劑，為於水100份中，添加羧基改性聚乙烯醇(KURARE股份有限公司製；KURARE POVAL KL318)3份，與水溶性聚醯胺環氧樹脂(住化CHEMTEX股份有限公司製；SUMIREZ樹脂650；固形成份濃度30%之水溶液)1.5份而製得。

依以下方式，測定所得偏光板的偏光度Py及單體穿透率Ty。

使用設置附有偏光子的固定器之分光光度計(UV-3150；島津製作所股份有限公司製)而得的裝置，依雙光束法於380~680nm之波長範圍中，以2nm階段式地測定透過軸方向之單體穿透率(T¹)及吸收軸方向之單體穿透率(T²)。並使用下述式(p)與(q)，算出各波長之單體穿透率、偏光度，再依JIS Z8701之2度視角(C光源)進行視感度補正，而算出視感度補正單體穿透率(Ty)及視感度補正偏光度(Py)。其結果，製得視感度補正單體穿透率Ty為43.0%、視感度補正偏光度Py為99.99%之吸收型偏光板。

單體穿透率Ty(%)={(T¹+T²)/2}×100 (p)

偏光度Py(%)={(T¹-T²)/(T¹+T²)}×100 (q)

<光學異向性層之製造>

使用電暈處理裝置(AGF-B10、春日電機股份有限公 司製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件對環烯烴聚合物薄膜(COP、日本ZEON股份有限公司製ZF-14)進行1次處理。使用棒狀塗佈機將光配向膜形成用組成物塗佈於施有電暈處理的表面，於80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；牛尾電機股份有限公司製)，以100mJ/cm²之積算光量實施偏光UV曝光。所得配向膜之膜厚，經橢圓偏光計測定結果，為100nm。

隨後，使用棒狀塗佈機將先前製得之由含聚合性液晶化合物之組成物A所形成之塗覆液塗佈於配向膜上，於120℃下乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(UNIKURE VB-15201BY-A、牛尾電機股份有限公司製)，將紫外線由塗佈有含聚合性液晶化合物之組成物的側面進行照射(氮氛圍下、波長313nm下之積算光量：500mJ/cm²)時，形成含有光學異向性層1之光學薄膜。所得光學異向性層1之膜厚，經雷射顯微鏡測定結果，為2μm。

將製造例2所製得之黏著劑組成物貼合於前所得的光學薄膜之光學異向性層1側之後，使用電暈處理裝置(AGF-B10、春日電機股份有限公司製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分鐘之條件進行1次處理而貼合於偏光板。此時，對偏光板之吸收軸，光學異向性層之遅相軸為以形成45°之方式層合，而形成圓偏光板。隨後，將基材之COP薄膜剝離結果，製得偏光板上轉印有光學異向性層1之光學層合體1(圓偏光板1)。所得光學層合體1 之厚度為64μm。

為測定光學層合體1之光學特性，而將其轉印於玻璃上，製得測定用樣品。該樣品之波長450nm、波長550nm與波長630nm的相位差值，為使用雙折射測定裝置(KOBRA-WR；王子計測機器股份有限公司製)予以測定，波長400nm與波長420nm之穿透率為使用分光光度計(UV-3150；島津製作所股份有限公司製)予以測定。又，因光源側配置偏光稜鏡，故為完全直線偏光，而將該直線偏光照射測定用樣品以進行測定。此時，以射入與光學層合體的偏光板側之透過軸為平行之直線偏光之方式，而測定偏光板的透過方向之波長400nm中的光學層合體之吸光度A(400)，及，偏光板的透過方向之波長400nm中的光學層合體之吸光度A(420)。其結果如表3所示。

又，光學層合體1具有全部下述式(8)~(12)所表示之光學特性。

A(400)≧0.50 (8)

A(420)/A(400)≦0.30 (9)

100nm≦Re(550)≦170nm (10)

Re(450)/Re(550)≦1.00 (11)

1.00≦Re(630)/Re(550) (12)

[實施例2~31、參考例1及2與比較例1~6]

分別使用下述表3記載之黏著劑組成物，依與前述實施例1為相同之方法，製得轉印有光學異向性層的光學層合體(圓偏光板)。所得之光學層合體(圓偏光板)之光學特性，為依與實施例1為相同之方法予以測定。

<光學層合體之評估>

對上述所製得之光學層合體，進行光學耐久性試驗、耐熱試驗、耐濕熱試驗及耐熱震(heat shock)試驗，並進行評估。又，各試驗為依以下之方法進行。

光學耐久性試驗(表4中，標記為「SWOM」)：將光學層合體投入日照氣候測試器(SUGA試驗機股份有限 公司製：型號SUNSHINE WEATHER METER S80)中，照射100小時之後，測定波長450nm、波長550nm與波長630nm之相位差值。依以下基準評估光學耐久性試驗前後之相位差值的變化。結果係如表4所示。

[光學耐久性試驗之評估基準]

A：光學耐久性試驗前後之Re變化未達5。

B：光學耐久性試驗前後之Re變化為5以上、未達10。

C：光學耐久性試驗前後之Re變化為10以上。

耐熱試驗(表4中，標記為「耐熱」)：將光學層合體投入恆溫槽(ESPEC股份有限公司製：型號PL-3KT)，於溫度85℃之乾燥條件下，分別放置250小時、500小時後，以目視方式觀察光學層合體之外觀狀態，並依以下評估基準進行評估。其結果如表4所示。

[耐熱試驗之評估基準]

A：500小時後之樣品幾乎未觀察出產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

B：250小時後之樣品幾乎未觀察出產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

C：250小時後之樣品觀察出顯著地產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

耐濕熱試驗(表4中，標記為「耐濕熱」)：將 光學層合體投入恆溫槽(ESPEC股份有限公司製：型號PH-4KT)，於溫度60℃、相對濕度90%下，分別放置250小時、500小時後，以目視方式觀察光學層合體之外觀狀態，並依以下之評估基準進行評估。結果係如表4所示。

[耐濕熱試驗之評估基準]

A：500小時後之樣品幾乎未觀察出產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

B：250小時後之樣品幾乎未觀察出產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

C：250小時後之樣品觀察出顯著地產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

耐熱震(heat shock)試驗(表4中，標記為「耐HS」)：將光學層合體投入冷熱衝撃裝置(ESPEC股份有限公司製：型號TSA-71L-A)中，由70℃之加熱狀態降溫至-40℃，其次再升溫至70℃之過程為1個循環(30分鐘)，將其分別重複50循環、100循環之後，以目視方式觀察光學層合體之外觀狀態。並依以下評估基準進行評估。其結果係如表4所示。

[耐熱震(heat shock)試驗之評估基準]

A：100循環後之樣品幾乎未觀察出產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

B：50循環後之樣品幾乎未觀察出產生浮起、剝離、 發泡等之外觀變化。

C：50循環後之樣品觀察出顯著地產生浮起、剝離、發泡等之外觀變化。

於未添加光選擇吸收性化合物之參考例1及2中，光學耐久性試驗後之Re(450)之值為10以上之巨大，各耐久性試驗中，於外觀變化發生浮起、剝離、發泡等現 象。又，又含有ε(420)/ε(400)之值超過0.3的化合物作為光選擇吸收性化合物(紫外線吸收劑)之比較例1~6，其光學耐久性試驗後之Re(450)亦為10以上的巨大變化。又，光學層合體之A(400)之值為0.5以上、且A(420)/A(400)之值為0.3以下的本發明之光學層合體(實施例1~31)，於光學耐久性試驗後之Re(450)之變化為未達5，而有改善效果。特別是，含有具特定結構的光選擇吸收性化合物之光學層合體(實施例1~20)中，各耐久試驗後皆未發生浮起、剝離、發泡等現象，其外觀並無變化，而確認為具有優良耐久性者。

隨後，使用分光光度計測定所製得的光學層合體之穿透率，以推測其於OLED顯示器中之光取出率(Light Extraction Efficiency)。其結果係如表5所示。

又，光取出率為以OLED發光圖譜及光學層合體之穿透圖譜為基礎，依以下算式所算出者。

藍、綠、紅之光取出率分別為波長420~560nm、480~655nm、535~755nm中之光取出率。

OLED光取出率(%)=OLED發光圖譜×光學層合體之穿透率

本發明之光學層合體(實施例1~31)，與未添加光選擇吸收性化合物的參考例1及2具有相同的光取出率，得知並未損及該顯示特性。又，因A(420)/A(400)之值為更大，故於光吸收選擇性較低的光學層合體(比較例1~6)中，確認具有較低之光取出率。

Claims (9)

1. 一種光學層合體，其為含有至少1個偏光板與至少1個黏著劑層的光學層合體，其滿足下述式(1)及(2)，且含有滿足式(3)之光選擇吸收性化合物；該光選擇吸收性化合物為式(I)所表示之化合物，A(400)≧0.5 (1) A(420)/A(400)≦0.3 (2) _ε(420)/_ε(400)≦0.3 (3)[式中，A(400)表示偏光板之穿透方向中的波長400nm中之光學層合體的吸光度，A(420)表示偏光板之穿透方向中的波長420nm中之光學層合體的吸光度，ε(400)表示波長400nm時之克吸光係數，ε(420)表示波長420nm中之克吸光係數]，

   

   [式中，R¹表示氫原子或碳數1~10之烷基，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子或硫原子所取代，R²及R³表示互相獨立之氫原子或碳數1~12之烷基，A表示伸甲基、二級胺基、氧原子或硫原子，X¹及X²表示各自獨立之電子吸引性基，X¹及X²可互相連結形成環結構]。
2. 如請求項1之光學層合體，其中前述黏著劑層為，由含有(A)、(B)、(C)的黏著劑組成物所形成；(A)基於丙烯酸樹脂的固形成份全體量，以(A-1)：式(A-1)

   

   [式(A-1)中，R^p表示氫原子或甲基，R^q表示碳數1~20之烷基或芳烷基，構成該烷基或該芳烷基之氫原子，可被-O-(C₂H₄O)_n-R^r所取代(n表示0~4之整數，R^r表示為碳數1~12之烷基或碳數1~12之芳基)]所示(甲基)丙烯酸酯單體50~99.9質量%，與(A-2)：具有極性官能基之不飽和單體0.1~50質量%為構成成份之共聚物，且重量平均分子量為50萬~200萬之丙烯酸樹脂、(B)相對於前述丙烯酸樹脂100質量份，為0.01~10質量份之交聯劑，及(C)式(I)所表示之化合物，且滿足式(3)之光選擇吸收性化合物。
3. 如請求項1或2之光學層合體，其為含有滿足下述式(4)及(5)之光選擇吸收性化合物者：λmax<420nm (4) _ε(400)≧40 (5)(式中，λ max表示光選擇吸收性化合物之最大吸收波長，ε(400)表示波長400nm時之克吸光係數)。
4. 如請求項1或2之光學層合體，其相對於丙烯酸 樹脂(A)100質量份，含有0.01~10質量份之光選擇吸收性化合物。
5. 如請求項1或2之光學層合體，其中，前述光選擇吸收性化合物為式(I-II)所表示之化合物，式(I-II)：

   

   (式中，R^4'表示氫原子或碳數2~20之烷基，該烷基至少具有1個伸甲基時，該伸甲基中之至少1個可被氧原子所取代，R¹表示與前述為相同之意義)。
6. 如請求項1或2之光學層合體，其含有至少1個相位差薄膜。
7. 如請求項6之光學層合體，其中，相位差薄膜為由聚合性液晶化合物於配向狀態中的聚合物所形成之層。
8. 如請求項1或2之光學層合體，其具有50~500μm之厚度。
9. 一種顯示裝置，其特徵為，含有請求項1~8中任一項之光學層合體。