JP6829070B2 - 光学積層体 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体および前記光学積層体を含む表示装置に関する。

有機ＥＬ表示装置や液晶表示装置等の表示装置（ＦＰＤ：フラットパネルディスプレイ）には、有機ＥＬ素子、液晶セル等の表示素子や偏光板等の光学フィルムなど様々な部材が用いられている。これらの部材に用いられる有機ＥＬ化合物および液晶化合物等は有機物であるため、紫外線（ＵＶ）による劣化が問題となりやすい。このような問題を解決するため、表示装置に用いられる偏光板の保護フィルムに紫外線吸収剤を添加するなどの対策がなされている。例えば、特許文献１には、３７０ｎｍ以下の波長域の紫外線吸収能には優れるが、液晶表示に影響を及ぼさないために４００ｎｍ以上の可視光の吸収は少ない紫外線吸収剤を添加した偏光板が記載されている。

また、近年の表示装置の薄型化が進む中、保護フィルムを備えない光学フィルムが知られている。このような光学フィルムにおいては、従来保護フィルムに添加していた成分を別部材に配合する必要があり、例えば、紫外線吸収機能を光学フィルムに積層される粘着剤層に付与することが考えられる。特許文献２には、紫外線吸収モノマーを含むモノマー混合物から合成した紫外線吸収性樹脂組成物を、その基材の一面に塗布した粘着シートが記載されている。

特開２００６−３０８９３６号公報 特開２００８−５６８５９号公報

従来、表示装置を構成する各種部材は３８０ｎｍ以下の波長域の紫外線により劣化すると考えられてきたが、紫外線に加えて、短波長域の可視光でも性能劣化が進むことが明らかになってきた。このため、偏光板などの光学フィルムには、紫外線に加えて４００ｎｍ付近の光に対する吸収特性を有することが求められている。一方、表示装置に良好な表示特性を付与するためには、４３０ｎｍを超える可視光域（例えば、青色光）に対しては吸収特性を示さない必要があり、４００ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を有することが重要となる。しかしながら、前記特許文献１に記載の偏光板は、４００ｎｍ付近の可視光に対する吸収特性が低く、耐光性において必ずしも満足のいくものではなかった。

さらに、表示装置の薄型化への要求に対して、十分なＵＶ吸収特性を有し、かつ光学フィルムの薄型化を達成するために、紫外線吸収剤を粘着剤層に配合する場合、粘着剤層を形成する粘着剤組成物や粘着剤塗工液に対する紫外線吸収剤の高い溶解性が必要となり、これが不十分であることにより、粘着剤層形成後に紫外線吸収剤が経時的にブリードアウトすることがあり、粘着剤層の粘着機能を阻害することなく、高い耐光性を有しながらも薄型の光学フィルムを得ることは困難であった。

本発明は、４００ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収選択性を示すことにより高い耐光性を有しながら、表示装置に用いた場合に良好な表示特性を付与し得る光学積層体を提供することを目的とする。

本発明は、以下の好適な態様［１］〜［１０］を提供するものである。
［１］少なくとも１つの偏光板と、少なくとも１つの粘着剤層とを含む光学積層体であって、下記式（１）および（２）を満たす光学積層体：
Ａ（４００）≧０．５ （１）
Ａ（４２０）／Ａ（４００）≦０．３ （２）
〔式中、Ａ（４００）は偏光板の透過方向の波長４００ｎｍにおける光学積層体の吸光度を表し、Ａ（４２０）は偏光板の透過方向の波長４２０ｎｍにおける光学積層体の吸光度を表す〕。
［２］前記粘着剤層は、
（Ａ）アクリル樹脂の固形分全体の量に基づき、
（Ａ−１）式（Ａ−１）：

〔式（Ａ−１）中、Ｒ^ｐは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^ｑは炭素数１〜２０のアルキル基またはアラルキル基を表し、該アルキル基または該アラルキル基を構成する水素原子は、−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｒ^ｒで置換されていてもよく（ｎは０〜４の整数を表し、Ｒ^ｒは炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアリール基を表す）〕で示される（メタ）アクリル酸エステル単量体５０〜９９．９質量％と、
（Ａ−２）極性官能基を有する不飽和単量体０．１〜５０質量％
とを構成成分とする共重合体であって、重量平均分子量が５０万〜２００万であるアクリル樹脂、
（Ｂ）前記アクリル樹脂１００質量部に対して０．０１〜１０質量部の架橋剤、および
（Ｃ）下記式（３）を満たす光選択吸収性化合物：
ε（４２０）／ε（４００）≦０．３ （３）
〔式中、ε（４００）は波長４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、ε（４２０）は波長４２０ｎｍにおけるグラム吸光係数を表す〕、
を含有する粘着剤組成物からなる、前記［１］に記載の光学積層体。
［３］前記式（３）、下記式（４）および（５）を満たす光選択吸収性化合物を含む、前記［１］または［２］に記載の光学積層体：
λｍａｘ＜４２０ｎｍ （４）
ε（４００）≧４０ （５）
（式中、λｍａｘは光選択吸収性化合物の極大吸収波長を表し、ε（４００）は波長４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を表す）。
［４］アクリル樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の光選択吸収性化合物を含む、前記［２］または［３］に記載の光学積層体。
［５］前記光選択吸収性化合物は、式（Ｉ）：

〔式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子または硫黄原子に置換されていてもよく、Ｒ^２およびＲ^３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表し、
Ａは、メチレン基、第二級アミノ基、酸素原子または硫黄原子を表し、
Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立して電子吸引性基を表し、Ｘ^１およびＸ^２は互いに連結して環構造を形成していてもよい〕で表される化合物、および式（ＩＩ）：

〔式中、Ａ^１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは第二級アミノ基、酸素原子、硫黄原子で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、
Ｒ^１、Ｘ^１およびＸ^２は、前記と同じ意味を表す〕
で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、前記［２］〜［４］のいずれかに記載の光学積層体。
［６］前記光選択吸収性化合物は、式（Ｉ−ＩＩ）：

（式中、Ｒ^４’は水素原子または炭素数２〜２０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子で置換されていてもよく、Ｒ^１は前記と同じ意味を表す）
で表される化合物、および前記式（ＩＩ−Ｉ）：

（式中、Ｒ^１およびＲ^４’は、前記と同じ意味を表す）
で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、前記［２］〜［５］のいずれかに記載の光学積層体。
［７］少なくとも１つの位相差フィルムを含む、前記［１］〜［６］のいずれかに記載の光学積層体。
［８］位相差フィルムが重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層である、前記［７］に記載の光学積層体。
［９］５０〜９００μｍの厚さを有する、前記［１］〜［８］のいずれかに記載の光学積層体。
［１０］前記［１］〜［９］のいずれかに記載の光学積層体を含む表示装置。

本発明によれば、４００ｎｍ付近の短波長の可視光に対する高い吸収特性を示すことにより高い耐光性を有しながら、表示装置に用いた場合に良好な表示特性を付与し得る光学積層体を提供することができる。

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。

本発明の光学積層体は、少なくとも１つの偏光板と、少なくとも１つの粘着剤層とを含み、好ましくは少なくとも１つの位相差フィルムを含む、下記式（１）および（２）を満たす光学積層体である。
Ａ（４００）≧０．５ （１）
Ａ（４２０）／Ａ（４００）≦０．３ （２）
式（１）および（２）中、Ａ（４００）は偏光板の透過方向の波長４００ｎｍにおける光学積層体の吸光度を表し、Ａ（４２０）は偏光板の透過方向の波長４２０ｎｍにおける光学積層体の吸光度を表す。前記式（１）および（２）を満たす場合、その光学積層体は波長４００ｎｍ付近に高い選択吸収性を示し、４００ｎｍ付近の短波長の可視光による劣化を抑制することができ、表示装置に組み込んだ場合に良好な表示特性を付与し得る。

Ａ（４００）の値は大きいほど波長４００ｎｍにおける吸収が高いことを示しており、この値が０．５未満であると、波長４００ｎｍにおける吸収が弱く、４００ｎｍ付近の短波長の可視光に対する十分に高い耐光性を確保し難くなる。したがって、本発明の光学積層体におけるＡ（４００）の値は、好ましくは０．７以上であり、より好ましくは０．８以上であり、さらに好ましくは１．０以上である。Ａ（４００）の値の上限は特に限定されるものではないが、光選択吸収性化合物が該化合物を含む層から経時的にブリードアウトすることを回避するために、通常５．０以下であることが好ましい。

Ａ（４２０）／Ａ（４００）の値は波長４２０ｎｍにおける吸収の強さに対する波長４００ｎｍにおける吸収の強さを表しており、この値が小さいほど４００ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを示す。この値が小さいほど黄色みの少ない透明な色選択性に優れた光学積層体となる。この値が０．３を超える場合、４００ｎｍ付近の光を十分に吸収できなかったり、有機ＥＬ素子等の表示素子から発光される４２０ｎｍ付近の青色光を吸収してしまったりすることにより、これを表示装置に用いた場合には、良好な色彩表現を阻害し、表示装置の表示特性が低下する傾向にある。したがって、本発明の光学積層体におけるＡ（４２０）／Ａ（４００）の値は、好ましくは０．２７以下であり、より好ましくは０．２５以下であり、さらに好ましくは０．２３以下であり、特に好ましくは０．２以下である。その下限値は特に限定されるものではないが、耐光性の観点からは、通常０．０１以上であることが好ましい。本発明の好適な一実施態様において、Ａ（４２０）／Ａ（４００）の値は０．０１〜０．２７である。

前記式（１）および（２）を満たすような光学積層体の吸収特性は、例えば、４００ｎｍ付近の波長域に対して選択吸収性を示す化合物を配合することにより制御することができる。４００ｎｍの波長域に対して選択吸収性を示す化合物としては、例えば、下記式（３）を満たす化合物が挙げられる。
ε（４２０）／ε（４００）≦０．３ （３）
式（３）中、ε（４００）は波長４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、ε（４２０）は波長４２０ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）で定義する。

ε（４２０）／ε（４００）の値は波長４２０ｎｍにおける吸収の強さに対する波長４００ｎｍにおける吸収の強さを表しており、この値が小さいほど４００ｎｍ付近の波長域に特異的な吸収があることを示す。このような吸収特性を有する化合物を光学積層体が含むことにより、光学積層体に４００ｎｍ付近の波長域における高い選択吸収性を付与することができる。したがって、前記化合物のε（４２０）／ε（４００）の値は、０．２７以下であることが好ましく、０．２５以下であることがより好ましく、０．２３以下であることがさらに好ましく、０．２以下であることが特に好ましい。その下限値は特に限定されるものではないが、耐光性の観点からは、通常０．００５以上であることが好ましい。本発明の好適な一実施態様において、前記化合物のε（４２０）／ε（４００）の値は０．００５〜０．２７である。

したがって、本発明の好適な一実施態様において、光学積層体は、前記式（３）を満たす光選択吸収性化合物を含むことが好ましい。なお、本発明においては、前記式（３）を満たす吸収特性を有する化合物を、４００ｎｍ付近の波長域に対して高い選択吸収性を示す化合物として「光選択吸収性化合物」と称する。

〔光選択吸収性化合物〕
本発明において、光選択吸収性化合物は前記式（３）に加えて、さらに下記式（４）および（５）を満たすことが好ましい。
λｍａｘ＜４２０ｎｍ （４）
ε（４００）≧４０ （５）
式（４）中、λｍａｘは光選択吸収性化合物の極大吸収波長を表す。式（５）中、ε（４００）は波長４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）で定義する。

前記式（４）および（５）を満たす場合、その光選択吸収性化合物の極大吸収は４２０ｎｍより短波長側に存在し、かつ、波長４００ｎｍ付近に対する高い吸収を示す化合物であるといえる。このような光選択吸収性化合物を含むことにより、表示特性に影響を与えることなく高い耐光性を有する光学積層体が得られる。また、少量で高い吸収効果を発揮できる点においても有利である。本発明において、光選択吸収性化合物の極大吸収λｍａｘは、４１０ｎｍ以下にあることがより好ましく、４００ｎｍ以下にあることがさらに好ましい。また、光選択吸収性の観点から、化合物の極大吸収は３７０ｎｍ以上に存在することが好ましく、３８０ｎｍ以上に存在することがより好ましい。また、ε（４００）の値は、６０以上であることがより好ましく、８０以上であることがさらに好ましく、１００以上であることが特に好ましい。その上限値は特に限定されるものではないが、通常５００以下である。

本発明の光学積層体が含み得る光選択吸収性化合物としては、上述したような吸収特性を示す化合物であれば特に限定されるものではなく、例えば公知の紫外線吸収剤等であってもよい。公知の紫外線吸収剤の例としては、ＫＥＭＩＳＯＲＢ １１１、ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３（以上、いずれもケミプロ化成株式会社製）、ＳＵＭＩＳＯＲＢ ３００（住化ケムテックス株式会社製）などが挙げられる。
光吸収選択性、光学積層体への配合の容易性等の観点から、本発明の光学積層体は、下記式（Ｉ）で表される化合物および式（ＩＩ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種の光選択吸収性化合物を含むことが好ましい。

前記式（Ｉ）および（ＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、高い光吸収選択性の観点から、好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜５、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルキル基を表す。ここで、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子または硫黄原子に置換されていてもよい。かかるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。

前記式（Ｉ）中、Ｒ^２およびＲ^３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表し、高い光吸収選択性の観点から、好ましくは水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくは水素原子または炭素数１〜８のアルキル基、さらに好ましくは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基、特に好ましくは水素原子または炭素数１〜３のアルキル基、非常に好ましくは水素原子を表す。

前記式（Ｉ）および（ＩＩ）中、Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立して電子吸引性基を表す。電子吸引性基としては、例えば、−ＣＮ（シアノ基）、−ＮＯ_２（ニトロ基）、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、−Ｙ^１−Ｒ^４〔式中、Ｒ^４は、水素原子、炭素数２〜５０のアルキル基、または少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数２〜５０のアルキル基であって、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されているアルキル基を表し、該アルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよく、Ｙ^１は、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＮＲ^５ＣＯ−または−ＣＯＮＲ^６−を表す（Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基を表す）〕等が挙げられる。Ｘ^１およびＸ^２は互いに連結して環構造を形成していてもよい。Ｘ^１およびＸ^２により形成される環構造としては、例えば、メルドラム酸構造、バルビツール酸構造、ジメドン構造等が挙げられる。

Ｘ^１およびＸ^２は、光吸収選択性および粘着剤に用いるアクリル酸組成物との相溶性の観点から、−ＣＮ（シアノ基）、−ＮＯ_２（ニトロ基）、−Ｙ^１−Ｒ^４のうちＹ^１が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−であることが好ましく、−ＣＮ（シアノ基）、−Ｙ^１−Ｒ^４のうちＹ^１が−ＣＯＯ−であることがより好ましい。また、Ｘ^１およびＸ^２が互いに連結して環構造を形成しているものも好ましい。

前記式（Ｉ）中、Ａはメチレン基、第二級アミノ基、酸素原子または硫黄原子を表し、高い光選択吸収性を発現させる観点から、好ましくはメチレン基または酸素原子を表す。

前記式（ＩＩ）中、Ａ^１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。ここで、前記アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは第二級アミノ基、酸素原子、硫黄原子で置換されていてもよい。かかるアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。

前記式（ＩＩ）中のＡ^１として示される芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
このような芳香族炭化水素基としては、炭素数３〜９の芳香族炭化水素基が好ましく、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、芳香族複素環基としては、炭素数３〜９の芳香族複素環基が好ましく、例えば、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、チエニル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基等が挙げられる。製造の容易性の観点から、Ａ^１はフェニル基またはナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。

前記式（Ｉ）で表される光選択吸収性化合物としては、具体的に、例えば以下のような化合物が挙げられる。

下記式（Ｉ−Ｉ）：

で表される化合物〔式（Ｉ−Ｉ）中、Ａ、Ｒ^１〜Ｒ^４、Ｘ^１およびＹ^１はそれぞれ前記と同じ意味を表す〕等。
中でも、光選択吸収性化合物を粘着剤層に含む場合、粘着剤に用いるアクリル酸組成物との相溶性の観点から、光学積層体が式（Ｉ−Ｉ）で表される光選択吸収性化合物を含むことが好ましい。

式（Ｉ−Ｉ）中のＲ^４における炭素数２〜５０のアルキル基は、疎水性物質および疎水性溶媒への溶解性ならびに経済性の観点から、炭素数が２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることがさらに好ましい。

Ｒ^４における少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数２〜５０のアルキル基は、疎水性物質および疎水性溶媒への溶解性ならびに経済性の観点から、炭素数が好ましくは２〜４０、より好ましくは２〜３０、さらに好ましくは２〜２０、特に好ましくは２〜１０、とりわけ好ましくは４〜１０のアルキル基を示す。ここで、少なくとも１つのメチレン基を有する炭素数２〜５０のアルキル基において、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子に置換されていており、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、２−メトキシエトキシメチル基、ジエチレングリコール基、トリエチレングリコール基、ジプロピレングリコール基、トリプロピレングリコール基等が挙げられる。

また、Ｒ^４のアルキル基上の炭素原子には置換基が結合していてもよい。置換基としては、例えばハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。

特に、Ｒ^４が炭素数３〜５０のアルキル基である場合、疎水性物質との親和性、および疎水性溶媒への溶解性の観点から、Ｒ^４は炭素数３〜１２の枝分かれ構造を有するアルキル基であることがより好ましく、炭素数６〜１０の枝分かれ構造を有するアルキル基であることがさらに好ましい。

ここで、枝分かれ構造を有するアルキル基とは、該アルキル基が有する炭素原子の少なくとも一つが第三級炭素、または第四級炭素であるアルキル基を示す。炭素数３〜１２の枝分かれ構造を有するアルキル基の具体例としては、下記構造を有するアルキル基が挙げられる。

式（Ｉ−Ｉ）中のＹ^１は、光吸収選択性および粘着剤に用いるアクリル酸組成物との相溶性の観点から、好ましくは−ＣＯ−、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−である。

前記式（Ｉ−Ｉ）で表される化合物としては、例えば下記式（Ｉ−ＩＩ）:

で表される化合物等が挙げられる。式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物は、光吸収選択性が高く、該光選択吸収性化合物を粘着剤層に含む場合には粘着剤に用いるアクリル酸組成物との相溶性が高いため、光学積層体が式（Ｉ−ＩＩ）で表される光選択吸収性化合物を含むことが好ましい。

式（Ｉ−ＩＩ）中、Ｒ^１は前記と同じ意味を表す。Ｒ^４’は水素原子または炭素数２〜２０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子で置換されていてもよい。そのようなアルキル基としては、前記式（Ｉ−Ｉ）中のＲ^４において例示したようなものが挙げられる。中でも、光学積層体に高い耐光性を付与し得ることから、Ｒ^４’は、酸素原子で置換されていてもよい炭素数３〜１８のアルキル基であることが好ましく、酸素原子で置換されていてもよい炭素数５〜１５のアルキル基であることがより好ましい。

前記式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物としては、例えば、下記式（Ｉ−ＩＩＩ）：

〔式中、Ｒ^４’’は炭素数１〜６のアルキル基を表し、ｎは１〜１０の整数を表す〕
で表される化合物等が挙げられる。式（Ｉ−ＩＩＩ）で表される光選択吸収性化合物は、４００ｎｍ付近の波長域に対する高い選択吸収性を有し、かつ、種々の溶媒に対する溶解性および／または種々の化合物との親和性に優れる。このため、当該分野で一般的に用いられる種々の溶媒に容易に溶解させることができ、また、ブリードアウトも生じ難く、光学積層体に高い耐光性を付与し得る。したがって、式（Ｉ−ＩＩＩ）で表される光選択吸収性化合物は、本発明において特に好ましい光選択吸収性化合物の１つである。

式（Ｉ−ＩＩＩ）において、Ｒ^４’’は、好ましくは炭素数２〜５のアルキル基であり、より好ましくは３または４のアルキル基である。また、ｎは、合成上の観点から、好ましくは１〜８の整数、より好ましくは１〜６の整数、例えば１〜４の整数、特に１〜３の整数である。ｎが前記範囲内にあると、疎水性溶剤への溶解性に優れるため、例えば、粘着剤組成物を溶解させるために用いる種々の疎水性溶剤に容易に溶解させることができる。

式（Ｉ−ＩＩＩ）で表される化合物としては、具体的に、例えば以下のようなものが挙げられる。

前記式（ＩＩ）で表される光選択吸収性化合物としては、具体的に以下のような化合物が挙げられる。

および

で表される化合物〔式中、Ｒ^１およびＲ^４’は、前記式（Ｉ−ＩＩ）におけるものと同じ意味を表す〕等。

中でも、製造の容易性の観点から、式（ＩＩ）で表される光選択吸収性化合物は式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物であることが好ましく、光学積層体に高い耐光性を付与し得ることから、Ｒ^４’が酸素原子で置換されていてもよい炭素数２〜２０のアルキル基である式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物であることが好ましく、酸素原子で置換されていてもよい炭素数５〜１５のアルキル基である式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物がより好ましい。

式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物としては、具体的には、例えば以下のような化合物が挙げられる。

本発明において、光選択吸収性化合物としては、式（Ｉ）で表される化合物および式（ＩＩ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物および式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。さらに、光吸収選択性および粘着剤に用いるアクリル酸組成物との相溶性の観点から、式（Ｉ）で表される化合物が好ましく、式（Ｉ−Ｉ）および（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物がより好ましく、式（Ｉ−ＩＩ）および式（Ｉ−ＩＩＩ）で表される化合物がさらに好ましい。式（Ｉ）、（ＩＩ）、（Ｉ−Ｉ）、（ＩＩ−Ｉ）、（Ｉ−ＩＩ）、（Ｉ−ＩＩＩ）で表される化合物は、それぞれ１種のみを単独で用いてもよく、異なる複数種を組み合わせて用いてもよく、式（Ｉ）、（ＩＩ）、（Ｉ−Ｉ）、（ＩＩ−Ｉ）、（Ｉ−ＩＩ）、（Ｉ−ＩＩＩ）で表される化合物を組み合わせて含んでいてもよい。

例えば、式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物は、２−メチルピロリンをメチル化剤によって１，２−ジメチルピロリニウム塩とし、続いてＮ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジンと反応させ、最後に、無水酢酸、およびアミン触媒存在下で活性メチレン化合物を反応させることにより製造することができる。前記式（Ｉ）、（Ｉ−Ｉ）および（Ｉ−ＩＩＩ）で表される化合物は、前記式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物と同様の方法により製造することができる。式（ＩＩ）および（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物は、３−ホルミルインドールと活性メチレン化合物とを反応（Ｋｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ反応）させることで得ることができ、反応にはアミン触媒を併用してもよい。式（ＩＩ）および（ＩＩ−Ｉ）中のＲ^１が炭素数１〜１０のアルキル基である場合、３−ホルミルインドールに対し、塩基触媒存在下ハロゲン化アルキルを反応させ、その後に活性メチレン化合物と反応させることで目的の光選択吸収性化合物を製造することができる。また、これらの化合物として市販されているものを用いてもよい。

本発明の光学積層体の吸収特性は、前記光選択吸収性化合物を配合することにより制御することができ、その含有量は、用いる光選択吸収性化合物の種類やその組み合わせ、用いる溶媒の種類や量、光選択吸収性化合物を配合する層およびその層（例えば粘着剤層）の膜厚等にあわせて適宜決定すればよい。

さらに、本発明の光学積層体は、上述したような４００ｎｍ付近に高い選択吸収性を示す光選択吸収性化合物に加えて、２００〜４００ｎｍの波長域に吸収を示す、当該分野において一般的に用いられている公知の紫外線吸収剤を含んでいてもよい。そのような紫外線吸収剤としては、例えば、２−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−（４，６−ジフェニル−１，３,５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサゾノイルオキシ）エトキシ］フェノール、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。紫外線吸収剤を併用することにより、表示装置を構成する各種部材の紫外線による性能劣化をより効果的に抑制することができるため、光学積層体の耐光性をより向上させ得る。

ここで、本発明の光学積層体を構成する構成部材としては、少なくとも１つの偏光板と少なくとも１つの粘着剤層を含み、所望する光学機能を有するよう構成されている限り特に限定されるものではない。例えば、偏光板および粘着剤層の他に保護フィルムや位相差フィルム等を構成部材として含む光学積層体が挙げられる。これらの各構成部材による層構成は特に限定されるものではないが、通常、偏光板や位相差フィルム等の光学フィルムは、粘着剤層を介して表示素子に貼着されて光学積層体を構成する。

本発明の光学積層体においては、例えば、保護フィルムや位相差フィルム等に光選択吸収性化合物を含ませることができるが、光学積層体の薄層化の観点から、特に粘着剤層が光選択吸収性化合物を含むことが好ましい。

以下、本発明の好適な一実施態様における本発明の光学積層体の構成を詳細に説明する。

〔粘着剤層〕
本発明において、粘着剤層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル系、ゴム系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系などのベースポリマーを有する粘着剤を用いることができる。これらの中でも、高い耐熱性、耐光性の観点から、本発明の光学積層体を構成する粘着剤層は、アクリル樹脂をベースポリマーとして有する粘着剤組成物から形成されることが好ましい。

本発明の好適な一実施態様において、光学積層体の粘着剤層は、
（Ａ）アクリル樹脂の固形分全体の量を基準にして、
（Ａ−１）下記式（Ａ−１）：

で表される（メタ）アクリル酸エステル単量体９０〜９９．９質量％と、
（Ａ−２）極性官能基を有する不飽和単量体０．１〜１０質量％
とを構成成分とする共重合体であって、重量平均分子量が５０万〜２００万であるアクリル樹脂、
（Ｂ）前記アクリル樹脂１００質量部に対して０．０１〜１０質量部の架橋剤、および
（Ｃ）前記式（３）を満たす光選択吸収性化合物、
を含有する粘着剤組成物から形成される。

前記式（Ａ−１）において、Ｒ^ｐは水素原子またはメチル基である。Ｒ^ｑは、炭素数１〜２０のアルキル基またはアラルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基またはアラルキル基であり、該アルキル基または該アラルキル基を構成する水素原子は、−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｒ^ｒで置換されていてもよい。ここで、ｎは好ましくは０〜４、より好ましくは０〜３の整数を表し、Ｒ^ｒは、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、好ましくは炭素数１〜１２のアリール基、より好ましくは炭素数１〜１０のアリール基を表す。

前記式（Ａ−１）で表される（メタ）アクリル酸エステル単量体（Ａ−１）（以下、「単量体（Ａ−１）」と称する場合がある）として、具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸ラウリルなどの、直鎖状のアクリル酸アルキルエステル；アクリル酸イソブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチルなどの、分枝状のアクリル酸アルキルエステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−オクチル、メタクリル酸ラウリルなどの、直鎖状のメタクリル酸アルキルエステル；メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸イソオクチルなどの、分枝状のメタクリル酸アルキルエステル；アクリル酸フェニルエステル、アクリル酸ベンジルエステルなどの、芳香族基を有するアクリル酸エステル；アクリル酸フェノキシエスエル、メタクリル酸フェニルエステル、メタクリル酸ベンジルエステルなどの、芳香族基を有するメタクリル酸エステルなどが例示される。これらは、単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。中でも、粘着性発現の観点からアクリル酸ｎ−ブチルが好ましい。

極性官能基を有する不飽和単量体（Ａ−２）（以下、「単量体（Ａ−２）」と称する場合がある）において、極性官能基は、遊離カルボキシル基、水酸基、アミノ基、エポキシ環をはじめとする複素環基などであることができる。単量体（Ａ−２）は、好ましくは極性官能基を有する（メタ）アクリル酸系化合物である。その例として、アクリル酸、メタクリル酸、およびβ−カルボキシエチルアクリレートなどの遊離カルボキシル基を有する不飽和単量体；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−または３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、およびジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートなどの水酸基を有する不飽和単量体；アクリロイルモルホリン、ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、および２，５−ジヒドロフランなどの複素環基を有する不飽和単量体；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどの複素環とは異なるアミノ基を有する不飽和単量体などを挙げることができる。これらの単量体（Ａ−２）は、それぞれ単独で用いてもよいし、異なる複数種を用いてもよい。

これらの中でも、粘着剤層の接着力を高め、耐久性をより向上させるという観点から、水酸基を有する不飽和単量体を、アクリル樹脂（Ａ）を構成する単量体（Ａ−２）の１つとして含むことが好ましい。

単量体（Ａ−１）と単量体（Ａ−２）とを構成単位とするアクリル樹脂（以下、「アクリル樹脂（Ａ）」と称する場合がある）は、その固形分全体の量を基準にして、単量体（Ａ−１）に由来する構成単位を、好ましくは５０〜９９．９質量％、より好ましくは７０〜９９．９質量％の割合で含む。また、単量体（Ａ−２）に由来する構成単位を、好ましくは０．１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜３０質量％の割合で含む。単量体（Ａ−１）と単量体（Ａ−２）の割合が前記範囲内にあると、加工性により優れる粘着剤層を与える粘着剤組成物とすることができる。

さらに、アクリル樹脂（Ａ）は、単量体（Ａ−１）と単量体（Ａ−２）以外の他の単量体（以下、「単量体（Ａ−３）」と称する場合がある）を構成成分として含んでいてもよい。他の単量体としては、例えば、分子内に脂環式構造を有する（メタ）アクリル酸エステル、スチレン系モノマー、ビニル系モノマー、分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー、（メタ）アクリルアミド誘導体などを挙げることができる。

脂環式構造とは、炭素数が、通常５以上、好ましくは５〜７程度のシクロパラフィン構造である。脂環式構造を有するアクリル酸エステルの具体例としては、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ジシクロペンタニル、アクリル酸シクロドデシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、α−エトキシアクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘキシルフェニルなどが挙げられ、脂環式構造を有するメタクリル酸エステルの具体例としては、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ジシクロペンタニル、メタクリル酸シクロドデシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシルフェニルなどが挙げられる。

スチレン系モノマーとしては、スチレンのほか、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレンなどのアルキルスチレン；フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレンなどのハロゲン化スチレン；さらに、ニトロスチレン、アセチルスチレン、メトキシスチレン、ジビニルベンゼンなどを挙げることができる。

ビニル系モノマーとしては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、ラウリン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル；塩化ビニルや臭化ビニルなどのハロゲン化ビニル；塩化ビニリデンなどのハロゲン化ビニリデン；ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾールなどの含窒素芳香族ビニル；ブタジエン、イソプレン、クロロプレンなどの共役ジエンモノマー；さらには、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどを挙げることができる。

分子内に複数の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーとしては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどの、分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの、分子内に３個の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーなどを挙げることができる。

（メタ）アクリルアミド誘導体としては、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリルアミド、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ,Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３オキソブチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−〔２−（２−オキソ−１−イミダゾリジニル）エチル〕（メタ）アクリルアミド、２−アクリロイルアミノ−２−メチル−１−プロパンスルホン酸などを挙げることができる。

前記単量体（Ａ−１）、単量体（Ａ−２）およびその他の単量体（Ａ−３）は、それぞれ単独で、または複数種を組み合わせて用いることができる。本発明において、粘着剤組成物に使用され得るアクリル樹脂（Ａ）において、前記単量体（Ａ−３）に由来する構造単位は、アクリル樹脂（Ａ）の固形分全体の量を基準に、通常０〜２０質量部、好ましくは０〜１０質量部の割合で含まれる。

本発明の一実施態様において、粘着剤組成物は、１種または２種以上の前記アクリル樹脂（Ａ）を含んでいてよい。

前記アクリル樹脂（Ａ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が好ましくは５０万〜２００万、より好ましくは６０万〜１８０万、さらに好ましくは７０万〜１７０万である。その標準ポリスチレン換算重量平均分子量が５０万以上であると、高温高湿下での接着性が向上し、ガラス基板（画像表示素子）と粘着剤層との間に浮きや剥れの発生する可能性が低くなる傾向にあり、しかもリワーク性が向上する傾向にあることから好ましい。また、この重量平均分子量が２００万以下であると、その粘着剤層を光学フィルム等に貼合した場合に、光学フィルムの寸法が変化しても、その寸法変化に粘着剤シートが追随して変動するので、液晶セル等の画像表示素子の周縁部の明るさと中心部の明るさとの間に差がなくなり、白抜けや色ムラが抑制される傾向にあることから好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）で表される分子量分布は、通常２〜１０程度の範囲にある。

前記アクリル樹脂（Ａ）は、例えば、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法など、公知の各種方法によってそれぞれ製造することができる。このアクリル樹脂の製造においては、通常、重合開始剤が用いられる。重合開始剤は、アクリル樹脂の製造に用いられる全ての単量体の合計１００質量部に対して、０．００１〜５質量部程度使用される。

重合開始剤としては、熱重合開始剤や光重合開始剤などが用いられる。光重合開始剤として、例えば、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトンなどを挙げることができる。熱重合開始剤として、例えば、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１′−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２′−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）などのアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイドなどの有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素などの無機過酸化物などを挙げることができる。また、過酸化物と還元剤を併用したレドックス系開始剤なども、重合開始剤として使用しうる。

アクリル樹脂（Ａ）の製造方法としては、上に示した方法の中でも、溶液重合法が好ましい。溶液重合法の具体例を挙げて説明すると、所望の単量体および有機溶媒を混合し、窒素雰囲気下にて、熱重合開始剤を添加して、４０〜９０℃程度、好ましくは６０〜８０℃程度にて３〜１０時間程度攪拌する方法などを挙げることができる。また、反応を制御するために、単量体や熱重合開始剤を重合中に連続的または間歇的に添加したり、有機溶媒に溶解した状態で添加したりしてもよい。ここで、有機溶媒としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどの脂肪族アルコール類；アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを用いることができる。

粘着剤組成物は、前記アクリル樹脂（Ａ）に加えて、それとは異なるアクリル樹脂を含んでいてもよい。そのようなアクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分とするもの（例えば、ポリメチル（メタ）アクリレート）であって、重量平均分子量が５万〜３０万の範囲にあるような比較的低分子量のものを挙げることができる。

粘着剤組成物が、アクリル樹脂（Ａ）とは異なるアクリル樹脂を含む場合、アクリル樹脂（Ａ）とは異なるアクリル樹脂の含有量は、アクリル樹脂（Ａ）１００質量部に対して、通常５０質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましい。

粘着剤組成物に含有されるアクリル樹脂（２種類以上を組み合わせる場合はそれらの混合物）は、それを酢酸エチルに溶かして固形分濃度２０質量％に調整した溶液が、２５℃において２０Ｐａ・ｓ以下、さらには０．１〜７Ｐａ・ｓの粘度を示すことが好ましい。
このときの粘度が２０Ｐａ・ｓ以下であると、高温高湿下での接着性が向上し、表示素子と粘着剤層との間に浮きや剥れの発生する可能性が低くなる傾向にあり、しかもリワーク性が向上する傾向にあることから好ましい。粘度は、ブルックフィールド粘度計によって測定することができる。

粘着剤組成物において、架橋剤としては、例えば、アクリル樹脂（Ａ）中の特に極性官能基を有する不飽和単量体に由来する構造単位と反応し、アクリル樹脂（Ａ）を架橋させる化合物が用いられる。具体的には、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、金属キレート系化合物などが例示される。これらのうち、イソシアネート系化合物、エポキシ系化合物およびアジリジン系化合物は、アクリル樹脂（Ａ）中の極性官能基と反応しうる官能基を分子内に少なくとも２個有する。

イソシアネート系化合物は、分子内に少なくとも２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物であり、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネートなどが挙げられる。また、これらのイソシアネート化合物に、グリセロールやトリメチロールプロパンなどのポリオールを反応せしめたアダクト体や、イソシアネート化合物を二量体、三量体等にしたものも、粘着剤に用いられる架橋剤となりうる。２種以上のイソシアネート系化合物を混合して用いることもできる。

エポキシ系化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物であり、例えば、ビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサンなどが挙げられる。２種以上のエポキシ系化合物を混合して用いることもできる。

アジリジン系化合物は、エチレンイミンとも呼ばれる１個の窒素原子と２個の炭素原子からなる３員環の骨格を分子内に少なくとも２個有する化合物であり、例えば、ジフェニルメタン−４，４’−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、トルエン−２，４−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、トリエチレンメラミン、イソフタロイルビス−１−（２−メチルアジリジン）、トリス−１−アジリジニルホスフィンオキサイド、ヘキサメチレン−１，６−ビス（１−アジリジンカルボキサミド）、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネートなどが挙げられる。

金属キレート化合物としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロムおよびジルコニウムなどの多価金属に、アセチルアセトンやアセト酢酸エチルが配位した化合物などが挙げられる。

これらの架橋剤の中でも、イソシアネート系化合物、とりわけ、キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート若しくはヘキサメチレンジイソシアネート、またはこれらのイソシアネート化合物を、グリセロールやトリメチロールプロパンなどのポリオールに反応せしめたアダクト体や、イソシアネート化合物を二量体、三量体等にしたものの混合物、これらのイソシアネート系化合物を混合したものなどが、好ましく用いられる。
好適なイソシアネート系化合物として、トリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートをポリオールに反応せしめたアダクト体、トリレンジイソシアネートの二量体、およびトリレンジイソシアネートの三量体、また、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートをポリオールに反応せしめたアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートの二量体、およびヘキサメチレンジイソシアネートの三量体が挙げられる。

本発明において、粘着剤組成物は、前記アクリル樹脂の固形分１００質量部（２種以上のアクリル樹脂を含む場合にはその合計１００質量部）に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、より好ましくは０．０１〜０．０８質量部、さらに好ましくは０．０１〜０．０６質量部の架橋剤を含む。架橋剤の量が０．０１質量部以上であると、粘着剤層の耐久性が向上する傾向にあることから好ましく、また１０質量部以下であると、該粘着剤組成物から得られる粘着剤を液晶表示装置に適用したときの白ヌケが目立たなくなる。

本発明の好適な一実施態様において、粘着剤組成物は前記式（３）を満たす光選択吸収性化合物を含む。上述したように、本発明の光学積層体において、光選択吸収性化合物は光学積層体を構成するいずれの構成部材（層）に含まれていてもよいが、粘着剤層に光選択吸収性化合物を配合することにより保護フィルムを設けることなく光学積層体を構成し得ることから、粘着剤層に光選択吸収性化合物が含まれることは光学積層体の薄層化の観点において有利である。

前記式（３）を満たす光選択吸収性化合物としては、先に説明したような光選択吸収性化合物が挙げられ、式（Ｉ）で表される化合物や式（ＩＩ）で表される化合物等が好適に用いられる。光選択吸収性化合物としては、１種のみを単独で用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。中でも、粘着剤組成物を構成する他の成分や当該粘着剤組成物を溶解させるために用いられる種々の溶媒に対する溶解性が高いため、粘着剤層を形成した後にブリードアウトが生じ難く、また、使用する溶媒の選択肢が広がるといった観点から、式（Ｉ−Ｉ）で表される化合物および式（ＩＩ−Ｉ）で表される化合物がより好ましく、式（Ｉ−ＩＩ）で表される化合物および式（Ｉ−ＩＩＩ）で表される化合物が特に好ましい。これらの化合物は、少量で高い吸収効果を発揮することができるため、高い粘着力を維持したまま４００ｎｍ付近の短波長域に対する高い吸収特性を有する粘着剤層を得ることができる。

粘着剤組成物における光選択吸収性化合物の含有量は、前記アクリル樹脂の固形分１００質量部（２種以上のアクリル樹脂を含む場合にはその合計１００質量部）に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部であり、より好ましくは０．０１質量部以上１０質量部未満であり、さらに好ましくは０．０１〜７質量部であり、ことさら好ましくは０．０１〜５質量部であり、ことさらさらに好ましくは０．０５〜３質量部である。光選択吸収性化合物を前記範囲内の量で含むことにより、４００ｎｍ付近の波長域に高い吸収特性を有する粘着剤層が得られ、高い耐光性を付与することができる。

さらに、本発明において粘着剤組成物は、シラン系化合物を含むことが好ましく、とりわけ、架橋剤を配合する前のアクリル樹脂にシラン系化合物を含有させておくことが好ましい。シラン系化合物はガラスに対する粘着力を向上させるため、シラン系化合物を含むことにより、ガラス基板に挟まれた表示素子と粘着剤層との密着性を向上させることができる。

シラン系化合物としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。２種以上のシラン系化合物を使用してもよい。

シラン系化合物は、シリコーンオリゴマータイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを（単量体）オリゴマーの形式で示すと、例えば、次のようなものを挙げることができる。

３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーなどの、メルカプトプロピル基含有のコポリマー；

メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーなどの、メルカプトメチル基含有のコポリマー；

３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーなどの、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；

３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーなどの、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；

ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、
ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーなどの、ビニル基含有のコポリマー；

３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーなどの、アミノ基含有のコポリマーなど。

これらのシラン系化合物は、多くの場合液体である。粘着剤組成物におけるシラン系化合物の配合量は、アクリル樹脂の固形分１００質量部（２種類以上用いる場合はそれらの合計１００質量部）に対して、通常０．０１〜１０質量部程度であり、好ましくは０．０１〜５質量部の割合で使用される。アクリル樹脂の固形分１００質量部に対するシラン系化合物の量が０．０１質量部以上であると、粘着剤層と表示素子との密着性が向上することから好ましい。また、その量が１０質量部以下であると、粘着剤層からシラン系化合物がブリードアウトすることが抑制される傾向にあることから好ましい。

粘着剤組成物は、さらに、架橋触媒、帯電防止剤、耐候安定剤、タッキファイヤー、可塑剤、軟化剤、染料、顔料、無機フィラー、アクリル樹脂以外の樹脂などを含んでいてもよい。また、粘着剤組成物に紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層形成後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着剤層とするのも有用である。中でも、粘着剤組成物に架橋剤とともに架橋触媒を配合すれば、粘着剤層を短時間の熟成で調製することができ、得られる光学積層体において、偏光板や保護フィルム等と粘着剤層との間に浮きや剥れが発生したり粘着剤層内で発泡が起こったりすることを抑制でき、またリワーク性も良好になることがある。架橋触媒としては、例えば、ヘキサメチレンジアミン、エチレンジアミン、ポリエチレンイミン、ヘキサメチレンテトラミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、イソホロンジアミン、トリメチレンジアミン、ポリアミノ樹脂、メラミン樹脂などのアミン系化合物などを挙げることができる。粘着剤組成物に架橋触媒としてアミン系化合物を配合する場合、架橋剤としてはイソシアネート系化合物が好適である。

粘着剤を構成する前記各成分は、溶媒に溶かした状態で粘着剤組成物を構成していてもよい。かかる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶媒；アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；および、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶媒が挙げられる。中でも、各成分の溶解性、および環境負荷低減の観点から、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。

粘着剤層は、例えば上述したような粘着剤組成物を有機溶剤溶液とし、それを積層しようとするフィルムまたは層（例えば偏光板や保護フィルム等）上にダイコータやグラビアコータなどによって塗布し、乾燥させる方法によって設けることができる。また、離型処理が施されたプラスチックフィルム（セパレートフィルムと呼ばれる）上に形成されたシート状粘着剤を、積層しようとするフィルムまたは層に転写する方法によっても設けることができる。粘着剤層の厚みは特に限定されないが、通常は３０μｍ以下であるのが好ましく、また３μｍ以上であるのが好ましく、さらに好ましくは３〜２０μｍである。粘着剤層の厚みが３０μｍ以下であると、高温高湿下での接着性が向上し、表示素子と粘着剤層との間に浮きや剥れの発生する可能性が低くなる傾向にあり、しかもリワーク性が向上する傾向にあることから好ましく、またその厚みが３μｍ以上であると、そこに貼合されている光学フィルムの寸法が変化しても、その寸法変化に粘着剤層が追随して変動するので、液晶セル（表示素子）の周縁部の明るさと中心部の明るさとの間に差がなくなり、白抜けや色ムラが抑制される傾向にあることから好ましい。

〔光学フィルム〕
本発明の光学積層体において、例えば、前記粘着剤層が偏光板や位相差フィルム等の光学フィルム上に積層され、該粘着剤層を介して光学フィルムが表示素子に貼着され光学積層体を構成する。ここで、偏光板とは、自然光などの入射光に対して、偏光を出射する機能を持つ光学フィルムである。偏光板には、フィルム面に入射するある方向の振動面を有する直線偏光を吸収し、それと直交する振動面を有する直線偏光を透過する性質を有する直線偏光板、フィルム面に入射するある方向の振動面を有する直線偏光を反射し、それと直交する振動面を有する直線偏光を透過する性質を有する偏光分離フィルム、偏光板と後述する位相差フィルムを積層した楕円偏光板などがある。偏光板、特に直線偏光板（偏光子と呼ばれることもある）の好適な具体例として、一軸延伸されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムや重合性液晶化合物の重合体にヨウ素や二色性染料などの二色性色素が吸着配向されているものが挙げられる。

位相差フィルムとは、光学異方性を示す光学フィルムであって、例えば、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリビニリデンフルオライド／ポリメチルメタクリレート、アセチルセルロース、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリ塩化ビニルなどからなる高分子フィルムを１．０１〜６倍程度に延伸することにより得られる延伸フィルムなどが挙げられる。中でも、ポリカーボネートフィルムやシクロオレフィン系樹脂フィルムを一軸延伸または二軸延伸した高分子フィルムが好ましい。

また、本発明の光学積層体が位相差フィルムを含む場合、重合性液晶化合物の塗布・配向よって光学異方性を発現させた位相差フィルムを含むことが薄型化の観点から好ましい。

さらに、本発明の光学積層体が位相差フィルムを含む場合、位相差フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での面内位相差値の方が長波長での面内位相差値よりも大きくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式（６）および式（７）を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （６）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （７）
本発明の光学積層体において、位相差フィルムが逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、前記式（６）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。

本発明の光学積層体において、位相差フィルムは重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層（以下、「光学異方性層」と称する場合がある）であることが好ましい。重合性液晶化合物としては、前述した逆波長分散性を発現する点、また、波長３４０ｎｍ〜４００ｎｍに極大吸収を有するという点で下記式（Ｂ−１）の構造が特に好ましい。
下記式（Ｂ−１）のような構造を有する重合性液晶化合物であれば、短波長のＵＶ光も吸収可能なため、さらに十分なＵＶ吸収特性を示し、表示装置の劣化を抑制する事ができる。

式（Ｂ−１）において、Ａｒは２価の芳香族基であり、該芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも一つ以上含み、
Ｇは、２価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−（メチレン基）は、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮＨ−に置換されていてもよく、
Ｂは、単結合または２価の連結基を表し、
Ａは、炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基および該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、フッ素原子で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮＲ^１−で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置換されていてもよく、Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、
ｋは、０〜３の整数を表し、ここで、ｋが２以上の整数である場合、複数のＡおよびＢは、互いに同一であっても異なっていてもよく、
Ｅは、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−またはＣＯ−で置換されていてもよく、
Ｐは、重合性基を表す。

式（Ｂ−１）において、Ａｒで表される２価の芳香族基は、逆波長分散性発現の観点から、複素環を有する芳香族基であることが好ましく、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも一つ以上含み、例えばフラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、フェナンスロリン環等を有する芳香族基が挙げられる。なかでも、複素環を有する芳香族基はベンゼン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環を有する芳香族基がより好ましく、ベンゾチアゾール基を有する芳香族基がさらに好ましい。また、Ａｒにおける芳香族環に含まれる窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

該芳香族環に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは、逆波長分散性発現の観点から、好ましくは１０以上、より好ましくは１２以上、さらに好ましくは１４以上であり、好ましくは３０以下、より好ましくは２５以下である。

Ａｒで表される芳香族環としては、例えば以下の基が挙げられる。

［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ^１、Ｑ^２およびＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^２’Ｒ^３’−、−Ｓ−、−ＮＲ^２’−、−ＣＯ−またはＯ−を表す。
Ｒ^２’およびＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。
Ｗ^１およびＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子が好ましい。

炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられ、炭素数１〜４のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルチオ基がより好ましく、メチルチオ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられ、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

Ｚ^０、Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基またはＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。

Ｒ^２’およびＲ^３’における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｑ^１およびＱ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−であることが好ましく、Ｑ^３は、−Ｓ−、−ＣＯ−であることが好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含み、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基が好ましい。

かかる芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルチオ基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基および炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。

式（Ａｒ−１４）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環、ピペリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子およびＺ^０と共に、後述する置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３、それぞれ独立に、式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表されるいずれかの基であることが好ましく、式（Ｙ^１−１）又は式（Ｙ^１−４）で表されるいずれかの基であることがより好ましい。

［式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^３は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロキシキド基、スルホン基、スルホキシド基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基又は炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基を表す。
Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ^４−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ_２−を表す。
Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−Ｃ＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
Ｒ^４は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。］

式（Ｙ^１−１）〜式（Ｙ^１−７）で表されるいずれかの基は、式（Ｙ^２−１）〜式（Ｙ^２−１６）で表されるいずれかの基であることが好ましく、式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）で表されるいずれかの基であることがより好ましく、式（Ｙ^３−１）又は式（Ｙ^３−３）で表される基であることが特に好ましい。
下記式（Ｙ^２−１）〜式（Ｙ^２−１６）中、Ｚ^３、ａ、ｂ、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５は、上記と同じ意味を表す。

上記式（Ｙ^３−１）〜式（Ｙ^３−６）において、Ｚ^３、ａ、ｂ、Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１は、上記と同じ意味を表す。
Ｚ^３としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、ニトロキシキド基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、チオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。

Ｖ^１及びＶ^２は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ^４−または−Ｏ−であることが好ましい。
Ｗ^１〜Ｗ^５は、それぞれ独立に、−Ｃ＝又は−Ｎ＝であることが好ましい。
Ｖ^１、Ｖ^２及びＷ^１〜Ｗ^５のうち少なくとも１つは、Ｓ、ＮまたはＯを含む基を表すことが好ましい。
ａは０又は１であることが好ましい。ｂは０であることが好ましい。

式（Ｂ−１）においてＧは、２価の脂環式炭化水素基であり、その炭素数は例えば３〜３０、好ましくは３〜２０、より好ましくは４〜１５、さらに好ましくは５〜１０である。２価の脂環式炭化水素基としては、シクロアルカンジイル基等が挙げられる。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−（メチレン基）は、−Ｏ−、−Ｓ−、またはＮＨ−に置換されていてもよい。

炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

炭素数１〜４のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられ、炭素数１〜３のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

炭素数１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられ、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−４）で表される基が挙げられる。脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮ（Ｒ^５’）−に置き換わった２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−５）〜式（ｇ−８）で表される基が挙げられる。Ｒ^５’は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−が、−Ｎ（−）−に置き換わった２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−９）〜式（ｇ−１０）で表される基が挙げられる。５員環または６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。

２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−１）で表される基であることが好ましく、１，４−シクロヘキサンジイル基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロへキサンジイル基であることが特に好ましい。

式（Ｂ−１）においてＢは、単結合または２価の連結基である。２価の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−ＣＲ^８’Ｒ^９’−、−Ｏ−ＣＲ^６’Ｒ^７’−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−Ｏ−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−Ｏ−ＣＲ^８’Ｒ^９’−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^６’Ｒ^７’−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^８’Ｒ^９’−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^８’Ｒ^９’−、−ＮＲ^１０’−ＣＲ^６’Ｒ^７’−、−ＣＲ^６’Ｒ^７’−ＮＲ^１０’−、−ＣＯ−ＮＲ^１０’−、−ＮＲ^１０’−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^１０’−、−ＣＲ^６’＝ＣＲ^７’−等が挙げられる。Ｒ^６’、Ｒ^７’、Ｒ^８’およびＲ^９’は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^１０’は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｂが、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−ＣＲ^６’Ｒ^７’−、−ＮＲ^１０’−ＣＲ^６’Ｒ^７’−またはＮＲ^１０’−ＣＯ−であることが好ましい。Ｄ^１およびＤ^２が、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−またはＮＲ^１０−ＣＯ−であることがより好ましい。Ｒ^６’、Ｒ^７’、Ｒ^８’およびＲ^９’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基またはエチル基であることがより好ましい。Ｒ^１０’は、水素原子、メチル基またはエチル基であることが好ましい。

式（Ｂ−１）においてＡは、炭素数３〜２０の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表し、好ましくは炭素数４〜１５の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜１５の２価の芳香族炭化水素基を表し、より好ましくは炭素数５〜１２の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基を表し、さらに好ましくは炭素数６〜１０の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜１０の２価の芳香族炭化水素基を表す。５員環または６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。

該脂環式炭化水素基および該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；シアノ基；ニトロ基；で置換されていてもよい。該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮＲ^１１’−で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置換されていてもよく、ここでＲ^１１’は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。

２価の脂環式炭化水素基としては、例えば上記式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される基が挙げられる。

２価の脂環式炭化水素基としては、式（ｇ−１）で表される基であることが好ましく、１，４−シクロヘキサンジイル基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロへキサンジイル基であることが特に好ましい。

２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される基が挙げられる。

２価の芳香族炭化水素基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。

式（Ｂ−１）においてｋは、０〜３の整数を表し、好ましくは１または２であり、より好ましくは１である。なお、ｋが２以上の整数である場合、複数のＡおよびＢは、互いに同一であっても異なっていてもよい。式（Ｂ−１）で表される重合性液晶化合物を工業的に得やすい観点からは、複数のＡおよびＢは互いに同一であることが好ましい。

式（Ｂ−１）においてＥは、炭素数１〜１７、好ましくは２〜１５、より好ましくは３〜１２、さらに好ましくは４〜１０のアルカンジイル基を表す。該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−またはＣＯ−で置換されていてもよい。

式（Ｂ−１）で表される重合性液晶化合物としては、例えば以下の化合物が挙げられる。かかる重合性液晶化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差フィルムを製造する場合、基材、または基材上に形成された配向膜上に、重合性液晶化合物を、場合によっては溶剤で希釈して含有する組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」ともいう）を塗布し、場合によっては溶剤を乾燥後に重合させることによって重合性液晶化合物の配向状態における重合体が得られる。重合性液晶化合物が配向状態を維持したまま重合することにより、配向状態を維持した液晶硬化膜が得られ、かかる液晶硬化膜が位相差フィルムを構成する。

位相差フィルム中の重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶化合物の配向性を高くするという観点から、光学異方性層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは８０〜９４質量部であり、さらに好ましくは８０〜９０質量部である。本明細書における固形分とは、光学異方性層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

光学異方性層形成用組成物は重合性液晶化合物の他に溶剤、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤等の公知の成分を含んでいてもよい。

［溶剤］
溶剤としては、重合性液晶化合物等の光学異方性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤が好ましく、重合性液晶化合物等の光学異方性層形成用組成物の構成成分を溶解し得る溶剤であって、且つ重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；が挙げられる。二種以上の有機溶剤を組み合わせて用いてもよい。中でも、アルコール溶剤、エステル溶剤、ケトン溶剤、非塩素化脂肪族炭化水素溶剤および非塩素化芳香族炭化水素溶剤が好ましい。

溶剤の含有量は、光学異方性層形成用組成物の固形分１００質量部に対して、１０〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは１００〜５０００質量部である。光学異方性層形成用組成物中の固形分濃度は、好ましくは２〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。”固形分”とは、光学異方性層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計を意味する。

［光重合開始剤］
光重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生するものが好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、α−アセトフェノン化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオール（登録商標）ＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマー（登録商標）ＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）およびＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）等が挙げられる。中でも、α−アセトフェノン化合物が好ましく、α−アセトフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）およびセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜３８０ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３６０ｎｍであるとより好ましい。

重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。

［重合禁止剤］
重合禁止剤は、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、メトキノン、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、およびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。
重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。

［光増感剤］
光増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部である。

［レベリング剤］
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）が挙げられる。２種以上のレベリング剤を組み合わせてもよい。

レベリング剤を用いることにより、より平滑な光学異方性層を形成することができる。
また、光学異方性層を有する光学フィルムの製造過程で、光学異方性層形成用組成物の流動性を制御したり、位相差フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．１〜１０質量部である。

さらに、これら光学フィルムに保護フィルムが貼着されたものも、光学フィルムとして用いることができる。保護フィルムとしては、透明な樹脂フィルムが用いられ、その透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースに代表されるアセチルセルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレートに代表されるメタクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリスルホン樹脂などが挙げられる。保護フィルムを構成する樹脂としては、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などの一般的な紫外線吸収剤が添加されたフィルムが好ましく、本件の光学積層体の発明効果との相乗効果により表示装置の劣化を好適に抑制することができる。保護フィルムとしては、トリアセチルセルロースフィルムなどのアセチルセルロース系樹脂フィルムが好適に用いられる。

偏光板や位相差フィルムに接着されない保護フィルムの面は表面処理層を有していてもよく、例えば、ハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層等を有していてもよい。

上述した光学フィルムの中でも、直線偏光板は、それを構成する偏光子、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂からなる偏光子の片面または両面に、保護フィルムが貼着された状態で用いられることが多い。通常、その一方の面に粘着剤層が形成される。また、直線偏光板と位相差フィルムを積層した楕円偏光板は、偏光子の片面または両面に、保護フィルムが貼着された状態であることが多い。このような楕円偏光板に粘着剤層を形成する場合は、通常、その位相差フィルム側に粘着剤層が形成される。また、光学フィルムの表面を傷や汚れから保護する目的で、前記偏光板の粘着剤層とは反対側の面には、表示素子などに貼着された後剥離除去されるプロテクトフィルムが貼着されていてもよい。

また、本発明の光学積層体において、その粘着剤層表面には、剥離フィルムを貼着し、使用時まで仮着保護するのが好ましい。ここで用いる剥離フィルムは、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレートの如き各種樹脂からなるフィルムを基材とし、この基材の粘着剤層との接合面に、シリコーン処理の如き離型処理が施されたものなどであることができる。

本発明の光学積層体は、例えば、上記のような剥離フィルムの上に、先に説明した粘着剤組成物を塗布して粘着剤層を形成し、得られた粘着剤層にさらに光学フィルムを積層する方法、光学フィルムの上に粘着剤組成物を塗布して粘着剤層を形成し、その粘着剤面に剥離フィルムを貼り合わせて保護し、光学積層体とする方法などにより、製造できる。

本発明の光学積層体の厚さは、薄層化の観点から、好ましくは５０〜５００μｍであり、より好ましくは５０〜３００μｍ、さらに好ましくは５０〜１００μｍである。本発明の好適な一実施態様においては、光選択吸収性化合物を粘着剤層に含ませることにより、保護フィルムを設けない薄層の光学積層体を提供し得る。

別の実施態様において、本発明は、本発明の前記光学積層体を含む表示装置を提供する。本発明の表示装置は、本発明の光学積層体を含むことにより、４００ｎｍ付近の波長域に高い光選択吸収性を示し、高い耐光性を有する。これにより、表示装置を構成する光学フィルム等の構成部材の劣化が抑制される。一方、４２０ｎｍ付近の波長域は吸収し難いため、４２０ｎｍを超える波長域の青色光を阻害することなく色彩表現に優れることから、表示装置に良好な表示特性を付与し得る。

以下、実施例および比較例により本発明をさらに詳細に説明する。実施例および比較例中の「％」および「部」は、特記しない限り、「質量％」および「質量部」である。

また、以下の例において、重量平均分子量および数平均分子量の測定は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）装置（ＧＰＣ−８１２０、東ソー（株）製）にカラムとして、４本の「ＴＳＫ ｇｅｌ ＸＬ（東ソー（株）製）」、及び「Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０２（昭和電工（株）製）」を１本、計５本を直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用いて、試料濃度５ｍｇ／ｍＬ、試料導入量１００μＬ、温度４０℃、流速１ｍＬ／分の条件で行い、標準ポリスチレン換算により算出した。

＜アクリル樹脂の調製＞
表１に示す組成に従い、以下の方法により、アクリル樹脂（Ａ）およびアクリル樹脂（Ｂ）を調製した。

［重合例１］：アクリル樹脂（Ａ）の調製
冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、単量体（Ａ−１）としてアクリル酸ブチル７０．４部、アクリル酸メチル２０．０部、およびアクリル酸２−フェノキシエチル８．０部、単量体（Ａ−２）としてアクリル酸２−ヒドロキシエチル１．０部、単量体（Ａ−３）としてアクリル酸０．６部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。開始剤の添加した後１時間この温度で保持し、次いで内温を５４〜５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られたアクリル樹脂は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが１４２万、Ｍｗ／Ｍｎが５．２であった。これをアクリル樹脂（Ａ）とする。

［重合例２］：アクリル樹脂（Ｂ）の調製
冷却管、窒素導入管、温度計および攪拌機を備えた反応容器に、溶媒として酢酸エチル８１．８部、単量体（Ａ−１）としてアクリル酸ブチル９６．０部および単量体（Ａ−３）としてアクリル酸４．０部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を５５℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤）０．１４部を酢酸エチル１０部に溶かした溶液を全量添加した。開始剤の添加した後１時間この温度で保持し、次に内温を５４〜５６℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度１７．３部／ｈｒで反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が３５％となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から１２時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル樹脂の濃度が２０％となるように調節し、アクリル樹脂の酢酸エチル溶液を調製した。得られたアクリル樹脂は、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが７５万６０００、Ｍｗ／Ｍｎが４．１であった。これをアクリル樹脂（Ｂ）とする。

表１中、単量体組成の欄にある符号は、それぞれ次の単量体を意味する。
［単量体（Ａ−１）］
ＢＡ ：アクリル酸ブチル
ＭＡ ：アクリル酸メチル
ＰＥＡ ：アクリル酸２−フェノキシエチル
［単量体（Ａ−２）］
ＨＥＡ ：アクリル酸２−ヒドロキシエチル
［単量体（Ａ−３）］
ＡＡ ：アクリル酸

前記で製造したアクリル樹脂を用いて粘着剤組成物を調製し、それを用いて実施例および比較例の光学フィルムを作製した。架橋剤、シラン化合物および光選択吸収性化合物として、それぞれ次のものを使用した。

［架橋剤（Ｂ）］
コロネートＬ：トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５％）、日本ポリウレタン株式会社製。
タケネートＤ−１１０Ｎ：キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物の酢酸エチル溶液（固形分濃度７５％）、三井化学株式会社製（以下、「Ｄ１１０Ｎ」と略記する）。

［シラン化合物］
ＫＢＭ−４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、液体、信越化学工業株式会社製（以下、「ＫＢＭ−４０３」と略記する）。

［光選択吸収性化合物（紫外線吸収剤）］
ＫＥＭＩＳＯＲＢ １１１〔λｍａｘ＝３５２ｎｍ、ε（４００）＝３．６Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０８〕：２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、固体、ケミプロ化成株式会社製（以下、「ＫＥＭＩＳＯＲＢ １１１」と略記する）。
ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３〔λｍａｘ＝３５３ｎｍ、ε（４００）＝３．８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０１未満〕：２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、固体、ケミプロ化成株式会社製（以下、「ＫＥＭＩＳＯＲＢ ７３」と略記する）。
ＳＵＭＩＳＯＲＢ ３００〔λｍａｘ＝３５４ｎｍ、ε（４００）＝５．１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．２〕：２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、固体、住化ケムテックス株式会社製（以下、「ＳＵＭＩＳＯＲＢ ３００」と略記する）。
ＫＥＭＩＳＯＲＢ １０〔λｍａｘ＝３２６ｎｍ、ε（４００）＝０．２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０９〕：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、固体、ケミプロ化成株式会社製（以下、「ＫＥＭＩＳＯＲＢ １０」と略記する）。
ＫＥＭＩＳＯＲＢ １１〔λｍａｘ＝３２８ｎｍ、ε（４００）＝０．４０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．１〕：２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、固体、ケミプロ化成株式会社製（以下、「ＫＥＭＩＳＯＲＢ １１」と略記する）。
ＫＥＭＩＳＯＲＢ １２〔λｍａｘ＝３２７ｎｍ、ε（４００）＝０．２０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０８〕：２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、固体、ケミプロ化成株式会社製（以下、「ＫＥＭＩＳＯＲＢ １２」と略記する）。
Ｔｉｎｕｖｉｎ ４６０〔λｍａｘ＝３４８ｎｍ、ε（４００）＝０．６０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０８〕：２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン、固体、ＢＡＳＦジャパン株式会社製（以下、「Ｔｉｎｕｖｉｎ ４６０」と略記する）。
Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７７〔λｍａｘ＝３５６ｎｍ、ε（４００）＝０．８０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０７〕：固体、ＢＡＳＦジャパン株式会社製（以下、「Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７７」と略記する）。
Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７９〔λｍａｘ＝３２０ｎｍ、ε（４００）＝０．３０Ｌ／（ｇ・ｃｍ）、ε（４２０）／ε（４００）＝０．０９〕：固体、ＢＡＳＦジャパン株式会社製（以下、「Ｔｉｎｕｖｉｎ ４７９」と略記する）。

＜光選択吸収性化合物の合成＞
［合成例１］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド２．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）０．７２ｇ、シアノ酢酸ブチル（東京化成工業株式会社製）１．３ｇ、１−ブタノール（和光純薬工業株式会社製）８ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。反応終了後に室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０１を２．７ｇ得た。収率は８７％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８６ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は５９Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．１５であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０１が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： ０．９４（ｔ、３Ｈ）、１．４２（ｓｅｘｔ、２Ｈ）、１．６９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．７１（ｓ、３Ｈ）、４．２３（ｔ、２Ｈ）、７．４０−７．４３（ｍ、５Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、３Ｈ）、８．１４（ｓ、１Ｈ）、８．４５−８．４７（ｍ、１Ｈ）

［合成例２］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２粉末１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．７ｇ、シアノ酢酸２−エトキシエチル（東京化成工業株式会社製）５．８ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。内温２５℃にてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＰＥＡと略す。東京化成工業株式会社製）４．７ｇを滴下漏斗から１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、得られた油状物にトルエンを加えて生成した不溶成分を濾過で取り除いた。減圧エバポレーターを用いて濾液を再度濃縮し、濃縮後の溶液をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、トルエン中から再結晶することで目的物を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０２を５．２ｇ得た。収率は６５％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は１２５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．０１５であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０２が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．２１（ｔ、３Ｈ）、２．１０（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、２．９８−３．０４（ｍ、５Ｈ）、３．５４−３．７２（ｍ、６Ｈ）、４．３１（ｔ、２Ｈ）、５．５３（ｄ、２Ｈ）、７．９３（ｄ、２Ｈ）

［合成例３］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド３．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．２ｇ、シアノ酢酸２−エトキシエチル（東京化成工業株式会社製）２．２ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）１２ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。反応終了後に室温まで冷却し、減圧エバポレーターでアセトニトリルを除去した。得られた粗結晶をトルエンに溶解し、該トルエン溶液を分液漏斗中で１％塩酸によって計２回分液洗浄し、続いて純水で水層ｐＨが＞６になるまで分液洗浄した。洗浄後のトルエン溶液を芒硝で乾燥後、減圧エバポレーターを用いてトルエンを除去し、得られた結晶を６０℃減圧乾燥することでＵＶＡ−０３を黄色粉末として４．０ｇ得た。収率は８４％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８６ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は５１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．１７であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０３が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．２１（ｔ、３Ｈ）、３．５６（ｑ、２Ｈ）、３．６９−３．７３（ｍ、５Ｈ）、４．３７（ｍ、２Ｈ）、７．３６−７．４４（ｍ、５Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、３Ｈ）、８．４２−８．４６（ｍ、１Ｈ）

［合成例４］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２粉末１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸２−エチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）６．９ｇ、およびアセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）６０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで撹拌した。内温２５℃にてＤＩＰＥＡ（東京化成工業株式会社製）４．５ｇを滴下漏斗から１時間かけて滴下し、滴下終了後に内温２５℃にてさらに２時間保温した。反応終了後、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製し、ＵＶＡ−０４を含む流出液を、減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去し、黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０４を４．６ｇ得た。収率は５０％であった。分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて吸収極大波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は１０８Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．０１３であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０４が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：０．８７−０．９４（ｍ、６Ｈ）、１．３２−１．６７（ｍ、８Ｈ）、１．５９−１．６６（ｍ、２Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．００（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、２Ｈ）、７．８７（ｄ、２Ｈ）

［合成例５］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド１０．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）３．６ｇ、シアノ酢酸（東京化成工業株式会社製）４．０ｇ、エタノール（和光純薬工業株式会社製）４０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて２４時間保温した。反応終了後に室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−Ｍ−０３を１０ｇ得た。収率は７８％であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−Ｍ−０３が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ： ３．７１（ｓ、３Ｈ）、７．３４−７．４２（ｍ、２Ｈ）、７．５１−７．９５（ｍ、６Ｈ）、８．２６−８．２９（ｍ、１Ｈ）

［合成例６］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、合成例５で得られたＵＶＡ−Ｍ−０３粉末２．０ｇ、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（東京化成工業株式会社製）１．２ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ、東京化成工業株式会社製）２０ｍｇ、クロロホルム８ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌し、氷浴で内温０℃まで冷却した。１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ、東京化成工業株式会社製）１．４ｇ、をクロロホルム２．０ｇに溶解し、内温０℃に保ったフラスコ内へ該溶液を滴下漏斗から２時間かけて滴下し、滴下終了後に０℃でさらに６時間保温した。反応終了後に減圧エバポレーターを用いてクロロホルムを除去し、得られた油状物を酢酸エチルに溶解し、分液漏斗中、１０％希硫酸で分液洗浄し、続いて純水で酢酸エチル溶液を水層ｐＨが＞６になるまで分液洗浄した。洗浄後の有機層を芒硝で乾燥し、芒硝を除去した後に減圧エバポレーターで酢酸エチルを除去することで、目的化合物ＵＶＡ−０５を黄色油状物として２．５ｇ得た。収率は８３％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８７ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は５１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．１６であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０５が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．２６（ｔ、１Ｈ）、２．０４（ｓ、１Ｈ）、３．３７（ｓ、３Ｈ）、３．６４−３．７１（ｍ、１２Ｈ）、４．３７（ｄｄ、２Ｈ）、７．３５−７．４６（ｍ、５Ｈ）、７．５４−７．５９（ｍ、３Ｈ）、８．４２−８．４６（ｍ、１Ｈ）

［合成例７］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド３．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．２ｇ、シアノ酢酸２−エチルヘキシル（東京化成工業株式会社製）２．８ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）１２ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。反応終了後に室温まで冷却し、減圧エバポレーターでアセトニトリルを除去した。得られた油状物を酢酸エチルに溶解し、該酢酸エチル溶液を分液漏斗中で１％塩酸によって計２回分液洗浄し、続いて純水で水層ｐＨが＞６になるまで分液洗浄した。洗浄後の酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥後、減圧エバポレーターを用いて酢酸エチルを除去し、橙色油状物としてＵＶＡ−０６を５．５ｇ得た。収率は１０４％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８６ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は４３Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．１４であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０６が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： ０．９０（ｔ、６Ｈ）、１．０３−１．６２（ｍ、１０Ｈ）、２．３５（ｓ、１Ｈ）、３．７２（ｓ、３Ｈ）、４．１３（ｑ、２Ｈ）、７．１６−７．２６（ｍ、１Ｈ）、７．３６−７．４４（ｍ、４Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、２Ｈ）、８．４４−８．４９（ｍ、１Ｈ）

［合成例８］

ジムロート冷却管、温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、特許文献（特開２０１４−１９４５０８）を参考に合成したＵＶＡ−Ｍ−０２粉末１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業株式会社製）６．３ｇ、メルドラム酸（東京化成工業株式会社製）４．４ｇ、トリエチルアミン（和光純薬工業株式会社製）６．３ｇ、アセトニトリル（和光純薬工業株式会社製）１３０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスを用いて内温７８℃に加温し、３０分間保温した。反応終了後、内温を室温まで冷却し、減圧エバポレーターを用いてアセトニトリルを除去し、得られた油状物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して精製した。目的化合物を含んだカラム溶出液に対し、再度減圧エバポレーターを用いて溶媒を除去することで黄色結晶を得た。該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０７を１．５ｇ得た。収率は２０％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は１２９Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．０３９であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０７が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：１．７０（ｓ、６Ｈ）、２．１６（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．１５−３．２２（ｍ、５Ｈ）、３．７７（ｔ、２Ｈ）、６．９５（ｄ、２Ｈ）、８．１０（ｄ、２Ｈ）

［合成例９］

特許文献（ＤＥ１０１ ０９ ２４３ Ａ１）記載の方法に従い、ＵＶＡ−Ｍ−０２を合成した。精製はカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）に供して行った。分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８９ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は１５１Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．０１９であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０８が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．３１（ｔ、３Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、３．０１（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．２３（ｑ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、１Ｈ）、７．９２（ｄ、１Ｈ）

［合成例１０］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド５．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．８ｇ、マロノニトリル（東京化成工業株式会社製）１．５ｇ、エタノール（和光純薬工業株式会社製）２０ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。反応終了後に室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−０９を４．９ｇ得た。収率は８２％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３９２ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は１１５Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．２１であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−０９が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： ３．７１（ｓ、３Ｈ）、７．３４−７．３８（ｍ、２Ｈ）、７．４４−７．４７（ｍ、４Ｈ）、７．６０−７．６３（ｍ、３Ｈ）、８．３７−８．４０（ｍ、１Ｈ）

［合成例１１］

ジムロート冷却管、温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内を窒素雰囲気とし、２−フェニル−１−メチルインドール−３−カルボキシアルデヒド３．０ｇ、ピペリジン（和光純薬工業株式会社製）１．１ｇ、シアノ酢酸エチル（東京化成工業株式会社製）１．６ｇ、エタノール（和光純薬工業株式会社製）１２ｇを仕込み、マグネチックスターラーで攪拌した。オイルバスで加温し、内温８０℃にて１８時間保温した。反応終了後に室温まで冷却し、析出した結晶を濾取し、該結晶を６０℃減圧乾燥することにより、黄色粉末としてＵＶＡ−１０を３．６ｇ得た。収率は８５％であった。また、分光光度計ＵＶ−３１５０（株式会社島津製作所製）を用いて極大吸収波長（λｍａｘ）を測定したところ、λｍａｘ＝３８６ｎｍ（２−ブタノン中）であり、ε（４００）の値は６６Ｌ／（ｇ・ｃｍ）であり、ε（４２０）／ε（４００）の値は０．１５であった。

^１Ｈ−ＮＭＲ解析を行ったところ、以下のピークが観測されたことから、化合物ＵＶＡ−１０が生成したことが確認された。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ： １．３４（ｔ、３Ｈ）、３．７２（ｓ、３Ｈ）、４．２９（ｑ、２Ｈ）、７．３８−７．４３（ｍ、５Ｈ）、７．５６−７．５８（ｍ、３Ｈ）、８．１５（ｓ、１Ｈ）、８．４１−８．４７（ｍ、１Ｈ）

＜粘着剤組成物および粘着剤シートの調製＞
（ａ）粘着剤組成物の調製（製造例１〜３９）
下記表２に記載のアクリル樹脂、光選択吸収性化合物（紫外線吸収剤）、架橋剤およびシラン化合物を混合し、粘着剤組成物を作製した。なお、表２中の各成分の添加量は、前記重合例１〜１１で作製したアクリル樹脂中の固形分１００質量部に対する質量部である。また、架橋剤および光選択吸収性化合物は、それぞれ２−ブタノン溶液としてアクリル樹脂中に添加した。

（ａ−１）製造例１〜２４の粘着剤組成物の調製
表２に示す処方に従い、アクリル樹脂（Ａ）の固形分１００質量部に対し、架橋剤、シラン化合物および光選択吸収性化合物を、表２に示すそれぞれの量で配合した。さらに固形分濃度が１４％となるように２−ブタノンを添加し、攪拌機（ヤマト科学株式会社製スリーワンモーター）を用いて、３００ｒｐｍで３０分間攪拌混合し、各粘着剤組成物を調製した。

（ａ−２）製造例２５〜３９の粘着剤組成物の調製
アクリル樹脂（Ａ）を、アクリル樹脂（Ｂ）に変更した以外は、前記製造例１〜２４と同じ方法により、表２に示す処方に従い各粘着剤組成物を調製した。

（ｂ）粘着剤シートの作製
離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製ＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０、以下、「セパレーター」と略記する）の離型処理面に、前記の（ａ）で調製したそれぞれの粘着剤組成物を、乾燥後の粘着剤層の厚さが２０μｍとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥させて粘着剤シートを作製した。

＜光学積層体の作製（実施例１〜３１、比較例１〜６ならびに参考例１および２）＞
光学積層体の作成に用いたポリマーフィルム、装置および測定方法は、以下のとおりである。
・シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムには、日本ゼオン株式会社製のＺＦ−１４を用いた。
・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を用いた。
・コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
・偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７を用いた。
・レーザー顕微鏡には、オリンパス株式会社製のＬＥＸＴを用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａを用いた。
・面内位相差値は、複屈折測定装置（王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定した。
・膜厚は、日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ−２２０を用いて測定した。

光学異方性層や積層体等の製造には、以下に示す「光配向膜形成用組成物」、「ラビング配向性ポリマー組成物」、「重合性液晶化合物を含む組成物」、および「偏光板」を用いた。

＜光配向膜形成用組成物の調製＞
下記構造の光配向性材料５部とシクロペンタノン（溶剤）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物を得た。下記光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。

＜重合性液晶化合物を含む組成物Ａの調製＞
下記構造の重合性液晶化合物Ａと、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）と、下記の重合開始剤と溶剤を成分として混合し、重合性液晶化合物を含む組成物を得た。
重合性液晶化合物Ａ（１２．０部）：

重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で合成した。重合性液晶化合物Ａの極大吸収波長λｍａｘ（ＬＣ）は、３５０ｎｍであった。
重合開始剤（０．７２部）：２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）
レベリング剤（０．１２部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
溶剤：シクロペンタノン（１００部）

〔実施例１〕
＜偏光板の製造＞
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、乾式延伸により約４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０４４／５．７／１００である染色水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００であるホウ酸水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み１２μｍの偏光子を得た。

得られた偏光子と、シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ、日本ゼオン株式会社製 ＺＦ−４ ＵＶ吸収特性無し ３０μｍ）の間に水系接着剤を注入し、ニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてシクロオレフィンフィルムを有する４２μｍの偏光板を得た。なお、上記水系接着剤は、水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製；クラレポバール ＫＬ３１８）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス株式会社製；スミレーズレジン６５０；固形分濃度３０％の水溶液）１．５部とを添加して調製した。

以下のようにして、得られた偏光板の偏光度Ｐｙおよび単体透過率Ｔｙを測定した。
透過軸方向の単体透過率（Ｔ^１）および吸収軸方向の単体透過率（Ｔ^２）を、分光光度計（ＵＶ−３１５０；株式会社島津製作所製）に偏光子付フォルダーをセットした装置を用いて、ダブルビーム法により２ｎｍステップ３８０〜６８０ｎｍの波長範囲で測定した。下記式（ｐ）ならびに（ｑ）を用いて、各波長における単体透過率、偏光度を算出し、さらにＪＩＳ Ｚ８７０１の２度視野(Ｃ光源)により視感度補正を行い、視感度補正単体透過率（Ｔｙ）および視感度補正偏光度（Ｐｙ）を算出した。その結果、視感度補正単体透過率Ｔｙが４３．０％、視感度補正偏光度Ｐｙが９９．９９％の吸収型偏光板を得た。
単体透過率Ｔｙ（％）＝｛（Ｔ^１＋Ｔ^２）／２｝×１００ （ｐ）
偏光度Ｐｙ（％）＝｛（Ｔ^１−Ｔ^２）／（Ｔ^１＋Ｔ^２）｝×１００ （ｑ）

＜光学異方性層の製造＞
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ、日本ゼオン株式会社製 ＺＦ−１４）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、光配向膜形成用組成物をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、配向膜上に、先に調製した重合性液晶化合物を含む組成物Ａからなる塗工液を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、重合性液晶化合物を含む組成物を塗布した面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３１３ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、光学異方性層１を含む光学フィルムを形成した。得られた光学異方性層１の膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、２μｍであった。

得られた光学フィルムの光学異方性層１側に製造例２で作製した粘着剤組成物を貼合した後、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した偏光板に貼合した。このとき、偏光板の吸収軸に対して光学異方性層の遅相軸の関係が４５°となるように積層し、円偏光板を形成した。その後、基材のＣＯＰフィルムを剥離することにより、偏光板に光学異方性層１を転写した光学積層体１（円偏光板１）を得た。得られた光学積層体１の厚さは６４μｍであった。

光学積層体１の光学特性を測定するために、ガラスに転写することで測定用サンプルを作製した。このサンプルの波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍならびに波長６３０ｎｍの位相差値を複屈折測定装置（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ；王子計測機器株式会社製）により測定し、波長４００ｎｍならびに波長４２０ｎｍの透過率を分光光度計（ＵＶ−３１５０；株式会社島津製作所製）により測定した。なお、光源側に偏光プリズムを配置することで完全直線偏光とし、この直線偏光を測定用サンプルに照射することで測定した。この際、光学積層体の偏光板側の透過軸と平行に直線偏光を入射することで、偏光板の透過方向の波長４００ｎｍにおける光学積層体の吸光度Ａ（４００）、並びに、偏光板の透過方向の波長４００ｎｍにおける光学積層体の吸光度Ａ（４２０）を測定した。その結果を表３に示す。
なお、光学積層体１は下記式（８）〜（１２）で表される光学特性の全てを有した。

Ａ（４００）≧０．５０ （８）
Ａ（４２０）／Ａ（４００）≦０．３０ （９）
１００ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１７０ｎｍ （１０）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１１）
１．００≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （１２）

〔実施例２〜２８、実施例２９（比較）、実施例３０（比較）、実施例３１（比較）、参考例１および２ならびに比較例１〜６〕
それぞれ、下記表３に記載の粘着剤組成物を用いて、前記実施例１と同様の方法により光学異方性層を転写した光学積層体（円偏光板）を作製した。得られた光学積層体（円偏光板）の光学特性を、実施例１と同様の方法により測定した。

表３中、実施例２９〜３１は、実施例２９（比較）、実施例３０（比較）、実施例３１（比較）であり、表４および表５においても同様である。

＜光学積層体の評価＞
上記で作製した光学積層体について、光学耐久性試験、耐熱試験、耐湿熱試験および耐ヒートショック試験を行い、評価を行った。なお、各試験は、以下の方法に従い行った。

光学耐久性試験（表４では「ＳＷＯＭ」と表記）：サンシャインウェザーメーター（スガ試験機株式会社製：型番ＳＵＮＳＨＩＮＥ ＷＥＡＴＨＥＲ ＭＥＴＥＲ Ｓ８０）に光学積層体を投入し、１００時間照射した後、波長４５０ｎｍ、波長５５０ｎｍならびに波長６３０ｎｍの位相差値を測定した。光学耐久性試験前後の位相差値の変化から、以下の基準に従い評価を行った。結果を表４に示す。
〔光学耐久性試験の評価基準〕
Ａ：光学耐久性試験前後のＲｅ変化が５未満。
Ｂ：光学耐久性試験前後のＲｅ変化が５以上１０未満。
Ｃ：光学耐久性試験前後のＲｅ変化が１０以上。
耐熱試験（表４では「耐熱」と表記）：恒温槽（エスペック株式会社製：型番ＰＬ−３ＫＴ）に光学積層体を投入し、温度８５℃の乾燥条件下で２５０時間、５００時間それぞれ放置した後、光学積層体の外観状態を目視で観察し、以下の評価基準に従い評価を行った。結果を表４に示す。
〔耐熱試験の評価基準〕
Ａ：５００時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｂ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｃ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化が顕著に認められる。

耐湿熱試験（表４では「耐湿熱」と表記）：恒温槽（エスペック株式会社製：型番ＰＨ−４ＫＴ）に光学積層体を投入し、温度６０℃、相対湿度９０％で２５０時間、５００時間それぞれ放置した後、光学積層体の外観状態を目視で観察し、以下の評価基準に従い評価を行った。結果を表４に示す。
〔耐湿熱試験の評価基準〕
Ａ：５００時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｂ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｃ：２５０時間後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化が顕著に認められる。

耐ヒートショック試験（表４では「耐ＨＳ」と表記）：冷熱衝撃装置（エスペック株式会社製：型番ＴＳＡ−７１Ｌ−Ａ）に光学積層体を投入し、７０℃に加熱した状態から−４０℃に降温し、次いで７０℃に昇温する過程を１サイクル（３０分）として、これを５０サイクル、１００サイクルそれぞれ繰り返した後、光学積層体の外観状態を目視で観察した。以下の評価基準に従い評価を行った。結果を表４に示す。
〔耐ヒートショック試験の評価基準〕
Ａ：１００サイクル後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｂ：５０サイクル後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化がほとんどみられない。
Ｃ：５０サイクル後のサンプルに浮き、剥れ、発泡等の外観変化が顕著に認められる。

光選択吸収性化合物を添加していない参考例１および２では、光学耐久性試験後のＲｅ（４５０）の値が１０以上と大きく変化し、各耐久性試験で浮き、剥れ、発泡等を生じ、外観変化が認められた。また、Ａ（４２０）／Ａ（４００）の値が０．３を超える比較例１〜６も光学耐久性試験後のＲｅ（４５０）が１０以上と大きく変化した。一方、光学積層体のＡ（４００）の値が０．５以上で、かつＡ（４２０）／Ａ（４００）の値が０．３以下である本発明に従う光学積層体では光学耐久性試験後のＲｅ（４５０）の変化は５未満となり改善した。特に、特定の構造を有する光選択吸収性化合物を含む光学積層体（実施例１〜２０）においては、各耐久試験後も浮き、剥れ、発泡等を生じず、外観変化も無く、耐久性に優れることが分かった。

続いて、作製した光学積層体の透過率を分光光度計により測定し、ＯＬＥＤディスプレイにおける光取出し効率を推定した。結果を表５に示す。
なお、光取出し効率はＯＬＥＤ発光スペクトルおよび光学積層体の透過スペクトルに基づき、以下に従い算出した。
青、緑、赤の光取出し効率はそれぞれ波長４２０〜５６０ｎｍ、４８０〜６５５ｎｍ、５３５〜７５５ｎｍにおける光取り出し効率である。
ＯＬＥＤ光取り出し効率（％）＝ＯＬＥＤ発光スペクトル×光学積層体の透過率

本発明に従う光学積層体は、光選択吸収性化合物を添加していない参考例１および２と同等の光取出し効率を示し、表示特性が損なわれないことが分かった。一方で、Ａ（４２０）／Ａ（４００）の値が大きく、光吸収選択性の低い光学積層体（比較例１〜６）では、光取出し効率が低いことが分かった。

Claims (9)

1. 少なくとも１つの偏光板と、少なくとも１つの粘着剤層とを含む光学積層体であって、
   下記式（３）、（４）および（５）：
   ε（４２０）／ε（４００）≦０．３ （３）
   λｍａｘ＜４２０ｎｍ （４）
   ε（４００）≧４０（Ｌ／（ｇ・ｃｍ）） （５）
   〔式（３）〜（５）中、ε（４００）は波長４００ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、ε（４２０）は波長４２０ｎｍにおけるグラム吸光係数を表し、λｍａｘは光選択吸収性化合物の極大吸収波長を表し、グラム吸光係数の単位はＬ／（ｇ・ｃｍ）である〕、
   を満たす光選択吸収性化合物を含み、
   下記式（１）および（２）：
   Ａ（４００）≧０．５ （１）
   Ａ（４２０）／Ａ（４００）≦０．３ （２）
   〔式中、Ａ（４００）は偏光板の透過方向の波長４００ｎｍにおける光学積層体の吸光度を表し、Ａ（４２０）は偏光板の透過方向の波長４２０ｎｍにおける光学積層体の吸光度を表す〕
   を満たす光学積層体。
2. 前記粘着剤層は、
   （Ａ）アクリル樹脂の固形分全体の量に基づき、
   （Ａ−１）式（Ａ−１）：
   

   

   
   〔式（Ａ−１）中、Ｒ^ｐは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ^ｑは炭素数１〜２０のアルキル基またはアラルキル基を表し、該アルキル基または該アラルキル基を構成する水素原子は、−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ−Ｒ^ｒで置換されていてもよく（ｎは０〜４の整数を表し、Ｒ^ｒは炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数１〜１２のアリール基を表す）〕で示される（メタ）アクリル酸エステル単量体５０〜９９．９質量％と、
   （Ａ−２）極性官能基を有する不飽和単量体０．１〜５０質量％
   とを構成成分とする共重合体であって、重量平均分子量が５０万〜２００万であるアクリル樹脂、
   （Ｂ）前記アクリル樹脂１００質量部に対して０．０１〜１０質量部の架橋剤、および
   （Ｃ）前記式（３）、（４）および（５）を満たす光選択吸収性化合物
   を含有する粘着剤組成物からなる、請求項１に記載の光学積層体。
3. アクリル樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の光選択吸収性化合物を含む、請求項２に記載の光学積層体。
4. 前記光選択吸収性化合物は、式（Ｉ）：
   

   

   
   〔式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子または硫黄原子に置換されていてもよく、Ｒ^２およびＲ^３は、互いに独立して、水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基を表し、
   Ａは、メチレン基、第二級アミノ基、酸素原子または硫黄原子を表し、
   Ｘ^１およびＸ^２は、互いに独立して電子吸引性基を表し、Ｘ^１およびＸ^２は互いに連結して環構造を形成していてもよい〕で表される化合物、および式（ＩＩ）：
   

   

   
   〔式中、Ａ^１は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは第二級アミノ基、酸素原子、硫黄原子で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は置換基を有していてもよく、
   Ｒ^１、Ｘ^１およびＸ^２は、前記と同じ意味を表す〕
   で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１〜３のいずれかに記載の光学積層体。
5. 前記光選択吸収性化合物は、式（Ｉ−ＩＩ）：
   

   

   （式中、Ｒ^４’は水素原子または炭素数２〜２０のアルキル基を表し、該アルキル基が少なくとも１つのメチレン基を有する場合、該メチレン基の少なくとも１つは酸素原子で置換されていてもよく、Ｒ^１は前記と同じ意味を表す）
   で表される化合物、および式（ＩＩ−Ｉ）：
   

   

   
   （式中、Ｒ^１およびＲ^４’は、前記と同じ意味を表す）
   で表される化合物からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項４に記載の光学積層体。
6. 少なくとも１つの位相差フィルムを含む、請求項１〜５のいずれかに記載の光学積層体。
7. 位相差フィルムが重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層である、請求項６に記載の光学積層体。
8. ５０〜５００μｍの厚さを有する、請求項１〜７のいずれかに記載の光学積層体。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の光学積層体を含む表示装置。