KR20200027955A - 점착제 조성물 및 점착제층 구비 필름 - Google Patents

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노부타카 구니미
유지 아사츠
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선에 의한 열화에 관해서 양호한 억제 기능을 가지면서 또한 양호한 블루라이트 컷트 기능을 갖는 점착제 조성물을 제공한다.
상기 점착제 조성물은 하기 식 (1)을 만족하는 적어도 1종 이상의 광흡수성 화합물(a)과, 하기 식 (2)을 만족하는 적어도 1종 이상의 광흡수성 화합물(b)을 포함하는 점착제 조성물이다.
ε(405)≥20 (1)
ε(420)≥5 (2)
〔식 중, ε(405)은 파장 405 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)는 파장 420 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내며, 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·cm)으로 정의한다.〕

Description

점착제 조성물 및 점착제층 구비 필름
본 발명은 점착제 조성물 및 그것을 이용한 점착제층 구비 필름에 관한 것이다.
유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자나 편광판 등의 광학 필름과 같은 다양한 부재가 이용되고 있다. 이들 부재에 이용되는 유기 EL 화합물 및 액정 화합물은 유기물이기 때문에, 자외선(UV)에 의한 열화가 문제가 되는 경우가 있다. 이러한 문제를 해결하는 수단으로서, 특허문헌 1에는 편광판의 보호 필름에 자외선 흡수제를 첨가하는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본 특허공개 2006-308936호 공보
또한, 유기 EL 화합물 및 액정 화합물은, 자외선뿐만 아니라, 파장 405 nm 부근의 단파장의 가시광에 의한 열화도 생기고 있는 것이 밝혀져 왔다.
더욱이, 최근 액정 디스플레이 등의 표시 장치에 있어서, 장시간 디스플레이를 시인할 때의 피로나 시력 저하의 문제가 있어, 그 대책으로서 단파장의 가시광을 컷트(블루라이트 컷트)할 것이 요구되고 있다.
본 발명은, 표시 장치에 이용한 경우에, 양호한 블루라이트 컷트 기능을 가지며, 또한 광단파장의 가시광에 의한 광학 필름의 열화를 억제할 수 있는 점착제층 구비 필름 및 이 점착제층 구비 필름을 형성할 수 있는 점착제 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 이하의 발명을 포함한다.
[1] 하기 식 (1)을 만족하는 적어도 1종 이상의 광흡수성 화합물(a)과, 하기 식 (2)을 만족하는 적어도 1종 이상의 광흡수성 화합물(b)을 포함하는 점착제 조성물.
ε(405)≥20 (1)
ε(420)≥5 (3)
〔식 중, ε(405)은 파장 405 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)는 파장 420 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내며, 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·cm)으로 정의한다.〕
[2] 광흡수성 화합물(a)이 식 (3)을 추가로 만족하는 화합물인 [1]에 기재한 점착제 조성물.
ε(405)/ε(440)≥20 (3)
〔식 중, ε(405), ε(440)은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.〕
[3] 광흡수성 화합물(b)은 식 (4)을 추가로 만족하는 화합물인 [1] 또는 [2]에 기재한 점착제 조성물.
ε(420)/ε(440)≥4 (4)
〔식 중, 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다.〕
[4] 광흡수성 화합물(a)의 극대 흡수 파장의 최대치와 광흡수성 화합물(b)의 극대 흡수 파장의 최대치의 차가 통상 3 nm 이상인 [1]∼[3]의 어느 하나에 기재한 점착제 조성물.
[5] (메트)아크릴계 수지(A) 및 가교제(B)를 추가로 포함하는 [1]∼[4]의 어느 하나에 기재한 점착제 조성물.
[6] 광흡수성 화합물(a)과 광흡수성 화합물(b)의 합계 함유량이 (메트)아크릴계 수지 100 질량부에 대하여 0.01∼20 질량부인 [5]에 기재한 점착제 조성물.
[7] 가교제(B)의 함유량이 (메트)아크릴 수지(A) 100 질량부에 대하여 0.01∼10 질량부인 [5] 또는 [6]에 기재한 점착제 조성물.
[8] [1]∼[7]의 어느 하나에 기재한 점착제 조성물로 형성된 점착제층과 수지 필름을 포함하는 광학 적층체.
[9] 수지 필름은 위상차 필름 및 편광 필름에서 선택되는 적어도 1종의 필름인 [8]에 기재한 광학 적층체.
[10] [1]∼[7]의 어느 하나에 기재한 점착제 조성물로 형성되는 점착제층과, 편광 필름과, 위상차 필름을 포함하는 광학 적층체.
[11] 점착제층의 두께가 0.1∼30 ㎛인 [8]∼[10]의 어느 하나에 기재한 광학 적층체.
[12] 점착제층이 하기 식 (4)을 만족하는 [8]∼[11]의 어느 하나에 기재한 광학 적층체.
A(405)≥0.5 (4)
[식 중, A(405)는 파장 405 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
[13] 점착제층이 하기 식 (5)을 추가로 만족하는 [12]에 기재한 광학 적층체.
A(420)≥0.1 (5)
[식 중, A(420)는 파장 420 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
[14] 점착제층이 하기 식 (6)을 추가로 만족하는 [13]에 기재한 광학 적층체.
A(440)≤0.1 (6)
[식 중, A440는 파장 440 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
[15] [8]∼[14]의 어느 하나에 기재한 광학 적층체를 포함하는 표시 장치.
양호한 블루라이트 컷트 기능을 가지며 또한 단파장의 가시광에 의한 광학 필름의 열화를 억제할 수 있는 점착제층 구비 필름을 제공한다. 또한, 이 점착제층 구비 필름을 형성할 수 있는 점착제를 제공한다.
도 1은 본 발명에 따른 광학 필름의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 광학 필름의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 광학 필름의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 광학 필름의 일례를 도시하는 개략 단면도이다.
본 발명의 점착제 조성물은, 하기 식 (1)을 만족하는 1종 이상의 광흡수성 화합물(a)과, 하기 식 (2)을 만족하는 1종 이상의 광흡수성 화합물(b)을 포함한다.
ε(405)≥20 (1)
ε(420)≥5 (2)
〔식 중, ε(405)은 파장 405 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)는 파장 420 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·cm)으로 정의한다.〕
ε(405)의 값이 큰 화합물일수록 파장 405 nm의 광을 흡수하기 쉽고, 표시 장치의 색채 표현
을 저해하지 않는다. ε(405)의 값이 20 L/(g·cm) 미만이면, 위상차 필름이나 유기 EL 발광 소자의 자외선이나 단파장의 가시광에 의한 열화 억제 기능을 발현하기 때문에, 점착제 조성물 중의 광흡수성 화합물(a)의 함유량이 증대된다. 점착제 조성물 중의 광흡수성 화합물(a)의 함유량이 증대되면, 광흡수성 화합물(a)이 블리드아웃 또는 불균일하게 분산되어 버려, 광흡수 기능이 불충분하게 되는 경우가 있다. ε(405)의 값은 20 L/(g·cm) 이상인 것이 바람직하고, 30 L/(g·cm) 이상인 것이 보다 바람직하고, 40 L/(g·cm) 이상인 것이 더욱 보다 바람직하고, 통상 500 L/(g·cm) 이하이다.
또한, 그램 흡광도 계수는 실시예에 기재한 방법으로 측정할 수 있다.
ε(420)의 값이 큰 화합물일수록 파장 420 nm의 광을 흡수하기 쉽다. ε(420)의 값이 5 미만이면, 점착제 조성물 중의 광흡수성 화합물(b)의 함유량이 증대된다. 점착제 조성물 중의 광흡수성 화합물(b)의 함유량이 증대되면, 광흡수성 화합물(b)이 블리드아웃 또는 불균일하게 분산되어 버려, 광흡수 기능이 불충분하게 되는 경우가 있다. ε(420)의 값은 5 L/(g·cm) 이상인 것이 바람직하고, 10 L/(g·cm) 이상인 것이 보다 바람직하고, 20 L/(g·cm) 이상인 것이 더욱 보다 바람직하고, 통상 500 L/(g·cm) 이하이다.
광흡수성 화합물(a)은 식 (3)을 추가로 만족하는 화합물인 것이 바람직하다.
ε(405)/ε(440)≥20 (3)
〔식 중, ε(405), ε(440)은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.〕
ε(405)/ε(440)의 값이 큰 화합물일수록 표시 장치의 색채 표현을 저해하는 일 없이 405 nm 부근의 광을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다. ε(405)/ε(440)의 값은 20 이상이 바람직하고, 40 이상이 보다 바람직하고, 70 이상이 더욱 보다 바람직하고, 80 이상이 특히 보다 바람직하다.
광흡수성 화합물(b)은 식 (4)을 추가로 만족하는 화합물인 것이 바람직하다.
ε(420)/ε(440)≥4 (4)
〔식 중, 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다.〕
ε(420)/ε(440)의 값이 큰 화합물일수록 표시 장치의 색채 표현을 저해하는 일 없이 420 nm 부근의 광을 흡수하여 위상차 필름이나 유기 EL 소자 등의 표시 장치의 광 열화를 억제할 수 있다. 그 때문에, ε(420)/ε(440)의 값은 4 이상이 바람직하고, 6 이상이 보다 바람직하고, 10 이상이 더욱 보다 바람직하고, 20 이상이 특히 보다 바람직하다.
광흡수성 화합물(a)의 극대 흡수 파장의 최대치와 광흡수성 화합물(b)의 극대 흡수 파장의 최대치의 차가 통상 3 nm 이상이고, 바람직하게는 4 nm 이상이고, 보다 바람직하게는 5 nm 이상이며, 통상은 100 nm 이하이다.
상기 식 (1), 식 (2)의 적어도 어느 한쪽을 만족하는 광흡수성 화합물로서는, 분자 내에 메로시아닌 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 포함하는 화합물이란, -(N-C=C-C=C)-으로 표시되는 부분 구조를 분자 내에 함유하고 있는 화합물로서, 예컨대 메로시아닌계 화합물, 시아닌계 화합물, 인돌계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물 등을 들 수 있다. 분자 내에 메로시아닌 구조를 갖는 화합물은, 식 (I)으로 표시되는 화합물(이하, 화합물(I)이라고 하는 경우가 있다.)인 것이 보다 바람직하다.
Figure pct00001
[식 중, R1 및 R5는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼25의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 7∼15의 아랄킬기, 탄소수 6∼15의 아릴기, 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH2-는 -NR1A-, -SO2-, -CO-, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 좋다.
R1A는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 좋은 탄소수 1∼6의 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 탄화수소기 또는 치환기를 갖고 있어도 좋은 방향족 복소환기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 -CH2-는 -NR1B-, -O-, -S-으로 치환되어 있어도 좋다.
R1B는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타낸다.
R6 및 R7은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼25의 알킬기 또는 전자 흡인성기를 나타내거나, R6 및 R7은 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다.
R1 및 R2는 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R2 및 R4는 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R3 및 R6은 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R6 및 R7은 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다.]
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 1-메틸부틸기, 3-메틸부틸기, n-옥틸기, n-데실, 2-헥실-옥틸기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 이하의 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
군 A: 니트로기, 히드록시기, 카르복시기, 술포기, 시아노기, 아미노기, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 탄소수 1∼12의 알킬실릴기, 탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기, *-Ra1-(O-Ra2)t1-Ra3(Ra1 및 Ra2는 각각 독립적으로 탄소수 1∼6의 알칸디일기를 나타내고, Ra3은 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, s1은 1∼3의 정수를 나타낸다.)으로 표시되는 기 등을 들 수 있다.
탄소수 1∼12의 알킬실릴기로서는, 메틸실릴기, 에틸실릴, 프로필실릴기 등의 모노알킬실릴기; 디메틸실릴기, 디에틸실릴기, 메틸에틸실릴기 등의 디알킬실릴기; 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리프로필실릴기 등의 트리알킬실릴기를 들 수 있다.
탄소수 2∼8의 알킬카르보닐기로서는, 메틸카르보닐기, 에틸카르보닐기 등을 들 수 있다.
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기로서는, 벤질기, 페닐에틸기 등을 들 수 있고, 아랄킬기에 포함되는 -CH2-가 -SO2- 또는 -CO-로 치환된 것으로서는 2-페닐아세트산에틸기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 7∼15의 아랄킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등을 들 수 있다.
R1 및 R5로 표시되는 탄소수 6∼15의 복소환기로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, R1B로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등 탄소수 6∼15의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼15의 아랄킬기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 탄화수소기가 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 복소환으로서는, 피리딜기, 피롤리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기 및 푸라닐기 등의 탄소수 3∼9의 방향족 복소환기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4로 표시되는 방향족 복소환이 갖고 있어도 좋은 치환기로서는, 상기 군 A에 기재한 기를 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R1 및 R5로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R6 및 R7로 표시되는 전자 흡인성기로서는, 예컨대 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, 식 (I-1)으로 표시되는 기를 들 수 있다.
Figure pct00002
[식 중, R11은 수소 원자 또는 탄소수 1∼25의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기에 포함되는 메틸렌기의 적어도 하나는 산소 원자로 치환되어 있어도 좋다.
X1은 -CO-, -COO-, -OCO-, -CS-, -CSS-, -COS-, -NR12CO- 또는 CONR13-을 나타낸다.
R12 및 R13은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.]
할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
할로겐 원자로 치환된 알킬기로서는, 예컨대 트리플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로부틸기, 퍼플루오로sec-부틸기, 퍼플루오로tert-부틸기, 퍼플루오로펜틸기 및 퍼플루오로헥실기 등의 퍼플루오로알킬기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로 치환된 알킬기의 탄소수는 통상 1∼25이다.
R6 및 R7은 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있어도 좋으며, R6 및 R7로 형성되는 고리 구조로서는, 예컨대 멜드럼산 구조, 바르비투르산 구조, 디메돈 구조 등을 들 수 있다.
R11로 표시되는 탄소수 1∼25의 알킬기로서는, R1 및 R5로 표시되는 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R12 및 R13으로 표시되는 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, 2-시아노프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등을 들 수 있다.
R2 및 R3이 상호 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R2와 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 함질소환 구조로서, 예컨대 4∼14원환의 함질소 복소환을 들 수 있다. R2 및 R3이 상호 연결하여 형성되는 고리 구조는, 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋다. 구체적으로는 피롤리딘환, 피롤린환, 이미다졸리딘환, 이미다졸린환, 옥사졸린환, 티아졸린환, 피페리딘환, 모르폴린환, 피페라진환, 인돌환, 이소인돌환 등을 들 수 있다.
R1 및 R2가 상호 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, R1 및 R2가 결합하고 있는 질소 원자를 포함하는 함질소환 구조로서, 예컨대 4∼8원환의 함질소 복소환을 들 수 있다. R1 및 R2가 상호 연결하여 형성되는 고리 구조는, 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋다. 구체적으로는 R2 및 R3이 상호 연결하여 형성되는 고리 구조와 같은 것을 들 수 있다.
R2 및 R4가 상호 결합하여 형성되는 고리 구조로서는, 4∼14원환의 함질소환 구조를 들 수 있고, 5원환∼9원환의 함질소환 구조가 바람직하다. R2 및 R4가 상호 결합하여 형성되는 고리 구조는, 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋다. 이들 고리는 치환기를 갖고 있어도 좋으며, 이러한 고리 구조로서는, 상기 R2와 R3에 의해 형성되는 고리 구조로서 예시한 것과 같은 것을 들 수 있다.
R3 및 R6이 상호 연결하여 형성되는 고리 구조로서는, R3-C=C-C=C-R6이 고리의 골격을 형성하는 고리 구조이다. 예컨대 페닐기 등을 들 수 있다.
광흡수성 화합물(a)은, R2와 R3이 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)인 것이 바람직하다. R2와 R3이 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)로서는 식 (I-A)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
광흡수성 화합물(b)은, R2 및 R4가 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I) 및 R6 및 R7이 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)인 것이 바람직하다. R2 및 R4가 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)로서는, 식 (I-B)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다. R6 및 R7이 상호 연결하여 고리 구조를 형성하고 있는 화합물(I)로서는, 식 (I-C)으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure pct00003
[식 (I-A), 식 (I-B), 식 (I-C) 중, R1, R3, R4, R5, R6 및 R7은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
고리 W1 및 W2는 함질소환을 나타낸다. 고리 W3은 환상 화합물을 나타낸다.]
고리 W1 및 W2는, 고리의 구성 단위로서 질소 원자를 함유하는 함질소환을 나타낸다. 고리 W1 및 W2는, 단환이라도 좋고, 다환이라도 좋으며, 질소 이외의 헤테로 원자(예컨대, 산소 원자, 황 원자)를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다. 고리 W1 및 W2는 각각 독립적으로 5원환∼9원환의 고리인 것이 바람직하다.
고리 W3은 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 고리의 구성 단위로서 포함하고 있어도 좋다. 고리 W1 및 W3은 5원환∼9원환의 고리인 것이 바람직하다.
식 (I-A)으로 표시되는 화합물(I)은 식 (I-A-1)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00004
[식 (I-A) 중, R1, R4, R5, X1 및 X2는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
A1은 -CH2-, -O-, -S-, -NR1C- 또는 =N-을 나타낸다.
R1C는 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.
R14 및 R15는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기를 나타낸다.]
R1C, R14 및 R15로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
식 (I-B)으로 표시되는 화합물은, 식 (I-B-1)으로 표시되는 화합물 및 식 (I-B-2)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00005
[식 (I-B-1) 중, R1, X1 및 X2는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R16은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1∼12의 알킬기, 아릴기를 나타낸다.]
R16으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R1A 및 R1B로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R16으로 표시되는 아릴기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트라세닐기 등의 탄소수 6∼15의 아릴기 등을 들 수 있다.
Figure pct00006
[식 (I-B-2) 중, R3, R5, R6 및 R7은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R30은 수소 원자, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 머캅토기, 아미노기, 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기, 탄소수 2∼13의 아실기, 탄소수 2∼13의 아실옥시기 또는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기를 나타낸다.
R31은 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 머캅토기, 탄소수 1∼12의 알킬티오기, 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기 또는 복소환기를 나타낸다.]
R30으로 표시되는 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실기로서는, 아세틸기, 프로피오닐기 및 부티릴기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 아실옥시기로서는, 메틸카르보닐옥시기, 에틸카르보닐옥시기, 프로필카르보닐옥시기, 부틸카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 2∼13의 알콕시카르보닐기로서는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기, 프로폭시카르보닐기, 부톡시카르보닐기 등을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 6∼18의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐기 등의 탄소수 6∼18의 아릴기; 벤질기, 페닐에틸기 등의 탄소수 7∼18의 아랄킬기를 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R14로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 부톡시기, 펜톡시기 등을 들 수 있다.
R30은 탄소수 1∼12의 알킬기, 탄소수 1∼12의 알콕시기, 아미노기 또는 머캅토기인 것이 바람직하다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기로서는, R14로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬기와 같은 것을 들 수 있다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기로서는, R30으로 표시되는 탄소수 1∼12의 알콕시기와 같은 것을 들 수 있다.
R31로 표시되는 탄소수 1∼12의 알킬티오기로서는, 메틸티오기, 에틸티오기, 프로필티오기, 부틸티오기, 펜틸티오기, 헥실티오기 등을 들 수 있다.
R31로 표시되는 치환기를 갖고 있어도 좋은 아미노기로서는, 아미노기; N-메틸아미노기, N-에틸아미노기 등의 하나의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; N,N-디메틸아미노기, N,N-디에틸아미노기, N,N-메틸에틸아미노기 등의 2개의 탄소수 1∼8의 알킬기로 치환된 아미노기; 등을 들 수 있다.
R31로 표시되는 복소환으로서는, 피롤리디닐기, 피페리디닐기, 모르폴리닐기 등의 탄소수 4∼9의 함질소 복소환기 등을 들 수 있다.
식 (I-C)으로 표시되는 화합물은 식 (IC-1)으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.
Figure pct00007
[식 (I-C-1) 중, R1, R2, R3 및 R5는 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.
R17, R18, R19, Rq는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환기를 갖더라도 좋은 탄소수 1∼12의 알킬기, 아랄킬기, 아릴기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 아랄킬기에 포함되는 -CH2-기는 -NR1D-, -C(=O)-, -C(=S)-, -O-, -S-로 치환되어 있어도 좋고, R17 및 R18은 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R18 및 R19는 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋고, R19 및 Rq는 상호 연결하여 고리 구조를 형성하여도 좋다. m, p, q는 각각 독립적으로 0∼3의 정수를 나타낸다.]
화합물(I)로서는 이하에 기재한 화합물 등을 들 수 있다.
Figure pct00008
Figure pct00009
Figure pct00010
Figure pct00011
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
광선택 흡수 화합물(a)은, 화합물(I) 중에서 상기 식 (1)을 만족하는 화합물을 적절하게 선택할 수 있다.
광선택 흡수 화합물(b)은, 화합물(I) 중에서 상기 식 (2)을 만족하는 화합물을 적절하게 선택할 수 있다.
광흡수성 화합물(a) 및 광흡수성 화합물(b)의 합계 함유량은, 점착제 조성물 100 질량% 중, 통상 0.01∼15 질량%이며, 바람직하게는 0.05∼10 질량%이고, 보다 바람직하게는 0.1∼5 질량%이다.
광선택 흡수 화합물(a)과 광선택 흡수 화합물(b)의 질량비(광선택 흡수 화합물(a)/광선택 흡수 화합물(b))은 통상 0.01∼20이며, 바람직하게는 0.05∼10이다.
본 발명에 있어서, 점착제층을 구성하는 점착제로서는, 예컨대 아크릴계, 고무계, 우레탄계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제를 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 높은 내열성, 내광성의 관점에서, 본 발명의 광학 필름을 구성하는 점착제층은, (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로서 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명의 점착제 조성물은, 수지, 가교제 및 실란 화합물을 추가로 함유하는 것이 바람직하고, 대전방지제를 추가로 함유하는 것이 보다 바람직하다.
(메트)아크릴계 수지는, (메트)아크릴산에스테르 유래의 구성 단위를 주성분(바람직하게는 50 질량% 이상 포함한다)으로 하는 중합체인 것이 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, 1종 이상의 (메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위(예컨대, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위)를 포함하여도 좋다. 또한, 본 명세서에 있어서 (메트)아크릴산이란, 아크릴산 또는 메타크릴산의 어느 것이라도 좋다는 것을 의미하며, 그 밖에 (메트)아크릴레이트 등이라고 할 때의 「(메트)」도 같은 취지이다.
(메트)아크릴산에스테르로서는, 하기 식 (I)으로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다
Figure pct00016
[식 (I) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 1∼14의 알킬기 또는 탄소수 7∼20의 아랄킬기를 나타내고, 상기 알킬기 또는 상기 아랄킬기의 수소 원자는, 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.]
식 (I)에 있어서, R2는 바람직하게는 탄소수 1∼14의 알킬기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8의 알킬기이다.
식 (I)으로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르로서는,
(메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산n-프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산n-펜틸, (메트)아크릴산n-헥실, (메트)아크릴산n-헵틸, (메트)아크릴산n-옥틸, (메트)아크릴산n-노닐, (메트)아크릴산n-데실, (메트)아크릴산n-도데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산스테아릴 등의 (메트)아크릴산의 직쇄상 알킬에스테르;
(메트)아크릴산i-프로필, (메트)아크릴산i-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산i-펜틸, (메트)아크릴산i-헥실, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산i-옥틸, (메트)아크릴산i-노닐, (메트)아크릴산i-스테아릴, (메트)아크릴산i-아밀 등의 (메트)아크릴산의 분기상 알킬에스테르;
(메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산이소보로닐, (메트)아크릴산아다만틸, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등의 (메트)아크릴산의 지환 골격 함유 알킬에스테르;
(메트)아크릴산페닐 등의 (메트)아크릴산의 방향환 골격 함유 에스테르;
등을 들 수 있다.
또한, (메트)아크릴산알킬에스테르에 있어서의 알킬기에 치환기가 도입된 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수도 있다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르의 치환기는 알킬기의 수소 원자를 치환하는 기이며, 그 구체예는 페닐기, 알콕시기, 페녹시기를 포함한다. 치환기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 구체적으로는 (메트)아크릴산2-메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산2-(2-페녹시에톡시)에틸, (메트)아크릴산페녹시디에틸렌글리콜, (메트)아크릴산페녹시폴리(에틸렌글리콜) 등을 들 수 있다.
이들 (메트)아크릴산에스테르는, 각각 단독으로 이용할 수 있는 것 외에 다른 복수의 것을 이용하여도 좋다.
(메트)아크릴계 수지(A)는, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 0℃ 미만인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a1) 유래의 구성 단위 및 호모폴리머의 Tg가 0℃ 이상인 (메트)아크릴산알킬에스테르(a2) 유래의 구성 단위를 함유하는 것이 바람직하다. 이것은, 점착제층의 고온 내구성을 높이는 데에 있어서 유리하다. (메트)아크릴산알킬에스테르의 호모폴리머의 Tg는, 예컨대 POLYMER HANDBOOK(Wiley-Interscience) 등의 문헌치를 채용할 수 있다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a1)의 구체예는, 아크릴산에틸, 아크릴산n- 및 i-프로필, 아크릴산n- 및 i-부틸, 아크릴산n-펜틸, 아크릴산n- 및 i-헥실, 아크릴산n-헵틸, 아크릴산n- 및 i-옥틸, 아크릴산2-에틸헥실, 아크릴산n- 및 i-노닐, 아크릴산n- 및 i-데실, 아크릴산n-도데실 등의 알킬기의 탄소수가 2∼12 정도인 (메트)아크릴산알킬에스테르를 포함한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a1)는, 1종만을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다. 그 중에서도, 광학 필름에 적층했을 때의 추종성이나 리워크성의 관점에서, 아크릴산n-부틸, 아크릴산n-옥틸, 아크릴산2-에틸헥실 등이 바람직하다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, (메트)아크릴산알킬에스테르(a1) 이외의 (메트)아크릴산알킬에스테르이다. (메트)아크릴산알킬에스테르(a2)의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐, 아크릴산스테아릴, 아크릴산t-부틸 등을 포함한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, 1종만을 이용하여도 좋고, 2종 이상을 병용하여도 좋다. 그 중에서도, 고온 내구성의 관점에서, (메트)아크릴산알킬에스테르(a2)는, 아크릴산메틸, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산이소보로닐 등을 포함하는 것이 바람직하고, 아크릴산메틸을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
식 (I)으로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위는, (메트)아크릴계 수지에 포함되는 전체 구조 단위 중, 50 질량% 이상인 것이 바람직하고, 60∼95 질량%인 것이 바람직하고, 65∼95 질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로서는, 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위가 바람직하고, 극성 작용기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르에 유래하는 구조 단위가 보다 바람직하다. 극성 작용기로서는, 히드록시기, 카르복실기, 치환 혹은 무치환 아미노기, 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.
극성 작용기를 갖는 단량체로서는,
(메트)아크릴산1-히드록시메틸, (메트)아크릴산1-히드록시에틸, (메트)아크릴산1-히드록시헵틸, (메트)아크릴산1-히드록시부틸, (메트)아크릴산1-히드록시펜틸, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산2-히드록시부틸, (메트)아크릴산2-히드록시펜틸, (메트)아크릴산2-히드록시헥실, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산3-히드록시부틸, (메트)아크릴산3-히드록시펜틸, (메트)아크릴산3-히드록시헥실, (메트)아크릴산3-히드록시헵틸, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산4-히드록시펜틸, (메트)아크릴산4-히드록시헥실, (메트)아크릴산4-히드록시헵틸, (메트)아크릴산4-히드록시옥틸, (메트)아크릴산2-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산3-클로로-2-히드록시프로필, (메트)아크릴산2-히드록시-3-페녹시프로필, (메트)아크릴산5-히드록시펜틸, (메트)아크릴산5-히드록시헥실, (메트)아크릴산5-히드록시헵틸, (메트)아크릴산5-히드록시옥틸, (메트)아크릴산5-히드록시노닐, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산6-히드록시헵틸, (메트)아크릴산6-히드록시옥틸, (메트)아크릴산6-히드록시노닐, (메트)아크릴산6-히드록시데실, (메트)아크릴산7-히드록시헵틸, (메트)아크릴산7-히드록시옥틸, (메트)아크릴산7-히드록시노닐, (메트)아크릴산7-히드록시데실, (메트)아크릴산7-히드록시운데실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산8-히드록시노닐, (메트)아크릴산8-히드록시데실, (메트)아크릴산8-히드록시운데실, (메트)아크릴산8-히드록시도데실, (메트)아크릴산9-히드록시노닐, (메트)아크릴산9-히드록시데실, (메트)아크릴산9-히드록시운데실, (메트)아크릴산9-히드록시도데실, (메트)아크릴산9-히드록시트리데실, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산10-히드록시운데실, (메트)아크릴산10-히드록시도데실, 아크릴산10-히드록시트리데실, (메트)아크릴산10-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산11-히드록시운데실, (메트)아크릴산11-히드록시도데실, (메트)아크릴산11-히드록시트리데실, (메트)아크릴산11-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산11-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산12-히드록시도데실, (메트)아크릴산12-히드록시트리데실, (메트)아크릴산12-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산13-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산13-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산14-히드록시테트라데실, (메트)아크릴산14-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산15-히드록시펜타데실, (메트)아크릴산15-히드록시헵타데실 등의 히드록시기를 갖는 단량체;
(메트)아크릴산, 카르복시알킬(메트)아크릴레이트(예컨대, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트), 말레산, 무수말레산, 푸마르산, 크로톤산 등의 카르복실기를 갖는 단량체;
아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란 등의 복소환기를 갖는 단량체;
아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 치환 혹은 무치환 아미노기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르 중합체와 가교제의 반응성의 관점에서, 히드록시기 및/또는 카르복실기를 갖는 단량체가 바람직하고, 히드록시기 및 카르복실기를 갖는 단량체 모두를 포함하는 것이 보다 바람직하다.
히드록시기를 갖는 단량체로서는, 아크릴산2-히드록시에틸, 아크릴산3-히드록시프로필, 아크릴산4-히드록시부틸, 아크릴산5-히드록시펜틸, 아크릴산6-히드록시헥실이 바람직하다. 특히 아크릴산2-히드록시에틸, 아크릴산4-히드록시부틸 및 아크릴산5-히드록시펜틸을 이용함으로써 양호한 내구성을 얻을 수 있다.
카르복실기를 갖는 단량체로서는 아크릴산을 이용하는 것이 바람직하다.
점착제층의 외면에 적층할 수 있는 세퍼레이트 필름의 박리력 항진을 막는다는 관점에서, 아미노기를 갖는 단량체를 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 실질적으로 포함하지 않는다란, (메트)아크릴계 수지(A)를 구성하는 전체 구성 단위 100 중량부 중, 0.1 중량부 이하인 것을 말한다.
(메트)아크릴산에스테르 중합체 내의 극성 작용기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴산에스테르 중합체의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량부 이상 15 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 0.5 질량부 이상 10 질량부 이하, 특히 바람직하게는 1 질량부 이상 7 질량부 이하이다.
(메트)아크릴산에스테르 중합체 내의 방향족기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위의 함유량은, (메트)아크릴산에스테르 중합체의 전체 구조 단위 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 20 질량부 이하, 보다 바람직하게는 4 질량부 이상 20 질량부 이하, 더욱 바람직하게는 4 질량부 이상 16 질량부 이하이다.
(메트)아크릴산에스테르 이외의 단량체에 유래하는 구조 단위로서는, 스티렌계 단량체에 유래하는 구조 단위, 비닐계 단량체에 유래하는 구조 단위, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체에 유래하는 구조 단위, (메트)아크릴아미드계 단량체에 유래하는 구조 단위 등을 들 수 있다.
스티렌계 단량체로서는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌; 니트로스티렌; 아세틸스티렌; 메톡시스티렌; 및 디비닐벤젠을 들 수 있다.
비닐계 단량체로서는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우린산비닐 등의 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐; 염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 함질소 복소 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공역 디엔; 및 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 불포화 니트릴을 들 수 있다.
분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체로서는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 단량체를 들 수 있다.
(메트)아크릴아미드계 단량체로서는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 그 중에서도, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)아크릴아미드 및 N-(2-메틸프로폭시메틸)아크릴아미드가 바람직하다.
(메트)아크릴산 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)은 바람직하게는 50만∼250만이다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온 환경에 있어서의 점착제층의 내구성이 향상되어, 피착체와 점착제층 사이의 들뜸이나 점착제층의 응집 파괴 등의 문제점을 억제하기 쉽다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 점착제 조성물을 예컨대 시트형으로 가공(기재에 도공)할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 점착제층의 내구성 및 점착제 조성물의 도공성의 양립이라는 관점에서, 중량 평균 분자량은 바람직하게는 60만∼180만이며, 보다 바람직하게는 70만∼170만이고, 특히 바람직하게는 100만∼160만이다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)과 수평균 분자량(Mn)의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw/Mn)는 통상 2∼10, 바람직하게는 3∼8, 더욱 바람직하게는 3∼6이다. 중량 평균 분자량은 겔 투과 크로마토그래피에 의해 분석할 수 있으며, 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.
(메트)아크릴산 수지(A)는, 아세트산에틸에 용해시켜, 농도 20 질량%의 용액으로 했을 때, 25℃에 있어서의 점도가 20 Pa·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1∼15 Pa·s인 것이 보다 바람직하다. 이 범위의 점도이면, 점착제 조성물을 기재에 도공할 때의 도공성의 관점에서 유리하다. 또한, 점도는 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴산 수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 예컨대 -60∼20℃, 바람직하게는 -50∼15℃, 더욱 바람직하게는 -45∼10℃, 특히 -40∼0℃라도 좋다. Tg가 상한치 이하이면, 점착제층의 피착체 기재에 대한 습윤성의 향상에 유리하고, 하한치 이상이면, 점착제층의 내구성의 향상에 유리하다. 여기서, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.
(메트)아크릴산 수지(A)는, 예컨대 용액 중합법, 괴상 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등의 공지된 방법에 의해서 제조할 수 있고, 특히 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법으로서는, 예컨대 단량체 및 유기 용매를 혼합하여, 질소 분위기 하에 열중합 개시제를 첨가하고, 40∼90℃, 바람직하게는 50∼80℃ 정도의 온도 조건 하에 3∼15시간 정도 교반하는 방법을 들 수 있다. 반응 제어를 위해서, 중합 중에 연속적 또는 간헐적으로 단량체나 열중합 개시제를 첨가하여도 좋다. 상기 단량체나 열개시제는 유기 용매에 첨가한 상태라도 좋다.
중합 개시제로서는 열중합 개시제나 광중합 개시제 등이 이용된다. 광중합 개시제로서는, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다. 열중합 개시제로서는, 2,2’-아조비스이소부티로니트릴, 2,2’-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1’-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2’-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2’-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2’-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2’-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물; 라우릴퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물; 과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 또한, 과산화물과 환원제를 병용한 레독스계 개시제 등도 사용할 수 있다.
중합 개시제의 비율은, (메트)아크릴계 수지를 구성하는 단량체의 총량 100 질량부에 대하여 0.001∼5 질량부 정도이다. (메트)아크릴계 수지의 중합은, 활성에너지선(예컨대, 자외선 등)에 의한 중합법을 사용하여도 좋다.
유기 용매로서는, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 들 수 있다.
수지(A)의 함유량은, 점착제 조성물 100 질량% 중, 통상 60 질량%∼99.9 질량%이며, 바람직하게는 70 질량%∼99.5 질량%이고, 보다 바람직하게는 80 질량%∼99 질량%이다.
점착제 조성물은 가교제(B)를 포함할 수 있다. 이 가교제(B)는, (메트)아크릴계 수지(A) 중의 극성 작용기(예컨대, 히드록시기, 아미노기, 카르복실기, 복소환기 등)와 반응한다. 가교제(B)는 (메트)아크릴계 수지 등과 가교 구조를 형성하여, 내구성이나 리워크성에 유리한 가교 구조를 형성한다.
가교제(B)로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아지리딘계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트 라이프 및 점착제층의 내구성, 가교 속도 등의 관점에서, 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.
이소시아네이트계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이 바람직하고, 예컨대 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등), 지환족 이소시아네이트계 화합물(예컨대, 이소포론디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트, 수첨 크실릴렌디이소시아네이트), 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등) 등을 들 수 있다. 또한 가교제(B)는, 상기 이소시아네이트 화합물의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체(어덕트체)[예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판 등에 의한 부가체], 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등과 부가 반응시킨 우레탄 프리폴리머형의 이소시아네이트 화합물 등의 유도체라도 좋다. 가교제(B)는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중, 대표적으로는 방향족 이소시아네이트계 화합물(예컨대, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트), 지방족 이소시아네이트계 화합물(예컨대, 헥사메틸렌디이소시아네이트) 또는 이들의 다가 알코올 화합물(예컨대, 글리세롤, 트리메틸올프로판)에 의한 부가체, 또는 이소시아누레이트체를 들 수 있다. 가교제(B)가 방향족 이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물 또는 이소시아누레이트체에 의한 부가체이면, 최적의 가교 밀도(또는 가교 구조)의 형성에 유리하기 때문인지 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 특히 톨릴렌디이소시아네이트계 화합물 및/또는 이들의 다가 알코올 화합물에 의한 부가체이면, 예컨대 점착제층을 편광판에 적용한 경우 등이라도 내구성을 향상시킬 수 있다.
가교제(B)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 중량부에 대하여 통상 0.01∼15 질량부이며, 바람직하게는 0.05∼10 중량부이고, 보다 바람직하게는 0.1∼5 중량부이다.
실란 화합물(D)로서는, 예컨대 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
실란 화합물(D)은 실리콘 올리고머라도 좋다. 실리콘 올리고머의 구체예를 모노머끼리의 조합의 형태로 표기하면 다음과 같다.
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토프로필기 함유 올리고머; 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 머캅토메틸기 함유 올리고머; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머; 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 아크릴로일옥시프로필기 함유 올리고머; 비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 올리고머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 올리고머 등의 비닐기 함유 올리고머; 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.
실란 화합물(D)은 하기 식 (d1)으로 표시되는 실란 화합물이라도 좋다. 점착제 조성물이 하기 식 (d1)으로 표시되는 실란 화합물을 포함하면, 밀착성(또는 접착성)을 더욱 향상시킬 수 있기 때문에, 내박리성이 양호한 점착제층을 형성할 수 있다. 특히 고온 환경 하에서 점착제층을 투명 전극이나 유리에 적용(또는 적층)한 경우에 있어서도 밀착성(또는 접착성)을 유지할 수 있고, 높은 내구성을 보일 수 있다.
Figure pct00017
(식 중, B는 탄소수 1∼20의 알칸디일기 또는 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기를 나타내고, 상기 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-는 -O- 또는 -CO-으로 치환되어도 좋고, R7은 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, R8, R9, R10, R11 및 R12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알킬기 또는 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다)
식 (d1)에 있어서, B는 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 헥사메틸렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기 등의 탄소수 1∼20의 알칸디일기; 시클로부틸렌기(예컨대, 1,2-시클로부틸렌기), 시클로펜틸렌기(예컨대, 1,2-시클로펜틸렌기), 시클로헥실렌기(예컨대, 1,2-시클로헥실렌기), 시클로옥틸렌기(예컨대, 1,2-시클로옥틸렌기) 등의 탄소수 3∼20의 2가의 지환식 탄화수소기, 또는 이들의 알칸디일기 및 상기 지환식 탄화수소기를 구성하는 -CH2-가 -O- 또는 -CO-로 치환된 기를 나타낸다. 바람직한 B는 탄소수 1∼10의 알칸디일기이다. R7은 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, s-부틸기, t-부틸기, 펜틸기 등의 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, R8, R9, R10, R11 및 R12는 각각 독립적으로 상기 R7에 예시한 탄소수 1∼5의 알킬기, 또는 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, i-프로폭시기, 부톡시기, s-부톡시기, t-부톡시기 등의 탄소수 1∼5의 알콕시기를 나타낸다. 바람직한 R8, R9, R10, R11 및 R12는 각각 독립적으로 탄소수 1∼5의 알콕시기이다. 이들의 실란 화합물(D)은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.
구체적인 상기 식 (d1)으로 표시되는 실란 화합물로서는, 예컨대 (트리메톡시실릴)메탄, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,2-비스(트리에톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,3-비스(트리에톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,4-비스(트리에톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,5-비스(트리에톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리에톡시실릴)헥산, 1,6-비스(트리프로폭시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리에톡시실릴)옥탄, 1,8-비스(트리프로폭시실릴)옥탄 등의 비스(트리C1-5알콕시실릴)C1-10알칸; 비스(디메톡시메틸실릴)메탄, 1,2-비스(디메톡시메틸실릴)에탄, 1,2-비스(디메톡시에틸실릴)에탄, 1,4-비스(디메톡시메틸실릴)부탄, 1,4-비스(디메톡시에틸실릴)부탄, 1,6-비스(디메톡시메틸실릴)헥산, 1,6-비스(디메톡시에틸실릴)헥산, 1,8-비스(디메톡시메틸실릴)옥탄, 1,8-비스(디메톡시에틸실릴)옥탄 등의 비스(디C1-5알콕시C1-5알킬실릴)C1-10알칸; 1,6-비스(메톡시디메틸실릴)헥산, 1,8-비스(메톡시디메틸실릴)옥탄 등의 비스(모노C1-5알콕시-디C1-5알킬실릴)C1-10알칸 등을 들 수 있다. 이들 중, 1,2-비스(트리메톡시실릴)에탄, 1,3-비스(트리메톡시실릴)프로판, 1,4-비스(트리메톡시실릴)부탄, 1,5-비스(트리메톡시실릴)펜탄, 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄 등의 비스(트리C1-3알콕시실릴)C1-10알칸이 바람직하고, 특히 1,6-비스(트리메톡시실릴)헥산, 1,8-비스(트리메톡시실릴)옥탄이 바람직하다.
실란 화합물(D)의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 중량부에 대하여 통상 0.01∼10 중량부이며, 바람직하게는 0.03∼5 중량부이고, 보다 바람직하게는 0.05∼2 중량부이며, 더욱 바람직하게는 0.1∼1 중량부이다. 상기 상한치 이하이면, 점착제층으로부터의 실란 화합물(D)의 블리드아웃의 억제에 유리하고, 상기 하한치 이상이면, 점착제층과 금속층이나 유리 기판 등과의 밀착성(또는 접착성)을 향상시키기 쉽게 되어, 내박리성 등의 향상에 유리하다.
점착제 조성물은 대전방지제를 추가로 함유하고 있어도 좋다.
대전방지제로서는, 계면활성제, 실록산 화합물, 도전성 고분자, 이온성 화합물 등을 들 수 있고, 이온성 화합물인 것이 바람직하다. 이온성 화합물로서는 관용의 것을 들 수 있다. 이온성 화합물을 구성하는 양이온 성분으로서는 유기 양이온, 무기 양이온 등을 들 수 있다. 유기 양이온으로서는, 예컨대 피리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 피페리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 무기 양이온으로서는, 예컨대 리튬 양이온, 칼륨 양이온, 나트륨 양이온, 세슘 양이온 등의 알칼리 금속 양이온, 마그네슘 양이온, 칼슘 양이온 등의 알칼리 토류 금속 양이온 등을 들 수 있다. 특히 (메트)아크릴계 수지와의 상용성의 관점에서, 피리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 피롤리디늄 양이온, 리튬 양이온, 칼륨 양이온이 바람직하다. 이온성 화합물을 구성하는 음이온 성분으로서는, 무기 음이온 및 유기 음이온의 어느 것이라도 좋지만, 대전 방지 성능의 관점에서, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온 성분으로서는, 예컨대 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -), 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-] 등을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 특히 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라(펜타플루오로페닐)보레이트 음이온[(C6F5)4B-]이 바람직하다.
점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 대전 방지 성능의 경시 안정성의 관점에서, 실온에서 고체인 이온성 화합물이 바람직하다.
대전방지제의 함유량은, (메트)아크릴계 수지(A) 100 질량부에 대하여, 예컨대 0.01∼20 질량부, 바람직하게는 0.1∼10 질량부, 더욱 바람직하게는 1∼7 질량부이다.
점착제 조성물은, 용제, 가교 촉매, 점착화제, 가소제, 연화제, 안료, 방청제, 무기 필러, 광산란성 미립자 등의 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.
<점착제층 및 점착제층 구비 광학 필름의 구성, 그리고 제조 방법>
본 발명은 상기 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 포함한다. 상기 점착제층은, 예컨대 상기 점착제 조성물을, 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 이어서, 이것을 광학 필름 또는 이형 필름의 표면에 도포·건조함으로써 형성할 수 있다.
또한 본 발명은, 수지 필름과 이 수지 필름의 적어도 한쪽의 면에 적층된 상기 점착제층을 포함하는 광학 적층체도 포함한다.
도 1∼도 4에 본 발명의 점착제 조성물로 형성된 점착제층을 포함하는 광학 적층체의 일례를 도시하는 개략 단면도를 도시했다.
도 1에 도시한 점착제층 구비 수지 필름(10)은, 수지 필름(2)과, 상기 광학 필름의 편면에 점착제층(1)이 적층된 광학 필름이다. 또한, 수지 필름(2)은 점착제층(1)의 양면에 적층되더라도 좋다.
도 2에 도시한 광학 적층체(10A)는, 보호 필름(8), 접착제층(7), 편광 필름(9), 점착제층(1), 수지 필름(2)을 포함하는 적층체이다.
도 3에 도시한 광학 적층체(10B) 및 도 3에 도시한 광학 적층체(10C)는, 보호 필름(8), 접착제층(7), 편광 필름(9), 점착제층(1), 광학 필름(40), 점착제층(7a), 액정 셀(30)을 포함하는 적층체이며, 광학 필름(40)이 다층 구조를 갖는 광학 적층체이다. 점착제층(7a)은 공지된 점착제층이라도 좋고, 본 발명의 점착제로 형성되는 점착제층이라도 좋다.
도 1에 도시되는 점착제층 구비 수지 필름(10)은, 수지 필름(2)과, 상기 광학 필름의 편면에 점착제층(1)이 적층된 광학 필름이다. 또한, 수지 필름(2)은 점착제층(1)의 양면에 적층되더라도 좋다.
점착제층(1)을 수지 필름(2)의 표면에 적층할 때는, 수지 필름(2)의 접합면 및/또는 점착제층(1)의 접합면에 프라이머층을 형성하게 하여도 좋고, 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 행하여도 좋다.
점착제층 구비 수지 필름(10)은, 점착제층(1)의 외면에 적층되는 세퍼레이트 필름(박리 필름)(3)을 포함하고 있어도 좋다. 이 세퍼레이트 필름은 통상 점착제층(20)의 사용 시(예컨대, 투명 도전극이나 유리 기판에의 적층 시)에 박리 제거된다. 세퍼레이트 필름은, 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아레이트 등의 각종 수지를 포함하는 필름의 점착제층(1)이 형성되는 면에, 실리콘 처리 등의 이형 처리가 실시된 것이라도 좋다.
점착제층 구비 광학 필름(10)은, 상기 점착제 조성물을 구성하는 각 성분을 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 이어서, 이것을 수지 필름(2)의 표면에 도포·건조하여 점착제층(1)을 형성함으로써 얻을 수 있다. 또한 점착제층 구비 광학 필름(1)은, 세퍼레이트 필름의 이형 처리의 면에 상기와 같은 식으로 점착제층(1)을 형성하고, 이 점착제층(1)을 광학 필름(2)의 표면에 적층(전사)함으로써도 얻을 수 있다.
점착제층의 두께는 통상 0.1∼30 ㎛이며, 점착제층 구비 광학 필름의 내구성이나 점착제층 구비 광학 필름의 리워크성 등의 관점에서, 바람직하게는 3∼30 ㎛이고, 더욱 바람직하게는 5∼25 ㎛이다. 점착제층의 두께가 상기 상한치 이하이면, 리워크성이 양호하게 되고, 상기 하한치 이상이면, 내구성이 양호하게 된다.
점착제층의 23℃에 있어서의 저장탄성률은 통상 100 MPa 이상이며, 바람직하게는 300 MPa 이상이고, 보다 바람직하게는 500 MPa 이상이며, 10000 MPa 이하인 것이 바람직하다. 점착제층의 저장탄성률은, 시판되는 점탄성 측정 장치, 예컨대 REOMETRIC사 제조의 점탄성 측정 장치 「DYNAMIC ANALYZER RDA II」를 이용하여 측정할 수 있다.
점착제층은 하기 식 (4)을 만족하는 것이 바람직하다.
A(405)≥0.5 (4)
[식 중, A(405)는 파장 405 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
A(405)의 값이 클수록 파장 405 nm에 있어서의 흡수가 높음을 나타내고, A(405)의 값이 0.5 미만이면, 파장 405 nm에 있어서의 흡수가 낮아, 자외선에 있어서의 유기 EL 소자 등의 표시 장치나 위상차 필름의 열화가 일어나기 쉽다. A(405)의 값은 바람직하게는 0.6 이상이며, 보다 바람직하게는 0.8 이상이고, 특히 바람직하게는 1.0 이상이다.
점착제층은 또한 하기 식 (5)을 만족하는 것이 바람직하다.
A(420)≥0.1 (5)
[식 중, A(420)는 파장 420 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
A(420)의 값이 클수록 파장 420 nm에 있어서의 흡수가 높음을 나타내고, A(420)의 값이 0.1 미만이면, 파장 420 nm에 있어서의 흡수가 낮아, 자외선에 있어서의 유기 EL 소자 등의 표시 장치나 위상차 필름의 열화가 일어나기 쉽다. A(420)의 값은 바람직하게는 0.1 이상이며, 보다 바람직하게는 0.15 이상이고, 특히 바람직하게는 0.2 이상이다.
점착제층은 또한 하기 식 (6)을 만족하는 것이 바람직하다.
A(440)≤0.1 (6)
[식 (6) 중, A(440)는 파장 440 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
A(440)의 값이 작을수록 파장 440 nm에 있어서의 흡수가 낮음을 나타내고, A(440)의 값이 0.1을 넘으면, 표시 장치에 있어서의 양호한 색채 표현을 해치는 경향이 있다. 또한, 표시 장치의 발광을 저해하기 때문에 휘도도 저하해 버린다. A(440)의 값은 바람직하게는 0.05 이하이며, 보다 바람직하게는 0.04 이하이고, 특히 바람직하게는 0.03이다.
점착제층은 하기 식 (7) 및 식 (8)의 적어도 어느 한쪽을 만족하는 것이 바람직하다.
A(405)/A(440)≥5 (7)
A(420)/A(440)≥1 (8)
[식 중, A(405)는 파장 405 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타내고, A(440)는 파장 440 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타내고, A(420)는 파장 420 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다]
A(405)/A(440)의 값은, 파장 440 nm에 있어서의 흡수의 크기에 대한 파장 405 nm의 흡수의 크기를 나타내며, 이 값이 클수록 405 nm 부근의 파장 영역에 특이적인 흡수가 있음을 나타낸다. A(405)/A(440)의 값은 10 이상인 것이 바람직하고, 30 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 60 이상이다.
A(420)/A(440)의 값은, 파장 440 nm에 있어서의 흡수의 크기에 대한 파장 420 nm의 흡수의 크기를 나타내고, 이 값이 클수록 420 nm 부근의 파장 영역에 특이적인 흡수가 있음을 나타낸다. A(420)/A(440)의 값은 1.5 이상인 것이 바람직하고, 2 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 3 이상이다.
<수지 필름>
본 발명의 광학 적층체(10)를 구성하는 수지 필름(2)은 광학 필름인 것이 바람직하다. 광학 필름이란, 광선을 투과, 반사, 흡수하는 등의 광학 기능을 갖는 필름을 의미한다.
수지 필름(2)은 단층 구조라도 좋고, 다층 구조라도 좋다. 단층 구조의 광학 필름으로서는, 편광자, 위상차 필름, 휘도 향상 필름, 방현 필름, 반사 방지 필름, 확산 필름, 집광 필름을 들 수 있다. 다층 구조의 광학 필름으로서는, 편광판, 위상차판, 상기에 기재한 단층 구조의 광학 필름의 적층체 등을 들 수 있다. 단층 구조의 광학 필름을 적층할 때는, 접착제층이나 점착제층을 매개로 하여도 좋다.
수지 필름(2)은 위상차 필름, 편광판인 것이 바람직하다.
<위상차 필름>
위상차 필름이란, 광학 이방성을 보이는 광학 필름이며, 예컨대 폴리비닐알코올계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리이미드계 수지, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 스티렌계 수지, 폴리술폰 및 폴리에테르술폰 등의 술폰계 수지, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 액정 폴리에스테르 수지, 트리아세틸셀룰로오스를 포함하는 셀룰로오스계 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐계 수지, 아크릴 수지 등을 포함하는 수지 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름을 들 수 있다. 그 중에서도, 시클로올레핀계 수지 필름, 셀룰로오스계 수지 필름, 폴리에스테르계 수지 필름 및 폴리카보네이트 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 수지 필름이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름를 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등이라고 불리는 필름도 포함한다.
또한, 본 명세서에 있어서 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름를 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등이라고 불리는 필름도 포함한다.
제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션 Re과 두께 방향의 리타데이션 Rth이 함께 -15∼15 nm이며, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄상 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 포함하는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션 값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 후지 필름(주)에서 판매하고 있는 “Z-TAC”(상품명), 코니카미놀타옵토(주)에서 판매하고 있는 “제로태크(등록상표)”, 닛폰제온(주)에서 판매하고 있는 “ZF-14”(상품명) 등을 들 수 있다.
<위상차 필름>
위상차 필름이란, 광학 이방성을 보이는 광학 필름이며, 예컨대 폴리비닐알코올계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리이미드계 수지, 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 스티렌계 수지, 폴리술폰 및 폴리에테르술폰 등의 술폰계 수지, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 액정 폴리에스테르 수지, 트리아세틸셀룰로오스를 포함하는 셀룰로오스계 수지, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐계 수지, 아크릴 수지 등을 포함하는 수지 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름을 들 수 있다. 그 중에서도, 시클로올레핀계 수지 필름, 셀룰로오스계 수지 필름, 폴리에스테르계 수지 필름 및 폴리카보네이트 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 수지 필름이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름를 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등이라고 불리는 필름도 포함한다.
또한, 본 명세서에 있어서 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름를 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등이라고 불리는 필름도 포함한다.
제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션 Re과 두께 방향의 리타데이션 Rth이 함께 -15∼15 nm이며, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄상 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 포함하는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션 값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 후지 필름(주)에서 판매하고 있는 “Z-TAC”(상품명), 코니카미놀타옵토(주)에서 판매하고 있는 “제로태크(등록상표)”, 닛폰제온(주)에서 판매하고 있는 “ZF-14”(상품명) 등을 들 수 있다.
위상차 필름이란, 광학 이방성을 보이는 광학 필름이며, 예컨대 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등을 포함하는 고분자 필름을 1.01∼6배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 일축 연신 또는 이축 연신한 고분자 필름인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서 위상차 필름은, 제로 리타데이션 필름를 포함하고, 일축성 위상차 필름, 저광탄성률 위상차 필름, 광시야각 위상차 필름 등이라고 불리는 필름도 포함한다.
액정성 화합물의 도포·배향에 의해서 광학 이방성을 발현시킨 필름이나, 무기층형 화합물의 도포에 의해서 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는, 온도 보상형 위상차 필름이라고 불리는 필름, JX 닛코닛세키에네르기(주)에서 판매하고 있는 “NH 필름”(상품명; 막대형 액정이 경사 배향된 필름), 후지필름(주)에서 판매하고 있는 “WV 필름”(상품명; 원반형 액정이 경사 배향된 필름), 스미토모카가쿠(주)에서 판매하고 있는 “VAC 필름”(상품명; 완전 이축 배향형의 필름), 스미토모카가쿠(주)에서 판매하고 있는 “new VAC 필름”(상품명; 이축 배향형의 필름) 등을 들 수 있다.
제로 리타데이션 필름이란, 정면 리타데이션 Re과 두께 방향의 리타데이션 Rth이 함께 -15∼15 nm이고, 광학적으로 등방인 필름을 말한다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 셀룰로오스계 수지, 폴리올레핀계 수지(쇄상 폴리올레핀계 수지, 폴리시클로올레핀계 수지 등) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 포함하는 수지 필름을 들 수 있고, 리타데이션 값의 제어가 용이하고, 입수도 용이하다고 하는 점에서, 셀룰로오스계 수지 또는 폴리올레핀계 수지가 바람직하다. 제로 리타데이션 필름은 보호 필름으로서도 이용할 수 있다. 제로 리타데이션 필름으로서는, 후지 필름(주)에서 판매하고 있는 “Z-TAC”(상품명), 코니카미놀타옵토(주)에서 판매하고 있는 “제로태크(등록상표)”, 닛폰제온(주)에서 판매하고 있는 “ZF-14”(상품명) 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름은 중합성 액정 화합물을 경화시켜 이루어지는 위상차 필름이 바람직하다.
액정성 화합물의 도포·배향에 의해서 광학 이방성을 발현시킨 필름으로서는,
제1 형태: 막대형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수평 방향으로 배향된 위상차 필름,
제2 형태: 막대형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향된 위상차 필름,
제3 형태: 막대형 액정 화합물이 면내에서 나선형으로 배향 방향이 변화되어 있는 위상차 필름,
제4 형태: 원반형 액정 화합물이 경사 배향되어 있는 위상차 필름,
제5 형태: 원반형 액정 화합물이 지지 기재에 대하여 수직 방향으로 배향된 이축성의 위상차 필름을 들 수 있다.
예를 들면, 유기 일렉트로루미네센스 디스플레이에 이용되는 광학 필름으로서는, 제1 형태, 제2 형태, 제5 형태가 적합하게 이용된다. 또는 이들을 적층시켜 이용하여도 좋다.
위상차 필름이, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체를 포함하는 층(이하, 「광학 이방성층」이라고 부르는 경우가 있다)인 경우, 위상차 필름은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 액정 배향 면내 위상차 값의 쪽이 장파장에서의 액정 배향 면내 위상차 값보다도 작아지는 광학 특성이며, 바람직하게는 위상차 필름이 하기 식 (9) 및 식 (10)을 만족하는 것이다. 여기서, Re(λ)는 파장 λ nm의 광에 대한 면내 위상차 값을 나타낸다.
Re(450)/Re(550)≤1 (9)
1≤Re(630)/Re(550) (10)
본 발명의 광학 필름에 있어서, 위상차 필름이 제1 형태이며 또한 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑 표시 시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (9)에 있어서 0.82≤Re(450)/Re(550)≤0.93이면 보다 바람직하다. 120≤Re(550)≤150이 더욱 바람직하다.
위상차 필름이 광학 이방성층을 갖는 필름인 경우의 중합성 액정 화합물로서는, 액정편람(액정편람편집위원회 편, 마루젠(주) 2000년 10월 30일 발행)의 「3.8.6 네트워크(완전 가교형)」, 「6.5.1 액정 재료 b. 중합성 네마틱 액정 재료」에 기재된 화합물 중에서 중합성기를 갖는 화합물, 그리고 일본 특허공개 2010-31223호 공보, 일본 특허공개 2010-270108호 공보, 일본 특허공개 2011-6360호 공보, 일본 특허공개 2011-207765호 공보, 일본 특허공개 2011-162678호, 일본 특허공개 2016-81035호 공보, 국제공개 제2017/043438호 공보 및 일본 특허공표 2011-207765호 공보에 기재한 중합성 액정 화합물을 들 수 있다.
중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 위상차 필름을 제조하는 방법은, 예컨대 일본 특허공개 2010-31223호 공보에 기재한 방법을 들 수 있다.
제2 형태의 경우, 정면 위상차 값 Re(550)는 0∼10 nm의 범위로, 바람직하게는 0∼5 nm의 범위로 조정하면 되고, 두께 방향의 위상차 값 Rth는 -10∼-300 nm의 범위로, 바람직하게는 -20∼-200 nm의 범위로 조정하면 된다. 두께 방향의 굴절률 이방성을 의미하는 두께 방향의 위상차 값 Rth는, 면내의 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정되는 위상차 값 R50와 면내의 위상차 값 R0로부터 산출할 수 있다. 즉, 두께 방향의 위상차 값 Rth는, 면내의 위상차 값 R0, 진상축을 경사축으로 하여 50도 경사시켜 측정한 위상차 값 R50, 위상차 필름의 두께 d 및 위상차 필름의 평균 굴절률 n0로부터 이하의 식 (11)∼(13)에 의해 nx, ny 및 nz를 구하고, 이들을 식 (14)에 대입하여 산출할 수 있다.
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (14)
R0=(nx-ny)×d (11)
R50=(nx-ny')×d/cos(φ) (12)
(nx+ny+nz)/3=n0 (13)
여기서,
φ=sin-1〔sin(40°)/n0〕
ny'=ny×nz/〔ny 2×sin2(φ)+nz 2×cos2(φ)〕1/2
위상차 필름은 2 이상의 층을 갖는 다층 필름이라도 좋다. 예를 들어, 위상차 필름의 편면 또는 양면에 보호 필름이 적층된 것이나, 2 이상의 위상차 필름이 점착제 또는 접착제를 통해 적층된 것을 들 수 있다.
광학 필름(40)이 2 이상의 위상차 필름이 적층된 다층 필름인 경우, 본 발명의 광학 필름을 포함하는 광학 적층체의 구성으로서는, 도 3에 도시한 것과 같이, 투과광에 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(50)과 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(70)을, 접착제 또는 점착제(60)를 통해 적층한 광학 필름(40)을 포함하는 구성을 들 수 있다. 또한, 도 4에 도시한 것과 같이, 1/4 파장 위상차층(50a)과 포지티브 C층(80)을, 접착제층 또는 점착제층을 통해 적층한 광학 필름(40)을 포함하는 구성도 들 수 있다.
도 3의 1/4 파장분의 위상차를 부여하는 1/4 파장 위상차층(50) 및 투과광에 1/2 파장분의 위상차를 부여하는 1/2 파장 위상차층(70)은, 상기 제1 형태의 광학 필름이라도 제5 형태의 광학 필름이라도 좋다. 도 3의 구성의 경우, 적어도 한쪽이 제5 형태인 것이 보다 바람직하다.
도 4의 구성의 경우, 1/4 파장 위상차층(50a)은 상기 제1 형태의 광학 필름인 것이 바람직하고, 또한 식 (7), 식 (8)을 만족하는 것이 보다 바람직하다.
편광 필름은, 일축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드 또는 2색성 염료 등의 2색성 색소가 흡착 배향된 필름 등을 들 수 있다. 편광 필름은, 예컨대 일본 특허공개 2000-338329호 공보 또는 일본 특허공개 2012-159778호 공보 등의 공지된 방법으로 제조할 수 있다.
편광 필름의 편면 또는 양면에, 접착제를 통해 보호 필름이 마련된 편광판이라도 좋다. 접착제로서는 공지된 접착제가 이용되며, 수계 접착제라도 좋고, 활성 에너지선 경화형 접착제라도 좋다.
보호 필름으로서는, 투광성을 갖는 열가소성 수지로 형성되는 필름인 것이 바람직하다. 구체적으로는 폴리올레핀계 수지; 셀룰로오스계 수지; 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴계 수지; 또는 이들의 혼합물, 공중합물 등을 포함하는 필름을 들 수 있다. 편광 필름의 양면에 보호 필름이 마련되는 경우, 이용되는 보호 필름은, 다른 열가소성 수지를 포함하는 필름이라도 좋고, 동일한 열가소성 수지를 포함하는 필름이라도 좋다.
<편광판>
편광판은, 그것을 구성하는 편광자의 편면 또는 양면에 보호 필름이 접착된 상태로 이용되는 경우가 많다. 통상, 그 한쪽의 면에 점착제층이 형성된다. 또한, 편광판과 위상차 필름을 적층한 타원편광판은, 편광자의 편면 또는 양면에 보호 필름이 접착된 상태인 경우가 많다. 이러한 타원편광판에 점착제층을 형성하는 경우는, 통상 그 위상차 필름 측에 점착제층이 형성된다.
편광자는, 그 흡수축에 평행한 진동면을 갖는 직선편광을 흡수하고, 흡수축에 직교하는(투과축과 평행한) 진동면을 갖는 직선편광을 투과하는 성질을 갖는 필름이며, 예컨대 폴리비닐알코올계 수지 필름에 2색성 색소를 흡착 배향시킨 필름을 이용할 수 있다. 2색성 색소로서는, 예컨대 요오드나 2색성 유기 염료 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지는 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻을 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 예컨대 아세트산비닐의 단독중합체인 폴리아세트산비닐, 아세트산비닐과 공중합 가능한 단량체(예컨대, 불포화 카르복실산, 올레핀, 비닐에테르, 불포화 술폰산, 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드 등)와 아세트산비닐과의 공중합체 등을 들 수 있다.
폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는 통상 85∼100 몰%, 바람직하게는 98 몰% 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 좋으며, 예컨대 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말 또는 폴리비닐아세탈 등이라도 좋다. 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는 통상 1000∼10000, 바람직하게는 1500∼5000이다. 또한, 폴리비닐알코올계 수지의 평균 중합도는 JIS K 6726에 준거하여 구할 수 있다.
통상 폴리비닐알코올계 수지를 제막한 것을 편광자의 원단 필름으로서 이용한다. 폴리비닐알코올계 수지는 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 원단 필름의 두께는 통상 1∼150 ㎛이며, 연신 용이성 등을 고려하면, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이다.
편광자는, 예컨대 원단 필름에 대하여, 일축 연신하는 공정, 2색성 색소로 필름을 염색하여 그 2색성 색소를 흡착시키는 공정, 붕산 수용액으로 필름을 처리하는 공정 및 필름을 수세하는 공정이 실시되고, 마지막으로 건조하여 제조된다. 편광자의 두께는 통상 1∼30 ㎛이며, 점착제층 구비 수지 필름(1)의 박막화의 관점에서, 바람직하게는 20 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이하, 특히 10 ㎛ 이하이다.
보호 필름으로서는 투명한 열가소성 수지 필름인 것이 바람직하다. 열가소성 수지 필름으로서는, 예컨대 아세트산셀룰로오스 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 폴리이미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지 등의 수지를 포함하는 필름을 들 수 있다.
편광자와 보호 필름의 접착에는 공지된 접착제가 이용된다. 접착제로서는, 수계 접착제라도 좋고, 활성 에너지 경화형 접착제라도 좋다.
집광 필름은, 광로 제어 등을 목적으로 이용되는 것이며, 프리즘 어레이 시트나 렌즈 어레이 시트, 도트 부설 시트 등일 수 있다.
휘도 향상 필름은, 편광판을 적용한 액정 표시 장치에 있어서의 휘도를 향상시킬 목적으로 사용된다. 구체적으로는, 굴절률의 이방성이 상호 다른 박막 필름을 복수 매수 적층하여 반사율에 이방성이 생기도록 설계된 반사형 편광 분리 시트, 콜레스테릭 액정 폴리머의 배향 필름이나 그 배향 액정층을 기재 필름 상에 지지한 원편광 분리 시트 등을 들 수 있다.
본 발명의 점착제층 구비 수지 필름은, 편광판과 점착제층과 위상차 필름을 이 순서로 포함하는 적층 필름인 것이 바람직하다.
본 발명의 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 포함하는 광학 적층체는, 유기 EL 소자, 액정 셀 등의 표시 소자에 적층시켜, 유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 표시 장치(FPD: 플랫 패널 디스플레이)에 이용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 실시예 및 비교예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 「질량%」 및 「질량부」이다.
또한, 이하의 예에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 측정은, 겔 투과 크로마토그래피(이하, GPC라고 기재한다.) 장치(GPC-8120, 도소(주) 제조)에 컬럼으로서, 4본의 「TSK gel XL(도소(주) 제조)」 및 1본의「Shodex GPC KF-802(쇼와덴코(주) 제조)」, 합계 5본을 직렬로 이어 배치하고, 용출액으로서 테트라히드로푸란을 이용하여, 시료 농도 5 mg/mL, 시료 도입량 100 μL, 온도 40℃, 유속 1 mL/분의 조건으로 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 산출했다.
<아크릴 수지의 조제>
표 1에 나타내는 조성에 따라, 이하의 방법에 의해 아크릴 수지(A) 및 아크릴 수지(B)를 조제했다.
[중합예 1]: 아크릴 수지(A)의 조제
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 갖춘 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8 부, 단량체(A-1)로서 아크릴산부틸 70.4 부, 아크릴산메틸 20.0 부 및 아크릴산2-페녹시에틸 8.0 부, 아크릴산2-히드록시에틸 1.0 부, 아크릴산 0.6 부의 혼합 용액을 넣고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않게 하면서 내부 온도를 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.14 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 개시제의 첨가 후 1시간 이 온도로 유지하고, 이어서 내부 온도를 54∼56℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3 부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 가하고, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 시작에서부터 12시간 경과할 때까지 이 온도로 보온했다. 마지막으로 아세트산에틸을 가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제했다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)이 142만, Mw/Mn이 5.2였다. 이것을 아크릴 수지(A)로 한다.
[중합예 2]: 아크릴 수지(B)의 조제
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 갖춘 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8 부, 단량체(A-1)로서 아크릴산부틸 96.0 부 및 단량체(A-3)로서 아크릴산 4.0 부의 혼합 용액을 넣고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않게 하면서 내부 온도를 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합 개시제) 0.14 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 개시제의 첨가 후 1시간 이 온도로 유지하고, 이어서 내부 온도를 54∼56℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3 부/hr로 반응 용기 내에 연속적으로 가하고, 아크릴 수지의 농도가 35%가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 시작에서부터 12시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온했다. 마지막으로 아세트산에틸을 가하여 아크릴 수지의 농도가 20%가 되도록 조절하여, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제했다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)이 75만6000, Mw/Mn이 4.1이었다. 이것을 아크릴 수지(B)로 한다.
Figure pct00018
표 1 중, 단량체 조성란에 있는 부호는 각각 다음의 단량체를 의미한다.
[단량체(A-1)]
BA: 아크릴산부틸
MA: 아크릴산메틸
PEA: 아크릴산2-페녹시에틸
[단량체(A-2)]
HEA: 아크릴산2-히드록시에틸
[단량체(A-3)]
AA: 아크릴산
위에서 제조한 아크릴 수지를 이용하여 점착제 조성물을 조제하고, 그것을 이용하여 실시예 및 비교예의 광학 필름을 제작했다. 가교제, 실란 화합물 및 광선택 흡수성 화합물로서, 각각 다음의 것을 사용했다.
[가교제(B)]
콜로네이트 L: 톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75%), 닛폰폴리우레탄가부시키가이샤 제조.
타케네이트 D-110N: 크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75%), 미츠이카가쿠가부시키가이샤 제조(이하, 「D110N」이라고 약기한다).
[실란 화합물]
KBM-403: 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 액체, 신에츠카가쿠고교가부시키가이샤 제조(이하, 「KBM-403」이라고 약기한다).
[광선택 흡수성 화합물]
<그램 흡광 계수 ε 측정>
얻어진 화합물의 그램 흡광 계수를 측정하기 위해서, 광흡수성 화합물을 2-부타논에 용해시켰다. 얻어진 용액을 석영 셀에 넣고, 석영 셀을 분광광도계 UV-2450(가부시키가이샤시마즈세이사쿠쇼 제조)에 셋트하고, 더블빔법에 의해 1 nm 스텝 300∼800 nm의 파장 범위에서 흡광도를 측정했다. 얻어진 흡광도의 값과 용액 중의 광흡수성 화합물 농도, 석영 셀의 광로 길이로부터 파장마다의 그램 흡광 계수를 산출했다.
ε(λ)=A(λ)/CL
〔식 중, ε(λ)는 파장 λ nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수 L/(g·cm)를 나타내고, A(λ)는 파장 λ nm에 있어서의 흡광도를 나타내고, C는 농도 g/L를 나타내고, L은 석영 셀의 광로 길이 cm를 나타낸다. 〕
[합성예 1]
Figure pct00019
짐로트 냉각관, 온도계 및 교반기를 설치한 300 mL 4구 플라스크 내부를 질소 분위기로 하고, 말론알데히드디아닐리드염산염(도쿄가세이고교(주) 제조) 20 g, 1,3-디메틸바르비투르산(도쿄가세이고교(주) 제조) 13.3 g, 메탄올 46 g을 넣어, 실온에서 교반을 시작했다. 트리에틸아민(와코쥰야쿠고교(주) 제조) 8.6 g을 적하 깔때기로부터 30분 걸쳐 적하하여, 실온에서 1시간 교반을 계속했다. 그 후, 오일 배스를 이용하여 내부 온도 65℃로 승온하여, 1시간 비점 환류했다. 반응 종료 후에 내부 온도를 실온까지 냉각하고, 석출한 결정을 여과하여 취하고, 또한 메탄올로 상기 습결정(濕結晶)을 세정했다. 세정 후의 습결정을 40℃에서 감압 건조함으로써, 귤색 분말로서 UVA-M-01을 18.5 g 얻었다. 수율은 84%였다.
1H-NMR 해석을 행한 바, 이하의 피크가 관측되었으므로, UVA-M-01이 생성되었음이 확인되었다.
1H-NMR(DMSO-d6)δ(ppm): 3.07(s, 6H), 7.04-7.07(m, 1H), 7.26-7.32(m, 4H), 7.43(dd, 1H), 8.07(d, 1H), 8.55(d, 1H), 11.4(s, 1H)
[합성예 2]
짐로트 냉각관, 온도계를 설치한 100 mL 4구 플라스크 내부를 질소 분위기로 하고, UVA-M-01의 분말 2.0 g, 모르폴린(와코쥰야쿠고교(주) 제조) 1.6 g, 2-프로판올(나카라이테스크(주) 제조) 10 g을 넣어, 마그네틱 스터러로 교반했다. 오일 배스로 가온하여 내부 온도 83℃에서 3시간 비점 환류하고, 반응 종료 후에 실온까지 냉각했다. 석출된 결정을 여과하여 취하고, 상기 습결정을 2-프로판올로 합계 4회 세정 후, 40℃에서 감압 건조함으로써 귤색 분말로서 UVA-01을 1.6 g 얻었다. 수율은 82%였다.
또한, 분광광도계 UV-2450((주)시마즈세이사쿠쇼 제조)을 이용하여 극대 흡수 파장(λmax)을 측정한 바, λmax=406 nm(2-부타논 중)이고, ε(405)의 값은 314 L/(g·cm)이고, ε(420)의 값은 85 L/(g·cm)이고, ε(440)의 값은 1.3 L/(g·cm)였다.
1H-NMR 해석을 행한 바, 이하의 피크가 관측되었으므로, UVA-01이 생성되었음이 확인되었다.
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm): 3.27(s, 3H), 3.29(s, 3H), 3.50-3.59(m, 4H), 3.72-3.78(m, 4H), 7.19-7.32(m, 2H), 7.95-8.06(m, 1H)
[합성예 3]
짐로트 냉각관, 온도계를 설치한 100 mL 4구 플라스크 내부를 질소 분위기로 하고, UVA-M-01의 분말 2.0 g, 디에틸아민(도쿄가세이고교(주) 제조) 1.4 g, 2-프로판올(나카라이테스크(주) 제조) 10 g을 넣어, 마그네틱 스터러로 교반했다. 오일 배스로 가온하여 내부 온도 52℃에서 5시간 보온하고, 반응 종료 후에 실온까지 냉각했다. 감압 에바포레이터를 이용하여 2-프로판올을 제거하고, 얻어진 유상물을 컬럼 크로마토그래피(실리카겔)에 제공하여 정제함으로써, 귤색 분말로서 UVA-02를 1.1 g 얻었다. 수율은 58%였다. 또한, 분광광도계 UV-2450((주)시마즈세이사쿠쇼 제조)를 이용하여 극대 흡수 파장(λmax)을 측정한 바, λmax=404 nm(2-부타논 중)이며, ε(405)의 값은 303 L/(g·cm)이고, ε(420)의 값은 81 L/(g·cm)이고, ε(440)의 값은 1.9 L/(g·cm)였다.
1H-NMR 해석을 행한 바, 이하의 피크가 관측되었기 때문에, UVA-02가 생성되었음이 확인되었다.
1H-NMR(CDCl3)δ(ppm): 1.26-1.37(m, 6H), 3.34(s, 3H), 3.35(s, 3H), 3.43-3.56(m, 4H), 7.27-7.39(m, 2H), 8.04(d, 1H)
[합성예 4]
Figure pct00020
짐로트 냉각관, 온도계를 설치한 200 mL 4구 플라스크 내부를 질소 분위기로 하고, 특허문헌(일본 특허공개 2014-194508)을 참고로 합성한 UVA-M-02 분말 10 g, 무수아세트산(와코쥰야쿠고교가부시키가이샤 제조) 3.6 g, 시아노아세트산2-에틸헥실(도쿄가세이고교가부시키가이샤 제조) 6.9 g 및 아세토니트릴(와코쥰야쿠고교가부시키가이샤 제조) 60 g을 넣어, 마그네틱 스터러로 교반했다. 내부 온도 25℃에서 DIPEA(도쿄가세이고교가부시키가이샤 제조) 4.5 g을 적하 깔때기로부터 1시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내부 온도 25℃에서 추가로 2시간 보온했다. 반응 종료 후, 감압 증발기를 이용하여 아세토니트릴을 제거하고, 컬럼 크로마토그래피(실리카겔)에 제공하여 정제하고, UVA-03을 포함하는 유출액을, 감압 증발기를 이용하여 용매를 제거함으로써, 황색 결정을 얻었다. 이 결정을 60℃ 감압 건조함으로써, 황색 분말로서 UVA-03을 4.6 g 얻었다. 수율은 50%였다.
상기와 동일한 방법으로 그램 흡광도 계수를 구하면, ε(405)의 값은 47 L/(g·cm)이고, ε(420)의 값은 1.5 L/(g·cm)였다. 즉, 식 (UVA-03)으로 표시되는 화합물은 광선택 흡수 화합물(a)에 상당한다.
1H-NMR 해석을 행한 바, 이하의 피크가 관측되었으므로, UVA-03이 생성되었음이 확인되었다.
1H-NMR(CDCl3)δ: 0.87-0.94(m, 6H), 1.32-1.67(m, 8H), 1.59-1.66(m, 2H), 2.09(quin, 2H), 3.00(m, 5H), 3.64(t, 2H), 4.10(dd, 2H), 5.52(d, 2H), 7.87(d, 2H)
[합성예 5]
Figure pct00021
짐로트 냉각관, 온도계를 설치한 200 mL 4구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 특허문헌(일본 특허공개 2014-194508)을 참고로 합성한 UVA-M-02 분말 10 g, 무수아세트산(와코쥰야쿠고교가부시키가이샤 제조) 3.6 g, 시아노아세트산2-옥틸헥실(도쿄가세이고교가부시키가이샤 제조) 10 g 및 아세토니트릴(와코쥰야쿠고교가부시키가이샤 제조) 60 g을 넣어, 마그네틱 스터러로 교반했다. 내부 온도 25℃에서 DIPEA(도쿄가세이고교가부시키가이샤 제조) 4.5 g을 적하 깔때기로부터 1시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내부 온도 25℃에서 추가로 2시간 보온했다. 반응 종료 후, 감압 증발기를 이용하여 아세토니트릴을 제거하고, 컬럼 크로마토그래피(실리카겔)에 제공하여 정제하고, UVA-04를 포함하는 유출액을, 감압 증발기를 이용하여 용매를 제거함으로써, 황색 결정을 얻었다. 이 결정을 60℃ 감압 건조함으로써, 황색 분말로서 UVA-04를 4.6 g 얻었다. 수율은 56%였다.
분광광도계 UV-2450(가부시키가이샤시마즈세이사쿠쇼 제조)을 이용하여 흡수 극대 파장(λmax)을 측정한 바, λmax=386 nm(2-부타논 중)이며, ε(405)의 값은 45 L/(g·cm)이고, ε(420)의 값은 2.1 L/(g·cm)이고, ε(440)의 값은 0.3 L/(g·cm)였다. 즉, 식 (UVA-04)으로 표시되는 화합물은 광선택 흡수 화합물(a)에 상당한다.
얻어진 광흡수성 화합물의 그램 흡광 계수 측정의 결과를 표 2에 나타낸다. 또한, 표 2에 있어서의 「-」는 ε(440)의 흡수가 없었음을 의미한다.
Figure pct00022
<점착제 조성물 및 점착제 시트의 조제>
(a) 점착제 조성물의 조제(제조예 1∼39)
하기 표 2에 기재한 아크릴 수지, 광선택 흡수성 화합물(자외선 흡수제), 가교제 및 실란 화합물을 혼합하여, 점착제 조성물을 제작했다. 또한, 표 2 중의 각 성분의 첨가량은, 상기 중합예 1∼11에서 제작한 아크릴 수지 중의 고형분 100 질량부에 대한 질량부이다. 또한, 가교제 및 광선택 흡수성 화합물은 각각 2-부타논 용액으로서 아크릴 수지 중에 첨가했다.
(a-1) 실시예 1∼4 및 비교예 1∼5의 점착제 조성물의 조제
표 2에 나타내는 처방에 따라, 아크릴 수지(A)의 고형분 100 질량부에 대하여, 가교제, 실란 화합물 및 광선택 흡수성 화합물을, 표 2에 나타내는 각각의 양으로 배합했다. 또한 고형분 농도가 14%가 되도록 2-부타논을 첨가하고, 교반기(야마토가가쿠가부시키가이샤 제조 쓰리원 모터)를 이용하여, 300 rpm으로 30분간 교반 혼합하여, 각 점착제 조성물을 조제했다.
(a-2) 실시예 5∼8 및 비교예 6의 점착제 조성물의 조제
아크릴 수지(A)를 아크릴 수지(B)로 변경한 것 이외에는, 상기 실시예 1∼4 및 비교예 1∼8과 동일한 방법에 의해, 표 3에 나타내는 처방에 따라 각 점착제 조성물을 조제했다.
Figure pct00023
(b) 점착제 시트의 제작
이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트필름(린테크사 제조 SP-PLR382050, 이하 「세퍼레이터」라고 약기한다)의 이형 처리의 면에, 상기한 (a)에서 조제한 각각의 점착제 조성물을, 건조 후의 점착제층의 두께가 20 ㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도포하고, 100℃에서 1분간 건조시켜 점착제 시트를 제작했다.
<점착제층의 흡광도 측정>
얻어진 점착제층의 흡광도를 측정하기 위해서, 점착제층을 유리에 접합하고, 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층에 시클로올레핀 폴리머(COP) 필름(닛폰제온가부시키가이샤 제조 ZF-14)을 접합하여, 점착제층 평가용 적층체를 제작했다. 제작한 점착제층 평가용 적층체를 분광광도계 UV-2450(가부시키가이샤시마즈세이사쿠쇼 제조)에 셋트하고, 더블빔법에 의해 1 nm 스텝 300∼800 nm의 파장 범위에서 흡광도를 측정했다. 제작한 점착제층의 흡광도를 표 4에 나타낸다.
Figure pct00024
<광학 적층체의 제작(실시예 9∼16, 비교예 7∼12)>
광학 적층체의 작성에 이용한 폴리머 필름, 장치 및 측정 방법은 다음과 같다.
·시클로올레핀 폴리머(COP) 필름에는 닛폰제온가부시키가이샤 제조의 ZF-14를 이용했다.
·코로나 처리 장치에는 가스가덴키가부시키가이샤 제조의 AGF-B10을 이용했다.
·코로나 처리는, 상기 코로나 처리 장치를 이용하여, 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 행했다.
·편광 UV 조사 장치에는 우시오덴키가부시키가이샤 제조의 편광자 유닛을 구비한 SPOT CURE SP-7을 이용했다.
·레이저 현미경에는 올림푸스가부시키가이샤 제조의 LEXT를 이용했다.
·고압 수은 램프에는 우시오덴키가부시키가이샤 제조의 유니큐어 VB-15201BY-A를 이용했다.
·면내 위상차 값은 복굴절 측정 장치(오지게이소쿠기키가부시키가이샤 제조의 KOBRA-WR)를 이용하여 측정했다.
·막 두께는 닛폰분코가부시키가이샤 제조의 엘립소미터 M-220을 이용하여 측정했다.
광학 이방성의 층이나 적층체 등의 제조에는, 이하에 나타내는 「광배향막 형성용 조성물」, 「러빙 배향성 폴리머 조성물」, 「중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물」 및 「편광판」을 이용했다.
<광배향막 형성용 조성물의 조제>
하기 구조의 광배향성 재료 5 부와 시클로펜타논(용제) 95 부를 성분으로서 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써, 광배향막 형성용 조성물을 얻었다. 하기 광배향성 재료는 일본 특허공개 2013-33248호 공보에 기재된 방법으로 합성했다.
Figure pct00025
<중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물 A의 조제>
하기 구조의 중합성 액정 화합물 A와, 폴리아크릴레이트 화합물(레벨링제)(BYK-361N; BYK-Chemie사 제조)과, 하기의 중합 개시제와 용제를 성분으로서 혼합하여, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 얻었다.
중합성 액정 화합물 A(12.0 부):
Figure pct00026
중합성 액정 화합물 A는 일본 특허공개 2010-31223호 공보에 기재된 방법으로 합성했다. 중합성 액정 화합물 A의 극대 흡수 파장 λmax(LC)은 350 nm였다.
중합 개시제(0.72 부): 2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온(이르가큐어 369; 치바스페샬티케미컬즈사 제조)
레벨링제(0.12 부): 폴리아크릴레이트 화합물(BYK-361N; BYK-Chemie사 제조)
용제: 시클로펜타논(100 부)
〔실시예 8〕
<편광판의 제조>
두께 30 ㎛의 폴리비닐알코올 필름(평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰% 이상)을, 건식 연신에 의해 약 4배로 일축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로 40℃의 순수에 40초간 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 중량비가 0.044/5.7/100인 염색 수용액에 28℃에서 30초간 침지하여 염색 처리를 행했다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 중량비가 11.0/6.2/100인 붕산 수용액에 70℃에서 120초간 침지했다. 이어서, 8℃의 순수로 15초간 세정한 후, 300 N의 장력으로 유지한 상태에서, 60℃에서 50초간, 이어서 75℃에서 20초간 건조하여, 폴리비닐알코올 필름에 요오드가 흡착 배향되어 있는 두께 12 ㎛의 편광자를 얻었다.
얻어진 편광자와, 시클로올레핀 폴리머 필름(COP, 닛폰제온가부시키가이샤 제조 ZF-4 UV 흡수 특성 없음 30 ㎛) 사이에 수계 접착제를 주입하여, 닙 롤로 접합시켰다. 얻어진 접합물의 장력을 430 N/m로 유지하면서, 60℃에서 2분간 건조하여, 편면에 보호 필름으로서 시클로올레핀 필름을 갖는 42 ㎛의 편광판을 얻었다. 또한 상기 수계 접착제는, 물 100 부에, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올(가부시키가이샤쿠라레 제조; 쿠라레포발 KL318) 3 부와, 수용성 폴리아미드에폭시 수지(스미카켐텍스가부시키가이샤 제조; 스미레즈레진 650; 고형분 농도 30%의 수용액) 1.5 부를 첨가하여 조제했다.
이하와 같이 하여, 얻어진 편광판의 편광도(Py) 및 단일체 투과율(Ty)을 측정했다.
투과축 방향의 단일체 투과율(T1) 및 흡수축 방향의 단일체 투과율(T2)을, 분광광도계(UV-2450; 가부시키가이샤시마즈세이사쿠쇼 제조)에 편광자 구비 폴더를 셋트한 장치를 이용하여, 더블빔법에 의해 2 nm 스텝 380∼680 nm의 파장 범위에서 측정했다. 하기 식 (p) 및 (q)을 이용하여, 각 파장에 있어서의 단일체 투과율, 편광도를 산출하고, 또한 JISZ 8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 시감도 보정을 행하여, 시감도 보정 단일체 투과율(Ty) 및 시감도 보정 편광도(Py)를 산출했다. 그 결과, 시감도 보정 단일체 투과율(Ty)이 43.0%, 시감도 보정 편광도(Py)가 99.99%인 흡수형 편광판을 얻었다.
단일체 투과율 Ty(%)={(T1+T2)/2}×100 (p)
편광도 Py(%)={(T1-T2)/(T1+T2)}×100 (q)
<광학 이방성층의 제조>
시클로올레핀 폴리머 필름(COP, 닛폰제온가부시키가이샤 제조 ZF-14)을, 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 광배향막 형성용 조성물을 바코터 도포하고, 80℃에서 1분간 건조하고, 편광 UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 100 mJ/㎠의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시했다. 얻어진 배향막의 막 두께를 엘립소미터로 측정한 바, 100 nm였다.
이어서, 배향막 상에, 앞서 조제한 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물 A를 포함하는 도공액을 바코터를 이용하여 도포하고, 120℃에서 1분간 건조한 후, 고압 수은 램프(유니큐어 VB-15201BY-A, 우시오덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을 도포한 면 측에서 자외선을 조사(질소 분위기 하, 파장 313 nm에 있어서의 적산 광량: 500 mJ/㎠)함으로써, 광학 이방성층 1을 포함하는 광학 필름을 형성했다. 얻어진 광학 이방성층 1의 막 두께를 레이저 현미경으로 측정한 바, 2 ㎛였다.
얻어진 광학 필름의 광학 이방성층 1 측에 제조예 2에서 제작한 점착제 조성물을 접합한 후, 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가덴키가부시키가이샤 제조)를 이용하여, 출력 0.3 kW, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1회 처리한 편광판에 접합했다. 이때, 편광판의 흡수축에 대하여 광학 이방성층의 지상축의 관계가 45°가 되도록 적층하여, 원편광판을 형성했다. 그 후, 기재의 COP 필름을 박리함으로써, 편광판에 광학 이방성층 1을 전사한 광학 적층체 1(원편광판 1)을 얻었다. 얻어진 광학 적층체 1의 두께는 64 ㎛였다.
광학 적층체 1의 광학 특성을 측정하기 위해서, 유리에 전사함으로써 측정용 샘플을 제작했다. 이 샘플의 파장 450 nm, 파장 550 nm 및 파장 630 nm의 위상차 값을 복굴절 측정 장치(KOBRA-WR; 오지게이소쿠기키가부시키가이샤 제조)에 의해 측정했다. 투과율을 분광광도계(UV-2450; 가부시키가이샤시마즈세이사쿠쇼 제조)에 의해 측정했다. 또한, 광원 측에 편광 프리즘을 배치함으로써 완전 직선편광으로 하고, 이 직선편광을 측정용 샘플에 조사함으로써 측정했다. 이때, 광학 적층체의 편광판 측의 투과축과 평행하게 직선편광을 입사함으로써, 편광판의 투과 방향의 파장 405 nm에 있어서의 광학 적층체의 투과율 Tp(405), 편광판의 투과 방향의 파장 420 nm에 있어서의 광학 적층체의 투과율 Tp(420), 편광판의 투과 방향의 파장 440 nm에 있어서의 광학 적층체의 투과율 Tp(440)을 측정했다. 그 결과를 표 5에 나타낸다.
〔실시예 9∼16, 비교예 7∼12〕
각각 하기 표 3에 기재한 점착제 조성물을 이용하여, 상기 실시예 9와 같은 방법에 의해 광학 이방성층을 전사한 광학 적층체(원편광판)를 제작했다. 얻어진 광학 적층체(원편광판)의 광학 특성을 실시예 9와 같은 방법에 의해 측정했다.
Figure pct00027
<광학 적층체의 평가>
위에서 제작한 광학 적층체에 관해서, 광학 내구성 시험, 내열 시험, 내습열 시험 및 내열충격 시험을 행하여, 평가했다. 또한, 각 시험은 이하의 방법에 따라 행했다.
광학 내구성 시험(표 4에서는 「SWOM」이라고 표기): 선샤인 웨더미터(스가시켄키가부시키가이샤 제조: 형번 SUNSHINE WEATHER METER S80)에 광학 적층체를 투입하고, 100시간 조사한 후, 파장 450 nm, 파장 550 nm 및 파장 630 nm의 위상차 값을 측정했다. 광학 내구성 시험 전후의 위상차 값의 변화로부터 이하의 기준에 따라 평가를 했다. 결과를 표 4에 나타낸다.
〔광학 내구성 시험의 평가 기준〕
A: 광학 내구성 시험 전후의 Re 변화가 1 미만.
B: 광학 내구성 시험 전후의 Re 변화가 1 이상 5 미만.
C: 광학 내구성 시험 전후의 Re 변화가 5 이상.
내열 시험(표 4에서는 「내열」이라고 표기): 항온조(에스펙가부시키가이샤 제조: 형번 PL-3KT)에 광학 적층체를 투입하고, 온도 85℃의 건조 조건 하에서 250시간, 500시간 각각 방치한 후, 광학 적층체의 외관 상태를 시각적으로 관찰하여, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 했다. 결과를 표 4에 나타낸다.
〔내열 시험의 평가 기준〕
A: 500시간 후의 샘플에 들뜸, 벗겨짐, 발포 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.
B: 250시간 후의 샘플에 들뜸, 벗겨짐, 발포 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.
C: 250시간 후의 샘플에 들뜸, 벗겨짐, 발포 등의 외관 변화가 현저히 인정된다.
내습열 시험(표 4에서는 「내습열」이라고 표기): 항온조(에스펙가부시키가이샤 제조: 형번 PH-4KT)에 광학 적층체를 투입하고, 온도 60℃, 상대습도 90%에서 250시간, 500시간 각각 방치한 후, 광학 적층체의 외관 상태를 시각적으로 관찰하여, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 했다. 결과를 표 5에 나타낸다.
〔내습열 시험의 평가 기준〕
A: 500시간 후의 샘플에 들뜸, 벗겨짐, 발포 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.
B: 250시간 후의 샘플에 들뜸, 벗겨짐, 발포 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.
C: 250시간 후의 샘플에 들뜸, 벗겨짐, 발포 등의 외관 변화가 현저히 인정된다.
Figure pct00028
표 5의 결과로부터, 광선택 흡수성 화합물을 첨가하지 않은 비교예 7 및 12와, 광선택 흡수 화합물을 단독 첨가한 비교예 8 및 비교예 9는, Tp(420)의 값이 50%를 넘어, 블루라이트 컷트 기능이 낮다는 것을 알 수 있었다.
표 6의 결과로부터, 광선택 흡수성 화합물을 첨가하지 않은 비교예 7 및 11에서는, 광학 내구성 시험 후의 Re(450)의 값이 10 이상으로 크게 변화되고, 광학 필름의 열화를 억제할 수 없었다. 또한, 광흡수성 화합물(a)을 단독 첨가한 비교예 10, 11은, 광학 내구성 시험 후의 Re(450)의 값이 5 미만으로, 광학 필름의 열화를 억제할 수는 있지만, 충분히 억제되고 있다고는 말할 수 없었다.
한편, 광흡수성 화합물(a)과 광흡수성 화합물(b)을 첨가한 실시예 9∼16에서는, 광학 내구성 시험 후의 Re(450)의 값이 1 미만으로 광학 필름의 열화를 충분히 억제할 수 있었다. 또한, 각 내구 시험 후에도 들뜸, 벗겨짐, 발포 등을 일으키지 않고, 외관 변화도 없으며, 내구성도 우수하다는 것을 알 수 있었다.
본 발명의 점착제 조성물을 이용한 점착제층 구비 필름은, 양호한 블루라이트 컷트 기능을 가지면서 또한 광학 필름의 열화를 억제할 수 있다.
본 발명의 점착제 조성물을 이용한 점착제층 구비 필름은, 양호한 표시 특성을 가지면서 또한 광학 필름의 열화를 억제할 수 있다.
10: 광학 필름
10A, 10B, 10C: 광학 적층체
1: 본 발명의 점착제로 형성된 점착제층
2: 수지 필름
3: 세퍼레이트 필름
7, 60: 접착제층
7a: 점착제층
8: 보호 필름
9: 편광 필름
40: 광학 필름
50, 50a: 1/4 파장 위상차층
70: 1/2 파장 위상차층
80: 포지티브 C층
30: 발광 소자

Claims (15)

  1. 하기 식 (1)을 만족하는 적어도 1종 이상의 광흡수성 화합물(a)과, 하기 식 (2)을 만족하는 적어도 1종 이상의 광흡수성 화합물(b)을 포함하는 점착제 조성물.
    ε(405)≥20 (1)
    ε(420)≥5 (2)
    [식 중, ε(405)은 파장 405 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(420)는 파장 420 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내며, 그램 흡광 계수의 단위는 L/(g·cm)로 정의한다.]
  2. 제1항에 있어서, 광흡수성 화합물(a)이 식 (3)을 추가로 만족하는 화합물인 점착제 조성물.
    ε(405)/ε(440)≥20 (3)
    [식 중, ε(405), ε(440)은 상기와 동일한 의미를 나타낸다.]
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 광흡수성 화합물(b)은 식 (4)을 추가로 만족하는 화합물인 점착제 조성물.
    ε(420)/ε(440)≥4 (4)
    [식 중, 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(440)는 파장 440 nm에 있어서의 화합물의 그램 흡광 계수를 나타낸다.]
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 광흡수성 화합물(a)의 극대 흡수 파장의 최대치와 광흡수성 화합물(b)의 극대 흡수 파장의 최대치의 차가 통상 3 nm 이상인 점착제 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, (메트)아크릴계 수지(A) 및 가교제(B)를 더 포함하는 점착제 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 광흡수성 화합물(a)과 광흡수성 화합물(b)의 합계 함유량이 (메트)아크릴계 수지 100 질량부에 대하여 0.01∼20 질량부인 점착제 조성물.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 가교제(B)의 함유량이 (메트)아크릴 수지(A) 100 질량부에 대하여 0.01∼10 질량부인 점착제 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재한 점착제 조성물로 형성된 점착제층과 수지 필름을 포함하는 광학 적층체.
  9. 제8항에 있어서, 수지 필름은 위상차 필름 및 편광 필름에서 선택되는 적어도 1종의 필름인 광학 적층체.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재한 점착제 조성물로 형성되는 점착제층과, 편광 필름과, 위상차 필름을 포함하는 광학 적층체.
  11. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 점착제층의 두께가 0.1∼30 ㎛인 광학 적층체.
  12. 제8항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 점착제층이 하기 식 (4)을 만족하는 것인 광학 적층체.
    A(405)≥0.5 (4)
    [식 중, A(405)는 파장 405 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
  13. 제12항에 있어서, 점착제층이 하기 식 (5)을 추가로 만족하는 것인 광학 적층체.
    A(420)≥0.1 (5)
    [식 중, A(420)는 파장 420 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
  14. 제10항 또는 제11항에 있어서, 점착제층이 하기 식 (6)을 추가로 만족하는 것인 광학 적층체.
    A(440)≤0.1 (6)
    [식 중, A440는 파장 440 nm에 있어서의 점착제층의 흡광도를 나타낸다.]
  15. 제8항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재한 광학 적층체를 포함하는 표시 장치.
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