JP2007072163A - 光学補償素子及びその製造方法、液晶表示装置及び液晶プロジェクタ - Google Patents

Abstract

【課題】 黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化の少ない光学異方性層及びその製造方法と、該光学異方性層からなる光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタを提供する。
【解決手段】 支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を少なくとも１層有してなり、該光学異方性層が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の重合生成物で形成されてなり、該重合性液晶化合物の配向が固定されており、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学補償素子及びその製造方法である。本発明の光学補償素子を用いた液晶表示装置である。光源と、本発明の液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備えた液晶プロジェクタである。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液晶プロジェクタ等に好適な光学補償素子及びその製造方法、液晶表示装置及び液晶プロジェクタに関する。

近年、液晶表示装置は、その用途展開が急速に進んでおり、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに使われている。
一般に、液晶表示装置は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードなどの表示モードで液晶を動作させて、該液晶を通過する光を電気的に制御して明暗の違いを画面上に表すことで、文字や画像を表現する表示装置である。

このような液晶表示装置としては、一般に、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）−ＬＣＤが知られており、該ＴＦＴ−ＬＣＤの液晶動作モードとしてはＴＮモードが主流である。一方、近年液晶表示装置の用途展開が進むにつれて、高コントラスト化の要望が高まっており、ＶＡモードの液晶表示装置の研究も盛んに行われている。
ＴＮモードの液晶表示装置は、２枚のガラス基板の間に９０°ねじれたネマチック液晶が封入され、また、２枚のガラスの外側には一対の偏光板がクロスニコルで配置されている。そして、電圧無印加状態では、偏光子側の偏光板を通った直線偏光が液晶層で偏光面が９０°ねじられて検光子側の偏光板を通過して白表示となる。また、電圧が十分に印加された状態では、液晶の配列方向が液晶パネルに略垂直に変化して、偏光子側の偏光板を通った直線偏光が偏光状態を変化させることなく液晶層を通り抜けて検光子側の偏光板に到達して黒表示となる。

これらの表示モードで動作する液晶表示装置は、斜め方向から表示画面を見た場合に、コントラストの低下や階調表示で明るさが逆転する階調反転現象等による表示特性の悪化が生じるという視野角依存性の問題がある。このような視野角依存性の問題は、液晶表示装置を黒表示しようとしても、視野角によっては、完全な黒にはならず、光漏れを起こすことに起因する。

このような問題を改善するため、従来より、黒表示状態の液晶層を通過する光の位相差値と、光学異方性フイルムの位相差値とを合わせこみ、該黒表示状態の液晶層を三次元的に光学補償して、どの方向から見ても光漏れをなくして、視野角依存性の問題を改善する光学補償フイルムが種々提案されている。例えば、本願出願人は、先に、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルム等の支持体及びその上に設けられた光学異方性層からなり、前記光学異方性層が、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有し、該ディスコティック構造単位を有する化合物を含有する塗布液を前記支持体上に塗布、配向、構造固定化することにより、前記ディスコティック構造単位の円盤面が、支持体面に対して傾いており、かつ前記ディスコティック構造単位の円盤面と支持体面とのなす角度が光学異方性層の厚み方向において変化するハイブリッド配向を有する光学補償フイルムを提案している（特許文献１参照）。
この光学補償フイルムによれば、黒表示状態の液晶層と鏡面対称となるように前記光学異方性層のディスコティック構造単位が配列されているため、前記支持体と前記ディスコティック構造単位との積層体全体の光学特性として、黒表示状態の液晶層が光学的に補償され幅広い視野角において光漏れを防止することが可能となる。

しかし、前記光学補償フイルムを用いることにより、前記液晶表示装置の視野角依存性の問題が改善され、視野角を拡大することには成功したが、近年、大画面表示を可能とする大画面液晶モニタや液晶プロジェクタ等への要望が高まり、前記大画面液晶モニタや液晶プロジェクタ等に対し、長期間使用しても退色や色ずれなどの表示品質の劣化の少ないものが望まれている。また、液晶プロジェクタは、様々な角度で液晶セルに入射した光が投影レンズにより統合されてスクリーンに拡大投影されるため、より高いコントラストが要求され、前記光学補償フイルムには未だ改善の余地がある。

また従来より、液晶セルを挟むように配置される２つの偏光板間に、ハイブリット配向した液晶層を有する光学フイルムを配置してなり、該光学フイルムが、複屈折性が極めて少ないプラスチックフイルムからなる基材フイルム上にハイブリッド配向した液晶層を配置してなる液晶プロジェクタのコントラスト比改善方法が知られている（特許文献２参照）。
しかし、前記基材フイルム上にハイブリッド配向した液晶層を配置してなる液晶プロジェクタの場合、前記光学補償フイルムの前記光学異方性層は重合性化合物などの有機材料からなるため、得られる光学補償素子は光化学反応等によって光学異方性層や配向膜が経年変化して徐々に品質が劣化し、該光学補償素子の表示品位の劣化を招くという問題がある。
特に前記改善方法のように、液晶プロジェクタに用いられる場合は、赤、緑、青のチャンネルの内、青チャンネルの劣化が大きく、コントラストが低下するだけでなく色バランスに齟齬を来すという問題点がある。

これらの改善方法として、有機材料の層上に無機材料の蒸着や有機材料の塗布などの手段により保護層を設け劣化反応を抑止する方法が知られている（特許文献３〜５参照）。
しかし、前記塗布手段の場合、光の通過方向、各層の法線方向においてのガスバリア性は向上することができるが、光学補償素子の端面からの、不純物の混入などの影響に対し効果に欠け、光学補償素子の有機材料部分の酸化反応による経年劣化を効果的に防止することは不十分であった。さらに、酸化反応によらない経年劣化に対しては、なんら防止手段となっていなかった。

また、これらの改善方法として、紫外線吸収剤等により紫外線吸収層を設け、光源からの紫外線を吸収することにより劣化反応を抑止する方法が知られている（特許文献６〜８参照）。しかし、少なくとも一つの支持体を有し、該支持体の少なくとも一方の面上に少なくとも１つの光学異方性層を有し、該光学異方性層が重合性液晶化合物を含む重合性組成物の重合生成物を含み、該重合性液晶化合物が円盤状液晶性化合物及び棒状液晶性化合物の少なくともいずれかを含み、該重合性液晶化合物がなす配向状態における配向角が光学異方性層の厚み方向に変化するハイブリッド配向で固定されている光学補償素子においては、好ましい紫外線遮断手段について知られておらず、特に光学異方性層中に紫外線吸収剤を含有させる方法及び好ましい化合物についての知見は全く無かった。

特開平８−５０２０６号公報 再公表特許ＷＯ０１／０９０８０８ 特開平６−２８９２２７号公報 特開平５−２７１１４号公報 特開２００１−９１７４７号公報 特開平９−８０４００号公報 特開平７−２９４９１５号公報 特開平１０−３９１３８号公報

本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化の少ない光学異方性層及びその製造方法と、該光学異方性層からなる光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタを提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を少なくとも１層有してなり、該光学異方性層が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の重合生成物で形成されてなり、該重合性液晶化合物の配向が固定されており、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学補償素子である。
＜２＞ 重合成液晶化合物が、配向されており、該配向状態にある重合性液晶化合物の配向角が、光学異方性層の厚み方向に変化するハイブリッド配向で固定されている前記＜１＞に記載の光学補償素子である。
＜３＞ 重合成液晶化合物が、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物の少なくともいずれかを含む前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜４＞ 紫外線吸収剤が、光学異方性層及び、光源と該光学異方性層の間に位置する層（ただし、支持体は除く）の少なくともいずれかに含有された前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜５＞ 紫外線吸収剤が、紫外線によって硬化する重合性組成物の重合生成物で形成された層に含有された前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜６＞ 紫外線吸収剤が、光学異方性層に含有された前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜７＞ 紫外線吸収剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．００１〜５ｇである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜８＞ 紫外線吸収剤が、下記一般式（１）から（８）のいずれかで表される化合物から選ばれた少なくとも１種の化合物であることを特徴とする前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
ただし、前記一般式（１）中、ベンゼン環ａ及びｂは、置換基を有していてもよい。
ただし、前記一般式（２）中、Ａｒ^３０１ は、アリール基又は芳香族性複素環基を表し、二価の連結基Ｌは、単結合又は−Ｏ−を表す。ベンゼン環ｃは、置換基を有していてもよい。
ただし、前記一般式（３）中、ベンゼン環ｄ及びトリアジン環ｅは、置換基を有していてもよい。前記ベンゼン環ｄには他の芳香族環及び複素環のいずれかが縮合していてもよい。
ただし、前記一般式（４）中、ベンゼン環ｆ及びｇは、置換基を有していてもよい。
ただし、前記一般式（５）中、Ａｒ^３０２は、アリール基又は芳香族性複素環基を表し、Ｒ^３０１ は、水素原子又はアルキル基を表す。
また、Ｒ^３０２及びＲ^３０３は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３１３、−ＣＯＯＲ^３１４、−ＣＯＮＲ^３１５Ｒ^３１６、−ＳＯ_２Ｒ^３１７又は−ＳＯ_２ＮＲ^３１８Ｒ^３１９を表す。ただし、該Ｒ^３１３、Ｒ^３１４、Ｒ^３１５、Ｒ^３１６、Ｒ^３１７、Ｒ^３１８及びＲ^３１９は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０２とＲ^３０３とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
ただし、前記一般式（６）中、Ｒ^３０４及びＲ^３０５は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０４とＲ^３０５とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
また、Ｒ^３０６及びＲ^３０７は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３２０、−ＣＯＯＲ^３２１、−ＣＯＮＲ^３２２Ｒ^３２３、−ＳＯ_２Ｒ^３２４又は−ＳＯ_２ＮＲ^３２５Ｒ^３２６を表す。ただし、該Ｒ^３２０、Ｒ^３２１、Ｒ^３２２、Ｒ^３２２、Ｒ^３２４、Ｒ^３２５及びＲ^３２６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０６とＲ^３０７とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
ただし、前記一般式（７）中、Ｒ^３０８は、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ^３０９及びＲ^３１０は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３２７、−ＣＯＯＲ^３２８、−ＣＯＮＲ^３２９Ｒ^３３０、−ＳＯ_２Ｒ^３３１又は−ＳＯ_２ＮＲ^３３２Ｒ^３３３を表す。ただし、該Ｒ^３２７、Ｒ^３２８、Ｒ^３２９、Ｒ^３３０、Ｒ^３３１、Ｒ^３２０及びＲ^３３３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０９とＲ^３１０とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
また、Ｘ〜Ｙは、−ＣＲ^３３４Ｒ^３３５−ＣＲ^３３６Ｒ^３３７−又は−ＣＲ^３３８＝ＣＲ^３３９−を表す。ただし、該Ｒ^３３４、Ｒ^３３５、Ｒ^３３６、Ｒ^３３７、Ｒ^３３８及びＲ^３３９は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。該Ｒ^３３８とＲ^３３９とは、結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよい。
また、二価の連結基であるＺは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^３４０−、−ＣＲ^３４１Ｒ^３４２−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。ただし、該Ｒ^３４０は、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。該Ｒ^３４１及びＲ^３４２は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
また、ｎは、０及び１のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（８）中、Ｒ^３１１及びＲ^３１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３１１とＲ^３１２とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
また、ベンゼン環ｈ及びｉは、置換基を有していてもよく、他の芳香族環又は複素環が縮合していてもよい。
＜９＞ 保護層及び反射防止層の少なくともいずれかを有してなる前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜１０＞ 光学異方性層を２層有し、該光学異方性層における液晶分子の配向方向が互いに異なる前記＜１＞から＜９＞のいずれかに記載の光学補償素子である。
＜１１＞ 配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体の一方の面上に設けられた前記＜１０＞に記載の光学補償素子である。
＜１２＞ 配向方向が互いに異なる２つの光学異方層が、支持体を介して該支持体の両面に設けられた前記＜１０＞に記載の光学補償素子である。
＜１３＞ 前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光学補償素子の製造方法であって、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を８０℃以上に加熱することを含むことを特徴とする光学補償素子の製造方法である。
＜１４＞ 少なくとも一対の電極及び該電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面又は片面に配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを備え、前記光学補償素子が前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載の光学補償素子であることを特徴とする液晶表示装置である。
＜１５＞ 液晶素子が、ツイストネマティック型である前記＜１４＞に記載の液晶表示装置である。
＜１６＞ 光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶表示装置が前記＜１４＞から＜１５＞のいずれかに記載の液晶表示装置であることを特徴とする液晶プロジェクタである。

本発明の光学補償素子は、支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を少なくとも１層有し、該光学異方性層が重合性液晶化合物を含む重合性組成物の重合生成物を含み、該重合性液晶化合物が円盤状液晶性化合物及び棒状液晶性化合物の少なくともいずれかを含み、該重合性液晶化合物がなす配向状態における配向角が光学異方性層の厚み方向に変化するハイブリッド配向で固定されてなり、該光学補償素子が有する少なくともいずれかの層が、紫外線吸収剤を含有するので、光学特性を高精度で所望の特性とすることができ、幅広い視野角において光漏れや経年劣化を防止することが可能となる。

本発明の液晶表示装置は、少なくとも一対の電極及び該一対の電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面及び片面のいずれかに配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを有し、前記光学補償素子が前記本発明の光学補償素子である。その結果、高視野角、高コントラスト、高画質であって、経年劣化の少ない液晶表示装置を提供することができる。

本発明の液晶プロジェクタは、光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶装置が前記本発明の液晶表示装置である。その結果、高視野角、高コントラスト、高画質であって、経年劣化の少ない液晶プロジェクタを提供することができる。

本発明によると、従来における前記問題を解決でき、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止するとともに、経年劣化の少ない光学異方性層及びその製造方法と、該光学異方性層からなる光学補償素子を用いることにより高視野角、高コントラストで高画質な長寿命の液晶表示装置及び液晶プロジェクタを提供することができる。

（光学補償素子）
本発明の光学補償素子は、支持体と、該支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を少なくとも１層有してなり、好ましくは、保護層及び反射防止層の少なくともいずれかを有してなり、更に必要に応じてその他の層を有してなる。該光学補償素子は、紫外線吸収剤を含有してなり、好ましくは、光学異方性層及び、光源と該光学異方性層の間に位置する層の少なくともいずれかの層に紫外線吸収剤を含有してなる。

−紫外線吸収剤−
前記紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて選択することができるが、例えば、下記一般式（１）〜（８）で表される化合物が好ましい。これらは１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記一般式（１）において、ベンゼン環ａ及びｂは、置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ₂ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基である。なお、該カルボキシ基及びスルホ基は、その塩も含む。

前記アルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましい。前記鎖状アルキル基は、分岐を有していてもよく、該アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、sec-ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、tert−オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビシクロ［２，２，２］オクチル基、などが挙げられる。

前記置換アルキル基のアルキル部分は、前記アルキル基と同様である。該置換アルキル基の置換基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、スルホ基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基である。なお、該カルボキシ基及びスルホ基は、その塩も含む。

前記アルケニル基としては、炭素数２〜２０のアルケニル基が好ましく、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましい。該鎖状アルケニル基は、分岐を有していてもよく、該アルケニル基としては、例えば、アリル基、２−ブテニル基、２−ブテニル基、オレイル基、などが挙げられる。

前記置換アルケニル基のアルケニル部分は、上記アルケニル基と同様である。該置換アルケニル基の置換基としては、例えば、前述の置換アルキル基で挙げた置換基が挙げられる。

前記アリール基としては、炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、該アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、などが挙げられる。該アリール基としては、置換基を有していてもよく、例えば、アルキル基、置換アルキル基、前述の置換アルキル基で挙げた置換基、などが挙げられる。

前記複素環基は、５員又は６員の複素環を有することが好ましい。該複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、インドール環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、などが挙げられる。また、該複素環基は、置換基を有していてもよく、該複素環基の置換基としては、例えば、前述の置換アルキル基で挙げた置換基が挙げられる。

前記一般式（２）において、Ａｒ^３０１は、アリール基又は芳香族性複素環基を表すが、アリール基であることがより好ましい。該芳香族性複素環基は、５員又は６員の複素環を有することが好ましく、例えば、フラン環、チオフェン環、インドール環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環及びピリジン環が挙げられる。
また、前記芳香族性複素環基は、置換基を有していてもよい。該芳香族性複素環基の置換基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、スルホ基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基である。なお、該カルボキシ基及びスルホ基は、その塩も含む。

前記一般式（２）において、二価の連結基Ｌは、単結合又は−Ｏ−を表すが、単結合であることがより好ましい。
また、前記一般式（２）において、ベンゼン環ｃは、置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

前記一般式（３)において、ベンゼン環ｄ及びトリアジン環ｅは、置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。
前記トリアジン環ｅが有する置換基は、アリール基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましく、ｏ−ヒドロキシフェニル基であることが特に好ましい。
また、前記ベンゼン環ｄには、他の芳香族環又は複素環が縮合していてもよい。該芳香族環としては、例えば、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。該複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、インドール環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、などが挙げられる。

前記一般式（４）において、ベンゼン環ｆ及びｇは、置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

前記一般式（５）において、Ａｒ^３０２は、アリール基又は芳香族性複素環基を表す。該芳香族性複素環基は、５員又は６員の複素環を有することが好ましい。該芳香族性複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、インドール環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環及びピリジン環が挙げられる。
また、前記芳香族性複素環基は、置換基を有していてもよい。該芳香族性複素環基の置換基としては、例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、スルホ基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基である。なお、該カルボキシ基及びスルホ基は、その塩も含む。

前記一般式（５）において、Ｒ^３０１は、水素原子又はアルキル基を表す。
また、前記一般式（５）において、Ｒ^３０２及びＲ^３０３は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３１３、−ＣＯＯＲ^３１４、−ＣＯＮＲ^３１５Ｒ^３１６、−ＳＯ_２Ｒ^３１７又は−ＳＯ_２ＮＲ^３１８Ｒ^３１９を表す。ただし、該Ｒ^３１３、Ｒ^３１４、Ｒ^３１５、Ｒ^３１６、Ｒ^３１７、Ｒ^３１８及びＲ^３１９は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。
前記Ｒ^３０２とＲ^３０３とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。また、前記Ｒ^３１５及びＲ^３１６の少なくとも一方は、水素原子であることが好ましく、前記Ｒ^３１８及びＲ^３１９の少なくとも一方は、水素原子であることが好ましい。

前記Ｒ^３０２とＲ^３０３とが結合して形成する５員環又は６員環は、メチン染料における酸性核として機能することが好ましい。該酸性核として機能する５員環又は６員環としては、例えば、２−ピラゾリン−５−オン環、ピラゾリジン−２，４−ジオン環、ローダニン環、ヒダントイン環、２−チオヒダントイン環、４−チオヒダントイン環、２，４−オキサゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、インダンジオン環、ヒドロキシピリドン環、フラノン環、１，３−シクロヘキサンジオン環、メルドラム酸環、などが挙げられる。

また、前記Ｒ^３０２とＲ^３０３とが結合して形成する５員環又は６員環は、置換基を有していてもよい。該５員環又は６員環の置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

前記一般式（６）において、Ｒ^３０４及びＲ^３０５は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、前記Ｒ^３０４とＲ^３０５とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。該５員環又は６員環としては、例えば、ピロリジン環、ピペリジン環及びモルホリン環が挙げられる。

また、前記Ｒ^３０４とＲ^３０５とが結合して形成する５員環又は６員環は、置換基を有していてもよい。該５員環又は６員環の置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

前記一般式（６）において、Ｒ^３０６及びＲ^３０７は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３２０、−ＣＯＯＲ^３２１、−ＣＯＮＲ^３２２Ｒ^３２３、−ＳＯ_２Ｒ^３２４又は−ＳＯ_２ＮＲ^３２５Ｒ^３２６を表す。ただし、該Ｒ^３２０、Ｒ^３２１、Ｒ^３２２、Ｒ^３２３、Ｒ^３２４、Ｒ^３２５及びＲ^３２６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。
前記Ｒ^３０６とＲ^３０７とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。また、前記Ｒ^３２２及びＲ^３２３の少なくとも一方は、水素原子であることが好ましく、前記Ｒ^３２５及びＲ^３２６の少なくとも一方は、水素原子であることが好ましい。

前記Ｒ^３０６とＲ^３０７とが結合して形成する５員環又は６員環は、メチン染料における酸性核として機能することが好ましい。該酸性核として機能する５員環又は６員環としては、例えば、２−ピラゾリン−５−オン環、ピラゾリジン−２，４−ジオン、ローダニン環、ヒダントイン環、２−チオヒダントイン環、４−チオヒダントイン環、２，４−オキサゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、インダンジオン環、ヒドロキシピリドン環、フラノン環、１，３−シクロヘキサンジオン環及びメルドラム酸環が挙げられる。

また、前記Ｒ^３０６とＲ^３０７とが結合して形成する５員環又は６員環は、置換基を有していてもよい。該５員環又は６員環の置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

前記一般式（７)において、Ｒ^３０８は、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。
また、前記一般式（７)において、Ｒ^３０９及びＲ^３１０は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３２７、−ＣＯＯＲ^３２８、−ＣＯＮＲ^３２９Ｒ^３３０、−ＳＯ_２Ｒ^３３１又は−ＳＯ_２ＮＲ^３３２Ｒ^３３３を表す。ただし、該Ｒ^３２７、Ｒ^３２８、Ｒ^３２９、Ｒ^３３０、Ｒ^３３１、Ｒ^３２０及びＲ^３３３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。
前記Ｒ^３０９とＲ^３１０とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。また、前記Ｒ^３２９及びＲ^３３０の少なくとも一方は、水素原子であることが好ましく、前記Ｒ^３３２及びＲ^３３３の少なくとも一方は、水素原子であることが好ましい。

前記Ｒ^３０９とＲ^３１０とが結合して形成する５員環又は６員環は、メチン染料における酸性核として機能することが好ましい。該酸性核として機能する５員環又は６員環としては、例えば、２−ピラゾリン−５−オン環、ピラゾリジン−２，４−ジオン、ローダニン環、ヒダントイン環、２−チオヒダントイン環、４−チオヒダントイン環、２，４−オキサゾリジンジオン環、イソオキサゾロン環、バルビツール酸環、チオバルビツール酸環、インダンジオン環、ヒドロキシピリドン環、フラノン環、１，３−シクロヘキサンジオン環及びメルドラム酸環が挙げられる。

また、前記Ｒ^３０９とＲ^３１０とが結合して形成する５員環又は６員環は、置換基を有していてもよい。該５員環又は６員環の置換基としては、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、などが挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

前記一般式（７)において、Ｘ〜Ｙは、−ＣＲ^３３４Ｒ^３３５−ＣＲ^３３６Ｒ^３３７−又は−ＣＲ^３３８＝ＣＲ^３３９−を表す。ただし、該Ｒ^３３４、Ｒ^３３５、Ｒ^３３６、Ｒ^３３７、Ｒ^３３８及びＲ^３３９は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。該Ｒ^３３８とＲ^３３９とは、結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよい。

また、前記一般式（７)において、二価の連結基であるＺは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^３４０−、−ＣＲ^３４１Ｒ^３４２−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。ただし、該Ｒ^３４０は、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表し、該Ｒ^３４１及びＲ^３４２は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
また、前記一般式（７)において、ｎは、０又は１を表す。

前記一般式（８）において、Ｒ^３１１及びＲ^３１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。該Ｒ^３１１とＲ^３１２とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
また、前記一般式（８）において、ベンゼン環ｈ及びｉは、置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ニトロ基、シアノ基、スルホ基、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＳＯ−Ｒ、−ＳＯ_２−Ｒ、−ＮＲ_２ 、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−ＳＯ_２−Ｒ、−ＣＯ−ＮＲ_２ 、−ＳＯ_２−ＮＲ_２−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＲ_２ 、が挙げられる。ただし、該Ｒは、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基又はアリール基を表す。

また、前記ベンゼン環ｈ及びｉには、他の芳香族環又は複素環が縮合していてもよい。縮合する芳香族環としては、例えば、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。縮合する複素環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、インドール環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環及びピリジン環が挙げられる。

本発明においては、前記一般式（１）〜（８）のいずれかで表される化合物の中でも、前記紫外線吸収剤として、前記一般式（１）〜（４）で表される化合物が好ましく、前記一般式（１）〜（３）で表される化合物がより好ましく、前記一般式（１）又は（３）で表される化合物が特に好ましい。

以下に、前記一般式（１）〜（８）のいずれかで表される化合物の具体例を示す。
前記一般式（１）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（１−１）〜（１−２１）で表される化合物が挙げられる。

（１−１） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−Ｈ、Ｒｃ：−t-Ｃ_８Ｈ_１７
（１−２） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−t-Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｃ：−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＣ_８Ｈ_１７
（１−３） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−Ｃ（ＣＨ_３）_２−Ｐｈ、Ｒｃ：−t-Ｃ_８Ｈ_１７
（１−４） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−Ｃ（ＣＨ_３）_２−Ｐｈ、Ｒｃ：−Ｃ（ＣＨ_３）_２−Ｐｈ
（１−５） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−Ｈ、Ｒｃ：−ＣＨ_３
（１−６） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−t-Ｃ_５Ｈ_１１、Ｒｃ：−t-Ｃ_５Ｈ_１１
（１−７） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−t-Ｃ_５Ｈ_１１ 、Ｒｃ：−Ｈ
（１−８） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−ＮＨＣＯＣＨ（ＣＨ_３）_２ 、Ｒｃ：−ＣＨ_３
（１−９） Ｒａ：−Ｃｌ、Ｒｂ：−t-Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｃ：−t-Ｃ_４Ｈ_９
（１−１０） Ｒａ：−ＯＣＨ_３、Ｒｂ：−t-Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｃ：−ＣＨ_３
（１−１１） Ｒａ：−Ｃｌ、Ｒｂ：−t-Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｃ：−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＣ_８Ｈ_１７
（１−１２） Ｒａ：−Ｈ、Ｒｂ：−Ｃ_１２Ｈ_２５、Ｒｃ：−ＣＨ_３
（１−１３） Ｒａ：−ＳＣ_１２Ｈ_２５ 、Ｒｂ：−t-Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｃ：−t-Ｃ_４Ｈ_９
ただし、前記構造式（１−１）〜（１−１３）において、Ｐｈはフェニルを表す。

前記一般式（２）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（２−１）〜（２−１８）で表される化合物が挙げられる。

（２−１） Ｒａ：−ＯＣＨ_３ 、Ｒｂ：−Ｈ
（２−２） Ｒａ：−ＯＣ_８Ｈ_１７、Ｒｂ：−Ｈ
（２−３） Ｒａ：−ＯＣＨ_２−Ｐｈ、Ｒｂ：−Ｈ
（２−４） Ｒａ：−ＯＣＨ_２−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−Ｈ
（２−５） Ｒａ：−ＯＨ、Ｒｂ：−ＣＯ−Ｐｈ
（２−６） Ｒａ：−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−ＣＯＯＨ、Ｒｂ：−Ｈ
（２−７） Ｒａ：−ＯＨ、Ｒｂ：−Ｈ
（２−８） Ｒａ：−ＯＣＨ_３ 、Ｒｂ：−ＳＯ_３Ｈ
ただし、前記構造式（２−１）〜（２−８）において、Ｐｈはフェニルを表す。

前記一般式（３）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（３−１）〜（３−５０）で表される化合物が挙げられる。

（３−４２） Ｒａ：−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−ＣＨ_２−ＯＣ_４Ｈ_９
（３−４３） Ｒａ：−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−ＣＨ_２−ＯＣ_４Ｈ_９ 、Ｒｂ：−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−ＣＨ_２−ＯＣ_４Ｈ_９
（３−４４） Ｒａ：−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５
（３−４５） Ｒａ：−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５
（３−４６） Ｒａ：−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）−Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｂ：−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）−Ｃ_４Ｈ_９
（３−４７） Ｒａ：−Ｃ_４Ｈ_９ 、Ｒｂ：−Ｃ_４Ｈ_９
（３−４８） Ｒａ：−ＣＨ_２−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−ＣＨ_２−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５
（３−４９） Ｒａ：−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−Ｃ_８Ｈ_１７
（３−５０） Ｒａ：−Ｃ_２Ｈ_５ 、Ｒｂ：−ＣＨ_２−ＣＯＯ−Ｃ_２Ｈ_５

前記一般式（４）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（４−１）〜（４−２）で表される化合物が挙げられる。

前記一般式（５）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（５−１）〜（５−１２）で表される化合物が挙げられる。

（５−１） Ｒａ：−ＯＣＨ_３ 、Ｒｂ：−ＣＯＯＨ
（５−２） Ｒａ：−ＯＣＨ_３ 、Ｒｂ：−ＣＯＯＮａ
（５−３） Ｒａ：−ＯＣＨ_３ 、Ｒｂ：−ＣＯＯ−Ｃ_１０Ｈ_２１
（５−４） Ｒａ：−ＣＨ_３ 、Ｒｂ：−ＣＯＯ−Ｃ_１２Ｈ_２５

前記一般式（６）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（６−１）〜（６−７）で表される化合物が挙げられる。

前記一般式（７）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（７−１）〜（７−８）で表される化合物が挙げられる。

前記一般式（８）で表される化合物の具体例としては、下記構造式（８−１）〜（８−３）で表される化合物が挙げられる。

前記一般式（１）〜（８）のいずれかで表される化合物は、様々な文献（特公昭３６−１０４６６号、同４８−５４９６号、同４８−３０４９２号、同５５−３６９８４号、同５５−１２５８７５号、特開昭４６−３３３５号、同４７−１０５３７号、同５１−５６６２０号、同５３−１２８３３３号、同５８−１８１０４０号、同５８−２１４１５２号、同５８−２２１８４４号、同５９−１９９４５号、同６３−５３５４４号、特開平６−２１１８１３号、同７−２５８２２８号、同８−５３４２７号、同８−２３９３６８号、同１０−１１５８９８号、同１０−１４７５７７号、同１０−１８２６２１号、特表平８−５０１２９１号の各公報、及び米国特許２７１９０８６号、同３６９８７０７号、同３７０７３７５号、同３７５４９１９号、同４２２０７１１号、同５２９８３８０号、同５５００３３２号、同５５８５２２８号、同５８１４４３８号、英国特許１１９８３３７号、欧州特許３２３４０８Ａ号、同５２０９３８Ａ号、同５２０９３８Ａ号、同５２１８２３Ａ号、同５３０１３５Ａ号、同５３１２５８Ａ号の各明細書）を参照して合成できる。代表的なものの構造、物性及び作用機構については、ライト・スタビライザーズ・フォー・ペイント（Ａｎｄｒｅａｓ ５ａｌｅｔ， Ｌｉｇｈｔ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ ｆｏｒ Ｐａｉｎｔ， ６ｎｃｅｎｔｓ）に記載がある。

本発明においては、前記一般式（１）〜（８）のいずれかで表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーも使用することができる。

以下に、前記一般式（１）〜（３）及び（５）〜（６）のいずれかで表される化合構造を含む繰り返し単位の具体例を示す。

本発明においては、以上の繰り返し単位からなるホモポリマーを使用してもよく、二種類以上の繰り返し単位からなるコポリマーを使用してもよく、さらに他の繰り返し単位を含むコポリマーを使用してもよい。他の繰り返し単位の例としては、以下の構造式（９−ｐ１）〜（９−ｐ５）で表される繰り返し単位が挙げられる。

以下に、前記一般式（１）〜（３）及び（５）〜（６）のいずれかで表される化合構造を含む繰り返し単位と他の繰り返し単位からなるコポリマーの例を示す。以下の例では、前記の繰り返し単位の番号を引用する。繰り返し単位の割合は、モル％である。

ＣＰ−１：−（２−ｐ１）_５０−（９−ｐ１）_５０−
ＣＰ−２：−（２−ｐ１）_３０−（９−ｐ１）_７０−
ＣＰ−３：−（２−ｐ１）_１０−（９−ｐ１）_７０−（９−ｐ２）_２０−
ＣＰ−４：−（２−ｐ１）_１０−（９−ｐ１）_５０−（９−ｐ２）_４０−
ＣＰ−５：−（１−ｐ１）_５０−（９−ｐ３）_５０−
ＣＰ−６：−（１−ｐ２）_３２−（９−ｐ４）_６５−（９−ｐ５）_３−
ＣＰ−７：−（１−ｐ３）_３３−（９−ｐ２）_６７−
ＣＰ−８：−（１−ｐ４）_４８−（９−ｐ２）_４８−（９−ｐ５）_４−
ＣＰ−９：−（１−ｐ５）_４８−（９−ｐ２）_４８−（９−ｐ５）_４−
ＣＰ−１０：−（５−ｐ１）_７０−（９−ｐ１）_３０−
ＣＰ−１１：−（６−ｐ２）_８０−（９−ｐ１）_２０−
ＣＰ−１２：−（６−ｐ３）_７０−（９−ｐ２）_３０−
ＣＰ−１３：−（３−ｐ１）_２０−（９−ｐ２）_８０−

前記一般式（１）で表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特開昭４７−５６０号、同５８−１８５６７７号、同６２−２４２４７号、同６３−５５５４２号、特開平３−１３９５９０号、同４−１９３８６９号、同６−８２９６２号、同８−１７９４６４号の各公報及び欧州特許７４７７５５号明細書に記載がある。前記一般式（２）で表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特開昭６３−３５６６０号、特開平２−１８０９０９号の各公報に記載がある。前記一般式（３）で表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、欧州特許７０６０８３号明細書に記載がある。前記一般式（５）で表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公称６３−５３５４１号、特表平４−５００２２８号の各公報に記載がある。前記一般式（６）で表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特公平１−５３４５５号、特開昭６１−１８９５３０号の各公報及び欧州特許２７２４２号明細書に記載がある。前記一般式（７）で表される化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特開昭６３−５３５４３号公報に記載がある。その他の紫外線吸収剤の化合構造を繰り返し単位内に含むポリマーについては、特開昭４７−１９２号、同６１−１６９８３１号、同６３−５３５４３号、同６３−５３５４４号、同６３−５６６５１号の各公報及び欧州特許３４３２４６号明細書に記載がある。

前記紫外線吸収剤の含有量は、光学補償素子１平方メートルあたり、０．００１〜５ｇが好ましく、０．００５〜１ｇがより好ましい。含有量が、０．００１ｇ未満であると、十分な効果が得られないことがあり、５ｇを超えると、光学補償素子の性能に悪影響を与える場合がある。該紫外線吸収剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

また、前記紫外線吸収剤は、光学補償素子のいずれの層に含有されていてもよいが、光学異方性層及び、光源と該光学異方性層との間に位置する層（ただし、支持体を除く）の少なくともいずれかに含有されていることが好ましく、紫外線によって硬化する重合性組成物の重合生成物を含む層に含有されていることが更に好ましく、光学異方性層に含有されていることが特に好ましい。該光学異方性層に含まれる量は、光学補償素子１平方メートルあたり、１ｇ以下とすることが好ましい。含有量が１ｇを超えると、重合性液晶化合物の配向を阻害し、光学補償素子の性能に悪影響を与える場合がある。

前記紫外線吸収剤を含む光学補償素子を液晶プロジェクタに組み込む場合において、該紫外線吸収剤が前記光学異方性層以外の層に含まれる場合は、該紫外線吸収剤が含まれる光学異方性層以外の層は、光学異方性層に対して光線の入射側に配置されることが好ましい。該紫外線吸収剤が含まれる光学異方性層以外の層は硬化されていてもよく、好ましい例として紫外線によって硬化する重合性組成物の重合生成物を含む層が挙げられる。

＜支持体＞
前記支持体としては、使用する光の波長に対して５０％以上透過する程度に透明であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、白板ガラス、青板ガラス、石英ガラス、サファイアガラス、有機高分子フイルムなどが挙げられる。
前記有機高分子フイルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリアリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン系、ポリエーテル系、ポリスルフィン系、ポリスルホン系、ポリエーテルスルホン系、セルロースアセテート、セルロースジアセテート等のセルロースエステル系、ポリメチルメタクリレート等のポリ（メタ）アクリル酸エステルなどの重合体群から選ばれる１種類、又は２種類以上の組合せなどが挙げられる。

前記有機高分子フイルムの具体例としては、ポリカーボネート共重合体、ポリエステル共重合体、ポリエステルカーボネート共重合体、ポリアリレート共重合体が好適に挙げられ、ポリカーボネート共重合体がより好適に挙げられる。
前記ポリカーボネート共重合体としては、フルオレン骨格を有するポリカーボネート共重合体が好ましく、透明性、耐熱性、生産性の観点から、ビスフェノール類とホスゲン或いは炭酸ジフェニルなどの炭酸エステル形成化合物と反応させて得られるポリカーボネート共重合体が特に好ましい。
前記ポリカーボネート共重合体が有するフルオレン骨格の含有量としては、１〜９９モル％が好ましい。前記ポリカーボネート共重合体としては、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載の、繰り返し単位を用いることも可能である。
これらの中でも、前記支持体としては、面の平滑性の観点から前記各種無機材料よりなるガラスを好適に用いることができる。

前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１μｍ以上が好ましく、厚みの上限としては、組込みのハンドリング性や機械的強度の観点から、実質的に０．５〜１．５ｍｍが好ましい。

＜光学異方性層＞
前記光学異方性層の構成としては、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を重合させた重合生成物を含んでなり、更に、必要に応じて適宜選択したその他の構成を備えてなる。

−重合性組成物−
前記の重合性組成物は、重合性基を有した液晶性化合物を形成する液晶化合物と、必要に応じて適宜選択したその他の成分とを含有した組成物である。

−−重合性液晶化合物−−
前記重合性液晶化合物としては、化合物の形態として、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物の少なくともいずれかを含んでなり、より好ましくは円盤状液晶性化合物を含んでなる。また、前記液晶性化合物を含む重合性液晶化合物には、必要に応じて適宜選択したその他の成分を含有することができる。

前記棒状液晶性化合物を含む重合性液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリマーバインダーを用いて前記棒状液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性液晶化合物、重合により液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性基を有する重合性液晶化合物などが挙げられ、この中でも重合性基を有する前記重合性液晶化合物が好適に挙げられる。

前記棒状の液晶性化合物（棒状液晶分子）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類などが挙げられる。

前記棒状の液晶性化合物を含む重合性液晶化合物としては、下記構造式（１）で表される低分子の重合性基を有する棒状液晶化合物が重合した高分子液晶化合物が挙げられる。

ただし、前記構造式（１）において、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ重合性基を表し、Ｌ^１、Ｌ^２、Ｌ^３及びＬ^４は、それぞれ単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ^２及びＬ^３の少なくとも一方は、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−を表す。また、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサー基を表す。また、Ｍは、メソゲン基を表す。

前記円盤状の液晶性化合物を含む重合性液晶化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリマーバインダーを用いて前記円盤状液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性液晶化合物、重合により前記円盤状液晶性化合物の配向状態を固定可能とした重合性基を有する重合性液晶化合物などが挙げられ、これらの中でも、重合性基を有する前記重合性液晶化合物が好適に挙げられる。

前記重合性基を有する重合性液晶化合物としては、例えば、円盤状コアと重合性基との間に連結基を導入した構造が挙げられる。前記重合性液晶化合物の具体的としては、下記構造式（２）で表される化合物が好適に挙げられる。

ただし、前記構造式（２）において、Ｄは円盤状コアを表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｐは重合性基を表す。また、ｎは３〜１２の整数である。また、複数の二価の連結基Ｌと重合性基Ｐとの組合せとしては、異なる二価の連結基と重合性基との組合せでもよいが、同一の組合せが好ましい。前記円盤状コアＤとしては、２種以上を併用することも可能である。

前記構造式（２）において、円盤状コアＤの具体例としては、下記構造式（Ｄ１）〜（Ｄ１５）で表される円盤状コアが挙げられる。

前記構造式（２）において、二価の連結基Ｌとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、これらの組合せなどが好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、これらの中から選ばれる二価の基を少なくとも二つ組合せた二価の連結基がより好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、これらの中から選ばれる二価の基を少なくとも二つ組合せた二価の連結基が特に好ましい。

前記アルキレン基の炭素原子数としては、１〜１２であることが好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数としては、２〜１２であることが好ましい。前記アリーレン基の炭素原子数としては、６〜１０であることが好ましい。また、前記アルキレン基、前記アルケニレン基、前記アリーレン基としては、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基などの置換基を有していてもよい。

前記二価の連結基Ｌとしては、例えば、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−、−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−、−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−、−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＡＬ−、−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−、などが挙げられる。
ただし、前記二価の連結基Ｌの具体例において、左側が前記円盤状コアＤに結合し、右側が重合性基Ｐに結合する。またＡＬはアルキレン基、アルケニレン基を表し、ＡＲはアリーレン基を表す。

前記構造式（２）において、前記重合性基Ｐとしては、特に制限はなく、重合反応の種類に応じて適宜選択することができ、不飽和重合性基、エポキシ基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。前記重合性基Ｐの具体例としては、下記構造式（Ｐ１）〜（Ｐ１８）で表される重合性基が挙げられる。

ただし、前記構造式（Ｐ１）〜（Ｐ１８）で表される重合性基において、ｎは３〜１２の整数を表し、前記円盤状コアＤの種類により決定される値である。
これらの重合性液晶化合物については、例えば、特開平９−１０４６５６号公報、特開平１１−９２４２０号公報、特開２０００−３４２５１号公報、特開２０００−４４５０７号公報、特開２０００−４４５１７号公報、特開２０００−８６５８９号公報などを例示することができる。

−−その他の成分−−
前記重合性液晶化合物に含有するその他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記重合性液晶化合物の重合反応を開始する重合開始剤、架橋剤などが挙げられる。また、前記式（１）から（８）のいずれかで表される化合物も好ましく含有することができる。

前記重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱重合反応を開始する熱重合開始剤、光重合反応を開始する光重合開始剤が挙げられ、こられの中でも前記光重合開始剤が好適に挙げられる。
前記光重合開始剤の具体例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号明細書に記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書に記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書に記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号明細書、米国特許第２９５１７５８号に記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組合せ（米国特許第３５４９３６７号に記載）、アクリジン及びフェナジンの化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書に記載）などが挙げられる。
前記光重合開始剤の前記重合性液晶化合物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記重合性液晶化合物の塗布液における固形分の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
前記光重合反応に用いられる光照射手段としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、紫外線が好適に挙げられる。前記光照射手段の照射エネルギーとしては、２０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。また、前記光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

また、前記重合性組成物には、二官能又は三官能の架橋剤を含有し、必要に応じて適宜選択した、その他の成分を含有することが可能である。前記二官能又は三官能の架橋剤は、残存するモノマーが酸化防止剤として作用して光や熱に起因する酸化反応を抑制することができる。
前記架橋剤としては、例えば、ビスアクリレート化合物、ビスメタクリレート化合物、ビスアリールエーテル、ビスビニルエーテル、ビスアリールエステル、ビスビニルエステル、トリスアクリレート化合物、トリスメタクリレート化合物、トリスアリールエーテル、トリスビニルエーテルなどが挙げられる。

前記架橋剤の具体例としては、例えば、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアリールエーテル、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールビニルエーテルジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。これらの中でも、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＸ−６２０（日本化薬（株）製）などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記架橋剤の分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５０〜１，２００が好ましく、１００〜７００がより好ましい。

前記架橋剤の含有量としては、前記重合性組成物の固形分に対して１〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましく、５〜１０質量％が特に好ましい。前記含有量が、１質量％未満或いは２０質量％を超えると、液晶の配向を妨害することとなり好適な重合性組成物が得られないことがある。

前記重合性組成物は、層形成の際に支持体上に塗布された時に前記重合性液晶化合物が配向状態にあることが好ましい。該配向状態としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。この配向状態は重合性液晶化合物が重合又は架橋することにより固定されて、光学異方性層中で液晶状態を示さなくなっていてもよい。
ここで、前記配向状態とは、本発明において、液晶状態を構成する化合物（分子）に分子形状に起因する固有軸、つまり棒状などの棒状様分子であれば長軸方向、板状分子であれば板の法線方向に前記固有軸を設定した場合に、注目した微少領域に含まれる液晶状態を構成する分子の固有軸の平均方向が、ほぼ揃っていること、即ち、液晶状態を構成する分子の配向状態をいう。

更に、本発明では、この配向状態にあるとき、注目した微少領域の液晶性化合物の固有軸の平均方向と、光学補償素子の積層方向（光学異方性層と支持体との界面における法線方向）とのなす角を配向角と称し、固有軸の平均方向を前記界面に投影した成分を配向方向と称する。

本発明において、重合性液晶化合物の前記配向状態は、前記配向角が光学異方性層の上面と下面との間で、厚み方向に連続的に変化するハイブリッド配向を有している。
前記ハイブリッド配向における配向角としては、配向膜側から空気界面側に向かって連続的に２０°±２０°〜６５°±２５°の範囲で変化するように調整されることが好ましい。
前記重合性液晶化合物の前記配向角及び配向方向により決定される前記配向状態としては、黒表示状態の液晶層と鏡面対象となるように前記配向角及び配向方法が調整されることが好ましい。
ここで、前記光学異方性層における前記重合性液晶化合物の配向膜側近傍の配向角、空気界面側の配向角度及び平均配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、多方向からのレターデーションを測定し、測定されたレターデーションから屈折率楕円体モデルを想定し、該屈折率楕円体モデルから算出された値である。
また、前記レターデーションから配向角を算出する方法としては、Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｃｅｐｔｓ ｏｆ Ｄｉｓｃｏｔｉｃ Ｎｅｇａｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍｓ ＳＩＤ９８ ＤＩＧＥＳＴに記載された手法で算出することも可能である。前記配向角を算出する場合における前記レターデーションの測定方向としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光学異方性層の法線方向のレターデーション（Ｒｅ０）、該法線方向に対して−４０°方向のレターデーション（Ｒｅ−４０）及び＋４０°方向のレターデーション（Ｒｅ４０）が挙げられる。
前記Ｒｅ０、Ｒｅ−４０、Ｒｅ４０の測定は、それぞれ前記エリプソメーターを用いて、前記各測定方向に観察角度を変えて測定した値である。

−その他の構成−
前記光学異方性層が備えるその他の構成としては、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、前記重合性液晶化合物を配向させるための配向膜が好適に挙げられる。前記配向膜上に前記重合性液晶化合物が塗布等により積層されることが好ましい。
前記配向膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラビング処理された有機化合物（ポリマー）からなる配向膜、マイクログループを有する配向膜、ラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）によりω−トリコ酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチル等の有機化合物が累積された配向膜、無機化合物が斜方蒸着された配向膜、電場、磁場又は光照射等により配向機能が生じる配向膜などが挙げられ、前記ラビング処理された有機化合物からなる配向膜が好適に挙げられる。
前記ラビング処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記有機化合物からなる膜の表面を紙や布で一定方向に数回こする処理が挙げられる。

前記有機化合物の種類としては、特に制限はなく、前記液晶性化合物の配向状態（特に配向角）に応じて決定することができ、例えば、前記液晶性化合物を水平に配向させるために配向膜の表面エネルギーを低下させない配向膜用ポリマーが挙げられる。
前記配向膜用ポリマーの具体例としては、ラビング処理の方向に対して直交する方向に前記液晶性化合物を配向する場合には、変性ポリビニルアルコール（特開２００２−６２４２７号公報参照）、アクリル酸系コポリマー（特開２００２−９８８３６号公報参照）ポリイミド、ポリアミック酸（特開２００２−２６８０６８号公報参照）などが好適に挙げられる。

前記配向膜は、前記重合性液晶化合物、前記支持体に対する密着性を向上させることを目的として、反応性基を有することが好ましい。前記反応性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記配向膜用ポリマーの繰り返し単位の側鎖に反応性基を導入したもの、前記配向膜用ポリマーに環状基の置換基を導入したものなどが挙げられる。
前記反応性基により前記重合性液晶化合物、前記支持体に対して化学結合を形成する配向膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特開平９−１５２５０９号公報に記載の配向膜を用いることも可能である。
前記配向膜の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜２μｍがより好ましい。

−光学異方性層の作製方法−
前記光学異方性層の作製方法は、少なくとも前記重合成液晶化合物を含んだ重合性組成物を８０℃以上に加熱する工程を含んでいれば特に制限はなく、例えば、前記重合性組成物の溶液を支持体の少なくとも一方の面上に塗布し塗布層を形成する光学異方性層形成工程と、該重合性組成物を８０℃以上に加熱する熱処理工程と、該重合性組成物を重合させる重合硬化工程とを含む作製方法が挙げられる。
なお、前記光学異方性層の作製方法としては、前記配向膜を用いて前記重合性液晶化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性分子を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフイルムなどの支持体上に転写してもよい。このような作製方法によれば、配向膜による複屈折の影響を考慮する必要がなく、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償することが可能となる。

−光学異方性層形成工程−
前記光学異方性層形成工程は、前記配向膜又は支持体上に少なくとも重合性液晶化合物を含んだ前記重合性組成物の溶液を塗布し光学異方性層の塗布層を形成する工程である。
前記重合性組成物の溶液を調製するための溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機溶剤が好適に挙げられる。前記有機溶剤の具体例としては、アミド、スルホキシド、ヘテロ環化合物、炭化水素、アルキルハライド、エステル、ケトン、エーテル、などが好適に挙げられる。該アミドとしては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、該スルホキシドとしては、ジメチルスルホキシドなどが挙げられ、該ヘテロ環化合物としては、ピリジンなどが挙げられ、該炭化水素としては、ベンゼン、ヘキサンなどが挙げられ、該アルキルハイドライドとしては、クロロホルム、ジクロロメタンなどが挙げられ、該エステルとしては、酢酸メチル、酢酸ブチルなどが挙げられ、該ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトンなどが挙げられ、該エーテルとしては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなどが挙げられる。
これらの中でもアルキルハライド、ケトンがより好適に挙げられる。前記有機溶剤としては、これらの二種類以上を併用してもよい。
前記塗布液の前記配向膜又は支持体上への塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコート法などの公知の方法が挙げられる。

−熱処理工程−
前記熱処理工程は、前記光学異方性層の塗布層を加熱して前記重合性液晶化合物の配向を均一にし、熟成させ、それを維持する工程である。
具体的には、前記塗工層を６０〜１２０℃で加熱して溶媒を揮発、乾燥させ、その後、重合性化合物の配向を熟成させるために、加熱温度を８０〜１８０℃の範囲若しくは液晶がＮＤ層を示すまで制御すればよい。

−重合硬化工程−
前記重合硬化工程は、前記遷移温度を維持しつつ、前記重合成液晶化合物の配向が熟成された前記光学異方性層を重合硬化させる工程である。
前記重合硬化工程としては、前記重合成液晶化合物の配向を固定化できるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光重合用の活性線を、硬化反応が充分に行われるエネルギー量だけ照射することにより硬化反応を行うもが挙げられる。光重合用の活性線としては、電子線、紫外線、可視光線、赤外線（熱線）等を必要に応じて適宜選択して用いることができ、一般的には、紫外線が好ましい。紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）を挙げることができる。
エチレン性不飽和基の重合反応のためのラジカル重合開始剤としては、例えば、アゾビス化合物、パーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触媒など、例えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、ｔｅｒｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパーカーボネート、２，４−ジクロルベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイドロパーキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ハイドロクロライド或いはベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキサントン類等を挙げることができる。これらの詳細については、例えば、「紫外線硬化システム」（総合技術センター、１９８９年）６３頁〜１４７頁に記載されている。

また、エポキシ基を有する化合物の重合には、紫外線活性化カチオン触媒として、例えば、アリルジアゾニウム塩（ヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオロボラート等）、ジアリルヨードニウム塩、ＶＩａ族アリロニウム塩（ＰＦ_６、ＡｓＦ_６、ＳｂＦ_６のようなアニオンをもつアリルスルホニウム塩等）が一般的に用いられる。
また、ラジカル反応を用いて硬化反応を行う場合、空気中の酸素の存在による重合反応の遅れをさけるために、窒素雰囲気下で上記活性線を照射することが、反応時間の短縮化と少ない光量で硬化できる点で好ましい。

前記光学異方性層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ０．０５〜１０μｍが好ましく、０．１〜５μｍがより好ましい。

＜保護層＞
前記保護層の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、同一材料の単層又は積層でもよく、２以上の異なる材料の積層でもよい。
前記保護層の材料としては、機械的強度、密封性（ガスバリア性）があり、透明性に優れ、８０％以上の光透過率を示して均一な光学特性を満たすものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機材料、有機材料などが挙げられる。
前記無機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス、サファイアガラス、アルミナ、シリカなどの素材を好適に用いることができる。これらの中でも、酸素ガスなどの透過性がほとんどなく、積層の容易なアルミナが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
無機材料からなる前記保護層の厚みとしては、目的に応じて適宜選択することができ、上記機能の観点から０．０５μｍ以上が好ましく、前記厚みの上限としては、組込みのハンドリング性や機械的強度の観点から、０．４μｍが好ましく、０．１〜０．２μｍがより好ましい。前記厚みが、０．０５μｍ未満であると、機械的強度に欠け密封性を損なうおそれがあり、耐久性が乏しくなることがあり、０．４μｍを超えると光学特性が低下するおそれがあり、コンラストの劣化を招くことがある。

前記有機材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール、塩化ビニルのようなプラスチックからなるフイルム、紫外線硬化樹脂等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。また、有機材料からなる保護層に、前記紫外線吸収剤を含有させてもよい。
有機材料からなる前記保護層の厚みとしては、目的に応じて適宜選択することができ、上記機能の観点から０．０５μｍ以上が好ましく、前記厚みの上限としては、組込みのハンドリング性や機械的強度の観点から、４μｍ以下が好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。前記厚みが、０．０５μｍ未満であると、機械的強度に欠け密封性を損なうおそれがあり、４μｍを超えると光学特性が低下するおそれがあり、コンラストの劣化を招くことがある。

前記保護層は、光学補償素子の少なくとも一方の面に配置することが好ましく、両面に設けることがより好ましい。この時、支持体に前述のガラス等の素材を用いた場合は、該支持体が保護層としての機能を兼ねることができるため、他方の面のみに設けた場合でも、両面からのガス透過を抑制することができる。前記保護層は、有機材料からなる前記光学異方性層を保護する層であり、該光学異方性層上に積層するのが好適である。
前記保護層の、大きさとしては、積層された前記光学異方性層の全体を覆うものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光学異方性層と同じ大きさか、それよりも大きいことが好ましい。

−保護層の形成方法−
前記保護層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、重合成組成物を含有する前記光学異方性層の重合硬化により、該光学異方性層が重合硬化し、液晶層の配向が固定化された後に、該光学異方性層の上に積層する方法が好ましい。

前記保護層の積層方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、有機材料の場合は、保護層形成用溶液を調製し、重合成組成物を含有する前記光学異方性層上に塗布することにより積層する方法が好適に挙げられる。
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコート法などが挙げられる。
無機材料の場合は、材料を蒸着することにより積層する蒸着方法が好適に挙げられる。
前記蒸着方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、試料を気体原料の雰囲気内におき、化学反応によって、試料表面に薄膜を形成する化学気相成長法（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）や蒸発やスパッタによって、粒子になった原料を試料に付着させて形成する物理気相成長法（ＰＶＤ：Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などが挙げられる。
これらのなかでも、スパッタ装置を用い、前記保護層の材料である金属で形成されたスパッタリングターゲットを用いて減圧下でスパッタリングを行うことにより、物理的に作製するＰＶＤがより好ましい。

＜反射防止層＞
前記反射防止層の材料、構造としては、反射率を低減し、透過率を増加させるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知のＡＲフイルム（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ Ｃｏａｔ Ｆｉｌｍ）などが挙げられる。
前記反射防止層は、光学補償素子を構成した際の光学特性の劣化を抑える機能があり、前記光学補償素子の空気界面となる最外層上に積層することが好ましい。

−反射防止層の形成方法−
前記反射防止層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、前記反射防止層を、無機材料で形成する場合は、蒸着方法により、有機材料の場合は、塗布方法により層上に積層して形成する方法が挙げられる。
前記蒸着の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、試料を気体原料の雰囲気内におき、化学反応によって、試料表面に層を形成する前記ＣＶＤや蒸発やスパッタによって、粒子になった原料を試料に付着させて形成する前記ＰＶＤなどが挙げられる。
これらのなかでも、スパッタ装置を用い、前記反射防止層の材料である金属で形成されたスパッタリングターゲットを用いて減圧下でスパッタリングを行うことにより、物理的に作製するＰＶＤがより好ましい。
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビア法やダイコート法などの塗布方式により形成することができる。ウェット塗布量を最小化することで乾燥ムラをなくす観点でマイクログラビア法及びグラビア法が好ましく、幅方向の厚みの均一性及び塗布経時での長手方向の厚みの均一性の観点で、順転グラビア法がより好ましい。

前記反射防止層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜２．０μｍが好ましい。

＜その他の層＞
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、負の一軸性屈折率楕円体の光学特性を有する追加の光学異方性層などが挙げられる。
前記追加の光学異方性層は、例えば、光の入射角による影響や、ＴＮ型液晶セルにおいてセル中央部の液晶によって受ける影響などを排除するために加えることができる。

−追加の光学異方性層−
前記追加の光学異方性層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料や無機材料など様々な素材が挙げられるが、無機材料からなるものが好ましい。

前記有機材料からなる追加の光学異方性層としては、例えば、プラスチックフイルムを延伸加工し、分子を配向させることによって複屈折を生じさせたものが知られている。この場合は支持体として用いる素材が複屈折層としての機能を有していてもよい。例えば、トリアセチルセルロースを延伸したフイルムを光学補償フイルムの支持体として用いるものがよく知られている。

前記無機材料からなる追加の光学異方性層としては、無機材料から形成され、負の一軸屈折楕円体の光学特性を有するものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体の法線方向を積層方向として、屈折率の異なる複数の無機材料が周期的に積層され、該積層方向における屈折率が周期的に変化する複数の層の周期構造多層膜からなり、前記屈折率変化の周期が可視光領域における光の波長より短い構造が好適に挙げられる。これらの中でも、前記周期構造多層膜が２種の無機材料による２つの層からなるものが特に好適に挙げられる。
このような追加の光学異方性層は、構造性複屈折とよばれる異方性が生じることにより、一軸性の傾斜していない負の屈折率楕円体の光学特性を有するものである。

前記周期構造多層膜における周期としては、可視光領域における光の波長よりも短いものであれば、特に制限はなく、該可視光領域の中から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該可視光領域における光の波長をλとした場合に、λ／１００〜λ／５が好ましく、λ／５０〜λ／５がより好ましく、λ／３０〜λ／１０が特に好ましい。各層は薄い方がよいが、必要な合計厚みを得るのに積層回数が増えてくるので、各層の積層回数の決定に際しは、前記第１の光学異方性層の所望とする光学特性、層の相互干渉による着色の問題などを考慮して、各層の材料、屈折率、厚み比、合計厚みなどから各層の厚みが最適になるように形成することが好ましい。ここで、前記可視光領域としては、特に明記するもの以外は、４００〜７００ｎｍの波長領域をいう。

これら追加の光学異方性層のレターデーションとしては、下記数式１で表されるレターデーションＲｔｈが２０〜５００ｎｍであることが好ましく、２０〜４００ｎｍであることがより好ましい。
＜数式１＞
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
ただし、前記数式１において、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、前記支持体の法線方向をＺ軸とした時に、追加の光学異方性層中におけるお互いに直交するＸ、Ｙ、Ｚ軸方向の屈折率をそれぞれ表す。また、ｄは、光学異方性層の厚みを表す。

前記追加の光学異方性層の厚みとしては、前記レターデーションを満たすものが好ましく、具体的には、５０〜５，０００ｎｍが好ましい。

また、前記周期構造多層膜の可視光領域における屈折率としては、該多層膜が複数の層からなる場合には、該屈折率の最大値と最小値の差が０．５以上が好ましく、２種類の層からなる場合には、各層の屈折率差が０．５以上が好ましい。
ここで、前記屈折率としては、特に明記するもの以外は、波長５５０ｎｍで測定された値である。
前記追加の光学異方性層の多層膜における層数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記無機材料からなる追加の光学異方性層を構成する前記周期構造多層膜の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記屈折率の高い材料若しくは低い材料を組み合わせて用いることが好ましい。
前記屈折率の高い材料としては、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２などが好ましく、前記屈折率の低い材料としては、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２などが好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
具体的には、可視光領域における屈折率の最大値と最小値との屈折率差が０．５以上となる材料の組合せから選択されることが好ましく、酸化物から適宜選択される複数の材料の組合せがより好ましく、ＳｉＯ_２（屈折率ｎ＝１．４８７０〜１．５４４２）及びＴｉＯ_２（屈折率ｎ＝２．５８３〜２．７４１）の組合せが特に好ましい。
したがって、前記追加の光学異方性層は、前記周期構造多層膜の材料、膜厚、層数、前記屈折率変化の周期等を適宜選択することにより、前記レターデーションを高精度かつ容易に調整することが可能となる。

前記追加の光学異方性層の機能は、支持体自体が有していてもよい。支持体に延伸したトリアセチルセルロースのような材料を用いた場合であって、前記レターデーションのみで機能を果たす場合は、前記追加の光学異方性層を設けなくともよい場合がある。一方、支持体にガラスのような光学的に等方性のある材料を用いた場合は、前記追加の光学異方性層を好適に用いることができる。この場合、前記追加の光学異方性層以外の光学異方性層の場合の厚みは、保護フイルムや支持体としての機能を有す場合もあるので、それら機能を考慮してそれぞれ適宜定めることができる。
また、前述のような屈折率の異なる層を交互に積層した層は、各層構成を光学膜厚の観点で適宜選択することにより、反射防止層としての機能を付与することも可能である。この反射防止層の場合は、屈折率の異なる層を構成する素材として、光学膜厚の設計の条件を満たす限りにおいて無機材料だけでなく、有機材料や有機材料に無機材料を加えた材料を使うことができる。

〔光学補償素子の構造〕
以下に、本発明の光学補償素子の例について、図面を参照しながら説明する。
前記光学補償素子の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下に示す第１から第８の構造の光学補償素子が好適に挙げられる。
−第１の構造の光学補償素子−
図１は、第１の構造に係る光学補償素子の断面図である。
第１の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の一方の面上に、前記構造複屈折性層からなる第１の光学異方性層を備え、他方の面上に前記重合成組成物中の重合成液晶化合物の配向方向が異なる２つの第２の光学異方性層を備えてなる。即ち、図１に示すように、第１の構造に係る光学補償素子１０は、支持体１の一方の面上に、配向膜４Ａ、第２の光学異方性層３Ａ、配向膜４Ｂ、第２の光学異方性層３Ｂ、反射防止層５Ｂが、該反射防止層５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体１の他方の面上に第１の光学異方性層２、反射防止層５Ａが、該反射防止層５Ａが最外表面に配置されるように積層されたものである。
第１の光学異方性層２は、ＴｉＯ_２層２Ａ及びＳｉＯ_２層２Ｂの周期構造積層体であり、各層の厚みはそれぞれ約１５ｎｍである。第１の光学異方性層２は、このような周期構造積層体とすることにより反射防止機能を兼ね備えることも可能である。
また、配向膜４Ａと配向膜４Ｂのラビング処理の方向はＴＮモードの液晶素子の構造から９０°を中心に７０°から１１０°までの範囲内の任意の角度に設定することができ、８０°から１００°の範囲内と設定することが好ましい。（以降、ラビング処理の方向を上記の範囲で調整する場合を略９０°と称する）この様な配向膜４Ａ及び４Ｂを備えることにより、第２の光学異方性層３Ａ及び３Ｂにおける前記液晶性化合物の配向方向を現実のコントラスト性能を向上させるために最適な配向方向へ配向させることが可能となる。
また、第２の光学異方性層３Ａ及び３Ｂの膜厚は黒状態のＴＮモード液晶素子の液晶の位相差の視野角依存性を補償する原理から、ほぼ同程度の膜厚に設定するが、コントラスト性能を向上させるために液晶素子の構造や配向状態を考慮して、各層の厚みを２０％程度まで変化させて最適化することもできる。更に、前述の液晶素子の角度依存性補償の観点から第２の光学異方性層３Ａ及び３Ｂのそれぞれの配向角度及び配向方向も同様に液晶素子の構造や配向状態を考慮して最適化することが好ましい。

−第２の構造の光学補償素子−
図２は、第２の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第２の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の少なくとも一方の面上に、前記第１の光学異方性層及び前記第２の異方性層をこの順に備えてなる。
即ち、図２に示すように、第２の構造に係る光学補償素子２０は、支持体２１の一方の面上に、第１の光学異方性層２２、配向膜２４、第２の光学異方性層２３、反射防止層２５Ｂがこの順に該反射防止層２５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体２１の他方の面上に反射防止層２５Ａを積層してなるものである。
第１の光学異方性層２２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、前記第２の構造に係る光学補償素子２０を、２枚積層して用いることも可能である。この場合には、それぞれの光学補償素子における配向膜のラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。前記第２の構造に係る光学補償素子２０に示すように、支持体の一方の面上に各層を配置する態様は、各層を構成する素材、組合せにもよるが、一般的にハンドリングがよく、製造も容易となる。

−第３の構造の光学補償素子−
図３は、第３の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第３の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の異方性層が前記支持体の一方の面上に設けられてなる。
即ち、図３に示すように、第３の構造に係る光学補償素子３０は、支持体３１の一方の面上に、第１の光学異方性層３２、配向膜３４Ａ、第２の光学異方性層３３Ａ、配向膜３４Ｂ、第２の光学異方性層３３Ｂ、反射防止層３５Ｂが、この順に該反射防止層３５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体３１の他方の面上に、反射防止層３５Ａを積層してなるものである。
第１の光学異方性層３２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、配向膜３４Ａと配向膜３４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜３４Ａ及び前記配向膜３４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層３３Ａ及び前記第２光学異方性層３３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。

−第４の構造の光学補償素子−
図４は、第４の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第４の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の異方性層が前記支持体を介して設けられてなる。
即ち、図４に示すように、第４の構造に係る光学補償素子４０は、支持体４１の一方の面上に、第１の光学異方性層４２、配向膜４４Ａ、第２の光学異方性層４３Ａ、反射防止層４５Ｂがこの順に該反射防止層４５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体４１の他方の面上に配向膜４４Ｂ、第２の光学異方性層４３Ｂ、反射防止層４５Ａがこの順に配置されるように積層されてなるものである。
第１の光学異方性層４２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、配向膜４４Ａと配向膜４４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜４４Ａ及び前記配向膜４４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層４３Ａ及び前記第２光学異方性層４３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。

−第５の構造の光学補償素子−
図５は、第５の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第５の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の少なくとも一方の面上に、前記第１の光学異方性層及び前記第２の異方性層を備えてなる。
即ち、図５に示すように、第５の構造に係る光学補償素子５０は、支持体５１の一方の面上に、配向膜５４、第２の光学異方性層５３、第１の光学異方性層５２、反射防止層５５Ｂがこの順に該反射防止層５５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体５１の他方の面上に反射防止層５５Ａが積層されてなるものである。
第１の光学異方性層５２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、前記第５の構造に係る光学補償素子５０を、２枚積層して用いることも可能である。この場合には、それぞれの光学補償素子における配向膜のラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。

−第６の構造の光学補償素子−
図６は、第６の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第６の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の異方性層を有してなる。即ち、図６に示すように、第６の構造に係る光学補償素子６０は、支持体６１の一方の面上に、配向膜６４Ａ、第２の光学異方性層６３Ａ、配向膜６４Ｂ、第２の光学異方性層６３Ｂ、第１の光学異方性層６２、反射防止層６５Ｂがこの順に該反射防止層６５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体６１の他方の面上に反射防止層６５Ａが積層されてなるものである。
第１の光学異方性層６２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、配向膜６４Ａと配向膜６４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜６４Ａ及び前記配向膜６４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層６３Ａ及び前記第２光学異方性層６３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。

−第７の構造の光学補償素子−
図７は、第７の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第７の構造に係る光学補償素子は、配向方向が異なる２つの前記第２の異方性層が前記支持体を介して設けられてなる。
即ち、図７に示すように、第７の構造に係る光学補償素子７０は、支持体７１の一方の面上に、配向膜７４Ａ、第２の光学異方性層７３Ａ、第１の光学異方性層７２、反射防止層７５Ｂがこの順に該反射防止層７５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体７１の他方の面上に配向膜７４Ｂ、第２の光学異方性層７３Ｂ、第１の光学異方性層７２、反射防止層７５Ａがこの順に該反射防止層７５Ａが最外表面に配置されるように積層されてなるものである。
第１の光学異方性層７２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。また、第１の光学異方性層７２は少なくとも一層備えていればよく、いずれか一方の第１の光学異方性層７２を省略することが可能である。
また、配向膜７４Ａと配向膜７４Ｂのラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。このような前記配向膜７４Ａ及び前記配向膜７４Ｂを備えることにより前記第２光学異方性層７３Ａ及び前記第２光学異方性層７３Ｂにおける前記重合性液晶化合物に含まれる前記液晶性化合物の配向方向を所望の角度だけ異なる方向に配向させることが可能となる。

−第８の構造の光学補償素子−
図８は、第８の構造に係る光学補償素子の一例を示す断面図である。
第８の構造に係る光学補償素子は、前記支持体の一方の面上に前記第１の光学異方性層を備え、他方の面上に前記第２の光学異方性層を備えてなる。
即ち、図８に示すように、第８の構造に係る光学補償素子８０は、支持体８１の一方の面上に配向膜８４、第２の光学異方性層８３、反射防止層８５Ｂがこの順に該反射防止層８５Ｂが最外表面に配置されるように積層され、支持体８１の他方の面上に、第１の光学異方性層８２、反射防止層８５Ａがこの順に該反射防止層８５Ａが最外表面に配置されるように積層されてなるものである。
第１の光学異方性層８２の構造としては、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における第１の光学異方性層２と同様の構造とすることができる。
また、前記第８の構造に係る光学補償素子８０を、２枚積層して用いることも可能である。この場合には、それぞれの光学補償素子における配向膜のラビング処理の方向が略９０°の所望の角度異なるように設定することが好ましい。

前記光学補償素子にあっては、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２における光学特性が無機材料よりなる周期構造積層体による周期構造ピッチによって決められるために、高分子フイルムを一軸伸延して所定の光学特性を得る場合に生じる残留応力による高分子フイルム面内における屈折率のバラツキやヘイズ値の低下等の光学的不均一性の問題が防止でき、前記第１の光学異方性層面内における光学的均一性を高くすることが可能である。したがって、前記光学補償素子は、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償することが可能となる。

また、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２が、１０数ｎｍの範囲で面内の厚みの制御が可能であり、高い平滑性を実現でき、前記第１の光学異方性層面内における光学的均一性を高くすることが可能である。したがって、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償して、光漏れを低減して、スジ状のむらが顕在化することが防止できる。
更に、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２は、高温・高多湿環境で長期にわたり使用されても、膨張又は収縮が生じることがない。
以上の光学補償素子全体として、長期にわたり光学特性の変化を最小とすることが可能となり耐久性が著しく向上する。

特に、前記第１〜第４及び第８の構造の光学補償素子にあっては、支持体１、２１、３１、４１、８１上に、１０数ｎｍの範囲で面内の厚み制御が可能な第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、８２を備えてなる。このため、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、８２は、高い精度で面内の厚みむらを防止することが可能であり、高平滑な表面を有する第１の光学異方性層を得ることが可能となる。更に、前記第２〜第４の構造の光学補償素子にあっては、このような高平滑な表面を有する第１の光学異方性層２２、３２、４２上に、第２の光学異方性層２３、３３、４３が積層されるので、該第２の光学異方性層２３、３３、４３の面内における配向欠陥を防止することが可能となる。このため、黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償し、幅広い視野角において光漏れを防止する光学補償素子を実現でき、幅広い視野角が要求される大画面液晶モニタや液晶プロジェクタ等に前記光学補償素子を用いることにより高画質、高コントラストな液晶表示装置及び液晶プロジェクタが実現することが可能となる。また、長期間の使用に対しても、退色や色ずれなどの経年変化を低減することができ、耐久性を向上することが可能となる。

前記の第１〜第８の構造において、第１の光学異方性層２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２は省略されてもよい。また前記の第１〜第８の構造において、第２の光学異方性層上に保護層を設置した構造も、好ましい例として挙げることが出来る。

（光学補償素子の製造方法）
前記光学補償素子の製造方法としては、少なくとも前記重合成液晶化合物を含んだ重合性組成物を８０℃以上に加熱する工程を含んでいれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記構造複屈折性層からなる第１の光学異方性層を形成する工程と、配向膜形成工程と、前記重合成組成物を含む第２の光学異方性層形成工程と、熱処理工程と、第２の光学異方性層重合硬化工程と、反射防止層形成工程と、その他の層の形成工程とを含む製造方法が挙げられる。
即ち、前記透明支持体の面上に直接、前記第１の光学異方性層を得た後に、該第１の光学異方性層上に、前記配向膜を介して第２の光学異方性層を得ることにより光学補償素子を製造してもよく、前記透明支持体の面上に、前記配向膜を介して前記第２の光学異方性層を得た後に、該第２の光学異方性層上に、第１の光学異方性層を得ることにより光学補償素子を製造してもよい。また、前記透明支持体の一方の面上に直接、前記第１の光学異方性層を得た後に、該透明支持体の他方の面上に、前記第２の光学異方性層を得ることにより光学補償素子を製造してもよい。

光学補償素子の製造方法の具体例としては、例えば、以下の製造方法が挙げられる。
まず、所定の大きさのガラス基板に、反射防止層及び第１の光学異方性層をこの順で形成する。前記反射防止層及び第１の光学異方性層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機材料又は無機材料よりなる反射防止層の構成材料を前記ガラス基板上に塗付又は蒸着して前記反射防止層を製膜する。次いで、ＴｉＯ_２膜及びＳｉＯ_２膜を交互に蒸着して周期構造積層体を製膜する。前記第１の光学異方性層における各層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、それぞれ約１５ｎｍとするものが挙げられる。
次いで、製膜された前記第１の光学異方性層上に、変性ポリビニルアルコール樹脂の溶液を塗工し、配向膜を製膜する。製膜された前記配向膜の表面を一方向に布地でラビング処理して配向機能を付与する。
次いで、液晶分子を含む重合性化合物の溶液を前記配向膜上にバーコーター、スピンコータ、ダイコーターなどを用いて塗工する。次いで、該塗工層を加熱して溶媒を乾燥させた後に、液晶分子の配向を熟成させるために加熱温度を変化させた後、紫外線を照射して前記重合化合物を重合させて、液晶分子の配向を固定し、第２の光学異方性層を得る。
なお、前記重合性化合物の溶媒の乾燥、液晶分子の配向時の加熱条件は同様であってもよい。
第２の光学異方性層を前記ガラス基板の一方の面上に２層備えるものにあっては、更に、前記第２の光学異方性層上に、配向膜を前記配向膜と同様の作製方法により製膜し、次いで、前記配向膜上に前記第２の光学異方性層の作成方法と同様の方法により、２層目の第２の光学異方性層を得る。この場合、１層目及び２層目の前記配向膜の配向方向は、略９０°異なるように配置されることが好ましい。
最後に第２の光学異方性層上及び前記ガラス基板のもう一方の面上に、所定の反射防止膜形成材料の溶液を塗工して反射防止膜を形成し、光学補償素子を作製することができる。

その他の層の形成工程としては、前記反射防止層形成工程の前又は後に、適宜選択によりその他の層を形成することができ、例えば、保護層、防眩層、防汚層、帯電防止層などの形成工程が挙げられる。

（液晶表示装置）
本発明の液晶表示装置は、少なくとも一対の電極及び該電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面又は片面に配される光学異方性層と、前記液晶素子及び光学異方性層に対向配置される偏光素子とを備え、更に、必要に応じてその他の構成を備えてなり、前記光学異方性層として前記本発明の光学異方性層を用いてなる。

前記液晶素子の表示モードとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードなどが挙げられる。これらの中でも、高コントラスト比であることなどから、ＴＮモードが好適に挙げられる。

図９〜１２は、本発明の液晶表示装置の概略構成図である。
これらの図において理解を促すため、各図に示す液晶表示装置の概略構成においては、図面の下側から光源からの光が入射され、図面の上側に進んで出射される形態を示し、偏向板や第２光学異方性層の２つ構成要素を含むものについては、図面の上下方向になぞらえて、以下、図面の上方向を「上側」、図面の下方向を「下側」と表記する。
図９に示すように、液晶表示装置１００は、吸収軸１０２及び１１５が概略直交しクロスニコルで対向配置される一対の上側偏光素子１０１（検光子）及び下側偏光素子１１６（偏光子）と、上・下側偏光素子１０１、１１６の間に配置される位相差板１０８と、液晶素子１１４（液晶セル）とを備えてなる。
なお、上・下側偏光素子１０１、１１６に代えて、グラン−トムソンプリズムなどの偏光ビームスプリッタを偏光素子として、液晶素子１１４に対向配置して用いることも可能である。

液晶素子１１４は、ガラス基板よりなる上側基板１０９と下側基板１１３とが対向配置され、これらの上側基板１０９及び下側基板１１３の間には、例えば、ネマチック液晶１１１が封入されている。上側基板１０９及び下側基板１１３の対向面には、不図示の画素電極、回路素子（薄膜トランジスタ）等が形成されている。上側基板１０９及び下側基板１１３のネマチック液晶１１１が接する対向面には不図示の上・下側配向膜が形成されている。該配向膜のネマチック液晶１１１が接する面上は、液晶分子の配列方向を揃えるために、ラビング処理が施されている。該ラビング処理を施すことにより刻まれる溝の方向（ラビング方向）としては、例えば、ＴＮモードの液晶表示装置の場合では、上・下側配向膜におけるラビング方向１１０及び１１２が概略直交している。

図１０は、液晶素子１１４に電圧が印加されていない通常状態時の液晶分子の配列状態を表している。上側基板１０９及び下側基板１１３側のネマチック液晶１１１は、前記不図示の配向膜に施されたラビング処理の作用によりラビング方向１１０及び１１２と略同一の方向に配列されている。そして、ラビング方向１１０及び１１２はお互いに直交しているので、ネマチック液晶１１１の分子は、上側基板１０９から下側基板１１３に向かうに従い、液晶分子の長軸が９０°ねじれた状態となるように配列される。

前記偏光素子としては、該偏光素子を平行ニコル配置したときの光の透過率を１００％とした場合に、該偏光素子をクロスニコル配置したときの光の透過率が０．００１％以下が好ましい。
上側偏光素子１０１（検光子）及び下側偏光素子１１６（偏光子）は、少なくとも偏光膜を有してなり、更に、必要に応じてその他の構成を有してなる。

前記偏光膜としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体部分ケン化物等の親水性ポリマーなどからなるフイルムに、ヨウ素、アゾ系、アントラキノン系、テトラジン系等の二色性染料などの二色性物質を吸着させて、延伸配向処理したものなどが挙げられる。
前記伸延配向処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記偏光膜の吸収軸が長手方向に対して実質的に直交する、幅方向一軸延伸型テンター延伸機が好適に挙げられる。このような幅方向一軸延伸型テンター延伸機は、貼り合せ時に異物が入りにくいというという利点を有する。
前記伸延配向処理としては、特開２００２−１３１５４８号公報に記載の延伸方法を用いることも可能である。

前記その他の構成としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記偏光膜の片面又は両面に有する保護層、反射防止層、防眩処理層などが挙げられる。
上・下側偏光素子１０１、１１６の構造としては、前記偏光膜の少なくとも一方の面に前記保護層を有した偏光板、液晶素子１１４を支持体として該光学補償素子の一方の面に一体的に前記偏光膜を有するものなどが好適に挙げられる。
前記保護層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステルなどが挙げられる。
前記保護層としては、具体的には、セルローストリアセテート、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）などのポリオレフィン類が好適に挙げられる。
また、特開平８−１１０４０２号公報、特開平１１−２９３１１６号公報に記載されている非複屈折性光学樹脂材料も用いることが可能である。
前記保護層の配向軸（遅相軸）方向としては、特に制限はないが、作業操作上の簡便性から、前記保護層の配向軸が長手方向に平行であることが好ましい。また、前記保護層の遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）の角度も特に限定的でなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できる。なお、前記幅方向一軸延伸型テンター延伸機を用いて前記偏光膜を作製した場合には、前記保護層の遅相軸（配向軸）と前記偏光膜の吸収軸（延伸軸）方向とは実質的に直交することになる。
前記保護層のレターデーションとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、測定波長６３２．８ｎｍにおいて１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。
なお、前記セルロースアセテートを用いる場合には、環境の温湿度によるレターデーション変化を小さくおさえる目的から、レターデーションが３ｎｍ未満が好ましく、２ｎｍ以下がより好ましい。

前記偏光板の作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ロール形態で供給される長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして
連続して貼り合わされることが好ましい。
また、前記偏光膜、前記偏光板は、光学軸のズレ防止、ゴミなどの異物侵入防止などの点から前記光学補償素子に固着処理されていることが好ましい。
前記反射防止層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ素系ポリマーのコート層、多層金属蒸着層等の光干渉性の層、などが挙げられる。
上・下側偏光素子１０１、１１６の光学的性質、耐久性（短期、長期での保存性）としては、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等かそれ以上の性能を有することが好ましい。

光学補償素子１０８は、前記本発明の光学補償素子を用いてなる。
前記光学補償素子としては、液晶表示装置１００に組み込んだ状態における液晶表示装置１００の白表示透過率をＶｗ、黒表示透過率をＶｂとしたときに、該液晶表示装置１００の正面における前記白表示透過率Ｖｗと黒表示透過率Ｖｂとの比、即ち、コントラスト比Ｖｗ：Ｖｂは１００：１以上が好ましく、２００：１以上がより好ましく、３００：１以上が特に好ましい。
また、液晶表示装置１００の表示面における法線方向から６０°傾斜した全方位角方向において、黒表示透過率の最大値がＶｗに対して１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。このような光学補償素子を用いることにより、高コントラストで階調反転の生じない広い視野角の液晶表示装置を実現できる。
また、残留捩れ成分が大きい液晶素子を正確に補償するためには、クロスニコルに配置した一対の偏光素子の間に前記光学補償素子を配置し、該光学補償素子の法線方向を回転軸として該光学補償素子を回転させたときに前記液晶表示装置が消光する方位がなく、全方位にあたり、光の透過率が０．０１％以上が好ましい。

光学補償素子１０８は、上側偏光素子１０１と液晶素子１１４との間に配置され、第１の光学異方性層１０７、上側第２光学異方性層１０３、下側第２光学異方性層１０５を含んでなる。
光学補償素子１０８を構成する各光学異方性層はそれぞれ、上側第２光学異方性層１０３における配向膜のラビング方向１０４と、液晶素子１１４の上側基板１０９における上側配向膜のラビング方向１１０との成す角が１８０°となるように配置され、下側第２光学異方性層１０５における配向膜のラビング方向１０６と、液晶素子１１４の下側基板１３２における下側配向膜のラビング方向１１２との成す角が、１８０°となるように配置される。
なお、第２光学異方性層と、液晶素子の基板における配向膜のラビング方向との関係は置換しても良く、下側第２光学異方性層１０５における配向膜のラビング方向１０６と、液晶素子１１４の上側基板１０９における上側配向膜のラビング方向１１０との成す角が１８０°となるように配置され、上側第２光学異方性層１０３における配向膜のラビング方向１０４と、液晶素子１１４の下側基板１１３における下側配向膜のラビング方向１１２との成す角が１８０°となるように配置されてもよい。
また、第１の光学異方性層１０７は液晶素子１１４側となるように備えられることが好ましい。

図１１は、ＴＮモードの液晶表示装置において、黒表示状態、即ち、液晶素子１１４に電圧が印加された状態の液晶分子の配列状態を表している。液晶素子１１４に電圧が印加されると、液晶分子が立ち上がった状態、即ち、液晶分子の長軸が光の入射面に対して垂直となるように液晶分子の配列状態が変化する。ここで理想的には、電圧を印加した時の液晶素子１１４内の全ての液晶分子が、光の入射面に対して平行となることが望ましいが、実際には、図１１に示すように、液晶素子１１４内の液晶分子は、上側基板１０９及び下側基板１１３から液晶素子１１４の中心領域に向かうに従い、徐々に液晶分子の長軸が立ち上がった状態となる。したがって、上側基板１０９及び下側基板１１３側界面近傍の液晶分子は電圧印加時においても、その液晶分子の長軸が光りの入射面に対して平行ではなく、傾斜した配列状態となっている。このように、光の入射面に対して傾斜した液晶分子が存在することが、視野角によっては、黒表示状態とならずに光漏れを起こす原因となる。

更に、ＴＮモードの液晶表示装置に用いられるネマチック液晶は、一般に棒状液晶であり、光学的に正の一軸性を示す。このため、液晶素子１１４の中心領域に存在し、完全に立ち上がった状態の液晶分子によっても、斜め方向から液晶表示装置１００を見た場合には、複屈折が発現され、視野角によっては、黒表示状態とならずに光漏れを起こす原因となる。
したがって、黒表示状態における上側基板１０９及び下側基板１１３側界面近傍の液晶素子１１４内の液晶の配向状態に対しては、第２の光学異方性層１０３及び１０５に含まれる液晶分子の配向状態を鏡面対称として、上側基板１０９及び下側基板１１３側界面領域における前記複屈折の発現を光学的に補償するとともに、液晶素子１１４の中心領域における液晶による複屈折に対しては、一軸性の傾斜していない負の屈折率楕円体の光学特性を有する第１の光学異方性層１０７により光学的に補償して配置されることにより、全体として黒表示状態の液晶表示素子１１４を三次元的に光学補償して、幅広い視野角において光漏れを防止することが可能となる。

また、光学補償素子１０８は、図１１に示すように液晶素子１１４の下面に備えることもでき、さらには図１２に示すように液晶素子１１４の上下面に１０８ａ、１０８ｂとして備えることも可能である。なお、液晶素子の上下面に配置する場合、第１の光学異方性層１０７ａ又は１０７ｂのいずれかを省略することも可能であり、それぞれに第１の光学異方性層を設ける場合は１０７ａ、１０７ｂの合計のレターデーション値で調整される。
また、光学補償素子１０８としては、該光学補償素子１０８に備えられる不図示の前記支持体が液晶素子１１４の上側基板１０９と下側基板１１３であることも可能である。この場合には、図１２に示す第１の光学異方性層１０７ａ又は１０７ｂが上側基板１０９と下側基板１１３に直接形成される。

（液晶プロジェクタ）
本発明の液晶プロジェクタは、光源からの照明光を液晶表示装置に照射し、液晶表示装置によって光変調された光を、投影光学系によりスクリーン上に結像させて画像を表示する液晶プロジェクタにおいて、前記液晶表示装置が前記本発明の液晶表示装置を用いてなる。
前記液晶プロジェクタとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スクリーン投影型のフロントプロジェクタ、リアプロジェクションテレビなどが挙げられる。また、前記液晶プロジェクタに用いられる液晶表示装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置などが好適に挙げられる。

図１３はリア方式の液晶プロジェクタの一例を示す外観図である。
図１３に示すように液晶プロジェクタ２００は、筐体２０２の前面に拡散透過型のスクリーン２０３が設けられ、その背面に投影された画像がスクリーン２０３の前面側から観察される。筐体２０２の内部には投影ユニット３００が組み込まれ、投影ユニット３００によって投影される投影画像が、ミラー２０６、２０７で反射されスクリーン２０３の背面に結像される。液晶プロジェクタ２００は、筐体２０２の内部には、図示しないチューナー回路、ビデオ信号及び音声信号再生用の周知の回路ユニットなどが配置されている。
投影ユニット３００には、画像表示手段として図示しない液晶表示装置が組み込まれている。該液晶表示装置がビデオ信号の再生画像を表示することによって、画像をスクリーン２０３上に表示することができる。

図１４は投影ユニット３００の一例を示す構成図である。
図１４に示すように、投影ユニット３００は、透過型の三枚の液晶素子３１１Ｒ，３１１Ｇ，３１１Ｂを備え、フルカラーで画像投影を行うことが可能である。
光源３１２から出射された光は、紫外線及び赤外線をカットするフィルタ３１３を透過することにより赤色光、緑色光、青色光を含む白色光となり、光源３１２から液晶素子３１１Ｒ、Ｇ、Ｂに至る照明光軸にしたがってガラスロッド３１４に入射する。ガラスロッド３１４の光入射面は、光源３１２に用いられている放物面鏡の焦点位置近傍に位置し、光源３１２からの光は効率的にガラスロッド３１４に入射する。

ガラスロッド３１４の出射面には、リレーレンズ３１５が配設され、ガラスロッド３１４から出射される白色光は、リレーレンズ３１５及び後段のコリメートレンズ３１６により平行光となって、ミラー３１７に入射する。
ミラー３１７で反射された白色光は、赤色光だけを透過するダイクロイックミラー３１８Ｒで２光束に分けられ、透過した赤色光はミラー３１９で反射して液晶素子３１１Ｒを背面から照明する。
また、ダイクロイックミラー３１８Ｒで反射された緑色光と青色光は、緑色光だけを反射するダイクロイックミラー３１８Ｇで更に２光束に分割される。ダイクロイックミラー３１８Ｇで反射された緑色光は、液晶素子３１１Ｇを背面側から照明する。ダイクロイックミラー３１８Ｇを透過した青色光は、ミラー３１８Ｂ，３２０で反射され、液晶素子３１１Ｂを背面から照明する。

各々の液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂは、それぞれＴＮモードの液晶素子で構成され、個々の該液晶素子には、フルカラー画像を構成する赤色画像、緑色画像、青色画像の濃度パターンの画像が表示される。これらの液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂから光学的に等距離となる位置に中心がくるように、合成プリズム３２４が配置され、該合成プリズム３２４の出射面に対面して投影レンズ３２５が設けられている。合成プリズム３２４は、内部に２面のダイクロイック面３２４ａ、３２４ｂを備え、液晶素子３１１Ｒを透過してきた赤色光、液晶素子３１１Ｇを透過してきた緑色光、液晶素子３１１Ｂを透過してきた青色光を合成して投影レンズ３２５に入射させる。

各液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂの出射面の中心から、合成プリズム３２４及び投影レンズ３２５の中心を通り、スクリーン３０３の中心に至る投影光軸上には、投影レンズ３２５が設けられている。投影レンズ３２５は、物体側焦点面が液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂの出射面に一致し、像面側焦点面がスクリーン３に一致するように配置される。このため合成プリズム３２４で合成されたフルカラー画像は、スクリーン３０３に結像される。

液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂの照明光の入射面側には、それぞれ偏光板３２６Ｒ、３２６Ｇ、３２６Ｂが設けられている。また、前記各液晶素子の出射面側には、光学補償素子３２７Ｒ、３２７Ｇ、３２７Ｂと、偏光板３２８Ｒ、３２８Ｇ、３２８Ｂとが設けられている。入射面側の偏光板３２６Ｒ、３２６Ｇ、３２６Ｂと出射面側の偏光板３２８Ｒ、３２８Ｇ、３２８Ｂとはクロスニコルの配置となっており、入射面側の偏光板は偏光子、出射面側の偏光板は検光子として作用する。
前記本発明の液晶表示装置は、液晶素子３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂ、偏光板３２６Ｒ、３２６Ｇ、３２６Ｂ、３２８Ｒ、３２８Ｇ、３２８Ｂ、及び光学補償素子３２７Ｒ、３２７Ｇ、３２７Ｂを備えてなる。
なお、それぞれの色チャンネルごとに設けられた液晶素子、その両側にそれぞれ設けられた偏光板及び光学補償素子の作用は、それぞれの色光に基づく相違はあるものの、基本的な作用は実質的に共通であるので、以下、赤色チャンネルにより作用を説明する。

ミラー３１９で反射された赤色照明光は、入射面側の偏光板３２６Ｒで直線偏光となって液晶素子３１１Ｒに入射する。ノーマリーホワイトモードの場合、液晶素子３１１Ｒに用いられているＴＮモードの液晶は、赤色画像の黒を表示するために画素に信号電圧が印加される。このとき、液晶層に含まれる液晶分子は様々な配向姿勢をとるようになり、赤色照明光が平行光束となって液晶素子３１１Ｒに入射しても、液晶層が呈する旋光性と複屈折性により、液晶素子３１１Ｒの出射面から出射する光は完全な直線偏光とはならず、一般に楕円偏光の画像光が出射するようになり、検光子側の偏光板３２８Ｒから光漏れを生じて、充分な黒が得られない。また、ノーマリーブラックモードの場合でも、液晶分子のわずかな傾きによって黒レベルが充分に黒くはならない。

また、黒表示させたい状態において、液晶素子中の液晶分子を斜めに通過する光が含まれている場合には、液晶層によって変調された画像光は、直線偏光とはわずかに光学的な位相が相違した楕円偏光となって、検光子側の偏光板３２８Ｒから光漏れを生じて、充分な黒が得られない。
本発明の液晶プロジェクタは、前記本発明の光学補償素子を備えた前記本発明の液晶表示装置を用いてなる。そして光学補償素子３２７Ｒが黒表示状態の液晶層を、より高い精度で光学的に補償して、幅広い視野角において光漏れを防止することが可能となる。
このため、前記本発明の液晶プロジェクタは、高視野角、高コントラスト、高画質を得ることが可能となる。

（実施例１）
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。

（光学補償素子の作製）
以下の方法により、図１に示す第１の構造と同様の光学補償素子を作製した。
図１に示すように、前記第１の構造に係る光学補償素子１０は、支持体１の一方の面上に、第１の光学異方性層２、反射防止層５Ａがこの順に積層され、支持体１の他方の面上に配向膜４Ａ、第２の光学異方性層３Ａ、配向膜４Ｂ、第２の光学異方性層３Ｂ、反射防止層５Ｂがこの順に積層された光学補償素子である。

―第１の光学異方性層の作製―
支持体１として、ガラス基板を用い、該ガラス基板上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２とＴｉＯ_２を交互に蒸着して、各層をそれぞれ２６層ずつ、合計５２層の周期構造積層体からなる第１の光学異方性層２を作製した。作製された第１の光学異方性層の全体の厚みは、７６０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２００ｎｍであった。

―反射防止層の作製―
得られた第１の光学異方性層２の表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２とＴｉＯ_２を交互に蒸着して、反射防止層５Ａを作製した。作製された該反射防止層５Ａの厚みは０．２４μｍであった。

―配向膜の作製―
次に、第１の光学異方性層２とは反対側の前記ガラス基板の面上に、下記組成の配向膜用塗布液１００ｍｌ／ｍ^２を滴下し、１，０００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、該配向膜用塗布液を１００℃の温風で３分間乾燥して、厚み６００ｎｍの配向膜を作製した。次いで、形成された前記配向膜の表面上にラビング処理を施して、所定の配向方向に配向する配向膜４Ａを作製した。

＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（３）で表される変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・２０ｇ
・水（溶剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３６０ｇ
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２０ｇ
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

―第２の光学異方性層の作製―

紫外線吸収剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．１ｇになるように調製した下記組成の重合性液晶化合物の塗布液１００ｍｌ／ｍ^２を、前記配向膜４Ａの表面上に滴下し、１，５００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、１３０℃の恒温ゾーンで５分間加熱し、前記重合性液晶化合物を配向させた。その後、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ^２でＵＶ照射して、前記重合性液晶化合物を重合させ、液晶性化合物の配向状態を固定した。その後、室温まで放冷し、第２の光学異方性層３Ａを作製した。作製された該第２の光学異方性層３Ａの厚みは１．１μｍであった。

＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・４．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．４２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．１４ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−６で表される紫外線吸収剤・・・・・・・・・・・・・０．４０ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ、エトキシプロピオン
酸エチル９．０ｇ、乳酸エチル１．５ｇの混合液）・・・・・・・・・１５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

形成された第２の光学異方性層３Ａにおいて、前記円盤状液晶化合物は、円盤面の垂直軸法線と前記ガラス基板の法線とのなす角度（配向角）が、１０°から６２°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、前記円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。前記円盤状液晶化合物の配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、得られた測定値から屈折率楕円体モデルを仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｃｅｐｔｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｄｉｓｃｏｔｉｃ Ｎｅｇａｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍｓ ＳＩＤ９８ ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法により算出した。
第２の光学異方性層３Ａの表面上に、更に、配向膜４Ｂをその配向方向が配向膜４Ａと概略直交するように積層した。そして、該配向膜４Ｂの表面上に第２の光学異方性層３Ｂを第２の光学異方性層３Ａと同様の方法により形成した。
なお、配向膜４Ｂ及び第２の光学異方性層３Ｂの材料、配合量等は配向膜４Ａ及び第２の光学異方性層３Ａと同様とした。

得られた第２の光学異方性層３Ｂにおいて、円盤状液晶化合物は、円盤面の垂直軸法線と前記ガラス基板の法線とのなす角度（配向角）が、１２°から６５°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、該円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。また、得られた光学第２の光学異方性層３Ｂはシュリーレンなどの欠陥がない均一な層であった。

―反射防止層の作製―
得られた第２の光学異方性層３Ｂの表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２とＴｉＯ_２を交互に蒸着して、反射防止層５Ｂを作製した。作製された該反射防止層５Ｂの厚みは０．２４μｍであった。

（液晶表示装置の作製）
作製された前記光学補償素子１０を白表示１．５Ｖ、黒表示３ＶのノーマリーホワイトモードのＴＮモード液晶素子に重ね合わせて、液晶表示装置を作製した。

（実施例２）
前記実施例１において、紫外線吸収剤を上記化合物２−１に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の液晶表示装置を作製した。

（実施例３）
前記実施例１において、紫外線吸収剤を上記化合物３−５に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶表示装置を作製した。

（実施例４）
実施例１において、配向膜用塗布液を下記組成の配向膜用塗布液とし、配向膜作製時の乾燥条件を２２０℃１０分間に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の液晶表示装置を作製した。

＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・サンエバー１５０（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
・ポリイミド用シンナー（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（実施例５）
前記実施例１において、重合性組成物の塗布液を、紫外線吸収剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．１ｇになるように調製した下記組成の重合性組成物の塗布液とし、恒温ゾーンの温度を９０℃に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例５の液晶表示装置を作製した。

＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・４．００ｇ
・下記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．１４ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式１−６で表される紫外線吸収剤・・・・・・・・・・・・・０．４０ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１５．００ｇ

（実施例６）
前記実施例５において、紫外線吸収剤を上記化合物２−１に変更した以外は、実施例５と同様にして、実施例６の液晶表示装置を作製した。

（実施例７）
前記実施例５において、紫外線吸収剤を上記化合物３−５に変更した以外は、実施例５と同様にして、実施例７の液晶表示装置を作製した。

（比較例１）
実施例１において、紫外線吸収剤を除去した以外は実施例１と同様にして、比較例１の液晶表示装置を作製した。

（比較例２）
実施例４において、紫外線吸収剤を除去した以外は実施例４と同様にして、比較例２の液晶表示装置を作製した。

（比較例３）
実施例５において、紫外線吸収剤を除去した以外は実施例５と同様にして、比較例３の液晶表示装置を作製した。

（実施例８）
（光学補償素子の作製）
以下の方法により、図１に示す第１の構造と類似の光学補償素子を作製した。
実施例８の光学補償素子は、前記第１の構造に係る光学補償素子１０における、第２の光学異方性層３Ｂと反射防止層５Ｂの間に、紫外線吸収剤を含有する保護層を有してなる。

―第１の光学異方性層の作製―
支持体１として、ガラス基板を用い、該ガラス基板上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２とＴｉＯ_２を交互に蒸着して、各層をそれぞれ２６層ずつ、合計５２層の周期構造積層体からなる第１の光学異方性層２を作製した。作製された第１の光学異方性層の全体の厚みは、７６０ｎｍ、Ｒｔｈ＝２００ｎｍであった。

―反射防止層の作製―
得られた第１の光学異方性層２の表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２とＴｉＯ_２を交互に蒸着して、反射防止層５Ａを作製した。作製された該反射防止層５Ａの厚みは０．２４μｍであった。

―配向膜の作製―
次に、第１の光学異方性層２とは反対側の前記ガラス基板の面上に、下記組成の配向膜用塗布液１００ｍｌ／ｍ^２を滴下し、１，０００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、該配向膜用塗布液を１００℃の温風で３分間乾燥して、厚み６００ｎｍの配向膜を作製した。次いで、形成された前記配向膜の表面上にラビング処理を施して、所定の配向方向に配向する配向膜４Ａを作製した。

＜配向膜用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（３）で表される変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・２０ｇ
・水（溶剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３６０ｇ
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１２０ｇ
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

―第２の光学異方性層の作製―
下記組成の重合性液晶化合物の塗布液１００ｍｌ／ｍ^２を、配向膜４Ａの表面上に滴下し、１，５００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、１３０℃の恒温ゾーンで５分間加熱し、前記重合性液晶化合物を配向させた。その後、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ^２でＵＶ照射して、前記重合性液晶化合物を重合させ、液晶性化合物の配向状態を固定した。その後、室温まで放冷し、第２の光学異方性層３Ａを作製した。作製された該第２の光学異方性層３Ａの厚みは１.０μｍであった。

＜重合性組成物の塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（４）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・４．００ｇ
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・０．４２ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．０４ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．１４ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０５ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ、エトキシプロピオン
酸エチル９．０ｇ、乳酸エチル１．５ｇの混合液）・・・・・・・・・１５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

得られた第２の光学異方性層３Ａにおいて、前記円盤状液晶化合物は、円盤面の垂直軸法線と前記ガラス基板の法線とのなす角度（配向角）が、１０°から６２°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、該円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。前記円盤状液晶化合物の配向角は、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、観察角度を変えてレターデーションを測定し、得られた測定値から屈折率楕円体モデルを仮想し、「Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｃｅｐｔｓ ｏｆ ｔｈｅ Ｄｉｓｃｏｔｉｃ Ｎｅｇａｔｉｖｅ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ Ｆｉｌｍｓ ＳＩＤ９８ ＤＩＧＥＳＴ」に記載されている手法により算出した。
第２の光学異方性層３Ａの表面上に、更に、配向膜４Ｂをその配向方向が配向膜４Ａと概略直交するように積層した。そして、該配向膜４Ｂの表面上に第２の光学異方性層３Ｂを第２の光学異方性層３Ａと同様の方法により形成した。
なお、配向膜４Ｂ及び第２の光学異方性層３Ｂの材料、配合量等は配向膜４Ａ及び第２の光学異方性層３Ａと同様とした。

得られた該第２の光学異方性層３Ｂにおいて、前記円盤状液晶化合物は、円盤面と前記ガラス基板とのなす角度（配向角）が、１２°から６５°に前記ガラス基板側から空気界面側に向かって増加し、該円盤状液晶化合物がハイブリッド配向していた。また、得られた光学第２の光学異方性層３Ｂはシュリーレンなどの欠陥がない均一な層であった。

―保護層の作製―
紫外線吸収剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．１ｇになるように調製した下記組成の保護層用塗布液１００ｍｌ／ｍ^２を、第２の光学異方性層３Ｂの表面上に滴下し、１，５００ｒｐｍの条件でスピンコートした。その後、高圧水銀灯を用いて照射エネルギー３００ｍＪ／ｃｍ^２でＵＶ照射し、保護層を固定した。作製された該保護層の厚みは０．３μｍであった。

＜保護層用塗布液の組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・２．００ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・０．４０ｇ
・セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）・・・・・・・・・・０．１０ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．１０ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０５ｇ
・上記構造式４−２で表される紫外線吸収剤・・・・・・・・・・・・・０．６０ｇ
・溶剤（１−メトキシ−２−プロパノールアセテート４．５ｇ、エトキシプロピオン
酸エチル９．０ｇ、乳酸エチル１．５ｇの混合液）・・・・・・・・・１５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

―反射防止層の作製―
得られた第２の光学異方性層３Ｂの表面上に減圧下でスパッタ装置を用いてＳｉＯ_２とＴｉＯ_２を交互に蒸着して、反射防止層５Ｂを作製した。作製された該反射防止層５Ｂの厚みは０．２４μｍであった。

（液晶表示装置の作製）
作製された前記光学補償素子１０を白表示１．５Ｖ、黒表示３ＶのノーマリーホワイトモードのＴＮモード液晶素子に重ね合わせて、液晶表示装置を作製した。

（実施例９）
前記実施例８において、紫外線吸収剤を上記化合物５−３に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例９の液晶表示装置を作製した。

（実施例１０）
前記実施例８において、紫外線吸収剤を上記化合物６−２に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例１０の液晶表示装置を作製した。

（実施例１１）
実施例８において、配向膜用塗布液を下記組成の配向膜用塗布液とし、配向膜作製時の乾燥条件を２２０℃１０分間に変更した以外は、実施例８と同様にして、実施例１１の液晶表示装置を作製した。

―配向膜用塗布液の組成―
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・サンエバー１５０（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
・ポリイミド用シンナー（日産化学（株）製）・・・・・・・・・・・・・・２０ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（実施例１２）
前記実施例８において、重合性組成物の塗布液の組成を下記に、恒温ゾーンの温度を９０℃に変更した以外は実施例８と同様にして、実施例１２の液晶表示装置を作製した。
＜重合性組成物の塗布液組成＞
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・前記構造式（５）で表される円盤状液晶化合物・・・・・・・・・・・４．００ｇ
・上記構造式Ｖ−（１）で表される配向制御剤・・・・・・・・・・・・０．０１ｇ
・光重合開始剤（イルガキュア−９０７、チバガイギー社製）・・・・・０．１４ｇ
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬（株）製）・・・・・・０．０５ｇ
・溶剤（メチルエチルケトン）・・・・・・・・・・・・・・・・・・１５．００ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

（実施例１３）
前記実施例１２において、紫外線吸収剤を上記化合物７−４に変更した以外は、実施例１２と同様にして、実施例１３の液晶表示装置を作製した。

（実施例１４）
前記実施例１２において、紫外線吸収剤を上記化合物８−１に変更した以外は、実施例１２と同様にして、実施例１４の液晶表示装置を作製した。
（実施例１５）
前記実施例８において、保護層用塗布液中の紫外線吸収剤を０．０１ｇに、溶剤を３０ｇに、スピンコートの条件を３，０００ｒｐｍに変更し、光学補償素子１平方メートル当りの紫外線吸収剤量が０．０００６ｇになるように調製した以外は、実施例８と同様にして実施例１５の液晶表示装置を作製した。作製された保護層の厚みは０．１μｍであった。
（実施例１６）
前記実施例８において、保護層用塗布液中の紫外線吸収剤を３ｇに、スピンコートの条件を５００ｒｐｍに変更し、光学補償素子１平方メートル当りの紫外線吸収剤量が６ｇになるように調製した以外は、実施例８と同様にして実施例１５の液晶表示装置を作製した。作製された保護層の厚みは８μｍであった。

（比較例４）
実施例９において、紫外線吸収剤を除去する以外は実施例９と同様にして、比較例４の液晶表示装置を作製した。

（比較例５）
実施例１１において、紫外線吸収剤を除去する以外は実施例１１と同様にして、比較例５の液晶表示装置を作製した。

（比較例６）
実施例１２において、紫外線吸収剤を除去する以外は実施例１２と同様にして、比較例６の液晶表示装置を作製した。

＜液晶表示装置のコントラストの評価＞
得られた実施例１〜１６及び比較例１〜６における液晶表示装置について、コノスコープ（Ａｕｔｒｏｎｉｃ−Ｍｅｌｃｈｅｒ社製）を用いて、表示面の正面から仰角２０°、方位角４５０°の場所におけるコントラストを測定した。ここで、前記コントラストは、白表示照度、黒表示照度及びそれらの比から算出されるコントラスト（白表示照度／黒表示照度）を測定した。結果を表１に示す。

（実施例１７〜３２及び比較例７〜１２）
（液晶プロジェクタの作製）
ＲＧＢの各色にそれぞれ各一枚の３枚の実施例１〜１６及び比較例１〜６の液晶表示装置をそれぞれ市販のＴＮ型液晶プロジェクタに装着して、実施例１７〜３２及び比較例７〜１２の液晶プロジェクタを作製した。

＜液晶プロジェクタのコントラストの評価＞
得られた実施例１７〜３２及び比較例７〜１２の液晶プロジェクタについて、投射レンズから３ｍの距離に設置したスクリーン上での白表示照度、黒表示照度及びそれらの比から算出されるコントラスト（白表示照度／黒表示照度）を測定した。結果を表１に示す。

＜液晶表示装置及び液晶プロジェクタの使用経時（強制試験）の評価＞
前記液晶表示装置（実施例１〜１６及び比較例１〜６）及び液晶プロジェクタ（実施例１７〜３２及び比較例７〜１２）について、白色光２億ｌｕｘ相当の光源を用いて９６時間の各加速条件で使用経時（強制試験）を行い、前記コントラストの評価を行った。結果を表１に示す。

表１の結果から、紫外線吸収剤を第２の光学異方性層に添加した実施例１〜７の液晶表示装置は、紫外線吸収剤無添加の比較例１〜３の液晶表示装置と比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
更に、実施例１〜７の液晶表示装置を用いて作製した実施例１７〜２３の液晶プロジェクタにおいても、比較例１〜３の液晶表示装置を用いて作製した比較例７〜９の液晶プロジェクタと比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
また、保護層を形成し、紫外線吸収剤を該保護層に添加した実施例８〜１６の液晶表示装置においても、紫外線吸収剤無添加である比較例４〜６の液晶表示装置と比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。
更に、実施例８〜１６の液晶表示装置を用いて作製した実施例２４〜３２の液晶プロジェクタにおいても、比較例４〜６の液晶表示装置を用いて作製した比較例１０〜１２の液晶プロジェクタと比較して、いずれもコントラストが劣化していないことが判る。

また、実施例８〜１６の液晶表示装置においては、光源を白色光から赤、緑、青のそれぞれ波長を限定した光源に変えても、光源が白色光の時と同様にコントラストの経時劣化が抑えられた。また、これらの液晶表示装置を用いて作製した実施例２４〜３２の液晶プロジェクタにおいても、経時的な色バランスの変化が抑えられた。

本発明の光学補償素子、該光学補償素子を備えた液晶表示装置は、携帯電話、パソコン用モニタ、テレビ、液晶プロジェクタなどに好適に使用することができる。

図１は、第１の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図２は、第２の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図３は、第３の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図４は、第４の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図５は、第５の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図６は、第６の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図７は、第７の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図８は、第８の構造の光学補償素子の一例を示す断面図である。 図９は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 図１０は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 図１１は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 図１２は、本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 図１３は、リア方式の液晶プロジェクタの一例を示す外観図である。 図１４は、投影ユニットの一例を示す構成図である。

符号の説明

１、２１，３１、４１、５１、６１、７１、８１・・・・・支持体
２、２２、３２、４２、５２、６２、７２、８２・・・・・第１の光学異方性層
３、２３、３３、４３、５３、６３、７３、８３・・・・・第２の光学異方性層
４、２４、３４、４４、５４、６４、７４、８４・・・・・配向膜
５、２５、３５、４５、５５、６５、７５、８５・・・・・反射防止層
１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０・・・・光学補償素子
１００・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・液晶表示装置
１０１・・・・・・・・・・・・・・・上側偏光板
１０２・・・・・・・・・・・・・・・上側偏光板吸収軸
１０３・・・・・・・・・・・・・・・上側第２光学異方性層
１０４・・・・・・・・・・・・・・・上側第２光学異方性層作製時のラビング方向
１０５・・・・・・・・・・・・・・・下側第２の光学異方性層
１０６・・・・・・・・・・・・・・・下側第２光学異方性層作製時のラビング方向
１０７・・・・・・・・・・・・・・・第１の光学異方性層
１０８・・・・・・・・・・・・・・・光学補償素子
１０９・・・・・・・・・・・・・・・液晶セル上側基板
１１０・・・・・・・・・・・・・・・上側基板液晶配向用ラビング方向
１１１・・・・・・・・・・・・・・・ネマチック液晶（液晶層）
１１２・・・・・・・・・・・・・・・下側基板液晶配向用ラビング方向
１１３・・・・・・・・・・・・・・・液晶セル下側基板
１１４・・・・・・・・・・・・・・・液晶素子
１１５・・・・・・・・・・・・・・・下側偏光板の吸収軸
１１６・・・・・・・・・・・・・・・下側偏光板
２００・・・・・・・・・・・・・・・液晶プロジェクタ
２０２・・・・・・・・・・・・・・・筐体
２０３・・・・・・・・・・・・・・・スクリーン
２０６、２０７・・・・・・・・・・・ミラー
３００・・・・・・・・・・・・・・・投射ユニット
３０３・・・・・・・・・・・・・・・スクリーン
３１１・・・・・・・・・・・・・・・液晶素子
３１２・・・・・・・・・・・・・・・光源
３１３・・・・・・・・・・・・・・・フィルタ
３１４・・・・・・・・・・・・・・・ガラスロッド
３１５・・・・・・・・・・・・・・・リレーレンズ
３１６・・・・・・・・・・・・・・・コリメートレンズ
３１７、３１９、３２０・・・・・・・ミラー
３１８・・・・・・・・・・・・・・・ダイクロイックミラー
３２４・・・・・・・・・・・・・・・合成プリズム
３２４ａ，ｂ・・・・・・・・・・・・ダイクロック面
３２５・・・・・・・・・・・・・・・投影レンズ
３２６、３２８・・・・・・・・・・・偏光板
３２７・・・・・・・・・・・・・・・光学補償素子

Claims (16)

1. 支持体の少なくとも一方の面上に光学異方性層を少なくとも１層有してなり、該光学異方性層が、重合性液晶化合物を含有する重合性組成物の重合生成物で形成されてなり、該重合性液晶化合物の配向が固定されており、紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学補償素子。
2. 重合成液晶化合物が、配向されており、該配向状態にある重合性液晶化合物の配向角が、光学異方性層の厚み方向に変化するハイブリッド配向で固定されている請求項１に記載の光学補償素子。
3. 重合成液晶化合物が、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶性化合物の少なくともいずれかを含む請求項１から２のいずれかに記載の光学補償素子。
4. 紫外線吸収剤が、光学異方性層及び、光源と該光学異方性層の間に位置する層（ただし、支持体は除く）の少なくともいずれかに含有された請求項１から３のいずれかに記載の光学補償素子。
5. 紫外線吸収剤が、紫外線によって硬化する重合性組成物の重合生成物で形成された層に含有された請求項１から４のいずれかに記載の光学補償素子。
6. 紫外線吸収剤が、光学異方性層に含有された請求項１から５のいずれかに記載の光学補償素子。
7. 紫外線吸収剤の含有量が、光学補償素子１平方メートルあたり、０．００１〜５ｇである請求項１から６のいずれかに記載の光学補償素子。
8. 紫外線吸収剤が、下記一般式（１）から（８）のいずれかで表される化合物から選ばれた少なくとも１種の化合物であることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の光学補償素子。
   ただし、前記一般式（１）中、ベンゼン環ａ及びｂは、置換基を有していてもよい。
   ただし、前記一般式（２）中、Ａｒ^３０１ は、アリール基又は芳香族性複素環基を表し、二価の連結基Ｌは、単結合又は−Ｏ−を表す。ベンゼン環ｃは、置換基を有していてもよい。
   ただし、前記一般式（３）中、ベンゼン環ｄ及びトリアジン環ｅは、置換基を有していてもよい。前記ベンゼン環ｄには他の芳香族環及び複素環のいずれかが縮合していてもよい。
   ただし、前記一般式（４）中、ベンゼン環ｆ及びｇは、置換基を有していてもよい。
   ただし、前記一般式（５）中、Ａｒ^３０２は、アリール基又は芳香族性複素環基を表し、Ｒ^３０１ は、水素原子又はアルキル基を表す。
   また、Ｒ^３０２及びＲ^３０３は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３１３、−ＣＯＯＲ^３１４、−ＣＯＮＲ^３１５Ｒ^３１６、−ＳＯ_２Ｒ^３１７又は−ＳＯ_２ＮＲ^３１８Ｒ^３１９を表す。ただし、該Ｒ^３１３、Ｒ^３１４、Ｒ^３１５、Ｒ^３１６、Ｒ^３１７、Ｒ^３１８及びＲ^３１９は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０２とＲ^３０３とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
   ただし、前記一般式（６）中、Ｒ^３０４及びＲ^３０５は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０４とＲ^３０５とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
   また、Ｒ^３０６及びＲ^３０７は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３２０、−ＣＯＯＲ^３２１、−ＣＯＮＲ^３２２Ｒ^３２３、−ＳＯ_２Ｒ^３２４又は−ＳＯ_２ＮＲ^３２５Ｒ^３２６を表す。ただし、該Ｒ^３２０、Ｒ^３２１、Ｒ^３２２、Ｒ^３２２、Ｒ^３２４、Ｒ^３２５及びＲ^３２６は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０６とＲ^３０７とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
   ただし、前記一般式（７）中、Ｒ^３０８は、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ^３０９及びＲ^３１０は、各々独立に、シアノ基、−ＣＯＲ^３２７、−ＣＯＯＲ^３２８、−ＣＯＮＲ^３２９Ｒ^３３０、−ＳＯ_２Ｒ^３３１又は−ＳＯ_２ＮＲ^３３２Ｒ^３３３を表す。ただし、該Ｒ^３２７、Ｒ^３２８、Ｒ^３２９、Ｒ^３３０、Ｒ^３３１、Ｒ^３２０及びＲ^３３３は、各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３０９とＲ^３１０とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
   また、Ｘ〜Ｙは、−ＣＲ^３３４Ｒ^３３５−ＣＲ^３３６Ｒ^３３７−又は−ＣＲ^３３８＝ＣＲ^３３９−を表す。ただし、該Ｒ^３３４、Ｒ^３３５、Ｒ^３３６、Ｒ^３３７、Ｒ^３３８及びＲ^３３９は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。該Ｒ^３３８とＲ^３３９とは、結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよい。
   また、二価の連結基であるＺは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^３４０−、−ＣＲ^３４１Ｒ^３４２−又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。ただし、該Ｒ^３４０は、アルキル基、置換アルキル基又はアリール基を表す。該Ｒ^３４１及びＲ^３４２は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。
   また、ｎは、０及び１のいずれかを表す。
   ただし、前記一般式（８）中、Ｒ^３１１及びＲ^３１２は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。前記Ｒ^３１１とＲ^３１２とは、結合して５員環又は６員環を形成していてもよい。
   また、ベンゼン環ｈ及びｉは、置換基を有していてもよく、他の芳香族環又は複素環が縮合していてもよい。
9. 保護層及び反射防止層の少なくともいずれかを有してなる請求項１から８のいずれかに記載の光学補償素子。
10. 光学異方性層を２層有し、該光学異方性層における液晶分子の配向方向が互いに異なる請求項１から９のいずれかに記載の光学補償素子。
11. 配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体の一方の面上に設けられた請求項１０に記載の光学補償素子。
12. 配向方向が互いに異なる２つの光学異方性層が、支持体を介して該支持体の両面に設けられた請求項１０に記載の光学補償素子。
13. 請求項１から１２のいずれかに記載の光学補償素子の製造方法であって、重合性液晶化合物を含む重合性組成物を８０℃以上に加熱することを含むことを特徴とする光学補償素子の製造方法。
14. 少なくとも一対の電極及び該電極間に封入される液晶分子を有する液晶素子と、該液晶素子の両面又は片面に配される光学補償素子と、前記液晶素子及び光学補償素子に対向配置される偏光素子とを備え、前記光学補償素子が請求項１から１２のいずれかに記載の光学補償素子であることを特徴とする液晶表示装置。
15. 液晶素子が、ツイストネマティック型である請求項１４に記載の液晶表示装置。
16. 光源と、該光源からの照明光が照射される液晶表示装置と、該液晶表示装置によって光変調された光をスクリーン上に結像させる投影光学系とを備え、前記液晶表示装置が請求項１４から１５のいずれかに記載の液晶表示装置であることを特徴とする液晶プロジェクタ。