TWI570174B - Near Infrared Cutoff Filter and Device Using Near Infrared Cutoff Filter - Google Patents

Near Infrared Cutoff Filter and Device Using Near Infrared Cutoff Filter Download PDF

Info

Publication number
TWI570174B
TWI570174B TW100118291A TW100118291A TWI570174B TW I570174 B TWI570174 B TW I570174B TW 100118291 A TW100118291 A TW 100118291A TW 100118291 A TW100118291 A TW 100118291A TW I570174 B TWI570174 B TW I570174B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
resin
carbon atoms
infrared cut
wavelength
Prior art date
Application number
TW100118291A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201211125A (en
Inventor
Takayuki Asano
Takashi Tsubouchi
Yukie Oohashi
Kouta Taniguchi
Tatsurou Mitsui
Kouji Hatakeyama
Naoki Sugiyama
Katsuya Nagaya
Original Assignee
Jsr Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jsr Corp filed Critical Jsr Corp
Publication of TW201211125A publication Critical patent/TW201211125A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI570174B publication Critical patent/TWI570174B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
    • C08L71/10—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
    • C08L71/12—Polyphenylene oxides
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Blocking Light For Cameras (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

近紅外線截止濾波器及使用近紅外線截止濾波器之裝置
本發明係關於近紅外線截止濾波器。更詳言之，係關於具有充分視角，尤其是可使用作為CCD、CMOS等固體攝影元件用視感度補正濾波器之近紅外線截止濾波器。
近年來，搭載電漿顯示器面板(PDP)之電視已商品化，已廣泛普及於於一般家庭。該PDP係利用電漿放電進行作動之顯示器，但已知電漿放電之際會發生近紅外線(波長：800~1000nm)。
另一方面，有關家庭內，於電視、收音機或空調等家電製品之遙控器，進而於個人電腦之資料交換利用到近紅外線變多，而經常指出PDP發出之近紅外線成為該等機器誤動作之原因之可能性高。
因此，市售之PDP大多數在其前面板上具備有截止本身發出之近紅外線用之濾波器功能。
且，攝影機、數位相機、附加相機功能之行動電話等雖使用照相機畫素之固體攝影元件的CCD或CMOS影像感知器，但該等固體攝影元件由於在其受光部中使用對近紅外線具有感度之矽光二極體，故有必要進行視感度補正，且大多使用近紅外線截止濾波器。
至於該等近紅外線截止濾波器，自過去以來均使用以各種方法製造者。實用上提供有例如在玻璃等透明基材之表面上蒸鍍銀等金屬，而反射近紅外線者，於丙烯酸樹脂或聚碳酸酯樹脂等透明樹脂中添加近紅外線吸收色素者等等。
然而，於玻璃基材上蒸鍍金屬之近紅外線截止濾波器不僅增加製造成本，且會有截止時有基材之玻璃片作為異物而混入之問題。再者，使用無機質材料作為基材時，為了對應於近年來的固體攝影裝置之薄型化‧小型化而有其界限。
又，於特開平6-200113號公報(專利文獻1)中，已知有使用透明樹脂作為基材，於透明樹脂中含有近紅外線吸收色素之近紅外線截止濾波器。
然而，專利文獻1所記載之近紅外線截止濾波器有近紅外線吸收能未必足夠之情況。
另外，本申請人在特開2005-338395號公報(專利文獻2)中提案具有原冰片烯系樹脂製基板與近紅外線反射膜之近紅外線截止濾波器。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]特開平6-200113號公報
[專利文獻2]特開2005-338395號公報
專利文獻2中記載之近紅外線截止濾波器雖近紅外線截止能、耐吸濕性、耐衝擊性優異，但有無法成為充分視角值之情況。
本發明之目的為獲得一種視角廣，而且近紅外線截止能優異，吸濕性低，沒有異物或翹曲，尤其可適用於CCD、CMOS等固體攝影裝置用之近紅外線截止濾波器。另外，本發明之目的係提供一種薄型且耐衝擊性優異之固體攝影裝置。
本發明之近紅外線截止濾波器之特徵為具有含有具有源自以下述式(I)表示之化合物之構造之化合物(I)之樹脂製基板(I)，
【化1】
[式(I)中，Ra、Rb及Y滿足下述(i)或(ii)，
(i)Ra各獨立表示氫原子、碳數1~8之烷基、-NReRf基(Re及Rf各獨立表示氫原子或碳數1~5之烷基)、或羥基，Rb各獨立表示氫原子、碳數1~5之烷基、-NRgRh(Rg及Rh各獨立表示氫原子、碳數1~5之烷基、或-C(O)Ri基(Ri表示碳數1~5之烷基))、或羥基，Y表示-NRjRk(Rj及Rk各獨立表示氫原子、碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、或任意之氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基，
(ii)一個苯環上之兩個Ra中之一個與同一苯環上之Y相互鍵結，形成構成原子數5或6之含有至少一個氮原子之雜環，Rb及未參與該鍵結之Ra各獨立與前述(i)之Rb及Ra同義]。
本發明之近紅外線截止濾波器之透射率較好滿足下述(A)~(D)：
(A)在波長430~580nm之範圍內，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率平均值為75%以上，
(B)在波長800~1000nm內，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率平均值為20%以下，
(C)在800nm以下之波長區域中，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為70%之最長波長(Xa)，與在波長580nm以上之波長區域中，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為30%之最短波長(Xb)之差的絕對值未達75nm，
(D)在波長560~800nm之範圍內，自近紅外截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為50%之波長之值(Ya)，與自相對於近紅外線截止濾波器之垂直方向為30°之角度測定時之透射率成為50%之波長之值(Yb)之差的絕對值未達15nm。
前述樹脂製基板(I)較好滿足下述(E)及(F)：
(E)在波長600~800nm有吸收極大
(F)在波長430~800nm之波長區域中，自基板之垂直方向測定時之透射率成為70%之在吸收極大以下之最長波長(Za)，與在波長580nm以上之波長區域中，自基板之垂直方向測定時之透射率成為30%之最短波長(Zb)之差的絕對值未達75nm。
以前述式(I)表示之化合物較好為以下述式(II)表示之化合物：
【化2】
[式(II)中，Ra及Rb各獨立與前述式(I)之(i)同義，Rc各獨立表示氫原子、碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、或任意之氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基]。
前述樹脂製基板(I)較好為含環狀烯烴系樹脂或芳香族聚醚系樹脂而成之基板。
前述環狀烯烴系樹脂較好為由自以下述式(X0)表示之單體及以下述式(Y0)表示之單體所組成群組選出之至少一種單體獲得之樹脂：
【化3】
(式(X0)中，Rx1~Rx4各獨立表示由下述(i’)~(viii’)選出之原子或基，kx、mx及px各獨立表示0或正整數)，
(i’)氫原子，
(ii’)鹵素原子，
(iii’)三烷基矽烷基，
(iv’)具有含有氧原子、硫原子、氮原子或矽原子之連結基之經取代或未經取代之碳數1~30之烴基，
(v’)經取代或未經取代之碳數1~30之烴基，
(vi’)極性基(但，(iv’)除外)，
(vii’)Rx1與Rx2或Rx3與Rx4表示相互鍵結形成之亞烷基，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，
(viii’)Rx1與Rx2或Rx3與Rx4表示相互鍵結形成之單環或多環之烴環或雜環，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，Rx2與Rx3表示相互鍵結形成之單環烴環或雜環，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，
【化4】
(式(Y0)中，Ry1及Ry2各獨立表示由前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，或表示下述(ix’)，Ky及Py各獨立表示0或正整數)，
(ix’)Ry1與Ry2表示相互鍵結形成之單環或多環之脂環式烴、芳香族烴或雜環。
前述芳香族聚醚系樹脂較好具有由以下述式(1)表示之構造單位及以下述式(2)表示之構造單位所組成群組選出之至少一種構造單位，
【化5】
(式(1)中，R1~R4各獨立表示碳數1~12之一價有機基，a~d各獨立表示0~4之整數)，
【化6】
(式(2)中，R1~R4及a~d各獨立與前述式(1)中之R1~R4及a~d同義，Y表示單鍵、-SO2-或>C=O，R7及R8各獨立表示鹵素原子、碳數1~12之一價有機基或硝基，g及h各獨立表示0~4之整數，m表示0或1，但m為0時，R7不為氰基)。
前述芳香族聚醚系樹脂較好進而具有由以下述式(3)表示之構造單位及以下述式(4)表示之構造單位所組成群組選出之至少一種構造單位
【化7】
(式(3)中，R5及R6各獨立表示碳數1~12之一價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-或碳數1~12之二價有機基，e及f各獨立表示0~4之整數，n表示0或1)，
【化8】
(式(4)中，R7、R8、Y、m、g及h各獨立與前述式(2)中之R7、R8、Y、m、g及h同義，R5、R6、Z、n、e及f各獨立與前述式(3)中之R5、R6、Z、n、e及f同義)。
前述化合物(I)相對於樹脂100重量份含有0.01~10.0重量份。
本發明之近紅外線截止濾波器可較好地使用於固體攝影裝置。
本發明之固體攝影裝置及照相機模組之特徵為具備前述之近紅外線截止濾波器。
依據本發明，可製造吸收(透射)波長之入射角依存性小，視角廣，近紅外線截止能優異，吸濕性低，沒有異物或翹曲之近紅外線截止濾波器。
且，依據本發明，可使固體攝影裝置及照相機模組等薄型化及小型化。
以下針對本發明加以具體說明。
[近紅外線截止濾波器]
本發明之近紅外線截止濾波器之特徵為具有樹脂製基板(I)，其含有具有源自具有以下述式(I)表示之方酸(squarylium)構造之化合物(以下亦稱為「化合物(I’)」之構造的樹脂基板，且較好具有下述樹脂製基板(I)與下述近紅外線反射膜。
近紅外線截止濾波器藉由具有該樹脂製基板，而成為尤其是入射角依存性小之近紅外線截止濾波器。
《樹脂製基板(I)》
前述樹脂製基板(I)包含化合物(I)，且較好滿足下述(E)及(F)。
(E)吸收極大宜落於波長600~800nm之範圍內。
若使基板之吸收極大波長落在該範圍內，則該基板可選擇性且效率良好地截止近紅外線。
(F)在波長430~800nm之波長區域中，自基板之垂直方向測定時之透射率成為70%之在吸收極大以下之最長波長(Za)，與在波長580nm以上之波長區域中，自基板之垂直方向測定時之透射率成為30%之最短波長(Zb)之差之絕對值(|Za-Zb|)宜未達75nm，較好未達50nm，更好未達30nm之值。
樹脂製基板(I)之吸收極大波長及(Za)與(Zb)之差之絕對值在前述範圍時，光入射於該基板時，在近紅外線之波長區域附近之波長(Za)與(Zb)之間之透射率急遽變化。
該種基板可有效地截止近紅外線，且，該種基板用於近紅外線截止濾波器時，該濾波器之(Ya)與(Yb)之差之絕對值小，吸收波長之入射角依存性小，可獲得視角廣之近紅外線截止濾波器。
又，將使用該種基板之近紅外線截止濾波器使用於照相機模組等透鏡單元時，可實現透鏡單元之薄型化(Low Profile)故較佳。
依據PDP用前面板或照相機模組等用途，波長400~700nm之所謂可見光區域中，亦有必須使含有化合物(I)之樹脂製基板之厚度成為100μm時該基板之平均透射率為50%以上，較好為65%以上之情況。
前述樹脂製基板(I)之厚度可依據所需用途適宜選擇，並無特別限制，但該基板較好調整至滿足前述(E)及(F)，更好為250~50μm，更好為200~50μm，最好為150~80μm。
樹脂製基板(I)之厚度為前述範圍時，可使利用該基板之近紅外線截止濾波器小型化、輕量化，可適用於固體攝影裝置等各種用途中。尤其使用於照相機模組等透鏡單元時，可實現透鏡單元之薄型化故較佳。
〈化合物(I)〉
前述化合物(I)具有源自化合物(I’)之構造。又，化合物(I)較好為具有方酸構造之染料。
【化9】
式(I)中，Ra、Rb及Y滿足下述(i)或(ii)。
(i)Ra各獨立表示氫原子、碳數1~8之烷基、-NReRf基(Re及Rf各獨立表示氫原子或碳數1~5之烷基)、或羥基，Rb各獨立表示氫原子、碳數1~5之烷基、-NRgRh基(Rg及Rh各獨立表示氫原子、碳數1~5之烷基、或-C(O)Ri基(Ri表示碳數1~5之烷基))、或羥基，Y表示-NRjRk基(Rj及Rk各獨立表示氫原子、碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、或任意之氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基)，
(ii)一個苯環上之兩個Ra中之一個與同一苯環上之Y相互鍵結，形成構成原子數5或6之含有至少一個氮原子之雜環，Rb及未參與該鍵結之Ra各獨立與前述(i)之Rb及Ra同義。
前述Ra之碳數1~8之烷基可列舉為甲基(Me)、乙基(Et)、正丙基(n-Pr)、異丙基(i-Pr)、正丁基、第二丁基、第三丁基(t-Bu)、戊基及己基等，該等基之任意氫原子亦可經甲基及乙基等取代。
前述-NReRf基中之Re及Rf之碳數1~5之烷基可列舉為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基及戊基等。
前述Rb之碳數1~5之烷基可列舉為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基及戊基等。
前述-NRgRh基中之Rg及Rh之碳數1~5之烷基可列舉為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基及戊基等。
前述-C(O)Ri基中之Ri可列舉為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基及戊基等。
前述-NRjRk基中之Rj及Rk之碳數1~8之脂肪族烴基可列舉為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、戊基及己基等之鏈狀脂肪族烴基；環戊基、環己基等環狀脂肪族烴基等。
前述-NRjRk基中之Rj及Rk之任意氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代之脂肪族烴基可列舉為前述鏈狀脂肪族烴基之任意氫原子經-NR’R”基(R’及R”表示甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基及戊基等鏈狀脂肪族烴基)、-CN、-OH、-OR(R表示甲基、乙基及丙基)等官能基取代之經取代鏈狀脂肪族烴基；前述環狀脂肪族烴基之任意氫原子經甲基及乙基等取代之經取代脂肪族烴基等。
前述-NRjRk基中之Rj及Rk中之碳數6~12之芳香族烴基可列舉為苯基等。
前述-NRjRk基中之Rj及Rk中之任意氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基可列舉為苯基之任意氫原子經甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基及戊基等鏈狀脂肪族烴基取代之經取代苯基等。
前述式(I)之(ii)中，一個苯環上之兩個Ra中之一個與同一苯環上之Y相互鍵結而成之構成原子數5或6之含至少一個氮原子之雜環可列舉為例如吡咯啶、吡咯、咪唑、哌唑、哌啶、吡啶、哌嗪、嗒嗪、嘧啶及吡嗪等。該等雜環中，較好為構成該雜環、且相鄰構成苯環之碳原子之一個原子為氮原子之雜環，更好為吡咯啶。
化合物(I’)包含例如以下述式(I-1)表示之構造之具有共振構造(resonance structure)之化合物(I-2)。亦即，化合物(I’)列舉為例如化合物(I-1)及化合物(I-2)。
【化10】
前述化合物(I)宜為測定將該化合物(I)溶解於其良溶劑中獲得之溶液之透射率(光路長1cm)時之吸收極大之分光透射率，與該溶液中之化合物(I)之濃度無關地，成為30%以下之化合物，且，較好為測定將化合物(I)溶解於其良溶劑中獲得之溶液之透射率(光路長1cm)時，與該溶液中之化合物(I)之濃度無關地，於波長600~800nm有吸收極大，且在波長430~800nm之波長區域中之透射率成為70%之吸收極大以下之最長波長，與波長580nm以上之波長區域中之透射率成為30%之最短波長之差之絕對值未達75nm，較好未達65nm，更好未達55nm之化合物
再者，以往之近紅外線截止濾波器，該等化合物(I)基於其透射率曲線具有陡峭傾斜，近紅外線區域之吸收區域狹窄，且在製造於玻璃等基板中混入近紅外線截止濾波器時，該化合物(I)無法耐受玻璃之成形溫度等理由而無法使用。因此，無法獲得尤其如本發明之入射角依存性小之近紅外線截止濾波器。
含有該等化合物(I)之樹脂製基板(I)由於具有前述(E)及(F)之特徵，故本發明之近紅外線截止濾波器成為尤其具有下述(A)、(C)及(D)之特徵。因此，可獲得入射角之依存性小、視角廣之近紅外線截止濾波器。
又，利用蒸鍍等而於樹脂製基板(I)上設置後述之近紅外線反射膜時，會有使近紅外線截止濾波器之視角變狹窄等性能變差之情況，但前述樹脂製基板(I)由於含有前述化合物(I)，故可防止因設置近紅外線反射膜產生之近紅外線截止濾波器之性能劣化。據此，即使利用蒸鍍等而於樹脂製基板(I)上設置近紅外線反射膜時，亦可獲得對於入射光之入射角沒有依存性之具有安定吸收波長區域之近紅外線截止濾波器。
本發明中之前述化合物(I’)較好為以下述式(II)表示之化合物。
【化11】
式(II)中，Ra及Rb係與前述式(I)之(i)同義，Rc各獨立表示氫原子、碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、或任意氫原子經烷基取代而成之碳數6~12之經取代芳香族烴基。
式(II)中之以Rc表示之碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、及任意氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基可列舉為與前述-NRjRk基中之Rj及Rk之碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、及任意氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基所列舉之基相同之基等。
又，化合物(II)亦可為其共振構造之以下述式(II-1)表示之化合物。
【化12】
至於以前述式(II)表示之化合物可列舉為下述之(a-1)~(a-19)等。再者，下述化合物中，「Ac」表示-C(O)-CH3。
【化13】
【化14】
【化15】
該等中，將化合物(a-10)充分溶解於二氯甲烷，且進行使化合物(a-10)以0.0001重量份之濃度溶解於二氯甲烷中而成之溶液的分光透射率測定(光路長1cm)時，在波長600~800nm有吸收極大，且將添加化合物(a-10)0.04重量份、JSR股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「ARTON G」100重量份以及二氯甲烷所得之樹脂濃度為20重量%之溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離，接著於減壓下於100℃乾燥8小時獲得之厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板之分光透射率測定時，在波長430~800nm之波長區域中，透射率成為70%之吸收極大以下之最長波長，與在波長580nm以上之波長區域中，透射率成為30%之最短波長之差異之絕對值由於未達55nm，故可製造吸收(透射)波長之入射角依存性小、視角廣的近紅外線截止濾波器因而較佳。
本發明中，化合物(I)較好以一般已知方法合成，例如若以特開平1-228960號公報中所述之方法合成即可。
本發明中，化合物(I)之使用量較好以使前述樹脂製基板(I)滿足前述(E)及(F)之方式適當選擇，具體而言，相對於樹脂製基板(I)製造時使用之樹脂100重量份，較好為0.01~10.0重量份，更好為0.01~8.0重量份，最好為0.01~5.0重量份。
化合物(I)之使用量在前述範圍內時，可獲得吸收波長之入射角依存性小、視角廣、近紅外線截止能、在430~580nm之範圍內之透射率及強度優異之近紅外線截止濾波器。
化合物(I)之使用量多於前述範圍時，亦有可獲得化合物(I)之特性(性質)表現更強之近紅外線截止濾波器之情況，但會有在430~580nm之範圍內之透射率比期望值低之虞，或會有樹脂製基板或近紅外線截止濾波器之強度降低之虞，且，化合物(I)之使用量少於前述範圍時，雖有可獲得在430~580nm之範圍內之透射率高之近紅外線截止濾波器之情況，但會有不易表現化合物(I)之特性之虞，會有難以獲得吸收波長之入射角依存性小，視角廣之樹脂製基板或近紅外線截止濾波器之情況。
〈樹脂〉
本發明所使用之樹脂製基板(I)若包含化合物(I)與樹脂即可，至於該樹脂較好為透明樹脂。至於該等樹脂只要不損及本發明之效果者即無特別限制，但為了例如確保熱安定性及成為薄膜之成形性，且成為藉由在100℃以上之蒸鍍溫度下進行高溫蒸鍍而形成介電體多層膜所成之薄膜，列舉為玻璃轉移溫度(Tg)較好為110~380℃，更好為110~370℃，又更好為120~360℃之樹脂。又，樹脂之玻璃轉移溫度在120℃以上，較好在130℃以上，更好在140℃以上時，由於可以更高溫蒸鍍形成介電體多層膜而獲得薄膜故而較佳。
又，至於前述樹脂，可使用於厚度0.1mm之全光線透射率較好為75~94%，更好為78~94%，最好為80~94%之樹脂。全光線透射率若在該範為內，則所得基板顯示作為光學薄膜之良好透明性。
至於該等樹脂之例可列舉為環狀烯烴系樹脂、聚醚系樹脂、聚芳酯(Polyarylate)(PAR)、聚碸樹脂(PSF)、聚醚碸樹脂(PES)、聚對伸苯樹脂(PPP)、聚伸芳基醚氧化膦樹脂(PEPO)、聚醯亞胺樹脂(PPI)、聚醯胺醯亞胺樹脂(PAI)、(改質)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂(PC)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)及有機-無機奈米混成材料。
前述樹脂中，使用透明性高之環狀烯烴系樹脂或芳香族聚醚系樹脂時，在可見光區域之透射率特別高故較佳，另外，該等樹脂之吸濕性低，不易產生翹曲故較佳。
且，尤其使用原冰片烯系樹脂或芳香族聚醚系樹脂作為樹脂時，前述化合物(I)對原冰片烯系樹脂之分散性良好，故可獲得光學特性均勻，成形加工性優異之基板。
〈環狀烯烴系樹脂〉
本發明使用之透明樹脂列舉為環狀烯烴系樹脂。至於環狀烯烴系樹脂並無特別限制，可使用使由以下述式(X0)表示之單體及以下述式(Y0)表示之單體所組成群組選出之至少一種單體聚合獲得之樹脂，或視需要進一步使前述獲得之樹脂氫化獲得之樹脂。
【化16】
(式(X0)中，Rx1~Rx4各獨立表示由下述(i’)~(viii’)選出之原子或基，kx、mx及px各獨立表示0或正整數)，
(i’)氫原子，
(ii’)鹵素原子，
(iii’)三烷基矽烷基，
(iv’)具有含有氧原子、硫原子、氮原子或矽原子之連結基之經取代或未經取代之碳數1~30之烴基，
(v’)經取代或未經取代之碳數1~30之烴基，
(vi’)極性基(但，(iv’)除外)
(vii’)Rx1與Rx2或Rx3與Rx4表示相互鍵結形成之亞烷基，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，
(viii’)Rx1與Rx2或Rx3與Rx4表示相互鍵結形成之單環或多環之烴環或雜環，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，Rx2與Rx3表示相互鍵結形成之單環烴環或雜環，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，
【化17】
(式(Y0)中，Ry1及Ry2各獨立表示由前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，或表示下述(ix’)，ky及py各獨立表示0或正整數)，
(ix’)Ry1與Ry2表示相互鍵結形成之單環或多環之脂環式烴、芳香族烴或雜環。
前述(ii’)鹵素原子列舉為氟原子、氯原子及溴原子。
前述(iii’)三烷基矽烷基列舉為碳數1~12之三烷基矽烷基等，較好為碳數1~6之三烷基矽烷基。該三烷基矽烷基列舉為三甲基矽烷基、三乙基矽烷基及三異丙基矽烷基等。
前述含有氧原子、硫原子、氮原子及矽原子之連結基列舉為羰基(-CO-)、氧羰基(-OCO-)、羰氧基(-COO-)、磺醯基(-SO2-)、醚鍵(-O-)、硫醚鍵(-S-)、亞胺基(-NH-)、醯胺鍵(-NHCO-、-CONH-)及矽氧烷鍵(-OSi(R)2-(式中，R為甲基、乙基等烷基))等，前述(iv’)之經取代或未經取代之碳數1~30之烴基亦可為含複數個該等連結基之基。
該等中就與近紅外線反射膜之接著性或密著性優異方面，化合物(I)之分散性或溶解性方面而言，較好為羰氧基(*-COO-)及矽氧烷鍵(-OSi(R)2-)。但*為鍵結於式(X0)之環者。
前述經取代或未經取代之碳數1~30之烴基較好為經取代或未經取代之碳數1~15之烴基，列舉為例如甲基、乙基及丙基等烷基；環戊基及環己基等之環烷基；苯基、聯苯基、苯乙基等芳香族烴基；乙烯基、烯丙基及丙烯基等之烯基等。該等基中，就耐熱安定性方面而言較好為甲基及乙基。
取代基列舉為羥基、鹵素原子等。
至於前述(vi’)極性基列舉為例如羥基；甲氧基及乙氧基等碳數1~10之烷氧基；乙醯氧基、丙醯氧基及苯甲醯基氧基等之羰氧基；氰基；胺基；醯基；磺基；羧基等。
另外，Rx1與Rx2或Rx3與Rx4相互鍵結形成之亞烷基列舉為亞甲基、亞乙基、亞丙基等。
Rx1與Rx2或Rx3與Rx4相互鍵結形成之單環或多環烴環或雜環，Rx2與Rx3相互鍵結形成之單環烴環或雜環，Ry1與Ry2相互鍵結形成之單環或多環之之環式烴、芳香族烴或雜環列舉為伸環丙基、伸環丁基、伸環戊基、伸環己基、伸環庚基、伸環丁烯基、伸環戊烯基、伸環己烯基、伸苯基、伸萘基等。
kx、mx、px、ky、py較好各獨立為0~3之整數。又，較好kx+mx+px為0~4之整數，更好為kx+mx+px為0~2之整數，最好kx+mx+px為1。ky+py較好為0~4之整數、ky+py更好為0~2之整數。使用mx為0，kx+px為1之環狀烯烴系單體時，可獲得玻璃轉移溫度高，且機械強度優異之樹脂故而較佳。
以前述式(X0)或(Y0)表示之環狀烯烴系單體之具體例例示為例如以下所示之化合物，但並不限於該等例示者。
‧雙環[2.2.1]庚-2-烯(原冰片烯)
‧5-甲基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-乙基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-丙基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-丁基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-第三丁基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-異丁基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-戊基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-己基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-庚基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-辛基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-癸基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-十二烷基雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-環己基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-苯基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-(4-聯苯基)-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-甲氧基羰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-苯氧基羰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-苯氧基乙基羰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-苯基羰氧基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-甲基-5-甲氧羰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-甲基-5-苯氧基羰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-甲基-5-苯氧基乙基羰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-乙烯基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-亞乙基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-三甲氧基矽烷基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-三乙氧基矽烷基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5,5-二甲基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5,6-二甲基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-氟-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-氯-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-溴-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5,6-二氟-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5,6-二氯-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5,6-二溴-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-羥基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-羥基乙基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-氰基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧5-胺基-雙環[2.2.1]庚-2-烯
‧三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧三環[4.4.0.12,5]十一碳-3-烯
‧7-甲基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-乙基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-環己基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-苯基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-(4-聯苯基)-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7,8-二甲基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7,8,9-三甲基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧8-甲基-三環[4.4.0.12,5]十一碳-3-烯
‧8-苯基-三環[4.4.0.12,5]十一碳-3-烯
‧7-氟-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-氯-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-溴-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7,8-二氯-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7,8,9-三氯-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-氯甲基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-二氯甲基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-三氯甲基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-羥基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-氰基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧7-胺基-三環[4.3.0.12,5]癸-3-烯
‧四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧五環[7.4.0.12,5.18,11.07,12]十五碳-3-烯
‧8-甲基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-乙基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-環己基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-苯基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-(4-聯苯基)-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-甲氧羰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-苯氧羰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-苯氧基乙基羰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-苯基羰氧基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-甲基-8-甲氧基羰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-甲基-8-苯氧基羰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-甲基-8-苯氧基乙基羰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-乙烯基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-亞乙基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8,8-二甲基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8,9-二甲基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-氟-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-氯-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-溴-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8,8-二氯-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8,9-二氯-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8,8,9,9-四氯-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-羥基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-羥基乙基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-甲基-8-羥基乙基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-氰基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
‧8-胺基-四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯
再者，該等環狀烯烴系單體可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
本發明使用之環狀烯烴系單體之種類及量係依據所得樹脂所要求之特性適當選擇。
該等中，使用具有其分子內含有至少一個由氧原子、硫原子、氮原子及矽原子選出之至少一種原子之構造(以下稱為「極性構造」)之化合物時，有化合物(I)之分散性優異，且與其他材料(近紅外線反射膜等)之接著性或密著性優異等之優點。尤其，使前述式(X0)中，Rx1及Rx3各獨立為氫原子或碳數1~3之烴基，較好為氫原子或甲基，且，Rx2或Rx4之任一者為具有極性構造之基，其餘為氫原子或碳數1~3之烴基之化合物聚合而成之樹脂較好為吸水(濕)性低。另外，使Ry1或Ry2之任一者為具有極性構造之基，其他為氫原子或碳數1~3之烴基之化合物聚合而成之樹脂，較好吸水(濕)性低。再者，具有前述極性構造之基為以下述式(Z0)表示之基的環狀烯烴系單體由於所得樹脂之耐熱性與吸水(濕)性之均衡變得容易故可較好地使用。
-(CH2)zCOOR　...(Z0)
(式(Z0)中，R表示經取代或未經取代之碳原子數1~15之烴基，z表示0或1~10之整數)。
前述式(Z0)中，z之值愈小則所得之氫化物之玻璃轉移溫度愈高，耐熱性愈優異，故z較好為0或1~3之整數，另外，z為0之單體就其合成上容易之觀點而言較佳。又，前述式(Z0)中之R之碳數愈多則有所得聚合物之氫化物之吸水(濕)性下降之傾向，但亦會有玻璃轉移溫度降低之傾向，故就保持耐熱性之觀點而言，較好為碳數1~10之烴基，最好為碳數1~6之烴基。
又，前述式(X0)中，以前述式(Z0)表示之基所鍵結之碳原子上若鍵結碳數1~3之烷基，尤其是甲基時，有成為耐熱性與吸水(濕)性之均衡性良好之化合物之傾向故而較佳。另外，前述式(X0)中，mx為0，且kx+px為1之化合物反應性高，可以高收率獲得聚合物，另外，由於獲得耐熱性高之聚合物氫化物，而且工業上容易取得故可較好地使用。
前述環狀烯烴系樹脂亦可為在不損及本發明效果之範圍內，使前述環狀烯烴系單體與可與該單體共聚合之單體共聚合而成之聚合物。
該等可共聚合之單體可列舉為例如環丁烯、環戊烯、環庚烯、環辛烯、環十二碳烯等環狀烯烴，或1,4-環辛二烯、二環戊二烯、環十二碳三烯等非共軛環狀多烯。
該等可共聚合之單體可單獨使用一種亦可併用兩種以上。
前述環狀烯烴系單體之聚合方法只要可使單體聚合即無特別限制，例如可藉由開環聚合、或者加成聚合進行聚合。
利用前述開環聚合反應獲得之聚合物於其分子中具有烯烴性不飽和鍵。另外，即使在前述加成聚合反應中，仍有聚合物於其分子中具有烯烴性不飽和鍵之情況。據此，聚合物分子中存在烯烴性不飽和鍵時，相關之烯烴性不飽和鍵會有成為經時變色或膠凝化等劣化原因之情況，故較好進行將該烯烴性不飽和鍵轉化成飽和鍵之氫化反應。
氫化反應可利用慣用方法，亦即於具有烯烴性不飽和鍵之聚合物溶液中添加已知之氫化觸媒，使常壓~300大氣壓，較好3~200大氣壓之氫氣在0~200℃，較好20~180℃下對該等作用而進行。
氫化聚合物之氫化率以500MHz、1H-NMR測定之對烯烴性不飽和鍵所加成之氫的比例通常為50%以上，較好為70%以上，更好為90%以上，最好為98%以上，又最好為99%以上。氫化率愈高，則成為對熱或光之安定性優異者，可成為可維持長期安定特性之樹脂製基板故而較佳。
〈芳香族聚醚系樹脂〉
本發明所用之透明樹脂列舉為芳香族聚醚系樹脂。至於芳香族聚醚系樹脂並無特別限制，較好為例如具有以下述式(1)表示之構造單位(以下亦稱為「構造單位(1)」)及以下述式(2)表示之構造單位(以下亦稱為「構造單位(2)」)所組成群組選出之至少一種構造單位(以下亦稱為「構造單位(1-2)」之樹脂(以下亦稱為「樹脂(1)」)。由該樹脂獲得之基板具有優異之耐熱性且力學強度優異，而且透明性及表面平滑性優異。
【化18】
前述式(1)中，R1~R4各獨立表示碳數1~12之一價有機基。a~d各獨立表示0~4之整數，較好為0或1。
碳數1~12之一價有機基可列舉為碳數1~12之一價烴基、及含有由氧原子及氮原子組成之群組選出之至少一種原子之碳數1~12之一價有機基等。
碳數1~12之一價烴基列舉為碳數1~12之直鏈狀或分支狀烴基、碳數3~12之脂環式烴基及碳數6~12之芳香族烴基等。
前述碳數1~12之直鏈狀或分支鏈烴基較好為碳數1~8之直鏈或分支鏈之烴基，更好為碳數1~5之直鏈或分支鏈之烴基。
前述直鏈或分支鏈之烴基之較佳具體例列舉為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基及正庚基等。
前述碳數3~12之脂環式烴基較好為碳數3~8之脂環式烴基，更好為碳數3或4之脂環式烴基。
碳數3~12之脂環式烴基之較佳具體例列舉為環丙基、環丁基、環戊基及環己基等環烷基；環丁烯基、環戊烯基及環己烯基等之環烯基。該脂環式烴基之鍵結部位亦可為脂環上之任一個碳。
前述碳數6~12之芳香族烴基列舉為苯基、聯苯基及萘基等。該芳香族烴基之鍵結部位亦可為芳香族環上之任一個碳。
含氧原子之碳數1~12之有機基列舉為由氫原子、碳原子及氧原子組成之有機基，其中可列舉較好為由醚鍵、羰基或酯鍵與烴基所組成之總碳數1~12之有機基等。
具有酯鍵之總碳數1~12之有機基可列舉為碳數1~12之烷氧基、碳數2~12之烯氧基、碳數2~12之炔氧基、碳數6~12之芳氧基及碳數1~12之烷氧基烷基等。具體而言，列舉為甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、苯氧基、丙烯氧基、環己氧基及甲氧基甲基等。
另外，具有羰基之總碳數1~12之有機基可列舉為碳數2~12之醯基等。具體而言，列舉為乙醯基、丙醯基、異丙醯基及苯甲醯基等。
具有酯鍵之總碳數1~12之有機基列舉為碳數2~12之醯氧基等。具體而言，列舉為乙醯氧基、丙醯氧基、異丙醯氧基及異丁醯氧基等。
含氮原子之碳數1~12之有機基列舉為由氫原子、碳原子及氮原子所組成之有機基。具體而言列舉為氰基、咪唑基、三唑基、苯并咪唑基及苯并三唑基等。
含有氧原子及氮原子之碳數1~12之有機基列舉為由氫原子、碳原子、氧原子及氮原子所組成之有機基，具體而言列舉為噁唑基、噁二唑基、苯并噁唑基及苯并噁二唑基等。
前述式(1)中之R1~R4就樹脂(1)之吸水(濕)性之觀點而言較好為碳數1~12之一價烴基，更好為碳數6~12之芳香族烴基，又更好為苯基。
【化19】
前述式(2)中，R1~R4及a~d各獨立與前述式(1)中之R1~R4及a~d同義，Y表示單鍵、-SO2-或>C=O，R7及R8各獨立表示鹵素原子、碳數1~12之一價有機基或硝基，m表示0或1，但m為0時，R7不為氰基。g及h各獨立表示0~4之整數，較好為0。
碳數1~12之一價有機基可列舉為與前述式(1)中之碳數1~12之一價有機基相同之有機基。
前述樹脂(1)之前述構造單位(1)與前述構造單位(2)之莫耳比(但，二者(構造單位(1)+構造單位(2))之合計為100)，就光學特性、耐熱性及力學特性之觀點而言，較好構造單位(1)：構造單位(2)=50：50~100：0，更好構造單位(1)：構造單位(2)=70：30~100：0，又更好構造單位(1)：構造單位(2)=80：20~100：0。
此處，所謂力學特性意指樹脂之拉伸強度、斷裂伸長率及拉伸彈性率等之性質。
另外，前述樹脂(1)亦可進一步具有由以下述式(3)表示之構造單位及以下述式(4)表示之構造單位所組成群組選出之至少一種構造單位(以下亦稱為「構造單位(3-4)」)。前述樹脂(1)具有該等構造單位(3-4)時，由於含有該樹脂(1)之基板之力學特性獲得提高故而較佳。
【化20】
前述式(3)中，R5及R6各獨立表示碳數1~12之一價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-或碳數1~12之二價有機基，n表示0或1，e及f各獨立表示0~4之整數，較好為0。
碳數1~12之一價有機基可列舉為與前述式(1)中之碳數1~12之一價有機基相同之有機基等。
碳數1~12之二價有機基可列舉為碳數1~12之二價烴基、碳數1~12之二價鹵化烴基、含有由氧原子及氮原子所組成群組選出之至少一種原子之碳數1~12之二價有機基，及含有由氧原子及氮原子所組成群組選出之至少一種原子之碳數1~12之二價鹵化有機基等。
碳數1~12之二價烴基列舉為碳數1~12之直鏈或分支鏈之二價烴基、碳數3~12之二價脂環式烴基及碳數6~12之二價芳香族烴基等。
碳數1~12之直鏈狀或分支鏈之二價烴基列舉為伸甲基、伸乙基、三伸甲基、亞異丙基、五伸甲基、六伸甲基及七伸甲基等。
碳數3~12之二價脂環式烴基列舉為伸環丙基、伸環丁基、伸環戊基及伸環己基等伸環烷基；伸環丁烯基、伸環戊烯基及伸環己烯基等伸環烯基等。
碳數6~12之二價芳香族烴基列舉為伸苯基、伸萘基及伸聯苯基等。
碳數1~12之二價鹵化烴基列舉為碳數1~12之直鏈或分支鏈二價鹵化烴基，碳數3~12之二價鹵化脂環式烴基及碳數6~12之二價鹵化芳香族烴基等。
碳數1~12之直鏈或分支鏈之二價鹵化烴基列舉為二氟伸甲基、二氯伸甲基、四氟伸乙基、四氯伸乙基、六氟三伸甲基、六氯三伸甲基、六氟亞異丙基及六氯亞異丙基等。
碳數3~12之二價鹵化脂環式烴基列舉為前述碳數3~12之二價脂環式烴基中所例示之基之至少一部份氫原子經氟原子、氯原子、溴原子或碘原子取代之基等。
碳數6~12之二價鹵化芳香族烴基列舉為前述碳數6~12之二價芳香族烴基中所例示之基之至少一部份氫原子經氟原子、氯原子、溴原子或碘原子取代之基等。
含有由氧原子及氮原子所組成群組選出之至少一種原子之碳數1~12之有機基列舉為由氫原子及碳原子，與氧原子及/或氮原子所組成之有機基，且具有醚鍵、羰基、酯鍵或醯胺鍵與烴基之總碳數1~12之二價有機基等。
至於含有由氧原子及氮原子所組成群組選出之至少一種原子之碳數1~12之二價鹵化有機基具體而言列舉為含有由氧原子及氮原子所組成群組選出之至少一種原子之碳數1~12之二價有機基中所例示之基之至少一部分氫原子經氟原子、氯原子、溴原子或碘原子取代之基。
前述式(3)中之Z較好為單鍵、-O-、-SO2-、>C=O或碳數1~12之二價有機基，就樹脂(1)之吸水(濕)性之觀點而言，更好為碳數1~12之二價烴基、碳數1~12之二價鹵化烴基或碳數3~12之二價脂環式烴基。
【化21】
前述式(4)中，R7、R8、Y、m、g及h各獨立與前述式(2)中之R7、R8、Y、m、g及h同義，R5、R6、Z、n、e及f各獨立與前述式(3)中之R5、R6、Z、n、e及f同義。再者，m為0時，R7不為氰基。
前述樹脂(1)之前述構造單位(1-2)與前述構造單位(3-4)之莫耳比(但，二者((1-2)+(3-4))之合計為100)，就光學特性、耐熱性及力學特性之觀點而言，較好(1-2)：(3-4)=50:50~100:0，更好(1-2):(3-4)=70:30~100:0，又更好(1-2):(3-4)=80:20~100:0。
此處，所謂力學特性意指樹脂之拉伸強度、斷裂伸長率及拉伸彈性率等性質。
前述樹脂(1)就光學特性、耐熱性及力學特性之觀點而言，較好前述構造單位(1-2)及前述構造單位(3-4)包含全部構造單位中之70莫耳%以上，更好包含全部構造單位中之95莫耳%以上。
前述樹脂(1)可藉由例如使含有由以下述式(5)表示之化合物(以下亦稱為「化合物(5)」)及以下述式(7)表示之化合物(以下亦稱為「化合物(7)」)所組成群組選出之至少一種化合物之成分(以下亦稱為「(A)成分」)與以含有下述式(6)表示之化合物之成分(以下亦稱為「(B)成分」)反應而獲得。
【化22】
前述式(5)中，X獨立表示鹵素原子，且較好為氟原子。
【化23】
前述式(7)中，R7、R8、Y、m、g及h各獨立與前述式(2)中之R7、R8、Y、m、g及h同義，X獨立與前述式(5)之X同義。
但，m為0時，R7不為氰基。
【化24】
前述式(6)中，RA各獨立表示氫原子、甲基、乙基、乙醯基、甲烷磺醯基或三氟甲烷磺醯基，其中以氫原子較佳。又，式(6)中，R1~R4及a~d各獨立與前述式(1)中之R1~R4及a~d同義。
至於前述化合物(5)，具體而言可列舉為2,6-二氟苯甲腈(DFBN)、2,5-二氟苯甲腈、2,4-二氟苯甲腈、2,6-二氯苯甲腈、2,5-二氯苯甲腈、2,4-二氯苯甲腈及該等之反應性衍生物。尤其，就反應性及經濟性之觀點而言，較好使用2,6-二氟苯甲腈及2,6-二氯苯甲腈。該等化合物亦可組合兩種以上使用。
以前述式(6)表示之化合物(以下亦稱為「化合物(6)」)具體而言列舉為9,9-雙(4-羥基苯基)茀(BPFL)、9,9-雙(3-苯基-4-羥基苯基)茀、9,9-雙(3,5-二苯基-4-羥基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)茀、9,9-雙(4-羥基-3-環己基苯基)茀及該等之反應性衍生物等。上述化合物中，較好使用9,9-雙(4-羥基苯基)茀及9,9-雙(3-苯基-4-羥基苯基)茀。該等化合物可組合兩種以上使用。
前述化合物(7)具體而言可列舉為4,4’-二氟二苯甲酮、4,4’-二氟二苯基碸(DFDS)、2,4’-二氟二苯甲酮、2,4’-二氟二苯基碸、2,2’-二氟二苯甲酮、2,2’-二氟二苯基碸、3,3’-二硝基-4,4’-二氟二苯甲酮、3,3’-二硝基-4,4’-二氟二苯基碸、4,4’-二氯二苯甲酮、4,4’-二氯二苯基碸、2,4’-二氯二苯甲酮、2,4’-二氯二苯基碸、2,2’-二氯二苯甲酮、2,2’-二氯二苯基碸、3,3’-二硝基-4,4’-二氯二苯甲酮及3,3’-二硝基-4,4’-二氯二苯基碸等。該等中，較好為4,4’-二氟二苯甲酮、4,4’-二氟二苯基碸。該等該化合物亦可組合兩種以上使用。
由化合物(5)及化合物(7)所組成群組選出之至少一種化合物在(A)成分100莫耳%中較好含有80莫耳%~100莫耳%，更好含90莫耳%~100莫耳%。
另外，(B)成分較好視需要含有以下述式(8)表示之化合物。化合物(6)在(B)成分100莫耳%中較好含有50莫耳%~100莫耳%，更好含有80莫耳%~100莫耳%，又更好含有90莫耳%~100莫耳%。
【化25】
前述式(8)中，R5、R6、Z、n、e及f各獨立與前述式(3)中之R5、R6、Z、n、e及f同義，RA各獨立與前述式(6)中之RA同義。
以前述式(8)表示之化合物列舉為氫醌、間苯二甲酚、2-苯基氫醌、4,4’-聯酚、3,3’-聯酚、4,4’-二羥基二苯基碸、3,3’-二羥基二苯基碸、4,4’-二羥基二苯甲酮、3,3’-二羥基二苯甲酮、1,1’-聯-2-萘酚、1,1’-聯-4-萘酚、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、2,2-雙(4-羥基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷及該等之反應性衍生物等。上述化合物中，較好為間苯二甲酚、4,4’-聯酚、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、1,1-雙(4-羥基苯基)環己烷、2,2-雙(4-羥基苯基)-1,1,1,3,3,3-六氟丙烷，就反應性與力學特性之觀點而言，較好使用4,4’-聯酚。該等化合物亦可組合兩種以上使用。
前述樹脂(1)更具體而言可藉以下所示之方法(I’)合成。
方法(I’)：
使(B)成分在有機溶劑中與鹼金屬化合物反應，獲得(B)成分(化合物(6)及/或化合物(8)等)之鹼金屬鹽之後，使所得鹼金屬鹽與(A)成分反應。又，亦可在(A)成分存在下進行(B)成分與鹼金屬化合物之反應，使(B)成分之鹼金屬鹽與(A)成分反應。
反應所使用之鹼金屬化合物可列舉為鋰、鉀及鈉等之鹼金屬；氫化鋰、氫化鉀及氫化鈉等氫化鹼金屬；氫氧化鋰、氫氧化鉀及氫氧化鈉等氫氧化鹼金屬；碳酸鋰、碳酸鉀及碳酸鈉等鹼金屬碳酸鹽；碳酸氫鋰、碳酸氫鉀及碳酸氫鈉等鹼金屬碳酸氫鹽。該等可使用一種或組合兩種以上使用。
鹼金屬化合物相對於前述(B)成分中之全部的-O-RA，鹼金屬化合物中之金屬原子之量通常以成為1~3倍當量，較好為1.1~2倍當量，更好為1.2~1.5倍當量之量使用。
又，反應所使用之有機溶劑可使用N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、γ-丁內酯、環丁碼、二甲基亞碸、二乙基亞碸、二甲基碸、二乙基碸、二異丙基碸、二苯基碸、二苯基醚、二苯甲酮、二烷氧基苯(烷氧基之碳數為1~4)及三烷氧基苯(烷氧基之碳數1~4)等。該等溶劑中，最好使用N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基甲醯胺、環丁碼、二苯基碸及二甲基亞碸等之介電率高之極性有機溶劑。該等有機溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
而且，前述反應時，亦可進一步使用苯、甲苯、二甲苯、己烷、環己烷、辛烷、氯苯、二噁烷、四氫呋喃、苯甲醚及苯乙醇等與水共沸之溶劑。
(A)成分與(B)成分之使用比例以(A)成分與(B)成分之合計作為100莫耳%時，(A)成分較好為45莫耳%以上55莫耳%以下，更好為50莫耳%以上52莫耳%以下，更好超過50莫耳%在52莫耳%以下，(B)成分較好為45莫耳%以上55莫耳%以下，更好為48莫耳%以上50莫耳%以下，又更好為48莫耳%以上未達50莫耳%。
另外，反應溫度較好為60℃~250℃，更好為80℃~200℃之範圍。反應時間較好為15分鐘~100小時，更好為1小時~24小時之範圍。
前述樹脂(1)以示差掃描熱量測定(DSC，升溫速度20℃/分鐘)之玻璃轉移溫度(Tg)較好為230~350℃，更好為240~330℃，又更好為250~300℃。
前述樹脂(1)之玻璃轉移溫度係使用例如Rigaku公司製造之8230型DSC測定裝置(升溫速度20℃/分鐘)或SII Nanotechnology股份有限公司製造之示差掃描熱量計(DSC6200)(升溫速度20℃/分鐘)等測定。
前述樹脂(1)係以TOSOH製造之HLC-8220型GPC裝置(管柱：TSKge1α-M，展開溶劑：四氫呋喃(以下亦稱為「THF」))測定，聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)較好為5,000~500,000，更好為15,000~400,000，又更好為30,000~300,000。
前述樹脂(1)以熱重量分析法(TGA)測定之熱分解溫度較好為450℃以上，更好為475℃以上，又更好為490℃以上。
〈聚醯亞胺樹脂〉
本發明中可使用之透明樹脂可列舉為聚醯亞胺樹脂。
前述聚醯亞胺樹脂並無特別限制，若為於重複單位中含有醯亞胺鍵之高分子即可，例如可藉特開2008-163107中列舉之方法合成。
本發明中可使用之透明樹脂之市售品可列舉為以下之市售品等。環狀烯烴系樹脂之市售品可列舉為例如JSR股份有限公司製造之ARTON，日本ZEON股份有限公司製造之ZEONOR，三井化學股份有限公司製造之APEL、Polyplastic股份有限公司製造之TOPAS等。聚醚碸樹脂之市售品可列舉為住友化學股份有限公司製造之SUMIKAEXCEL PES等。聚醯亞胺樹脂之市售品可列舉為三菱氣體化學股份有限公司製造之NEOPURIMU L等。聚碳酸酯樹脂之市售品可列舉為帝人股份有限公司製造之PURE-ACE等。有機-無機奈米混成材料之市售品可列舉為新日鐵化學股份有限公司製造之SILPLUS等。
〈其他成分〉
前述樹脂製基板(I)中，在不損及本發明效果之範圍內，可進而添加抗氧化劑、紫外線吸收劑、吸收近紅外線之染料或顏料、及金屬錯合物系化合物等之添加劑。且，藉由後述之溶液澆鑄法製造樹脂製基板(I)時，可添加平流劑或消泡劑，可使樹脂製基板(I)之製造變得容易。該等其他成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
前述抗氧化劑列舉為例如2,6-二第三丁基-4-甲基酚、2,2’-二氧基-3,3’-二-第三丁基-5,5’-二甲基二苯基甲烷、及肆[伸甲基-3-(3,5-二第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯[甲烷等。
前述紫外線吸收劑列舉為例如2,4-二羥基二苯甲酮及2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮等。
又，該等添加劑可在製造樹脂製基板(I)時同時混合於樹脂中，亦可在製造樹脂時添加。另外，添加量係依據所需特性適當選擇，但相對於樹脂100重量份，通常為0.01~5.0重量份，較好為0.05~2.0重量份。
〈含有化合物(I)之樹脂製基板(I)之製造方法〉
本發明中使用之樹脂製基板(I)可藉由例如熔融成形、澆鑄成形而形成，可視需要，於成形後藉由塗佈抗反射劑、硬質塗佈劑及/或抗靜電劑等塗佈劑之方法製造。
(A)熔融成形
前述樹脂製基板(I)可藉由使熔融混練前述樹脂與化合物(I)及/或化合物(I’)而獲得之顆粒溶融成形之方法；將含有前述樹脂與化合物(I)及/或化合物(I’)之樹脂組成物熔融成形之方法；使自由含有化合物(I)及/或化合物(I’)、前述樹脂及溶劑之樹脂組成物去除溶劑獲得之顆粒進行熔融成形之方法等製造。熔融成形方法可列舉為例如射出成形、熔融擠出成形或吹塑成形等。
(B)澆鑄
前述樹脂製基板(I)可藉由將含有化合物(I)及/或化合物(I’)、前述樹脂及溶劑之樹脂組成物澆鑄於適當基材上並去除溶劑，將含有抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑及化合物(I)及/或化合物(I’)之樹脂組成物塗佈於適當基材上，將含有抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑及化合物(I)及/或化合物(I’)之硬化性組成物塗佈於適當基材上並經硬化、乾燥等而製造。
例如，可於玻璃板、鋼帶、鋼滾筒或聚酯薄膜、環狀烯烴系樹脂薄膜等透明樹脂等之基材上，塗佈上述之樹脂組成物且將溶劑乾燥獲得塗膜，其後藉由自基材剝離塗膜，可獲得樹脂製基板(I)。另外，只要不損及本發明效果，亦可不自基材剝離塗膜而以基材與塗膜之層合體作為前述樹脂製基板(I)。另外，亦可將上述樹脂組成物塗佈於玻璃板、石英或透明塑膠製等光學零件上並乾燥溶劑，塗佈含有前述樹脂、硬塗劑等塗佈劑、溶劑及化合物(I)及/或化合物(I’)之樹脂組成物並經硬化、乾燥，於光學零件上直接形成樹脂製基板(I)。
以前述方法獲得之樹脂製基板(I)中之殘留溶劑量較好儘可能少，通常為3重量%以下，較好為1重量%以下，更好為0.5重量%以下。
殘留溶劑量超過3重量%時，樹脂製基板(I)經時變形使特性產生變化，而有無法發揮所需功能之虞。
〈近紅外線反射膜〉
本發明中使用之近紅外線反射膜為具有反射近紅外線之能力的膜。該等近紅外線反射膜可使用使以鋁蒸鍍膜、貴金屬薄膜、分散有以氧化銦作為主成分且含有少量氧化錫之金屬氧化物微粒子之樹脂膜、高折射率材料層與低折射率材料層交互層合而成之介電體多層膜等。
本發明之近紅外線截止濾波器由於具有該種近紅外線反射膜，故成為尤其具有下述(B)之特徵。因此，可獲得可充分截止近紅外線之濾波器。
本發明中，近紅外線反射膜可設置於樹脂製基板(I)之單面上，亦可設置於兩面上。設置於單面上時，製造成本或製造之容易性優異，設置於兩面上時，可獲得具有高強度、不易產生翹曲之近紅外線截止濾波器。
該等近紅外線反射膜中，亦可較好地使用高折射率材料層與低折射率材料層交叉層合之介電體多層膜。
構成高折射率層之材料可使用折射率為1.7以上之材料，選擇折射率範圍通常為1.7~2.5之材料。
至於該等材料列舉為例如以氧化鈦、氧化鋯、五氧化鉭、五氧化鈮、氧化鑭、氧化釔、氧化鋅、硫酸鋅及氧化銦等作為主成分，含有少量(例如，相對於主成分為0~10%)之氧化鈦、氧化錫及氧化鈰者等。
構成低折射率材料層之材料可使用折射率1.6以下之材料，且選擇折射率範圍通常為1.2~1.6之材料。
該等材料列舉為例如二氧化矽、氧化鋁、氟化鑭、氟化鎂及六氟化鋁鈉等。
層合高折射率材料層與低折射率材料層之方法只要是可層合該等材料層形成介電體多層膜即無特別限制。例如，可在前述樹脂製基板(I)上，直接、藉由CVD法、濺鍍法、真空蒸鍍法、離子輔助蒸鍍法及離子電鍍法等，使高折射率材料層與低折射率材料層交叉層合而形成介電體多層膜。
該等高折射率材料層與低折射率材料層之各層厚度，通常將欲截止之近紅外線波長作為λ(nm)時，較好為0.1λ~0.5λ之厚度。若厚度在該範圍內時，則以λ/4算出折射率(n)與膜厚(d)之乘積(n×d)之光學膜厚與高折射率材料層及低折射率材料層之各層厚度成為大致相同之值，由反射‧折射之光學特性之關係，有可容易地控制特定波長之截止‧透射之傾向。
另外，介電體多層膜中之層合數宜為5~60層，較好為10~50層。
而且，形成介電體多層膜時在基板產生翹曲之情況，未消除該狀況，可利用於基板兩面上形成介電體多層膜，對基板之形成介電體多層膜之面照射紫外線等電磁波等方法進行。又，照射電磁波時，可在介電體多層膜之形成中照射，亦可於形成後另外照射。
《其他之功能膜》
本發明之近紅外線截止濾波器在不損及本發明效果之範圍內，可在樹脂製基板(I)與介電體多層膜等之近紅外線反射膜之間，在與樹脂製基板(I)之設置近紅外線反射膜之面相反側之面，或於與近紅外線反射膜之設置樹脂製基板(I)之面相反側之面上適當設置抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜，以提高樹脂製基板(I)之表面硬度，改善耐藥品性、抗靜電及消除傷痕等。本發明之近紅外線截止濾波器可含一層由前述功能膜組成之層，亦可含兩層以上。本發明之近紅外線截止濾波器含有兩層以上之由前述功能膜組成之層時，可含兩層以上相同之層，亦可含兩層以上不同之層。
層合功能膜之方法並無特別限制，可列舉為將抗反射劑、硬塗劑及/或抗靜電劑等塗佈劑等，以與前述相同之熔融成形方法及澆鑄等方法塗佈於樹脂製基板(I)或近紅外線反射膜上。另外，亦可以棒塗佈器等將含有前述塗佈劑形成材料等之硬化性組成物塗佈於樹脂製基板(I)或近紅外線反射膜上之後，藉由紫外線照射等硬化而製造。
至於前述塗佈劑，列舉為紫外線(UV)/電子束(EB)硬化型樹脂或熱硬化型樹脂等，另列舉為胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧基丙烯酸酯系樹脂等。對應於該等塗佈劑之前述硬化性組成物列舉為胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系、丙烯酸酯系、環氧系及環氧基丙烯酸酯系硬化性組成物等。
前述胺基甲酸酯系、胺基甲酸酯丙烯酸酯系硬化性組成物中所含之成分可列舉為例如參(2-羥基乙基)異氰脲酸酯三(甲基)丙烯酸酯、雙(2-羥基乙基)異氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、分子內具有兩個以上之(甲基)丙烯醯基之寡聚合胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類，但並不限於該等例示。該等成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。另外亦可調配聚胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯等寡聚物或聚合物。
丙烯酸酯系硬化性組成物並無特別限制，可列舉為含有(甲基)丙烯酸酯類、乙烯化合物類等之組成物等。
前述(甲基)丙烯酸酯類之具體例可列舉為例如下列者：(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸冰片酯、(甲基)丙烯酸三環癸酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸4-丁基環己酯、丙烯醯基嗎啉、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸異硬脂酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基二乙二醇酯、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、二丙酮(甲基)丙烯醯胺、異丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、第三辛基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸7-胺基-3,7-二甲基辛酯、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基-2-甲基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-苯氧基-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸4-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、對-枯基酚環氧乙烷改質之(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸4-溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,4-二溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,6-二溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,4,6-三溴苯氧基乙酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸三羥甲基丙烷三氧基乙酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、三環癸烷二基二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷甲醇(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、四環癸烷二基二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、製造該等化合物時之起始醇類之環氧乙烷或環氧丙烷加成物之聚(甲基)丙烯酸酯類，分子內具有兩個以上之(甲基)丙烯醯基之寡酯(甲基)丙烯酸酯類，及寡醚(甲基)丙烯酸酯類，但並不限於該等。該等成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。另外亦可調配聚酯(甲基)丙烯酸酯等寡聚物或聚合物。
前述乙烯化合物類可列舉為例如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、二乙烯苯、乙二醇二乙烯醚、二乙二醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯醚等，但並不限於該等。該等成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
前述環氧系、環氧基丙烯酸酯系硬化性組成物中所含成分並無特別限制，可列舉為(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基縮水甘油酯、分子內具有兩個以上(甲基)丙烯醯基之寡聚環氧基(甲基)丙烯酸酯類等。該等成分可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。進而亦可調配聚環氧基(甲基)丙烯酸酯等寡聚物或聚合物。
前述塗佈劑(含有塗佈劑形成材料等之硬化性組成物)之市售品列舉為東洋油墨製造股份有限公司製造之LCH、LAS，荒川化學工業股份有限公司製造之BEAMSET，Daicel Scientech股份有限公司製造之EBECRYL、UVACURE，JSR股份有限公司製造之OPSTAR等。
且，前述硬化性組成物亦可包含聚合起始劑。前述聚合起始劑可使用習知之光聚合起始劑或熱聚合起始劑，亦可併用光聚合起始劑與熱聚合起始劑。
聚合起始劑之具體例並無特別限制，列舉為下列者：1-羥基環己基苯基酮，2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮，呫噸酮，茀酮，苯甲醛，蒽醌，三苯基胺，卡必醇，3-甲基苯乙酮，4-氯二苯甲酮，4,4’-二甲氧基二苯甲酮，4,4’-二胺基二苯甲酮，米查氏(Michael)酮，苯偶因丙基醚，苯偶因乙基醚，苄基二甲基縮酮，1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙-1-酮，2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮，噻噸酮，二乙基噻噸酮，2-異丙基噻噸酮，2-氯噻噸酮，2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-丙-1-酮，2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦，雙-(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦。
該等中，較好為1-羥基環己基苯基酮。
該等聚合起始劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
該等之市售品列舉為Irgacure 184、369、651、500、907、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、Darocure TPO(以上為汽巴.特用化學品公司製造)、LUCIRIN LR8728(BASF製造)、Darocure1116、1173(以上為Merck公司製造)、UBECRYL P36(UCB公司製造)等。
前述硬化性組成物中，聚合起始劑之調配比例以硬化性組成物之總量作為100重量%，較好為0.1~10重量%，更好為0.5~10重量%，又更好為1~5重量%。聚合起始劑之調配比例在前述範圍內時，硬化性組成物之硬化特性及操作性優異，可獲得具有所需硬度之抗反射膜、硬塗膜或抗靜電膜等功能膜。
另外，前述硬化性組成物中亦可添加有機溶劑作為溶劑，且可使用習知者。有機溶劑之具體例可列舉為甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、辛醇等醇類；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、γ-丁內酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯等酯類；乙二醇單甲基醚、二乙二醇單丁基醚等醚類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯烷酮等醯胺類。該等溶劑可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
前述功能膜之厚度較好為0.1μm~20μm，更好為0.5μm~10μm，最好為0.7μm~5μm。
又，為提高樹脂製基板(I)與功能膜及/或近紅外線反射膜之密著性，或功能膜與近紅外線反射膜之密著性，樹脂製基板(I)或功能膜之表面亦可經電暈處理或電漿處理等表面處理。
《近紅外線截止濾波器》
本發明之近紅外線截止濾波器之光線透射率較好滿足下述(A)~(D)。
(A)在波長430~580nm之範圍內，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率平均值宜為75%以上，較好為78%以上，更好為80%以上之值。本發明中藉由使用於厚度0.1mm之全光線透射率高之樹脂，且於該波長區域中不具有吸收之化合物(I)等，可獲得於該波長430~580nm具有高透射率之近紅外線截止濾波器。
將近紅外線截止濾波器使用於固體攝影裝置或照相機模組等透鏡單元中之視感度補正用濾波器等時，較好於波長430~580nm之透射率之平均值在前述範圍，且在該波長範圍內之透射率為固定。
於波長430~580nm之範圍內之透射率之平均值較高較佳。透射率之平均值若高，則可充分確保通過濾波器之光的強度，可較好地使用於前述用途。
另一方面，於波長430~580nm之範圍內之透射率平均值若低，則無法充分確保通過濾波器之光的強度，故有無法適用於前述用途之虞。
(B)在波長800~1000nm範圍內，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率平均值宜成為20%以下，較好為15%以下，更好為10%以下之值。本發明藉由在樹脂製基板(I)上設置具有高的近紅外線反射能之特定近紅外線反射膜，可獲得該種於波長800~1000nm之透射率充分低之近紅外線截止濾波器。
本發明之近紅外線截止濾波器係為了選擇性地減低近紅外線之波長(800nm以上)者，故於800~1000nm範圍內之透射率平均值較低者較佳。透射率之平均值低時，近紅外線截止濾波器可充分截止近紅外線。
另一方面，在波長800~1000nm範圍內之透射率平均值若高，則濾波器無法充分截止近紅外線，於該濾波器用於PDP等時，會有無法防止家庭內之PDP週邊之電子設備誤作動之虞。
(C)在800nm以下之波長區域中，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為70%之最長波長(Xa)，與在波長580nm以上之波長區域中，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為30%之最短波長(Xb)之差的絕對值(|Xa-Xb|)宜未達75nm，較好未達72nm，更好未達70nm之值。本發明中，藉由使用前述化合物(I)，可獲得成為特定透射率之波長之差的絕對值在前述特定範圍之近紅外線截止濾波器。
近紅外線截止濾波器之(Xa)與(Xb)之差之絕對值若在前述範圍內，則近紅外線之波長區域附近之波長(Xa)與(Xb)之間之透射率急遽變化，故可有效地截止近紅外線，且，可獲得下述(Ya)與(Yb)之差之絕對值小、吸收波長之入射角之依存性小、視角廣之近紅外線截止濾波器。
(D)在波長560~800nm之範圍內，較好在580~800nm之範圍內，自近紅外截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為50%之波長之值(Ya)，與自相對於近紅外線截止濾波器之垂直方向為30°之角度測定時之透射率成為50%之波長之值(Yb)之差的絕對值(|Ya-Yb|)宜未達15nm，較好未達13nm，更好未達10nm之值。
本發明中藉由使用前述化合物(I)，可獲得成為特定透射率之波長之差的絕對值在前述特定範圍內之近紅外線截止濾波器。
如此，波長560~800nm之範圍內，(Ya)與(Yb)之差的絕對值在前述範圍內時，該濾波器用於PDP等時，自斜方向觀看顯示器時，亦顯示與自垂直方向觀看之情況相同之明亮度與色調，可獲得吸收波長之入射角依存性小、視角廣之近紅外線截止濾波器。
另一方面，將(Ya)與(Yb)之差的絕對值為15nm以上之近紅外線截止濾波器用於PDP等時，會有隨著觀看顯示器之角度而顯著減低明亮度，使色調反轉，不易看見特定顏色之虞，故有不適用於前述用途之情況。
此處，所謂「視角」為由上下左右觀看顯示器時，顯示可正常看見畫面之某位置角度之指標。
本發明中，亦指自上下左右觀看近紅外線截止濾波器時，顯示可正常觀看畫面之某位置角度之指標。
是否可正常觀看之判斷，在本發明中係以在波長560~800nm之範圍內，自濾波器之垂直方向測定時之透射率成為50%之波長之值(Ya)，與自相對於濾波器之垂直方向成30°角度時之透射率成為50%之波長之值(Yb)之差的絕對值成為未達15nm作為一個基準。
前述近紅外線截止濾波器之厚度較好調整至使該濾波器之透射率滿足前述(A)~(D)，雖無特別限制，但較好為50~250nm，更好為50~200nm，又更好為80~150nm。
近紅外線截止濾波器之厚度若在前述範圍，則可使濾波器小型化、輕量化，可較好地使用於固體攝影裝置等各種用途中。尤其使用於照相機模組等之透鏡單元時，可實現透鏡單元之薄型化故而較佳。
〈近紅外線截止濾波器之用途〉
本發明中獲得之近紅外線截止濾波器具有廣視角、優異近紅外線截止能等。因此可使用作為照相機模組之CCD或CMOS等之固體攝影元件之視感度補償用。尤其，可使用於數位相機、行動電話用之相機、數位錄影機、PC相機、監控照相機、汽車用照相機、電視、汽車導航、行動資料終端機、個人電腦、影像遊戲機、醫療設備、USB記憶體、攜帶式遊戲機、指紋辨識系統、數位音樂播放器、玩具機器人及玩具等之中。另外，於作為安裝於汽車或建築物等之玻璃等之熱線截止濾波器等亦有用。
此處，針對於照相機模組中使用本發明中獲得之近紅外線截止濾波器之情況加以具體說明。
圖1顯示照相機模組之剖面概略圖。
圖1(a)為以往之照相機模組之構造的剖面概略圖，圖1(b)為表示使用於本發明獲得之近紅外線截止濾波器6’之情況下可確實獲得之照相機模組之構造之一之剖面概略圖。
圖1(b)中，在透鏡5之上部使用於本發明獲得之近紅外線截止濾波器6’，但於本發明獲得之近紅外線截止濾波器6’亦可使用於如圖1(a)中所示之透鏡5與感知器7之間。
以往之照相機模組光必須以對近紅外線截止濾波器6幾乎垂直地入射。因此，濾波器6必須配置在透鏡5與感知器7之間。
此處，由於感知器7為高感度，而有僅與於5μ左右之灰塵或塵埃接觸即無法正確作動之虞，故於感知器7之上部使用之濾波器6為無灰塵或塵埃者，有必要為不含異物者。且，由前述感知器7之特性，濾波器6與感知器7之間有必要設有特定間隔，以將成為阻礙照相機模組薄型化之一原因。
相對於此，於本發明獲得之近紅外線截止濾波器6’之(Ya)與(Yb)之差的絕對值為15nm以下。亦即，自濾波器6’之垂直方向入射之光，與自相對於濾波器6’之垂直方向成30°入射之光之透射波長並無太大差異(吸收(透射)波長之入射角依存性小)，故濾波器6’不需要配置在透鏡5與感知器7之間，亦可配置在透鏡上部。
因此，將本發明獲得之近紅外線截止濾波器6’用於照相機模組時，該照相機模組之操作性變容易，且，在濾波器6’與感知器7之間不需設置特定間隔，故使照相機模組之薄型化成為可能。
[實施例]
以下以實施例說明本發明，但本發明並不受該等實施例之任何限制。又，「份」若無特別說明則意指「重量份」。
首先，針對各物性值之測定方法及物性之評價加以說明。
(1)分子量：
使用安裝有TOSOH製造之H型管柱之WATERS公司製造之凝膠滲透層析儀(GPC)裝置(150C型)，以鄰-二氯苯溶劑、120℃之條件下測定標準聚苯乙烯換算之重量平均分子量(Mw)及數平均分子量(Mn)。
(2)玻璃轉移溫度(Tg)：
使用SII Nanotechnology股份有限公司製造之示差掃描熱量計(DSC6200)，升溫速度：每分鐘20℃，在氮氣流下測定。
(3)飽和吸水率：
以ASTM D570為準，自於合成例獲得之樹脂製作厚度3mm，長度50mm，寬度50mm之試驗片，將所得試驗片浸漬於23℃水中一週後，由試驗片之重量變化測定吸水率。
(4)分光透射率：
使用日立高科技股份有限公司製造之分光光度計(U-4100)測定。
此處，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率係如圖2般，測定對於濾波器垂直透射之光。
又，自相對於近紅外線截止濾波器之垂直方向成30°之角度測定時之透射率係如圖3所示，測定以相對於近紅外線截止濾波器之垂直方向成30°之角度透射之光。
又，該透射率除測定(Yb)之情況以外，係在使光相對於基板、濾波器成垂直入射之條件下，使用該分光光度計測定者。測定(Yb)之情況為以使光相對於濾波器之垂直方向成30°之角度入射之條件下，使用該分光光度計測定者。
[合成例1]
將以下述式(a)表示之8-甲基-8-甲氧基羰基四環[4.4.0.12,5.17,10]十二碳-3-烯(以下亦稱為「DNM」)100份，1-己烯(分子量調節劑)18份及甲苯(開環聚合反應用溶劑)300份饋入經氮氣置換之反應容器中，將該溶液加熱至80℃。接著，於反應容器內之溶液中添加作為聚合觸媒之三乙基鋁之甲苯溶液(0.6mol/升)0.2份，及甲醇改質之六氯化鎢之甲苯溶液(濃度0.025mol/升)0.9份，該溶液於80℃加熱攪拌3小時獲得經開環聚合反應之開環聚合物溶液。該聚合反應中之聚合轉化率為97%。
【化26】
將如此獲得之開環聚合物溶液1,000份饋入高壓釜中，於該開環聚合物溶液中添加0.12份之RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3，在氫氣壓100kg/cm2，反應溫度165℃之條件下，加熱攪拌3小時進行氫化反應。
使所得反應溶液(氫化聚合物容易)冷卻後，將氫氣釋壓。將該反應溶液注入大量甲醇中且分離回收凝固物，並使之乾燥，獲得氫化聚合物(以下亦稱為「樹脂A」)。樹脂A之分子量係數平均分子量(Mn)為32,000，重量平均分子量(Mw)為137,000，玻璃轉移溫度(Tg)為165℃。
[合成例2]
於經充分乾燥、經氮氣置換之1升不銹鋼製高壓釜中饋入水份6ppm之經脫水環己烷420.4g；對-二甲苯180.2g；5-三甲氧基矽烷基-雙環[2.2.1]庚-2-烯48.75mmol(10.43g)及雙環[2.2.1]庚-2-烯1.425mmol(134.1g)，以使高壓釜之內壓成為0.1MPa之方式饋入氣體狀乙烯。隨後，將高壓釜加溫至75℃。
將觸媒成分之2-乙基己酸鈀(以Pd原子計):0.003mg原子與三環己基膦：0.0015mmol添加於甲苯：10ml中，在25℃反應1小時調製溶液，以該溶液總量，及三苯基碳鎓五氟苯基硼酸鹽：0.00315mmol之順序添加於加溫至75℃之高壓釜中開始聚合。
在聚合開始90分鐘後，將5-三甲氧基矽烷基-雙環[2.2.1]庚-2-烯11.25mmol(2.41g)，隨後每30分鐘添加7.5mmol(1.61g)、3.75mmol(0.80g)、3.75mmol)共計四次添加於高壓釜中。
在75℃進行聚合反應4小時後，添加三丁基胺：1ml終止聚合，獲得固體成分19.9重量%之加成聚合物B之溶液。將加成聚合物B之溶液之一部分倒入異丙醇中，經凝固，再經乾燥，獲得加成聚合物B(以下亦稱為「樹脂B」)。
該樹脂B之270MHz-核磁共振分析(1H-NMR分析)之結果，樹脂B中之源自5-三甲氧基矽烷-雙環[2.2.1]庚-2-烯之構造單位之比例為4.8莫耳%，分子量係數平均分子量(Mn)為74,000，重量平均分子量(Mw)為185,000，玻璃轉移溫度(Tg)為360℃，飽和吸水率為0.35%。
[合成例3]
在氮氣流下，於備置溫度計、攪拌器、氮氣導入管、附有側管之滴加漏斗、Dean-Stark管、冷卻管之500mL五頸燒瓶中，將4,4’-二胺基二苯基醚10.0重量份(0.05莫耳)溶解於作為溶劑之N-甲基-2-吡咯烷酮85重量份中之後，在室溫下，於1小時內直接以固體分批投入1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐11.2重量份(0.05莫耳)，在室溫下攪拌2小時。
接著，添加作為共沸脫水溶劑之二甲苯30.0重量份且升溫至180℃後，進行反應3小時，以Dean-Stark使二甲苯回流，分離共沸之生成水。3小時後，確認水之餾出終止，於1小時內升溫至190℃同時餾除二甲苯，回收29.0重量份以後，使內溫空氣冷卻至60℃，獲得聚醯亞胺的N-甲基-2-吡咯烷酮溶液(以下亦稱為「聚醯亞胺溶液C」)105.4重量份。
[合成例4]
於3升之四頸燒瓶中添加2,6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)、9,9-雙(3-苯基-4-羥基苯基)茀125.65g(0.250mol)、碳酸鉀41.46g(0.300mol)、N,N-二甲基乙醯胺(以下亦稱為「DMAc」)443g及甲苯111g。接著，於四頸燒瓶上裝置溫度計、攪拌機、附加氮氣導入管之三向旁通栓、Dean-Stark管及冷卻管。
接著，燒瓶內經氮氣置換後，使所得溶液在140℃反應3小時，且自Dean-Stark管隨時去除生成之水。未確認到水生成之後，使溫度緩慢上升至160℃，在該溫度反應6小時。
冷卻至室溫(25℃)後，以濾紙去除生成之鹽，將濾液倒入甲醇中再沉澱，藉過濾單離過濾物(殘留物)。所得過濾物在60℃真空乾燥隔夜，獲得白色粉末D(以下稱為樹脂D)(收量95.67g，收率95%)。
進行所得聚合物之構造分析。結果，紅外線吸收光譜之特性吸收為3035cm-1(C-H伸縮)、2229cm-1(CN)、1574cm-1、1499cm-1(芳香環骨架吸收)、1240cm-1(-O-)。樹脂D之分子量係數平均分子量(Mn)為67,000，重量平均分子量(Mw)為146,000，玻璃轉移溫度(Tg)為275℃。所得聚合物具有前述構造(1)。
[合成例5]
除使用9,9-雙(4-羥基苯基)茀87.60g(0.250mol)代替9,9-雙(3-苯基-4-羥基苯基)茀125.65g(0.250mol)以外，餘與合成例4同樣進行合成，獲得樹脂E。樹脂E之分子量係數平均分子量(Mn)為75,000，重量平均分子量(Mw)為188,000，玻璃轉移溫度(Tg)為285℃。
[合成例6]
除使用9,9-雙(4-羥基苯基)茀78.84g(0.225mol)及9,9-雙(4-羥基苯基)環己烷6.71g(0.025mol)代替9,9-雙(3-苯基-4-羥基苯基)茀125.65g(0.250mol)以外，餘與合成例4同樣進行合成，獲得樹脂F。樹脂F之分子量係數平均分子量(Mn)為36,000，重量平均分子量(Mw)為78,000，玻璃轉移溫度(Tg)為260℃。
[合成例7]
除使用4,4-二氟二苯基碸(DFDS)78.84g(0.250mol)代替2,6-二氟苯甲腈35.12g(0.253mol)以外，餘與合成例4同樣進行合成，獲得樹脂G。樹脂G之分子量係數平均分子量(Mn)為37,000，重量平均分子量(Mw)為132,000，玻璃轉移溫度(Tg)為265℃。
[實施例1]
將JSR股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「ARTONG」100重量份、方酸(squarylium)系化合物「a-10」0.04重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20重量%之溶液(ex1)。
接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
測定該基板之分光透射率，求得吸收極大波長及(Za)、(Zb)。其結果示於表1。
該基板之吸收極大波長為699nm。且，波長430~800nm之波長區域中，透射率成為70%之吸收極大以下之最長波長(Za)，與波長580nm以上之波長區域中，透射率成為30%之最短波長(Zb)之差的絕對值(|Za-Zb|)為45nm。
接著，於該基板之單面上，在蒸鍍溫度100℃形成反射近紅外線之多層蒸鍍膜[使二氧化矽(SiO2：膜厚83~199nm)層與二氧化鈦(TiO2：膜厚101~125nm)層交互層合而成者，層合數20]。再於基板另一面上以蒸鍍溫度100℃形成反射近紅外線之多層蒸鍍膜[使二氧化矽(SiO2：膜厚77~189nm)層與二氧化鈦(TiO2：膜厚84~118nm)層交互層合而成者，層合數26]，獲得厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。測定該近紅外線截止濾波器之分光透射率，求得(Xa)、(Xb)與(Ya)、(Yb)。其結果示於表1。
於波長430~580nm之透射率之平均值為91%，於波長800~1000nm之透射率之平均值為1%以下。
於波長800nm以下之波長區域中，透射率成為70%之最長波長(Xa)，與波長580nm以上之波長區域中，透射率成為30%之最短波長(Xb)之差的絕對值(|Xa-Xb|)為39nm。
且，於波長560~800nm之範圍內，自濾波器之垂直方向測定時之透射率成為50%之波長之值(Ya)，與自相對於濾波器之垂直方向成30°角度測定時之透射率成為50%之波長之值(Yb)之差的絕對值(|Ya-Yb|)為3nm。
[實施例2]
於實施例1中獲得之厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板之單面上，在蒸鍍溫度100℃下形成反射近紅外線之多層蒸鍍膜[使二氧化矽(SiO2：膜厚120~190nm)層與二氧化鈦(TiO2：膜厚70~120nm)層交互層合而成者，層合數40]，獲得厚度0.104mm之近紅外線截止濾波器。接著，與實施例1同樣進行評價，結果示於表1。
[實施例3]
將JSR股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「ARTON G」100重量份、方酸系化合物「a-10」0.02重量份進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。結果示於表1。
[實施例4]
將JSR股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「ARTONG」100重量份、方酸系化合物「a-10」0.04重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
於該基板之兩面上，以使硬化後之膜厚各成為0.002mm之方式，利用棒塗佈器讀塗佈荒川化學工業股份有限公司製造之硬質塗劑「BEAMSET」後照射UV使之硬化，獲得厚度0.104mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.109mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例5]
將日本ZEON股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「ZEONOR 1420R」100重量份、方酸系化合物「a-10」0.40重量份、進而環己烷及二甲苯之7:3混合溶液添加於容器中，獲得樹脂濃度為20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在60℃乾燥8小時，80℃下乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於100℃乾燥24小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例6]
將三井化學股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「APEL #6015」100重量份、方酸系化合物「a-10」0.24重量份、進而環己烷與二氯甲烷之99:1混合溶液添加於容器中，獲得樹脂濃度為20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在40℃乾燥4小時，在60℃乾燥4小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例7]
將帝人股份有限公司製造之聚碳酸酯樹脂「PURE-ACE」100重量份、方酸系化合物「a-10」0.02重量份，進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度為20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例8]
將住友Backlight股份有限公司製造之聚醚碸「FS-1300」100重量份、方酸系化合物「a-10」0.05重量份，進而N-甲基-2-吡咯烷酮添加於容器中，獲得樹脂濃度為20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在60℃乾燥4小時，在80℃乾燥4小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於120℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例9]
除使用合成例1中獲得之樹脂A代替JSR股份有限公司製造之環狀烯烴系樹脂「ARTON G」以外，餘與實施例1同樣，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例10]
將合成例2中獲得之樹脂B 100重量份、方酸系化合物「a-10」0.24重量份、進而甲苯添加於容器中，獲得樹脂濃度為20%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。除使剝離之塗膜再於減壓下於120℃乾燥8小時以外，餘與實施例1同樣，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例11]
於容器中，添加合成例3中獲得之聚醯亞胺溶液C 100重量份、及相對於聚醯亞胺溶液C之固體成分100重量份為0.05重量份之方酸系化合物「a-10」，獲得固體成分18%之溶液。接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在60℃乾燥4小時，在80℃乾燥4小時後，自玻璃板剝離。使剝離之塗膜再於減壓下於120℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例12]
將合成例4中獲得之樹脂D 100重量份、方酸系化合物「a-10」0.05重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。
接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之樹脂再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例13]
將合成例5中獲得之樹脂E 100重量份、方酸系化合物「a-10」0.05重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。
接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之樹脂再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例14]
將合成例6中獲得之樹脂F 100重量份、方酸系化合物「a-10」0.05重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。
接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之樹脂再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例15]
將合成例7中獲得之樹脂G 100重量份、方酸系化合物「a-10」0.05重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。
接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之樹脂再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[實施例16]
將合成例1中獲得之樹脂A 100重量份、方酸系化合物「a-10」0.04重量份、進而二氯甲烷添加於容器中，獲得樹脂濃度20%之溶液。
接著，將該溶液澆鑄於平滑玻璃板上，在20℃乾燥8小時後，自玻璃板剝離。使剝離之樹脂再於減壓下於100℃乾燥8小時，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
於該基板之兩面上，以使乾燥後之膜厚各成為0.002mm之方式，利用棒塗佈器塗佈以50:50之比例混合三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯與甲基乙基酮而成之組成物後，照射UV使之硬化，獲得厚度0.104mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.109mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[比較例1]
除使用將合成例1中獲得之樹脂A溶解於二氯甲烷中獲得之樹脂濃度20%之溶液代替溶液(ex1)以外，餘與實施例1同樣，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[比較例2]
除使用不具有方酸構造之鎳錯合物化合物之SIR159(三井化學股份有限公司製造)代替方酸系化合物「a-10」以外，餘與實施例1同樣，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[比較例3]
除使用不具有方酸構造之花菁系色素之SDB3535(H.W.SANDS公司製造)代替方酸系化合物「a-10」以外，餘與實施例1同樣，獲得厚度0.1mm，長度60mm，寬度60mm之基板。
接著，與實施例1同樣，由該基板製造厚度0.105mm之近紅外線截止濾波器。進行與實施例1同樣之評價，結果示於表1。
[產業上利用之可能性]
本發明之近紅外線截止濾波器可較好地使用於數位相機、行動電話用相機、數位錄影機、PC相機、監控照相機、汽車用照相機、電視、汽車導航、行動資料終端機、個人電腦、影像遊戲機、醫療設備、USB記憶體、攜帶式遊戲機、指紋辨識系統、數位音樂播放器、玩具機器人及玩具等。
另外，亦可使用作為安裝於汽車或建築物等之玻璃等之熱線截止濾波器等。
1．．．照相機模組
2．．．透鏡鏡筒
3．．．可撓性基板
4．．．中空封裝
5．．．透鏡
6．．．近紅外線截止濾波器
6’．．．本發明中獲得之近紅外線截止濾波器
7．．．CCD或CMOS影像感知器
8．．．近紅外線截止濾波器
9．．．分光光度計
圖1(a)為顯示以往之照相機模組之一例的剖面概略圖。圖1(b)為顯示使用本發明所得之近紅外線截止濾波器6’時之照相機模組之一例之剖面概略圖。
圖2為顯示測定自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率之方法的模式圖。
圖3為顯示測定自相對於近紅外線截止濾波器之垂直方向30°之角度測定時之透射率之方法的模式圖。

Claims (10)

  1. 一種近紅外線截止濾波器，其特徵為具有含有化合物(I)之樹脂製基板(I)與近紅外線反射膜，該化合物(I)具有源自下述式(II)表示之化合物的構造，且係在波長600~800具有吸收極大者；該紅外線截止濾波器之透射率滿足下述(A)~(D)：(A)在波長430~580nm之範圍內，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率平均值為75%以上，(B)在波長800~1000nm內，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率平均值為20%以下，(C)在波長800nm以下之波長區域中，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為70%之最長波長(Xa)，與在波長580nm以上之波長區域中，自近紅外線截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為30%之最短波長(Xb)之差的絕對值未達75nm，(D)在波長560~800nm之範圍內，自近紅外截止濾波器之垂直方向測定時之透射率成為50%之波長之值(Ya)，與自相對於近紅外線截止濾波器之垂直方向為30°之角度測定時之透射率成為50%之波長之值(Yb)之差的絕對值未達15nm； 〔式(II)中，Ra各獨立表示氫原子、碳數1~8之烷基、-NReRf基(Re及Rf各獨立表示氫原子或碳數1~5之烷基)或羥基，Rb各獨立表示氫原子、碳數1~5之烷基、-NRgRh(Rg及Rh各獨立表示氫原子、碳數1~5之烷基或-C(O)Ri基(Ri表示碳數1~5之烷基))或羥基，Rc各獨立表示氫原子、碳數1~8之脂肪族烴基、任意之氫原子經官能基取代之碳數1~8之經取代脂肪族烴基、碳數6~12之芳香族烴基、或任意之氫原子經烷基取代之碳數6~12之經取代芳香族烴基〕。
  2. 如申請專利範圍第1項之近紅外線截止濾波器，其中前述樹脂製基板(I)滿足下述(E)及(F)：(E)在波長600~800nm有吸收極大(F)在波長430~800nm之波長區域中，自基板之垂直方向測定時之透射率成為70%之在吸收極大以下之最長波長(Za)，與在波長580nm以上之波長區域中，自基板之 垂直方向測定時之透射率成為30%之最短波長(Zb)之差的絕對值未達75nm。
  3. 如申請專利範圍第1項之近紅外線截止濾波器，其中前述樹脂製基板(I)為含有環狀烯烴系樹脂或芳香族聚醚系樹脂而成之基板。
  4. 如申請專利範圍第3項之近紅外線截止濾波器，其中前述環狀烯烴系樹脂為從選自由以下述式(X0)表示之單體及以下述式(Y0)表示之單體所組成群之至少一種單體獲得之樹脂： (式(X0)中，Rx1~Rx4各獨立表示由下述(i’)~(viii’)選出之原子或基，kx、mx及px各獨立表示0或正整數)，(i’)氫原子，(ii’)鹵素原子，(iii’)三烷基矽烷基，(iv’)具有含有氧原子、硫原子、氮原子或矽原子之連結基之經取代或未經取代之碳數1~30之烴基，(v’)經取代或未經取代之碳數1~30之烴基， (vi’)極性基(但，(iv’)除外)，(vii’)Rx1與Rx2或Rx3與Rx4表示相互鍵結形成之亞烷基，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，(viii’)Rx1與Rx2或Rx3與Rx4表示相互鍵結形成之單環或多環之烴環或雜環，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，或Rx2與Rx3表示相互鍵結形成之單環烴環或雜環，且未參與該鍵結之Rx1~Rx4各獨立表示自前述(i’)~(vi’)選出之原子或基， (式(Y0)中，Ry1及Ry2各獨立表示由前述(i’)~(vi’)選出之原子或基，或表示下述(ix’)，Ky及Py各獨立表示0或正整數)，(ix’)Ry1與Ry2表示相互鍵結形成之單環或多環之脂環式烴、芳香族烴或雜環。
  5. 如申請專利範圍第3項之近紅外線截止濾波器，其中前述芳香族聚醚系樹脂具有由以下述式(1)表示之構造單位及以下述式(2)表示之構造單位所組成群組選出之至少一種構造單位， (式(1)中，R1~R4各獨立表示碳數1~12之一價有機基，a~d各獨立表示0~4之整數)， (式(2)中，R1~R4及a~d各獨立與前述式(1)中之R1~R4及a~d同義，Y表示單鍵、-SO2-或>C=O，R7及R8各獨立表示鹵素原子、碳數1~12之一價有機基或硝基，g及h各獨立表示0~4之整數，m表示0或1，但m為0時，R7不為氰基)。
  6. 如申請專利範圍第5項之近紅外線截止濾波器，其中前述芳香族聚醚系樹脂進而具有由以下述式(3)表示之構造單位及以下述式(4)表示之構造單位所組成群組選出之至少一種構造單位， (式(3)中，R5及R6各獨立表示碳數1~12之一價有機基，Z表示單鍵、-O-、-S-、-SO2-、>C=O、-CONH-、-COO-或碳數1~12之二價有機基，e及f各獨立表示0~4之整數，n表示0或1)， (式(4)中，R7、R8、Y、m、g及h各獨立與前述式(2)中之R7、R8、Y、m、g及h同義，R5、R6、Z、n、e及f各獨立與前述式(3)中之R5、R6、Z、n、e及f同義)。
  7. 如申請專利範圍第2項之近紅外線截止濾波器，其中相對於樹脂100重量份含有0.01~10.0重量份之前述化合物(I)。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項之近紅外線截止濾波器，其中前述近紅外線截止濾波器為固體攝影裝 置用。
  9. 一種固體攝影裝置，其特徵為具備如申請專利範圍第1項至第8項中任一項之近紅外線截止濾波器。
  10. 一種照相機模組，其特徵為具備如申請專利範圍第1項至第8項中任一項之近紅外線截止濾波器。
TW100118291A 2010-05-26 2011-05-25 Near Infrared Cutoff Filter and Device Using Near Infrared Cutoff Filter TWI570174B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010120749 2010-05-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201211125A TW201211125A (en) 2012-03-16
TWI570174B true TWI570174B (zh) 2017-02-11

Family

ID=45008954

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100118291A TWI570174B (zh) 2010-05-26 2011-05-25 Near Infrared Cutoff Filter and Device Using Near Infrared Cutoff Filter

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5810604B2 (zh)
KR (1) KR101578963B1 (zh)
CN (1) CN102262254B (zh)
TW (1) TWI570174B (zh)

Families Citing this family (54)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6036689B2 (ja) * 2011-06-06 2016-11-30 旭硝子株式会社 光学フィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズおよび撮像装置
JP6331392B2 (ja) 2011-10-14 2018-05-30 Jsr株式会社 光学フィルターならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール
KR101413075B1 (ko) * 2011-12-26 2014-06-30 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한　컬러필터
JP2013218246A (ja) * 2012-04-12 2013-10-24 Seiko Epson Corp 光学素子、撮像装置、電子機器及び光学素子の製造方法
KR101987926B1 (ko) 2012-04-25 2019-06-11 가부시키가이샤 아데카 파장 컷 필터
KR101983742B1 (ko) 2012-06-25 2019-05-29 제이에스알 가부시끼가이샤 고체 촬상 소자용 광학 필터, 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈
JP6183041B2 (ja) * 2012-08-23 2017-08-23 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
KR102056613B1 (ko) 2012-08-23 2019-12-17 에이지씨 가부시키가이샤 근적외선 커트 필터 및 고체 촬상 장치
JP6183048B2 (ja) 2012-08-27 2017-08-23 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび固体撮像装置
US9090776B2 (en) 2012-09-04 2015-07-28 Exciton, Inc. Squarylium dyes
JP6317875B2 (ja) * 2012-09-06 2018-04-25 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
JP6243107B2 (ja) * 2012-09-10 2017-12-06 株式会社日本触媒 光選択透過フィルター、その基材及び用途
WO2014084289A1 (ja) 2012-11-30 2014-06-05 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ
WO2014088063A1 (ja) * 2012-12-06 2014-06-12 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
JP2014126642A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Adeka Corp 波長カットフィルタ
WO2014192715A1 (ja) * 2013-05-29 2014-12-04 Jsr株式会社 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
JP6380390B2 (ja) * 2013-05-29 2018-08-29 Jsr株式会社 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
JP2015004838A (ja) * 2013-06-21 2015-01-08 Jsr株式会社 固体撮像装置用近赤外線カットフィルターならびに前記フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール
WO2015022892A1 (ja) * 2013-08-13 2015-02-19 Jsr株式会社 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置
JP2015040895A (ja) * 2013-08-20 2015-03-02 Jsr株式会社 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置
KR101527822B1 (ko) * 2013-09-06 2015-06-10 주식회사 엘엠에스 광학 필터 및 이를 포함하는 촬상 장치
CN105452911B (zh) 2013-10-17 2017-06-09 Jsr株式会社 光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块
JP6631521B2 (ja) * 2014-08-01 2020-01-15 Jsr株式会社 光学フィルター
KR102403290B1 (ko) * 2014-10-08 2022-05-27 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 옥소카본계 화합물, 이것을 함유하는 수지 조성물, 및 그 수지 조성물을 함유하는 필터
JP6581374B2 (ja) * 2015-03-24 2019-09-25 株式会社日本触媒 オキソカーボン系化合物を含む組成物の保存又は使用の方法
CN107533171B (zh) * 2015-05-12 2020-07-24 Ａｇｃ株式会社 光学滤波器以及摄像装置
JP6721578B2 (ja) * 2015-05-20 2020-07-15 富士フイルム株式会社 赤外線吸収組成物、赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、および固体撮像素子
TWI709767B (zh) * 2015-07-28 2020-11-11 日商Ｊｓｒ股份有限公司 光學濾波器、環境光感測器及電子設備
WO2017043175A1 (ja) * 2015-09-09 2017-03-16 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性硬化性組成物、硬化膜、固体撮像素子、赤外線吸収剤および化合物
WO2017094858A1 (ja) 2015-12-01 2017-06-08 旭硝子株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
JP6670323B2 (ja) 2015-12-09 2020-03-18 株式会社Adeka 熱硬化性樹脂組成物
CN108603038A (zh) 2016-02-02 2018-09-28 Ａｇｃ株式会社 近红外线吸收色素、光学滤波器和摄像装置
JP2017151176A (ja) * 2016-02-22 2017-08-31 株式会社日本触媒 光選択透過フィルター
KR102425315B1 (ko) * 2016-06-08 2022-07-27 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 광학 센서 장치
JP6866139B2 (ja) * 2016-12-07 2021-04-28 山本化成株式会社 光学フィルター
JP6848477B2 (ja) 2017-01-25 2021-03-24 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
JP6479863B2 (ja) * 2017-01-26 2019-03-06 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
KR101903884B1 (ko) 2017-03-06 2018-10-02 나노스 주식회사 근적외선 차단 필터 및 근적외선 차단 필터를 포함하는 장치
JP6920087B2 (ja) * 2017-03-30 2021-08-18 株式会社日本触媒 スクアリリウム化合物
DE102017004828B4 (de) * 2017-05-20 2019-03-14 Optics Balzers Ag Optischer Filter und Verfahren zur Herstellung eines optischen Filters
WO2019022069A1 (ja) * 2017-07-27 2019-01-31 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置
WO2019044505A1 (ja) 2017-08-31 2019-03-07 富士フイルム株式会社 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール
JP6503128B1 (ja) * 2018-02-13 2019-04-17 日本板硝子株式会社 膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置
JP7016403B2 (ja) 2018-03-13 2022-02-04 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
KR20190113062A (ko) 2018-03-27 2019-10-08 삼성전자주식회사 근적외선 흡수 필름, 광학 필터 및 전자 장치
JP7126383B2 (ja) * 2018-06-07 2022-08-26 三井化学株式会社 眼鏡用レンズ
EP3848627A4 (en) 2018-09-07 2021-10-27 FUJIFILM Corporation VEHICLE HEADLIGHT UNIT, HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM AND PROCESS FOR THE PRODUCTION OF HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM
WO2020054695A1 (ja) 2018-09-12 2020-03-19 Jsr株式会社 光学フィルターおよびその用途
JP6706700B2 (ja) * 2019-02-06 2020-06-10 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
WO2021049441A1 (ja) * 2019-09-11 2021-03-18 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタおよび撮像装置
CN111812762B (zh) * 2020-07-16 2022-02-22 杭州美迪凯光电科技股份有限公司 改善眩光鬼影现象的红外截止滤光器及其制备方法
KR102377756B1 (ko) 2020-12-15 2022-03-23 주식회사 힘테크 근적외선 흡수색소 및 이를 이용한 근적외선 차단필터
JPWO2022131191A1 (zh) 2020-12-16 2022-06-23
JPWO2022130773A1 (zh) 2020-12-17 2022-06-23

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5543086A (en) * 1987-08-12 1996-08-06 Gentex Corporation Squarylium dyestuffs and compostions containing same
JP2009157273A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01228960A (ja) * 1988-03-09 1989-09-12 Konica Corp スクアリリウムの化合物
JP4644423B2 (ja) * 2003-09-30 2011-03-02 富士フイルム株式会社 カラー固体撮像素子及びこのカラー固体撮像素子を用いた固体撮像装置並びにデジタルカメラ
JP4513420B2 (ja) * 2004-05-26 2010-07-28 Ｊｓｒ株式会社 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法
JP2006065224A (ja) * 2004-08-30 2006-03-09 Jsr Corp 光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイ
JP5168917B2 (ja) * 2007-01-26 2013-03-27 Ｊｓｒ株式会社 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法
JP5063127B2 (ja) * 2007-02-06 2012-10-31 株式会社Ａｄｅｋａ 重合性光学活性化合物及び該重合性光学活性化合物を含有する重合性組成物
JP2009204791A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Fujifilm Corp 光導波路および光学材料用組成物
JP2009258362A (ja) 2008-04-16 2009-11-05 Jsr Corp 近赤外線カットフィルター
JP5489669B2 (ja) 2008-11-28 2014-05-14 Ｊｓｒ株式会社 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5543086A (en) * 1987-08-12 1996-08-06 Gentex Corporation Squarylium dyestuffs and compostions containing same
JP2009157273A (ja) * 2007-12-27 2009-07-16 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター

Also Published As

Publication number Publication date
JP5810604B2 (ja) 2015-11-11
KR101578963B1 (ko) 2015-12-18
TW201211125A (en) 2012-03-16
JP2012008532A (ja) 2012-01-12
CN102262254A (zh) 2011-11-30
CN102262254B (zh) 2016-03-02
KR20110129832A (ko) 2011-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI570174B (zh) Near Infrared Cutoff Filter and Device Using Near Infrared Cutoff Filter
TWI557444B (zh) Blocking near-infrared filters and using a device that blocks near-infrared filters
TW201329530A (zh) 近紅外線截止濾波器及使用近紅外線截止濾波器之裝置
TWI588192B (zh) Optical filter, solid-state imaging device and camera module using the optical filter
CN106662686B (zh) 光学滤波器、环境光传感器及电子设备
JP6056561B2 (ja) 近赤外線カットフィルターおよびその用途
JP5489669B2 (ja) 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置
TWI633341B (zh) 固體攝影元件用光學濾波器及其用途
TWI529425B (zh) An optical filter and an image pickup device including the filter
TW201702643A (zh) 光學濾波器及使用光學濾波器的裝置
TW201506461A (zh) 濾光器及使用前述濾光器的裝置
TW201506462A (zh) 濾光器及使用前述濾光器的裝置
JP5540477B2 (ja) 近赤外線カットフィルターの製造方法および該方法により得られる近赤外線カットフィルター
CN100513477C (zh) 液状固化性树脂组合物及使用了它的叠层体的制造方法
KR20190109433A (ko) 폴리케톤 조성물, 폴리케톤막, 폴리케톤막 부착 기재, 광학 소자, 화상 표시 장치, 피복 부재, 및 성형체
TW201139510A (en) Polyester resin, and optical materials, films and image display devices using the same
JP6530968B2 (ja) 近赤外線カットフィルター
TW201307466A (zh) 硬化性樹脂組成物、及硬化物
TW202248203A (zh) 組成物、光學構件及包括光學構件的裝置
TW202242010A (zh) 基材、光學濾波器、固體攝像裝置及照相機模組
JP2018168271A (ja) ポリケトン樹脂組成物、ポリケトン硬化物、光学素子、画像表示装置、被覆材料及び成形体