JP6503128B1 - 膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置 - Google Patents
膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6503128B1 JP6503128B1 JP2018209453A JP2018209453A JP6503128B1 JP 6503128 B1 JP6503128 B1 JP 6503128B1 JP 2018209453 A JP2018209453 A JP 2018209453A JP 2018209453 A JP2018209453 A JP 2018209453A JP 6503128 B1 JP6503128 B1 JP 6503128B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- film
- absorbance
- liquid composition
- hollow particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 105
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 97
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 38
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 99
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims abstract description 82
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 47
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 229920000734 polysilsesquioxane polymer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 20
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 13
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 claims abstract description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 78
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 60
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 32
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 20
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 16
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 16
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 48
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 45
- -1 organosilane compound Chemical class 0.000 abstract description 16
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 abstract description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 193
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 55
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 36
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 20
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 17
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 14
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 14
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N acetic acid Substances CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003217 poly(methylsilsesquioxane) Polymers 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- 230000005661 hydrophobic surface Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000001055 reflectance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HPWPQTDSGXMKPM-UHFFFAOYSA-L [Cu+2].[O-]P([O-])(F)=O Chemical compound [Cu+2].[O-]P([O-])(F)=O HPWPQTDSGXMKPM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000000985 reflectance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/16—Halogen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
- C08K7/26—Silicon- containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/006—Anti-reflective coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/16—Halogen-containing compounds
- C08K2003/166—Magnesium halide, e.g. magnesium chloride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/003—Additives being defined by their diameter
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/011—Nanostructured additives
Abstract
【解決手段】膜(1)は、中空粒子(10)と、バインダー(20)とを備えている。中空粒子は、1.15〜2.70の屈折率を有する材料でできている。バインダー(20)は、少なくともポリシルセスキオキサンによって形成され、中空粒子(10)を結着する。膜(1)は、Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の少なくとも1つの条件を満たす。Iaは、フーリエ変換赤外分光光度計を用いた全反射測定法によって決定される、ケイ素原子に直接結合していない炭化水素基に由来する吸光度である。Ibは、ケイ素原子と非反応性官能基との結合に由来する吸光度である。Icは、ケイ素原子とヒドロキシ基との結合に由来する吸光度である。
【選択図】図1
Description
1.15〜2.70の屈折率を有する材料でできた中空粒子と、
少なくともポリシルセスキオキサンによって形成され、前記中空粒子を結着するバインダーと、を備え、
フーリエ変換赤外分光光度計を用いた全反射測定法(ATR法)によって決定される、ケイ素原子に直接結合していない炭化水素基に由来する吸光度、ケイ素原子と非反応性官能基との結合に由来する吸光度、及びケイ素原子とヒドロキシ基との結合に由来する吸光度を、それぞれ、Ia、Ib、及びIcと表すときに、Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の少なくとも1つの条件を満たす、
膜を提供する。
液状組成物であって、
1.15〜2.70の屈折率を有する材料でできた中空粒子と、
ポリシルセスキオキサンと、
溶媒と、を含有し、
当該液状組成物を基板に塗布し当該液状組成物を硬化させて得られた硬化物において、フーリエ変換赤外分光光度計を用いた全反射測定法によって決定される、ケイ素原子に直接結合していない炭化水素基に由来する吸光度、ケイ素原子と非反応性官能基との結合に由来する吸光度、及びケイ素原子とヒドロキシ基との結合に由来する吸光度を、それぞれ、Ia、Ib、及びIcと表すときに、Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の少なくとも1つの条件を満たす、
液状組成物を提供する。
上記の膜を備えた、光学素子を提供する。
上記の光学素子を備えた、撮像装置を提供する。
(i)中空粒子10の分散液の分散媒を蒸発及び乾燥させて粉末を得る。
(ii)(i)で得た粉末をGARGILL社製のシリーズA及びシリーズAA等の異なる屈折率を有する様々な標準屈折率液と混合する。
(iii)(ii)で得た混合液が透明になったときに用いた標準屈折率液の屈折率を中空粒子10の屈折率と決定する。
Si(ORa)4 + 4H2O → Si(OH)4 + 4RaOH (式1)
Si(OH)4 → SiO2 + 2H2O (式2)
RbSi(ORc)3 + 3H2O → RbSi(OH)3 + 3RcOH (式3)
RbSi(OH)3 → RbSiO3/2 + 3/2H2O (式4)
(I)基板/高屈折率層/低屈折率層
(II)基板/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
(III)基板/(高屈折率層/低屈折率層)m
(IV)基板/低屈折率層/(高屈折率層/低屈折率層)n
フーリエ変換赤外分光光度計(PerkinElmer社製 製品名:Frontier Gold)を用いて、ATR法により、各実施例及び比較例に係る低屈折率膜の吸収スペクトルを測定した。各実施例及び比較例1において基板上に製膜された低屈折率膜を剥離して得られた1〜10mgの粉体状の試料を用いて各実施例及び比較例に係る低屈折率膜の吸収スペクトルを測定した。実施例1及び比較例1に係る低屈折率膜の吸収スペクトルの結果をそれぞれ図8及び図9に示す。
Ia=Amax(CH3及びCH2)−Abase(CH3及びCH2) (式5)
Ib=Amax(Si−CH3)−Abase(Si−CH3) (式6)
無機有機パラメータ(D)=Ib/Ia (式7)
疎水パラメータ(H)=Ib/Ic (式8)
第一ネットワークパラメータ(N1)=Id/Ib (式9)
第二ネットワークパラメータ(N2)=Ie/Ib (式10)
第三ネットワークパラメータ(N3)=If/Ib (式11)
各実施例及び比較例1に係る液状組成物をガラス基板又はポリカーボネート製の基板上に塗布したときに液状組成物を塗れない部分があること及び低屈折率膜の厚みが不均一であることのいずれかが確認された場合、液状組成物の成膜性を「x」と評価した。また、これらが確認されなかった場合、液状組成物の成膜性を「a」と評価した。結果を表1に示す。
各実施例に係る反射防止構造において、低屈折率膜が基板上に製膜された反射防止構造の可視光領域(380〜780nm)の反射率(可視光反射率)は、まず反射防止構造の分光反射率を分光光度計(日立ハイテクノロジー社製、製品名:U-4000)によって測定し、この分光反射率に基づいて日本工業規格(JIS) R 3106:1998に従って算出した。この分光反射率の測定において、反射角度は12°に設定した。実施例1、7、10、及び11に係る反射防止構造の分光反射率を図10に示し、実施例12及び実施例13に係る反射防止構造の分光反射率スペクトルを図11に示す。また、各実施例に係る反射防止構造の可視光反射率を表1に示す。
基板としてシリコン基板を用いた以外は、各実施例に係る反射防止構造の作製と同一条件で、各実施例に係る低屈折率膜を形成し、各実施例に係る屈折率測定用サンプルを作製した。分光光度計(日立ハイテクノロジー社製、製品名:U-4000)を用いて、各実施例に係る屈折率測定用サンプルの反射率を測定し、反射率分光法に従って各実施例に係る低屈折率膜の屈折率を決定した。結果を表1に示す。
テトラエトキシシラン(TEOS)(東京化成工業社製)0.6g、メチルトリエトキシシラン(MTES)(東京化成工業社製)1.18g、0.3重量%ギ酸(キシダ化学社製)0.82g、中空シリカ粒子のゾル(日揮触媒化成社製、製品名:スルーリア4110、シリカ固形分:約25重量%)3g、及びエタノール(キシダ化学社製)22.4gを混ぜ、35℃で3時間反応させた。このようにして、実施例1に係る液状組成物を得た。中空シリカ粒子のゾルにおいて、中空シリカ粒子の平均粒子径は約50nmであり、シリカでできたシェルの厚みは10〜20nmであり、中空シリカ粒子の内部空間の最大寸法は約10〜30nmであり、中空シリカ粒子の屈折率は1.25であった。実施例1に係る液状組成物における固形分は、TEOSに由来するシリカを0.6重量%含み、MTESに由来するポリメチルシルセスキオキサンを1.6重量%含み、中空シリカ粒子を2.6重量%含んでいた。実施例1に係る液状組成物の作製において加えられたTEOSの物質量に対するMTESの物質量の比は、7/3であった。TEOSに由来するシリカ及びMTESに由来するポリメチルシルセスキオキサンの固形分の合計の重量に対する中空シリカ粒子の重量の比は、1.3/1.1であった。
液状組成物の調製において、テトラエトキシシラン(TEOS)の物質量に対するメチルトリエトキシシラン(MTES)の物質量の比を表1に示す通りに調整した以外は、実施例1と同様にして、実施例2〜5に係る液状組成物を得た。実施例1に係る液状組成物に代えて実施例2〜5に係る液状組成物を用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2〜5に係る低屈折率膜及び実施例2〜5に係る反射防止構造を作製した。実施例2〜5に係る液状組成物はいずれも良好な成膜性を有していた。
液状組成物の調製において、テトラエトキシシラン(TEOS)の物質量に対するメチルトリエトキシシラン(MTES)の物質量の比を表1に示す通りに調整した以外は、実施例1と同様にして、実施例6〜9に係る液状組成物を得た。ポリカーボネート(PC)製の基板(サイズ:40mm×40mm、厚み:1mm、屈折率:1.59)をガラス基板の代わりに用い、かつ、実施例6〜9に係る液状組成物を実施例1に係る液状組成物の代わりに用いた以外は、実施例1と同様にして、実施例6〜9に係る低屈折率膜及び実施例6〜9に係る反射防止構造を作製した。
シリカでできたコアの周囲にフッ化マグネシウムでできたシェルを形成し、コアシェル構造の粒子を作製した。この粒子のシリカでできたコアをアルカリ溶液で溶解させ、フッ化マグネシウムの中空粒子を作製した。このフッ化マグネシウムの中空粒子において、平均粒子径は約50nmであり、フッ化マグネシウムでできた外殻の厚みは約10nmであり、内部空間の最大寸法は約30nmであり、中空粒子の屈折率は1.20であった。このフッ化マグネシウムの中空粒子を中空シリカ粒子の代わりに用いた以外は、実施例1と同様にして、それぞれ、実施例10及び11に係る液状組成物を得た。また、実施例1に係る液状組成物の代わりに実施例10に係る液状組成物を用いた以外は実施例1と同様にして、実施例10に係る低屈折率膜及び実施例10に係る反射防止構造を作製した。また、実施例7に係る液状組成物の代わりに実施例11に係る液状組成物を用いた以外は実施例7と同様にして、実施例11に係る低屈折率膜及び実施例11に係る反射防止構造を作製した。実施例10に係る低屈折率膜の厚み及び実施例11に係る低屈折率膜の厚みは118nmであった。
中空シリカ粒子のゾルを加えなかったこと以外は、実施例1に係る液状組成物と同様にして、コーティング用組成物を調製した。アルカリ洗浄によって予め洗浄したガラス基板(フロートガラス、サイズ:40mm×40mm、厚み:1mm、屈折率:1.52)の両主面に、このコーティング用組成物をスピンコート法により塗布した。次に、オーブンでコーティング用組成物の塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させ、内側低屈折率膜を形成した。内側低屈折率膜の屈折率は1.46であり、内側低屈折率膜の厚みは260nmであった。内側低屈折率膜の上に、実施例1に係る液状組成物をスピンコート法により塗布した。次に、オーブンで液状組成物の塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させて実施例12に係る低屈折率膜を形成し、図3Aに示すような、実施例12に係る反射防止構造を作製した。実施例12に係る低屈折率膜の厚みは95nmであった。コーティング用組成物はガラス基板に対し良好な成膜性を有し、実施例1に係る液状組成物は、内側低屈折率膜に対して良好な製膜性を有していた。
実施例1に係る液状組成物の代わりに、実施例10に係る液状組成物を用いた以外は、実施例12と同様にして、実施例13に係る反射防止構造を作製した。実施例10に係る液状組成物は、内側低屈折率膜に対して良好な製膜性を有していた。
低屈折率膜の厚みを180nmに変更した以外は、実施例1と同様にして、実施例14に係る低屈折率膜及び実施例14に係る反射防止構造を作製した。実施例1に係る液状組成物は、膜厚が180nmとなるように製膜した場合についても良好な製膜性を有していた。
実施例1と同様に洗浄したガラス基板(フロートガラス、サイズ:40mm×40mm、厚み:1mm、屈折率:1.52)の一方の主面に、実施例1で用いた液状組成物をスピンコート法により塗布した後、オーブンで塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させ、厚みが100nmである低屈折率膜を形成した。さらに、ガラス基板のもう一方の主面に、実施例1で用いた液状組成物をスピンコート法により塗布した後、オーブンで塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させ、厚みが180nmである低屈折率膜を形成し、図2に示すような、実施例15に係る低屈折率膜及び実施例15に係る反射防止構造体を作製した。実施例1に係る液状組成物は、この場合においても良好な製膜性を有していた。
実施例1と同様に洗浄したガラス基板(フロートガラス、サイズ:40mm×40mm、厚み:1mm、屈折率:1.52)の両方の主面に、実施例1で用いた液状組成物をスピンコート法により塗布した後、オーブンで塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させて厚みが30nmである第三低屈折率膜を形成した。次に、第三低屈折率膜の上に、実施例12で用いたコーティング用組成物をスピンコート法により塗布した後、オーブンで塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させて厚みが40nmである第二低屈折率膜を形成した。さらに、第二低屈折率膜の上に、実施例1に係る液状組成物をスピンコート法により塗布した後、オーブンで塗膜を200℃及び10分間の条件で乾燥させて厚みが30nmである第一低屈折率膜を形成し、図3Bに示すような、実施例16に係る反射防止構造を作製した。実施例1に係る液状組成物は、この場合においてもガラス基板や低屈折率膜に対して良好な製膜性を有し、実施例12に係るコーティング用組成物は、低屈折率膜に対して良好な製膜性を有していた。
液状組成物の調製において、テトラエトキシシラン(TEOS)の物質量に対するメチルトリエトキシシラン(MTES)の物質量の比を表1に示す通りに調整した以外は、実施例1と同様にして、比較例1に係る液状組成物を得た。実施例1に係る液状組成物に代えて、比較例1に係る液状組成物を用いた以外は実施例1と同様にして、比較例1に係る低屈折率膜及び比較例1に係る反射防止構造を作製した。比較例1に係る低屈折率膜の外観を観察したところ、低屈折率膜の厚みが不均一であることがはっきりと確認された。
10 中空粒子
20 バインダー
30 基板
40 第二低屈折率層
50a、50b、50c 反射防止構造
60 第三低屈折率層
70a、70b 撮像装置
71 ハウジング
72 レンズ系
72a〜72d 単レンズ
73 フィルタ系
73a 赤外線吸収ガラス
73b 赤外線吸収膜
73x IRカットフィルタ
74 固体撮像素子
75 カバー
75a ガラス板
75b 誘電体多層膜
80 光学系
81〜85 単レンズ
Claims (21)
- 1.15〜2.70の屈折率を有する材料でできた中空粒子と、
ポリシルセスキオキサン及びシリカによって形成され、前記中空粒子を結着するバインダーと、を備え、
フーリエ変換赤外分光光度計を用いた全反射測定法によって決定される、ケイ素原子に直接結合していない炭化水素基に由来する吸光度、ケイ素原子と非反応性官能基との結合に由来する吸光度、及びケイ素原子とヒドロキシ基との結合に由来する吸光度を、それぞれ、Ia、Ib、及びIcと表すときに、Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の少なくとも1つの条件を満たし、
1.20以下の屈折率を有する、
膜。 - Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の条件をさらに満たす、請求項1に記載の膜。
- 0.7≦Ib/Ia≦1.7及び0.3≦Ib/Ic≦1.6の条件をさらに満たす、請求項2に記載の膜。
- 前記全反射測定法によって決定される、1つの酸素原子と2つのケイ素原子との結合に由来する、第一吸光度、第二吸光度、及び第三吸光度をそれぞれId、Ie、及びIfと表すとき、Id/Ib≦60、Ie/Ib≦20、及びIf/Ib≦174の少なくとも1つの条件を満たし、
前記第一吸光度Idは、第一波数に対応し、
前記第二吸光度Ieは、前記第一波数より大きい第二波数に対応し、
前記第三吸光度Ifは、前記第二波数より大きい第三波数に対応する、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の膜。 - Id/Ib≦60、Ie/Ib≦20、及びIf/Ib≦174の条件をさらに満たす、請求項4に記載の膜。
- 7≦Id/Ib≦60、6≦Ie/Ib≦20、及び11≦If/Ib≦174の条件をさらに満たす、請求項5に記載の膜。
- 前記バインダーにおけるシリカの物質量に対する、前記バインダーにおける前記ポリシルセスキオキサンの物質量の比は、3/7以上である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の膜。
- 前記ポリシルセスキオキサンは、16個以下の炭素原子を含む炭化水素基が前記非反応性官能基としてケイ素原子に結合しているポリシルセスキオキサンである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の膜。
- 前記中空粒子は、10〜150nmの平均粒子径を有する、請求項1〜8のいずれか1項に記載の膜。
- 前記中空粒子は、シリカ、フッ化マグネシウム、アルミナ、アルミノシリケート、チタニア、及びジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1つでできている、請求項1〜9のいずれか1項に記載の膜。
- 液状組成物であって、
1.15〜2.70の屈折率を有する材料でできた中空粒子と、
ポリシルセスキオキサンと、
シリカと、
溶媒と、を含有し、
当該液状組成物を基板に塗布し当該液状組成物を硬化させて得られた硬化物において、フーリエ変換赤外分光光度計を用いた全反射測定法によって決定される、ケイ素原子に直接結合していない炭化水素基に由来する吸光度、ケイ素原子と非反応性官能基との結合に由来する吸光度、及びケイ素原子とヒドロキシ基との結合に由来する吸光度を、それぞれ、Ia、Ib、及びIcと表すときに、Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の少なくとも1つの条件を満たし、
前記硬化物が1.20以下の屈折率を有し、
前記硬化物は、少なくともポリシルセスキオキサン及びシリカによって形成され、前記中空粒子を結着するバインダーを含む、
液状組成物。 - 前記硬化物において、Ib/Ia≧0.7及びIb/Ic≧0.3の条件をさらに満たす、請求項11に記載の液状組成物。
- 前記硬化物において、0.7≦Ib/Ia≦1.7及び0.3≦Ib/Ic≦1.6の条件をさらに満たす、請求項12に記載の液状組成物。
- 前記硬化物において、前記全反射測定法によって決定される、1つの酸素原子と2つのケイ素原子との結合に由来する、第一吸光度、第二吸光度、及び第三吸光度をそれぞれId、Ie、及びIfと表すとき、Id/Ib≦60、Ie/Ib≦20、及びIf/Ib≦174の少なくとも1つの条件を満たし、
前記第一吸光度Idは、第一波数に対応し、
前記第二吸光度Ieは、前記第一波数より大きい第二波数に対応し、
前記第三吸光度Ifは、前記第二波数より大きい第三波数に対応する、
請求項11〜13のいずれか1項に記載の液状組成物。 - 前記硬化物において、Id/Ib≦60、Ie/Ib≦20、及びIf/Ib≦174の条件をさらに満たす、請求項14に記載の液状組成物。
- 前記硬化物において、7≦Id/Ib≦60、6≦Ie/Ib≦20、及び11≦If/Ib≦174の条件をさらに満たす、請求項15に記載の液状組成物。
- 前記ポリシルセスキオキサンは、16個以下の炭素原子を含む炭化水素基が前記非反応性官能基としてケイ素原子に結合しているポリシルセスキオキサンである、請求項11〜16のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 前記中空粒子は、10〜150nmの平均粒子径を有する、請求項11〜17のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 前記中空粒子は、シリカ、フッ化マグネシウム、アルミナ、アルミノシリケート、チタニア、及びジルコニアからなる群から選ばれる少なくとも1つでできている、請求項11〜18のいずれか1項に記載の液状組成物。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の膜を備えた、光学素子。
- 請求項20に記載の光学素子を備えた、撮像装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020237036902A KR20230152823A (ko) | 2018-02-13 | 2018-11-08 | 막, 액상 조성물, 광학 소자, 및 촬상 장치 |
PCT/JP2018/041533 WO2019159450A1 (ja) | 2018-02-13 | 2018-11-08 | 膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置 |
US16/969,478 US20200399502A1 (en) | 2018-02-13 | 2018-11-08 | Film, liquid composition, optical element, and imaging apparatus |
EP18906029.6A EP3754384A4 (en) | 2018-02-13 | 2018-11-08 | FILM, LIQUID COMPOSITION, OPTICAL ELEMENT, AND IMAGING DEVICE |
KR1020207026331A KR102598584B1 (ko) | 2018-02-13 | 2018-11-08 | 막, 액상 조성물, 광학 소자, 및 촬상 장치 |
TW107141412A TW201934689A (zh) | 2018-02-13 | 2018-11-21 | 膜、液狀組成物、光學元件及攝像裝置 |
CN201811590858.2A CN110018532B (zh) | 2018-02-13 | 2018-12-25 | 膜、液态组合物、光学元件、以及摄像装置 |
CN202110217172.4A CN112748485B (zh) | 2018-02-13 | 2018-12-25 | 防反射膜、红外线截止滤波器以及透镜 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018023182 | 2018-02-13 | ||
JP2018023182 | 2018-02-13 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019054485A Division JP7269049B2 (ja) | 2018-02-13 | 2019-03-22 | 膜、光学素子、及び液状組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6503128B1 true JP6503128B1 (ja) | 2019-04-17 |
JP2019139208A JP2019139208A (ja) | 2019-08-22 |
Family
ID=66166765
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018209453A Active JP6503128B1 (ja) | 2018-02-13 | 2018-11-07 | 膜、液状組成物、光学素子、及び撮像装置 |
JP2019054485A Active JP7269049B2 (ja) | 2018-02-13 | 2019-03-22 | 膜、光学素子、及び液状組成物 |
JP2022099463A Active JP7375119B2 (ja) | 2018-02-13 | 2022-06-21 | 積層体及び積層体の製造方法 |
JP2023182928A Pending JP2024003024A (ja) | 2018-02-13 | 2023-10-25 | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、レンズ、及び撮像装置 |
JP2023211376A Pending JP2024025819A (ja) | 2018-02-13 | 2023-12-14 | 硬化物、液状組成物、光学素子、及び構造体 |
Family Applications After (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019054485A Active JP7269049B2 (ja) | 2018-02-13 | 2019-03-22 | 膜、光学素子、及び液状組成物 |
JP2022099463A Active JP7375119B2 (ja) | 2018-02-13 | 2022-06-21 | 積層体及び積層体の製造方法 |
JP2023182928A Pending JP2024003024A (ja) | 2018-02-13 | 2023-10-25 | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、レンズ、及び撮像装置 |
JP2023211376A Pending JP2024025819A (ja) | 2018-02-13 | 2023-12-14 | 硬化物、液状組成物、光学素子、及び構造体 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200399502A1 (ja) |
EP (1) | EP3754384A4 (ja) |
JP (5) | JP6503128B1 (ja) |
KR (2) | KR102598584B1 (ja) |
CN (2) | CN112748485B (ja) |
TW (1) | TW201934689A (ja) |
WO (1) | WO2019159450A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7195463B1 (ja) | 2022-01-28 | 2022-12-23 | ナガセケムテックス株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100498834B1 (ko) * | 2000-04-04 | 2005-07-04 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | 절연 박막 제조용 코팅 조성물 |
JP4543667B2 (ja) * | 2003-12-08 | 2010-09-15 | コニカミノルタオプト株式会社 | 反射防止膜形成用塗布液の製造方法及び反射防止フィルム |
TWI388876B (zh) * | 2003-12-26 | 2013-03-11 | Fujifilm Corp | 抗反射膜、偏光板,其製造方法,液晶顯示元件,液晶顯示裝置,及影像顯示裝置 |
EP1724613A4 (en) * | 2004-03-09 | 2009-06-24 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | ANTIREFLECTION LAYER AND PROCESS FOR MANUFACTURING THE SAME |
CN101090923A (zh) * | 2004-12-27 | 2007-12-19 | 小西化学工业株式会社 | 聚倍半硅氧烷微粒子有机溶剂分散液及其制造方法、以及聚倍半硅氧烷微粒子水分散液及其制造方法 |
JP2006257402A (ja) * | 2005-02-21 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 低屈折率層形成塗布組成物、反射防止フィルム、偏光板、および液晶表示装置 |
KR20080110090A (ko) * | 2007-06-14 | 2008-12-18 | 삼성전자주식회사 | 굴절률 감쇠 필름, 이를 구비한 편광 부재, 및 이를 구비한표시 장치 |
JP5629973B2 (ja) * | 2009-01-26 | 2014-11-26 | 凸版印刷株式会社 | 低屈折率組成物および反射防止材の製造方法 |
US9158044B2 (en) * | 2009-10-16 | 2015-10-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical film and display panel |
JP5810604B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2015-11-11 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
JP5693210B2 (ja) * | 2010-12-27 | 2015-04-01 | 日揮触媒化成株式会社 | プラスチックレンズの製造方法および該方法から得られるプラスチックレンズ |
CN102778703A (zh) * | 2011-05-13 | 2012-11-14 | 颖台科技股份有限公司 | 光学反射膜与使用该光学反射膜的发光装置 |
JP5922013B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
CN102702966B (zh) * | 2012-05-24 | 2014-08-06 | 长兴化学材料(珠海)有限公司 | 减反射组合物及其制造方法与用途 |
JP5976575B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 低屈折率膜形成用硬化性組成物、光学部材セットの製造方法及び硬化性組成物の製造方法 |
KR101523819B1 (ko) | 2012-09-04 | 2015-05-28 | (주)엘지하우시스 | 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용한 반사 방지 필름 |
KR101523821B1 (ko) | 2012-10-30 | 2015-05-28 | (주)엘지하우시스 | 실록산 화합물을 포함하는 반사 방지 코팅 조성물, 이를 이용하여 표면 에너지가 조절된 반사 방지 필름 |
KR101526650B1 (ko) | 2012-11-21 | 2015-06-05 | (주)엘지하우시스 | 광학특성이 우수한 반사방지 필름 |
CN103739206B (zh) * | 2013-12-31 | 2015-10-07 | 浙江工业大学 | 一种宽波段多层防反射薄膜及其制备方法 |
JP2017518521A (ja) * | 2014-04-09 | 2017-07-06 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | 光学素子 |
FR3024554B1 (fr) * | 2014-07-30 | 2016-09-09 | Essilor Int | Lentille ophtalmique comportant un revetement minimisant les reflets ultraviolets et procede de fabrication d'une telle lentille |
JPWO2016017526A1 (ja) * | 2014-07-30 | 2017-04-27 | 富士フイルム株式会社 | レンズアレイ部材及びその製造方法、レンズユニット及びその製造方法、ならびにカメラモジュール及びその製造方法、レンズアレイ部材の製造キット |
EP3203273B1 (en) * | 2014-09-30 | 2021-11-17 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Low reflection coated glass plate, glass substrate and photoelectric conversion device |
KR102054979B1 (ko) * | 2015-08-11 | 2019-12-10 | 주식회사 엘지화학 | 광경화성 코팅 조성물, 저굴절층 및 반사 방지 필름 |
WO2017043948A1 (ko) * | 2015-09-11 | 2017-03-16 | 주식회사 엘지화학 | 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치 |
JP2017167271A (ja) | 2016-03-15 | 2017-09-21 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
-
2018
- 2018-11-07 JP JP2018209453A patent/JP6503128B1/ja active Active
- 2018-11-08 EP EP18906029.6A patent/EP3754384A4/en active Pending
- 2018-11-08 KR KR1020207026331A patent/KR102598584B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-08 US US16/969,478 patent/US20200399502A1/en active Pending
- 2018-11-08 KR KR1020237036902A patent/KR20230152823A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-11-08 WO PCT/JP2018/041533 patent/WO2019159450A1/ja unknown
- 2018-11-21 TW TW107141412A patent/TW201934689A/zh unknown
- 2018-12-25 CN CN202110217172.4A patent/CN112748485B/zh active Active
- 2018-12-25 CN CN201811590858.2A patent/CN110018532B/zh active Active
-
2019
- 2019-03-22 JP JP2019054485A patent/JP7269049B2/ja active Active
-
2022
- 2022-06-21 JP JP2022099463A patent/JP7375119B2/ja active Active
-
2023
- 2023-10-25 JP JP2023182928A patent/JP2024003024A/ja active Pending
- 2023-12-14 JP JP2023211376A patent/JP2024025819A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019159450A1 (ja) | 2019-08-22 |
JP7375119B2 (ja) | 2023-11-07 |
CN110018532A (zh) | 2019-07-16 |
JP2024025819A (ja) | 2024-02-26 |
CN112748485A (zh) | 2021-05-04 |
TW201934689A (zh) | 2019-09-01 |
CN112748485B (zh) | 2022-09-20 |
JP2024003024A (ja) | 2024-01-11 |
KR20200119861A (ko) | 2020-10-20 |
JP2019139208A (ja) | 2019-08-22 |
CN110018532B (zh) | 2021-03-19 |
EP3754384A4 (en) | 2021-11-03 |
US20200399502A1 (en) | 2020-12-24 |
JP2022132285A (ja) | 2022-09-08 |
KR20230152823A (ko) | 2023-11-03 |
EP3754384A1 (en) | 2020-12-23 |
JP7269049B2 (ja) | 2023-05-08 |
JP2019144560A (ja) | 2019-08-29 |
KR102598584B1 (ko) | 2023-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102091954B1 (ko) | 적외선 흡수성 조성물, 적외선 컷 필터, 및 촬상 광학계 | |
AU2005276313B2 (en) | Method of producing a substrate which is coated with a mesoporous layer and use thereof in ophthalmic optics | |
JP6695887B2 (ja) | 赤外線吸収層用組成物、赤外線カットフィルタ、及び撮像装置 | |
JP5509616B2 (ja) | 反射防止膜、光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
JP2024025819A (ja) | 硬化物、液状組成物、光学素子、及び構造体 | |
JPH09500974A (ja) | 高屈折率を有する複合材料、該複合材料の製造方法及び該複合材料を含む光学活性材料 | |
EP2385931A1 (en) | A substrate having a self cleaning anti-reflecting coating and method for its preparation | |
JP2009157264A (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
CN112654901B (zh) | 滤光片用液态组合物及滤光片 | |
JP7118614B2 (ja) | 光学部材、撮像装置、及び光学部材の製造方法 | |
JP7046544B2 (ja) | 光学素子、光学機器、光学素子の製造方法および塗料 | |
JP5096966B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
WO2019093076A1 (ja) | 光吸収性組成物及び光学フィルタ | |
CN108572404B (zh) | 光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法 | |
WO2024090311A1 (ja) | 光吸収性組成物、光吸収性組成物の製造方法、光吸収膜、光学フィルタ、及び光学フィルタの製造方法 | |
CN117255960A (zh) | 光吸收性组合物、光吸收膜、光吸收膜的制造方法以及滤光器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181109 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20181109 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20181127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190122 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190319 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190322 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6503128 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |