TWI558674B - 用於熱處理玻璃基板的設備與方法 - Google Patents

用於熱處理玻璃基板的設備與方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI558674B
TWI558674B TW100130750A TW100130750A TWI558674B TW I558674 B TWI558674 B TW I558674B TW 100130750 A TW100130750 A TW 100130750A TW 100130750 A TW100130750 A TW 100130750A TW I558674 B TWI558674 B TW I558674B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
glass substrates
glass
furnace
fixing pins
glass substrate
Prior art date
Application number
TW100130750A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201217282A (en
Inventor
柯波拉法蘭斯湯瑪斯
麥雪斯克莫妮卡喬
Original Assignee
康寧公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 康寧公司 filed Critical 康寧公司
Publication of TW201217282A publication Critical patent/TW201217282A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI558674B publication Critical patent/TWI558674B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/0093—Tools and machines specially adapted for re-forming shaped glass articles in general, e.g. chucks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00—Re-forming shaped glass
    • C03B23/02—Re-forming glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B25/00—Annealing glass products
    • C03B25/02—Annealing glass products in a discontinuous way
    • C03B25/025—Glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
    • C03B29/025—Glass sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B35/00—Transporting of glass products during their manufacture, e.g. hot glass lenses, prisms
    • C03B35/14—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands
    • C03B35/20—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames
    • C03B35/202—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames by supporting frames
    • C03B35/205—Transporting hot glass sheets or ribbons, e.g. by heat-resistant conveyor belts or bands by gripping tongs or supporting frames by supporting frames the glass sheets being in a vertical position
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2225/00—Transporting hot glass sheets during their manufacture
    • C03B2225/02—Means for positioning, aligning or orientating the sheets during their travel, e.g. stops

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)

Description

用於熱處理玻璃基板的設備與方法 【相關申請案的交叉引用】
本申請案根據專利法之規定主張2010年8月30日提出申請的美國專利申請案第12/871,204號的優先權之權益，該美國專利申請案之內容以引用之方式全部併入本文，且本文根據專利法之規定主張優先權之權益。
本發明係關於一種用於熱處理玻璃基板的方法及設備，且更特定言之，係關於一種用於同時壓實(compact)複數個玻璃基板的方法及設備。
液晶顯示器(liquid crystal displays;LCDs)通常包含兩個平板玻璃基板，該兩個平板玻璃基板封裝液晶材料之薄層。該等基板中之一個基板上的透明薄膜電極之陣列調變液晶材料之光透射性質，從而產生影像。藉由在每一像素處併入主動元件(諸如，二極體或薄膜電晶體(thin film transistor;TFT))，可實現高對比度及響應速度，以產生高解析度顯示器。此等平板顯示器(通常稱為主動式矩陣LCD(active matrix liquid crystal display;AMLCD))已成為用於高效能顯示器(諸如，電腦及電視)之卓越的技術。
LCD之製造製程，且尤其用於製造多晶矽(多晶Si)顯示器之製造製程通常由薄膜之連續沉積及圖案化步驟組成，該等連續沉積及圖案化步驟使用高溫製程而造成基板加熱。由於此等薄膜之圖案化步驟之間較高的記錄要求，在整個製程中，玻璃基板常常需要尺寸穩定性(低收縮率)處於百萬分之(parts per million;ppm)5-20範圍內。百萬分之五至百萬分之二十的收縮率意謂(例如)在500 mm之基板長度上收縮2.5-10微米。當收縮率大於5-20 ppm時，將在隨後應用的組件之間產生記錄錯誤。
多晶Si以習知方式藉由以下步驟產生：使用化學氣相沉積(chemical vapor deposition;CVD)技術將非晶矽(a-Si)沉積至玻璃基板上，且隨後將該經塗覆玻璃曝露於高溫下長達充足的時間段，以使a-Si結晶成多晶Si。此結晶步驟通常在約600℃下進行數十個小時。此外，該結晶步驟後可進行若干其他高溫製程。此等製程步驟包括閘極氧化物之沉積及退火，及源極/汲極退火之步驟。
在多晶Si TFT製造期間遭遇的結晶及後續處理步驟之相對較高的溫度大大增加玻璃基板收縮之可能性。
玻璃基板(例如，液晶顯示器(或「LCD」)玻璃基板)之製造商常常熱處理玻璃基板，以在運輸之前預收縮或壓實該玻璃。可在低於玻璃基板應變點之各種溫度下執行壓實玻璃基板之步驟。執行壓實或緻密化步驟，以將顧客處理玻璃基板期間的玻璃之尺寸變化最小化。若玻璃基板未經預收縮，則基板可經歷外形變化，該等外形變化可能對成品顯示器之品質造成負面影響。必須執行壓實之步驟而不產生玻璃碎屑(這些玻璃碎屑可能污染玻璃表面)，或不經由空間非均勻加熱及/或冷卻圖案而使玻璃基板表面變形。
習知地，封閉的晶匣已用以在熱處理期間支撐玻璃基板。開口晶匣亦用於一些應用中。在封閉的晶匣支撐件方法中，多個玻璃基板在垂直方向上固持於晶匣之封閉部分內部。用水平及垂直支撐件(諸如，由不銹鋼製得的支撐件)支撐該等玻璃基板。實際上，圍繞玻璃基板之周邊支撐該等玻璃基板，以維持表面之品質且防止翹曲(warp)。通常沿著所有四個邊緣之全部長度俘獲玻璃基板。
在開口晶匣支撐件方法中，多個玻璃板在垂直方向上固持於晶匣內部。在該玻璃板邊緣處，用垂直及水平支撐件支撐該玻璃板。如在封閉的晶匣支撐件方法中，圍繞玻璃基板之周邊支撐該玻璃基板，以維持該玻璃基板之物理屬性。通常開口及封閉晶匣方法兩者皆使熱處理期間玻璃之重力效應最小化。
在封閉及開口晶匣支撐件的兩種設計中，皆沿著至少三個邊緣中的實質全部邊緣接觸該等玻璃基板。此接觸常常造成基板損壞或損耗。完全接觸式支撐件亦對系統之熱特徵產生影響。如所能瞭解的，歸因於熱量在沿著邊緣及轉角到達玻璃之前必須經由金屬行進，沿著每一基板邊緣集中的支撐件之金屬塊影響該等邊緣處之溫度分佈。此外，在兩種支撐件設計中，碎片(包括玻璃粒子及碎屑)積累於底部-邊緣支撐件中，且該等碎片很難清除；因此，此等支撐件設計可對玻璃基板造成顯著的碎片污染。此外，金屬支撐件與玻璃基板之間的熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion;CTE)之較大差異導致基板相對於支撐件發生較大移動，且該等差異對基板造成潛在損壞。
上述兩種支撐件設計皆藉由使板材(諸如，不銹鋼)彎曲成且形成所需要的組件來製造。本質上而言，此等程序並不精確、難以產生，且製造成本高。
根據一個實施例，揭示了一種在爐中熱處理複數個玻璃基板之方法，該方法包含以下步驟：在複數個玻璃基板中之相鄰玻璃基板對之間設置至少一個間隔部件，該至少一個間隔部件包含封閉的外部框架部分，該外部框架部分限定(bound)開口內部，且其中該一或更多間隔部件之CTE與該複數個玻璃基板之CTE之間的差異小於10×10-7/℃。在一些實施例中，玻璃基板具有之尺寸可使得該複數個玻璃基板中之每一玻璃基板之主表面具有至少5 m2的表面區域。
相鄰的玻璃基板及該至少一個間隔部件形成封閉空間，該封閉空間由該等相鄰玻璃基板及該至少一個間隔部件來限定。
將該複數個玻璃基板支撐在實質垂直方向上，其中用偏壓力將該複數個玻璃基板與一或更多間隔部件偏壓在一起呈接觸關係，該一或更多間隔部件設置於相鄰玻璃基板之間，且在爐中對該複數個玻璃基板加熱。在加熱製程之後，允許該等玻璃基板冷卻。該複數個玻璃基板在冷卻之後的平面外(out-of-plane)變形不超過100 μm。
複數個間隔部件可用於相鄰玻璃基板之間，且該複數個間隔部件可呈垂直及/或水平陣列排列。較佳地，設置於相鄰玻璃基板之相同對之間的相鄰間隔部件在每一相鄰間隔部件的非品質邊緣部分外部處彼此接觸。
較佳地，將該複數個玻璃基板加熱至一溫度，該溫度高於該複數個玻璃基板之退火點，且該溫度低於該複數個玻璃基板之軟化溫度。在一些實施例中，視玻璃之組成物而定，將該複數個玻璃基板加熱至高於700℃之溫度。
該至少一個間隔部件可由玻璃構成。較佳地，該至少一個間隔部件之玻璃的組成物是與該複數個玻璃基板之玻璃組成物相同的玻璃組成物。
在一些實施例中，該爐包含外部圍壁及內部圍壁，及第一側及第二側。第一複數個固定銷(restraining pin)延伸穿過該爐之第一側上之內部圍壁及外部圍壁，該第一複數個固定銷牢固地安裝至支撐結構。第二複數個固定銷延伸穿過該爐之第二側上之內部圍壁及外部圍壁，其中第二組固定銷中之每一固定銷可沿著固定銷之縱軸移動。用第二複數個固定銷對該複數個玻璃基板施加偏壓力。在另一實施例中，描述了一種用於熱處理複數個玻璃基板之設備，該設備包含：爐，該爐包含外部圍壁、內部圍壁、第一側及第二側；第一複數個固定銷，該第一複數個固定銷延伸穿過該爐之第一側上之外部圍壁及內部圍壁，進入由爐界定的內部空間內部空間，該第一複數個固定銷經限制以防止該等銷相對於該內部圍壁移動。第二複數個固定銷延伸穿過該爐之第二側上之外部圍壁及內部圍壁，且第二複數個固定銷中之每一固定銷可沿著固定銷之縱軸移動。第二複數個固定銷包含偏壓組件，以對該複數個玻璃基板施加偏壓力。該偏壓組件可包含(例如)氣壓缸及/或彈簧。位置感測器可耦接至第二複數個固定銷中之每一固定銷。該位置感測器將關於該固定銷之位置的資訊中繼至電腦，該電腦與第二複數個固定銷中之每一偏壓組件進行電氣通訊。該電腦基於所接收的位置資訊個別地控制該等固定銷之位置。
為了適應內壁的膨脹及收縮(例如在加熱期間的膨脹與冷卻期間的收縮)，內部爐壁可呈波紋狀(corrugated)。
第一複數個固定銷中之每一固定銷包含：接觸部件，該接觸部件與複數個玻璃基板中之一玻璃基板接觸；以及延伸部件，該延伸部件耦接至該偏壓組件，且其中接合部以可移動的方式連接該接觸部件與該延伸部件。
類似地，第二複數個固定銷中之每一固定銷亦可包含：接觸部件，該接觸部件與複數個玻璃基板中之一玻璃基板接觸；以及延伸部件，該延伸部件耦接至該偏壓組件，且其中接合部以可移動的方式連接該接觸部件與該延伸部件。在一些情況下，第二組固定銷之移動經控制以使得在加熱製程期間，第二複數個固定銷與該複數個玻璃基板中之最外面的玻璃基板之間的接觸共平面。
該設備可包括一或更多導引部件，該一或更多導引部件延伸至爐中，該一或更多導引部件將該複數個玻璃基板支撐在垂直方向上，其中當該複數個玻璃基板自爐外部之位置移動至爐內部之位置時，該複數個玻璃基板中一之玻璃基板與該一或更多導引部件滑動接觸。
本發明之額外的特徵結構及優點在以下實施方式中進行闡述，且該等額外的特徵結構及優點將由熟習此項技術者自彼描述而部分地清楚瞭解，或藉由如本文所描述地來實踐本發明而認識。隨附圖式包括在本發明中，以提供對於本發明之進一步理解，且該等隨附圖式併入本說明書中且構成本說明書之一部分。應理解本說明書及該等圖式中所揭示的本發明之各種特徵結構可以任何及所有組合來使用。
在以下詳細描述中，為達成說明而非限制之目的，闡述了揭示具體細節之示例性實施例，以提供對本發明之透徹瞭解。然而，對於已受惠於本揭示案的此技術領域中具通常知識者而言，將明瞭本發明可在脫離本文所揭示的具體細節之其他實施例中實踐。此外，可省略對於熟知的裝置、方法及材料的描述以免混淆本發明之描述。最後，在任何適用之情況下，相同元件符號代表相同元件。
第1圖圖示設備10之透視圖，設備10用於在壓實製程中同時熱處理複數個垂直定向的玻璃基板12。設備10包含：爐14，爐14包括內部爐壁16及外部爐壁18，該等內部及外部爐壁由絕緣材料20分隔。加熱元件22設置於內部空間23內部，內部空間23由爐14界定，且加熱元件22通常佈置在鄰近於內部爐壁16之處。爐14進一步包括第一側24及第二側26，當複數個玻璃基板載入爐中時，第一側24及第二側26通常平行於玻璃基板。第一及第二側由內部及外部爐壁之部分組成。當爐14在操作中時，複數個玻璃基板12垂直佈置於內部空間23內部的可移動的搬運車28上，且該複數個玻璃基板12由間隔部件30而彼此分隔。設備10之此等及其他組件將更詳細地描述於下文。
仍參閱第1圖，可將內部爐壁16建構成適應(accomodate)內壁之熱膨脹。舉例而言，如第1圖所示的內部爐壁由選以最小化腐蝕的金屬(例如，不銹鋼或)製成，且該內部爐壁呈波紋狀，以適應該壁之熱膨脹。
加熱元件22安置於內部空間23內部，且加熱元件22佈置成位於該複數個玻璃基板中之最外面玻璃基板的側面或鄰近於該等最外面玻璃基板，該複數個玻璃基板佈置於搬運車28上。加熱元件22可為(例如)電阻加熱器。在一些實施例中，可沿著經組裝的玻璃基板之每一側採用多個個別控制的加熱元件，因此，該等加熱元件可用以在需要時在橫越複數個玻璃基板上產生溫差分佈。亦即，因此對最外面的玻璃基板之表面輻射所呈現的溫度可在期望時在橫越彼表面上進行變化。額外的加熱元件22亦可佈置於爐14之上部部分中，及爐14之末端處，以確保亦對玻璃基板之邊緣部分加熱。
第1圖亦圖示複數個固定銷34，複數個固定銷34自爐之外部沿著爐之第一及第二側穿過外部爐壁18及內部爐壁16而延伸至爐之內部。固定銷34設置成與該複數個玻璃基板中之最外面的玻璃基板接觸，且使垂直站立的基板穩定。在一些實施例中，第一複數個固定銷或第一組固定銷36延伸穿過爐之第一側24(例如，穿過外部及內部圍壁)，該等固定銷配置成與複數個玻璃基板中之最外面的玻璃基板接觸，且該等固定銷經牢固地固定以使每一固定銷不沿著固定銷之對應縱軸移動。舉例而言，第一固定銷組36可牢固地耦接至爐，如第1圖所示。或者，第一固定銷組36可耦接至爐外部之支撐結構，該支撐結構與該爐分隔。
當複數個玻璃基板設置於爐內部時，位於爐之相對的第二側26上之第二複數個固定銷或第二組固定銷38配置成與另一最外面的玻璃基板接觸，且該等固定銷由偏壓組件40抵靠該另一最外面的玻璃基板而進行偏壓。偏壓組件40可包含彈簧及/或活塞(例如，氣控活塞或液壓傳動活塞)，該等彈簧及/或活塞耦接至第二固定銷組38中之個別固定銷。如第1圖所示，偏壓組件40可經由個別氣動控制閥42及氣體供應管線44連接至加壓氣源46，且偏壓組件40可經由控制管線52由電腦48而個別控制。可藉由位置感測器(未圖示)收集來自個別偏壓組件之位置資訊，該等位置感測器包含偏壓組件，且該位置資訊可經由資料線54與電腦48通訊。該等偏壓組件亦可包括力感測器，亦即，測力計(load cell，未圖示)，該等測力計向電腦提供關於個別固定銷施加於玻璃基板之力的資訊。電腦48利用來自每一位置及/或力感測器之位置及/或力的資訊，以將每一固定銷維持在記錄狀態，以使得每一銷之遠端(亦即，每一固定銷之與玻璃基板接觸的接觸表面)共平面，且以使得每一銷之遠端施加充足的力以確保玻璃基板處於平坦狀態。
固定銷34可進一步包括經接合的遠端接觸部件，該等遠端接觸部件與最外面的玻璃基板接觸。在熱處理爐中之溫度變化(例如，加熱及冷卻)期間，玻璃基板可膨脹或收縮充足的量，以致未經接合的固定銷與最外面的玻璃基板之間發生相對運動，從而導致對於玻璃基板之潛在損壞。因此，如第2圖所示，每一固定銷34可包括末端部分或接觸腳56，末端部分或接觸腳56經由一或更多接合部60(諸如，球形接合部)耦接至延伸部件58。諸如，在複數個玻璃基板之膨脹及收縮期間，此活節的(articulated，接合的)構造允許固定銷之接觸腳部分相對於延伸部件部分移動。
如所能瞭解的，固定銷與玻璃基板之間的接觸有可能損壞該複數個經組裝基板中之兩個最外面的玻璃基板。此狀況可藉由以下操作來避免：佈置固定銷，使得每一固定銷接觸腳與最外面的玻璃基板僅在隨後不用於裝置中的基板之區域--所謂的非品質區域中進行接觸。然而，因為固定銷通常不易沿著爐之每一側而重新設置，所以為一個玻璃基板尺寸工作之固定銷的佈置有可能不能適應另一尺寸。替代性的方法為採用犧牲性的玻璃基板作為最外面的玻璃基板。因此，由固定銷與犧牲性的玻璃基板之間的接觸產生的表面損壞不會影響設置於該等犧牲性的玻璃基板之間的內部玻璃基板。可清潔且再使用或丟棄該等犧牲性的玻璃基板。
該複數個玻璃基板組裝於於搬運車28之頂部上。該搬運車亦可充當爐之底部。搬運車28較佳地包含絕緣頂部部分61，玻璃基板靜置於絕緣頂部部分61上。搬運車之絕緣部分可包裝於(例如)合金鋼中。該搬運車支撐玻璃基板之重量，且該搬運車可在爐外部的位置與爐內部的位置之間移動，以輸送該等玻璃基板進出該爐。該搬運車可包括加熱元件22，加熱元件22位於該搬運車上或該搬運車之頂部部分中及該等玻璃基板下方，以對該等玻璃基板之底部加熱且改良溫度均勻性。直立支撐部件62設置於於搬運車之一個末端處(第3圖)，且在裝載基板時，直立支撐部件62可用以支撐搬運車上之玻璃基板。舉例而言，該搬運車可向後傾斜，使得在裝載期間，玻璃基板之邊緣由支撐部件62來支撐。當搬運車設置於於爐內部時，支撐部件62可形成爐之閉合部分(例如，門)。亦即，支撐部件62可形成爐之壁。支撐件62亦可包括加熱元件22。因此，加熱元件22之組合確保玻璃基板加熱均勻且應力減小，加熱元件22形成爐或搬運車28之一部分，且當基板設置於爐14內部時，加熱元件22沿著玻璃基板之邊緣設置。
較佳地，搬運車28包含輪63，輪63用於協助輸送玻璃基板進出熱處理爐。舉例而言，該等輪可配置成搭載(ride)在一或更多軌道64上。在一些實施例中，可在搬運車之一側上包括輪，而在另一側上設置支架(leg)。該等支架協助平臺之傾斜，此舉可在該平臺裝載有玻璃基板時十分有利。
此外，至少一個導引部件66自爐外部的位置延伸入爐中，以使得當搬運車28移動進入爐中時，隨著平臺橫向移動進入爐中一定距離，該複數個玻璃基板與至少一個導引部件接觸，且該複數個玻璃基板由至少一個導引部件來支撐。舉例而言，在某些實施例中，該導引部件為纜線(cable)，該纜線沿著搬運車軌道64延伸至爐中。當搬運車28移動進入爐14中，且使複數個玻璃基板設置於搬運車頂部時，該複數個玻璃基板中之至少一個玻璃基板與導引部件66接觸，從而防止該複數個玻璃基板自垂直方向傾斜。在某些其他實施例中，可使用多個導引部件，例如使用兩個導引纜線，在該複數個玻璃基板之每一側上佈置一個導引纜線，以防止向玻璃基板任一側傾斜。較佳地，所接觸的玻璃基板為犧牲性的玻璃基板。
第4圖圖示單一間隔部件30之透視圖。如圖所示，間隔部件30包含外壁部分68，外壁部分68為形狀類似圖框之閉環，因此，間隔部件30具有開口內部70，開口內部70由間隔部件外壁部分環繞(circumscribe)。建構每一間隔部件之材料應具有實質與玻璃基板之熱膨脹係數(CTE)匹配的CTE，以使加熱及冷卻循環期間，間隔部件與玻璃基板之間的相對運動最小化。間隔部件與玻璃基板之間的CTE差異不應超過10×10-7/℃。舉例而言，該間隔部件可由與形成玻璃基板相同的玻璃製成。亦即，該間隔部件與該等玻璃基板較佳地具有相同的玻璃組成物。只要玻璃陶瓷材料與玻璃基板之玻璃之間的CTE差異不超過10×10-7/℃，則該間隔部件可替代性地由玻璃陶瓷材料製得。
例如，藉由鑄造可形成該等間隔部件。可鑄造、研磨(grind)且拋光(polish)單塊玻璃厚板(slab)，以確保間隔部件之表面處於平坦且平行狀態，且確保(諸如)藉由水刀切割將每一厚板之中心部分切除。或者，厚板或平板可由其他製程形成(例如，曳引)，在該等製程之後可執行切割、研磨及拋光之步驟。
根據本發明之實施例，至少一個間隔部件30設置於複數個玻璃基板中之相鄰的玻璃基板之間，以形成堆疊72，堆疊72由交替的玻璃基板及間隔部件組成(第5圖)。
對於較大的玻璃基板(諸如，具有等於或大於5 m2的一側表面區域的玻璃基板)而言，或較小尺寸的間隔部件而言，複數個間隔部件30可部署於複數個玻璃基板中之相鄰的玻璃基板之間，且諸如第6圖中所示，將間隔部件呈水平及垂直陣列排列。舉例而言，可將四個間隔部件30呈2×2陣列排列，該陣列以邊緣對邊緣(edge-to-edge)的方式排列。較佳地，該複數個間隔部件設置成使得該等間隔部件之外部邊緣中的至少一些外部邊緣接觸，以使產生的不可用的(接觸的)玻璃表面區域最小化。設置於相鄰玻璃基板之間的間隔部件的數目及陣列之尺寸取決於待分隔的玻璃基板之尺寸及形狀。
在一或更多間隔部件30設置於相鄰玻璃基板12之間的情況下，狹窄的凹穴(pocket)或隔室74產生於相鄰玻璃基板12之間，每一玻璃基板具有第一平行主表面76及第二平行主表面78。第7圖描繪第6圖之玻璃基板及間隔部件之堆疊的剖面邊視圖，且第7圖圖示複數個隔室74，複數個隔室74位於該堆疊之相鄰玻璃基板的相鄰主表面之間，且複數個隔室74與該堆疊之相鄰玻璃基板的相鄰主表面接觸。相鄰玻璃基板之間的此間隔化使玻璃基板之間的氣流最小化，且藉此亦使玻璃基板上之可產生應力的溫差最小化。舉例而言，複數個玻璃基板可佈置成使得四個間隔部件安置於每一對相鄰玻璃基板之間。若存在八個方形的玻璃基板，每一玻璃基板具有2公尺乘以2公尺(2 m×2 m)之尺寸，則採用7組間隔部件，每一對相鄰玻璃基板之間採用一組間隔部件，且每一組間隔部件由四個一公尺的方形間隔部件組成，該四個間隔部件以接觸關係呈2×2陣列排列。因為該等間隔部件具有框架狀壁，所以在該等框架狀間隔部件之中心開口區域內部不存在與玻璃基板的接觸。當該等間隔部件夾在相鄰玻璃基板之間時，四個隔室產生於每一對相鄰玻璃基板之間，每一隔室由玻璃基板及該等間隔部件之壁來限定。該等間隔部件之壁防止隔室之間的氣流且有效防止顯著的對流在玻璃表面上方移動，否則該對流可能在玻璃中產生非期望的溫差。
因為在某些工業(諸如，LCD顯示器工業)中，與玻璃基板之接觸產生不再可用的基板之區域(例如，歸因於潛在的接觸損壞)，所以較佳的情況為間隔部件之間的接觸僅發生在玻璃基板之非品質區域中。舉例而言，玻璃基板通常以較大的主玻璃基板供應給儀器製造商(例如，製造顯示單元之儀器製造商)，該等較大的主玻璃基板隨後切分成複數個較小基板。將主基板切割成合適尺寸之步驟通常由儀器製造商來執行。玻璃製造商對於切分部分的數目的先備知識允許該等間隔部件在熱處理期間根據意欲切割的圖案而佈置，該玻璃製造商對於切分部分的數目的先備知識是由儀器製造商自原有主基板所建立。繼續論述先前2 m×2 m之玻璃基板的實例，若已知欲將原有的主玻璃基板分成4個相等尺寸的1平方公尺的區段，則四個1公尺的間隔部件之間的「接縫」(該四個間隔部件在相鄰玻璃基板之間呈2×2陣列排列)與將玻璃基板分隔成單獨部分的切割線一致，所述接縫是每一間隔部件與相鄰間隔部件接觸之處的線。因此，該複數個間隔部件形成玻璃壁之柵格，玻璃壁之該柵格安置於相鄰玻璃基板之間。若最小化形成每一間隔部件之壁的寬度，則與任何給定間隔部件接觸的所得單獨基板部分中之每一者上的表面區域的量被最小化。舉例而言，若每一間隔部件之壁的寬度為1 cm，則即使在此實例中兩個相鄰間隔部件之組合壁的寬度為2 cm，與間隔部件接觸的每一切割或切分的基板之圓周區域僅1 cm。
或者，為更進一步減少間隔部件與玻璃基板之接觸區域，相比於不接觸其他間隔部件的間隔部件之部分，可將接觸其他間隔部件的間隔部件壁之部分製造得更薄。使用以上實例，若將接觸其他間隔部件的矩形間隔部件之側製成具有僅0.5 cm的寬度而非以上所述的1 cm，則相鄰間隔部件之相鄰壁的組合寬度為僅1 cm而非先前獲得的2 cm。因此，可使用一或更多間隔部件，其中間隔部件之壁的寬度可變化。亦即，間隔部件之一個側壁可具有一寬度，而該間隔部件之另一側壁可具有不同的寬度。
在一些實施例中，該複數個玻璃基板可分成兩個堆疊，每一堆疊包含複數個玻璃基板。爐14則可包括額外組之加熱元件22，該額外組之加熱元件22安置於爐中之中心及垂直位置，以使得當玻璃基板由搬運車28設置於爐內部時，安置於中心的加熱元件設置於玻璃基板之第一組件與第二組件之間。
熱處理複數個玻璃基板之製程可如下進行。在第一步驟中，將第一玻璃基板裝載至搬運車28上。為協助裝載，可將搬運車向一側傾斜，且可進一步將該搬運車在一個末端處升起，使得玻璃基板同時由搬運車28之頂部部分61及支撐部件62來支撐。第一裝載的玻璃基板成為最外面的玻璃基板中之一者，且因為該第一裝載的玻璃基板將與一組固定銷接觸，所以可使用犧牲性的玻璃基板。
接著，將至少一個間隔部件設置於鄰近第一玻璃基板。若該玻璃基板足夠大，則可將複數個間隔部件設置於鄰近第一玻璃基板。隨後，將該一或更多間隔部件適當地佈置，將第二玻璃基板設置於鄰近先前部署的間隔部件，且將另一組一或更多間隔部件設置於鄰近第二玻璃基板。繼續此製程--設置玻璃基板及一或更多間隔部件之交替層，直至期望數目的玻璃基板組裝成該堆疊為止。最後裝載的玻璃基板成為另一個相對的最外面的玻璃基板，且該最後裝載的玻璃基板亦可為犧牲性的玻璃基板。
當已設置最後的玻璃基板時，可將具有玻璃基板之經組裝堆疊72的搬運車28扶正，且(諸如)藉由U形夾持器在玻璃基板之堆疊的邊緣處夾持該堆疊。搬運車28隨後移入爐14，且使玻璃基板之該堆疊與至少一個導引部件66接觸。
在爐中，玻璃基板之堆疊組件72之一側與第一組固定之固定銷36接觸，該第一組固定之固定銷36延伸穿過爐之第一壁，而第二組可移動之固定銷38抵靠玻璃基板之該堆疊組件的相對側進行偏壓，從而有效地將玻璃基板之該組件於兩組固定銷之間夾持在實質垂直方向上。當在熱處理製程期間施加熱時，堆疊組件72較佳地維持在垂直10度之內、垂直5度之內、垂直3度之內，且堆疊組件72較佳地維持在垂直1度之內。該爐將經堆疊的玻璃基板加熱至適當的熱處理溫度長達適量之時間。因為處於實質垂直方向的堆疊組件72之組合重量在熱處理期間向下壓抵搬運車28，所以玻璃基板發生平面外變形(out of plane distorsion)的可能性較小。平面外變形意謂玻璃基板中之失重形變(gravity-free shape change)，該失重形變延伸出由給定玻璃基板之表面表示的平面。亦即，在失重的情況下，玻璃基板之相對的主表面應實質共面(亦即，在該基板之整個主表面上偏離平面不超過100 μm)，且在該熱處理步驟之後維持此共面性。更簡單而言，平面外變形導致玻璃基板不平坦。
因此，示例性、非限制性實施例包括：
C1.一種在爐中熱處理複數個玻璃基板之方法，該方法包含以下步驟：在該複數個玻璃基板中之相鄰玻璃基板對之間設置至少一個間隔部件，該至少一個間隔部件包含封閉的外部框架部分，該外部框架部分限定開口內部，且其中該一或更多間隔部件之CTE與該複數個玻璃基板之CTE之間的差異小於10×10-7/℃；在支撐平臺上將該複數個玻璃基板支撐在實質垂直方向上，其中用偏壓力將該複數個玻璃基板與該至少一個間隔部件偏壓在一起呈接觸關係，該至少一個間隔部件設置於相鄰玻璃基板之間；在爐中對該複數個玻璃基板加熱；冷卻該複數個玻璃基板；以及其中該複數個玻璃基板在冷卻之後的平面外變形不超過100 μm。
C2.如C1所述之方法，其中該至少一個間隔部件包含複數個間隔部件，該複數個間隔部件在每一對相鄰玻璃基板之間呈垂直及/或水平陣列排列。
C3.如C2所述之方法，其中該複數個間隔部件中之相鄰間隔部件在每一相鄰間隔部件之外部邊緣部分處彼此接觸。
C4.如C1至C3中任一項所述之方法，其中將該複數個玻璃基板加熱至一溫度，該溫度高於該複數個玻璃基板之退火點，且該溫度低於該複數個玻璃基板之軟化溫度。
C5.如C1至C4中任一項所述之方法，其中將該複數個玻璃基板加熱至高於700℃之溫度。
C6.如C1至C5中任一項所述之方法，其中該至少一個間隔部件為玻璃或玻璃陶瓷材料。
C7.如C6所述之方法，其中該至少一個間隔部件為玻璃，且該間隔部件之玻璃是與該複數個玻璃基板之玻璃組成物相同的玻璃組成物。
C8.如C1至C7中任一項所述之方法，其中相鄰玻璃基板及設置於該等相鄰玻璃基板之間的該至少一個間隔部件形成封閉空間，該封閉空間由該等相鄰玻璃基板及該至少一個間隔部件限定。
C9.如C1至C8中任一項所述之方法，其中該複數個玻璃基板中之每一玻璃基板之主表面具有至少5 m2的表面區域。
C10.如C1至C9中任一項所述之方法，其中：該爐包含：第一側及第二側；第一複數個固定銷，該第一複數個固定銷延伸穿過該爐之第一側，該第一複數個固定銷經牢固地固持，以防止該第一複數個固定銷移動；第二複數個固定銷，該第二複數個固定銷延伸穿過該爐之第二側，第二組固定銷中之每一固定銷可沿著每一固定銷之縱軸移動；以及其中用該第二複數個固定銷對該複數個玻璃基板施加偏壓力。
C11.一種用於熱處理複數個玻璃基板之設備，該設備包含：爐，該爐包含外部圍壁、內部圍壁、第一側及第二側；第一複數個固定銷，該第一複數個固定銷延伸穿過該爐之第一側進入內部空間，該內部空間由爐界定，該第一複數個固定銷經限制以防止該等銷移動；以及第二複數個固定銷，該第二複數個固定銷延伸穿過該爐之第二側，且該第二複數個固定銷中之每一固定銷可沿著該固定銷之縱軸移動，且其中該第二複數個固定銷中之每一固定銷包含偏壓組件，以對該複數個玻璃基板施加偏壓力。
C12.如C11所述之設備，其中使該內部圍壁呈波紋狀。
C13.如C11或C12所述之設備，其中該第一複數個固定銷中之每一固定銷包含：接觸部件，該接觸部件與該複數個玻璃基板中之一玻璃基板接觸；以及延伸部件，該延伸部件耦接至該偏壓組件，且其中接合部以可移動的方式連接該接觸部件與該延伸部件。
C14.如C11至C13中任一項所述之設備，其中該第二複數個固定銷中之每一固定銷包含：接觸部件，該接觸部件與該複數個玻璃基板中之一玻璃基板接觸；以及延伸部件，該延伸部件耦接至該偏壓組件，且其中接合部以可移動的方式連接該接觸部件與該延伸部件。
C15.如C11至C14中任一項所述之設備，其中該偏壓組件包含氣壓缸。
C16.如C11至C15中任一項所述之設備，其中該偏壓組件包含彈簧。
C17.如C11至C16中任一項所述之設備，其中第二組固定銷之移動經控制以使得在加熱期間，該第二複數個固定銷與該複數個玻璃基板中之最外面的玻璃基板之間的接觸共平面。
C18.如C11至C17中任一項所述之設備，該設備進一步包含導引部件，該導引部件延伸至爐中，該導引部件將該複數個玻璃基板支撐在垂直方向上，且其中當該複數個玻璃基板自該爐外部之位置移動至該爐內部之位置時，該複數個玻璃基板中之一玻璃基板與該導引部件滑動接觸。
C19.如C11至C18中任一項所述之設備，其中位置感測器耦接至每一偏壓組件。
C20.如C11至C19中任一項所述之設備，該設備進一步包含電腦，該電腦與每一偏壓組件進行電氣通訊，且其中該電腦個別地控制每一偏壓組件之位置。
應強調的是以上所描述的本發明之實施例，特定言之，任何「較佳的」實施例，僅是實施例之可能實例，闡述該等實施例僅為了清楚理解本發明之原理。在實質不脫離本發明之精神及原理的情況下，可對以上所描述的本發明之實施例進行許多變更及修改。所有此等修改及變更意欲包括於本文中此揭示案及本發明之範疇內，且所有此等修改及變更意欲由以下申請專利範圍來保護。
10．．．設備
12．．．玻璃基板
14．．．爐
16．．．內部爐壁
18．．．外部爐壁
20．．．絕緣材料
22．．．加熱元件
23．．．內部空間
24．．．第一側
26．．．第二側
28．．．搬運車
30．．．間隔部件
34．．．固定銷
36．．．第一複數個固定銷
38．．．第二複數個固定銷
40．．．偏壓組件
42．．．氣動控制閥
44．．．氣體供應管線
46．．．加壓氣源
48．．．電腦
52．．．控制管線
54．．．資料線
56．．．末端部分
58．．．延伸部件
60．．．接合部
61．．．頂部部分
62．．．支撐件
63．．．輪
64．．．軌道
66．．．導引部件
68．．．外壁部分
70．．．開口內部
72．．．堆疊
74．．．凹穴/隔室
76．．．第一平行主表面
78．．．第二平行主表面
第1圖為用於在垂直方向上壓實複數個玻璃基板之設備的剖面端視圖。
第2圖為活節固定銷之側視圖。
第3圖為搬運車之側視圖，該搬運車用於在直立(亦即，垂直)方向上支撐且輸送複數個玻璃基板。
第4圖為間隔部件之透視圖，該間隔部件用以分隔相鄰的玻璃基板。
第5圖為自基板之邊緣所見的玻璃基板之堆疊的剖面圖，其中該等基板由間隔部件分隔。
第6圖為第5圖之玻璃基板之堆疊的側視圖，第6圖圖示該等間隔部件。
第7圖為第5圖之玻璃基板之堆疊的剖面邊視圖，第7圖圖示玻璃基板之間的隔室，該等隔室由該等間隔部件形成。
10．．．設備
12．．．玻璃基板
14．．．爐
16．．．內部爐壁
18．．．外部爐壁
20．．．絕緣材料
22．．．加熱元件
23．．．內部空間
24．．．第一側
26．．．第二側
28．．．搬運車
30．．．間隔部件
34．．．固定銷
36．．．第一複數個固定銷
38．．．第二複數個固定銷
40．．．偏壓組件
42．．．氣動控制閥
44．．．氣體供應管線
46．．．加壓氣源
48．．．電腦
52．．．控制管線
54．．．資料線
61．．．頂部部分
63．．．輪
64．．．軌道

Claims (24)

  1. 一種在一爐中熱處理複數個玻璃基板之方法，該方法包含以下步驟：在該複數個玻璃基板中之相鄰玻璃基板對之間設置至少一個間隔部件，該至少一個間隔部件包含一封閉的外部框架部分，該外部框架部分限定一開口內部，且其中該一或更多間隔部件之一CTE與該複數個玻璃基板之一CTE之間的一差異小於10×10-7/℃；在一支撐平臺上將該複數個玻璃基板支撐在一實質垂直方向上，其中用一偏壓力將該複數個玻璃基板與該至少一個間隔部件偏壓在一起呈一接觸關係，該至少一個間隔部件設置於相鄰玻璃基板之間；在該爐中對該複數個玻璃基板加熱；冷卻該複數個玻璃基板；以及其中該複數個玻璃基板在冷卻之後的一平面外變形不超過100μm。
  2. 如請求項1所述之方法，其中該至少一個間隔部件包含複數個間隔部件，該複數個間隔部件在每一對相鄰玻璃基板之間呈一垂直及/或水平陣列排列。
  3. 如請求項2所述之方法，其中該複數個間隔部件中之相鄰間隔部件在每一相鄰間隔部件之外部邊緣部分處彼此 接觸。
  4. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中將該複數個玻璃基板加熱至一溫度，該溫度高於該複數個玻璃基板之一退火點，且該溫度低於該複數個玻璃基板之一軟化溫度。
  5. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中將該複數個玻璃基板加熱至高於700℃之一溫度。
  6. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中該至少一個間隔部件為一玻璃或一玻璃陶瓷材料。
  7. 如請求項6所述之方法，其中該至少一個間隔部件為玻璃，且該間隔部件之該玻璃是與該複數個玻璃基板之一玻璃組成物相同的玻璃組成物。
  8. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中該等相鄰玻璃基板及設置於該等相鄰玻璃基板之間的該至少一個間隔部件形成一封閉空間，該封閉空間由該等相鄰玻璃基板及該至少一個間隔部件限定。
  9. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中該複數個玻璃基板中之每一玻璃基板之一主表面具有至少5m2的一 表面區域。
  10. 如請求項1所述之方法，其中：該爐包含：一第一側及一第二側；第一複數個固定銷，該第一複數個固定銷延伸穿過該爐之該第一側，該第一複數個固定銷經牢固地固持，以防止該第一複數個固定銷移動；第二複數個固定銷，該第二複數個固定銷延伸穿過該爐之該第二側，該第二組固定銷中之該每一固定銷可沿著每一固定銷之一縱軸移動；以及其中用該第二複數個固定銷對該複數個玻璃基板施加該偏壓力。
  11. 一種用於熱處理複數個玻璃基板之設備，該設備包含：一爐，該爐包含一外部圍壁、一內部圍壁、一第一側及一第二側；第一複數個固定銷，該第一複數個固定銷延伸穿過該爐之該第一側進入一內部空間，該內部空間由該爐界定，該第一複數個固定銷經限制以防止該等銷移動；以及第二複數個固定銷，該第二複數個固定銷延伸穿過該爐之該第二側，且該第二複數個固定銷中之每一固定銷可沿著該固定銷之一縱軸移動，且其中該第二複數個固定銷中之每一固定銷包含一偏壓組件，以對該複數個 玻璃基板施加一偏壓力。
  12. 如請求項11所述之設備，其中使該內部圍壁呈波紋狀。
  13. 如請求項11所述之設備，其中該第一複數個固定銷中之每一固定銷包含：一接觸部件，該接觸部件與該複數個玻璃基板中之一玻璃基板接觸；以及一延伸部件，該延伸部件耦接至該偏壓組件，且其中一接合部以可移動的方式連接該接觸部件與該延伸部件。
  14. 如請求項11所述之設備，其中該第二複數個固定銷中之每一固定銷包含：一接觸部件，該接觸部件與該複數個玻璃基板中之一玻璃基板接觸；以及一延伸部件，該延伸部件耦接至該偏壓組件，且其中一接合部以可移動的方式連接該接觸部件與該延伸部件。
  15. 如請求項11所述之設備，其中該偏壓組件包含氣壓缸。
  16. 如請求項11所述之設備，其中該偏壓組件包含彈簧。
  17. 如請求項11所述之設備，其中該第二組固定銷之一移動經控制以使得在該加熱期間，該第二複數個固定銷與該複數個玻璃基板中之一最外面的玻璃基板之間的接觸共平面。
  18. 如請求項11所述之設備，該設備進一步包含一導引部件，該導引部件延伸至該爐中，該導引部件將該複數個玻璃基板支撐在一垂直方向上，且其中當該複數個玻璃基板自該爐外部之一位置移動至該爐內部之一位置時，該複數個玻璃基板中之一玻璃基板與該導引部件滑動接觸。
  19. 如請求項11所述之設備，其中一位置感測器耦接至每一偏壓組件。
  20. 如請求項11所述之設備，該設備進一步包含一電腦，該電腦與每一偏壓組件進行電氣通訊，且其中該電腦個別地控制每一偏壓組件之一位置。
  21. 一種在一爐中熱處理複數個玻璃基板之方法，該方法包含以下步驟：在該複數個玻璃基板中之相鄰玻璃基板對之間設置至少一個間隔部件，該至少一個間隔部件包含一封閉的外部框架部分，該外部框架部分限定一開口內部，且其中該一或更多間隔部件之一CTE與該複數個玻璃基板之一CTE之間的一差異小於10×10-7/℃；在一支撐平臺上將該複數個玻璃基板支撐在一實質垂直方向上，該支撐步驟包含以下步驟： 將該複數個玻璃基板中之一第一最外面的玻璃基板與一第一複數個固定銷接觸，該第一複數個固定銷之每一固定銷經牢固地固持；將該複數個玻璃基板中之一第二最外面的玻璃基板與一第二複數個固定銷接觸，其中該第二複數個固定銷之每一固定銷可沿著該每一固定銷之一縱軸移動，且其中該第二複數個固定銷之每一固定銷施加一力至該第二最外面的玻璃基板；在該爐中對該複數個玻璃基板加熱；冷卻該複數個玻璃基板；以及其中該複數個玻璃基板在冷卻之後的一平面外變形不超過100μm。
  22. 如請求項21所述之方法，其中該第一複數個固定銷延伸穿過該爐之一第一側。
  23. 如請求項21或22所述之方法，其中該力是由一彈簧或一氣壓活塞所施加。
  24. 如請求項21至22之任一項所述之方法，其進一步包含以下步驟：在該複數個玻璃基板移動進或出該爐時，將該複數個玻璃基板之一玻璃基板與至少一引導部件接 觸。
TW100130750A 2010-08-30 2011-08-26 用於熱處理玻璃基板的設備與方法 TWI558674B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US12/871,204 US8826693B2 (en) 2010-08-30 2010-08-30 Apparatus and method for heat treating a glass substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201217282A TW201217282A (en) 2012-05-01
TWI558674B true TWI558674B (zh) 2016-11-21

Family

ID=45695331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW100130750A TWI558674B (zh) 2010-08-30 2011-08-26 用於熱處理玻璃基板的設備與方法

Country Status (6)

Country Link
US (2) US8826693B2 (zh)
JP (2) JP5844811B2 (zh)
KR (1) KR101862428B1 (zh)
CN (3) CN105271671B (zh)
TW (1) TWI558674B (zh)
WO (1) WO2012030703A2 (zh)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201406678A (zh) * 2012-07-23 2014-02-16 Corning Inc 用以加熱玻璃片的設備和方法
CN104487396A (zh) * 2012-08-09 2015-04-01 日本电气硝子株式会社 强化玻璃的制造方法及强化玻璃基板
FR3000502A1 (fr) * 2012-12-27 2014-07-04 Commissariat Energie Atomique Procede de traitement thermique d'une piece mince, notamment d'un composant optique mince
US9556055B2 (en) * 2013-04-30 2017-01-31 Corning Incorporated Method for reducing glass-ceramic surface adhesion, and pre-form for the same
US9382622B2 (en) 2013-12-06 2016-07-05 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Glass substrate for display and manufacturing method thereof
CN103676296B (zh) * 2013-12-06 2016-08-17 深圳市华星光电技术有限公司 用于显示器的玻璃基板及其制造方法
CN105960703B (zh) 2014-02-03 2019-12-03 Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 用于结合基体的方法及装置
US20150239767A1 (en) * 2014-02-26 2015-08-27 Corning Incorporated HEAT TREATING SILICA-TITANIA GLASS TO INDUCE A Tzc GRADIENT
CN106007351B (zh) * 2016-05-27 2018-09-11 昆山国显光电有限公司 玻璃装载装置、快速热处理设备及其支撑销的校准方法
CN108241787B (zh) * 2018-01-12 2022-05-03 哈尔滨理工大学 极端工况下静压回转工作台热特性研究方法
CN108256202B (zh) * 2018-01-12 2022-04-19 哈尔滨理工大学 静压支承旋转工作台对流换热系数计算方法
SG11202007984WA (en) * 2018-03-30 2020-09-29 Hoya Corp Annealing plate, method for manufacturing annealing plate, and method for manufacturing substrate
WO2020060773A1 (en) * 2018-09-19 2020-03-26 Corning Incorporated Alignment fixtures for aligning glass stacks and methods of ceramming glass stacks

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070267312A1 (en) * 2006-05-18 2007-11-22 Frank Thomas Coppola Methods and apparatus for heat treating glass sheets

Family Cites Families (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2389360A (en) * 1942-04-07 1945-11-20 Corning Glass Works Double glazed window and method of manufacture
US2521048A (en) * 1945-01-04 1950-09-05 Libbey Owens Ford Glass Co Method of fabricating glazing units
NL228634A (zh) * 1957-06-18
US3507737A (en) * 1966-01-03 1970-04-21 Owens Illinois Inc Art of sealing thermally crystallizable glass,and thermally crystallizable telescope mirror blank
JPS4625620Y1 (zh) * 1967-07-21 1971-09-03
US3637362A (en) 1968-09-16 1972-01-25 Libbey Owens Ford Co Method and apparatus for heat-treating glass sheets
US3697243A (en) * 1970-08-17 1972-10-10 Arvi Artama Furnace for heating and bending glass plates for windshields and the like
US3835753A (en) * 1972-09-19 1974-09-17 A Bunyard Air cylinder
US4017980A (en) * 1973-04-30 1977-04-19 Kleinguenther Robert A Apparatus and process for treating wood and fibrous materials
US4017293A (en) 1976-05-27 1977-04-12 Corning Glass Works Heat treating and sagging lens blanks
DE2901960C2 (de) * 1979-01-19 1982-06-09 Vereinigte Glaswerke Gmbh, 5100 Aachen Vorgespannte Silikatglasscheibe und ihre Verwendung
US4287990A (en) 1979-07-30 1981-09-08 Libbey-Owens-Ford Company Glass sheet shipping packages
US4311239A (en) 1980-04-21 1982-01-19 Corning Glass Works Television panel package
GB2094056B (en) * 1981-03-03 1985-08-21 English Electric Valve Co Ltd Photocathodes
DE3341207C1 (de) 1983-11-14 1984-10-04 VEGLA Vereinigte Glaswerke GmbH, 5100 Aachen Beschickungsvorrichtung fuer einen Horizontal-Durchlaufofen zum Erwaermen von Glasscheiben
FI71117C (fi) 1984-05-24 1986-11-24 Kyro Oy Anordning foer utjaemning av temperaturen av transportvalsarnai en glashaerdningsugn
JPS61247632A (ja) * 1985-04-25 1986-11-04 Seiko Epson Corp 熱処理装置用ボ−ト
US4643532A (en) * 1985-06-24 1987-02-17 At&T Bell Laboratories Field-assisted bonding method and articles produced thereby
US4632688A (en) 1985-11-08 1986-12-30 Libbey-Owens-Ford Company Apparatus and method for treating glass sheets
US4711281A (en) * 1986-03-05 1987-12-08 Michael Kessel Curved wood bending machine
FR2597090A1 (fr) 1986-04-09 1987-10-16 Saint Gobain Vitrage Amelioration aux techniques de chauffage de feuilles de verre
US4746348A (en) * 1986-12-29 1988-05-24 Ppg Industries, Inc. Horizontal press bending apparatus and method
US4756735A (en) * 1987-07-24 1988-07-12 Ppg Industries, Inc. In-lehr press bending
US4930634A (en) 1987-09-29 1990-06-05 Fluoroware, Inc. Carrier for flat panel displays
US4815601A (en) 1987-09-29 1989-03-28 Fluoroware, Inc. Carrier for flat panel displays
FR2623491B1 (fr) * 1987-11-20 1992-11-13 Saint Gobain Vitrage Procede et dispositif pour le bombage thermique du verre
FI83072C (fi) 1989-09-06 1991-05-27 Tamglass Oy Foerfarande och anordning foer att foerhindra boejningen av glasskivor i en med valsar foersedd ugn i en horisontalhaerdningsanordning.
FR2658499B1 (fr) 1990-02-21 1993-05-14 Saint Gobain Vitrage Int Four de rechauffage de feuilles de verre.
US5545245A (en) * 1992-02-06 1996-08-13 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Progressively angled and adjustable conveyor roll device for preliminarily bending sheet glass
JP3118789B2 (ja) * 1992-06-04 2000-12-18 日本電気硝子株式会社 ガラス板の徐冷方法
JPH06247730A (ja) * 1993-02-19 1994-09-06 Asahi Glass Co Ltd 板ガラスの徐冷法
JPH07109573A (ja) 1993-10-12 1995-04-25 Semiconductor Energy Lab Co Ltd ガラス基板および加熱処理方法
WO1995012552A1 (en) * 1993-11-05 1995-05-11 Owens Corning Method of making glass fiber insulation product
GB9416893D0 (en) * 1994-08-20 1994-10-12 Triplex Safety Glass Co Heating and bending glass sheets
US5605229A (en) 1995-02-27 1997-02-25 Illinois Tool Works Inc. Bulk vertical window package
US5641076A (en) 1995-05-09 1997-06-24 Woodland Engineering Company Storage rack for glass sheets
US5597395A (en) 1995-11-28 1997-01-28 Corning Incorporated Method for low temperature precompaction of glass
US5711778A (en) * 1996-05-07 1998-01-27 Corning Incorporated Method and apparatus for annealing glass sheets
IT1287941B1 (it) 1996-07-05 1998-08-26 Ianua Spa Forno per trattamenti termici di lastre di vetro
US5882371A (en) 1996-07-12 1999-03-16 Asahi Glass Company Ltd. Method for heat-treating a glass substrate
JPH10104564A (ja) * 1996-09-30 1998-04-24 Chuo Riken:Kk 焼成炉
US5813536A (en) 1996-11-07 1998-09-29 Menasha Corporation Packaging structure for a bundle of panels
US5803257A (en) 1996-11-07 1998-09-08 Menasha Corporation Panel crating structure
GB9701329D0 (en) 1997-01-23 1997-03-12 Merritt Adrian L Improvements in and relating to materials
JPH10310145A (ja) 1997-05-13 1998-11-24 Zeon Kasei Co Ltd 薄板用コンテナ
GB9713284D0 (en) * 1997-06-25 1997-08-27 Barron Michael S Improvements relating to glass sheet firing
DE19744666C1 (de) 1997-10-10 1999-06-17 Schott Glas Verfahren zum Vorverdichten von Flachglas
US6131411A (en) 1998-12-21 2000-10-17 Glasstech, Inc. Method and furnace for heating glass sheets
JP2000218245A (ja) * 1999-01-29 2000-08-08 Optrex Corp ガラス基板の蒸気乾燥装置
US6899946B2 (en) 2000-10-04 2005-05-31 Ppg Industries Ohio, Inc. Reusable restraint for securing articles for shipping and/or storage
JP4855569B2 (ja) 2000-10-20 2012-01-18 コーニング インコーポレイテッド ガラス基板を梱包するための容器
JP4357786B2 (ja) * 2001-03-16 2009-11-04 株式会社半導体エネルギー研究所 熱処理装置及び熱処理方法
ATE348080T1 (de) 2001-03-23 2007-01-15 Glaverbel Verfahren und vorrichtung zur erhitzung von glasscheiben in einem ofen
JP3690299B2 (ja) 2001-04-05 2005-08-31 松下電器産業株式会社 プラズマディスプレイパネルモジュールの包装方法
JP2003048733A (ja) * 2001-08-02 2003-02-21 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラス板用ホルダー
FI114631B (fi) 2001-10-01 2004-11-30 Tamglass Ltd Oy Menetelmä ja laite lasilevyjen lämmittämiseksi karkaisua varten
JP4105420B2 (ja) * 2001-10-30 2008-06-25 コーニング インコーポレイテッド ガラス熱処理システム
US7255899B2 (en) 2001-11-12 2007-08-14 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Heat treatment apparatus and heat treatment method of substrate
JP2003262469A (ja) * 2002-03-06 2003-09-19 Showa Mfg Co Ltd ガラス基板用熱処理装置
TWI268892B (en) 2002-06-26 2006-12-21 Asahi Glass Co Ltd Glass plate packing device and packing method, and package
JP2004250084A (ja) 2003-02-21 2004-09-09 Sharp Corp フレキシブル基板収納具及びフレキシブル基板収納方法
US6917755B2 (en) * 2003-02-27 2005-07-12 Applied Materials, Inc. Substrate support
US7448232B2 (en) 2003-03-31 2008-11-11 Glassrobots Oy Convection heating furnace for a tempered glass sheet
US20040195142A1 (en) * 2003-04-01 2004-10-07 Takayoshi Hayashi Packing of thin glass sheets
US20040237591A1 (en) 2003-05-28 2004-12-02 Glasstech, Inc. Furnace and method using electric resistance and forced convection for heating glass sheets
FI120451B (fi) 2003-06-24 2009-10-30 Uniglass Engineering Oy Menetelmä ja laitteisto lasin lämmittämiseksi
US7363777B2 (en) * 2004-03-05 2008-04-29 Corning Incorporated Closed cassette and method for heat treating glass sheets
JP2005335711A (ja) * 2004-05-24 2005-12-08 Dainippon Printing Co Ltd 架台
JP2006016265A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd ガラス定盤の歪み除去方法
US7201965B2 (en) * 2004-12-13 2007-04-10 Corning Incorporated Glass laminate substrate having enhanced impact and static loading resistance
KR100939621B1 (ko) 2005-06-25 2010-02-02 엘지디스플레이 주식회사 카세트
JP4897256B2 (ja) * 2005-07-26 2012-03-14 昭和鉄工株式会社 加熱炉
JP2007030938A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板梱包装置
KR100684566B1 (ko) * 2005-09-07 2007-02-20 주식회사 테라세미콘 평판표시장치 열처리공정의 기판로딩용보트
JP5013039B2 (ja) * 2005-09-21 2012-08-29 日本電気硝子株式会社 板ガラスの熱処理方法及び熱処理装置並びに熱処理用治具
JP4168452B2 (ja) * 2006-03-07 2008-10-22 株式会社Ｉｈｉ 水蒸気アニール用治具、水蒸気アニール方法及び基板移載装置
US7717025B2 (en) * 2006-03-27 2010-05-18 Timothy David Webster Fluid actuator with limit sensors and fluid limit valves
DE102006032047A1 (de) * 2006-07-10 2008-01-24 Schott Ag Verfahren zur Herstellung optoelektronischer Bauelemente und damit hergestellte Erzeugnisse
US9108775B2 (en) 2007-01-09 2015-08-18 Guardian Industries Corp. Spacer separation for coated glass sheets such as first surface mirrors
US20080185309A1 (en) 2007-02-06 2008-08-07 Grigsby John M Glass pack
JP4556962B2 (ja) * 2007-03-14 2010-10-06 コニカミノルタオプト株式会社 ブランク材の残留応力を低減する方法、ブランク材及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法
JP4987539B2 (ja) * 2007-03-29 2012-07-25 株式会社九州日昌 加熱装置
US7815056B2 (en) 2007-05-08 2010-10-19 Corning Incorporated Support apparatus to maintain physical geometry of sheet glass and methods of using same
KR100942066B1 (ko) * 2008-04-30 2010-02-11 주식회사 테라세미콘 홀더 스테이지
CN201321216Y (zh) 2008-10-30 2009-10-07 富阳光电股份有限公司 易碎板片包装保护装置改良结构
CN102603176B (zh) * 2012-03-23 2015-01-28 杭州精工机械有限公司 钢化玻璃水平热浸引爆炉
KR101217638B1 (ko) 2012-11-06 2013-01-22 (주)앤피에스 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070267312A1 (en) * 2006-05-18 2007-11-22 Frank Thomas Coppola Methods and apparatus for heat treating glass sheets

Also Published As

Publication number Publication date
TW201217282A (en) 2012-05-01
KR101862428B1 (ko) 2018-05-29
JP6042945B2 (ja) 2016-12-14
JP5844811B2 (ja) 2016-01-20
CN103069329A (zh) 2013-04-24
WO2012030703A2 (en) 2012-03-08
JP2013538175A (ja) 2013-10-10
CN105271671A (zh) 2016-01-27
KR20130106386A (ko) 2013-09-27
US8826693B2 (en) 2014-09-09
CN103069329B (zh) 2016-04-20
CN105271671B (zh) 2018-02-06
US20120047954A1 (en) 2012-03-01
CN104986950B (zh) 2017-05-31
JP2015214482A (ja) 2015-12-03
WO2012030703A3 (en) 2012-04-26
CN104986950A (zh) 2015-10-21
US20150013392A1 (en) 2015-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI558674B (zh) 用於熱處理玻璃基板的設備與方法
JP6910299B2 (ja) ガラス基板およびそれを備えたディスプレイ装置
JP3881062B2 (ja) 基板保持機構および基板処理装置
KR101552075B1 (ko) 정확한 유리 시트 밴딩을 위한 방법 및 시스템
TWI525052B (zh) 用於薄玻璃片之對流加熱處理的方法及設備
JP2007284766A (ja) 縦型プラズマｃｖｄ装置
TW201802869A (zh) 基板貼合裝置及基板貼合方法
JP5013039B2 (ja) 板ガラスの熱処理方法及び熱処理装置並びに熱処理用治具
KR100942066B1 (ko) 홀더 스테이지
KR101284065B1 (ko) 인라인 열처리 장치
TWI690498B (zh) 玻璃基板的熱處理方法
WO2023282262A1 (ja) ガラス板、円板状ガラス、磁気ディスク用ガラス基板、およびガラス板の製造方法
CN105217942B (zh) 玻璃基板的制造方法及玻璃基板
TWI679174B (zh) 玻璃基板的熱處理方法以及玻璃基板的製造方法
JP2002170865A (ja) シリコンウェーハ熱処理用３点支持具の配置方法
US20050092026A1 (en) Curved support fixtures for shape control
JPH08195333A (ja) 単結晶シリコン積層構造体の無歪み接合方法
TWI439586B (zh) 晶棒表面之調質方法及其晶棒
JP4340461B2 (ja) 表示装置の製造方法
JP2004281669A (ja) 熱処理装置
JPWO2004001835A1 (ja) 熱処理装置、基板の製造方法及び半導体デバイスの製造方法
JP2016124747A (ja) ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置
JP2016124746A (ja) ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置
JPH0239549A (ja) 半導体ウエハの支持方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees