KR101552075B1 - 정확한 유리 시트 밴딩을 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은 유리 시트의 연화 온도에 가까운 온도로 유리 시트를 가열하기 위한 오븐을 포함하는 유리 시트를 정확하게 밴딩하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 스테이지는 상기 유리 시트를 지지한다. 상기 스테이지 상의 한 쌍의 기준면은 그 스테이지 상에 유리 시트를 정확하게 위치시킨다. 유리 시트의 에지부를 밴딩하기 위해 오븐 내측의 한 쌍의 아암 상에 적어도 하나의 밴딩 메카니즘이 배치된다. 아암 상의 안쪽으로 면하는 제1정지면은 스테이지 및 유리 시트에 대해 아암 상에 밴딩 메카니즘을 정확하게 위치시키기 위해 스테이지 상에 기준면과 접촉한다.

Description

정확한 유리 시트 밴딩을 위한 방법 및 시스템{PROCESS AND SYSTEM FOR PRECISION GLASS SHEET BENDING}

본 출원은 35 U.S.C.§120 하에 2011년 11월 23일 출원된 미국 출원 제13/303,685호를 우선권 주장하고 있으며, 상기 특허 문헌의 내용은 참조를 위해 본 발명에 모두 포함된다.

본 발명의 분야는 유리 시트의 높은 정확한 밴딩을 위해, 특히 비교적 높은 열팽창계수(CTE; coefficient of thermal expansion)를 갖는 대면적 유리 시트의 대향하는 에지부들의 국소의 높은 온도로 높은 정확한 밴딩을 위해, 대면적 유리 시트를 지지하고 정확하게 위치시키기 위한 장치에 관한 것이다.

종종 전자 장치들은 전면에 대한 내충격성 및 내스크래치성을 제공하는 보호 커버 유리, 디스플레이 또는 그러한 장치의 터치 콘트롤부를 포함한다. 셀 폰(및 다른 휴대용 장치), LCD 평판 패널 텔레비젼, 및 가전제품들과 같은 전자 장치들은 깨끗하고, 광택이 나고, 이음매가 없으며, 그리고/또 테두리가 없는 디자인을 제공하는 에지 투 에지(edge to edge) 투명 전면 커버를 지향하는 추세이다.

본원에 인용된 모든 참조가 종래기술을 구성한다는 것을 인정하지 않는다. 출원인은 소정 인용된 문헌들의 정확성 및 적절성에 대해 조사할 권리를 분명히 갖고 있다.

본 발명은 유리 시트를 정확하게 밴딩하기 위한 방법 및 시스템을 제공하기 위한 것이다.

본 발명의 실시예들은 실온에서 완전히 알려진 기준 형태의 큰 유리 시트를 지지하는 한편 높은 유리 리포밍(reforming) 또는 밴딩 온도(처리 온도)로 유리 시트를 가열하는 비변형 캐리어의 디자인 및 사용에 기초하여 개시하고 있다.

상기 캐리어는 낮은 열팽창을 제공하며 상기 캐리어가 비변형 베어링면을 제공할 수 있게 하는 20-750℃ 범위의 본질적으로 비탄력성의 기계적 지지부를 제공한다. 또한 상기 캐리어는 모든 리포밍 열 사이클 동안 공지된 캐리어 상에 유리 시트를 정확하게 정렬시키기 위해 캐리어 상에 레지스트레이션 지점(registration point)에 레지스트레이션 표면을 포함한다. 또한 상기 캐리어는 밴딩 메카니즘의 정확한 국소 레지스트레이션을 제공하기 위해 에지 밴딩 메카니즘과의 인터페이스를 제공한다. 상기 캐리어는 밴딩 장치 이송 시스템과 체결하기 위한 금속 프레임 및 유리 시트를 지지 및 몰딩하기 위한 비변형 플레이트 또는 몰드를 포함한다. 상기 몰드는 낮은 열팽창을 가지면서 20℃ 내지 750℃ 범위에서 본질적으로 비탄력적인 유리 세라믹 또는 실리콘 카바이드와 같은 다양한 재료로 이루어질 것이다.

본 발명의 일 실시예는 유리 시트를 정확하게 밴댕하기 위한 장치에 관한 것이다. 상기 장치는 유리 시트의 어닐링 온도에 가깝거나 그보다 높은 온도로 유리 시트를 가열하기 위한 오븐을 포함한다. 스테이지는 유리 시트를 지지하기 위한 상부 지지면, 제1에지, 대향의 제2에지, 및 스테이지의 제1에지의 단부에 인접한 스테이지의 제1에지 상의 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제1기준면을 갖춘다. 한 쌍의 제1아암은 상기 오븐의 제1측면으로부터 상기 오븐 내로 확장하는 내측 단부, 상기 스테이지의 제1에지에 걸쳐 아래로 상기 스테이지 상의 유리 시트의 제1에지부를 밴딩하기 위한 상기 오븐 내측의 한 쌍의 제1아암의 내측 단부 상에 설치된 제1밴딩 메카니즘, 및 상기 한 쌍의 제1기준면에 반대로 각각의 제1아암의 내측 단부 근처에 제공된 안쪽으로 면하는 제1정지면을 갖춘다. 제2아암은 상기 오븐의 제2측면으로부터 상기 오븐 내로 확장하는 내측 단부, 및 상기 스테이지의 제2에지에 반대로 각각의 제2아암의 내측 단부 근처에 제공된 안쪽으로 면하는 제2정지면을 갖춘다. 제1이동 메카니즘은 상기 스테이지의 제1에지를 향해 안쪽으로 그리고 그 제1에지로부터 멀리 바깥쪽으로 상기 한 쌍의 제1아암을 이동시킨다. 상기 스테이지가 이 스테이지의 제1에지를 넘어 확장하는 밴드될 유리 시트의 제1에지부를 구비한 스테이지의 지지면 상에 지지된 밴드될 유리 시트를 포함한 오븐 내에 위치될 때, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 제1아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하고 상기 제2아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하며, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지는 정확하게 상기 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1 및 제2정지면으로부터 안쪽으로 확장하는 각각의 제1아암 및 제2아암의 내부 단부 상에 리프트 아암을 더 포함하는 장치에 관한 것이다. 상기 제1아암이 스테이지를 향해 안쪽으로 이동되고 상기 제2아암이 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동될 때, 상기 리프트 아암이 상기 스테이지의 하측을 체결하여 그 스테이지를 리프트하고, 이에 따라 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에 안착되고 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에서 자유롭게 이동 및 회전됨으로써, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉함에 따라, 모든 제1정지면이 제1기준면들과 접촉하고 모든 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 리프트 아암 상에서 이동 및 회전하며, 이에 의해 상기 스테이지의 제1에지 및 상기 유리 시트의 제1에지가 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 스테이지의 제2에지의 단부에 인접한 상기 스테이지의 제2에지지 상의 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제2기준면; 및 오븐 내측의 한 쌍의 제2아암의 내측 단부 상에 설치된 제2밴딩 메카니즘을 더 포함하는 장치에 관한 것이다. 상기 스테이지가 이 스테이지의 제1에지를 넘어 확장하는 밴드될 유리 시트의 제1에지부 및 상기 스테이지의 제2에지를 넘어 확장하는 밴드될 유리 시트의 제2에지부를 구비한 스테이지의 지지면 상에 지지된 밴드될 유리 시트를 포함한 오븐 내에 위치될 때, 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 제2정지면이 제2기준면과 접촉할 때까지 제1아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하고 제2아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하며, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지는 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며, 상기 유리 시트의 제2에지는 정확하게 제2밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제2밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 한 쌍의 제1아암 및 한 쌍의 제2아암의 적어도 하나가 스프링 로딩되며, 스프링 로딩 아암이 압축되어 스테이지의 에지 상에 압력을 인가할 때까지 제1아암 및 제2아암이 안쪽으로 이동되는 장치에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 상기 스테이지가 상기 스테이지의 제1에지와 상기 스테이지의 제2에지간 확장하는 제3에지, 상기 스테이지의 제3에지에 인접한 상기 스테이지의 지지면으로부터 위쪽으로 확장하는 제1레지스트레이션 요소, 및 상기 스테이지의 제3에지에 인접한 상기 스테이지의 지지면으로부터 위쪽으로 확장하는 제2레지스트레이션 요소를 더 포함하는 장치에 관한 것이다. 상기 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소는 상기 스테이지의 제1에지에 대해 원하는 방위로 지향된 기준 라인을 규정하기 위해 상기 스테이지 상에 위치된다. 이에 의해 밴드될 제1에지부를 갖는 유리 시트가 상기 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소 모두와 접촉하는 상기 제1에지로부터 확장하는 유리 시트의 기준 에지를 따라 지지면 상에 위치될 때, 상기 유리 시트의 제1에지부가 상기 스테이지의 제1에지와 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 상기 스테이지가 스테이지의 제3에지에 인접하여 설치되고, 지지면 상의 위치에 유리 시트를 클램핑하기 위한 클램프면을 구비한 클램프를 더 포함하는 장치에 관한 것이다. 이에 의해, 상기 유리 시트가 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소 모두와 접촉하는 상기 유리 시트의 기준 에지를 따라 지지면 상에 위치되고 상기 유리 시트 상의 기준 지점이 클램프면에 의해 스테이지 상의 위치에 정렬되어 클램프될 때, 상기 유리 시트는 스테이지의 제1에지와 정렬되고 상기 스테이지의 제1에지를 넘어 원하는 제1거리로 확장하는 상기 유리 시트의 제1에지부를 따라 상기 스테이지 상의 위치에 정확하게 위치되어 고정된다.

본 발명의 다른 실시예들은 클램프면이 2개 또는 그 이상의 분리 접촉면으로 형성되는 장치에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 스테이지의 제2에지의 각각의 단부에 인접한 상기 스테이지의 제2에지 상의 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제2기준면, 및 오븐 내측에 한 쌍의 제2아암의 내부 단부 상에 설치된 제2밴딩 메카니즘을 더 포함하는 장치에 관한 것이다. 유리 시트가 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소 모두와 접촉하는 유리 시트의 기준 에지를 따라 지지면 상에 위치되고 상기 유리 시트 상의 기준 지점이 클램프면에 의해 상기 스테이지 상의 위치에 클램프될 때, 상기 유리 시트가 상기 스테이지의 제1에지와 정렬되고 그 제1에지를 넘어 원하는 제1거리로 확장하는 상기 유리 시트의 제1에지부 및 상기 스테이지의 제2에지와 정렬되고 상기 제2에지를 넘어 원하는 제2거리로 확장하는 상기 유리 시트의 제2에지부에 따라 상기 스테이지 상의 위치에 정확하게 위치되어 고정되며; 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 제2기준면과 접촉할 때까지 상기 제1아암이 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동되고 제2아암이 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동될 때, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지는 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며, 상기 유리 시트의 제2에지는 정확하게 제2밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제2밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1밴딩 메카니즘 및 제2밴딩 메카니즘 각각이 스테이지의 제1에지 및 제2에지 중 대응하는 어느 하나에 걸쳐 아래로 유리 시트의 대응하는 제1에지부 및 제2에지부를 푸쉬하여 밴드시키기 위한 바이어싱 장치를 포함하는 장치에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1밴딩 메카니즘 및 제2밴딩 메카니즘 각각이 유리 시트의 대응하는 제1에지부 및 제2에지부를 유리의 어닐링 온도와 연화 온도 사이의 온도와 같은 유리 시트의 연화 온도에 가까운 온도로 가열하기 위한 국소 가열 장치를 포함하는 장치에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1 및 제2정지면으로부터 안쪽으로 확장하는 각각의 제1아암 및 제2아암의 내부 단부 상에 리프트 아암을 더 포함하는 장치에 관한 것이다. 상기 제1아암이 스테이지를 향해 안쪽으로 이동되고 상기 제2아암이 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동될 때, 상기 리프트 아암이 상기 스테이지의 하측을 체결하여 그 스테이지를 리프트하고, 이에 따라 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에 안착되고 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에서 자유롭게 이동 및 회전됨으로써, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉함에 따라, 모든 제1정지면이 제1기준면들과 접촉하고 모든 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 리프트 아암 상에서 이동 및 회전하며, 이에 의해 상기 스테이지의 제1에지 및 상기 유리 시트의 제1에지가 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며, 상기 스테이지의 제2에지 및 상기 유리 시트의 제2에지가 정확하게 제2밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제2밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 유리 시트의 적어도 하나의 에지부를 정확하게 밴딩하는 방법에 관한 것이며, 상기 방법은: 제1에지 및 대향의 제2에지를 갖는 스테이지의 지지면 상에 유리 시트를 위치시키는 단계(상기 유리 시트의 제1에지부는 상기 스테이지의 제1에지부를 넘어 확장하고, 상기 스테이지의 제1에지는 공간 이격된 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제1기준면을 갖춤); 상기 한 쌍의 제1기준면 반대로 공간 이격된 안쪽으로 면하는 한 쌍의 제1정지면을 갖추고, 상기 스테이지의 제1에지에 걸쳐 아래로 스테이지 상의 유리 시트의 제1에지부를 밴딩하기 위한 오븐 내측에 길게 뻗은 제1밴딩 메카니즘을 제공하는 단계; 상기 스테이지의 제2에지 반대로 공간 이격된 안쪽으로 면하는 한 쌍의 제1정지면을 제공하는 단계; 그 위에 유리 시트를 지지한 스테이지를 밴딩 오븐 내에 위치시키고 상기 유리 시트의 어닐링 온도와 연화 온도 사이의 처리 온도로 상기 유리 시트를 가열하는 단계; 및 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉되고 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉될 때까지 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 제1밴딩 메카니즘을 이동시켜 상기 제2정지면을 이동시키는 단계를 포함하며, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면들 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지부는 정확하게 상기 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1가열 장치로부터 안쪽으로 확장하는 공간 이격된 한 쌍의 제1리프트 아암 및 제2정지면으로부터 안쪽으로 확장하는 공간 이격된 한 쌍의 제2리프트 아암을 제공하는 단계; 및 제1정지면이 제1기준면과 접촉되고 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉될 때까지 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 제1밴딩 메카니즘을 이동시켜 제2정지면을 이동시키는 단계를 더 포함하는 방법에 관한 것이며, 리프트 아암들이 상기 스테이지의 하측을 체결하여 그 스테이지를 리프트하고, 이에 따라 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에 안착되고 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에서 자유롭게 이동 및 회전됨으로써, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉함에 따라, 모든 제1정지면이 제1기준면들과 접촉하고 모든 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 리프트 아암 상에서 이동 및 회전하며, 이에 의해 상기 스테이지의 제1에지 및 상기 유리 시트의 제1에지가 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1에지 및 대향의 제2에지를 갖는 스테이지의 지지면 상에 유리 시트를 위치시키는 단계(상기 유리 시트의 제1에지부는 상기 스테이지의 제1에지를 넘어 확장하고 상기 유리 시트의 제2에지부는 상기 스테이지의 제2에지를 넘어 확장하며, 상기 스테이지의 제1에지는 공간 이격된 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제1기준면을 갖추고 상기 스테이지의 제2에지는 공간 이격된 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제2기준면을 갖춤); 상기 스테이지의 제2에지에 걸쳐 아래로 스테이지 상의 유리 시트의 제2에지부를 밴딩하기 위한 오븐 내측에 길게 뻗은 제2밴딩 메카니즘을 제공하는 단계(상기 제2밴딩 메카니즘 상에 제2정지면이 위치됨); 및 제1정지면이 제1기준면과 접촉되고 제2정지면이 제2기준면과 접촉될 때까지 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 제1밴딩 메카니즘 및 제2밴딩 메카니즘을 이동시키는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이며, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지는 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며, 상기 유리 시트의 제2에지는 정확하게 제2밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제2밴딩 메카니즘과 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 스테이지가 이 스테이지의 제1에지와 제2에지간 확장하는 제3에지를 더 포함하는 방법에 관한 것이다. 상기 방법은 상기 스테이지의 제3에지에 인접한 상기 스테이지 상에 제1레지스트레이션 지점 및 제2레지스트레이션 지점을 제공하는 단계를 포함하며, 제1레지스트레이션 지점 및 제2레지스트레이션 지점이 스테이지의 제1에지에 대해 원하는 방위로 지향된 기준 라인을 규정한다. 상기 방법은 상기 제1레지스트레이션 지점 및 제2레지스트레이션 지점 모두와 정렬된 유리 시트의 기준 에지에 따라 상기 스테이지 상에 유리 시트를 위치시키는 단계를 포함하며, 상기 유리 시트의 제1에지부는 상기 스테이지의 제1에지와 정렬된다.

본 발명의 다른 실시예들은 스테이지 상에 제3레지스트레이션 지점을 제공하는 단계; 제1레지스트레이션 지점 및 제2레지스트레이션 지점 모두와 정렬된 유리 시트의 기준 에지, 및 유리 시트 상의 제3레지스트레이션 지점과 정렬된 유리 시트의 기준 지점에 따라 상기 스테이지 상에 유리 시트를 위치시키는 단계(상기 유리 시트는 스테이지의 제1에지와 정렬되고 상기 스테이지의 제1에지를 넘어 원하는 제1거리로 확장하는 상기 유리 시트의 제1에지부 및 상기 스테이지의 제2에지와 정렬되고 상기 스테이지의 제2에지를 넘어 원하는 제2거리로 확장하는 상기 유리 시트의 제2에지부를 따라 상기 스테이지 상의 위치에 정확하게 위치되어 고정됨); 및 제3기준 지점에서 상기 스테이지에 대해 유리 시트를 클램핑하는 단계를 더 포함하는 방법에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1밴딩 메카니즘 및 제2밴딩 메카니즘 각각이 스테이지의 제1에지 및 제2에지 중 대응하는 어느 하나에 걸쳐 아래로 유리 시트의 대응하는 제1에지부 및 제2에지부를 푸쉬하여 밴드시키기 위한 바이어싱 장치를 포함하는 방법에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1밴딩 메카니즘 및 제2밴딩 메카니즘 각각이 유리 시트의 대응하는 제1에지부 및 제2에지부를 처리 온도로 가열하기 위한 국소 가열 장치를 포함하는 방법에 관한 것이다.

본 발명의 다른 실시예들은 제1가열 장치로부터 안쪽으로 확장하는 공간 이격된 한 쌍의 제1리프트 아암 및 제2가열 장치로부터 안쪽으로 확장하는 공간 이격된 한 쌍의 제2리프트 아암을 제공하는 단계; 및 제1정지면이 제1기준면과 접촉되고 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉될 때까지 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 제1밴딩 메카니즘을 이동시켜 제2밴딩 메카니즘을 이동시키는 단계를 더 포함하는 방법에 관한 것이며, 리프트 아암들이 상기 스테이지의 하측을 체결하여 그 스테이지를 리프트하고, 이에 따라 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에 안착되고 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에서 자유롭게 이동 및 회전됨으로써, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉함에 따라, 모든 제1정지면이 제1기준면들과 접촉하고 모든 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 리프트 아암 상에서 이동 및 회전하며, 이에 의해 상기 스테이지의 제1에지 및 상기 유리 시트의 제1에지가 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며, 상기 스테이지의 제2에지 및 상기 유리 시트의 제2에지가 정확하게 제2밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제2밴딩 메카니즘과 정렬된다.

다른 실시예들은 밴드되는 유리 시트가 기준 CTE×D×ΔT≥2×ST를 만족하며, 여기서 상기 CTE는 유리 시트의 열팽창계수이고, D는 유리 시트의 최대 크기이고, ΔT는 유리 시트의 밴딩 동안 유리 시트의 온도 변화이며, ST는 밴드된 유리 시트에 대한 특정 공차이다.

추가의 특징 및 장점들은 이하의 상세한 설명에 의해 기술되며, 그 일부는 당업자라면 그 설명으로부터 용이하게 알 수 있거나 부가의 도면 뿐만 아니라 기술된 상세한 설명 및 그 청구항에 기술된 바와 같은 실시예들을 실시함으로써 명확히 알 수 있을 것이다.

상술한 일반적인 설명 및 이하의 상세한 설명은 예시일 뿐이며, 청구항의 성질 및 특성을 이해하기 위한 개관 또는 기초를 제공하기 위한 것이다.

수반되는 도면들은 이해를 좀더 돕기 위해 제공된 것이며, 본 명세서에 통합되어 일부를 구성한다. 그러한 도면들은 하나 이상의 실시예(들)를 기술하며, 상세한 설명과 함께 다양한 실시예들의 원리 및 동작을 설명하기 위해 제공된다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 밴드된 유리 시트의 개략 에지도이고;
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 컨베이어 및 밴딩 오븐(bending oven)의 개략 측면도이고;
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 레지스트레이션 캐리어(registration carrier)의 사시 상면도이고;
도 4는 도 3의 레지스트레이션 캐리어의 확대 개략 평면도이고;
도 5는 밴딩 오븐의 밴딩 존에서의 레지스트레이션 캐리어의 확대 개략 측면도이고;
도 6은 밴딩 오븐의 밴딩 존에서의 레지스트레이션 캐리어의 확대 개략 평면도이고;
도 7은 도 3의 레지스트레이션 캐리어의 사시 하면도이고;
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 컨베이어 및 도 3의 레지스트레이션 캐리어의 일부 확대 사시도이고;
도 9 내지 11은 가열 및 밴딩 장치 위치맞춤 메카니즘 실시예의 동작을 기술하는 밴딩 오븐에서의 레지스트레이션 캐리어의 일부 측면도이고;
도 12는 도 7 내지 11에 나타낸 바와 같은 시스템 상에서의 열팽창 효과의 개략도이며;
도 13은 도 7 내지 11에 나타낸 바와 같이 이루어지지 않은 시스템 상에서의 열팽창 효과의 개략도이다.

도 1은 전자 장치 또는 아키텍처 구성요소를 위한 페시아(fascia) 또는 유리 커버로서 사용되는 성형 또는 형태된 유리 제품(1) 실시예의 개략도(일정 비율로 도시하지 않음)이다. 그와 같은 유리 커버(1; 또는 커버 유리)는 후방 확장 측면(3, 5)들 및 통상 평평한 중심 전면 패널부(7)를 갖도록 몰딩, 밴딩 또는 새깅(sagging)에 의해 형태된다. 그러한 유리 페시아의 중심, 측면 및 내부는 실질적으로 평탄한/평평한 구성이 되거나, 또는 약간 굴곡/구부려지거나 아니면 다른 형태가 될 수 있다.

전자 디스플레이 또는 터치 콘트롤을 구비한 장치들을 위한 유리 커버는, 이들 장치에 대한 향상된 광학 및 터치 성능 뿐만 아니라, 향상된 내균열성 및 내스크래치성을 갖는 박막의 가벼운 유리 커버를 제공하기 위해, 코닝 인코포레이티드의 Gorilla^® 유리와 같은 이온 교환 프로세스를 이용하여 화학적으로 강화된 박막 유리로 형성되는 것이 증가하고 있다. 통상 이온 교환가능 유리들은 비이온 교환가능 프로세스보다 상대적으로 더 높은 CTE를 갖는다. 이온 교환가능 유리는 예컨대 70×10^-7 C^-1 내지 90×10^-7 C^{- 1}정도의 높은 CTE를 갖는다. 박막 유리 시트는 약 1.5 mm까지, 약 1 mm까지, 약 0.7 mm까지의 두께를 갖거나, 또는 약 0.5 mm 내지 약 1.5 mm의 범위, 또는 약 0.5 mm 내지 0.7 mm의 범위의 두께를 갖는다.

±0.5 mm 이하의 어셈블리 공차가 전자장치 또는 다른 장치에 대해 원하는 품질 모양, 감촉, 적합성 및 끝 마무리를 제공하기 위해 종종 필요하다. 비교적 높은 CTE 또는 비교적 큰 유리 시트, 예컨대 1 m 이상의 크기를 갖는 이온 교환가능 유리 시트를 고온으로 국소의 높은 정밀한 밴딩을 수행할 때 그와 같은 공차를 이루는 것이 어렵다. 원하는 형태로 밴드되거나 형성될 수 있는 지점에 대해 유리를 연화시키는 온도로 비교적 큰 유리 시트 또는 비교적 높은 CTE의 유리 시트를 가열하면, 그러한 유리 시트는 한 방향 또는 그 이상의 방향으로 10 mm 정도로 확장될 것이다. 유리의 이러한 확장은 유리 시트를 가열 및 밴딩할 때 고정밀한 공차의 유지를 필요로 하게 한다. 밴드/성형된 유리에 대한 크기, CTE 및 고정밀한 공차들간 관계는 유리 시트의 밴딩/성형 동안 유리 시트의 CTE, 유리 시트의 최대 크기(D) 및 온도의 변화(ΔT)를 곱하는 것(CTE×D×ΔT)으로 표현될 것이다. CTE×D×ΔT가 밴드/성형된 유리 시트에 대한 특정 공차(ST)보다 2배 또는 그 이상이거나, 또는 4배 또는 그 이상이면(CTE×D×ΔT≥2×ST), 본원에 기술한 바와 같은 장치 또는 프로세스 없이 그와 같은 유리 시트의 높은 정확한 성형이 필요하게 될 것이다. 그러한 정확한 형태로 이온 교환가능 유리를 밴딩한 후, 유리는 유리 시트의 원하는 화학적 강화 또는 탬퍼링(tempering)을 제공하도록 이온 교환된다.

본 발명은 국소의 높은 온도 밴딩 프로세스를 이용하여 큰 유리 시트, 즉 비교적 높은 CTE 유리의 비교적 큰 시트, 특히 비교적 얇은 상대적으로 높은 CTE 시트의 정확한 형태화를 위한 해결책을 제공한다. 그러나, 본원에 기술한 정확한 캐리어 및 위치맞춤 장치가, 유리의 어닐링 온도와 연화 온도 사이의 온도와 같은 유리의 연화 온도에 가까운 온도로 밴드되는 유리 시트의 일부분을 바로 가열하는 국소 가열 유리 밴딩 프로세스 뿐만 아니라, 밴딩을 위한 실질적으로 일정한 온도로 전체 유리 시트를 가열하는 단일 존 가열 유리 밴딩 프로세스에 채용된다는 것을 알아야 할 것이다.

"후방" 또는 "하향"과 같은 용어들은 본 상세한 설명 및 부가의 청구항들의 설명의 편리성을 위해 사용되며 유리 시트, 또는 다른 요소들의 소정 방향이나, 또는 유리의 밴딩 방향을 필요로 하는 것으로 해석되지 않는다.

유리 시트와 관련하여 본 상세한 설명 및 부가의 청구항들에 사용된 바와 같은 용어 "비교적(또는 상대적으로) 큰" 또는 "큰"은 적어도 한 방향으로 1 m 이상의 크기를 갖는 유리 시트를 의미한다.

유리 또는 유리 시트와 관련하여 본 상세한 설명 및 부가의 청구항에 사용된 바와 같은 용어 "비교적(또는 상대적으로) 높은 CTE" 또는 "높은 CET"는 적어도 70×10^-7 C^-1의 CTE를 갖는 유리 또는 유리 시트를 의미한다.

유리 시트와 관련하여 본 상세한 설명 및 부가의 청구항에 사용된 바와 같은 용어 "비교적(또는 상대적으로) 얇은" 또는 "얇은(또는 박막의)"은 약 1 mm까지, 약 0.7 mm까지의 두께를 갖거나, 또는 약 0.5 mm 내지 약 1 mm의 범위, 또는 약 0.5 mm 내지 약 0.7 mm의 범위를 갖는 유리 시트를 의미한다.

평평한 유리 시트를 원하는 형태로 국소적으로 밴딩 또는 성형하기 위해, 그 유리 시트는 통상 프레임 또는 몰드 상에 지지된다. 다음에, 상기 유리 시트 및 몰드는 밴딩 노(bending furnace)에 배치되며, 상기 밴딩 노는 유리의 어닐링 온도와 연화 온도 사이의 온도로 가열된다. 다음에, 상기 유리 시트는 예컨대 그 자체 중량에 의해 몰드의 형태로 변형되도록 축 늘어지(sag)거나, 또는 힘이 상기 유리 시트의 변형을 돕기 위해 유리 시트에 인가될 수 있다. 다음에, 상기 유리 시트는 냉각되어 밴딩 노에서 제거되며, 그 유리 시트는 몰드로부터 제거된다.

도 2에 개략적으로 나타낸 바와 같이, 연속 형태로 다수의 유리 시트(1)를 형성하기 위해, 직렬 형태로 길게 뻗은 밴딩 노(21)를 통해 몰드 상에 위치된 다수의 유리 시트(1)를 이송하기 위한 연속 이동의 컨베이어(11) 상에 다수의 몰드(10)가 위치될 것이다. 유리 시트들은 실온에서 상기 밴딩 노로부터 상류로 몰드 상에 로딩된다. 상기 밴딩 노는 각각 다른 온도의 다수의 존들을 갖는다. 이들 존 중 첫번째 존은 유리 시트가 유리의 어닐링 온도에 가까운 온도로 가열되는 예열 존(23)이다. 그러한 예열 존은 상기 유리 시트를 서서히 가열시키기 위한 증분 온도의 다수의 예열 존(23a, 23b 등)들로 이루어진다. 그 다음 존은 밴딩 존(25)이며, 이 밴딩 존에서 유리 시트는 유리의 어닐링 온도와 연화 온도 사이의 온도와 같은 처리 온도 또는 밴딩 온도, 예컨대 약 600℃의 온도로 이끌어진다. 상기 밴딩 존(25)은 프레임의 형태를 취할 때까지 중력에 의해 유리 시트를 점차적으로 밴드시키기에 충분한 시간을 제공하도록 충분히 길다. 선택적으로, 좀더 빠르게 유리 시트(1)를 밴드시키기 위해 유리 시트의 에지부에 힘이 인가될 수 있다. 다음에, 상기 유리 시트는 실온으로 냉각 존(27)에서 냉각되고 그러한 터널식 노의 출력단을 빠져 나간다. 선택적으로 상기 유리 시트는 밴딩 오븐에서 그러한 냉각 존의 필요성을 없애 대기에서 냉각될 수 있다. 다음에, 성형되어 냉각된 그러한 유리 시트(1)는 오분으로부터 하류로 상기 몰드(10)로부터 제거된다.

높은 공차로 유리 시트(1)의 밴드부(3 및 5)들을 정확하게 형성하기 위해, 상기 유리 시트(1)는 몰드(10) 상에 정확하게 위치되어 예열 및 밴딩 프로세스에 걸쳐 정확한 위치를 유지해야 한다. 앞서 기술한 바와 같이, 밴딩 또는 처리 온도, 예컨대 적어도 600℃의 온도로 비교적 큰 또는 비교적 높은 CTE의 유리 시트를 가열하면, 그 유리 시트는 하나 또는 그 이상의 방향으로 10 mm 정도로 확장할 것이다. 가열하는 동안 유리 시트가 확장함에 따라, 그 유리 시트는 몰드(10) 상에서 어느 한쪽 또는 다른쪽 방향으로 시프팅(shifting)될 것이다. 이러한 시프팅의 결과, 상기 유리 시트(10)는 더 이상 몰드(10) 상에 정확하게 위치되어 있지 않으며, 도 1에 나타낸 바와 같이 예컨대 정확히 대칭적으로 밴드된 유리 시트(10)와 같이 원하는 형태로 정확하게 형태되지 않을 것이다.

도 3은 유리 시트(1)의 대향하는 측면 에지부(3, 5)들을 대칭적으로 밴딩시키기 위한 본원 실시예에 따른 레지스트레이션 캐리어(100) 상의 평탄한 평판 유리 시트(1)를 나타내며, 상기 유리 시트의 중심부(7)는 평평함을 유지한다. 상기 레지스트레이션 캐리어(100)는 이 레지스트레이션 캐리어 상에 유리 시트(1)를 정확하게 레지스터링(registering)/위치시켜, 유리 밴딩 프로세스에 걸쳐 상기 레지스트레이션 캐리어(100) 상의 이러한 위치에 유리 시트를 유지하도록 디자인된다. 상기 레지스트레이션 캐리어는 밴딩/처리 온도에서 안정한 열적 그리고 기계적 특성들을 갖는 스틸(steel), 예컨대 내화성 스틸 타입의 ASI 310으로 이루어진 베이스 또는 프레임(108) 상에 탑재된 몰드 또는 스테이지(107)를 포함할 것이다. 상기 유리 시트(1)는 경성 스테이지(107; rigid stage)의 대향의 에지(103, 105)들을 넘어 동일한 거리로 확장되는 유리 시트의 측면 에지부(3, 5)들을 구비한 상기 경성 스테이지(107) 상에 정확하게 배치(레지스트)된다.

상기 경성 스테이지는 유리 가열 및 밴딩 프로세스에 걸쳐 유리 시트의 평탄한 평면의 중심부(7)를 지지하기 위한 정확하게 형성 또는 기계가공된 경성의 실질적으로 변형가능한 탄성의 평탄한/평평한 상부 지지면을 갖는다. 그러나, 상기 스테이지는 선택적으로 상기 유리 시트의 중심부 또는 상기 유리 시트의 측면부들에 굴곡 또는 구부러짐을 주기 위해 굴곡 또는 구부러질 수 있다는 것을 알아야 한다. 그와 같이, 본원 및 부가의 청구항에 사용된 바와 같은 용어 "실질적으로 평평한"은 평평함 뿐만 아니라, 약간 굴곡 또는 구부러진 예컨대 100 cm까지의 반경을 갖는 하나 또는 그 이상의 방향으로 볼록한 또는 오목한 굽음을 의도하기 위한 것이다. 상기 스테이지의 에지(103, 105)들은 유리 시트의 에지부(3, 4)들의 원하는 굽음 또는 굴곡에 매칭시키키기 위해 정확하게 기계가공될 것이다. 유사하게, 상기 스테이지의 상부 표면의 에지 영역들은 곡선 또는 경사질 수 있는데, 예컨대 유리 시트의 에지부(3, 5)들에 원하는 형태를 주기 위해 경사 또는 굴곡의 에지부들을 가질 수 있다. 상기 스테이지는 프로세스에 걸쳐 완전 공지의 형태적으로 참조된 유리 시트에 대한 안정한 비변형성의 지지면을 제공하기 위해 낮은 열팽창계수(CTE)를 갖는 경성 재료로 형성될 것이다. 예컨대, 상기 스테이지는 10×10^-6 K^-1, 또는 6×10^-6 K^-1의 CTE를 갖는 재료로 형성될 수 있다. 상기 스테이지는 또한 그 스테이지에서 내구성 변형이 이루어지는 것을 피하기 위해 20℃ 내지 750℃ 범위에서 본질적으로 팽창될 수 있는 낮은 열적 팽창성을 갖는 다양한 재료들로 이루어질 수도 있다. 그와 같은 변형은 스테인레스 스틸과 같은 재료들이 사용되면 스테이지의 반복된 가열 및 냉각에 따른 열구배의 누적으로 인해 발생할 수 있다. 예컨대, 상기 스테이지는 세라믹, 유리-세라믹, 실리콘 카바이드(SiC)와 같은 내화성의 비금속 재료 또는 다른 경성의 비변형 재료로 형성될 수 있다. 상기 스테이지는 유리와 상기 스테이지간 열 전달을 최소화하기 위해 절연 재료로 형성될 것이다. 상기 스테이지는 또한 처리 동안 상기 스테이지의 열적 관성(thermal inertia)을 더 최소화하고 유리 시트 상에 그 스테이지의 열적 충격을 최소화하기 위해 1 cm 이하의 두께로 형성될 것이다.

이제 도 3의 레지스트레이션 캐리어(100)의 설명을 위한 개략 평면도인 도 4를 참조하여 레지스트레이션 캐리어(100)의 동작을 기술한다. 스테이지(107) 상의 정확한 위치에서의 유리 시트(1)의 레지스트레이션은 그 스테이지 상의 3개의 기준 지점(A, B, C)들을 이용하여 달성된다. 기준 지점 A는 측면 에지 103과 105간 정확히 중간에, 예컨대 스테이지의 양 측면 에지(103, 105)들로부터 동일한 거리인 위치에 위치된 고정의 기준 지점이다. 고정에 의해, 일단 유리 시트가 스테이지(107) 상에 정확하게 레지스터되면, 유리 시트의 에지(103, 105)들간 중간에 정확히 위치된 유리 시트 상의 대응하는 기준 지점(AG)은 레지스트레이션 캐리어의 기준 지점(A)에 레지스터되고 그 기준 지점에 대해 고정되어 유리 가열 및 밴딩 프로세스에 걸쳐 스테이지(107)에 대해 이동하지 않는다는 것을 의미한다. 기준 지점 B 및 C는 비고정 또는 이동의 기준 지점들이며, 이는 유리 시트(1) 상에 대응하는 지점 BG 및 CG가 가열 및 밴딩 프로세스 동안 유리 시트가 확장됨에 따라 레지스트레이션 캐리어 상의 기준 지점 B 및 C에 대해 이동하고 스테이지(107)에 대해 이동한다는 것을 의미한다.

기준 지점 B 및 C는 스테이지의 지지면으로부터 위쪽으로 확장되는 레지스트레이션 표면들 또는 요소(109a 및 109b)들로 규정된다. 상기 레지스트레이션 요소(109a, 109b)들은 실리케이트 알루미네이트, 또는 적절한 기계적 특성들 및 기계가공성을 갖는 다른 적절한 재료로 형성된 레지스트레이션 롤러 또는 레지스트레이션 포스트들로 형성될 것이다. 상기 레지스트레이션 롤러 또는 포스트들은 스테이지의 제1에지와 제2에지간 확장되는 스테이지의 제3에지에 인접한 상기 스테이지에 형성된 정확하게 배치된 구멍들에(즉, 상기 스테이지(107) 상에) 설치된다. 상기 롤러 또는 포스트들은 상기 스테이지의 에지(103, 105)들에 수직인 고정의 기준 라인(L)을 정확하게 규정하기 위해 지지면 상에 정확하게 위치된다. 클램프(113)는 상기 스테이지(107)의 에지(103, 105)들간 중간의 기준 지점(A)에 접촉 표면을 정확하게 위치시키기 위해 스테이지(107) 또는 프레임(108)에 정확하게 위치되어 부착된다. 상기 포스트 또는 롤러(109a, 109b)들, 클램프(113) 및 접촉 표면(111)들은 내화성 스틸(예컨대 타입 ASI 310) 또는 다른 적절한 재료로 형성될 것이다. 상기 스테이지(107)는 나타낸 직사각형 형태와 다른 형태로 형성될 수 있고, 상기 기준 라인(L)은 직각과 다른 각도로 스테이지의 에지들에 대해 지향될 수 있다는 것을 알아야 할 것이다. 더욱이, 상기 기준 지점 A, AG(및 3개의 클램프)는 스테이지의 각각의 에지 103, 105로부터 중심이 등거리로 위치되지 않을 수 있다.

레지스트레이션 캐리어(100) 상에 유리 시트(1)를 정확하게 위치시키기 위해, 상기 유리 시트(1)는 그 레지스트레이션 캐리어 상의 기준 라인(L)에 먼저 유리 시트의 에지(9)를 정확하게 레지스터링함으로써 레지스트레이션 캐리어의 스테이지(107) 상에 위치된다. 다음에, 그 유리의 기준 지점(AG)이 레지스트레이션 캐리어 상의 기준 지점(A)에 정확하게 레지스터된다. 유리 시트의 에지(9)를 기준 라인(L)에 레지스터하기 위해, 먼저 유리 시트(1)의 중심 위치(7)는 스테이지(107)의 에지(103, 105)들을 넘어 확장하는 유리 시트의 에지부(3, 5)들을 구비한 레지스트레이션 캐리어(100)의 경성 스테이지(107) 상에 평평하게 배치된다. 다음에, 상기 유리 시트(1)가 롤러(109a, 109b)들 쪽으로 스테이지 상으로 푸쉬/이동되고, 이에 따라 유리 시트(1)의 에지(9)가 상기 롤러(109a, 109b)들로 푸쉬되어 상기 롤러(109a, 109b)들의 둘레 표면들과 접촉한다. 상기 유리 시트(1)의 에지(9)는 이제 상기 롤러(109a, 109b)들에 의해 규정된 기준 라인(L)에 정확하게 레지스터된다. 다음에, 상기 유리 시트 상의 기준 지점(AG)이 레지스트레이션 캐리어 상의 기준 지점(A)에 정확하게 레지스터될 때까지, 상기 유리 시트의 에지(9)가 상기 롤러(109a, 109b)들과 접촉을 유지하면서, 도 3 및 4에 나타낸 바와 같이 상기 유리 시트는 스테이지 상의 좌측 또는 우측으로 이동한다. 상기 유리 시트의 에지(9)를 상기 롤러(또는 포스트)들과 접촉을 유지하는 것은 상기 유리 시트(1)가 스테이지(7) 상에서 이동됨에 따라 상기 유리 시트의 에지가 상기 기준 라인(L)과의 정확한 레지스트레이션을 유지하는 것을 보장한다. 일단 유리 시트 상의 지점(AG)이 기준 지점(A)에 정확하게 레지스터되면, 클램프의 접촉 표면(111)이 유리 시트의 상부 표면 아래로 프레스되어 상기 접촉 표면(111)과 스테이지(107) 사이에 유리 시트를 확고하게 클램프하도록 클램프(113)가 클로즈(close)된다. 따라서, 유리 시트 상의 기준 지점(AG)은 기준 지점(A)에 대해 그리고 스테이지(7)에 대해 클램프에 의해 확고하게 고정된다. 상기 유리 시트는 이제 롤러(109a, 109b)들 및 클램프(113)에 의해 레지스트레이션 캐리어(100)의 스테이지(107) 상의 정위치에 정확하게 위치되어 고정된다. 상기 롤러(109a, 109b)들에 대해 상기 유리 시트의 에지(9)를 프레스하기 위해 상기 유리 시트(1)의 대향 에지(8)에 선택적으로 바이어싱력(biasing force; 화살표 F)을 인가하는데, 이러한 바이어싱력은 상기 유리시트의 에지(9)가 기준 라인(L)과 레지스트레이션에 있어서 상기 롤러들과의 접촉을 유지하는 것을 보장한다.

유리 시트(1)의 외형, 광학 품질 및 구조적 무결성/강도를 유지하기 위해, 클램프(113)의 접촉 표면(111)에 의해 유리 시트의 표면을 손상시키는 것을 피하는 것이 중요하다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 접촉 표면이 2개의 분리된 공간적으로 이격된 접촉 표면(111)들로 갈라지도록 상기 클램프가 분기되거나 갈라질 것이다. 몇가지 목적이 그러한 접촉 표면(111)이 2개의 부분으로 갈라짐으로써 달성된다. 첫번째, 그러한 접촉 표면이 2개의 공간 이격된 접촉 표면들로 갈라지는 것은 유리 시트의 표면 상에 보다 큰 영역에 걸쳐 클램프에 의해 인가된 접촉력을 확산시킴으로써, 클램프에 의해 인가된 힘에 의해 야기된 유리 시트의 표면 변형을 최소화시킨다. 두번째, 단일의 큰 접촉 표면을 이용하는 것보다 오히려 접촉력을 확산시키기 위해 2개의 공간 이격된 비교적 작은 접촉 표면들을 이용하는 것은 클램프에 의해 접촉되는 유리 시트 상의 표면 영역을 최소화시킨다.

클램프의 접촉 표면과의 접촉에 의해 상기 유리 시트의 표면을 손상시키는 클램프에 의해 접촉되는 유리 시트의 영역을 최소화는 것이 중요하며, 이에 따라 유리 표면의 그와 같은 손상 또한 최소화된다. 상기 클램프와 유리 시트간 접촉 영역을 최소화하는 것은 또한 그러한 접촉 영역 근방에 열적 스트레스로 인한 유리의 굴곡 또는 굽음을 야기할 수 있는 클램프가 유리 시트 상에서 갖는 열적 충격을 최소화한다. 그러한 접촉 표면(111)들의 총 표면 영역은 유리 시트의 표면 상의 지속적인 마크 또는 변형을 방지하도록 총 접촉력에 따라 필요한 만큼 커질 것이다. 클램프에 의해 인가된 압력은 유리의 손상을 방지하기 위해 처리 온도에서의 유리의 점도에 따라 최소 10 g/cm²가 될 것이다. 클램프에 의해 인가된 접촉력에 따른 접촉 표면에 위한 적절한 표면 영역의 예는 2 내지 5 N의 접촉력과 관련된 총 클램프 표면 영역의 20 내지 50 cm²이다. 클램핑력(clamping force)은 고정된 정하중(dead loading; 예컨대, 클램프의 무게 또는 클램프 상의 무게)에 의해 제공되거나, 설정된 스프링력을 갖는 스프링에 의해 클램프를 클로징(closing)하거나 공압으로 클램프를 클로징하는 것에 의해 제공되거나, 또는 압력 제어에 따른 몇몇 다른 기계적 수단에 의해 제공될 수 있다. 그러한 접촉 표면(111)들은 기술된 2개의 접촉 표면(111)들과 달리 단일의 접촉 표면 또는 3개 또는 그 이상의 접촉 표면들로 선택적으로 형성될 수 있다. 상기 접촉 표면들은 예컨대 단일 지점, 즉 기준 지점(A)에 가까워지도록, 약 50 mm 이상 떨어지지 않고 서로 함께 충분히 클로즈될 것이다.

유리 시트(1)가 실온 근방에서 유리 시트의 밴딩 온도로 가열되면, 유리 시트는 그 길이방향 및 폭방향 크기로 10 mm까지 확장한다. 도 4의 실선(8, 9, 13, 15)들은 앞서 본원에 기술한 바와 같이 제일 먼저 레지스트레이션 캐리어(100) 상에 정확하게 위치될 때 유리 시트의 본래 크기를 나타낸다. 실선(9) 및 점선(8a, 13a, 15a)들은 상기 유리 시트가 밴딩 오븐에서 밴딩 온도로 가열된 후의 그 유리 시트(1)의 확장된 크기를 나타낸다. 상기 클램프(113) 및 롤러(109a, 109b)들은 각각 스테이지(107) 상의 기준 지점(A) 및 기준 라인(L)과 레지스트레이션으로 유리시트 및 이 유리 시트의 에지(9) 상에 기준 지점(AG)을 유지했다. 결과적으로, 유리 시트가 가열되어 확장됨에 따라, 유리 시트의 길이가 기준 지점(A, AG)의 양 측면들에서 동일하게 증가하며(예컨대, 13 및 15에서 13a 및 15a로), 그 유리 시트는 동일한 거리로 스테이지(107)의 에지들을 넘어 확장하는 에지부(3a, 5a)들로 스테이지(107) 상에 정확하게 대칭적으로 위치된다. 유리 시트의 부분(3, 3a 및 5, 5a)들이 각기 다른 거리로 스테이지(107)의 에지들을 넘어 확장하고, 이에 따라 밴딩 후 유리 시트가 대칭되지 않거나, 또는 그 유리 시트의 단일의 에지만이 밴딩될 수 있다는 것을 알아야 한다. 어떠한 경우, 밴딩 온도로 스테이지 상에 유리 시트의 위치(점선으로 나타낸)가 미리 공지되고 본원에 기술한 바와 같이 레지스트레이션 캐리어로 재생성될 수 있다.

앞서 본원에 기술한 바와 같이, 그 전체 유리 시트(1)는 단일의 가열 존 프로세스로 밴댕 존(25)에서 유리 시트의 어닐링 온도와 연화 온도 사이의 밴딩 온도로 가열될 것이다. 선택적으로, 예열 존(23) 및 밴딩 존(25)은 밴딩 온도 근처 온도이나 그 밴딩 온도 이하의 온도, 예컨대 유리의 어닐링 온도 이하의 온도로 밴딩 존에서 유리 시트를 가열하는 온도로 유지될 것이다. 다음에, 상기 밴딩 존(25)에서의 국소 가열 장치는 밴드될 유리 시트의 에지부(3, 5)들만을 밴딩 온도까지 가열한다. 선택적으로, 스테이지의 에지(103, 105)들에 걸친 유리 시트의 부분들만이 밴딩 온도로 가열되며, 유리 시트의 최외곽 에지부(3, 5)들은 유리의 밴딩 온도 이하를 유지한다. 유리 시트의 최외곽 에지부(3, 5)들 및 중심부(7)를 밴딩 온도 이하로 유지하는 것은 유리 시트의 이러한 부분들이 평탄함/평평함을 유지하고 밴드될 유리 시트의 부분들만이 가열되어 밴드되는 것을 보장한다. 어떤 경우, 그러한 밴드될 유리 시트의 부분(3a, 5a)들은, 개략적으로 도 2에 나타낸 바와 같이, 스테이지(107)의 에지(103, 105)들에 맞추어질 때까지 밴딩 온도로 가열되어 아래로 밴드된다. 유리 시트의 에지부(3a, 5a)들은 중력의 힘만으로 아래로 밴드될 것이다. 그러나, 비교적 얇은 유리 시트를 밴딩할 경우, 아래로 에지부들을 중력만으로 밴드시키는 것은 가벼운 유리 시트의 무게로 인해 느리기 때문에 불충분하여 바람직하지 않을 수 있다. 밴딩 존에서의 밴딩 프로세스의 속도 및 신뢰성을 향상시키기 위해 비교적 얇은 유리 시트의 에지부(3a, 5a)들에 힘을 인가하는 것이 효과적일 것이다.

밴딩 메카니즘이 유리 시트를 밴딩시키기 위해 국소 가열 및/또는 외력을 인가하도록 채용되면, 유리 시트의 에지부들에 대해 밴딩 메카니즘의 정확한 위치맞춤을 보장하기 위해 위치맞춤 또는 레지스트레이션 메카니즘이 제공될 필요가 있으며, 이에 따라 유리 시트가 원하는 고정밀한 공차로 밴드될 수 있다. 상기 밴딩 메카니즘은 국소 가열기 및/또는 힘 인가 장치를 포함할 것이다. 국소 가열기는, 유리 시트의 정확한 부분들을 밴딩 온도로 상승시키기 위해, 유리 시트(1)의 에지부(3a, 5a)들에 평행하게 그리고 그 에지부들에 대한 정확한 위치 및 거리로 정확하게 위치되어야 한다. 그러한 밴딩 온도로 유리 시트의 정확한 부분들의 가열 실패는 유리 시트를 정확하면서 균등하게 끝부분을 이루는 것을 실패하게 하고, 단지 중력만이 유리를 밴드시키거나 골절시키는데 채용되면 유리를 밴드시키는 것을 실패하게 하거나, 또는 힘 인가 장치(또는 밴딩 장치)가 채용되면 유리를 깨뜨릴 수 있다. 마찬가지로, 상기 힘 인가 장치는, 유리 시트의 정확한 밴딩을 보장하기 위해, 유리 시트(1)의 에지부(3a, 5a)들에 평행하게 그리고 그 에지부들로부터 정확한 거리에 정확하게 위치되어야 한다.

도 5 및 6은 밴딩 오븐의 밴딩 존(25)에서의 유리 시트(1)의 각각의 에지부(3a, 5a)들에 대해 국소 가열 장치 및/또는 밴딩 힘 인가 장치를 정확하게 위치시키기 위한 메카니즘(200)의 실시예를 개략적으로 나타낸다. 4개의 아암(210, 211 및 220, 221)들이 밴딩 오븐 외측에서 밴딩 오븐의 밴딩 존으로 확장한다. 상기 레지스트레이션 캐리어(100)의 한 측면 상의 아암(220, 221)들은 예컨대 스프링(265, 267)에 의해 스프링 로딩되거나, 또는 다른 공압 또는 유압식 충격 흡수 바이어싱 장치에 의해 로딩될 것이다. 예컨대 고정밀한 스테퍼 모터(stepper motor), 유압식 실린더 또는 공압식 실린더와 같은 소정의 적절한 이동 메카니즘(215, 217)이 레지스트레이션 캐리어(100) 쪽으로 그리고 레지스트레이션으로부터 멀리 이동하기 위한 밴딩 오븐 외측에 위치된다. 그러한 이동 메카니즘들은 실온에서 밴딩 존(25) 내측의 높은 밴딩 온도로부터 보호되는 위치에 있도록 그 밴딩 존 외측에 위치한다. 국소 가열기(212, 222) 및 힘 인가 장치(214, 224)들과 같은 성형 도구들은 상기 밴딩 오븐의 밴딩 존(25) 내측의 이동 아암들의 내측 단부들 상에 위치될 것이다. 상기 가열기(211)들은 복사 가열기들과 같은 소정의 적절한 국소 가열 장치들이 될 것이다. 상기 힘 인가 장치들은 기계적 푸셔(pusher) 또는 에어 노즐과 같은 소정의 적절한 국소 힘 인가 장치들이 될 것이다. 상기 가열 및 힘 인가 장치들은 유리 시트의 에지부(3a, 5a)들의 전체 길이에 작용하는 길게 뻗은 장치들이 될 것이다. 그러한 길게 뻗은 가열기(212, 222)들 및 힘 인가 장치(214, 224)들은 스테이지의 에지(103, 105)들에 평행한 아암들의 내측 단부들 상에 정확하게 설치된다. 상기 아암(210, 211)들은 스테이지(107) 쪽으로 그리고 그 스테이지로부터 멀리 동기화된 움직임을 위해 함께 연결될 것이다. 유사하게, 아암(220, 221)들은 상기 스테이지(107) 쪽으로 그리고 그 스테이지로부터 멀리 동기화된 움직임을 위해 함께 연결될 것이다. 또한, 상기 아암(220, 221)들의 움직임은 상기 아암(210, 211)들의 움직임과도 동기화될 것이다. 이러한 구성에 따라, 상기 가열기 및 힘 인가 장치들은 이들 가열기 및 힘 인가 장치들이 아암들 상의 스테이지 쪽으로 그리고 그 스테이지로부터 멀리 이동됨에 따라 상기 스테이지의 에지들과 거의 평행하게 유지된다.

이는, 비록 도 2가 컨베이어 상의 유리 시트의 선도 에지 및 후미 에지로서 그 유리 시트의 에지부(3, 5)를 나타냈지만, 도 2에 비해 90도 정도 레지스트레이션 캐리어(100)를 회전시키는데 효과적이며, 이에 유리 시트의 에지(8, 9)들이 상기 컨베이어 상의 유리 시트의 선도 에지 및 후미 에지들이라는 것을 알 수 있을 것이다. 이런 식으로, 상기 아암(210, 211, 212, 222)들 및 이동 수단(215, 217)들이 컨베이어 어느 측에든 위치될 수 있다.

도 7은 본원 일 실시예에 따른 레지스트레이션 캐리어(100)의 프레임(108)의 구성을 나타내는 레지스트레이션 캐리어(100)의 하면도이다. 상기 프레임(108)은 횡단-레일(229)들에 의해 연결된 측면 레일(225, 226)들을 포함한다. 상기 측면 레일들의 단부의 하면은 테이퍼지거나 경사짐으로써, 상기 측면 레일들의 단부 상의 램프(227, 228; ramp)들을 형성한다. 연결 로드(230)가 상기 프레임(108)의 하측에 설치된다. 베어링(231, 237)들이 상기 연결 로드의 단부 어느 쪽에든 설치된다. 도 8에 나타낸 바와 같이, 컨베이어 카(240; conveyor car)는 상기 프레임에 설치된 상부 개방 분기(241, 243)들을 구비한 프레임을 포함한다. 상기 컨베이어 카는 컨베이어(11) 상에 탑재되며, 레지스트레이션 캐리어는 그 컨베이어와의 움직임을 위해 상기 컨베이어 카 상에 지지된다. 상기 레지스트레이션 캐리어(100)가 상기 컨베이어 카 상에 위치될 때, 상기 레지스트레이션 캐리어의 프레임(108)의 하측 상의 베어링(231, 237)들은 컨베이어 카 프레임 상의 상기 분기(241, 243)들 내에 분리가능하게 수용되며, 상기 레지스트레이션 캐리어의 프레임(108)은 상기 컨베이어 카 프레임의 상부에 안착된다. 따라서, 상기 레지스트레이션 캐리어는 밴딩 오븐에 걸쳐 전송하기 위해 컨베이어 카 상에 탑재된다.

이제 도 9 내지 11(가열기(212) 및 힘 인기 장치(214)들이 명확성을 위해 생략된)에 따르면, 도 9 내지 11에 나타낸 아암(210, 211, 220, 221; 이들 중 하나만 나타낸)들의 내측 단부는 각각 리프트 아암의 단부 상에 회전가능하게 설치된 리프트 휠을 갖는 리프트 아암(251; lift arm)을 포함한다. 정밀 정지면(255)이 각각의 리프트 아암(251) 내에 형성되거나 그 상에 제공된다. 금속 캡(261)이 경성 스테이지의 코너를 충격으로부터 보호하기 위해 상기 스테이지(107)의 각각의 코너 상에 설치된다. 상기 금속 캡(261) 각각은 대응하는 이동 아암(210, 211, 220, 221)에 면하는 상기 캡의 측면 상에 정밀 형성된 기준면(263)을 포함한다.

도 9 내지 11에 나타낸 바와 같이, 유리 시트를 수반하는 레지스트레이션 캐리어가 밴딩 오븐의 밴딩 존(25)으로 이동함에 따라 아암(210, 211 및 220, 221)들은 수축한다. 컨베이어는 레지스트레이션 캐리어 상의 캡(261)들이 상기 아암(210, 211 및 220, 221)들과 정렬될 때 정지한다. 이후, 상기 아암(210, 211 및 220, 221)들은 레지스트레이션 캐리어 쪽으로 이동한다. 상기 아암들이 안쪽으로 이동함에 따라, 상기 아암들 상의 리프트 롤러(253)는 캐리어 프레임(108)의 측면 레일(225, 226)들 상의 램프(227, 228)들과 접촉하고 도 10에 나타낸 바와 같이 레지스트레이션 캐리어 프레임(108)을 컨베이어 프레임(240)으로 리프트한다. 상기 리프트 롤러(253) 및 레일(225, 226)들은 리프트 아암들의 단부에 대한 스테이지(107)의 높이를 정확하게 콘트롤하기 위해 정밀하게 형성된다. 상기 리프트 롤러들은 상기 레일(225, 226)들의 하면들과 접촉함으로써, 상기 리프트 아암들의 단부에 대해 정확한 거리로 상기 캐리어의 각각의 코너를 정확하게 리프트한다. 상기 롤러(253)들이 선택적으로 상기 아암들의 단부 상의 경사진 접촉 또는 리프트 면들로 분배되고 교체될 수 있다는 것을 알아야 할 것이다.

상기 아암(210, 211 및 220, 221)들이 안쪽으로 계속해서 이동함에 따라, 상기 아암들 상의 정지면(255; 또는 바로 정지부)은 도 11에 나타낸 바와 같이 스테이지 상의 캡 상의 기준면(263)과 접촉한다. 상기 정지면은 대향하는 아암 상의 정지면에 접촉할 때까지 캐리어를 푸쉬한다. 대향하는 아암(210-220 및 211-221)들 상의 정지면(255; 또는 스톱(stop))이 대응하는 캡(261) 상의 기준면(263)들과 접촉함에 따라, 상기 아암(220, 221)들 상의 스프링(265, 267)들은 압축된다. 각각의 아암 쌍(210-220 및 211-221)은 소정의 유지력, 예컨대 5 내지 20 N(Newton)의 힘으로 상기 스프링이 압축될 때까지 서로를 향해 안쪽으로 계속해서 이동한다. 일단 그 유지력에 도달하면, 상기 아암들은 정지하고 밴딩 프로세스 동안 각각의 아암 쌍의 정지면(263)들간 확고하게 클램프된 레지스트레이션 캐리어를 유지한다. 유리는 스테이지(107), 레지스트레이션 롤러(109a, 109b)들 및 클램프(113) 외에 어떤 다른 것들과 결코 접촉하지 않는다. 상기 아암들 상의 정지면들만이 세라믹 스테이지(107)의 코너들을 보호하는 캡(261)들과 접촉한다. 따라서, 상기 유리 시트의 표면은 청결한 표면을 유지한다. 기준면들은 스테이지 상의 보호 캡들이 아니라 오히려 캐리어 프레임(108)의 측면 레일(225, 226)들 상에 선택적으로 위치된다는 것을 알 수 있을 것이다.

다음에, 가열기(222)들이 밴드될 유리 시트의 부분들을 밴딩 온도로 가열하기 위해 작동한다. 일단 그러한 밴드될 유리 시트의 부분들이 밴딩 온도로 가열되면, 힘 인가 장치(224)들이 스테이지(107)의 에지(103, 105)들의 영역에서 유리 시트의 밴딩을 용이하게 하기 위해 그 유리 시트의 에지부(3a, 5a)들 상에 하향의 힘을 인가하도록 작동한다. 밴딩 후, 상기 가열기 및 힘 인가 장치들은 작동을 멈추고 상기 아암(210, 211 및 220, 221)들이 레지스트레이션 캐리어(100)로부터 멀리 수축된다. 리프트 아암(151)들이 수축됨에 따라, 리프트 롤러(253)들이 레지스트레이션 캐리어 아래로부터 빠져 나가고 상기 레지스트레이션 캐리어는 분기(241, 243)들에 체결된 베어링(231, 237)들을 구비한 컨베이어 프레임과 체결로 다시 후퇴한다. 상기 클램프(113)는, 유리 시트의 냉각 및 수축 동안 유리 시트로부터 접촉면(111)들을 제거하여 그 유리 시트의 손상을 피하기 위해, 밴딩 온도로부터 상기 성형된 유리 시트를 냉각하기 전에 개방될 것이다. 다음에, 컨베이너는 레지스트레이션 캐리어 및 성형된/밴드된 유리 시트(1)를 밴딩 존 밖으로 이동시키고 냉각 존(27) 안으로 이동시키며 밴딩 오븐 밖으로 이동시킨다. 새로운 평평한 유리 시트가 빈 스테이지 상으로 로딩되고 그 프로세스가 반복된다.

앞서 기술한 구조에 있어, 아암(210-220 및 211-221)들의 내측 단부, 이에 따른 이들 아암의 내측 단부 상에 수반된 가열기(222) 및 선택의 힘 인가 장치(224)는 상기 스테이지(107) 상의 각각의 갭(261)들 상의 기준면(263)들에 대해 각각의 아암들 상의 정지면(255)들을 접촉시켜 프레싱함으로써 간단히 상기 스테이지(107)의 에지(103, 105)들에 대해 정확하게 위치되어 정렬된다. 레지스트레이션 캐리어가 리프트 롤러(253)의 상부에 "부유"되거나 또는 롤(roll)/슬라이드(slide)되도록 컨베이어가 레지스트레이션 캐리어를 승강시킴으로써, 상기 레지스트레이션 캐리어가 리프트 롤러 상에서 자유롭게 이동 및 회전되고, 이에 따라 정지면(255)이 기준면(263)에 부딪쳐 프레스될 때 상기 레지스트레이션 캐리어 및 스테이지는 상기 아암들의 단부들과 "자동 정렬"된다. 상기 유리 시트가 스테이지 상에 정확하게 탑재되기 때문에, 상기 가열기 및 힘 인가 장치들 또한 유리 시트에 대해 정확하게 위치되어 그 유리 시트와 정렬된다.

아암들 상의 정지면(255)과 캡들 상의 기준면(263)들간 이러한 접촉은 상기 아암에 의해 캡에 인가된 스프링 로딩 압력(예컨대 5 내지 20 N)에 의해 유지된다. 이러한 구조는 그러한 아암 상의 가열 및 힘 인가 장치들에 대해 스테이지(107) 및 유리(1)의 간단한 그리고 자동적인 수직, 측면 및 각도 위치맞춤을 제공한다. 이는 레지스트레이션 캐리어 상의 유리 시트와 가열기 및 힘 인가 장치들을 정확하게 정렬시키는데 필요한 높은 비용이 필요치 않고, 콘트롤러를 프로그램하는 어려움이 없으며, 스테퍼 모터 또는 위치 센서들의 필요성이 없다.

아암 상에 가열기 및 힘 인가 장치들에 가깝게 인접한 상기 아암 상에 정지면(255)을 위치시키는 것은 상기 가열기 및 힘 인가 장치들의 위치로 상기 아암의 열 팽창의 영향을 최소화한다. 도 12에 개략적으로 나타낸 바와 같이, 상기 아암 상의 정지면들과 상기 가열기 및 힘 인가 장치의 작동부, 예컨대 도 12에 화살표 H1으로 나타낸 부분들간 기계적 요소들만의 열적 팽창은 스테이지 및 유리 시트(1)에 대한 가열기 및 힘 인가 장치들의 위치에 영향을 준다. 아암(210)의 어떤 다른 부분들, 컨베이어, 밴딩 오븐(21) 또는 바닥이 열적으로 팽창한다 하더라도, 이는 상기 스테이지(107)에 대한 가열기 및 힘 인가 장치들의 위치에는 영향이 없을 것이다. 스테이지 및 유리 시트에 대한 가열기 및 힘 인가 장치들의 위치가 밴딩 오븐(21) 외측에 위치된 이동 메카니즘(215, 217)들에 의해 콘트롤되는 배열에 있어서, 밴딩 오븐(21), 그 바닥, 이동 메카니즘(215, 217)들, 및 도 13에 화살표 H2로 나타낸 바와 같은 아암(210, 220)들의 전체 길이에 대한 그 때의 열 팽창은 가열기(112, 222) 및 힘 인가 장치(114, 224)들의 위치에 영향을 줄 것이다. 그와 같이 가열기 및 힘 인가 장치들이 아암들의 정지면에 가능한 한 가까워지게 아암에 설치됨에 따라, 스테이지 상의 유리 시트에 대한 위치맞춤에 있어 그러한 열 팽창의 영향을 최소화할 수 있다.

본원에 기술된 시스템 및 구조들은 비교적 얇고 크면서 높은 CTE를 갖는 유리 시트 뿐만 아니라 높은 신뢰성 및 정확한 밴딩을 가지면서 비교적 크고 높은 CTE를 갖는 유리 시트를 제공한다. 이러한 구성의 경우, 가열기 및 힘 인가 장치들이 1/10 mm 내, 예컨대 ±0.03 mm의 정확도로 스테이지 및 유리 시트에 대해 정확하게 위치될 수 있다.

본원의 다른 실시예들에 따르면, 본원에 기술된 그리고 청구된 시스템 및 프로세스들은 동시에 캐리어 상에 하나 이상의 유리 시트를 밴드하도록 채용될 수 있다. 예컨대, 거의 동시에 밴딩 오븐 내에서 2 내지 4개의 유리 시트 각각의 1 또는 2개의 에지의 정확한 밴딩을 위해 스테이지 상에 2 내지 4개의 시트를 정확하게 위치 및 고정하기 위해, 스테이지에는 2 내지 4쌍의 레지스트레이션 요소(109a, 109b)들 및 2 내지 4개의 클램프(113)들이 설치될 것이다. 본원에 기술된 바와 같은 추가의 아암 쌍 및 밴딩 메카니즘들은 2-4개의 유리 시트를 위해 필요에 따라 오븐 내에 제공될 것이다.

Claims (20)

1. 유리 시트의 어닐링 온도와 연화 온도간 처리 온도로 유리 시트를 가열하기 위한 오븐;
   유리 시트를 지지하기 위한 상부 지지면, 제1에지, 대향의 제2에지, 및 스테이지의 제1에지의 단부에 인접한 스테이지의 제1에지 상의 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제1기준면을 갖춘 스테이지;
   상기 오븐의 제1측면으로부터 상기 오븐 내로 확장하는 내측 단부, 상기 스테이지의 제1에지에 걸쳐 아래로 상기 스테이지 상의 유리 시트의 제1에지부를 밴딩하기 위한 상기 오븐 내측의 한 쌍의 제1아암의 내측 단부 상에 설치된 제1밴딩 메카니즘, 및 상기 한 쌍의 제1기준면에 반대로 각각의 제1아암의 내측 단부 근처에 제공된 안쪽으로 면하는 제1정지면을 갖춘 한 쌍의 제1아암;
   상기 오븐의 제2측면으로부터 상기 오븐 내로 확장하는 내측 단부, 및 상기 스테이지의 제2에지에 반대로 각각의 제2아암의 내측 단부 근처에 제공된 안쪽으로 면하는 제2정지면을 갖춘 한 쌍의 제2아암; 및
   상기 스테이지의 제1에지를 향해 안쪽으로 그리고 그 제1에지로부터 멀리 바깥쪽으로 상기 한 쌍의 제1아암을 이동시키기 위한 제1이동 메카니즘을 포함하며,
   상기 스테이지가 이 스테이지의 제1에지를 넘어 확장하는 밴드될 유리 시트의 제1에지부를 구비한 스테이지의 지지면 상에 지지된 밴드될 유리 시트를 포함한 오븐 내에 위치될 때, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 제1아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하고 상기 제2아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하며, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지는 정확하게 상기 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며,
   한 쌍의 제1아암 및 한 쌍의 제2아암의 적어도 하나는 스프링 로딩되며, 스프링 로딩 아암이 압축되어 스테이지의 에지 상에 압력을 인가할 때까지 제1아암 및 제2아암이 안쪽으로 이동되는, 유리 시트를 밴딩하기 위한 장치.
2. 청구항 1에 있어서,
   제1정지면 및 제2정지면으로부터 안쪽으로 확장하는 각각의 제1아암 및 제2아암의 내측 단부 상에 리프트 아암을 더 포함하며,
   상기 제1아암이 스테이지를 향해 안쪽으로 이동되고 상기 제2아암이 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동될 때, 상기 리프트 아암이 상기 스테이지의 하측을 체결하여 그 스테이지를 리프트하고, 이에 따라 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에 안착되고 상기 스테이지가 상기 리프트 아암 상에서 자유롭게 이동 및 회전됨으로써, 상기 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 상기 제2정지면이 상기 스테이지의 제2에지와 접촉함에 따라, 모든 제1정지면이 제1기준면들과 접촉하고 모든 제2정지면이 스테이지의 제2에지와 접촉할 때까지 상기 리프트 아암 상에서 이동 및 회전하며, 이에 의해 상기 스테이지의 제1에지 및 상기 유리 시트의 제1에지가 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되는, 유리 시트를 밴딩하기 위한 장치.
3. 청구항 1에 있어서,
   스테이지의 제2에지의 단부에 인접한 상기 스테이지의 제2에지 상의 바깥쪽으로 면하는 한 쌍의 제2기준면; 및
   오븐 내측의 한 쌍의 제2아암의 내측 단부 상에 설치된 제2밴딩 메카니즘을 더 포함하며,
   상기 스테이지가 이 스테이지의 제1에지를 넘어 확장하는 밴드될 유리 시트의 제1에지부 및 상기 스테이지의 제2에지를 넘어 확장하는 밴드될 유리 시트의 제2에지부를 구비한 스테이지의 지지면 상에 지지된 밴드될 유리 시트를 포함한 오븐 내에 위치될 때, 제1정지면이 제1기준면과 접촉하고 제2정지면이 제2기준면과 접촉할 때까지 제1아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하고 제2아암은 상기 스테이지를 향해 안쪽으로 이동하며, 상기 스테이지는 이 스테이지의 제1에지에 의해 상기 제1정지면과 제2정지면 사이에 유지되고, 상기 유리 시트의 제1에지는 정확하게 제1밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제1밴딩 메카니즘과 정렬되며, 상기 유리 시트의 제2에지는 정확하게 제2밴딩 메카니즘에 대해 위치되고 그 제2밴딩 메카니즘과 정렬되는, 유리 시트를 밴딩하기 위한 장치.
4. 청구항 1에 있어서,
   스테이지는,
   상기 스테이지의 제1에지와 상기 스테이지의 제2에지간 확장하는 제3에지;
   상기 스테이지의 제3에지에 인접한 상기 스테이지의 지지면으로부터 위쪽으로 확장하는 제1레지스트레이션 요소; 및
   상기 스테이지의 제3에지에 인접한 상기 스테이지의 지지면으로부터 위쪽으로 확장하는 제2레지스트레이션 요소를 더 포함하며,
   상기 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소는 상기 스테이지의 제1에지에 대해 원하는 방위로 지향된 기준 라인을 규정하기 위해 상기 스테이지 상에 위치되며, 이에 의해 밴드될 제1에지부를 갖는 유리 시트가 상기 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소 모두와 접촉하는 상기 제1에지로부터 확장하는 유리 시트의 기준 에지를 따라 지지면 상에 위치될 때, 상기 유리 시트의 제1에지부가 상기 스테이지의 제1에지와 정렬되는, 유리 시트를 밴딩하기 위한 장치.
5. 청구항 4에 있어서,
   상기 스테이지는 스테이지의 제3에지에 인접하여 설치된 2개 또는 그 이상의 분리 접촉면으로 형성되고, 지지면 상의 위치에 유리 시트를 클램핑하기 위한 클램프면을 구비한 클램프를 더 포함하며,
   상기 유리 시트가 제1레지스트레이션 요소 및 제2레지스트레이션 요소 모두와 접촉하는 상기 유리 시트의 기준 에지를 따라 지지면 상에 위치되고, 상기 유리 시트 상의 기준 지점이 클램프면에 의해 스테이지 상의 위치에 정렬되어 클램프될 때, 상기 유리 시트는 스테이지의 제1에지와 정렬되고 상기 스테이지의 제1에지를 넘어 원하는 제1거리로 확장하는 상기 유리 시트의 제1에지부를 따라 상기 스테이지 상의 위치에 정확하게 위치되어 고정되는, 유리 시트를 밴딩하기 위한 장치.
   
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