TWI391352B - Release sheet - Google Patents

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Description

脫模用薄片
本發明關於脫模用薄片，更詳細而言，關於當由進行成型的模取下成型後的製品時，用來進行良好脫模用之脫模用薄片。
在製造以碳化矽或氮化鋁等為材料之構件的情況時，碳在將化矽等的原料收容於石墨質模具或石墨製成型容器等的狀態下進行加熱、加壓，成型成型具等的模的形狀。在進行該成型之際，當將原料直接置入模具等並進行加熱時，由於原料、模具等均成為非常高的高溫，故，會產生因兩者的反應所造成之模具等的損傷，或因含於模具等的不純物，造成原料受到污染。又，當在原料的蒸發氣體等與原料接觸的狀態下進行成型時，則會有在所製造之製品產生氣泡，造成品質降低之問題產生。
考量這些情事，以往以來，使脫模用薄片介裝於用來將物質成型之模與原料之間，例如，在石英玻璃的製造，在二氧化矽粉末與石墨質模具之間，介裝由石墨質碳纖維所構成的氈材或石墨薄片(例如，參照下述專利文獻1~3)。
具體而言，在上述專利文獻1、2，記載有使用：容積密度為0.1~1.5g/cm3 ，且Na、K、Fe及Ti的各不純物成為1ppm以下地進行高純度化之石墨氈或石墨薄片之技術內容。具有下述記載，即，石墨氈及石墨薄片均具有伸縮性與通氣性，並且，石墨薄片，其因與二氧化矽粉末之反應所造成之消失量少，且由於面呈平滑，故適用於產生玻璃面之平坦度。
又，在專利文獻3，具有下述技術思想之記載，即，於充填二氧化矽粉末與圓筒形狀結構石墨質碳之接觸部分，介裝有由石墨質碳纖維所構成的容積密度為0.1~0.5g/cm3 的碳氈者。又，具有下述記載，即，碳氈具有：排出蒸發二氧化矽氣體、或因碳氈與二氧化矽之反應所產生之氣體的功能，並且，因吸收所製造的玻璃與圓筒形狀結構石墨質碳之熱膨脹差，所以，亦具有防止玻璃製造後冷却時兩者被破壊之功能者。
〔專利文獻1〕日本特開平11－228166號〔專利文獻2〕日本特開平11－278857號〔專利文獻3〕日本特開平10－167742號
然而，在專利文獻1~3，雖石墨氈及石墨薄片、碳氈(以下，會有將這些僅稱為薄片之情況)具有某種程度的伸縮性與通氣性，但由於這些特性並不充分，故，無法解決：因模具與玻璃等之熱膨脹差所產生之破損，或在製品產生氣泡等之問題。
又，由於在將所製造的製品由模具取出之際，會產生薄片附著於製品之現象，故，會有需要由製品除去薄片。由於進行該薄片除去，需要花費長時間，故，存在有製品的生產效率降低之問題。但，在上述專利文獻1~3，未記載有任何關於解決問題之方法。
且，當薄片附著於所製造的製品時，即使由製品除去薄片，薄片表面之凹凸也會被轉印至製品表面。在此情況，因若被轉印之凹凸大的話，由製品所除去的部分會變多，所以，用來進行凹凸除去之作業時間變長，更進一步導致生產效率降低。並且，由於進行薄片除去時，製品亦會被切削，當該除去量變多時，則製品的厚度變成較規定值薄，也會產生製品的良品率降低之問題。關於這一點，以往以來，在專利文獻1之記載，僅止於石墨薄片，其表面平滑，適用於產生玻璃面之平坦度的程度，但關於將薄片表面作成何種程度的面精度，能夠縮短凹凸除去作業，或提昇良品，均未具體地記載或暗示。
另外，作為具有伸縮性與通氣性之材料，有膨脹石墨薄片，該膨脹石墨薄片具有柔軟性或壓縮性、通氣性，作為脫模用薄片，具有理想的性質，但未見具體地考量或檢討在作為脫模用薄片，可理想地使用之性質的例子。
本發明是有鑑於上述情事而開發完成的發明，其目的在於提供：當將碳化矽或氮化鋁等進行加壓壓縮加以製造時，能高度地保持製品品質，並且，可大寬度地提昇作業效率或良品之以膨脹石墨為材料的脫模用薄片。
為了達成上述目的，本發明是一種脫模用薄片，配置於模與成型原料之間，由膨脹石墨所構成的脫模用薄片，其特徵為：以下述式子(1)所示的氣體透過率為1.0×10－4 cm2 /s以下，氣體透過率＝Q．L/(△P．A)………(1)
再者，在上述式子(1)，Q為氣體流量(Pa．cm3 /s)，△P為2個處理室間之壓力差(Pa)，A為脫模用薄片的氣體透過面積即連通2個處理室之通路的面積(cm2 )，L為脫模用薄片的厚度(cm)。
如上述結構，預先將脫模用薄片的氣體透過率限制成極低的話，在碳化矽或氮化鋁等的製造，當於原料與模具等的模之間配置脫模用薄片之情況時，能夠抑制：氣體化的原料，或脫模用薄片與原料反應所產生的氣體透過脫模用薄片。因此，因能夠抑制氣體與模反應，所以可防止模劣化。
上述式子(1)所示的氣體透過率為1.0×10－9cm2 /s以上為佳。
由抑制氣體與模反應之觀點，氣體透過率越低越理想，但，使氣體透過率變得過低時，會有在所成型的製品產生氣泡等的問題。因此，氣體透過率，理想為1.0×10－9 cm2 /s以上。
期望下述式子(2)所示的剝離強度為50KPa以下。
剝離強度＝LD/(W．t)………(2)
再者，在上述式子(2)，LD為荷重、t為脫模用薄片的厚度、W為接著部分的寬度。
如上述結構，若預先將剝離強度限制成低的話，則當由模取出所製造的製品時，能夠簡單且短時間進行附著於該製品之薄片的除去作業。因此，能夠減低製品的製造成本。
期望表面之算術平均粗糙度為10μ m以下。
如上述結構，因若脫模用薄片的表面之算術平均粗糙度為10μ m以下的話(即，脫模用薄片表面為平滑的話)，能夠提高薄片除去後之製品表面之平滑度，所以，不需要進行薄片除去後的加工，或即使需要之情況，也能大幅度地縮短用來進行加工之作業時間。因此，可更進一步大幅提昇生產效率。又，因因製品的除去量變少，能夠抑制製品的厚度變成較規定值薄，所以，可使製品的良品率提昇。且，若脫模用薄片表面之凹凸變少的話，則薄片的表面方向之熱傳導率的參差不齊變少，因此，對原料能均等地提供熱。
期望面方向的熱傳導率為100W/(m．K)以上。
如上述結構，若脫模用薄片的面方向的熱傳導率高的話，則可迅速地使原料的温度上升，故能夠縮短成型時間，其結果，可更進一步提昇製品的生產效率。
下述式子(3)所示的壓縮率為30%以上較佳。
壓縮率(%)＝〔(t1 －t2 )/t1 〕×100………(3)
再者，在上述式子(3)，t1 為施加15秒的予壓(0.686MPa±1%)後的厚度(mm)，t2 為施加60秒的全壓(34.3MPa±1%)後的厚度(mm)。
如上述結構，若限制脫模用薄片的壓縮率的話，則即使因原料與模的熱膨脹率之差異，在原料與模的膨脹收縮量上產生差，也能藉由脫模用薄片的變形來吸收該差，故，能防止製品或模破損。
期望上述式子(3)所示的壓縮率為80%以下。
這是由於一般有當壓縮率變高時則氣體透過率變大的傾向，若壓縮率為80%以下的話，則氣體透過率可處於上述範圍內。
期望容積密度為0.5Mg/m3 以上、1.5Mg/m3 以下。
這是由於當容積密度超過1.5Mg/m3 時，則會有壓縮率降低，造成製品或模破損，或在使脫模用薄片彎曲之情況，產生破裂之虞，而當容積密度未滿0.5Mg/m3 時，則氣體透過率變大，會產生模的劣化等。
如請求項1至9中任一項之脫模用薄片，其中，厚度為1.5mm以下。
如上述結構，若脫模用薄片的厚度為1.5mm以下的話，則容易使薄片彎曲，所以，能夠容易將脫模用薄片密接於模之狀態下加以安裝。因此，能夠以短時間進行薄片的安裝作業，藉此，能夠縮短成型作業全體之作業時間，故，能減低製品的製造成本。
期望厚度為0.2mm以上。
如上述結構，這是由於若脫模用薄片的厚度為0.2mm以上的話，則即使在使脫模用薄片彎曲之情況，也能抑制脫模用薄片破裂，並且，因厚度方向的變形量變多，所以，能夠抑制製品等產生損傷。
期望灰分為30massppm以下。
如上述結構，因若脫模用薄片中的灰分少的話，則可防止欲成型的原料受到污染，所以可提升製品品質。
如以上說明，若根據本發明的話，可達到下述優良效果，即，當將碳化矽或氮化鋁等進行加壓壓縮加以製造時，可高度地保持製品品質，並且，可使作業效率及良品率提昇。
以下，根據圖面，說明本發明之實施形態。
本發明之脫模用薄片為在將碳化矽或氮化鋁等的原材料收容於石墨質模具或石墨製成型容器等之狀態下加熱加壓進行成型之際，配置於原料與模具等之間來使用之薄片。
再者，使用本發明之脫模用薄片加以製造之製品，例如有合成石英或SiC等，但未特別限定。
首先，在說明本發明之脫模用薄片之前，先說明本發明之脫模用薄片的使用狀況、以下，以製造圓筒狀的石英玻璃的情況為代表，進行說明。
在圖1，符號1為收容作為石英玻璃的原材料的二氧化矽粉末M之模具，例如由石墨所構成。此模具1由圓筒狀的內側構件1a、圓筒狀的外側構件1b、及板狀的底構件1c所構成，將二氧化矽粉末M收容於受到這些構件所包圍之空間者。又，符號2為用來對上述二氧化矽粉末M進行加壓的加壓構件。
如圖2所示，在上述模具1之外側構件1b的內面，配置有本發明之脫模用薄片4，使二氧化矽粉末M與模具1不會直接接觸，又，雖未圖示，在內側構件1a的內面、底構件1c的上面、及加壓構件2的下面(所有與二氧化矽粉末M接觸的面)，亦配置有本發明之脫模用薄片4。
然後，藉由加壓構件2，對被收容於模具1內之二氧化矽粉末M一邊加壓一邊加熱的話，則可形成圓筒狀的合成石英者。
其次，說明關於本發明之脫模用薄片。
(脫模用薄片的全體結構)
本發明之脫模用薄片是將膨脹石墨成型為薄片狀來形成的。
上述膨脹石墨是藉由將天然石墨或凝析石墨等浸漬於硫酸或硝酸等的液體後，以400℃以上進行熱處理來加以形成的，作成棉狀或纖維狀，即其軸方向的長度較半徑方向的長度大者。例如，膨脹石墨，其軸方向的長度為1~3mm左右，且半徑方向的長度為300~600μ m左右者。又，在本發明之脫模用薄片的內部，如上述，膨脹石墨彼此相互糾纏。
再者，本發明之脫模用薄片，亦可如上述，僅以膨脹石墨來形成，亦可混合若干(例如5%左右)之酚樹脂或橡膠成分等的黏結劑。
(脫模用薄片的氣體透過率)
本發明之脫模用薄片調整成：前記式子(1)所示的氣體透過率成為1.0×10－4 cm2 /s以下。
在碳化矽或氮化鋁等的金屬的製造，原料氣體化或脫模用薄片與原料反應而產生氣體，當脫模用薄片的氣體透過率過大時，則會產生石墨製的模具等因透過脫模用薄片之氣體劣化之問題產生。但，若脫模用薄片的氣體透過率如上述般加以規制的話，則能抑制所產生的氣體透過脫模用薄片，因此能夠防止石墨製模具的劣化(SiC化)，可延長模具等的使用壽命。
又，當氣體透過率過小時，則會有在所成型的製品產生氣泡等的問題，因此氣體透過率是1.0×10－9 cm2 /s以上為佳。從上述說明可得知，脫模用薄片的氣體透過率，理想為1.0×10－9 cm2 /s以上1.0×10－4 cm2 /s以下，特別理想為1.0×10－9 cm2 /s以上1.0×10－6 cm2 /s以下。
(脫模用薄片的剝離強度)
本發明之脫模用薄片，調整成剝離強度成為50KPa以下。若為這樣的結構的話，當由模具取出製品時，能夠簡單地除去附著於製品的脫模用薄片，故，能夠以短時間完成製品成型後的後處理作業。
(脫模用薄片的平滑度)
當使用脫模用薄片時，脫模用薄片表面之凹凸會被轉印至製品表面，但欲製造的製品，會有要求其表面之性狀，具有高度平滑性者，在該製品的情況時，若脫模用薄片表面之平滑性低的話，則必須要在脫模用薄片除去後進行使製品表面成為預定的平滑度之加工。
在此，由於本發明之脫模用薄片是調整成其表面之算術平均粗糙度成為10μ m以下，故即使在脫模用薄片表面之形狀即凹凸被轉引至所成型的製品之情況，也能提高除去脫模用薄片後之製品表面之平滑度。
因此，如本發明之脫模用薄片，其表面之平滑度高，若該平滑度較對製品表面所要求的平滑度高的話，則不需要進行脫模用薄片除去後的加工。另外，即使為被要求平滑度較脫模用薄片表面之平滑度高的製品，也能減少藉由加工從製品除去的量。因此，能夠縮短做成預定的平滑度用之加工時間，其結果，提昇了製品的生產效率。並且，因製品的除去量變少，使得可抑制製品的厚度變成較規定值薄，故，製品的良品率提昇。且，若脫模用薄片表面之凹凸少的話，能夠減少薄片的表面方向之熱傳導率的參差不齊，且可對原料能均等地提供熱。
又，採用以下的方法的話，如上所述，能夠以表面之算術平均粗糙度成為10μ m以下的方式，製造本發明之脫模用薄片。
首先，藉由將天然石墨或凝析石墨等浸漬於硫酸或硝酸等的液體後，以400℃以上進行熱處理，來形成棉狀的石墨(膨脹石墨)。此膨脹石墨是厚度為1.0~30.0mm、容積密度為0.1~0.5Mg/m3 ，將此膨脹石墨壓縮至厚度0.2~0.6mm、容積密度0.5~1.5Mg/m3 ，用以形成脫模用薄片。
此時，若在將輸送速度設定為20.0m/min以下之狀態下，藉由輥軋來壓縮膨脹石墨的話，則可防止在脫模用薄片的表面產生皺紋等，因此，能夠製造表面之算術平均粗糙度為10μ m以下之脫模用薄片。但，當輸送速度未滿0.1m/min時，膨脹石墨的生產性會降低。因此，輸送速度，理想為0.1~20.0m/min，限制於0.5~15.0m/min更為理想。
又，上述算術平均粗糙度是以JIS B0601加以定義的。具體而言，算術平均粗糙度(Ra)是如圖3所示，由粗糙度曲線朝其平均線的方向截取基準長度L，此截取部分的平均線的方向當作x軸，另外，縱倍率的方向當作y軸，當以y＝F(x)表示粗糙度曲線時，以微米(μm)表示藉由下述數學式1所求出之值。
(脫模用薄片的熱傳導率)
本發明之脫模用薄片，調整成其面方向的熱傳導率成為100W/(m．K)以上。若為這種結構的話，因可使原料的温度迅速地上升，能縮短成型時間，所以可使生產效率大幅提昇。
特別是若藉由在上述(脫模用薄片的平滑度)的部分所顯示的方法來製造本發明之脫模用薄片的話，其面方向的熱傳導率亦變得均等。具體而言，能以下述方式，製造脫模用薄片，即，裁取模用薄片的一部份，形成一邊為200mm之正方形的試驗片，在此試驗片，測定將其做成複數個一邊為25mm之正方形的試驗區域之熱傳導率時，將熱傳導率成為最大之試驗區域之熱傳導率的值與熱傳導率成為最小之試驗區域之熱傳導率的值之差，以試驗區域之熱傳導率的平均值相除所獲得之值成為0.1以下。於是，因能夠防止在脫模用薄片形成熱點，所以，能將製品均等地加熱，可製造更均質之製品。
(脫模用薄片的壓縮率)
又，本發明之脫模用薄片是調整成前記式子(3)所示的壓縮率成為30%以上。
若為至這種結構的話，即使因原料與模具等之間之熱膨脹率的差異，造成在加熱開始時或冷却時，於原料與模具等的膨脹收縮量產生差，脫模用薄片也可變型來將該差吸收，所以能夠防止製品或模具等的破損產生。
(脫模用薄片的厚度及容積密度)
即使本發明之脫模用薄片具有上述壓縮率，若其厚度過薄的話，則無法取得充分的緩衝邊。換言之，會有無法吸收原料與模具等的膨脹收縮量之差的可能性。
又，當將本發明之脫模用薄片安裝於原料與模具之間時，脫模用薄片會屈曲變形成和原料與模具密接。此時，脫模用薄片本身的強度弱或柔軟性小的話，則即使脫模用薄片如上述般具有壓縮率，當屈曲變形時，會有脫模用薄片本身產生裂痕，缺損或破裂之可能性。
但，若本發明之脫模用薄片，厚度為0.2mm以上1.5mm以下，且容積密度為0.5Mg/m3 以上、1.5Mg/m3 以下的話，則脫模用薄片具有某種程度的強度，所以，即使脫模用薄片變形，也能夠防止該破裂等。並且，因脫模用薄片不會過厚，所以，可容易使脫模用薄片彎曲、即使彎曲，也能夠防止破裂等。因此，容易將脫模用薄片安裝於模具等，且可在密接於模具等的狀態下安裝脫模用薄片。
因此，由於能夠以短時間進行脫模用薄片的安裝作業等，故，不僅脫模用薄片的安裝作業，亦有助於縮短成型作業全體之作業時間。
特別是預先將脫模用薄片做成厚度0.3mm以上、1.5mm以下，並且，容積密度做成0.5Mg/m3 以上、1.5Mg/m3 以下的話，即可維持脫模用薄片的屈曲性，其強度亦高，因此，可更確實地防止脫模用薄片的破裂等，極為理想。
(脫模用薄片的灰分)
且，在本發明之脫模用薄片的製造工程，因若藉由鹵素氣體等，對脫模用薄片進行處理，將脫模用薄片的灰分調整成為30ppm以下的話，則脫模用薄片中的灰分少，所以，能夠防止欲成型的材料受到污染，可將成型品作成更高品質。
[實施例] (第1實施例)
調查本發明之脫模用薄片的氣體透過性與容積密度之関係，其結果顯示於圖4。
測定是確認：在厚度0.5mm、表面之算術平均粗糙度為10μ m以下的脫模用薄片，將容積密度設為0.1、0.3、0.5、0.7、1.0、1.5、1.7Mg/m3 時之氣體透過性。
再者，脫模用薄片是藉由鹵素氣體，調整成灰分成為30ppm以下。
又，氣體透過率是利用以下的方法進行測定。
(1)在相互連通的一對密閉的處理室CA、CB，利用以本發明之脫模用薄片(直徑30mm)封閉的方式，配置連通兩處理室CA、CB之通路(直徑10mm)。換言之，做成下述狀態，即，若不通過本發明之脫模用薄片的話，則空氣無法流通於一對密閉的處理室CA、CB間者。
(2)由此狀態，對兩處理室CA、CB進行真空吸引，使兩處理室CA、CB內的氣壓成為1.0×10－4 Pa為止。然後，一邊持續進行對一方的處理室CA內的真空吸引，一邊供給N2 氣體，使另一方的處理室CB內成為預定的壓力(1.0×105 Pa)。
(3)當另一方的處理室CB內成為預定的壓力(1.0×105 Pa)時，停止對一方的處理室CA內的真空吸引。於是，因應兩處理室CA、CB間之壓力差與脫模用薄片的氣體透過性，N2 氣體漸漸地由另一方的處理室CB朝一方的處理室CA流動，因此，一方的處理室CA內的壓力上昇。
(4)然後，在停止一方的處理室CA內的真空吸引後，測定大約100秒左右之一方的處理室CA內的壓力上昇速度，根據以下的式子(1)，算出氣體透過率K(cm2 /s)。
氣體透過率K＝Q．L/(△P．A)………(1)
再者，在上述式子(1)，Q為氣體流量(Pa．cm3 /s)，△P為2個處理室間之壓力差(Pa)，A為脫模用薄片的氣體透過面積即連通2個處理室之通路的面積(cm2 )，L為脫模用薄片的厚度(cm)。又，氣體流量Q為由從停止一方的處理室CA內的真空吸引後大約100秒左右之一方的處理室CA內的壓力上昇速度與一方的處理室CA的容積加以算出。
如圖4所示，可確認到氣體透過性，容積密度變大與變低，換言之，可確認到容積密度變大與氣體遮蔽性變高。
(第2實施例)
調查本發明之脫模用薄片之剝離強度與容積密度的關係，其結果顯示於圖8。
測定是針對厚度0.5mm、表面之算術平均粗糙度為10μ m以下的脫模用薄片，確認了容積密度設為0.3、0.6、0.8、1.0、1.2、1.4、1.6、1.8、2.0Mg/m3 時之剝離強度。再者，脫模用薄片是藉由鹵素氣體，調整成灰分成為30ppm以下。
在此，說明本發明之脫模用薄片的剝離強度的測定方法。
圖5~圖7是用來說明剝離強度的測定方法之圖。在圖5~圖7，符號4顯示本發明之脫模用薄片。如圖8所示，剝離強度的測定是藉由將脫模用薄片4的一端部之表面黏貼，黏貼膠帶等具有黏著層之膠帶5的一端部，分別拉引脫模用薄片4的另一端部及膠帶5的另一端部，測定兩者剝離時之荷重，來進行。
(1)試驗片的製作方法首先，如圖5所示，本發明之脫模用薄片4的一端部與膠帶5的一端部，以接著部分成為寬度W25mm×長度OL10mm的方式黏貼(關於寬度W、長度OL，參照圖6及圖7)，藉由滾子等的壓著工具(壓著速度大約5mm/s，1次來回)來對兩者進行壓著。
如此，在將脫模用薄片4與膠帶5進行壓著後，如圖6所示，在黏貼著膠帶5的一端部之狀態下，將膠帶5予以折返。此時，需注意所折返的膠帶5的表面與黏貼面即脫模用薄片4的表面呈平行。
最終，切斷脫模用薄片4或膠帶5，將試驗片10的全體長度L成為100mm。
(2)使用試驗片10之剝離強度的測定方法首先，如圖7所示，將試驗片的兩端安裝於夾具C，並保持成試驗片成為水平。然後，以均等的速度V〔20(mm/min)〕，對試驗片的兩端分離之方向施加荷重。即，將試驗片10的兩端朝相互分離的方向拉引。
然後，當逐漸增大施加於試驗片10之負荷荷重時，最終，試驗片10的膠帶5由脫模用薄片4剝離。由此剝離開始時的荷重LD，依據以下的式子(2)求取脫模用薄片4的剝離強度T。
T＝LD/(W．t)………(2)
再者，在式子(2)，t為脫模用薄片4的厚度，W為接著部分的寬度。
又，膠帶5，使用黏貼膠帶(Danpron tape)No.3505(日東電工社製)。
且，作為測定機，使用試驗機(Instron)4301，在此試驗機的上部夾具安裝本發明之脫模用薄片4，在下部夾具安裝膠帶5，使試驗片成為水平，以20(mm/min)的均等速度施加荷重，記錄在兩者之間產生剝離的荷重之最大值，依據此荷重求取剝離強度。
且，對於剝離開始，是根據施加於裝置之力矩來進行判斷。
如圖8所示，伴隨容積密度變大，剝離強度變大，可確認到在容積密度為1.4~1.6Mg/m3 之間，剝離強度急劇地變大。
(第3實施例)
調查對本發明之脫模用薄片，由厚度方向，以34.3MPa的加壓力進行加壓壓縮時之壓縮率，確認了容積密度與壓縮率的關係，其結果如圖9所示。
測定是針對厚度0.5mm的脫模用薄片，測定在將容積密度設為0.1、0.5、0.8、1.0、1.2、1.5、1.8Mg/m3 時之壓縮率。
如圖9所示，可確認到伴隨容積密度變大，壓縮率降低。
(第4實施例)
比較厚度0.2~0.6mm、容積密度0.5~1.5Mg/m3 之本發明之脫模用薄片的熱傳導率的參差不齊，其結果顯示於表1。
再者，熱傳導率的分佈值，是比較下述值，即由200×200mm的本發明之脫模用薄片，裁取9個25×25mm的試驗片，平均熱傳導率(Ave.)除以各試驗片的面方向的熱傳導率的最大值(Max)與最小值(Min)之差的值。
再者，面方向的熱傳導率之單位為W/(m．K)。
如表1所示，本發明之脫模用薄片的熱傳導率的分佈值為0.1以下，確認到具有優良之均熱性。
[產業上之利用可能性]
本發明之脫模用薄片是適合用於在碳化矽(SiC)或氮化鋁、合成石英等的製造，用來防止模具的損傷或原料的污染產生之薄片。
1．．．模具
1a．．．內側構件
1b．．．外側構件
1c．．．底構件
4．．．脫模用薄片
M．．．二氧化矽粉末
圖1是製造合成石英等的設備之概略說明圖。
圖2是圖1的A部放大斷面圖。
圖3是用來說明表面粗糙度之圖表。
圖4是顯示脫模用薄片之容積密度與氣體透過性與的關係之圖表。
圖5是顯示使用於剝離強度測定之試驗片的製作方法之說明圖。
圖6是顯示使用於剝離強度測定之試驗片的製作方法之說明圖。
圖7是顯示剝離強度的測定方法之說明圖。
圖8是顯示脫模用薄片之容積密度與剝離強度之関係的圖表。
圖9是顯示脫模用薄片之容積密度與壓縮率之関係的圖表。
1b．．．外側構件
4．．．脫模用薄片
M．．．二氧化矽粉末

Claims (11)

  1. 一種脫模用薄片，是配置於模與成型原料之間，由膨脹石墨所構成的脫模用薄片，其特徵為：以下述式子(1)所示的氣體透過率為1.0×10-4 cm2 /s以下，氣體透過率=Q．L/(△P．A)………(1)再者，在上述式子(1)，Q為氣體流量(Pa．cm3 /s)，△P為2個處理室間之壓力差(Pa)，A為脫模用薄片的氣體透過面積即連通2個處理室之通路的面積(cm2 )，L為脫模用薄片的厚度(cm)。
  2. 如申請專利範圍第1項之脫模用薄片，其中，上述式子(1)所示的氣體透過率為1.0×10-9 cm2 /s以上。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，下述式子(2)所示的剝離強度為50kPa以下，剝離強度=LD/(W．t)………(2)再者，在上述式子(2)，LD為荷重，t為脫模用薄 片的厚度，W為接著部分的寬度。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，表面之算術平均粗糙度為10μm以下。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，面方向的熱傳導率為100W/(m．K)以上。
  6. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，下述式子(3)所示的壓縮率為30%以上，壓縮率(%)=〔(t1 -t2 )/t1 ］×100………(3)再者，在上述式子(3)，t1 為施加15秒的予壓(0.686MPa±1%)後的厚度(mm)，t2 為施加60秒的全壓(34.3MPa±1%)後的厚度(mm)。
  7. 如申請專利範圍第6項之脫模用薄片，其中，上述式子(3)所示的壓縮率為80%以下。
  8. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，容積密度為0.5Mg/m3 以上、1.5Mg/m3 以下。
  9. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，厚度為1.5mm以下。
  10. 如申請專利範圍第9項之脫模用薄片，其中，厚度為0.2mm以上。
  11. 如申請專利範圍第1或2項之脫模用薄片，其中，灰分為30massppm以下。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5533817B2 (ja) * 2011-08-09 2014-06-25 株式会社デンソー 金属炭化物構造体または表面に金属炭化物層を形成した部材の製造方法
WO2013108572A1 (ja) * 2012-01-18 2013-07-25 旭硝子株式会社 離型シート及びガラス成形品の成形方法
JP6793296B2 (ja) * 2015-07-16 2020-12-02 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 グラファイトプレート及びその製造方法
CN115057711B (zh) * 2017-10-27 2023-07-14 日本碍子株式会社 平坦片材
CN111278792B (zh) * 2017-10-27 2022-07-19 日本碍子株式会社 取向陶瓷烧结体的制法以及平坦片材
JP7556880B2 (ja) * 2019-11-28 2024-09-26 日本碍子株式会社 酸化物含有セラミック焼結体の製法及び離型シート

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3492197A (en) * 1965-03-22 1970-01-27 Dow Chemical Co Novel compressed cohered graphite structures and method of preparing same

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3492191A (en) * 1966-07-25 1970-01-27 James Paul Van Horn Functional decorative unit
JPS51140904A (en) * 1975-05-30 1976-12-04 Nippon Carbon Co Ltd Carbon material manufacturing apparatus
JP2528285B2 (ja) 1986-05-27 1996-08-28 東洋炭素株式会社 黒鉛ルツボの保護方法
US4888242A (en) 1986-05-27 1989-12-19 Toyo Tanson Co., Ltd. Graphite sheet material
JPH0818803B2 (ja) 1986-08-08 1996-02-28 東洋炭素株式会社 耐火断熱黒鉛シ−ト材料
JPS63149142A (ja) 1986-12-12 1988-06-21 東洋炭素株式会社 多層成形断熱体並びにその製造方法
JP2566244B2 (ja) 1987-07-07 1996-12-25 日本化成株式会社 可撓性黒鉛シ−ト材料
JPH062637B2 (ja) 1987-07-13 1994-01-12 東洋炭素株式会社 単結晶引上装置
JP2591967B2 (ja) 1987-12-24 1997-03-19 東洋炭素株式会社 炭素質フェルト加工品並びにその製造方法
JP2805160B2 (ja) 1989-06-21 1998-09-30 東洋炭素株式会社 炭素質成形断熱体
JP2919901B2 (ja) 1989-12-28 1999-07-19 東芝セラミックス株式会社 溶融るつぼ装置
JP2620606B2 (ja) 1990-05-16 1997-06-18 東洋炭素株式会社 高純度可撓性膨張黒鉛シート及びその製造方法
JPH0739614Y2 (ja) 1993-04-12 1995-09-13 日本ピラー工業株式会社 クッション材
JPH07118067A (ja) 1993-10-22 1995-05-09 Toyo Tanso Kk 膨張黒鉛成形体の製造方法
JPH08333171A (ja) 1995-05-31 1996-12-17 Toyo Tanso Kk 離型シート及びこれを用いたセラミックス焼結法
JP3693772B2 (ja) 1996-12-17 2005-09-07 東ソー株式会社 不透明石英ガラス円筒の製造方法
JP2923260B2 (ja) 1997-03-19 1999-07-26 東洋炭素株式会社 単結晶引上装置、高純度黒鉛材料及びその製造方法
JP4256955B2 (ja) 1997-12-03 2009-04-22 東ソー株式会社 高純度透明石英ガラスおよびその製造方法
DE19855915C5 (de) 1997-12-03 2009-09-24 Tosoh Corp., Shinnanyo Transparentes hochreines Quarzglas und Verfahren zu dessen Herstellung
JP4014724B2 (ja) 1998-03-30 2007-11-28 東ソー株式会社 シリカガラスの製造方法
JP3410380B2 (ja) 1999-03-05 2003-05-26 東洋炭素株式会社 単結晶引上装置及び高純度黒鉛材料
JP2001261481A (ja) 2000-01-11 2001-09-26 Toyo Tanso Kk 炭素質ルツボの内面保護シート
FR2818666B1 (fr) 2000-12-27 2004-02-06 Snecma Moteurs Protection d'un bol en materiau carbone, notamment en composite c/c, destine a recevoir un creuset, tel qu'un creuset en silice pour le tirage de silicium
JP2003127267A (ja) 2001-10-29 2003-05-08 Fukui Prefecture 耐熱離型シートおよびその製造方法
DE10204468C1 (de) 2002-02-05 2003-06-18 Sgl Carbon Ag Verfahren zur Herstellung von hochreinen Verschleißeinlagen, nach dem Verfahren erhältliche Verschleißeinlage und deren Verwendung
JP2003252615A (ja) 2002-03-01 2003-09-10 Toyo Tanso Kk 膨張黒鉛シートの製造方法
KR100642923B1 (ko) 2002-06-18 2006-11-03 도요탄소 가부시키가이샤 가요성을 갖는 고순도 팽창 흑연시트와 그 제조방법, 및상기 시트를 이용한 카본 도가니의 내층
JP2004075521A (ja) 2002-06-18 2004-03-11 Toyo Tanso Kk 可撓性を有する高純度膨張黒鉛シート及びその製造方法並びに該シートを用いたカーボンルツボの中敷
JP3691836B1 (ja) 2004-08-27 2005-09-07 東洋炭素株式会社 膨張黒鉛シート
JP4565159B2 (ja) 2005-10-14 2010-10-20 独立行政法人産業技術総合研究所 温度定点セル、温度定点装置および温度計校正方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3492197A (en) * 1965-03-22 1970-01-27 Dow Chemical Co Novel compressed cohered graphite structures and method of preparing same

Also Published As

Publication number Publication date
US8097331B2 (en) 2012-01-17
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TW200806598A (en) 2008-02-01
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EP2055681A4 (en) 2010-03-24
US20090324886A1 (en) 2009-12-31
KR20090046748A (ko) 2009-05-11
WO2008015952A1 (fr) 2008-02-07
CN101489943A (zh) 2009-07-22

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