TWI261151B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Description

1261151 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種微影裝置、一種元件製造方法及由此 所製造之元件。 【先前技術】 微影裝置係一種將所要之圖案應用至基板之一目標區上 的機裔。微影裝置可用於（例如）積體電路之製造中。在 "亥種it況下，諸如光罩之圖案化元件可用於產生一對應於 該1C之個別層的電路圖案，且此圖案可被成像於具有輻射 敏感物貝（抗蝕劑）層之基板（如，矽晶圓）上之目標區（如， 包括部分、一或多個晶粒）上。_般而言，單一基板將含有 相繼受曝露之相鄰目標區之網路。已知微影裝置包括：所 明的步進益，其中藉由一次將整個圖案曝露於目標區上而 …、射母目心區，及包括所謂的掃描儀，其中藉由在一給 定方向（”掃描”方向）上藉由投影束掃描該圖案，同時平行於 或反平行於此方向同步地掃描該基板來照射每一目標區。 已提出將微影投影裝置中之基板浸沒於具有相對較高折 射率之液體（如，水）中以便填滿投影系統之最終組件與基板 之間之空間。由於曝光輻射在液體中將具有更短之波長， 因此此意義在於能夠使更小特徵成像。（該液體之作用亦可 視為增加系統之有效NA，且亦增加聚焦深度）。 然而’將基板或基板及基板台浸人液體浸泡劑中（例如參 見美國專利us 4,509,852,其以引用之方式全部併入本文中) 意味著在掃描曝光期間存有必須加速之大量液體。此要求 98036.doc 1261151 —卜或力率更大的馬達’且在液體中之紊流可導致不良且 不可預知之影響。 所提4之解決方案中之一種係用於一液體供應系統以使 ^液體供應系統而僅在基板之局部區域及投影系統之最 、、、且件與基板之間上提供液體（基板一般比投影系統之最 、、、且件具有更大之表面積）。已提出之為此作出安排之方法 :示於PCT專利申清案WQ 99/495〇4中，以引用之方式全部 併入本文中。如在圖2及圖3中所說明，液體較佳沿基板相 ，於最終組件進行移動之方向由至少一入口…供應至基 板，且於已在投影系統下方經過後藉由至少一出口 0UT而 矛夕除。即，當以-X方向在組件下掃描基板時，在組件之+χ 側供應液體，且在-X侧吸收液體。圖2示意性地展示該配 置，其中液體經由入口 ΙΝ供應，且由連接至低壓力源之出 OUT在組件之另一側處予以收集。在圖2之說明中，沿基 板相對於最終組件進行移動之方向供應㈣，儘管並不需 要如此。可能於最終組件周圍定位有多種方位及數量之入 口及出口，在圖3中說明-實例，其中在最終組件周圍以規 則圖案提供四組人口與出口，在人口之任—側均具有一出 Ό 〇 【發明内容】 除上述之解決方案之外，可提供一種第二解決方案中之 液體供應系統，該液體供應系統包含一沿投影系統之最終 組件與基板台之間之空間之一邊界中的i少部分延伸之密 封構件。該密封構件大體上在灯平面上相對於投影系統係 98036.doc 1261151 靜止的，但在z方向（在光軸方向上）上可存有某些相對運 動。於密封構件與基板之表面之間形成一密封。在一實施 例中，该欲封係非接觸式密封（contactless seal)，例如，氣 封。該種系統揭示於美國專利申請案US〗〇/7〇5,8〇5&us 1〇/705,783中，該等兩申請案以引用之方式全部併入本文 中。 可提供-種第二解決方案’其包含__附接至投影系統之 構件，其在投影系、统之最終組件之下方形成一空腔（h川〇w space)。將該構件之底部提供為距基板之表面足夠近以使得 毛細管廢力足夠強以至大由投影系統之最終組件與基板之間 之構件所創建之空腔内含有浸液。 雖然所有上述局部區域解決方案皆克服需要加速大量液 體之問題’但可改良每一該等解決方案。例如，已證實第 -解決方案在無大量及未受控制之液體溢出之狀況下是難 以實施的。另一實例為第二解決方案及第三解決方案可有 害地將干擾力傳輸至基板及/或投影系統，此係因為其與基 板之表面緊密之交互作用，而此交互作用為在空腔中保持 ，體所必需的。此外’每一解決方案並非尤其適於將不同 冋度之物件成像於基板台上，例如經由透鏡感應器。在投 影系統與基板之間不存有大量可為此等系統所用之空間， 且建立一可以高NA運作之液體供應系統可為困難的。每— 解，方案均可對成像基板之邊緣部份呈現出困難，例如， 田氣封#刀地疋位於基板之邊緣上時氣封可變得不平衡及/ 或當成像邊緣部份時可失去毛細管壓力。所有此等解決方 98036.doc 1261151 案最佳以低自由工作距離（其更高將係有利的）及以高液壓 (其更低將係有利的）而工作。 因此，例如，將浸液提供至一在投影系統與基板之間之 工間而無一些或所有上述問題，詳言之為避免顯著地將干 擾力傳輸至基板將係有利的。 根據一態樣，提供一種微影裝置，其包含： 一照明系統，其配置以提供一輻射光束； 一支撐結構，其配置以固定一圖案化元件，該圖案化元 件配置以於該光束之橫截面上賦予該光束一圖案·， 一基板台，其配置以固定一基板； 一投影系統，其配置以將該圖案化之光束投射於該基板 之一目標區上；及 一液體供應系統’其配置以將一浸液提供至一在該基板 與該投影系統之間之空間，該液體供應系統包含—障壁構 件，該障壁構件得、沿該空間之邊界的至少一部分延伸，且 位於-相對於基板台上之物件之位置，因此由在該障壁構 件人忒物件之間之該浸液所產生之任何毛細管壓力，均不 足以將浸液限制於該空間中， 其中在該障壁構件與該物件之間未提供任何密封。 、匕方式在使用中，允許該浸液洩漏出該障壁構件之 底部與該基板之間之空間，且因此浸液未被限制於該空間 中。因此，投影系統、障壁構件與基板之間之干擾力之傳 輸可侍以減小或降至最低。此外，在該空間中可能進行高 、、、版補充而無需使用高液體壓力。與其它液體供應系 98036.doc 1261151 統相比，在基板台之光軸方向之力亦可減小且更為怪定。 再者’不同於其它供應系統，由於在基板之邊緣處無密封 物干擾，因此當障壁構件經過基板之邊緣時無需複雜的量 測，邊緣部分之成像可變得更加容易。由於僅要求液體入 口，而無氣體供應，因此可增加障壁構件之簡單性。無氣 體供應意味著於浸液中形成有害影響成像品質之氣泡的可 能性可減小或降至最低。最後，與其它供應系統相比，可 增加-更大不受約束之工作距離(於投影系統與基板之間 之距離）。 在一實施例中，該裝置進一步包含至少一出口，以移除 浸液’該出口在障壁構件之徑向外部。以此方式，可收集 自供應系統之局部區域（即，在投影系統下方之區域）溢出之 浸液’不會增加障壁構件之複雜性，且大體上不會將干擾 力傳遞至基板和/或基板台。在—實施射，“位於基板 台上。 在-實施例中’障壁構件在機械上分離於投影系統，使 得干擾力並非由障壁構件而自動傳輸至投影系統。在一實 施例中，障壁構件係連接至支撐基板台之底架及/或支撐投 影系統之投影系統架。在一實施例中，障壁構件於投影系 統之光軸之方向上可自由移動。 為了系統之靈活性，該裝置可包含一致動器，其係組態 以調整障壁構件相對於基板之高度及/或傾斜度。 根據另-態樣，提供一種元件製造方法，皇包含. 將浸液提供至—在一基板台上之一基板與-投影系統之 98036.doc 1261151 間之空間’ 一障壁構件沿該空間邊界的至少一部分延伸； 藉由定位該障壁構件與該基板台上之—物件中之至少一 者，，得由該障壁構件與該物件之間之浸液所產生之任何 毛：S [力均不足以將浸液限制於該空間中而允許浸液在 轉壁構件與該基板台上之該物件之間浅漏；及 精由錢影系統而將—圖案化之韓射光束投射於該基板 之一目標區上。 根據另ϋ提供—種根據上述元件製造方法及/或由 上述微影裝置製造之元件。 雖然在本文中特定參考了微影裝置在1C之製造中之用 途’但是應瞭解，本文所描述之微影裝置可具有其它應用， 例如衣xe積體光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖 案液日日顯不咨（LCD)、薄膜磁頭等。熟習此項技術者應瞭 解在忒等替代應用之内容中，本文之術語”晶圓，，或”晶粒 ，，之任何使用均可視作分別與更通用之術語”基板”或"目標 區同義。本文所指之基板可在曝露前或曝露後（例 如）以一 執跡（track)(通$將一層抗蝕劑塗覆於基板上且使經曝露之 抗蝕d顯衫之工具）或度量或檢測工具來處理。若適合，則 可將本文之揭不内容應用於該等及其它基板處理工具。此 外，可不止一次地處理基板（例如）以創建多層1C，使得本文 所使用之術浯”基板”亦可指已含有多個經處理之層之基 板。 本文所使用之術語”輻射，，及，，光束，，包含所有類型之電磁 輪射’包括紫外線（UV)輻射（例如，具有365、248、193、 98036.doc -10- 1261151 1 57或1 26 nm之波長）。 本文所使用之術語”圖案化元件”應被廣泛地解釋為指可 用於將-圖案在-投影束之橫截面上賦予該投影束以便在 基板之-目標區中創建一圖案之任何元件。請注意，賦予 該投影束之該圖f可不精確地對應於基板之目標區中之所 要圖案。-般而言，賦予該投影束之圖案將對應於_在目 標區中所創建之元件中之特定功能層，例如積體電路。 一圖案化元件可為透射性的或反射性的。圖案化元件之 貫例包括％罩、可程式化鏡面陣列、及可程式化^^^面板。 光罩在微影中係熟知的，且包括諸如二元、交互式相移及 衰減相移型之光罩類型以及各種混合光罩類型。可程式化 鏡面陣列之一貫例採用小鏡面之矩陣排列，該等小鏡面中 之每一鏡面均可個別傾斜以便在不同方向上反射入射輻射 光士 ’·以此方式，彳圖案化所反射之光束。在圖案化元件 之母一實例中，支撐結構可為一架或台，例如，視需要其 可為固定的或可移動的，且其可（例如）相對於投影系統確保 圖案化元件處於所要之位置處。本文術語"主光罩”或，，光罩 之任何使用均可認為與更一般之術語，，圖案化元件，，同義。 本文所使用之術語”投影系統”應被廣泛地解釋為包含各 種頒型之投影系統，包括折射光學系統、反射光學系統、 及反射折射混合光學系統，並被解釋為適於（例如）所使用之 曝露輻射、或適於諸如使用浸液或使用真空之其它因素。 本文之術語”透鏡”之任何使用均可被認為與更一般之術語 ’’投影系統”同義。 98036.doc -11 - 1261151 照明系統亦可包含各種類型 <先孥組件，包括用於引 令、成形、或控制投影輻射光束 Μ、Β Λ 不爻折射、反射、及反射折 射化合光學組件，且該等組件在 稱為”透鏡"。 τ文亦可集體地或單獨地 :裝置可為具有兩個(雙平台)或兩個以上基板台(及/ ί個或兩個以上之光罩台）之類型。在該等,·多平台”機器 暖希栌叮士 $田―或多個其它台正用於 士路日”可在-或多個台上進行預備步驟。 【實施方式】 圖1示意性地描繪一根據本發 農置。該裝置包含： 特疋…列之微影 紫3明系統（照明器）IL，其用於提供一投影輕射（如， 备、外線輪射）束PB ; 弟一支擇結構（例如，_光罩台）Μτ，並用於 圖案化元件（例如，一氺 八、支撐一 _確定位該_二=^^ 基板台（例如，晶圓a ) 如，-塗佈抗钱劑之曰固定一基板(例 孔而料定位至一用於相對於項目 疋位邊基板之第二定位元件PW;及 案化：二(::折射投影·’其用於將-由圖 -目標區c(例=投影束。B之圖案成像於該基板k 如包含一或更多晶粒）上。 如本文所描繪， 该衣置為透射類型（例如，利用—透 £者，該裝置可為反射類型（例如，使用一如上文= 98036.doc -12- 1261151 提到之類型之可程式化鏡面陣列）。 照明器IL接收-來自輕射源⑽之輕射光束。例如，當該 光源為準分子雷射時，該光源與該微影裝置可為獨立實 體在.玄案例中，不認為該光源是該微影裝置之—部分， 且職射光束藉助於包含（例如）合適之導向鏡和/或光束放 大器之光束傳送系統BD，自該光源8◦傳遞至照明器化。在 =它案例巾’例如’當該光源為_汞燈時，該光源可為該 衣置之組成部分。$源8〇及照明器比與光束傳送系統 BD(若需要）一起被稱為—輻射系統。 照明器IL可包含-用於調整該光束之角強度分佈之調整 元件AM。通常，至少可調整照明器之光瞳平面中之強度分 佈的外部及/或内部之徑向範圍（通常分別稱為σ外部及〇内 4 )。此外，照明器IL 一般包含各種其它組件，例如，積分 器IN及聚光紅〇。照明器提供經調節之㈣光束，稱為投 影束PB，於其橫截面具有所要之均句性及強度分佈。 投影束PB入射在固定於光罩台河丁上之光罩河入上。於橫 過光罩MA後，投影束pb經過透鏡？乙，透鏡pL將該光束聚 集於基板W之一目標區C上。藉助於第二定位元件？貨及位 置感應器IF(例如，干涉元件），可精確地移動基板台wt , 例如，以便在光束PB之路徑中定位不同目標區c。類似的， 第—定位元件PM及另一位置感應器（其未在圖丨中明確地描 繪）可用於（例如）在自光罩庫機械檢索之後、或在掃描期 間，相對於光束PB之路徑而精確定位光罩MA。一般而言， 物件台MT及WT之移動可藉助於長衝程模組（粗糙定位）及 98036.doc 13 1261151

短衝程模組（精確定位）而實現，該等模組形成定位元件pM 及pw之一部分。但是，在步進器（與掃描儀相對）之狀況下， 光罩台MT可僅連接至短衝程致動器、或可為固定的。藉由 使用光罩對準標記Μ1、Μ 2及基板對準標記p〗、p 2可對準光 罩MA及基板W。 所描繪之裝置可用於以下較佳模式中： 1.在步進模式中，當-次性將職予投影束之整個圖案投 影於目標區C上時，光罩台MT及基板台评丁基本上保持靜止 (即’單-靜態曝露）。接著在X及/或丫方向上移動基板台 WT’使得可曝露不同目標c。在步進模式中，曝露區之最 大尺寸限制單一靜態曝露中所成像之目標區C之尺寸。 2.在掃描模式中，當賦予投影束之圖案被投影於目標區c =上時，同步掃描光罩台Μτ及基板#WT(即，單—動態曝 露）。基板台WT相對於光罩台MT之速度及方向係由投影系 統PL之放大率（縮小率）及影像反轉特徵所決定。在掃描模 式中，在單一動態曝露中之曝露區之最大尺寸限制目標區 :寬度(在非掃描方向上)，而掃描運動之長度決定目標區的 高度（在掃描方向上）。 3*在另一模式中，光罩台MT基本上保持靜止，其固定一 可程式化之圖案化元件’且當賦予投影束之圖案被投影於 目標區c上時，移動或掃描基板台WT。在此模式中，一般 脈衝式輻射源’且在基板台WT之每—次移動之錢 知心期間在連續的輻射脈衝之間時按需要更新可程式化之 圖案化元件。此運作模式可容易地應用於利用諸如上述類 98036.doc -14- 1261151 型之可程式化鏡面 微影術中。 陣列之可程式化之圖案化元件之無光罩 亦可採用上述模式之有用組合及/或變體或完全不同 有用模式。 圖4展示根據本發明之一實施例之一液體供應系統。該液 體供應系統包含一障壁構件1〇。該障壁構件1〇圍繞投景;系 統PL之最終組件。障壁構件1()沿投影系統pL之最終=盘 基板W之間之空間之邊界之至少_部分邊界延伸。該空間 一般以投影系統PL為界，障壁構件1〇及基板~填滿浸液5。 在I5早壁構件10與基板W之間無密封。障壁構件ι〇位於基 板W上之足夠遠處使得毛細管壓力不會起到使在投影系統 PL之最終組件與以障壁構件1〇為界之基板w之間之空間中 含有浸液5之作用；在使用中，例如在掃描或步進期間，如 所描述，在障壁構件1G之下方浸液5流出，此係因為在障壁 構件1〇之底部與基板W之頂部之間之間隙中所產生之任何 毛細管壓力均不足以含有該液體。障壁構件1〇可連接至底 架B F、投影系、统架R F及/或另一架。在一實施例中，障壁構 件1〇在機械上分離於投影系統PL，使得可防止賦予障壁構 件1〇上或由障壁構件H)所產生之干擾力、或至少限制其被 傳輸至投影系統PL。 例如，在掃描期間，未採取預防措施來密封空間5來避免 浸液之損失。在投影系統PL與障壁構件1〇之間之通道中之 浸液之水平係藉由一或多個入口端2〇提供浸液而被盡可能 地維持恆定。 98036.doc -15- 1261151 障壁構件1〇可僅由一或多個入口端20所組成，使得該配 置類似於圖3中所展示之配置，但出口端〇υτ為入口端。因 此，一或多個入口端20係在裝置之光軸周圍以圓周方式定 位0 經由形成於一般為環形之障壁構件丨〇之底部内邊緣上之 、，或多個入口端20提供浸液5。無論係閉合的（如，矩形）或 敞口的（如，U形），障壁構件10可為其它形狀。在一或多個 入口端20與浸液之供應設備22之間所提供之腔室24確保在 障壁構件10之内表面周圍以均勻壓力將浸液提供至空間 中，儘管浸液之源可係經由一或多個離散通道22(例如^盥 一連續凹槽相對）得以提供。一或多個入口端2〇可為一連續 凹槽。 、 如圖4所描述，障壁構件1〇在一或多個入口端之下方^ 一或多個入口端20之徑向向外延伸，而在徑向向内延伸$ 情況下，障壁構件1〇係較於一或多個入口端2〇之另一侧」 而置於離基板W更遠處。此設計降低在一或多個入口端2 處夾雜氣體之可能性。 為避免由填充障壁構件10之底部與基板w之頂部之間每 間隙之浸液5所產生之顯著的毛細管壓力，在一實施例中 障壁構件之底部距基板％至少5G_。在—實施例中，該诞 離大體上為100㈣或大體上為15〇 μηι。大於鳩叫（甚至 400㈣之距離可並非罕見的，例如，在感應器7q之掃描期 間。若浸液為水，則此等為典型距離。對於其它液體，所 要求之距離可為不同的。障壁構件1〇在2軸4〇上可為移動 98036.doc -16- 1261151 的，使得可調整基板w(或任何其它物件）與障壁構件ι〇之間 之距離。障壁構件亦可關於大體上垂直於Z軸40之一或多個 轴移動，使得可調整基板w(或任何其它物件）與障壁構件1〇 之間之傾斜度。或者或另外，基板台WT可在2軸4〇上移動 以調整基板W(或任何其它物件）與障壁構件〗〇之間之距 離，及/或基板台可關於大體上垂直於2軸4〇之一或多個軸 移動以調整基板W(或任何其它物件）與障壁構件之間之 傾斜度。 因此，在使用中，浸液自障壁構件10徑向向外溢出，且 在基板（或物件（例如，基板台WT))上流動，且可以低壓經 由一或多個入口端20提供浸液。若浸液為水，則在一或多 個入口端20中約1000 Pa之壓力大約係合適的，且在供應通 這與於投影系統下方之密封裝置之間具有合適的約束，在 投影系統之下方可達成約1〇〇 Pa之壓力。因此，在基板台 wt上提供之一小的恆定2力，其約為5〇1立贝。 為移除已自液體供應系統溢出之浸液，可提供一或多値 出口 60、63、66。該等出口自障壁構件1()徑向向外定位， 且不形成障壁構件10之一部分。任何配置可用於出口，卫 在圖4中展示三種可能性。一典型出口 6〇可為一連接至底架 BF或投影系統架RF(展示在圖…之出口，且其自基板^ 基板台WT或安裝有感應器70或擋板構件8〇之基板台之表 面移除液體（以下更詳細地說明）。或者或另外，在基板^ WT之頂面上可提供一或多個出口63，及/或在基板以_ 處可提供-或多個出口 66。為避免溢出，在基板台WT之拜 98036.doc 1261151 圍可提供一輪緣5 0。 液體供應系統可用於藉由安裝在基板台WT上之透鏡感 應器70以及一擋板構件8〇成像，該擋板構件8〇可經由一真 空源由磁體等附接至障壁構件1〇之底部，此確保在交換基 板W期間投影系統PL之最終組件保持濕的。在美國專利申 請案US 10/705,785中更為詳細地說明了擋板部件，以弓！用 之方式全部併入本文中。針對感應器7〇(例如，其可為傳輸 影像感應器（tis))及擋板構件80兩者，可朝向基板w降低障 壁構件ιο(及/或可朝向障壁構件1〇提昇基板台WT)。當成像 感應器70時不發生掃描，且於此期間（及其它沒有發生掃描 之時間），可降低障壁構件1〇中之液體之壓力，使得在障壁 構件ίο與基板台wt之間可形成一彎月液面（meniscus)，致 使較少液體漏出以及可降低障壁構件1 〇。 可基於基板台WT相對於投影系統之位置來使用障壁構

件10之自適應性高度控制（參見歐洲專利申請案EP 03256643.2

以引用之方式全部併入本文中）。 雖然上文已說明本發明之具體實施例，但應瞭解，本發 明之貝施方法亦可不同於本文所說明之實施方法。本說明 不欲限制本發明。 【圖式簡單說明】 圖1描繪-根據本發明之一實施例之微影裝置； 圖x也、截面之方式說明先前技術之一液體供應系統； 圖3以俯視圖方式描述圖2之該液體供應系統；及 圖4 σ兒明根據本發明之_實施例之液體供應系統。 98036.doc -18- 1261151 【主要元件符號說明】 5 浸液 10 障壁構件 20 入口端 22 離散通道 24 腔室 40 Z軸 50 輪緣 60，63，66 出口 70 感應器 80 擋板構件 AM 調整元件 BF 底架 C 目標區 CO 聚光器 IF 位置感應器 IL 照明器 IN 積分器 Ml, M2 光罩對準標記 MA 圖案化元件/光罩 MT 光罩台 Pl，P2 基板對準標記 PB 投影束 PL 投影系統 98036.doc -19- 1261151 RF 投影系統架 W 基板 WT 基板台

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Claims (1)

1261151 十、申請專利範圍： 1 · 一種微影裝置，包含·· 一恥明系統，其配置以提供一輻射光束； -支撐結構，其配置以固定一圖案化元件，該圖案化 70件配置以於該光束之截面賦予該光束;、 一基板台，其配置以固定一基板； -投影系、统，其配置以將該圖案化之 板之一目標區上；及 一液體供應統’其配置以將—浸液提供至一在該基 板與該投影系統之間之空間’該液體供應系統包含—障 Z構件，該障壁構件沿該空間之邊界的至少—部分延 ’ ^位於-相對於該基板台上之—物件之位置，因此 在该障壁構件與該物 ^士丨…亥物件之間之該浸液所產生之任何毛細 ^力，均*足以將該浸液限制於該空間中， :中在該障壁構件與該物件之間未提供密封物。 置在進-步包含至少，，以移除浸 夕出口在該障壁構件之徑向外部。 4·如=項2之裝置，其中該至少一出口係在該基板台上。 •=項2之裝置’其中該至少-出口係懸於該基板台之 5 ·如請求項1之类 ϋ 、 ，/、中該物件包含該基板，且在該障壁 6以與該基板之間的―距離至少為5〇_。 6 ·如請求項4之劈罢 Μ . 乂 ，其中该物件包含該基板，且在該障壁 構件與該基板之間的—距離為大體上⑽叫、15〇叫或 98036.doc 1261151 μηι之 7. ^求項1之裝置’其中該障壁構件與該投影系統機械隔 δ. I::::1 广一裝置:其中該障壁構件連接至-支撐該基板 口 -木與一支撐該投影系統之投影系統架至少之一。 9.=項1之裝置，其中該障壁構件可在該投影系統之-光軸方向上自由移動。 項1之裝置，進—步包含—致動器，該致動器配置 以调整該障壁構件相對於該物件之高度及傾斜度至少之 — 〇 感應器 π ·如明求項1之裝置，盆中 及一擋板至少之 /、甲5亥物件包含：該基板、 乃一格4广π .1、 :求員1之I置’其中該障壁構件包含至少一入口， 將該浸液供應至該空間。 13. —種元件製造方法，包含·· 將一浸液提供至一在一美士 你 I板台上之一基板與一投影 統之間之空間，一隆辟 Ρ早土構件沿該空間之邊界的至少一 分延伸； 一藉由定位該障壁構件及該基板台上之一物件至少 ’使得該障壁構件與該物件之間㈣浸液所產生之 q Β【力’不足以將該浸液限制於該空間中，以 /又液在π亥障壁構件與該物件之間泡漏；及 使用該投影系统將_ Ρ安儿 、、兄將圖案化之輻射光束投射於該基 之一目標區上。 98036.doc 1261151

出口移除浸液。 方法’其中該至少一出口被定位 如請求項13之元件製造方法 件之向外部之至少一出口 如請求項14之元件製造方法 於该基板台上。 士 W求項1 3之元件製造方法，其中該物件包含該基板， 且在邊障壁構件與該基板之間的一距離至少為50 μηι。 如π求項丨3之元件製造方法，其中該障壁構件與該投影 系統機械隔離。 18·如明求項13之元件製造方法，包含以該投影系統之一光 軸方向移動該障壁構件。 19·如請求項13之元件製造方法，其中該物件包含··該基板、 一感應器及一播板至少之_。 2〇·如請求項13之元件製造方法，包含自該障壁構件將該浸 液供應至該空間。 21. —種微影裝置，包含·· 一照明系統，其配置以提供一輻射光束； 一支撐結構，·其配置以固定一圖案化元件，該圖案化 元件配置以在該光束之橫截面上賦予該光束一圖案； 一基板台，其配置以固定一基板； 一投影系統，其配置以將該圖案化之光束投射於該基 板之一目標區上；及 一液體供應系統，其配置以將一浸液提供至一在該基 板與該投影系統之間的空間，該液體供應系統包含至少 一提供於該空間之一邊界上之浸液入口端， 98036.doc 1261151 其中該浸液大體上並未限定在該空間中，因此浸液可 流出該空間。 22·如請求項2 1之裝置，進一步包含至少一浸液出口端，該 至少一浸液出口端在該至少一浸液入口端之徑向外部。 23·如請求項22之裝置，其中該至少一浸液出口係在該基板 台上。 24·如請求項22之裝置，其中該出口係懸於該基板台之上方。 25.如請求項21之裝置，其中在該障壁構件與該基板之間的 一距離至少為50 μηι。 26·如請求項21之裝置，其中該至少一浸液入口端與該投影 糸統機械隔離。 27. 如請求項21之裝置，其中該至少一浸液入口端係連接至 一支撐該基板台之底架及一支撐該投影系統之投影系統 架至少之一。 28. 如請求項21之裝置，其中該至少一浸液入口端可在該投 影系統之一光軸方向上自由移動。 29. 如請求項21之裝置，進一步包含一致動器，該致動器配 置以調整該至少一浸液入口端相對於該基板之高度及傾 斜度至少之一。 30. —種微影裝置，包含·· 一如、明糸統，其配置以提供一輻射光束； 一支撐結構，其配置以固定一圖案化元件，該圖案化 元件配置以在該光束之橫截面上賦予該光束一圖案； 一基板台，其配置以固定一基板； 98036.doc 1261151 一投影系統，其配置以將該圖案化之光束投射於該基 板之一目標區上；及 一液體供應系統，其配置以將一浸液提供至一在該基 板與该投影系統之間之空間，該液體供應系統包含至少 一浸液入口端， 其中僅在該基板台上及懸於該基板台上方至少之一方 式’提供至少一浸沒液體出口端。 31. 32. 33. 34. 35. 36. 士明求項3 0之裝置，其中該至少一浸液出口端在該至少 一浸液入口端之徑向外部。 月长項3 0之裝置，其中在該至少一浸液入口端與該基 板之間的一距離至少為50 μηι。 /月求項30之裝置，其中該至少一浸液入口端與該投影 系統機械隔離。 h求項3G之裝置’其中該至少—浸液人口端係連接至 一支撐該基板台之底座及一支撐該投影系統之投影 架至少之一。 浸液入口端可在該投 如請求項30之裝置，其中該至少一 p系、先之一光軸方向上自由移動。 如請求項30之裝 置以調整該至少 斜度至少之一。 置，進一步包含一致動器，該致動器配 一浸液入口端相對於該基板之高度及傾 98036.doc