JPH0747157B2 - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH0747157B2 JPH0747157B2 JP60026276A JP2627685A JPH0747157B2 JP H0747157 B2 JPH0747157 B2 JP H0747157B2 JP 60026276 A JP60026276 A JP 60026276A JP 2627685 A JP2627685 A JP 2627685A JP H0747157 B2 JPH0747157 B2 JP H0747157B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- chamber
- cooling
- raw water
- polisher
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、次世代超純水製造プロセスに係り、特に、小
型化の超純水製造装置に関する。
型化の超純水製造装置に関する。
従来の超純水製造プロセスを第３図に示す。これらのプ
ロセスは、凝集沈澱，過，逆浸透，イオン交換樹脂脱
塩（以上が一次純水系），プレフイルタ，ポリシヤ,UV
（紫外線殺菌），限外過（以上が二次純水系）などの
多数の要素機器で構成されるため、大型装置による大容
量集中処理方式で超純水が製造されている。従つてこれ
らの問題点を示すと次の通りである。
ロセスは、凝集沈澱，過，逆浸透，イオン交換樹脂脱
塩（以上が一次純水系），プレフイルタ，ポリシヤ,UV
（紫外線殺菌），限外過（以上が二次純水系）などの
多数の要素機器で構成されるため、大型装置による大容
量集中処理方式で超純水が製造されている。従つてこれ
らの問題点を示すと次の通りである。
（１）プロセス内での水質低下 （２）設置面積が大 （３）システムダウン時の補機の製作費が大 （４）メインテナンスが困難 ここで、上記（１）はプロセス内の配管が長いために、
ユースポイントに至る間に再汚染され、水質が低下する
ためである。また（４）は、特にイオン交換樹脂脱塩装
置における樹脂再生操作に起因する。
ユースポイントに至る間に再汚染され、水質が低下する
ためである。また（４）は、特にイオン交換樹脂脱塩装
置における樹脂再生操作に起因する。
以上、装置が大型であるために起こる問題点が多いた
め、プロセスの小型化が強く要求されている。なお、関
連する公知技術に、ニツケイ・メカニカル1984.5.21.p5
4に記載されているものがある。
め、プロセスの小型化が強く要求されている。なお、関
連する公知技術に、ニツケイ・メカニカル1984.5.21.p5
4に記載されているものがある。
本発明の目的は、小型でポリシャの交換頻度を低減でき
る超純水製造装置を提供することにある。
る超純水製造装置を提供することにある。
上記目的を達成するために本発明は、原水を加熱する加
熱器と、該加熱器で加熱された原水を取り込む原水室
と、該原水室に疎水性多孔質膜を介して隣接し、該疎水
性多孔質膜における原水の蒸発を促進するために内部が
十分に減圧され、該疎水性多孔質膜で蒸発した蒸気を冷
却壁で凝縮して凝縮水を得る透過室と、該透過室に前記
冷却壁を介して隣接し該冷却壁を冷却するための冷却水
が流れる冷却室と、を有する蒸発装置、該蒸発装置の前
記透過室で得られた凝縮水中のイオンを除去するポリシ
ャ、及び該ポリシャで処理した水中の残留懸濁固形物を
除去する濾過膜装置を備えたものである。
熱器と、該加熱器で加熱された原水を取り込む原水室
と、該原水室に疎水性多孔質膜を介して隣接し、該疎水
性多孔質膜における原水の蒸発を促進するために内部が
十分に減圧され、該疎水性多孔質膜で蒸発した蒸気を冷
却壁で凝縮して凝縮水を得る透過室と、該透過室に前記
冷却壁を介して隣接し該冷却壁を冷却するための冷却水
が流れる冷却室と、を有する蒸発装置、該蒸発装置の前
記透過室で得られた凝縮水中のイオンを除去するポリシ
ャ、及び該ポリシャで処理した水中の残留懸濁固形物を
除去する濾過膜装置を備えたものである。
本発明によれば、従来の多数の要素機器からなる一次純
水系の替わりに蒸発装置を設置したことにより、超純水
製造装置の小型化を図ることができる。
水系の替わりに蒸発装置を設置したことにより、超純水
製造装置の小型化を図ることができる。
また、蒸発装置の透過室内を十分に減圧することによ
り、透過室内の水蒸気をほぼ飽和状態にできるので、透
過室で得る凝縮水中への不純物（炭酸ガス等）の混入を
十分に低減できる。従って、ポリシャで除去する凝縮水
中の不純物イオンの量を大幅に低減できるので、ポリシ
ャの交換頻度を低減することができる。
り、透過室内の水蒸気をほぼ飽和状態にできるので、透
過室で得る凝縮水中への不純物（炭酸ガス等）の混入を
十分に低減できる。従って、ポリシャで除去する凝縮水
中の不純物イオンの量を大幅に低減できるので、ポリシ
ャの交換頻度を低減することができる。
以下、本発明の実施例を第１図及び第２図を用いて説明
する。第２図は、本発明の１実施例の超純水製造装置を
用いた超純水製造プロセスを、第１図は、第２図の蒸発
装置の詳細をそれぞれ示す図であるる。
する。第２図は、本発明の１実施例の超純水製造装置を
用いた超純水製造プロセスを、第１図は、第２図の蒸発
装置の詳細をそれぞれ示す図であるる。
第１図には、疎水性多孔質膜を用いた蒸発装置の実施例
を示す。本装置では、疎水性多孔質膜１と冷却面５を多
数積層することで、原水室2,透過室3,冷却室４を多数構
成している。この蒸発装置においては、原水を加熱器６
で加温し、各原水室２内に送り込まれる。疎水性多孔質
膜１によって両側が構成されている原水室２に送り込ま
れた原水は、疎水性多孔質膜１面で蒸発し、膜内を透過
した後さらに透過室３内を移動し、冷却面５上で冷やさ
れ凝縮する。本装置においては、液体は透過しないが気
体は透過する疎水性多孔質膜１を用いることで、水蒸気
だけを選択的に分離できることから、ミスト飛散による
生成水の汚染等の問題も無く、より一層のコンパクト化
が可能となる。本装置は、原水を加熱器６で加温し、原
水と冷却面５上の温度差（水蒸気分圧差）をドライビン
グホースとして蒸発が起こる。更に、透過室３内を十分
に減圧することで、圧力差もドライビングホースとして
利用し蒸発を促進することができる。また、透過室３内
を十分に減圧することにより、透過室３内の水蒸気をほ
ぼ飽和状態にできるので、透過室３で得る一次純水（凝
縮水）中への不純物（炭酸ガス等）の混入を十分に低減
できる。これは、透過室３で得た一次純水中の不純物イ
オンを除去するポリシャの交換頻度の低減に寄与する。
を示す。本装置では、疎水性多孔質膜１と冷却面５を多
数積層することで、原水室2,透過室3,冷却室４を多数構
成している。この蒸発装置においては、原水を加熱器６
で加温し、各原水室２内に送り込まれる。疎水性多孔質
膜１によって両側が構成されている原水室２に送り込ま
れた原水は、疎水性多孔質膜１面で蒸発し、膜内を透過
した後さらに透過室３内を移動し、冷却面５上で冷やさ
れ凝縮する。本装置においては、液体は透過しないが気
体は透過する疎水性多孔質膜１を用いることで、水蒸気
だけを選択的に分離できることから、ミスト飛散による
生成水の汚染等の問題も無く、より一層のコンパクト化
が可能となる。本装置は、原水を加熱器６で加温し、原
水と冷却面５上の温度差（水蒸気分圧差）をドライビン
グホースとして蒸発が起こる。更に、透過室３内を十分
に減圧することで、圧力差もドライビングホースとして
利用し蒸発を促進することができる。また、透過室３内
を十分に減圧することにより、透過室３内の水蒸気をほ
ぼ飽和状態にできるので、透過室３で得る一次純水（凝
縮水）中への不純物（炭酸ガス等）の混入を十分に低減
できる。これは、透過室３で得た一次純水中の不純物イ
オンを除去するポリシャの交換頻度の低減に寄与する。
第２図は本発明に係る超純水（高温）製造プロセスを示
す。本プロセスは蒸発装置，ポリシャ，高温限外過膜
装置から成る。蒸発装置は第１図で述べたものと同一で
ある。蒸発装置では、冷却水の温度を調節することによ
り、希望温度の一次純水を得ることができる。この高温
一次純水はポリシャで微量金属イオンが除去され、高温
限外過膜装置で残留懸濁固形物が除去され、高温の超
純水が得られる。本方式においては、生成水が高温であ
ることから、UV装置による殺菌が不要となり、さらにコ
ンパクト化することができる。ここで、ポリシャには高
温に耐え得る微粒イオン交換樹脂（５〜1000μｍ）ある
いは複合吸着剤（MgｘAlｙ（OH）２など）が充填され
る。同様に、高温限外過膜装置はポリスルホン系等の
耐熱性部材で構成される。
す。本プロセスは蒸発装置，ポリシャ，高温限外過膜
装置から成る。蒸発装置は第１図で述べたものと同一で
ある。蒸発装置では、冷却水の温度を調節することによ
り、希望温度の一次純水を得ることができる。この高温
一次純水はポリシャで微量金属イオンが除去され、高温
限外過膜装置で残留懸濁固形物が除去され、高温の超
純水が得られる。本方式においては、生成水が高温であ
ることから、UV装置による殺菌が不要となり、さらにコ
ンパクト化することができる。ここで、ポリシャには高
温に耐え得る微粒イオン交換樹脂（５〜1000μｍ）ある
いは複合吸着剤（MgｘAlｙ（OH）２など）が充填され
る。同様に、高温限外過膜装置はポリスルホン系等の
耐熱性部材で構成される。
本発明によれば、小型でポリシャの交換頻度を低減でき
る超純水製造装置を得ることができる。
る超純水製造装置を得ることができる。
第１図は第２図の蒸発装置の詳細を示す図、第２図は本
発明の１実施例の超純水製造装置を用いた超純水製造プ
ロセスを示す図、第３図は従来の超純水製造プロセスを
示す図である。 １……疎水性多孔質膜、２……原水室、３……透過室、
４……冷却室、５……冷却面、６……加熱器。
発明の１実施例の超純水製造装置を用いた超純水製造プ
ロセスを示す図、第３図は従来の超純水製造プロセスを
示す図である。 １……疎水性多孔質膜、２……原水室、３……透過室、
４……冷却室、５……冷却面、６……加熱器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 9/00 Ｊ 7446−4Ｄ ５０４ Ｂ 7446−4Ｄ // Ｃ０２Ｆ 1/44 Ｊ 8014−4Ｄ (72)発明者 高橋 燦吉 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (56)参考文献 特開 昭60−172390（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−190298（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−206410（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−104082（ＪＰ，Ａ) 特公 昭49−45461（ＪＰ，Ｂ１) 大矢晴彦編著「逆浸透・限外濾過法▲Ｉ Ｉ▼膜利用技術ハンドブック」（昭53−６ −30）幸書房Ｐ．178〜187
Claims (1)
- 【請求項１】原水を加熱する加熱器と、該加熱器で加熱
された原水を取り込む原水室と、該原水室に疎水性多孔
質膜を介して隣接し、該疎水性多孔質膜における原水の
蒸発を促進するために内部が十分に減圧され、該疎水性
多孔質膜で蒸発した蒸気を冷却壁で凝縮して凝縮水を得
る透過室と、該透過室に前記冷却壁を介して隣接し該冷
却壁を冷却するための冷却水が流れる冷却室と、を有す
る蒸発装置、 該蒸発装置の前記透過室で得られた凝縮水中のイオンを
除去するポリシャ、及び該ポリシャで処理した水中の残
留懸濁固形物を除去する濾過膜装置を備えたことを特徴
とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60026276A JPH0747157B2 (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60026276A JPH0747157B2 (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 超純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61187984A JPS61187984A (ja) | 1986-08-21 |
| JPH0747157B2 true JPH0747157B2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=12188759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60026276A Expired - Lifetime JPH0747157B2 (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747157B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63147515A (ja) * | 1986-07-19 | 1988-06-20 | Nitta Zerachin Kk | 超純水の製法 |
| TWI245163B (en) | 2003-08-29 | 2005-12-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US7394521B2 (en) | 2003-12-23 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| SG124359A1 (en) | 2005-01-14 | 2006-08-30 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5240068B2 (ja) * | 1972-09-06 | 1977-10-08 | ||
| JPS54104082A (en) * | 1978-02-02 | 1979-08-15 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Gas filtration |
| JPS60172390A (ja) * | 1984-02-17 | 1985-09-05 | Ebara Infilco Co Ltd | 超純水の製造方法 |
| JPS60190298A (ja) * | 1984-03-09 | 1985-09-27 | Ebara Infilco Co Ltd | 超純水の製造方法 |
| JPS60206410A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-18 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 液体の分離方法及びその装置 |
-
1985
- 1985-02-15 JP JP60026276A patent/JPH0747157B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 大矢晴彦編著「逆浸透・限外濾過法▲ＩＩ▼膜利用技術ハンドブック」（昭５３−６−３０）幸書房Ｐ．１７８〜１８７ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61187984A (ja) | 1986-08-21 |
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