JPH06296966A - 脱炭酸装置、及び同装置を組込んだ純水製造装置 - Google Patents

脱炭酸装置、及び同装置を組込んだ純水製造装置

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JPH06296966A
JPH06296966A JP5087702A JP8770293A JPH06296966A JP H06296966 A JPH06296966 A JP H06296966A JP 5087702 A JP5087702 A JP 5087702A JP 8770293 A JP8770293 A JP 8770293A JP H06296966 A JPH06296966 A JP H06296966A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 原水を脱炭酸するに際し、酸を使用しない。 【構成】 原水を電解装置1の陽極室1aで電解して酸
性水とした後、脱ガス装置2で脱炭酸し、次いで上記脱
炭酸をした酸性水を陰極室1bで電解してアルカリを発
生させて中和する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水中の炭酸成分を除去す
る脱炭酸装置、及び同装置を組込んだ純水製造装置に関
し、更に詳述すれば、酸を使用せずに脱炭酸をする脱炭
酸装置、及び半導体製造工場や、火力・原子力発電等で
広く使用されている純水を酸、アルカリ薬品を使用しな
いで製造することのできる純水製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体工場や火力・原子力発電所等のボ
イラ補給水には、多量の純水や超純水が用いられてい
る。これらの純水や超純水を製造するために、従来イオ
ン交換樹脂を用いた脱塩塔、逆浸透膜(脱塩)装置、イ
オン交換膜及びイオン交換樹脂を用いた電気式脱イオン
水製造装置等の各種の脱塩装置が単独で、又は適宜これ
らを組み合わせて使用されている。これらの装置に供給
して純水を製造するための原水としては、市水、工業用
水、回収水等があるが、いずれも炭酸成分として炭酸ガ
ス、重炭酸イオン等を含んでいる。この炭酸成分を除去
するため、例えば陽イオン交換樹脂塔と陰イオン交換樹
脂塔とを組合わせてなる脱塩装置を用いる方式の場合に
は、原水を陽イオン交換樹脂塔に通水し、原水中に含ま
れるNa,Ca等の陽イオン成分を水素イオンと交換除
去して、酸性水にした後、脱炭酸装置により炭酸成分を
気体として除去し、その後陰イオン交換樹脂塔に通水す
るようにしている。
【0003】しかし、上記方式においては、イオン交換
に伴い陽イオン交換樹脂に吸着したNa,Ca等の陽イ
オン成分を塩酸、硫酸等の薬品を用いて再生する必要が
あり、この場合には酸性の廃液が発生するので、当該廃
液を廃棄するためには苛性ソーダ等のアルカリ剤で中和
する必要がある。
【0004】また陽イオン交換樹脂塔を使用しない方式
の場合には、例えば図4に示すように脱炭酸塔22の入
口で原水23に塩酸等の酸を添加して酸性水とした後、
脱炭酸塔22で炭酸成分を気体として除去し、その後貯
槽24でアルカリを添加してアルカリ水として脱炭酸塔
22の出口水中に極く少量残留している炭酸ガスを再度
炭酸塩となし、2段直列に接続した逆浸透膜装置25,
26に送り、ここで原水中の各種イオンを脱塩除去して
いる。なお、上記方法では逆浸透膜装置の代りに電気式
脱イオン水製造装置を用いることもできる。
【0005】しかし、この方式の場合には、添加する酸
は重炭酸イオン等の炭酸成分と反応して消費されるた
め、多量の酸の添加を必要とする。多量の酸の添加は原
水中の陰イオン成分の増加をもたらし、これは逆浸透膜
装置、電気式脱イオン水製造装置へのイオン負荷の増加
となり、処理水純度の低下をもたらす。なお、脱炭酸塔
から流出する酸性水を直接逆浸透膜装置で処理する場合
もあるが、逆浸透膜装置においては一般に供給水の約2
5%程度は濃縮水として系外に排出する必要があり、そ
のため、酸の廃液が発生する。
【0006】したがって、この場合も発生する廃液の廃
棄に際してはアルカリで中和する必要があり、苛性ソー
ダ等のアルカリ剤が必要となる。上述のごとく、従来装
置においては、酸性の廃液の発生や、酸、アルカリ薬品
を多量に要することが欠点となっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、脱ガス
装置と逆浸透膜装置、あるいは電気式脱イオン水製造装
置を組合わせて純水を製造するにあたり、原水水質とそ
の処理水である純水の水質について、種々の検討を重ね
た結果、原水中に溶存する炭酸成分に由来するCO2
脱ガス装置で充分除去することが好ましいが、従来の脱
ガス装置には上述したような種種の問題点があることを
見い出した。
【0008】これを更に詳しく説明すると、脱ガス装置
で溶存するCO2 を除去する場合、図3のpHとCO
2 、又はHCO3 -の組成比の関係に示されているよう
に、脱ガス装置の入口水はpH5以下にすることが好ま
しい。従って、原水に対し酸、例えば塩酸を添加し、p
Hを5以下として脱炭酸ガス処理をする従来法の場合、
前述のごとく、原水には一般にMアルカリ度として重炭
酸イオン等の炭酸成分が比較的多量に含まれているた
め、多量の塩酸が消費される問題がある。更に次の脱塩
装置、例えば逆浸透膜装置、電気式脱イオン水製造装置
等で処理する際には、酸性側では脱ガス装置で除去でき
なかった少量の残留CO2 の除去性が悪いため、高純度
の純水を得ようとする場合には脱ガス装置の出口水に対
して苛性ソーダ等のアルカリ薬品を添加して中性ないし
はアルカリ水とし、残存するCO2(H2CO3 )をHC
3 -に再度転化する必要があり、このため酸とアルカリ
の消費量が多くなるものである。
【0009】このようにして添加された塩酸及び苛性ソ
ーダはNaClとして原水中に残るため、脱塩装置への
イオン負荷の増加となり、処理水水質を低下させる。
【0010】このように塩酸等の酸性薬品を使用し、脱
ガス装置で炭酸成分を除去する場合、多量の薬品を必要
とし、また逆に添加した薬品により処理水水質が低下す
る欠点を有する。
【0011】本発明者等は、上述のような従来技術の問
題点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、脱ガス装置用
のpH調整器として電解装置を使用すると、薬品を用い
ることなくpHを調整でき、脱ガス装置の入口水とし
て、最適なpH約4.5の酸性水を簡単に得ることがで
きると共に、その後段の脱塩装置として、逆浸透膜装置
や電気式脱イオン水製造装置を用いる場合には、これら
の装置で脱塩するのに適したアルカリ側pHにも調整で
きることを知得し、本発明を完成するに至ったもので、
その目的とする所は、酸、アルカリの薬品を使用せず、
また、酸、アルカリの廃液の発生しない脱炭酸装置、及
び純水製造装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明においては脱炭酸装置を、陽極を備えた陽極室
と陰極を備えた陰極室と及び前記陽極室と陰極室とを隔
離する隔膜とを有する電解装置と、脱ガス装置とを有し
てなり、まず炭酸成分を含有する原水を陽極室で電解し
て酸性水とし、次いで前記酸性水を脱ガス装置で脱炭酸
ガス処理をして処理水とし、その後前記処理水を陰極室
で電解して中性水又はアルカリ水として取り出すように
構成するものである。
【0013】また本発明は前記脱炭酸装置と、逆浸透膜
装置とを有してなり、脱炭酸装置から取り出した中性水
又はアルカリ水を更に逆浸透膜装置で処理して純水を取
り出すように構成する純水製造装置である。
【0014】更に本発明は上記脱炭酸装置と、電気式脱
イオン水製造装置とからなり、脱炭酸装置から取り出し
た中性水又はアルカリ水を更に電気式脱イオン水製造装
置で処理して純水を取り出すように構成する純水製造装
置である。
【0015】以下、本発明を図面を参照して詳細に説明
する。
【0016】図1は、本発明の構成例を示すもので、図
1中破線内の領域(A)には本発明の脱炭酸装置の一例
をフロー図で示している。また、(A)の領域で示す脱
炭酸装置に、(B)の領域に示される構成例を加える
と、本発明の純水製造装置の一例を構成する。
【0017】図中1は電解装置で、内部に陽極(不図
示)を備えた陽極室1aと、内部に陰極(不図示)を備
えた陰極室1bとからなる電解室を有しており、前記陽
極室1aと陰極室1bとの間には、電流は通すが、水の
自由な移動を制限するための隔膜1cが設けられてい
る。上記隔膜としては、精密濾過膜(MF)、限外濾過
膜(UF)、逆浸透膜(RO)等の分離膜あるいはイオ
ン交換膜等が好ましく、前記陰、陽極間に直流電流を通
すことにより、陽極でH+ を、陰極でOH- を発生させ
るものである。また、効率的な電解を行うためには、複
数の電極と隔膜を交互に配置し多数の電解室を用意する
ことも可能である。この原理を応用した装置としては、
例えばアルカリイオン水生成器(日本インテック社)等
がある。
【0018】2は脱ガス装置で、例えば空気、N2 富化
空気、N2 ガスにより曝気する脱炭酸塔、真空脱気塔、
膜脱気装置等公知のものを用いる。
【0019】3は貯槽、5及び6はそれぞれ逆浸透膜装
置である。
【0020】かかる構成の純水製造装置において、工業
用水、市水等の炭酸成分を含む原水は配管11を通り電
解装置1の陽極室1aにて電解され、H+ の供給を受け
てpH4〜6の酸性水となり、これによって原水中に含
まれている前記炭酸成分のうちHCO3 -やCO3 2- がC
2 (H2 CO3 )に転換された後、配管12を通って
脱ガス装置2に供給される。脱ガス装置2にて原水中に
もともと存在した溶存CO2 及び転換されたCO2 は、
ガスとして原水中から効率よく除去される。しかしなが
ら、脱ガス装置2においては、気液平衡状態に従ってC
2 を100%除去することができないため、実際には
微量のCO2 が原水中に残留したまま脱ガス装置1を出
る。そして配管13を通って電解装置1の陰極室1bに
入り、電解により発生したOH- により、酸性水は中和
され、中性水又はアルカリ水とされ、水中に存在するC
2 が再びHCO3 -に軟換された後、配管14を通って
貯槽3に放出される。
【0021】以上に述べたように、領域(A)内に示す
構成により、独立して脱炭酸装置として機能するもので
あるが、上記の装置は更に領域(B)の構成を付加する
ことにより、純水製造装置となるものである。
【0022】すなわち、貯槽3内の中性水又はアルカリ
水4は配管15を通り第1の逆浸透膜装置5に至り、こ
こで脱塩処理がされる。逆浸透膜装置5の透過水は配管
16を介して第2の逆浸透膜装置6に送られ、ここで更
に脱塩処理がされ、透過水が純水として配管17から取
り出される。なお、9は第2の逆浸透膜装置6の濃縮水
を貯槽3へ返送するための配管で、また10は第1の逆
浸透膜装置5の濃縮水の系外への放出用配管である。
【0023】この場合、もし脱ガス装置2から取り出し
た酸性水を陰極室1bに送ることなくpHが4〜6で残
留CO2 が存在したままの状態で逆浸透膜装置に通水
し、脱塩処理した場合にはCO2 はガス成分のため膜を
透過しやすく、このため処理水の純度が低下する。しか
し、本発明においては、脱ガス装置を出た原水は再び電
解装置の陰極室に供給してpHを6以上に中和し、もし
くはアルカリ水とし、残存するCO2 を逆浸透膜で除去
することのできるHCO3 -に再び転換してから脱塩処理
をするので、純度の高い純水が得られるものである。ま
た必要な場合には陰極室出口水に極微量のアルカリを添
加してpH8以上とし、CO2 の転換を更に推進させる
ことも可能である。
【0024】なお、上記構成においては純水の純度を高
めて1MΩ以上にするために逆浸透装置5,6を2段に
配列して処理を行ったが、1段又は数段に構成してもよ
い。
【0025】上記構成においては脱塩のために逆浸透膜
装置を用いたが、これを電気式脱イオン水製造装置に置
き替えてもよい。
【0026】図2は前記構成例における逆浸透膜装置の
替わりに電気式脱イオン水製造装置を用いた純水製造装
置の例を示すフロー図であり、図2中、符号30は電気
式脱イオン水製造装置(以下、EDIということもあ
る)を示している。
【0027】該電気式脱イオン水製造装置30は、該E
DI30の脱塩室(図示せず)に被処理水を供給する被
処理水流入管31と該EDI30の濃縮室(図示せず)
に濃縮水を供給する濃縮水流入管32、及び上記脱塩室
から脱塩水である純水を取り出す処理水流出管33と上
記濃縮室から濃縮水を取り出す濃縮水流出管34を有し
ている。また、上記被処理水流入管31及び濃縮水流入
管32は、貯槽3内に導入された中性水又はアルカリ水
4を貯槽3から取り出すための配管15にそれぞれ連通
している。
【0028】なお図1と同様に(A)の領域が脱炭酸装
置、(B)の領域が純水製造装置を示している。
【0029】上記電気式脱イオン水製造装置30は、基
本的にはカチオン交換膜とアニオン交換膜で形成される
隙間に、イオン交換体として例えばアニオン交換樹脂と
カチオン交換樹脂のそれぞれの単独の樹脂層を交互に一
組以上積層したり、あるいはアニオン交換樹脂とカチオ
ン交換樹脂の混合イオン交換樹脂層を充填して脱塩室と
し、当該イオン交換樹脂層に被処理水を通過させると共
に、前記両イオン交換膜を介して被処理水の流れに対し
て直角方向に直流電流を作用させて、両イオン交換膜の
外側に形成した濃縮室に流れている濃縮水中に被処理水
中のイオンを電気的に排除しながら脱イオン水を製造す
るものである。
【0030】イオン交換体としては、この他にイオン交
換繊維等がある。上記電気式脱イオン水製造装置として
は、例えば特開平4−166215号、特公平4−72
567号等がある。
【0031】図2に示した本例の純水製造装置によって
純水を製造する場合は、貯槽3内の中性水又はアルカリ
水4を配管15を通して被処理水流入管31からEDI
30の脱塩室に、また濃縮水流入管32からEDI30
の濃縮室にそれぞれ流入させると共に直流電流を作用さ
せて脱塩処理を行い、不純物イオンが脱塩された処理水
を処理水流出管33から取り出すと共に不純物イオンが
濃縮された濃縮水を濃縮水流出管34から取り出すもの
である。
【0032】なお、カルシウムやマグネシウム等の硬度
成分を比較的多く含む原水を処理する場合、あるいはよ
り高純度の純水を得る必要がある場合は、図2における
脱炭酸装置の前段あるいは貯槽3とEDI30との間に
逆浸透膜装置を介在させてもよい。
【0033】以上説明したごとく、本発明の脱炭酸装置
は酸やアルカリ等の薬品を一切使用せずに脱炭酸処理を
行うことができる、という点に特徴を有するのであるか
ら、これと組合わせて用いる脱塩装置としては、上述し
た逆浸透膜装置や電気式脱イオン水製造装置のごとく、
再生操作の必要がなく、したがって、酸やアルカリ薬品
を使用することのない、かつ純水を連続的に製造するこ
とのできる脱塩装置が最適であるが、場合によっては、
本発明の脱炭酸装置をこれ以外の脱塩装置、例えばイオ
ン交換樹脂を用いる脱塩装置と組み合わせて用いても何
ら差し支えない。
【0034】
【実施例】以下実施例により本発明を更に具体的に説明
する。
【0035】(実施例1)図1に示す本発明の純水製造
装置を用い、埼玉県戸田市の工水を処理した。ただし、
脱ガス装置にはテラレットパッキンを充填した接触床に
下部からブロワによる空気を供給する気液接触形の脱炭
酸塔を使用し、脱塩装置としては架橋アラミド系複合膜
を有するスパイラル型4インチモジュールを内蔵した逆
浸透膜装置を2段に配列した。
【0036】逆浸透膜装置の通水条件は下記の通りとし
た。
【0037】給水量; 1.5m3 /Hr 処理水流量; 1.0m3 /Hr 濃縮水流量; 0.5m3 /Hr 原水水質及び脱塩装置の処理水質を表1に示した。
【0038】電解装置は市販のユミクロン(ユアサコー
ポレーション製)微多孔性薄膜を隔膜とした電解装置を
使用した。電解装置の通水条件は下記の通りとした。
【0039】給水量; 1.5m3 /Hr 電解電圧; 30V 結果を表1に示した。
【0040】
【表1】 (比較例1)図4に示す従来法による純水装置を用い
て、実施例と同様にして純水を製造した。
【0041】脱炭酸塔の入口に酸(HCl)を添加し、
ラインミキサーで混合し、pHを4〜4.5に調整する
と共に、脱炭酸塔出口下部に貯槽24を設け、この貯槽
にNaOHを添加し、pHを7〜8.5に調整した後、
逆浸透膜装置に供給し、脱塩を行った。
【0042】原水の炭酸成分、すなわちMアルカリ度が
35ppmであったため、72時間の連続運転に際し、
塩酸は35%塩酸で12kg、NaOHは1.8kgを
消費した。
【0043】結果を表1に示した。
【0044】表1より、本発明の純水製造装置によれば
脱炭酸処理において酸を使用しないで、電解装置を使用
することにより、高純度の水が得られることが明らかで
ある。
【0045】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の脱炭酸装置
及びそれを組込んだ純水製造装置によれば、 (1)脱炭酸処理に際して酸を使用しないで充分に脱炭
酸された水を安定かつ連続的に製造できる。
【0046】(2)本発明の脱炭酸装置によれば、アル
カリを使用することなしに、中性水もしくは微アルカリ
水が安定かつ連続的に得られるため、脱ガス装置の処理
水中にわずかに残存する残留CO2 (H2 CO3 )がH
CO3 -イオンとなり後段の逆浸透膜装置やEDIで脱塩
除去され易くなるので、高純度の水を得ることができ
る。また、これらの脱塩装置から排出される濃縮液もほ
ぼ中性であるため容易に排出することができる。
【0047】(3)酸、アルカリ薬品を使用しないた
め、脱塩装置へのイオン負荷の増加がなく、その分高純
度の水を得ることができる。等の優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一構成例を示すフロー図である。
【図2】本発明の他の構成例を示すフロー図である。
【図3】pHと全炭酸の存在比との関係を示す図であ
る。
【図4】従来の純水製造装置の一例を示すフロー図であ
る。
【符号の説明】
1 電解装置 1a 陽極室 1b 陰極室 1c 隔膜 2 脱ガス装置 3 貯槽 5 逆浸透膜装置 6 逆浸透膜装置 30 電気式脱イオン水製造装置(EDI)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 陽極を備えた陽極室と陰極を備えた陰極
    室と及び前記陽極室と陰極室とを隔離する隔膜とを有す
    る電解装置と、脱ガス装置とを有してなり、まず炭酸成
    分を含有する原水を陽極室で電解して酸性水とし、次い
    で前記酸性水を脱ガス装置で脱炭酸ガス処理をして処理
    水とし、その後前記処理水を陰極室で電解して中性水又
    はアルカリ水として取り出すことを特徴とする脱炭酸装
    置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載した脱炭酸装置と、逆浸
    透膜装置とを有してなり、脱炭酸装置から取り出した中
    性水又はアルカリ水を更に逆浸透膜装置で処理して純水
    を取り出すことを特徴とする純水製造装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載した脱炭酸装置と、電気
    式脱イオン水製造装置とからなり、脱炭酸装置から取り
    出した中性水又はアルカリ水を更に電気式脱イオン水製
    造装置で処理して純水を取り出すことを特徴とする純水
    製造装置。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07214066A (ja) * 1994-02-09 1995-08-15 Hoshizaki Electric Co Ltd 水中に溶存する炭酸ガス成分の除去方法及び除去装置、並びに同除去装置を備えた電解水生成装置
JP2005329331A (ja) * 2004-05-20 2005-12-02 Hoshizaki Electric Co Ltd 水の処理方法および処理装置
JP2006198497A (ja) * 2005-01-19 2006-08-03 Hoshizaki Electric Co Ltd 除菌水の製造方法および製造装置
WO2010012481A1 (de) * 2008-08-01 2010-02-04 Christ Water Technology Ag Verfahren und anlage zur aufbereitung von wasser
EP2526066A1 (en) * 2010-01-20 2012-11-28 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Method for treating an aqueous fluid
JP2015136655A (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 有限会社ターナープロセス 水溶液のpHを変化させる方法および装置
WO2016047257A1 (ja) * 2014-09-26 2016-03-31 株式会社日本トリム 電解水生成装置及びそれを備えた透析液調製用水の製造装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07214066A (ja) * 1994-02-09 1995-08-15 Hoshizaki Electric Co Ltd 水中に溶存する炭酸ガス成分の除去方法及び除去装置、並びに同除去装置を備えた電解水生成装置
JP2005329331A (ja) * 2004-05-20 2005-12-02 Hoshizaki Electric Co Ltd 水の処理方法および処理装置
JP2006198497A (ja) * 2005-01-19 2006-08-03 Hoshizaki Electric Co Ltd 除菌水の製造方法および製造装置
WO2010012481A1 (de) * 2008-08-01 2010-02-04 Christ Water Technology Ag Verfahren und anlage zur aufbereitung von wasser
EP2526066A1 (en) * 2010-01-20 2012-11-28 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Method for treating an aqueous fluid
JP2015136655A (ja) * 2014-01-22 2015-07-30 有限会社ターナープロセス 水溶液のpHを変化させる方法および装置
WO2016047257A1 (ja) * 2014-09-26 2016-03-31 株式会社日本トリム 電解水生成装置及びそれを備えた透析液調製用水の製造装置

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