1257640 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（1 ) 技術領域 本發明，係關於轉印薄膜和使用該轉印薄膜之螢光面 的金屬敷層形成方法，以及具有金屬敷層的畫像顯示裝置 〇 背景技術 從前’在陰極射線管（CRT )，或場輻射方式之畫像 顯不裝置（FED )等的螢光面，廣泛採用在螢光體層之內 面（與正面平板相反側之面）上被形成金屬膜的金屬敷層 方式的構造。此金屬敷層，使藉由電子源放出的電子而從 螢光體發出的光線之中，行進於電子源側的光線往正面平 板側反射而提高亮度，發揮使螢光體層之電位安定的功效 。此外，還具有防止殘留於真空外圍器內的氣體電離產生 的離子損傷螢光體層的功能。 從前金屬敷層的形成，係以旋轉塗佈法等在螢光體層 上形成由硝酸纖維素所構成的薄膜（塗漆法），於其上真 空蒸鍍鋁（A1)，進而燒成除去有1機物的方法來進行。 另一方面’在日本專利特開昭63- 1 02 1 39號等，作爲簡 便的金屬敷層形成方法，它提案出預先在施以脫模劑的薄 膜上形成金屬蒸鍍膜，再將此使用黏著劑轉印至螢光體層 上的方法（轉印方式）。 然而，在根據轉印方式形成金屬敷層的方法，必須要 同時確保對螢·光體層的充分黏著力，以及在燒成工程之耐 烘烤特性，但這些特性難以兩全，從前轉印方式的實用化 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1' 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -4 - 1257640 A7 B7 五、發明説明（2 ) 是很困難的。 亦即，爲了確保良好的轉印性，必須使黏著劑層增厚 確保充分黏著力，但是增厚黏著劑層的話，在次一工程之 燒成工程必須分散大量有機物並使其飛散。因此，此時所 產生的分解氣體會引起熱膨等金屬膜的破壞，要確保良好 的耐烘烤特性是困難的。 此外，於特開平3-49131號、特開平4-5 1 423號、特開 平5- 1 900 84號公報等，揭示出藉由在金屬膜設供分解氣體 逃逸之用的微細孔，以改善在轉印方式之金屬膜的熱膨導 致的不良。但是這些方法都會引起金屬敷層的光反射性能 的劣化之副作用，因此適用上仍有問題。 另一方面，特開昭64-30 1 34號公報揭示出在金屬敷層 與脫模劑層之間’形成由丙烯系等樹脂所構成的錨層之構 成，但此方法也不易形成良好的金屬膜。 進而’前述利用塗漆法之金屬敷層之形成，因爲是在 具有大凹凸之下底面上藉由真空蒸鍍形成金屬膜，所以要 形成薄的高反射率膜是困難的。亦即，要得到高亮度的螢 光面很困難’特別是在低速電子線區域動作的fed這種顯 示裝置的螢光面，會發生亮度不均的問題。 此外，進而在FED ，具有螢光面的正面平板與具有電 子放出元件的背面平板之間的間隙，係1〜數mm程度，由 解析度或是間隔件的特性上來看不能夠使其增大。結果， 因爲在正面平板與背面平板之極爲狹窄的間隙施加l〇kV前 後的高壓電形成強電場，所以有容易產生放電（絕緣破壞 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐·） - 5 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 B7 五、發明説明（3 ) )的問題。接著，產生放電的話’有電子放出元件或螢光 面被破壞或者是有劣化之虞。 本發明爲解決這些問題，以提供：在轉印方式可以形 成特性良好的金屬敷層之轉印薄膜、以轉印方式作業性佳 地形成高效金屬敷層的方法，以及金屬敷層效果高耐電壓 性優異、可以在局壳度進彳了筒品質的顯不之畫像顯示裝置 爲目的。 · 發明之揭示 本發明之第1發明之轉印薄膜，係如申請專利範圍第1 項所述，係至少具有基層薄膜、以及在此基層薄膜上層積 形成的脫膜劑層、保護膜以及金屬膜的轉印薄膜，其特徵 爲：前述保護膜以樹脂爲主體，含有由：磷酸酯、脂肪族 一氯酸酯、脂肪族二氯酸酯、二價醇酯、（羥）基酸酯、 油酸丁酯、乙二酸二丁酯、鏈烷氯化物、甲苯磺醯乙醯胺 、甲苯磺醯甲醯胺、磺胺化合物、磺醯胺化合物、松香酸 甲酯、二壬基（萘）、檸檬酸乙醯基三丁酯、氨基甲苯磺 西胺、N-丁苯磺胺所構成之群中所選出的一種以上之柔軟 劑。 於第1發明之轉印薄膜，如申請專利範圍第2項所記載 ，柔軟劑，對構成保護膜之全部材料之含有質量比，在i 〜30 %的範圍者較佳。此外，如申請專利範圍第3項所述 ，保護膜的膜厚’以0.1〜3 0 A m較佳。進而，如申請專 利範圍第4項所述，金屬膜上，以進而具有黏著劑層者較 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐.)"" · (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· --訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 ______B7 _ 五、發明説明（4 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 佳。接著，作爲黏著劑，如如申請專利範圍第5項所述， 可以由聚乙酸乙烯酯、乙烯一乙烯基乙酸酯共聚合物、苯 乙烯一丙烯酸樹酯、乙烯一乙烯基乙酸酯一丙烯酸之三元 共聚合物樹酯、氯乙烯一乙烯基乙酸酯共聚合物樹酯、聚 丁烯樹酯、聚醯胺樹酯所構成之群中選出的一種以上的樹 月旨爲主成分。 第2發明之轉印薄膜，如申請專利範圍第6項所記載， 係至少具有基層薄膜、以及在此基層薄膜上層積的脫膜劑 層及轉印層之轉印薄膜，其特徵爲：前述轉印層，具有具 1〇2〜108 Ω : square )之表面電阻率之高電阻層。 接著，於第2發明之轉印薄膜，如申請專利範圍第7項所記 載的，轉印層可以具有：表面電阻率1〇2〜1〇8 Ω : square )之高電阻層，及具有被層積於其上層之不滿ι〇2 Ω / □ : square )之表面電阻率之光反射層。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之第3發明之金屬敷層的形成方法，如申請專 利範圍第8項所記載的，其特徵爲具備：在正面平板办^ pi ate)內面形成螢光體層的工程，及將申請專利範圍第1項 所記載之轉印薄膜，以其金屬膜中介著黏著劑接於前述螢 光體層的方式配置、將前述轉印薄膜按壓/黏著於前述螢光 體層上之後，剝取該轉印薄膜之基層薄膜的金屬膜轉印工 程，及加熱處理在前述螢光體層上被轉印前述金屬膜之正 面平板的工程。 於第3發明之金屬敷層形成方法，如申請專利範圍第9 項所記載，在金屬薄膜轉印工程之前，具有在轉印薄膜之 -7- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 1257640 A7 B7 五、發明説明（5 ) 金屬膜或者螢光體層上之至少一方，形成黏著劑層之工程 〇 (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之第4發明之金屬敷層的形成方法，如申請專 利範圍第1 0項所記載的，其特徵爲具備：在正面平板（face ρ 1 a t e)內面形成螢光體層的工程，及將申請專利範圍第6項 所記載之轉印薄膜，以其轉印膜中介著黏著劑接於前述螢 光體層的方式配置、將前述轉印薄膜按壓/黏著於前述螢光 體層上之後，剝取該轉印薄膜之基層薄膜的金屬膜轉印工 程，及加熱處理在前述螢光體層上被轉印前述轉印膜之正 面平板的工程。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之第5發明之金屬敷層的形成方法，如申請專 利範圍第11項所記載的，其特徵爲具備：在正面平板（face pi ate)內面形成螢光體層的工程，及將申請專利範圍第7項 所記載之轉印薄膜，以其轉印膜中介著黏著劑接於前述螢 光體層的方式配置、將前述轉印薄膜按壓/黏著於前述螢光 體層上之後，剝取該轉印薄膜之基層薄膜的金屬膜轉印工 程’及加熱處理在前述螢光體層上被轉印前述轉印膜之正 面平板的工程。 於第4以及第5發明之金屬敷層形成方法，如申請專利 範圍第1 2以及1 3項所記載，在轉印工程之前，具有在轉印 薄膜之轉印膜或者螢光體層上之至少一方，形成黏著劑層 之工程。 本發明之第6發明之畫像顯示裝置，如申請專利範圍 第14項所記載的，其特徵爲··在正面平板（face plate)內面 8 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X：Z97公釐） 1257640 A7 p--- B7 五、發明説明（6 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ’具備藉由申請專利範圍第8項所記載的金屬敷層的形成 方法來形成金屬敷層的螢光面。此外，於第6發明之畫像 顯示裝置’如申請專利範圍第1 5項所記載，其特徵爲：具 備：具背面平板（rear plate)，與具有與前述背面平板相對方 向配置的正面平板的外圍器，及被形成於前述背面平板上 的多數之電子放出元件，及在前述正面平板上被形成爲與 前述背面平板相對方向，藉由前述電子放出元件所放出的 電子束來發光的螢光體層；於前述背面平板內面，具備藉 由申請專利範圍第8項所記載的金屬敷層的形成方法來形 成金屬敷層的螢光面。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之第7發明之畫像顯示裝置，如申請專利範圍 第16項所記載的，係於正面平板的內面，具備螢光體層與 .被形成於該螢光體層之上的金屬敷層之畫像顯示裝置，其 特徵爲··前述金屬敷層，具有表面電阻率1〇3〜1〇" Ω /□( □ · square )之局電阻層。接著，於此畫像顯示裝置，如 申請專利範圍第17項所記載，金屬敷層，可以具有：表面 電阻率不滿103Ω/[ϋ (□ : square )之光反射層，及被層 積於其上層之表面電阻率103〜l〇iG Ω : square )之 高電阻層。 本發明之第8發明之畫像顯示裝置，如申請專利範圍 第18項所記載的，其特徵爲：在正面平板（face piate)內面 ，具備藉由申請專利範圍第1 0項所記載的金屬敷層的形成 方法來形成金屬敷層的螢光面。第9發明之畫像顯示裝置 ，如申請專利範圍第1 9項所記載的，其特徵爲：在正面平 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） .g . 1257640 A7 ____ B7 ___ 五、發明説明（7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 板（face plate)內面，具備藉由申請專利範圍第丨1項所記載 的金屬敷層的形成方法來形成金屬敷層的螢光面。接著， 於第7至第9發明之畫像顯示裝置，如申請專利範圍第20 至23項所記載，可以具備與正面平板相對方向配置的背面 平板’背面平板上具有多數之電子放出元件。 本發明於根據轉印方式之金屬敷層的形成，係針對黏 著劑層以及保護膜之各材料等，實施詳細實驗之後的結果 而達成之發明。以下顯示實驗之詳細內容。 首先’關於必要特性之耐烘烤特性，從前僅考慮熱膨 現象而已，本發明確認了必須要再多加考慮從前所未被考 慮到的龜裂特性。種之，於轉印方式之金屬敷層形成，必 須平衡性佳地滿足轉印性、熱膨特性、龜裂特性等3個特 .性。此處，轉印、形成的金屬敷層之代表性的不.良圖案以 及良品的圖案顯示於第1圖。第1圖A係轉印性不良的狀態 ，第1圖B係熱膨不良的狀態，第丨圖^係龜裂不良的狀態 。又，第1圖D係良品。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以下根據貫驗結果說明轉印性、熱膨特性與龜裂特性 等3個特性之相關關係。首先，轉印性與熱膨特性，與黏 者劑的S吴厚密切相關係屬習知。在此，藉由從前的轉印方 式之形成方法製作金屬敷層，調查轉印性與熱膨特性之黏 著劑厚度依存性。手續如下所示。 首先，在膜厚2〇 // m的聚酯製基層薄膜上，將甲苯75 份（質量份，以下相同）、甲基異丁基酮12份、甲基乙基 酮12份、乙二酸0.2份、蠘類〇.2份、醋酸纖維素〇.2份、 本紙張尺錢用中國國家標準^yA4規格（ -10- 1257640 A7 B7 五、發明説明（8 ) 松香系樹脂0.2份、矽膠樹脂0.2份所構成之脫模劑，藉由 凹版塗層器塗佈乾燥，形成0.5 // m厚之脫模劑層。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次，於此脫模劑層上，將甲基異丁基酮25份、甲基 乙基酮25份、變性酒精6份、甲苯10份、乙酸丁酯10份、 乙酸乙酯10份、三聚氰胺5份、尿素樹脂5份、纖維素誘 導體1份、松香系樹脂1份、二甲基矽氧烷1份、磷酸0.5 份、p -甲苯磺酸〇. 5份所構成之樹脂組成物，藉由凹版塗層 器塗佈乾燥，形成1 // m厚之保護膜層後，於此保護膜上 蒸鍍鋁，形成厚度50nm的鋁膜。其次，於此鋁膜上，將純 水90份、聚丁烯醇1 〇份所構成之樹脂組成物，藉由凹版塗 層器塗佈乾燥，形成黏著劑層。此時，改變黏著劑層的膜 厚，製作十幾種膜厚。藉由以上構成製作轉印薄膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，顯示螢光面的製作手續。首先，將縱1 OcmX橫 lOcmX厚3mm的蘇打玻璃板做爲正面平板，於其上將 Y2〇2S:Eu 40份、純水50份、聚丙烯醇1.4份、重鉻酸銨 0.05份、界面活性劑3份所構成之螢光體泥漿，藉由旋轉塗 佈器塗佈、乾燥。其次，藉由水銀燈以〇.5mW/cm2的強度全 面曝光30秒鐘之後，藉由純水顯影，除去未有架橋硬化之 剩餘的泥漿。其後，乾燥所得的螢光體層，除去水分。藉 由以上的構成，製作螢光面之測試片。 其次’使用前述轉印薄膜，在測試片上藉由轉印方式 形成金屬敷層。 此處，金屬敷層形成之各程序的詳細顯示於第2圖。 轉印薄膜’如第2圖A所示，於基層薄膜1上，依序層積脫 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS )八4規格（210X 297公釐） -11- 1257640 A7 _ B7 _ 五、發明説明（9 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 模劑層2、保護膜3、金屬膜4以及黏著劑層5而構成的， 將此轉印薄膜6如第圖B所示，使用橡膠滾筒7按壓黏著於 螢光體層8上，剝取基層薄膜1，其次如第2圖C所示，於 燒成工程使有機物分解飛散。如此，如第2圖D所示，完 成金屬敷層（金屬膜）4。又，圖中的符號9是正面平板， 10是遮光層。爲形成良好的金屬敷層，在第2圖B所示的 轉印工程要沒有不均地均勻轉印，以及在第2圖C所示的燒 成工程在金屬膜不引起損傷是很重要的。 具體而言，轉印薄膜的黏著劑層5 ，以接於測試片的 螢光體層8的方式配置，藉由硬度50度，表面溫度200 °C 的橡膠滾筒7，以2m/min的速度，以300kg/cm2的按壓力壓 接，以10m/min的速度剝下基層薄膜1，將金屬膜（鋁膜） .4轉印至測試片的螢光面上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，將如此被轉印鋁膜之測試片，加熱處理（烘烤 )將有機成分分解、除去。此時爐溫的控制表，是從室溫 至200 °C爲止爲10 t /min，從200 °C至380 °C爲止爲9 °C /min ，從3 80 至450 °C爲止爲3 °C /min的升溫梯度，在 450 °C加熱30分鐘之後，以3 °C /min的溫度梯度降溫至常溫 。如以上進行，製作被形成金屬敷層的試料。 其次，針對這些金屬敷層試料，以如下所示的方式評 估轉印性及熱膨特性。首先，準備以5mmX5mm的間隔劃上 格子線的透明的塑膠薄片，將此作爲評估薄片。將此評估 薄片，載於鋁膜轉印後之測試片上，計算測試片上的格子 數。此時，僅有一部份格子位於測試片上的場合，僅有一 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐-1 2 - 1257640 A 7 一 —__B7 __ 五、發明説明（1〇 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 半以上的格子面積位於測試片上的場合才納入計算。接著 ’以對所省的格子數之鋁1 00 %轉印格字數的比例，作爲 在金屬膜轉印工程之良品面積率，以評估轉印性。 此外，加熱處理也進行同樣的評估。以對鋁100 %轉 印格字數之未發生熱膨不良的格子數的比例，作爲在加熱 處理工程之良品面積率，以評估熱膨特性。此時，發生熱 膨不良的格子，無論發生面積爲何均要計算。藉由以上的 實驗與評估所得到的結果顯示於第3圖。第3圖中，（a)顯 示轉印特性，（b 1)顯示熱膨特性。 由此圖，雖然黏著劑的膜厚越厚，對螢光體之黏著性 越局，轉印性變佳，但在烘烤工程產生很多飛散氣體，引 起熱膨產生。另一方面，黏著劑層的膜厚太薄的話，雖然 改善熱膨特性，但轉印性變差，可知轉印性與熱膨特性雙 方都不存在著會使良品面積率達到1 00 %的區域。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外，嘗試從前之改善熱膨特性的方法，亦即將微細 孔開於金屬膜的手法，依照以下的手續進行測試。首先， 以與前述相同的程序分別製作轉印薄膜以及測試片，將銘 膜轉印於螢光體層上。其後，在被轉印的鋁膜上配置砂紙 (# 1000 )，藉由硬度50度表面溫度25 °c的橡膠滾筒以 2m/min的速度，10kg/cm2的按壓力進行微細孔製作處理。 此時，分別製作處理次數1次的以及2次的。其次，進行同 樣的加熱處理，製作金屬敷層。 接著，藉由與前述同樣的方法進行評估。第3圖中（b2) 、（b3)顯示熱膨特性之評估結果。（b2)係微細孔處理（微細 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） _ 13 _ 1257640 A7 B7 五、發明説明（11 ) 孔製作處理）進行1次的場合，（b3)係微細孔處理進行2次 的場合。微細孔處理的次數越多，產生熱膨的黏著劑層的 膜厚變大。以1次微細孔處理，於圖中的區域A可以設定 轉印性與熱膨特性雙方均有良品面積率達丨〇〇 %的黏著劑 膜厚，進而2次微細孔處理，可知其膜厚的範圍擴展到圖 中的區域A及區域B，作業性也增大。 其次，將上述試料的金屬敷層效果，藉由以下的手續 以簡單的方法來評估。首先，以壓克力板製作一邊爲30cm 的立方體。此時，內面塗佈消除光澤的黑色塗料，將立方 體內部設爲擬似無反射空間。其次，在立方體的一邊中央 ，設直徑2cm的孔’藉由以上的構成，製作可見光反射率 評估盒。 於此可見光反射率評估盒的孔上，使測試片以其螢光 面側接於盒上的方式密接配置。其次，對測試片的正面平 板前面，由45度角的位置照射白熱燈。如此，將位於可見 光反射率評估盒的孔上的測試片的正面平板前面側作爲測 定面。接著，由垂直於測定面的位置測定反射亮度，由測 定的反射亮度之値，經由以下數式之計算，·求出可見光反 射率Rf(%)。
Rf(%) = (TRf/SRf)X100 式中，Rf(%)爲可見光反射率，TRf係被形成金屬敷層 的測試片的反射亮度’ SRf係僅有螢光體層的測試片的反 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）-14- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 B7 五、發明説明（12 ) 射亮度。Rf値以越接近200 ，越具有良好的金屬敷層效果 ，越接近100金屬敷層效果越小。 以上述方法評估Rf値的結果顯示於第1表。 【第1表】_ __ 微細孔處理 黏著劑的膜厚 Rf(%) 迦 J k \\ 25 // m 190 1次 25 // m 160 2次 25 β m 130 由第1表可知，未施以微細孔處理的場合，Rf値爲1 90 金屬敷層效果明顯很大，微細孔處理的次數越多，Rf値變 得越小。亦即，可知良品面積率越接近100 %者，金屬敷 .層效果變得減半。 在此，發明人著眼於隨著黏著劑的種類可以提高金屬 膜與螢光體層之轉印性這一點，針對種種黏著劑進行檢討 的結果，將黏著劑藉由其黏著力的不同，分類爲3群。第1 群係與黏著劑厚度無關，均無法黏著金屬膜與螢光體層之 群，例如可以舉出以松香系樹脂、人工樟腦系樹脂、環戊 二烯系樹脂、香豆酮樹脂、醇酸樹脂、環氧樹脂、氯化聚 烯烴樹脂、苯酚樹酯、丙烯酸矽膠樹酯、酮樹酯爲主成分 者。第2群因爲黏著力低，所以必須要有對熱膨不良之對 策，以聚丙烯醇爲首，可以舉出以EPDM (乙烯一丙烯一二 烯共聚合物）、氯丁二烯苯酌橡膠、異戊二嫌橡膠、丙烯 氰橡膠、硝基苯酚橡膠、異丁烯樹脂、聚丁烯樹脂、丁二 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公嫠Ί二1 5: 一 " (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) .裝·
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 -------B7 五、發明説明（13 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 烯系橡膠、聚氨酯樹脂、丙烯酸酯樹酯、聚酯系樹酯等爲 主成分者。進而，第3群因爲黏著力強，於較薄的膜厚也 具有良好的轉印性’因此係不需要對熱膨不良的對策之黏 著劑。作爲第3群，可以舉出以醋酸丙烯樹脂，乙烯一醋 酸丙烯共聚合物、苯乙烯一丙烯酸樹酯、乙烯一醋酸丙烯 一丙烯酸三元共聚合物樹酯、氯化乙烯一醋酸丙烯共聚合 樹酯、聚丁烯樹脂、聚醯胺樹脂等爲主成分者。 作爲第3群的黏著劑的代表例，使用醋酸丙烯樹脂的 甲苯溶液的場合之轉印性以及熱膨特性顯示於第4圖。除 了黏著劑的種類以外，其餘皆以相同於前述之方法進行實 驗以及評估。第4圖（a)顯示轉印性，（b)顯示熱膨特性。 由此圖可知，黏著劑的膜厚於1〜10 μ m的區域，可 .得轉印性、熱膨特性二者良品率接達100 %。但是，使用 黏著劑的黏著力較低的第2群黏著劑的場合，發生轉印性 並不充分，會發生在第3群的黏著劑使用時所不會發生的 龜裂不良之新的問題。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 這是在加熱處理時金屬膜損傷爲龜裂狀者，發生原因 可能爲按壓處理時所產生的微細縐折，或是轉印後的金屬 膜與螢光體層之張力不同等。龜裂特性顯示於第4圖（〇。 由此圖可知，龜裂特性，在黏著劑的膜厚越低時越惡 化。將此龜裂特性，追加於前述（a)轉印性與（b)熱膨特性而 綜合考量轉印方式的性能時，在第4圖的區域A ’ 3個特性 的良品面積率全部成爲1 〇〇 %。但是，雖然可以使3個特性 的良品面積率全部成爲1 00 %，但是這樣能使3個特性的良 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16 - 1257640 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7 ______五、發明説明（14 ) 品面積率成爲100 %的黏著劑膜厚的區域很窄，只要有稍 許的fl吴厚變動就會成爲良品或是成爲不良’作業性並不好 〇 亦即，發明人等爲了解決此龜裂產生的問題，進而經 過銳意硏究改良的結果，在金屬膜於脫模劑層之間配置以 樹酯爲主體的保護膜，藉由使在該保護膜，含有：磷酸酯 、脂肪族一氯酸酯、脂肪族二氯酸酯、二價醇酯、（羥） 基酸酯、油酸丁酯、乙二酸二丁酯、鏈烷氯化物、甲苯磺 醯乙醯胺、甲苯磺醯甲醯胺、磺胺化合物、磺醯胺化合物 、松香酸甲酯、二壬基（萘）、檸檬酸乙醯基三丁酯、氨 基甲苯磺西胺、N-丁苯磺胺所構成之群中所選出的一種以 上之柔軟劑，發現可以具有防止龜裂產生的效果。 藉由‘在保護膜含有前述之柔軟劑，可以提高保護膜的 柔軟性。如此提高保護膜的柔軟性，提高轉印時對螢光面 的凹凸表面之追隨性，防止金屬膜之微細的縐折產生，同 時可以減輕對金屬膜施加的過度張力。又，於此時因爲金 屬膜並不會追隨至螢光體粒子之間而侵入，所以可以維持 金屬敷層的光反射性能。 作爲柔軟劑，使用甲苯磺醯乙醯胺，使其含有於保護 層的場合的龜裂特性的實驗結果顯示於第5圖。又，作爲 黏著劑，使用前述之第3群之醋酸丙烯樹酯之甲苯溶液， 其他條件與前述相同進行實驗。第5圖中（cl)係前述柔軟劑 以0.5 %的比例（質量比），（c2)係以1 %的比例，（c3)係以 10 %的比例，（c4)係以30 %至40 %的比例，含有於保護層 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐·) -17- 1257640 A7 B7 五、發明説明（15 ) 的樹酯組成物的場合之良品面積率（龜裂特性）。在保護 層添加1 %以上的柔軟劑時，因應其添加量龜裂特性也跟 著提高，在3 0 %的添加其效果趨於飽和。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另一方面，將此時的轉印性與熱膨特性顯示於第6圖 。第6圖中（al)，（a2)，（a3)顯示轉印性，（b)顯示熱膨特性 。（a 1)係將茱軟劑以〇〜2 0 %的比例、（a 2)係以3 0 %的比例 、U3)係以40 %的比例分別含有於保護層的樹酯組成物的 場合之轉印性。柔軟劑添加多於30 %時，轉印性顯著惡化 〇 由以上所述，柔軟劑的添加量，以對保護層的樹酯組 成誤爲1〜30 %的比率較佳。此時，於第5圖中的區域A ，可以使良品面積率成爲100 %。 此外，於第2表顯示這些試料的金屬敷層效果。 【第2表】 微細孔處理 柔軟劑添加量 黏著劑的膜厚 Rf(%) J \\\ 0% 16 // m 190 Μ 1% 8 // m 190 Μ j \w 10% 2 β m 190 M j\\\ 3 0% 2 β m 190 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由第2表可知，即使添加柔軟劑Rf値也不會劣化，均 爲良好之190。 如此，藉由使用本發明之轉印薄膜，可以形成於轉印 性、熱膨特性、龜裂特性之各特性’達成良品面積率1 〇〇 本紙張尺度適用中.國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -18 - 1257640 A7 __ _____B7 五、發明説明（16 ) % ’而且黏著劑膜厚的設定範圍很寬作業性良好，可見光 反射效果也很大的金屬敷層。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 進而’於本發明’藉由在轉印薄膜，將金屬敷層形成 用的轉印層，形成爲表面電阻率102〜ΙΟ8 Ω /□之高電阻層 ’可以形成具有1〇3〜1〇1〇Ω/□之表面電阻率之金屬敷層。 而且’螢光面的亮度也不太會降低，可以抑制放電顯著改 善耐電壓特性。前述之表面電阻率的範圍，係針對金屬敷 層的表面電阻率與放電開始電壓之關係，由本發明的發明 人經過多次實驗而獲得之結果。 供實施發明之最佳型態 以下’說明本發明較佳之實施型態。又，本發明並未 .以下列實施例爲限。 第7圖，係本發明之轉印薄膜之第1實施型態之剖面圖 。圖中，符號1 1顯示基層薄膜，於此基層薄膜11上，依序 層積形成脫模劑層12、保護膜13、金屬膜14以及黏著劑 層15。 基層薄膜11 ，並未特定材質，可以從一般做爲基層薄 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 膜使用的聚酯（聚乙烯對苯二酸酯、聚丁烯對苯二酸酯） 、聚乙烯、聚丙烯、尼龍（聚醯胺）、賽璐珞、聚碳酸酯 、聚丙烯酸酯.、聚醯亞胺、芳香族聚醯胺等樹酯中任意選 擇使用。此基層薄膜1 1的厚度以5〜50 // m程度較佳。基 層薄膜1 1的厚度太薄的話，轉印薄膜之按壓處理時變形會 很顯著，容易在金屬膜1 4產生縐折，太厚的話與下底之追 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19 - 1257640 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7 五、發明説明（17 ) 隨性會劣化，降低轉印性。 作爲脫模劑，可以舉出醋酸纖維素、蠟、脂肪酸、脂 肪酸醯胺、脂肪酸酯、松香、聚丙烯樹酯、矽膠、氟化樹 酯等，由其中因應基層薄膜1 1與保護膜1 3之剝離性適當選 擇使用。此外，這樣的脫模劑層12 ，藉由凹版塗層器形成 於基層薄膜11上，其膜厚以0.1〜30 // m較佳。脫模劑層 1 2厚度太薄的話，剝離性降低，太厚的話保護膜1 3的成膜 性惡化因此不佳。 於保護膜1 3 ，熱硬化性樹酯.、熱可塑性樹酯、光硬化 性樹酯等作爲基層使用。具體而言，考慮轉印性、熱膨特 性、龜裂特性之3特性，在考慮與後述之黏著劑之組合下 適當選擇。例如，由聚丙烯樹酯、三聚氰胺樹酯、尿素樹 .酯、聚丙‘烯一三聚氰胺共聚合樹酯、三聚氰胺一尿素共聚 合樹酯、聚尿烷樹酯、聚酯樹酯、環氧樹酯、醇酸樹酯、 聚醯胺樹酯、賽璐珞類、聚丙烯系樹酯、橡膠類等所選出 的1種以上的高分子作爲基層使用。 接著，爲了提高龜裂特性，由：磷酸酯、脂肪族一氯 酸酯、脂肪族二氯酸酯、二價醇酯、（羥）基酸酯、油酸 丁酯、乙二酸二丁酯、鏈院氯化物、甲苯磺醯乙醯胺、甲 苯磺醯甲醯胺、磺胺化合物、磺醯胺化合物、松香酸甲酯 、二壬基（萘）、檸檬酸乙醯基三丁酯、氨基甲苯磺西胺 、N-丁苯磺胺等所選出的柔軟劑，對保護膜全體以丨〜3〇 %的比例被混入。 此外，這樣的保護膜1 3 ，藉由凹版塗層器形成於脫模 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) .on _ ~~ :~" 一 丨|-丨-----裝-——-II—訂 __.——0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1257640 A7 B7 五、發明説明（18 ) 劑層1 2上’其膜厚以〇 · 1〜3 〇 # ^較佳。保護膜1 3的膜厚 太薄的話’被形成的金屬膜1 4 (金屬敷層）的可見光反射 性能劣化，太厚的話熱膨特性惡化因此不佳。 金屬S吴14由鋁、金、鎳等金屬中適當選出，藉由蒸鍍 形成於保護膜1 3上。金屬膜丨4的膜厚，由加於螢光面的陰 極電壓等之使用環境，考慮固定電壓（dead volt?Lge)等而設 疋’通常爲10〜200nm程度。 黏著劑’由對螢光體層以及金屬膜14雙方黏著性良好 者之中，考慮與保護膜1 3的組合而適當選擇，以使用前述 之第3群黏著劑較佳。例如，有以醋酸丙烯樹脂，乙烯一 醋酸丙烯共聚合物、苯乙烯一丙烯酸樹酯、乙烯一醋酸丙 烯一丙烯酸三元共聚合物樹酯、氯化乙烯一醋酸丙烯共聚 合樹酯、聚丁燃樹脂、聚醯胺樹脂等爲主成分之黏著劑， 也可以並用2種以上的樹酯。此外，爲了黏著性以外的膜 質改善，可以應需要並用前述以外的樹酯或安定劑、塡充 劑等。 這樣的黏著劑層1 5，藉由凹版塗層器形成於金屬膜1 4 上’其膜厚以1〜2 0 // m較佳。黏著劑層1 5的膜厚太薄的 話，轉印性以及龜裂特性惡化，太厚的話熱膨特性惡化因 此不佳。進而不將這樣的黏著劑層1 5設於轉印薄膜側，而 設於螢光體層側亦可。此外，設於轉印薄膜與螢光體層側 雙方亦可。 其次，說明使用如此構成的轉印薄膜形成金屬敷層之 實施型態。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 - - ....... - - - - - ==- I I - - -I ! (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 B7 五、發明説明（19 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 首先，於正面平板上形成螢光體層。亦即，將ZnS系 、Y2〇3系、YzChS系等螢光體（平均粒徑爲4〜15 y m)藉 由泥漿法、噴霧法、印刷法等，塗佈於正面平板上加以乾 燥，應需要使用光飩刻法進行圖案化，形成螢光體層。 其次’於此螢光體層上，以黏著劑層接於螢光體層上 的方式配置前述之實施例之轉印薄膜，進行按壓處理。作 爲按壓方式’有戳記方式、滾筒方式等。構成按壓部的材 料，以天然橡膠、矽膠等可調整硬度者較佳。其硬度爲20 〜100度左右。此外，按壓時加熱亦可，與使用於轉印薄 膜的樹酯等配合，可以加熱於40至250 t：程度。按壓力爲1 〜1000kg/cm2程度。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，剝取基層薄膜。剝取速度並未有特別限定，但 若不連續剝取的話會產生轉印性不均的情性因而不佳。此 時，於螢光面上殘留黏著劑層、金屬膜、保護膜以及脫模 劑層之一部分。其後，將被形成金屬膜等之螢光面依照各 個正面平板加熱燒成於450 °C程度之溫度，除去殘留的有 機成分。經過以上的工程，完成被形成良好的金屬敷層之 螢光面。 其次’ I兌明本發明的轉印薄膜之第2實施型態。在此 轉印薄膜，如第8圖所示，於基層薄膜1 i上，被形成脫模 劑層12，於其上層積表面電阻率1〇2〜ίο8 Ω /□之高電阻層 1 6與黏著劑層1 5。又，於脫模劑層1 2與高電阻層1 6之間 中介設有保護膜的構造亦可。高電阻層1 6的膜厚以5〜 15 0nm較佳，尤以1〇〜i〇〇nm的範圍更佳。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐·) 22 1257640 A7 B7 五、發明説明（2〇 ) 構成商電阻層1 6的材料，可以使用鋁之氧化物、二氧 化矽、A1N或者TiN之類的各種無機材料。於轉印薄膜， 要形成鋁之氧化物的高電阻層，可以採用以下所示的方法 〇 亦即’抽至1X1 (T4Pa程度的高真空度之後，導入氧氣 同時於剝離層或者保護膜上蒸鍍鋁，可以藉以形成高電阻 層。 此處’藉由調整蒸鍍時之氧氣導入量，可以控制被形 成的高電阻層之表面電阻率。本案發明人，以2 SCMM， 4 SCMM ， 6 SCMM之氧氣導入量進行鋁之蒸鍍時，形成分 別具有102 Ω /□、1〇4 Q /□、1〇6 Ω /□之表面電阻率之蒸鍍 膜。接著’於形成後將此蒸鍍膜進而在450 °C程度的溫度 進行加熱處理（烘烤），進行氧化，可知表面電阻率可以 上升1〜3個數量級。顯示此實驗的結果，所得之氧氣導入 量與表面電阻率之關係之圖顯示於第9圖。 此外，於轉印薄膜，要形成二氧化矽、A1N或者丁iN 所構成之高電阻層，通常採用濺鍍等方法。 其次，說明使用具有這樣的高電阻層之轉印薄膜形成 之金屬敷層。第1 0圖係槪略顯示使用第2實施型態之轉印 薄膜被形成金屬敷層之螢光面的構造之擴大剖面圖。於該 麗中，符號1 7係如玻璃面板之透光性基板，1 8係螢光體層 ，19係金屬敷層。金屬敷層19，膜厚5〜150nm具有103 〜1 01 ° Ω /□之表面電阻率。此外，金屬敷層1 9的反射率’ 以通常之鋁膜爲%之相對亮度時爲40〜95 % ° 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐）-23 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 B7 五、發明説明（21 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 將具有如此的螢光面之正面平板與具有電子放出元件 的背面平板，以基板間距離1 mm組裝而得的FED，其金屬 敷層的表面電阻率與放電開始電壓之關係顯示於第1 1圖。 由此圖可知，藉由將金屬敷層的表面電阻率提高到1 〇3 Ω /□以上，可以確認有顯著的放電抑制效果，表面電阻率 超過101° Ω /□以上時，電流變得極端不易流動，無法得到 安定的亮度。達成這樣的耐電壓特性的提高的理由並不淸 楚，但是加上藉由配置高電阻層帶來之放電抑制效果，也 有可能是由於膜質不同的關係所造成的。 如此，於具有前述之螢光面的FED ，基板間的放電被 抑制，提高耐電壓特性。此外，具有103〜1〇1() Ω /□之高表 面電阻率的金屬敷層19 ，因爲係藉由轉印方式形成的緣故 ，與藉由塗漆法或者乳劑法形成的金屬敷層相比·，即使非 常薄也不易產生光線透過率的增大，可得反射性高的層， 特別是有利於FED這種低電壓驅動的顯示裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，說明本發明之轉印薄膜之第3實施型態。於此 轉印薄膜，如第1 2圖所示，在基層薄膜1 1上被形成脫模劑 層1 2，於其上層積形成金屬敷層形成用之轉印膜20與黏著 劑層15。轉印膜20，係在具有1〇2〜1〇8 Ω /□之表面電阻 率的高電阻層21上，層積形成表面電阻率未滿之 反射性良好的低電阻層2 2之2層構造。如此的2層構造之 轉印膜20的全膜厚，以5〜150nm較佳，尤以1〇〜i〇〇、nm 的範圍更佳。 藉由使用這樣的轉印薄膜，形成第1 3圖所示的具有金 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) ^24 - " :- 1257640 A7 B7 五、發明説明（22 ) 屬敷層之螢光面。在此螢光面，由表面電阻率未滿1〇3Ω/ □之反射性良好的低電阻層22與被層積於其上之具有1 03 寧 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 〜101° Ω /□之表面電阻率的高電阻層21所構成的金屬敷層 1 9 ’被形成於螢光體層1 8上。金屬敷層丨9的反射率，以通 常之鋁膜爲100 %之相對亮度下，下層的低電阻層22爲85 〜100%，上層的高電阻層21爲20〜90%。 其次，將具有如此的螢光面之正面平板與具有電子放 出元件的背面平板，以基板間距離丨mm組裝而得的FED， 其相對亮度與放電開始電壓之關係同樣測定之後的結果， 在圖中以虛線顯示。 由此圖，在具有被層積低電阻層2 2與高電阻層2 1的2 層構造之金屬敷層19的FED，可知基板間的放電被抑制， 耐電壓特性提高，進而在金屬敷層1 9的光反射性被充分確 保，具有高亮度。相對於此.，在金屬敷層丨9僅由高電阻層 構成的FED ，反比於表面電阻率之上升膜的反射性降低， 產生亮度的降低。 其次，說明將本發明適用於顯示裝置的具體實施例。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第1實施例 首先，依照以下的手續，製作轉印薄膜。於厚度 2 0 // m的聚酯樹酯製的基層薄膜上，將由甲苯75份、甲基 異丁基酮12份、甲基乙基酮12份、乙二酸0.2份、蠘類〇.2 份、醋酸纖維素0.2份、松香系樹脂0.2份、矽膠樹脂〇.2 份所構成之脫模劑，藉由凹版塗層器塗佈乾燥，形成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25 - 1257640 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（23 ) 0.5 // m厚之脫模劑層。接者，於此脫模劑層上，將甲基異 丁基酮25份、甲基乙基酮25份、變性酒精6份、甲苯1 0份 、乙酸丁酯10份、乙酸乙酯1 〇份、三聚氰胺5份、尿素樹 脂5份、纖維素誘導體1份、松香系樹脂1份、二甲基矽氧 烷1份、磷酸0.5份、P-甲苯磺酸0.5份所構成之樹脂組成 物，藉由凹版塗層器塗佈乾燥，形成1 // m厚之保護膜。 接著，於此保護膜上蒸鍍鋁，形成厚度1 00nm的鋁膜 之後，於此鋁膜上，將甲苯90份、聚乙酸乙酯1 〇份所構成 之樹脂組成物，藉由凹版塗層器塗佈乾燥，形成厚度 1 2 v m之黏著劑層。如此，製作轉印薄膜。 其次，如第15圖A，於32吋彩色映像管用之正面平板 2 3內面，將由黑色顏料所構成的條紋狀的遮光層18，藉由 光蝕刻法形成之後，在遮光層上之遮光部與遮光部之間， 將紅（R )、綠（G )、藍（B ) 3色之螢光體層18以條 紋狀分別相鄰接的方式藉由光蝕刻法形成。 其次，前述之轉印薄膜24的黏著劑層以接於螢光體層 1 8的方式配置，具有沿著正面平板23內面的形狀，藉由硬 度50度表面溫度200 °C的橡膠滾筒25，以按壓時間1秒， 300kg/cm2的按壓力於箭頭方向上壓接。其後，如第15圖B 所示’以lOm/ππη的速度剝下基層薄膜11，於正面平板23 的螢光體層18上黏著金屬膜（鋁膜）14。 其次，依照習知的映像管製造工程，進行正面平板與 漏斗的接合，以接合時的尖峰溫度約450 °C之加熱處理工 程’分解除去有機成分。如此，如第15圖C所示，形成金 本紙張^^適用中國國家標準（ CNS ) A4規格（210X297公釐·) -26: ' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝- 、11 - 1257640 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（24 ) 屬敷層19。其後，進行電子槍的密封、排氣、防爆帶之安 裝等必要的處理。完成具有第1 6圖所示的構造之3 2吋彩色 映像管。又，圖中符號26爲漏斗，27爲電子槍，28爲遮 光層與螢光體層以及金屬敷層，29爲陰影遮罩，30爲防爆 帶。 於如此之彩色映像管的金屬敷層之形成，加熱處理工 程之生產率爲90 %，係充分可以實用化的區域。起因於金 屬敷層的不良原因，熱膨不良佔4 %，龜裂不良佔5 %，係 由於黏著劑的厚度不一致所導致者。此外，加速電壓32kV ，電流密度0 · 5 // A / c m2，全面以光柵（r a s t e r)訊號測定中心 亮度時，無論是R、G、B ，與塗漆法形成金屬敷層的場 合相比，均顯示+ 20 %之高數値，得到良好的金屬敷層效 果。. 第2實施例 首先，依照以下的手續，製作轉印薄膜。於厚度 2 0 μ m的聚酯樹酯製的基層薄膜上，將由甲苯7 5份、甲基 異丁基酮12份、甲基乙基酮12份、乙二酸〇·2份、砂膠樹 脂0.2份所構成之脫模劑，藉由凹版塗層器塗佈乾燥，‘形成 0.5 μ m厚之脫模劑層。接者，於此脫模劑層上，將甲基異 丁基酮25份、甲基乙基酮25份、變性酒精6份、甲苯10份 、乙酸丁酯1 0份、乙酸乙酯1 0份、三聚氰胺5份、尿素樹 脂5份、纖維素誘導體1份、松香系樹脂1份、二甲基砂_ 院1份、磷酸0.5份、p -甲苯磺酸0 · 5份、N - 丁苯磺酸2份 本紙張尺度適用中國國家標準（cns ) A4規格（2iox 297公釐·) 「27: --- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1257640 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明（25 ) 所構成之樹脂組成物，藉由凹版塗層器塗佈乾燥，形成 1 V m厚之保護膜。 接著，於此保護膜上蒸鍍鋁，形成厚度1 〇〇nm的鋁膜 之後，於此鋁膜上，將甲苯90份、聚乙酸乙酯10份所構成 之樹脂組成物，藉由凹版塗層器塗佈乾燥，形成厚度4 // m 之黏著劑層。使用如此製作之轉印薄膜，與第1實施例同 樣完成3 2吋之彩色映像管。 於如此之彩色映像管的製造，加熱處理工程之生產率 爲99 %非常良好，未有起因於金屬敷層的不良。此外，加 速電壓32kV，電流密度0.5 # A/cm2，全面以光柵（raster)訊 號測定中心亮度時，無論是R、G、B ，與塗漆法形成金 屬敷層的場合相比，均顯示+ 20 %之高數値，得到良好的 金屬敷層效果。 第3實施例 首先，於第2實施例同樣製作轉印薄膜。但是鋁膜的 膜厚爲5Onm。 接著，於10吋FED用的正面平板之單面上，藉由網版 印刷形成由黑色顏料構成的條紋狀遮光層之後，在遮光層 上之遮光部與遮光部之間，將紅（R )、綠（G )、藍（B )3色之螢光體層以條紋狀分別相鄰接的方式藉由網版印 刷法形成。 其次，轉印薄膜的黏著劑層以接於螢光體層的方式配 置’藉由硬度50度表面溫度200 °C的橡膠滾筒，以2m/min 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）TJqZ ~ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝_
、1T 1257640 A7 _ B7 五、發明説明（26 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 的速度，300kg/cm2的按壓力壓接之後，以l〇m/min的速度 剝下基層薄膜，於正面平板螢光體層上形成鋁膜。其後， 將正面平板，從室溫至200 °C爲止爲10 °C /nun，從200 t： 至380 °C爲止爲9°C/min，從380 °C至450 °C爲止爲3°C /min的升溫梯度進行升溫，在450 °C加熱30分鐘之後，以 3 °C /min的溫度梯度降溫至常溫。藉由此加熱處理，由各樹 酯層燒去有機成分，於螢光體層上形成金屬敷層。 其次，於基板上將表面傳導型電子放出元件多數形成 爲條紋狀的電子發生源，固定於背面平板之後，將此背面 平板，透過支撐框藉由遷徙玻璃密封於正面平板。其後， 施以排氣、密封等必要的處理，完成具有第17圖所示的構 造的10吋彩色FED。又，圖中符號31爲高壓端子，32爲 背面平板，33爲基板，34爲表面.傳導型電子放出元件，35 爲支撐框，36爲正面平板，37爲被形成金屬敷層的螢光面 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於如此之FED之金屬敷層之形成，加熱處理工程之生 產率爲99 %爲良好，無起因於金屬敷層的不良。此外，加 速電壓5kV，電流密度20 // A/cm2，全面以光柵（raster)訊 號測定中心亮度時，無論是R、G、B ，與塗漆法形成金 屬敷層的場合相比，均顯示+ 5 0 %之高數値，得到良好的 金屬敷層效果。 進而，藉由以下的方法，評估亮度不均。亦即，將正 面平板的畫像顯示部，分爲縱向10列橫向10列之1 〇 〇個區 域，以加速電壓5kV，電流密度20 // A/cm2，全面以延時 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29 - _· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1257640 A7 B7 五、發明説明（27 ) 訊號測定各區的白色亮度，藉由區域的亮度値的標準偏差 來評估亮度不均。結果，藉由塗漆法形成金屬敷層的場合 之標準偏差（σ )爲3 0.5，相對於此，在本實施例爲2.6，亮 度的參差幾乎完全解消。這是由於鋁膜的膜厚均勻性所造 成的，在FED這種低電壓驅動的顯示裝置的場合，根據本 發明的轉印方式之金屬敷層形成，已證明爲特別有效。 第4實施例 首先，依照以下的手續，製作轉印薄膜。於厚度 20 // m的聚酯樹酯製的基層薄膜上，形成以矽膠樹脂爲主 成分之厚度0.5 // m厚之脫模劑層之後，於其上形成以三聚 氰胺爲主成分之厚度1 // m之保護膜。 接著，於此保護膜上蒸鑛鋁，形成厚度70nm的鋁氧化 物之膜。此時，首先將真空度提高至1X1 (T4Pa程度之後， 以4 SCMM之比例導入氧氣，同時進行鋁之蒸鍍。如此，形 成表面電阻率103Ω/□之高電阻膜。進而於其上形成以聚 乙酸乙烯酯爲主成分的厚度1 2 // m的黏著劑層，完成轉印 薄片。 接著，於FED用的正面平板之單面上，藉由網版印刷 形成由黑色顏料構成的條紋狀遮光層之後，在遮光部之間 ，將紅（R )、綠（G )、藍（B ) 3色之螢光體層以條紋 狀分別相鄰接的方式藉由網版印刷法形成。 其次，轉印薄膜的黏著劑層以接於螢光體層的方式配 置，與第3實施例同樣形成高電阻層之後，在45 0 °C加熱處 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1257640 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7五、發明説明（28 ) 理30分鐘。藉由此加熱處理，在轉印之後原爲1 Ο3 Ω /□之 高電阻膜的表面電阻率上升，形成具有1〇5 Ω /□的數量級 之表面電阻率之金屬敷層。 其次，於基板上將表面傳導型電子放出元件多數.形成 爲條紋狀的電子發生源，固定於背面平板之後，將此背面 平板，與具有前述之金屬敷層的正面平板隔著約lmm的間 隔相對方向配置，透過支撐框藉由遷徙玻璃密封。其後， 施以排氣、密封等必要的處理，完成1 0吋彩色FED。 將如此得到之FED，以加速電壓5kV，電流密度 2 0 // A / c m2，全面以光柵（r a s t e r)訊號測定中心亮度時，與 以金屬敷層爲通常的鋁膜的場合相比，顯示90 %的相對亮 度。此外，放電開始電壓由從前的4kV上升至12kV，確認 .放電被抑制耐電壓特性良好。 第5實施例 首先，與第4實施例同樣製作轉印薄膜。但是將金屬 敷層形成用之轉印膜的形成，以如下所示的方式進行。亦 即，真空度提高至lX10_4Pa程度之後，以4 SCMM之比例導 入氧氣同時進行鋁之蒸鍍，在保護膜上形成表面電阻率約 103 Ω /□之高電阻膜（厚度35nm )之後，以通常的條件進 行鋁的蒸鍍，在高電阻膜上形成具有1 〇 Ω /□以下的表面電 阻率之鋁膜（厚度35nm )。 接著’使用此轉印薄膜，與第4實施例同樣完成1 〇吋 彩色FED。將所得到的FED，以加速電壓5kV，電流密度 石氏張尺度適用中國國家標準（CNS )八4胁（2獻297公釐1 ^31 -' ： (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1257640 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 一____ B7 __五、發明説明（29 ) 20 // A/cm2，全面以光柵（raster)訊號測定中心亮度時，與 以金屬敷層爲通常的鋁膜的場合相比，顯示95 %的相對亮 度，可知在此實施例所得的金屬敷層的反射性比第4實施 例還高。此外，放電開始電壓由從前的4kV上升至12kV， 確認具有與第4實施例同等的高耐壓特性。 產業上利用可能性 如以上所說明的，在本發明，於根據轉印方式之金屬 敷層的形成，可以改善耐轉印性與耐烘烤特性（特別是龜 裂特性），藉此可以良好的生產率獲得良好的金屬敷層。 此外，設於轉印薄膜等的黏著劑層的厚度範圍，也可以設 定得相當寬廣，黏著劑層形成之作業性亦佳。而且，被形 成的金屬敷層之反射效果很高，可得高亮度的螢光面。此 外，基板間的放電被抑制，提高耐電壓特性。 進而此外金屬敷層形成的工程相當簡便，可以降低顯 示裝置的製造成本。特別是在低電壓驅動的顯示裝置，可 以得到沒有亮度不均勻的品質良好的顯示面。 圖面之簡單說明 第1圖係顯示藉由轉印方式形成的金屬敷層之圖案， 第1圖A係轉印性不良的狀態之相片，第1圖B係熱膨不良 的狀態之相片，第1圖C係龜裂不良的狀態之相片，第1圖 D係良品之相片。 第2圖顯示根據轉印方式之金屬敷層之形成方法之一 本&張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) 「32 - ： (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1257640 A7 -—______B7 _ 五、發明説明（30 ) 例’第2圖A係轉印薄膜的剖面圖，第2圖B係顯示金屬膜 轉印工程之剖面圖，第2圖C係顯示加熱處理工程之剖面圖 ’第2圖D係顯示被形成金屬敷層的正面平板的剖面圖。 第3圖係顯示從前的轉印方式所形成的金屬敷層的轉 印性與熱膨特性之圖。 第4圖顯示使用黏著力高的黏著劑，藉由轉印方式形 成的金屬敷層的轉印性、熱膨特性以及龜裂特性之圖。 第5圖係使用於保護層添加柔軟劑之轉印薄膜所形成 的金屬敷層之龜裂特性之圖。 第6圖係使用於保護層添加柔軟劑之轉印薄膜所形成 的金屬敷層之轉印性及熱膨特性之圖。 第7圖係本發明之轉印薄膜之第丨實施型態之剖面圖。 第8圖係本發明之轉印薄膜之第2實施型態之剖面圖。 第9圖係於第2實施型態的轉印薄膜之作成，於蒸鍍時 之氧氣導入量與表面電阻率之關係圖。 第10圖係槪略顯示使用第2實施型態之轉印薄膜被形 成金屬敷層之螢光面的構造之擴大剖面圖。 第1 1圖係顯示金屬敷層的表面電阻率與FED的放電開 始電壓之關係圖。 第1 2圖係顯示本發明的轉印薄膜之第3實施例之剖面 圖。 第1 3圖係槪略顯示使用第3實施型態之轉印薄膜被形 成金屬敷層之螢光面的構造之擴大剖面圖。 第1 4圖係顯示FED的相對亮度與放電開始電壓之關係 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝·
、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中.國國家標準（CNS )_A4規格（21〇><297公釐） ^33 - 1257640 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（31 ) 〇 第1 5圖顯示在第1實施例，於彩色映像管用的正面平 板藉由轉印方式形成金屬敷層的方法，第1 5圖A顯示金屬 膜的轉印工程之剖面圖，第1 5圖B顯示基層薄膜的剝離工 程，第1 5圖C顯示被形成金屬敷層之正面平板的剖面圖。 第1 6圖顯示具備由第1實施例所形成的金屬敷層之彩 色映像管的剖面圖。 第1 7圖顯示具備由第3實施例所形成的金屬敷層之彩 色FED的剖面圖。 符號說明 11 基層薄膜 12 脫模劑層 13保護膜 13 金屬膜 15 黏著劑層 17 透光性基板 18 螢光體層 19 金屬敷層 2 6 漏斗 .27 電子槍 29 陰影遮罩 30 防爆帶 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2Η)Χ297公釐·) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)