WO2005050692A1 - メタルバック付き蛍光面の形成方法 - Google Patents

メタルバック付き蛍光面の形成方法 Download PDF

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WO2005050692A1
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Masaaki Inamura
Hajime Tanaka
Masayuki Yoshii
Yasunori Gamo
Takeo Ito
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Kabushiki Kaisha Toshiba
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    • H01J31/12—Image or pattern display tubes, i.e. having electrical input and optical output; Flying-spot tubes for scanning purposes with luminescent screen
    • H01J31/123—Flat display tubes

Definitions

  • the present invention relates to a method for forming a phosphor screen with a metal back, and more particularly, to a method for forming a phosphor screen with a metal back in a flat panel image display device such as a field emission display (FED). About the method.
  • a flat panel image display device such as a field emission display (FED).
  • the fluorescent surface of an image display device such as a cathode ray tube (CRT) or FED has been formed on the inner surface of the phosphor layer (the surface opposite to the face plate) by a metal such as aluminum (A1).
  • a metal-back structure in which a film is formed is widely used.
  • the metal back method reflects the emitted light from the phosphor layer excited by the electrons from the electron source to more efficiently transmit the luminous energy to the front surface of the face plate. This is for the purpose of imparting properties and serving as an electrode.
  • a thin film such as nitrocellulose, which has a strong force is formed on a phosphor layer by a spin method or the like, and A1 is vacuum-deposited on the thin film, followed by baking (baking (Lacquer method) to remove organic substances.
  • the thickness of the metal film In order to form a metal back layer that suppresses light transmittance and reflects light efficiently, the thickness of the metal film must be increased. However, when the thickness is increased, dead voltage ( There is a disadvantage that the lower limit of the electron beam acceleration voltage required for light emission) is increased. Further, there is a problem that the types of applicable metals and the width of the film thickness are limited.
  • Patent Document 1 JP-A-63-102139 (pages 2 and 3-4)
  • the present invention has been made to solve these problems, and has good adhesion between the phosphor layer and the metal back layer, excellent withstand voltage characteristics, and low light transmittance of the metal back layer. It is an object of the present invention to provide a method for forming a phosphor screen with a metal back having good performance with good yield.
  • a step of forming a phosphor layer on the inner surface of the face plate and a step of forming at least a release agent layer, a smooth resin film, and an adhesive layer on the base film The transferred film is disposed on the phosphor layer such that the resin film is in contact with the adhesive layer, and is pressed and adhered while being heated by a transfer roller, and then the base film is peeled off.
  • the step of transferring the resin film, the step of forming a metal film on the resin film transferred on the phosphor layer, and the step of heating the face plate on which the metal film is formed Characterized by having
  • a metal film is formed on the smooth resin film, and a heat treatment is further applied.
  • the adhesion between the phosphor layer and the metal back layer is increased, and the withstand voltage characteristics, particularly the limit holding voltage, are improved.
  • a metal back layer free from defects such as cracks and pinholes can be formed with a high yield, and the breakdown voltage can be improved. It is possible to form a metal-backed fluorescent screen of an image display device having excellent characteristics.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a structure of a transfer film used in an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a view schematically showing a step of transferring a smooth resin film in the embodiment of the present invention. is there.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of an FED provided with a phosphor screen with a metal back prepared according to an embodiment of the present invention.
  • a light-absorbing layer made of a dot-like or stripe-like black pigment is formed on the inner surface of the face plate by, for example, a photolithography method, and then ZnS is formed thereon.
  • Slurry containing phosphors of each color such as YO, YOS, etc.
  • the phosphor layer patterns of the three colors red (R), green (G), and blue (B) are arranged so as to be adjacent to each other between the patterns of the light absorption layer to form a phosphor screen.
  • the formation of the phosphor layer of each color can also be performed by a spray method or a printing method.
  • a resin film having smoothness is formed on the phosphor screen by a transfer method using a transfer film described below.
  • FIG. 1 shows the structure of the transfer film.
  • a transfer film 1 has a release agent layer 3, a smooth resin film 4, and an adhesive layer 5 sequentially laminated on a base film 2 made of a resin such as polyester resin. It has a structure.
  • the film thickness of the base film 2 is desirably 5 to 50 m in order to effectively perform heating and pressing by a roller (transfer roller) in a transfer step described later.
  • the release agent include cellulose acetate, wax, fatty acid, fatty acid amide, fatty acid ester, rosin, acrylic resin, silicone, fluorine resin, and the like.
  • the base film 2 and the smooth resin film are used. It is appropriately selected and used depending on the releasability between 4 and the like.
  • the smooth resin film 4 formed on the release agent layer 3 is preferably made of a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a photocurable resin, or the like, and is more flexible. It is desirable to contain an agent.
  • softening agents include phosphoric acid esters, aliphatic monobasic acid esters, aliphatic dibasic acid esters, dihydric alcohol esters, oxyacid esters, butyl oleate, dibutyl adipate, paraffin chloride, toluene sulfone ethyl amide, and toluene.
  • Sulfoneme examples thereof include tylamide, an aminobenzenesulfonamide compound, methyl abietic acid, dino-lunaphthalene, tributyl acetylquenate, an aminotoluenesulfonamide compound, and N-butylbenzenesulfonamide.
  • the content ratio of the softener is desirably set to 110 to 30% by weight based on the whole material constituting the resin film. When the content of the softener exceeds 30% by weight, the transferability is poor, which is not preferable.
  • a vinyl acetate resin an ethylene-vinyl acetate copolymer, a styrene-acrylic acid resin, an ethylene-butyl acetate terpolymer resin, or the like is used.
  • the transfer film 1 having the above-described configuration is arranged so that the adhesive layer 5 is in contact with the surface of the phosphor screen 6. Then, the base film 2 is peeled off after the smoothing resin film 4 is adhered by pressing the transfer roller 7 while heating with heat.
  • reference numeral 8 denotes a face plate (glass substrate)
  • 9 denotes a light absorbing layer
  • 10 denotes a phosphor layer.
  • the transfer roller 7 for example, a rubber roller having a coating layer made of a natural rubber, a silicone rubber, or the like on a metal core material is used. Then, the transfer roller 7 is heated so that the temperature of the surface of the rubber layer, which is the pressing portion, becomes 70 to 240 ° C., and the two base films of the transfer film 1 are pressed at a pressure of 1 Okgf Zcm 2 . It is preferable to move at a speed of 120 mZ while pressing with pressure.
  • the pressing speed of the transfer port 7 means a relative moving speed between the transfer roller 7 and the pressed portion.
  • the transferred resin film can be pressed while being heated by a press roller.
  • the resin film can be brought into close contact with the phosphor screen surface, and the smoothness of the resin film surface can be further improved.
  • the press roller for example, a rubber roller having a coating layer made of natural rubber, silicone rubber, or the like on a metal core material is used similarly to the transfer roller. Then, the press roller is heated so that the temperature of the surface of the rubber layer, which is the pressing portion, becomes 70 to 250 ° C., while pressing the smooth resin film 4 with a pressing force of 11 lOkgfZcm 2. It is preferable to move at a speed of 20mZ.
  • the metal film preferably has a thickness of 40 nm to 150 nm for the metal back effect.
  • any method can be used as long as it is a general dry metal thin film forming method such as a vacuum evaporation method and a sputtering method.
  • the entire face plate is heated to a temperature of about 450 ° C. and baked (baked) to decompose and remove organic components, thereby forming a metal back layer.
  • a smooth and flat metal back layer without irregularities, cracks, and wrinkles is formed, and the adhesion between the phosphor layer and the metal back layer is excellent.
  • the resulting phosphor screen with metal back is obtained.
  • reference numeral 14 denotes a phosphor screen including a light absorbing layer and a phosphor layer
  • 15 denotes a metal back layer.
  • Reference numeral 16 denotes a support frame (side wall).
  • the gap between the face plate 11 and the rear plate 13 is extremely narrow, discharge (insulation breakdown) is likely to occur between them.
  • a smooth and flat metal back without irregularities, cracks, wrinkles, etc. Since it has the layer 15 and the adhesion between the metal back layer 15 and the lower phosphor screen 14 is high, discharge is suppressed and the withstand voltage characteristics are greatly improved.
  • the metal back layer 15 since the metal back layer 15 has no cracks or pinholes and has a low light transmittance and a high reflectivity, a display with high luminance and excellent reliability can be realized.
  • a stripe-shaped light absorption layer that also has black pigment power is formed on the inner surface of the face plate by photolithography, and then a slurry containing phosphors of each color, such as ZnS, YO, and YS, is added.
  • the coating was dried and patterned using a photolithography method. Then, phosphor layers of three colors of red (R), green (G), and blue (B) are formed in stripes between the light-shielding portions of the light-absorbing layer so that the phosphor layers are adjacent to each other. Then, a phosphor screen was prepared.
  • a release agent layer having a thickness of 0.5 m is formed on a base film made of polyester resin having a thickness of 20 ⁇ m, and 25 parts by weight of methyl isobutyl ketone (hereinafter, simply referred to as “parts”) are formed thereon.
  • a resin composition comprising 0.5 part of acid and 0.5 part of p-toluenesulfonic acid was applied by a gravure coater and dried to form a smooth resin film having a thickness of 0.3 / zm.
  • a resin composition comprising 90 parts of toluene and 10 parts of butyl acetate was applied on the smooth resin film by a gravure coater and dried to form an adhesive layer having a thickness of 10 / zm. Formed and completed the transfer film.
  • this transfer film was placed on a phosphor screen so that the adhesive layer was in contact with the phosphor layer, and then had a rubber coating layer with a hardness of 90 ° and was heated to a surface temperature of 200 ° C.
  • the transfer roller was moved at a speed of 5.4 mZ while pressing with a pressure of 500 kgfZcm 2 by the rubber roller (transfer roller) thus pressed to press the transfer film, and then the base film was peeled off.
  • the smooth resin film was transferred onto the phosphor screen of the face plate.
  • the transferred smooth resin film is further pressed by a rubber roller (press roller) having a hardness of 80 degrees and a surface temperature of 180 ° C. at a speed of 1. OmZ and a pressure of 800 kgfZcm 2 , and is smoothed.
  • the conductive resin film was brought into close contact with the phosphor screen.
  • an A1 film having a thickness of 50 nm is formed on the smooth resin film by a vacuum evaporation method, and the face plate on which the A1 film is formed is heated and baked at 450 ° C. Organics were decomposed and removed. In this way, a metal back layer was formed on the phosphor screen without defects such as cracks and pinholes.
  • a metal back layer was formed by a conventional transfer method using a transfer film having a metal deposition film. That is, a transfer film in which a release agent layer, an A1 vapor-deposited film, and an adhesive layer were sequentially formed on a polyester resin base film was used, and this transfer film was disposed on a phosphor screen. In the same manner as described above, the A1 vapor-deposited film was transferred by heating and pressing with a transfer roller. Thereafter, a metal back layer was formed through a pressing process using a press roller and a heating / baking process.
  • FEDs were manufactured by a conventional method.
  • an electron source having a large number of surface conduction electron-emitting devices formed in a matrix on a substrate was fixed to a glass substrate to produce a rear plate.
  • the rear plate and the face plate are connected to a support frame and They were opposed to each other via a spacer and sealed with frit glass. After that, necessary processes such as sealing and exhaust were performed to complete the 10-inch color FED.
  • the FED having a phosphor screen with a metal back obtained in the comparative example was a force that caused a three-time discharge phenomenon in 3000 hours.
  • the FED having a phosphor screen with a metal back obtained in the example was 3000 hours. It was a force that never caused a discharge phenomenon.
  • the brightness was also improved by 5% compared to the FED of the comparative example.
  • the present invention it is possible to form a smooth metal back layer having high adhesion to a lower phosphor layer, and to obtain a metal-backed phosphor screen having a high limit holding voltage. it can.
  • the luminous brightness is also improved. Therefore, by providing such a phosphor screen with a metal back, it is possible to realize an image display device having excellent withstand voltage characteristics and high luminance.

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

明 細 書
メタルバック付き蛍光面の形成方法
技術分野
[0001] 本発明は、メタルバック付き蛍光面の形成方法に係り、さらに詳しくは、フィールドェ ミッションディスプレイ (FED)などの平面型画像表示装置にお!、て、メタルバック付き 蛍光面を形成する方法に関する。
背景技術
[0002] 従来から、陰極線管（CRT)や FEDなどの画像表示装置の蛍光面にぉ 、ては、蛍 光体層の内面（フェースプレートと反対側の面）にアルミニウム (A1)などの金属膜が 形成されたメタルバック方式の構造が広く採用されて 、る。
[0003] このメタルバック方式は、電子源からの電子により励起された蛍光体層力 発せら れた光を反射し、より効率よくフェースプレート前面に発光エネルギーを送ることと、 蛍光体層に導電性を付与し電極の役割を果たすことなどを目的としたものである。
[0004] 従来から、メタルバック層を形成するには、ニトロセルロースなど力もなる薄い膜をス ピン法などで蛍光体層の上に形成し、その上に A1を真空蒸着し、さらに焼成 (ベーキ ング)して有機物を除去する方法 (ラッカー法)が採られて 、る。
[0005] また、メタルバック層の簡便な形成方法として、予め離型剤を施したフィルム上に金 属蒸着膜を形成しておき、この金属膜を、接着剤を用いて蛍光体層上に転写する方 法 (転写方式)が提案されている。（例えば、特許文献 1参照）
[0006] し力しながら、従来力ものラッカー法、および転写方式によりメタルバック層を形成 する方法においては、蛍光体層とメタルバック層との間の十分な密着性を確保するこ とが難しかった。したがって、特に電子放出源と蛍光面との間のギャップ (間隙)が狭 Vヽ平面型画像表示装置にお!ヽて、良好な耐圧特性 (高 ヽ限界保持電圧)を実現する ことが難し力つた。
[0007] 蛍光体層とメタルバック層との間の密着性を高めるために、転写方式により金属膜 を形成した後、転写された金属膜をさらにプレス処理する方法も考えられているが、 この方法においても、亀裂やピンホールなどの欠陥がなぐ光透過率の低いメタルバ ック層を形成することが難し力つた。
[0008] 光透過率を低く抑え、効率よく光を反射するメタルバック層を形成するには、金属膜 の厚さを厚くしなければならな ヽが、膜厚を厚くするとデッドヴオルテージ (発光に必 要な電子線加速電圧の下限値)が高くなるという欠点があった。さらに、適用可能な 金属の種類や膜厚の幅が限られるという問題があった。
特許文献 1 :特開昭 63— 102139号公報 (第 2頁、第 3-4頁）
発明の開示
[0009] 本発明は、これらの問題を解決するためになされたもので、蛍光体層とメタルバック 層との密着性が良好で耐圧特性に優れ、かつメタルバック層の光透過率が低く反射 性が良好なメタルバック付き蛍光面を、歩留り良く形成する方法を提供することを目 的とする。
[0010] 本発明のメタルバック付き蛍光面の形成方法は、フェースプレート内面に蛍光体層 を形成する工程と、ベースフィルム上に少なくとも剥離剤層と平滑性榭脂膜および接 着剤層が形成された転写フィルムを、前記榭脂膜が前記接着剤層を介して接するよ うに前記蛍光体層上に配置し、転写ローラーにより加熱しながら押圧して接着した後 、前記ベースフィルムを剥ぎ取ることにより、前記榭脂膜を転写する工程と、前記蛍光 体層上に転写された前記榭脂膜上に金属膜を形成する工程と、前記金属膜が形成 されたフェースプレートを加熱処理する工程を備えることを特徴とする
[0011] 本発明においては、蛍光体層上に平滑性を有する榭脂膜を転写 '形成した後、こ の平滑性榭脂膜上に金属膜を形成し、さらに加熱処理を加えているので、蛍光体層 とメタルバック層との間の密着性が増大し、耐圧特性特に限界保持電圧が向上する。 さらに、蛍光体層上に形成された平滑性を有する榭脂膜上に金属膜を形成すること で、亀裂、ピンホールなどの欠陥のないメタルバック層を歩留り良く形成することがで き、耐圧特性に優れた画像表示装置のメタルバック付き蛍光面を形成することができ る。
図面の簡単な説明
[0012] [図 1]本発明の一実施形態に使用する転写フィルムの構造を示す断面図である。
[図 2]本発明の実施形態において、平滑性榭脂膜の転写工程を模式的に示す図で ある。
[図 3]本発明の実施形態により作成されたメタルバック付き蛍光面を備えた FEDの断 面図である。
発明を実施するための最良の形態
[0013] 次に、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、本発明は以下の実施 形態に限定されるものではな 、。
[0014] 本発明の実施形態においては、まず、フェースプレート内面に、ドット状またはストラ イブ状の黒色顔料から成る光吸収層（遮光層）を、例えばフォトリソ法により形成した 後、その上に ZnS系、 Y O系、 Y O S系など各色の蛍光体を含むスラリーを塗布 ·
2 3 2 2
乾燥し、フォトリソ法を用いてパターユングを行う。こうして、光吸収層のパターンの間 に、赤 (R)、緑 (G)、青 (B)の 3色の蛍光体層のパターンをそれぞれ隣り合うように配 列し、蛍光体スクリーンを形成する。なお、各色の蛍光体層の形成をスプレー法や印 刷法により行うこともできる。
[0015] 次いで、蛍光体スクリーン上に平滑性を有する榭脂膜を、以下に示す転写フィルム を用いて転写方式により形成する。
[0016] 図 1に転写フィルムの構造を示す。この図に示すように、転写フィルム 1は、ポリエス テル榭脂などカゝら成るベースフィルム 2の上に、離型剤層 3、平滑性榭脂膜 4および 接着剤層 5が順に積層された構造を有している。
[0017] ここで、ベースフィルム 2の膜厚は、後述する転写工程でローラー（転写ローラー）に よる加熱'押圧を効果的に行うために、 5— 50 mとすることが望ましい。離型剤とし ては、酢酸セルロース、ワックス、脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、ロジン、ァ クリル樹脂、シリコーン、フッ素榭脂などが挙げられ、これらの中から、ベースフィルム 2および平滑性榭脂膜 4などとの間の剥離性に応じて、適宜選択して使用される。
[0018] 離型剤層 3の上に形成される平滑性榭脂膜 4は、熱硬化性榭脂、熱可塑性榭脂、 光硬化性榭脂などをベースとすることが望ましぐさらに柔軟剤を含有することが望ま しい。柔軟剤としては、リン酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、脂肪族二塩基酸 エステル、二価アルコールエステル、ォキシ酸エステル、ォレイン酸ブチル、アジピン 酸ジブチル、塩化パラフィン、トルエンスルフォンェチルアミド、トルエンスルフォンメ チルアミド、ァミノベンゼンスルフォンアミド化合物、ァビエチン酸メチル、ジノ-ルナ フタレン、ァセチルクェン酸トリブチル、ァミノトルエンスルフォンアミド化合物、 N—ブ チルベンゼンスルフォンアミドなどが例示される。
[0019] より具体的には、アクリル榭脂、メラミン榭脂、尿素樹脂、アクリル メラミン共重合体 榭脂、メラミン 尿素共重合体榭脂、ポリウレタン榭脂、ポリエステル榭脂、エポキシ榭 脂、アルキッド榭脂、ポリアミド榭脂、セルロース類、ビュル系榭脂など力も選ばれる 1 種以上の榭脂を主体とし、前記した群より選ばれる 1種以上の柔軟剤を含む平滑性 榭脂膜 4が使用される。なお、柔軟剤の含有割合は、榭脂膜を構成する材料全体に 対して 1一 30重量％とすることが望ましい。柔軟剤の含有割合が 30重量％を超える と、転写性が悪ィ匕して好ましくない。
[0020] 接着剤としては、酢酸ビュル榭脂、エチレン 酢酸ビニル共重合体、スチレンーァク リル酸榭脂、エチレン 酢酸ビュル アクリル酸三元重合体榭脂などが使用される。
[0021] 次いで、図 2に示すように、前記した構成を有する転写フィルム 1を、接着剤層 5が 蛍光体スクリーン 6の表面に接するように配置する。そして、転写ローラー 7によりカロ 熱しながら押圧して平滑性榭脂膜 4を接着した後、ベースフィルム 2を剥ぎ取る。なお 、図中符号 8はフェースプレート (ガラス基板）、 9は光吸収層、 10は蛍光体層をそれ ぞれ示している。
[0022] 転写ローラー 7としては、例えば、金属製の芯材の上に、天然ゴムやシリコーンゴム などの被覆層を有するゴムローラーが使用される。そして、この転写ローラー 7を、押 圧部であるゴム層表面の温度が 70— 240°Cになるように加熱し、転写フィルム 1のべ 一スフイルム 2面を、 1一 1 Okgf Zcm2の押圧力で押圧しながら 1一 20mZ分の速度 で移動させることが好まし 、。
[0023] 転写ローラー 7の表面温度および押圧速度についての前記条件は、転写フィルム 1 の平滑性榭脂膜 4が蛍光体スクリーン 6面に転写されるために必要かつ十分な条件 であり、この範囲を外れると、蛍光体層 10などと平滑性榭脂膜 4との間の密着性が不 足し、転写不良やべ一キング後の亀裂が発生するおそれがある。
[0024] すなわち、転写ローラー 7の表面温度が高すぎたりあるいは押圧速度が遅すぎると 、ベースフィルム 2が加熱されすぎて軟ィ匕乃至溶融が生じ、表面平滑な榭脂膜が転 写 ·形成されない。そのため、その上に形成される金属膜に亀裂などが発生し好まし くない。また、転写ローラー 7の表面温度が低すぎたりあるいは押圧速度が速やすぎ ると、接着剤の加熱が不十分となり、平滑性榭脂膜 4の接着が不十分となる結果、部 分的に転写されないなどの転写不良が生じる。
[0025] なお、このような転写ローラー 7による押圧においては、被押圧部であるフェースプ レート側を固定し、転写ローラー 7を移動させる他に、転写ローラー 7の位置を固定し 、フェースプレート側を移動'走行させる態様を採ることもできる。したがって、転写口 一ラー 7による押圧速度は、転写ローラー 7と被押圧部との相対的な移動速度を意味 するものとする。
[0026] こうして、フェースプレート 8の蛍光体スクリーン 6上に平滑性榭脂膜 4を転写した後 、転写された榭脂膜をプレスローラーにより加熱しながら押圧することができる。このよ うなプレス処理を行うことで、榭脂膜を蛍光体スクリーン面に密接することができ、榭 脂膜表面の平滑性をより高めることができる。
[0027] プレスローラーとしては、例えば、転写ローラーと同様に、金属製の芯材の上に天 然ゴムやシリコーンゴムなどの被覆層を有するゴムローラーが使用される。そして、こ のプレスローラーを、押圧部であるゴム層表面の温度が 70— 250°Cになるように加熱 し、平滑性榭脂膜 4上を、 1一 lOkgfZcm2の押圧力で押圧しながら 1一 20mZ分の 速度で移動させることが好まし ヽ。
[0028] なお、プレスローラーによる押圧においても、被押圧部であるフェースプレート側を 固定しプレスローラーを移動させる態様の他に、プレスローラーの位置を固定しフエ 一スプレート側を移動 ·走行させる態様を採ることができる。
[0029] こうしてプレス処理を行った後、平滑性榭脂膜上に金属膜を形成する。金属膜の膜 厚は、メタルバック効果の点力 40nm— 150nmとすることが好ましい。金属膜の形 成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法などの一般的な乾式の金属薄膜形成 法であれば、どのような方法でも使用することができる。
[0030] 次いで、フェースプレートごと 450°C程度の温度に加熱.焼成（ベーキング）して有 機分を分解'除去し、メタルバック層を形成する。こうして、凹凸や亀裂、しわなどがな く平滑で平坦なメタルバック層が形成され、蛍光体層とメタルバック層との密着性に優 れたメタルバック付き蛍光面が得られる。
[0031] 次に、こうして形成されたメタルバック付き蛍光面をアノード電極とする FEDについ て、図 3に基づいて説明する。
[0032] この FEDでは、前記実施形態で形成されたメタルバック付き蛍光面を有するフエ一 スプレート 11と、マトリックス状に配列された電子放出素子 12を有するリアプレート 13 と力 1mm—数 mm程度の狭い間隙を介して対向配置され、フェースプレート 11とリ ァプレート 13との間に、 5— 15kVの高電圧が印加されるように構成されている。なお 、図中符号 14は、光吸収層と蛍光体層とから成る蛍光体スクリーンを示し、 15はメタ ルバック層を示す。また、符号 16は支持枠 (側壁)を示す。
[0033] フェースプレート 11とリアプレート 13との間隙が極めて狭ぐこれらの間で放電（絶 縁破壊）が起こりやすいが、この FEDでは、凹凸や亀裂、しわなどがなく平滑で平坦 なメタルバック層 15を有しており、メタルバック層 15と下層の蛍光体スクリーン 14との 間の密着性が高いので、放電が抑制され耐圧特性が大幅に向上している。また、メタ ルバック層 15に亀裂、ピンホールなどがなく、光透過率が低く反射性が高いので、高 輝度で信頼性に優れた表示を実現することができる。
実施例
[0034] 次に、本発明を FEDに適用した具体的実施例について説明する。
[0035] 実施例
まず、フェースプレート内面に黒色顔料力もなるストライプ状の光吸収層を、フォトリソ 法により形成した後、 ZnS系、 Y O系、 Y O S系など各色の蛍光体を含むスラリーを
2 3 2 2
塗布 '乾燥し、フォトリソ法を用いてパターニングを行った。そして、光吸収層の遮光 部と遮光部との間に、赤 (R)、緑 (G)、青 (B)の 3色の蛍光体層をストライプ状でそれ ぞれが隣り合うように形成し、蛍光体スクリーンを作成した。
[0036] 次に、以下に示す転写フィルムを作成した。すなわち、膜厚 20 μ mのポリエステル 榭脂製ベースフィルムの上に 0. 5 m厚の離型剤層を形成し、その上に、メチルイソ プチルケトン 25重量部（以下、単に部と示す。）、メチルェチルケトン 25部、変性アル コール 6部、トルエン 10部、酢酸ブチル 10部、酢酸ェチル 10部、メラミン榭脂 5部、 尿素樹脂 5部、繊維素誘導体 1部、ロジン系榭脂 1部、ジメチルシロキサン 1部、リン 酸 0. 5部、 p—トルエンスルフォン酸 0. 5部力もなる榭脂組成物を、グラビアコータに より塗布 '乾燥し、厚さ 0. 3 /z mの平滑性榭脂膜を形成した。
[0037] 次 、で、この平滑性榭脂膜の上に、トルエン 90部、酢酸ビュル 10部力もなる榭脂 組成物をグラビアコータにより塗布'乾燥し、厚さ 10 /z mの接着剤層を形成して、転 写フィルムを完成した。
[0038] 次に、この転写フィルムを、接着剤層が蛍光体層に接するように蛍光体スクリーン上 に配置した後、硬度 90度のゴム被覆層を有し、表面温度が 200°Cに加熱されたゴム ローラー（転写ローラー）により、 500kgfZcm2の圧力で押圧しながら、転写ローラー を 5. 4mZ分の速度で移動させて転写フィルムを圧着し、次いでベースフィルムを剥 がした。こうして、フェースプレートの蛍光体スクリーン上に平滑性榭脂膜を転写した
[0039] その後、転写された平滑性榭脂膜を、硬度 80度、表面温度 180°Cのゴムローラー（ プレスローラー）により、 1. OmZ分の速度、 800kgfZcm2の圧力でさらに押圧し、 平滑性榭脂膜を蛍光体スクリーン上に密着させた。
[0040] 次 ヽで、平滑性榭脂膜の上に厚さ 50nmの A1膜を真空蒸着法により形成した後、 こうして A1膜が形成されたフェースプレートを、 450°Cで加熱'ベーキングして有機分 を分解'除去した。こうして、蛍光体スクリーン上に亀裂やピンホールなどの欠陥がな V、メタルバック層が形成された。
[0041] また、比較例として、金属蒸着膜を有する転写フィルムを使用した従来からの転写 方式によりメタルバック層を形成した。すなわち、ポリエステル榭脂製ベースフィルム の上に、離型剤層、 A1蒸着膜および接着剤層が順に形成された転写フィルムを使用 し、この転写フィルムを蛍光体スクリーン上に配置した後、実施例と同様に転写ローラ 一により加熱'押圧して A1蒸着膜を転写した。その後、プレスローラーによるプレス処 理工程および加熱 ·ベーキング工程を経てメタルバック層を形成した。
[0042] 次に、こうして実施例および比較例で得られたメタルバック付き蛍光面を有するフ ースプレートを使用し、常法により FEDを作製した。まず、基板上に表面伝導型電子 放出素子をマトリクス状に多数形成した電子発生源を、ガラス基板に固定し、リアプレ ートを作製した。次いで、このリアプレートと前記フェースプレートとを、支持枠および スぺーサを介して対向配置し、フリットガラスにより封着した。その後、封止、排気など 必要な処理を施し、 10型カラー FEDを完成した。
[0043] 次!、で、これらの FEDにつ!/、て、電子線加速電圧 10kVで 3000時間駆動試験を 行った。その結果、比較例で得られたメタルバック付き蛍光面を有する FEDは、 300 0時間で 3回放電現象が発生した力 実施例で得られたメタルバック付き蛍光面を有 する FEDは、 3000時間で一度も放電現象が発生しな力つた。また、輝度も比較例の FEDと比較して 5%向上した。
産業上の利用可能性
[0044] 本発明によれば、下層の蛍光体層との間の密着性が高ぐ平滑なメタルバック層を 形成することができ、高い限界保持電圧を有するメタルバック付き蛍光面を得ることが できる。また、メタルバック層にピンホールや亀裂がなく光透過性が低いので、発光輝 度も向上する。したがって、このようなメタルバック付き蛍光面を備えることで、耐圧特 性に優れかつ輝度の高い画像表示装置を実現することができる。

Claims

請求の範囲
[1] フェースプレート内面に蛍光体層を形成する工程と、
ベースフィルム上に少なくとも剥離剤層と平滑性榭脂膜および接着剤層が形成さ れた転写フィルムを、前記榭脂膜が前記接着剤層を介して接するように前記蛍光体 層上に配置し、転写ローラーにより加熱しながら押圧して接着した後、前記べ一スフ イルムを剥ぎ取ることにより、前記榭脂膜を転写する工程と、
前記蛍光体層上に転写された前記榭脂膜上に金属膜を形成する工程と、 前記金属膜が形成されたフ ースプレートを加熱処理する工程を備えることを特徴 とするメタルバック付き蛍光面の形成方法。
[2] 前記蛍光体層上に転写された前記榭脂膜を、プレスローラーにより加熱しながら押 圧するプレス処理工程を備えることを特徴とする請求項 1記載のメタルバック付き蛍光 面の形成方法。
[3] 前記榭脂膜が、アクリル榭脂、メラミン榭脂、尿素樹脂、アクリル-メラミン共重合体 榭脂、メラミン 尿素共重合体榭脂、ポリウレタン榭脂、ポリエステル榭脂、エポキシ榭 脂、アルキッド榭脂、ポリアミド榭脂、セルロース類、ビニル系榭脂から選ばれる 1種以 上の榭脂を含有することを特徴とする請求項 1または 2記載のメタルバック付き蛍光 面の形成方法。
[4] 前記榭脂膜が、榭脂を主体とし、リン酸エステル、脂肪族一塩基酸エステル、脂肪 族二塩基酸エステル、二価アルコールエステル、ォキシ酸エステル、ォレイン酸ブチ ル、アジピン酸ジブチル、塩化パラフィン、トルエンスルフォンェチルアミド、トルエン スルフォンメチルアミド、ァミノベンゼンスルフォンアミド化合物、ァビエチン酸メチル、 ジノ-ルナフタレン、ァセチルクェン酸トリブチル、ァミノトルエンスルフォンアミド化合 物、 N ブチルベンゼンスルフォンアミドカゝらなる群より選ばれる 1種以上の柔軟剤を 含有することを特徴とする請求項 1乃至 3のいずれか 1項記載のメタルバック付き蛍光 面の形成法。
[5] 前記柔軟剤が、前記榭脂膜を構成する全材料に対して 1一 30重量％の割合で含 有されることを特徴とする請求項 4記載のメタルバック付き蛍光面の形成方法。
[6] 前記接着剤が、酢酸ビニル榭脂、エチレン 酢酸ビニル共重合体、スチレン アタリ ル酸榭脂、エチレン 酢酸ビニルーアクリル酸三元重合体榭脂、塩ィ匕ビ二ルー酢酸ビ
-ル共重合体榭脂、ポリブテン樹脂、ポリアミド榭脂からなる群より選ばれる 1種以上 の榭脂を主成分とすることを特徴とする請求項 1乃至 5記載のいずれか 1項記載のメ タルバック付き蛍光面の形成方法。
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