JPH08212929A - Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08212929A JPH08212929A JP7021394A JP2139495A JPH08212929A JP H08212929 A JPH08212929 A JP H08212929A JP 7021394 A JP7021394 A JP 7021394A JP 2139495 A JP2139495 A JP 2139495A JP H08212929 A JPH08212929 A JP H08212929A
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- JP
- Japan
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- phosphor
- barrier rib
- mgo film
- film
- display panel
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- Pending
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- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護層として用いられているＭｇＯ膜の発光
に対する機能を十分に果たしつつ、蛍光体の保護層とし
て活用する。 【構成】 ２枚の基板１，２が互いに平行に且つ対向す
るように配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブ
３により表示要素としての複数のセルが形成され、該バ
リヤーリブ３の壁面に蛍光体１１が形成されてなるＡＣ
型ＰＤＰにおいて、蛍光体１１の表面を覆って保護層１
０であるＭｇＯ膜を成膜する。二次電子放出機能を高め
て放電状態の活性化が行われるとともに、蛍光体１１が
放電時のスパッタから保護される。
に対する機能を十分に果たしつつ、蛍光体の保護層とし
て活用する。 【構成】 ２枚の基板１，２が互いに平行に且つ対向す
るように配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブ
３により表示要素としての複数のセルが形成され、該バ
リヤーリブ３の壁面に蛍光体１１が形成されてなるＡＣ
型ＰＤＰにおいて、蛍光体１１の表面を覆って保護層１
０であるＭｇＯ膜を成膜する。二次電子放出機能を高め
て放電状態の活性化が行われるとともに、蛍光体１１が
放電時のスパッタから保護される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、気体放電を用いた自発
光形式の平板ディスプレイであるＡＣ型のプラズマディ
スプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）に関するもので
ある。
光形式の平板ディスプレイであるＡＣ型のプラズマディ
スプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】図１はＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示した
もので、同図に示されるように、２枚のガラス基板１，
２が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は
その間に設けられたバリヤーリブ３により一定の間隔に
保持されている。前面板となるガラス基板１の背面側に
は互いに平行な複数のＸ電極４がパターン形成され、そ
の上に誘電体層５が形成されており、その上にブラック
マトリックス６がパターン形成され、その上に保護層７
が形成されている。また、背面板となるガラス基板２の
前面側にはＹ電極８がパターン形成され、その上に誘電
体層９と保護層１０が設けられており、この保護層１０
上にバリヤーリブ３が形成され、そのバリヤーリブ３の
壁面に蛍光体１１が設けられている。
もので、同図に示されるように、２枚のガラス基板１，
２が互いに平行に且つ対向して配設されており、両者は
その間に設けられたバリヤーリブ３により一定の間隔に
保持されている。前面板となるガラス基板１の背面側に
は互いに平行な複数のＸ電極４がパターン形成され、そ
の上に誘電体層５が形成されており、その上にブラック
マトリックス６がパターン形成され、その上に保護層７
が形成されている。また、背面板となるガラス基板２の
前面側にはＹ電極８がパターン形成され、その上に誘電
体層９と保護層１０が設けられており、この保護層１０
上にバリヤーリブ３が形成され、そのバリヤーリブ３の
壁面に蛍光体１１が設けられている。
【０００３】図１に示すものは対向放電型であって、前
面板と背面板に形成されているＸ電極４及びＹ電極７の
間に交流電圧を印加して電場を形成することにより、セ
ル内で放電を発生させる構造である。この場合、交流を
かけているために電場の向きは周波数に対応して変化す
る。そしてこの放電により生じる紫外線が蛍光体を発光
させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようにな
っている。このＰＤＰでは保護層７，１０にＭｇＯ膜を
使用しており、これが発光輝度や発光効率を高める役目
を果たしている。
面板と背面板に形成されているＸ電極４及びＹ電極７の
間に交流電圧を印加して電場を形成することにより、セ
ル内で放電を発生させる構造である。この場合、交流を
かけているために電場の向きは周波数に対応して変化す
る。そしてこの放電により生じる紫外線が蛍光体を発光
させ、前面板を透過する光を観察者が視認するようにな
っている。このＰＤＰでは保護層７，１０にＭｇＯ膜を
使用しており、これが発光輝度や発光効率を高める役目
を果たしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術で述べたＡ
Ｃ型ＰＤＰでは、発光輝度や発光効率を高めるため前記
したようにＭｇＯ膜を保護層７，１０に用いているが、
蛍光体１０表面は放電空間中にむき出し状態になってい
るため、放電の際に蛍光体１０の表面がスパッタされ、
長時間点灯すると発光輝度の劣化を起こすという問題点
があった。これは対向放電型に限ったことではなく、面
放電型においても同様である。
Ｃ型ＰＤＰでは、発光輝度や発光効率を高めるため前記
したようにＭｇＯ膜を保護層７，１０に用いているが、
蛍光体１０表面は放電空間中にむき出し状態になってい
るため、放電の際に蛍光体１０の表面がスパッタされ、
長時間点灯すると発光輝度の劣化を起こすという問題点
があった。これは対向放電型に限ったことではなく、面
放電型においても同様である。
【０００５】本発明は、上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的とするところは、ＭｇＯ膜の発光
に対する機能を十分に果たしつつ、蛍光体の保護層とし
て活用することにより、長時間にわたり安定して発光輝
度を保つようにしたＡＣ型ＰＤＰ及びその製造方法を提
供することにある。
ものであり、その目的とするところは、ＭｇＯ膜の発光
に対する機能を十分に果たしつつ、蛍光体の保護層とし
て活用することにより、長時間にわたり安定して発光輝
度を保つようにしたＡＣ型ＰＤＰ及びその製造方法を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、２枚の基板が互いに平行に且つ対向す
るように配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブ
により表示要素としての複数のセルが形成され、該バリ
ヤーリブの壁面に蛍光体が形成されてなるＡＣ型プラズ
マディスプレイパネルにおいて、前記蛍光体表面を覆っ
てＭｇＯ膜を成膜したことを特徴としている。
めに、本発明は、２枚の基板が互いに平行に且つ対向す
るように配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブ
により表示要素としての複数のセルが形成され、該バリ
ヤーリブの壁面に蛍光体が形成されてなるＡＣ型プラズ
マディスプレイパネルにおいて、前記蛍光体表面を覆っ
てＭｇＯ膜を成膜したことを特徴としている。
【０００７】そして、上記構成のＡＣ型ＰＤＰは、その
ＭｇＯ膜をＥＢ蒸着で形成するに際して、バリヤーリブ
を設けた側の基板における当該バリヤーリブの壁面に蛍
光体を形成した後、当該基板を蒸着源に対してある角度
を持たせて傾け、且つ基板中心に対して自転させること
で蛍光体表面にＭｇＯ膜を成膜することが望ましいもの
である。
ＭｇＯ膜をＥＢ蒸着で形成するに際して、バリヤーリブ
を設けた側の基板における当該バリヤーリブの壁面に蛍
光体を形成した後、当該基板を蒸着源に対してある角度
を持たせて傾け、且つ基板中心に対して自転させること
で蛍光体表面にＭｇＯ膜を成膜することが望ましいもの
である。
【０００８】
【作用】上述の構成からなる本発明のＡＣ型ＰＤＰにお
いては、蛍光体の表面に成膜されたＭｇＯ膜が、放電時
における二次電子放出層と蛍光体保護層の両方の機能を
果たす。また、上記の製造方法によれば、蛍光体の陰に
なっている部分にもＭｇＯ膜が確実に成膜される。
いては、蛍光体の表面に成膜されたＭｇＯ膜が、放電時
における二次電子放出層と蛍光体保護層の両方の機能を
果たす。また、上記の製造方法によれば、蛍光体の陰に
なっている部分にもＭｇＯ膜が確実に成膜される。
【０００９】
【実施例】図２は本発明に係るＡＣ型ＰＤＰを示す断面
図である。同図のＰＤＰにおける前面板の構造は図１で
説明したのと同様であり、ガラス基板１の背面側に互い
に平行な複数のＸ電極４がパターン形成され、その上に
誘電体層５が形成されており、その上にブラックマトリ
ックス６がパターン形成され、その上にＭｇＯ膜からな
る保護層７が形成されている。一方、背面板はそのガラ
ス基板２の前面側にＹ電極８がパターン形成され、その
上に誘電体層９が形成されており、この誘電体層９の上
にバリヤーリブ３が形成され、そのバリヤーリブ３の上
の壁面に蛍光体１１が設けられ、さらに蛍光体１１を覆
って保護層１０であるＭｇＯ膜が成膜されている。
図である。同図のＰＤＰにおける前面板の構造は図１で
説明したのと同様であり、ガラス基板１の背面側に互い
に平行な複数のＸ電極４がパターン形成され、その上に
誘電体層５が形成されており、その上にブラックマトリ
ックス６がパターン形成され、その上にＭｇＯ膜からな
る保護層７が形成されている。一方、背面板はそのガラ
ス基板２の前面側にＹ電極８がパターン形成され、その
上に誘電体層９が形成されており、この誘電体層９の上
にバリヤーリブ３が形成され、そのバリヤーリブ３の上
の壁面に蛍光体１１が設けられ、さらに蛍光体１１を覆
って保護層１０であるＭｇＯ膜が成膜されている。
【００１０】上記構造のＰＤＰの製造手順は次のようで
ある。
ある。
【００１１】まず、背面板となるガラス基板２上に電極
としてＹ電極８をパターン形成する。その形成方法とし
ては、スパッタ法、真空蒸着法等の薄膜形成プロセス
とフォトプロセスを組み合わせた方法、スクリーン印
刷法を利用したペーストによる形成方法、ブレードコ
ート、リバースコート等のコーティング法とフォトプロ
セスを組み合わせた方法等がある。フォトプロセスに
は、フォトレジストを塗布して乾燥させた後、露光及び
現像工程によりパターニングを行う方法、或いはドライ
フィルムを用いて同様にパターニングする方法が考えら
れる。例えば、電極材料にＣｒを用いてスパッタ法によ
り成膜を行った場合、その膜厚は約０．０５〜０．２μ
ｍ程度である。また、そのＣｒ薄膜はフォトレジストを
用いてパターニングを行う。なお、電極材料及びパター
ニング方法はこの限りではない。
としてＹ電極８をパターン形成する。その形成方法とし
ては、スパッタ法、真空蒸着法等の薄膜形成プロセス
とフォトプロセスを組み合わせた方法、スクリーン印
刷法を利用したペーストによる形成方法、ブレードコ
ート、リバースコート等のコーティング法とフォトプロ
セスを組み合わせた方法等がある。フォトプロセスに
は、フォトレジストを塗布して乾燥させた後、露光及び
現像工程によりパターニングを行う方法、或いはドライ
フィルムを用いて同様にパターニングする方法が考えら
れる。例えば、電極材料にＣｒを用いてスパッタ法によ
り成膜を行った場合、その膜厚は約０．０５〜０．２μ
ｍ程度である。また、そのＣｒ薄膜はフォトレジストを
用いてパターニングを行う。なお、電極材料及びパター
ニング方法はこの限りではない。
【００１２】上記何れかの形成方法で所定パターンのＹ
電極８を形成した後、これを覆うようにして誘電体層９
を全面に形成する。例えば、厚さ０．２μｍのＣｒ電極
の場合、この誘電体層９はピンホールによる駆動時の影
響を排除するため、電極膜厚の約４倍の膜厚は必要であ
り、ショットガラス（例えば、ショット日本社製の蒸着
用絶縁体）を用いて０．８μｍ以上の膜厚に形成するの
がよい。なお、誘電体層９の材料はショットガラスのよ
うなＥＢ蒸着やスパッタ法で形成される薄膜材料以外で
もよく、印刷やコーティング等の方法で形成可能な材
料、例えば誘電体ペーストなどを用いてもよい。
電極８を形成した後、これを覆うようにして誘電体層９
を全面に形成する。例えば、厚さ０．２μｍのＣｒ電極
の場合、この誘電体層９はピンホールによる駆動時の影
響を排除するため、電極膜厚の約４倍の膜厚は必要であ
り、ショットガラス（例えば、ショット日本社製の蒸着
用絶縁体）を用いて０．８μｍ以上の膜厚に形成するの
がよい。なお、誘電体層９の材料はショットガラスのよ
うなＥＢ蒸着やスパッタ法で形成される薄膜材料以外で
もよく、印刷やコーティング等の方法で形成可能な材
料、例えば誘電体ペーストなどを用いてもよい。
【００１３】さらに、誘電体層９上にバリヤーリブ３を
形成する。リブ材としては、酸化鉛を主体とした低融点
ガラスの粉末と、エチルセルロースと溶剤からなるバイ
ンダーとを混合したガラスペーストを使用する。このリ
ブ材を用いてスクリーン印刷の重ね刷りにより誘電体層
９の上にパターン状のバリヤーリブ１０を形成する。或
いは、リブ材の全面塗布（ベタのスクリーン印刷、また
はブレードコーティング、リバースコーティング等によ
るコーティング）を行って乾燥させた後、全面にレジス
トを塗布するか或いはドライフィルムを貼付し、バリヤ
ーリブ３のパターンに露光及び現像してパターニングを
行い、その後サンドブラストによりリブ材の不要部分を
除去して所定のリブ形状にする。そして、スクリーン印
刷法、サンドブラスト法の何れの場合でもその後に焼成
を行う。形成するバリヤーリブ３の高さは約１０〜１０
０μｍ程度とする。
形成する。リブ材としては、酸化鉛を主体とした低融点
ガラスの粉末と、エチルセルロースと溶剤からなるバイ
ンダーとを混合したガラスペーストを使用する。このリ
ブ材を用いてスクリーン印刷の重ね刷りにより誘電体層
９の上にパターン状のバリヤーリブ１０を形成する。或
いは、リブ材の全面塗布（ベタのスクリーン印刷、また
はブレードコーティング、リバースコーティング等によ
るコーティング）を行って乾燥させた後、全面にレジス
トを塗布するか或いはドライフィルムを貼付し、バリヤ
ーリブ３のパターンに露光及び現像してパターニングを
行い、その後サンドブラストによりリブ材の不要部分を
除去して所定のリブ形状にする。そして、スクリーン印
刷法、サンドブラスト法の何れの場合でもその後に焼成
を行う。形成するバリヤーリブ３の高さは約１０〜１０
０μｍ程度とする。
【００１４】バリヤーリブ３を形成した後、バリヤーリ
ブ３の壁面に蛍光体１１を形成する。具体的には、カラ
ーＰＤＰの場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色について、感光性を
持たせた蛍光体スラリーをブレードコート、リバースコ
ート等のコーティング法でバリヤーリブ３内に充填して
乾燥させた後、露光及び現像工程により所望の位置にそ
れぞれの蛍光体１１を順次形成する。その後、焼成を行
って蛍光体１１をバリヤーリブ３に密着させる。或い
は、スクリーン印刷により蛍光体ペーストをＲ，Ｇ，Ｂ
の各セル内に充填して乾燥させた後、必要に応じてサン
ドブラスト法により誘電体層９を露出させ、焼成を行っ
て同様に蛍光体１１をバリヤーリブ３の壁面に形成す
る。
ブ３の壁面に蛍光体１１を形成する。具体的には、カラ
ーＰＤＰの場合、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色について、感光性を
持たせた蛍光体スラリーをブレードコート、リバースコ
ート等のコーティング法でバリヤーリブ３内に充填して
乾燥させた後、露光及び現像工程により所望の位置にそ
れぞれの蛍光体１１を順次形成する。その後、焼成を行
って蛍光体１１をバリヤーリブ３に密着させる。或い
は、スクリーン印刷により蛍光体ペーストをＲ，Ｇ，Ｂ
の各セル内に充填して乾燥させた後、必要に応じてサン
ドブラスト法により誘電体層９を露出させ、焼成を行っ
て同様に蛍光体１１をバリヤーリブ３の壁面に形成す
る。
【００１５】このようにバリヤーリブ３の壁面に蛍光体
１１を形成した後、この蛍光体１１の表面を覆うように
バリヤーリブ３全体に保護層１０を設ける。保護層１０
の材料はＭｇＯである。このＭｇＯ膜の形成方法として
は、蒸着或いはスパッタ法により薄膜のＭｇＯ膜を成膜
する方法、又はペーストを使用してスクリーン印刷によ
り厚膜のＭｇＯ膜を形成する方法、或いはゾルゲル法を
用いてＭｇＯ膜を形成する方法がある。何れの場合も表
面全体に膜を形成するため膜厚は０．５〜２０μｍ程度
とする。活性化は３５０℃で５時間保持することで行
う。
１１を形成した後、この蛍光体１１の表面を覆うように
バリヤーリブ３全体に保護層１０を設ける。保護層１０
の材料はＭｇＯである。このＭｇＯ膜の形成方法として
は、蒸着或いはスパッタ法により薄膜のＭｇＯ膜を成膜
する方法、又はペーストを使用してスクリーン印刷によ
り厚膜のＭｇＯ膜を形成する方法、或いはゾルゲル法を
用いてＭｇＯ膜を形成する方法がある。何れの場合も表
面全体に膜を形成するため膜厚は０．５〜２０μｍ程度
とする。活性化は３５０℃で５時間保持することで行
う。
【００１６】保護層１０としてＭｇＯ膜をＥＢ蒸着で成
膜する場合、蛍光体１１の表面に均一に且つ万遍なく成
膜するため、ガラス基板２を蒸着入射方向に対して角度
を持たせて傾け、ガラス基板２をその中心に対して自転
させる。このように成膜を行うと、蛍光体１１の陰にな
っている部分にもＭｇＯ膜を確実に成膜することができ
る。
膜する場合、蛍光体１１の表面に均一に且つ万遍なく成
膜するため、ガラス基板２を蒸着入射方向に対して角度
を持たせて傾け、ガラス基板２をその中心に対して自転
させる。このように成膜を行うと、蛍光体１１の陰にな
っている部分にもＭｇＯ膜を確実に成膜することができ
る。
【００１７】一方、前面板となるガラス基板１にＸ電極
４をパターン形成し、これを覆うように誘電体層５を形
成する。使用する材料及び形成方法は前面板の場合と同
様である。さらに、誘電体層５の上にＸ電極４に対して
直交する構成でブラックマトリックス６を形成する。こ
のブラックマトリックス６は背面板のバリヤーリブ３上
に対応させるように形成する。ブラックマトリックス６
の形成材料としてはＣｒなどの金属膜、またはバリヤー
リブ３に使用されているリブ材を使用する。ブラックマ
トリックス６を覆って全面にＭｇＯからなる活性層５を
形成する。形成方法は前記したのと同様である。
４をパターン形成し、これを覆うように誘電体層５を形
成する。使用する材料及び形成方法は前面板の場合と同
様である。さらに、誘電体層５の上にＸ電極４に対して
直交する構成でブラックマトリックス６を形成する。こ
のブラックマトリックス６は背面板のバリヤーリブ３上
に対応させるように形成する。ブラックマトリックス６
の形成材料としてはＣｒなどの金属膜、またはバリヤー
リブ３に使用されているリブ材を使用する。ブラックマ
トリックス６を覆って全面にＭｇＯからなる活性層５を
形成する。形成方法は前記したのと同様である。
【００１８】上記のように形成した背面板と前面板とを
貼り合わせ、ガスを封入することでパネルを完成させ
る。この構造のパネルでは、蛍光体１１の表面に成膜さ
れたＭｇＯ膜が、放電時における二次電子放出層と蛍光
体保護層の両方の機能を持つことになる。また、バリヤ
ーリブ３の上部にブラックマトリックス６が存在するた
め各色の混ざり部分が隠れ、色ムラのないパネルが得ら
れる。
貼り合わせ、ガスを封入することでパネルを完成させ
る。この構造のパネルでは、蛍光体１１の表面に成膜さ
れたＭｇＯ膜が、放電時における二次電子放出層と蛍光
体保護層の両方の機能を持つことになる。また、バリヤ
ーリブ３の上部にブラックマトリックス６が存在するた
め各色の混ざり部分が隠れ、色ムラのないパネルが得ら
れる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のＡＣ型Ｐ
ＤＰは、２枚の基板が互いに平行に且つ対向するように
配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブにより表
示要素としての複数のセルが形成され、該バリヤーリブ
の壁面に蛍光体が形成されてなるＡＣ型ＰＤＰにおい
て、前記蛍光体の表面を覆ってＭｇＯ膜を成膜した構成
にしたことにより、二次電子放出機能を高めて放電状態
の活性化が行われるとともに、蛍光体が放電時のスパッ
タから保護されることから、長期間にわたり安定して発
光輝度を維持することができる。
ＤＰは、２枚の基板が互いに平行に且つ対向するように
配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブにより表
示要素としての複数のセルが形成され、該バリヤーリブ
の壁面に蛍光体が形成されてなるＡＣ型ＰＤＰにおい
て、前記蛍光体の表面を覆ってＭｇＯ膜を成膜した構成
にしたことにより、二次電子放出機能を高めて放電状態
の活性化が行われるとともに、蛍光体が放電時のスパッ
タから保護されることから、長期間にわたり安定して発
光輝度を維持することができる。
【００２０】また、そのＭｇＯ膜をＥＢ蒸着で形成する
に際して、バリヤーリブを設けた側の基板における当該
バリヤーリブの壁面に蛍光体を形成した後、当該基板を
蒸着源に対してある角度を持たせて傾け、且つ基板中心
に対して自転させることで蛍光体表面にＭｇＯ膜を成膜
することにより、蛍光体の陰になっている部分にもＭｇ
Ｏ膜を確実に形成可能となり、パネル化後の放電状態の
安定化及び蛍光体の保護を確実なものにすることができ
る。
に際して、バリヤーリブを設けた側の基板における当該
バリヤーリブの壁面に蛍光体を形成した後、当該基板を
蒸着源に対してある角度を持たせて傾け、且つ基板中心
に対して自転させることで蛍光体表面にＭｇＯ膜を成膜
することにより、蛍光体の陰になっている部分にもＭｇ
Ｏ膜を確実に形成可能となり、パネル化後の放電状態の
安定化及び蛍光体の保護を確実なものにすることができ
る。
【図１】従来のＡＣ型プラズマディスプレイパネルの一
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
【図２】本発明に係るＡＣ型プラズマディスプレイパネ
ルを示す断面図である。
ルを示す断面図である。
１，２ ガラス基板 ３ バリヤーリブ ４ Ｘ電極 ５ 誘電体層 ６ ブラックマトリックス ７ 活性層（ＭｇＯ膜） ８ Ｙ電極 ９ 誘電体層 １０ 活性層（ＭｇＯ膜） １１ 蛍光体
Claims (2)
- 【請求項１】 ２枚の基板が互いに平行に且つ対向する
ように配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブに
より表示要素としての複数のセルが形成され、該バリヤ
ーリブの壁面に蛍光体が形成されてなるＡＣ型プラズマ
ディスプレイパネルにおいて、前記蛍光体の表面を覆っ
てＭｇＯ膜を成膜したことを特徴とするＡＣ型プラズマ
ディスプレイパネル。 - 【請求項２】 ２枚の基板が互いに平行に且つ対向する
ように配設され、両者の間に設けられたバリヤーリブに
より表示要素としての複数のセルが形成され、該バリヤ
ーリブの壁面に蛍光体が形成されてなり、さらに前記蛍
光体の表面を覆ってＭｇＯ膜がＥＢ蒸着で設けられたＡ
Ｃ型プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
バリヤーリブを設けた側の基板における当該バリヤーリ
ブの壁面に蛍光体を形成した後、当該基板を蒸着源に対
してある角度を持たせて傾け、且つ基板中心に対して自
転させることで蛍光体表面にＭｇＯ膜を成膜することを
特徴とするＡＣ型プラズマディスプレイパネルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7021394A JPH08212929A (ja) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7021394A JPH08212929A (ja) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08212929A true JPH08212929A (ja) | 1996-08-20 |
Family
ID=12053854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7021394A Pending JPH08212929A (ja) | 1995-02-09 | 1995-02-09 | Ａｃ型プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08212929A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003516605A (ja) * | 1999-08-03 | 2003-05-13 | ▲東▼南大学 | プラズマディスプレイ・パネル |
| KR100438807B1 (ko) * | 1997-09-30 | 2004-07-16 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마표시패널및그제조방법 |
| KR100496285B1 (ko) * | 2000-10-06 | 2005-06-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 표시패널 |
| KR100562888B1 (ko) * | 1999-03-15 | 2006-03-24 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 표시패널의 제조방법 |
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