JP2006120356A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006120356A JP2006120356A JP2004304499A JP2004304499A JP2006120356A JP 2006120356 A JP2006120356 A JP 2006120356A JP 2004304499 A JP2004304499 A JP 2004304499A JP 2004304499 A JP2004304499 A JP 2004304499A JP 2006120356 A JP2006120356 A JP 2006120356A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric layer
- protective film
- refractive index
- display panel
- plasma display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/40—Layers for protecting or enhancing the electron emission, e.g. MgO layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/38—Dielectric or insulating layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
【課題】誘電体層と保護膜との屈折率の差を考慮することで、干渉ムラの緩和を図る。
【解決手段】前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率との差を0.20以下とする。
【選択図】図2
【解決手段】前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率との差を0.20以下とする。
【選択図】図2
Description
本発明は、プラズマディスプレイパネル(以下「PDP」と記す)及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、表示ムラの緩和を図ったPDP及びその製造方法に関する。
従来のPDPとして、AC型3電極面放電形式のPDPが知られている。このPDPは、前面側(表示面側)の基板の内面に面放電が可能な表示電極を水平方向に多数設け、背面側の基板の内面に発光セル選択用のアドレス電極を表示電極と交差する方向に多数設け、表示電極とアドレス電極との交差部をセルとするものである。
前面側の基板の表示電極は誘電体層で覆われ、その上に保護膜が形成されている。背面側の基板のアドレス電極も誘電体層で覆われ、アドレス電極とアドレス電極との間には隔壁が形成され、隔壁間には蛍光体層が形成されている。
PDPは、このように作製した前面側のパネルアセンブリと背面側のパネルアセンブリとを対向させて周辺を封止した後、内部に放電ガスを封入することにより作製されている(特許文献1参照)。
上述のPDPでは、前面側の基板を見た場合、表示電極が誘電体層で被覆され、その上に保護膜が形成される。一般に、誘電体層は厚み10μm以上の厚膜プロセスで形成され、保護膜は厚さ1μm前後の薄膜プロセスで形成される。
この前面側の基板の光学特性に着目すると、保護膜が薄膜であるために光の干渉が発生することが分っている。この干渉特性は膜厚に応じて異なるため、パネル面内で保護膜の膜厚ムラが存在すると、前面側の基板に透過率ムラが生じる。
PDPは放電によって蛍光体が発光し、その発光が前面側の基板を透過し、画像として表示される。したがって、干渉により前面側の基板に透過率ムラがあると、パネルの表示ムラとなって見える(これを「干渉ムラ」と呼ぶ)。
この干渉ムラを解決するためには、保護膜の膜厚を均一にすることが考えられる。しかし、保護膜の膜厚差が70nmあると干渉特性が半周期ずれるため、膜厚差70nmで干渉ムラが発生すると考えられる。今後、PDPの生産数アップに伴い基板の大面積化やタクト短縮が予測されるなか、保護膜の膜厚差70nm以下でPDPの生産を維持することは非常に困難である。
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、保護膜の膜厚の均一性に関わらず、誘電体層と保護膜との屈折率の差を考慮することで、干渉ムラの緩和を図るようにしたものである。
本発明は、前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、前記誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率との差が0.20以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
本発明によれば、前面側の基板において、誘電体層と保護膜との屈折率の差が0.20以下であるので、保護膜の膜厚ムラに起因した表示ムラを緩和し、白均一性の高いプラズマディスプレイパネルを製造することができる。
本発明において、屈折率とは、真空中の光速度cと媒質中の光速度(位相速度)vとの比c/vを意味する。したがって、誘電体層の屈折率とは真空中の光速度と誘電体層中の光速度との比を意味し、保護膜の屈折率とは真空中の光速度と保護膜中の光速度との比を意味する。
本発明は、屈折率の大きさを規定するものではなく、屈折率の差を規定するものである。誘電体層と保護膜との屈折率の差とは、誘電体層の屈折率をn、保護膜の屈折率をn1とした場合、屈折率差Δn=|n−n1|である。したがって、誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率はいずれが大きくてもよい。
本発明において、前面側の基板および背面側の基板としては、ガラス、石英、セラミック等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。
電極は、前面側の基板の内面に形成されていればよい。この電極は、当該分野で公知の各種の材料と方法を用いて形成することができる。電極に用いられる材料としては、例えば、ITO、SnO2などの透明な導電性材料や、Ag、Au、Al、Cu、Crなどの金属の導電性材料が挙げられる。電極の形成方法としては、当該分野で公知の各種の方法を適用することができる。たとえば、印刷などの厚膜形成技術を用いて形成してもよいし、物理的堆積法または化学的堆積法からなる薄膜形成技術を用いて形成してもよい。厚膜形成技術としては、スクリーン印刷法などが挙げられる。薄膜形成技術の内、物理的堆積法としては、蒸着法やスパッタ法などが挙げられる。化学的堆積方法としては、熱CVD法や光CVD法、あるいはプラズマCVD法などが挙げられる。
誘電体層は、低融点ガラスフリットとバインダー樹脂からなる低融点ガラスペーストを、前面側の基板または背面側の基板上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することで形成することができる。ここで用いる低融点ガラスとしては、酸化シリコン,ホウケイ酸ガラス,酸化アルミニウム,酸化イットリウム,酸化鉛からなる群から選択された1つまたは2つ以上の混合物を主成分とするガラス材を適用することができる。
本発明においては、保護膜はMgOを用い、かつ平均膜厚1μm前後の薄膜形成プロセスで形成することができる。
誘電体層は、その誘電体層の屈折率とその上に形成される保護膜の屈折率との差が0.20以下となるような材料を用いて形成されることが望ましい。
保護膜がMgOを用い、かつ平均膜厚1μm前後の薄膜形成プロセスで形成される場合、誘電体層は、その屈折率が、波長500nmの光に対し1.45〜1.74の値を有していることが望ましい。
保護膜は、電子ビーム蒸着法やプラズマCVD法のような、当該分野で公知の薄膜形成プロセスによって形成することができる。保護膜は、その薄膜形成プロセスの際の成膜条件として温度または圧力が制御されることで屈折率が調整されてもよい。
本発明においては、誘電体層と保護膜との間に、誘電体層との間の屈折率の差と、保護膜との間の屈折率の差が、それぞれ0.05以下となるような干渉防止層が設けられていてもよい。
本発明は、また、前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、前記保護膜の膜厚が1200nm以上であるプラズマディスプレイパネルである。
本発明は、さらに、前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、前記保護膜を、薄膜形成プロセスによって形成し、その薄膜形成プロセスの際、誘電体層との屈折率差が0.05以下となるように、保護膜を成膜するときの圧力を制御することからなるプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
本発明は、さらにまた、前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、前記保護膜を、薄膜形成プロセスによって形成し、その薄膜形成プロセスの際、誘電体層との屈折率差が0.05以下となるように、保護膜を成膜するときの温度を制御することからなるプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
以下、図面に示す実施例に基づいて本発明を詳述する。なお、本発明はこれによって限定されるものではなく、各種の変形が可能である。
図1(a)および図1(b)は本発明のPDPの構成を示す部分分解斜視図である。このPDPはカラー表示用のAC型3電極面放電形式のPDPである。
本PDPは、前面側の基板11を含む前面側のパネルアセンブリ(図1(a)参照)と、背面側の基板21を含む背面側のパネルアセンブリ(図1(b)参照)から構成されている。前面側の基板11と背面側の基板21としては、ガラス基板、石英基板、セラミック基板等を使用することができる。
前面側の基板11の内側面には、水平方向に表示電極Xと表示電極Yが等間隔に形成されている。表示電極Xと表示電極Yとの間が表示ラインLとなる。各表示電極X,Yは、ITO、SnO2などの幅の広い透明電極12と、例えばAg、Au、Al、Cu、Cr及びそれらの積層体(例えばCr/Cu/Crの積層構造)等からなる金属製の幅の狭いバス電極13から構成されている。表示電極X,Yは、Ag、Auについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。
表示電極X,Yの上には、表示電極X,Yを覆うように交流(AC)駆動用の誘電体層17が形成されている。誘電体層17は、低融点ガラスペーストを、前面側の基板11上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することにより形成している。
誘電体層17の上には、表示の際の放電により生じるイオンの衝突による損傷から誘電体層17を保護するための保護膜18が形成されている。この保護膜はMgOで形成されている。
背面側の基板21の内側面には、平面的にみて表示電極X,Yと交差する方向に複数のアドレス電極Aが形成され、そのアドレス電極Aを覆って誘電体層24が形成されている。アドレス電極Aは、Y電極との交差部で発光セルを選択するためのアドレス放電を発生させるものであり、Cr/Cu/Crの3層構造で形成されている。このアドレス電極Aは、その他に、例えばAg、Au、Al、Cu、Cr等で形成することもできる。アドレス電極Aも、表示電極X,Yと同様に、Ag、Auについてはスクリーン印刷のような厚膜形成技術を用い、その他については蒸着法、スパッタ法等の薄膜形成技術とエッチング技術を用いることにより、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することができる。誘電体層24は、誘電体層17と同じ材料、同じ方法を用いて形成することができる。
隣接するアドレス電極Aとアドレス電極Aとの間の誘電体層24上には、複数の隔壁29が形成されている。隔壁29は、サンドブラスト法、印刷法、フォトエッチング法等により形成することができる。例えば、サンドブラスト法では、低融点ガラスフリット、バインダー樹脂、溶媒等からなるガラスペーストを誘電体層24上に塗布して乾燥させた後、そのガラスペースト層上に隔壁パターンの開口を有する切削マスクを設けた状態で切削粒子を吹きつけて、マスクの開口に露出したガラスペースト層を切削し、さらに焼成することにより形成する。また、フォトエッチング法では、切削粒子で切削することに代えて、バインダー樹脂に感光性の樹脂を使用し、マスクを用いた露光及び現像の後、焼成することにより形成する。
隔壁29の側面及び隔壁間の誘電体層24上には、赤(R)、緑(G)、青(B)の蛍光体層28R,28G,28Bが形成されている。蛍光体層28R,28G,28Bは、蛍光体粉末とバインダー樹脂と溶媒とを含む蛍光体ペーストを隔壁29間の凹溝状の放電空間内にスクリーン印刷、又はディスペンサーを用いた方法などで塗布し、これを各色毎に繰り返した後、焼成することにより形成している。この蛍光体層28R,28G,28Bは、蛍光体粉末と感光性材料とバインダー樹脂とを含むシート状の蛍光体層材料(いわゆるグリーンシート)を使用し、フォトリソグラフィー技術で形成することもできる。この場合、所望の色のシートを基板上の表示領域全面に貼り付けて、露光、現像を行い、これを各色毎に繰り返すことで、対応する隔壁間に各色の蛍光体層を形成することができる。
PDPは、上記した前面側のパネルアセンブリと背面側のパネルアセンブリとを、表示電極X,Yとアドレス電極Aとが交差するように対向配置し、周囲を封止し、隔壁29で囲まれた放電空間30に放電ガスを充填することにより作製されている。このPDPでは、表示電極X,Yとアドレス電極Aとの交差部の放電空間30が表示の最小単位である1つのセル領域(単位発光領域)となる。1画素はR、G、Bの3つのセルで構成される。
図1(a)に示したように、PDPにおいては、前面側の基板11の表示電極X,Yは誘電体層17で被覆され、その上に保護膜18が形成されている。この誘電体層17は厚み10μm以上の厚膜プロセスで形成している。保護膜18は厚さ1μm前後の薄膜プロセスで形成している。
図2は前面側の基板の光の透過状態を示す説明図である。
前面側の基板11においては、大気の屈折率:n0、誘電体層の屈折率:n、保護膜の屈折率:n1、誘電体層と保護膜の屈折率差:Δn=|n−n1|、前面側基板の光の透過率:Tとすると、次式が成立する。
T=〔(8n0n1 2n)/{(n0 2+n1 2)(n1 2+n2)+4n0n1 2n+(n0 2−n1 2)(n1 2−n2)cosδ}〕×α+β
ここで、α、βは補正係数である。
前面側の基板11においては、大気の屈折率:n0、誘電体層の屈折率:n、保護膜の屈折率:n1、誘電体層と保護膜の屈折率差:Δn=|n−n1|、前面側基板の光の透過率:Tとすると、次式が成立する。
T=〔(8n0n1 2n)/{(n0 2+n1 2)(n1 2+n2)+4n0n1 2n+(n0 2−n1 2)(n1 2−n2)cosδ}〕×α+β
ここで、α、βは補正係数である。
上記のδは以下で表される。
δ=(4πn1・d・cosφ1)/λ
ここで、d:保護膜の膜厚、λ:透過光の波長である。
δ=(4πn1・d・cosφ1)/λ
ここで、d:保護膜の膜厚、λ:透過光の波長である。
前面側の基板11の光学特性に着目すると、図2に示すように、保護膜17が薄膜であるために光の干渉が発生する。この干渉特性は保護膜の膜厚に応じて異なるため、パネル面内で保護膜18の膜厚ムラが存在すると、干渉特性が不均一となり、前面側の基板11に透過率ムラが生じる。
PDPは放電によって蛍光体が発光し、その発光Hが前面側の基板11を透過し、画像として表示される。したがって、干渉特性の不均一性により前面側の基板11に透過率ムラが生じると、パネルの表示ムラとなって見える。上述したようにこの表示ムラは「干渉ムラ」と呼ばれる。
図3は前面側の基板を透過する光の波長と透過率の関係を示すグラフである。
この図に示すように、保護膜の膜厚差が70nmあると干渉特性が半周期ずれるため、膜厚差70nmで干渉ムラが発生する。この干渉ムラをなくすためには、保護膜18の膜厚を均一にすればよい。しかし、PDPの生産数アップに伴い基板の大面積化やタクト短縮が予測されるなか、保護膜の膜厚差が70nm以下となるようにPDPの生産を維持することは非常に困難である。
この図に示すように、保護膜の膜厚差が70nmあると干渉特性が半周期ずれるため、膜厚差70nmで干渉ムラが発生する。この干渉ムラをなくすためには、保護膜18の膜厚を均一にすればよい。しかし、PDPの生産数アップに伴い基板の大面積化やタクト短縮が予測されるなか、保護膜の膜厚差が70nm以下となるようにPDPの生産を維持することは非常に困難である。
本発明は、このような観点に基づき、保護膜の膜厚ムラに起因した表示ムラを緩和することにより、白均一性(パネルのユニフォーミティ)の高いプラズマディスプレイパネルを提供する。
図4は保護膜と誘電体層との屈折率差Δnと干渉ムラとの関係を示すグラフである。このグラフは、保護膜と誘電体層との屈折率差Δnと、干渉ムラとの相関をシミュレーションしたものである。
干渉ムラについては、JND尺度を用いて計算したムラレベルにより表現した。Δnが小さくなると、干渉ムラが小さくなることが分る。これは、屈折率差が小さくなることで、干渉の振幅が小さくなり、実効的なムラとして見えにくくなったためと考えられる。
本実施形態のPDPでは、保護膜18にMgOを用いている。MgOは2次電子放出係数や耐スパッタ性の面で優れた材料であるため、代替する材料の検討は行われているものの、現状はMgO以外の実用化は成されていない。また、誘電体層17には低融点ガラスを使用している。したがって、保護膜としてMgOを用い、誘電体層として低融点ガラス材を用いることを前提とした上で、干渉ムラを防止するために、MgO膜と誘電体層との屈折率差Δnをできるだけ小さくする。具体的には0.2以下にする。そのためには、以下の4つの対策を実施する。
(1)誘電体層の屈折率をコントロールして、MgO膜の屈折率に近づける。
(2)MgO膜の屈折率をコントロールして、誘電体層の屈折率に近づける。
(3)MgO膜と誘電体層との間に干渉防止層を設け、MgO膜と干渉防止層との間の屈折率差を0.05以下にし、干渉防止層と誘電体層との間の屈折率差を0.05以下にする。
(4)MgO膜の膜厚を干渉ムラが生じないほど厚くする。
(1)誘電体層の屈折率をコントロールして、MgO膜の屈折率に近づける。
(2)MgO膜の屈折率をコントロールして、誘電体層の屈折率に近づける。
(3)MgO膜と誘電体層との間に干渉防止層を設け、MgO膜と干渉防止層との間の屈折率差を0.05以下にし、干渉防止層と誘電体層との間の屈折率差を0.05以下にする。
(4)MgO膜の膜厚を干渉ムラが生じないほど厚くする。
まず、誘電体層の屈折率をコントロールして、MgO膜の屈折率に近づける具体的方法について説明する。
図5は各種のガラス材料の屈折率を示す説明図である。
誘電体層17は、上述したように、低融点ガラスペーストを、前面側の基板11上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することにより形成している。この誘電体層17の屈折率は低融点ガラスの混合組成によって決定される。したがって、MgO膜との屈折率差が小さくなるように誘電体層の組成を選択することで干渉ムラを抑制できる。
図5は各種のガラス材料の屈折率を示す説明図である。
誘電体層17は、上述したように、低融点ガラスペーストを、前面側の基板11上にスクリーン印刷法で塗布し、焼成することにより形成している。この誘電体層17の屈折率は低融点ガラスの混合組成によって決定される。したがって、MgO膜との屈折率差が小さくなるように誘電体層の組成を選択することで干渉ムラを抑制できる。
MgOを成膜した場合、電子ビーム蒸着法やプラズマCVD法などの現状の成膜技術で成膜すると、その屈折率は、波長500nmの光に対し約1.6程度となる。したがって、具体的には、誘電体層の屈折率が1.6±0.2程度となるように誘電体層の組成を選択する。この場合、MgOは、バルク(bulk)の形態である場合、その屈折率は、波長500nmの光に対し約1.74であるので、誘電体層の屈折率はそれよりも大きくする必要はない。したがって、誘電体層の組成の選択に際しては、誘電体層の屈折率が、波長500nmの光に対し、1.45以上で、かつ1.74以下となるようにすればよい。
このような観点から、誘電体層に用いる低融点ガラス材料は、SiO2、ホウケイ酸ガラス、Al2O3・SiO2、Al2O3(コランダム)、Y2O3、PbO(リサージ)などを用いる。これにより、誘電体層とMgOとの屈折率の差を0.2以下にすることができ、干渉ムラを抑制することができる。
なお、SiO2を使用し、プラズマCVD法で誘電体層を形成する場合、CVDプロセス条件(温度、圧力など)によって誘電体層の屈折率をコントロールし、誘電体層の屈折率をMgO膜の屈折率に近づけて、両者の屈折率差を小さくすることも可能である。
次に、MgO膜の屈折率をコントロールして、誘電体層の屈折率に近づける具体的方法について説明する。
図6はMgO膜を成膜するときの圧力と屈折率の相関を示すグラフである。
成膜は電子ビーム蒸着法により行った。このグラフから、成膜圧力が大きくなるほど屈折率が低下することがわかる。したがって、誘電体層の屈折率が1.74〜1.45の値を有するとき、MgOの成膜圧力を、誘電体層との屈折率差が小さくなるように、具体的には0.05以下となるように制御することで、干渉ムラを抑制することができる。
図6はMgO膜を成膜するときの圧力と屈折率の相関を示すグラフである。
成膜は電子ビーム蒸着法により行った。このグラフから、成膜圧力が大きくなるほど屈折率が低下することがわかる。したがって、誘電体層の屈折率が1.74〜1.45の値を有するとき、MgOの成膜圧力を、誘電体層との屈折率差が小さくなるように、具体的には0.05以下となるように制御することで、干渉ムラを抑制することができる。
図7はMgO膜を成膜するときの基板前加熱温度と屈折率の相関を示すグラフである。
成膜は電子ビーム蒸着法により行った。このグラフから、基板前加熱温度が高くなるほど屈折率が上昇することがわかる。したがって、誘電体層の屈折率が1.74〜1.45の値を有するとき、MgO成膜時の基板前加熱温度を、誘電体層との屈折率差が小さくなるように、具体的には0.05以下となるように制御することで、干渉ムラを抑制することができる。
成膜は電子ビーム蒸着法により行った。このグラフから、基板前加熱温度が高くなるほど屈折率が上昇することがわかる。したがって、誘電体層の屈折率が1.74〜1.45の値を有するとき、MgO成膜時の基板前加熱温度を、誘電体層との屈折率差が小さくなるように、具体的には0.05以下となるように制御することで、干渉ムラを抑制することができる。
次に、MgO膜と誘電体層との間に干渉防止層を設ける具体例について説明する。
図8は誘電体層と保護膜の間に干渉防止層を設けた構造を示す説明図である。
前面側の基板11の誘電体層17と保護膜18との間に、誘電体層17との間の屈折率の差と、保護膜18との間の屈折率の差が、それぞれ0.05以下となるような干渉防止層19を設ける。このように、干渉防止層19の屈折率は、誘電体層17とMgO膜18の中間の値を有するものを選択する。干渉防止層19の膜厚は200nm以下とする。干渉防止層19の材料としては、図5で示した各種のガラス材を適用することができる。
図8は誘電体層と保護膜の間に干渉防止層を設けた構造を示す説明図である。
前面側の基板11の誘電体層17と保護膜18との間に、誘電体層17との間の屈折率の差と、保護膜18との間の屈折率の差が、それぞれ0.05以下となるような干渉防止層19を設ける。このように、干渉防止層19の屈折率は、誘電体層17とMgO膜18の中間の値を有するものを選択する。干渉防止層19の膜厚は200nm以下とする。干渉防止層19の材料としては、図5で示した各種のガラス材を適用することができる。
干渉防止層19があることで、界面の屈折率差が小さくなり、その結果干渉ムラを抑制することができる。従来の誘電体層と保護膜の材料やプロセス条件を維持できるため、製造手番は増加するが、開発や製造に対する負荷が小さいことがメリットとしてあげられる。
また、干渉防止層として保護膜材料であるMgOを用いることも出来る。すなわち、誘電体層とMgO膜の屈折率差が0.05以下となるようにMgOを成膜した後、連続して異なる条件のMgO膜を成膜する。これにより製造手番を増やすことがなくなり、また上層に形成したMgO膜に関してはパネルの放電特性や寿命特性を考慮した成膜が可能となる。具体的な製造方法としては、MgO成膜において、初期の膜厚200nm程度を成膜する過程のみプロセス条件(前述した成膜圧力、温度)を変化させることで実現できる。
次に、MgO膜の膜厚を干渉ムラが生じないほど厚くする具体例について説明する。
図9はMgO膜の膜厚中心値と表示ムラとの相関をシミュレーションした結果を示すグラフである。
このグラフから、MgO膜の膜厚が厚くなるほど表示ムラが小さくなることがわかる。この理由としては、MgO膜の膜厚が厚くなることで透過率の干渉周期が短くなったためと考えられる。
図9はMgO膜の膜厚中心値と表示ムラとの相関をシミュレーションした結果を示すグラフである。
このグラフから、MgO膜の膜厚が厚くなるほど表示ムラが小さくなることがわかる。この理由としては、MgO膜の膜厚が厚くなることで透過率の干渉周期が短くなったためと考えられる。
PDPは、R(赤),G(緑),B(青)の発光により表示を行っているが、各色の発光スペクトルはある波長域を持つ。したがって、干渉により透過率が変化しても、干渉周期が各色の発光スペクトルの波長域内であれば、大幅な色の変化は起こらない。図9のグラフからわかるように、MgO膜厚を1200nm以上にすれば、干渉ムラを大幅に抑制することができる。
このように、誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率との差を0.2以下とすることにより、保護膜の膜厚ムラに起因した表示ムラを緩和し、白均一性の高いプラズマディスプレイパネルを提供できる。
11 前面側の基板
12 透明電極
13 バス電極
17,24 誘電体層
18 保護膜
19 干渉防止層
21 背面側の基板
28R,28G,28B 蛍光体層
29 隔壁
30 放電空間
A アドレス電極
X,Y 表示電極
12 透明電極
13 バス電極
17,24 誘電体層
18 保護膜
19 干渉防止層
21 背面側の基板
28R,28G,28B 蛍光体層
29 隔壁
30 放電空間
A アドレス電極
X,Y 表示電極
Claims (10)
- 前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、
前記誘電体層の屈折率と保護膜の屈折率との差が0.20以下であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 前記保護膜が、MgOを用い、かつ平均膜厚1μm前後の薄膜形成プロセスで形成されてなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記誘電体層が、その誘電体層の屈折率とその上に形成される保護膜の屈折率との差が0.20以下となるような材料を用いて形成されてなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記誘電体層は、その屈折率が、波長500nmの光に対し1.45〜1.74の値を有してなる請求項2記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記誘電体層が、酸化シリコン,ホウケイ酸ガラス,酸化アルミニウム,酸化イットリウム,酸化鉛からなる群から選択された1つまたは2つ以上の混合物を主成分とするガラス材で形成されてなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記保護膜が、薄膜形成プロセスによって形成され、その薄膜形成プロセスの際の成膜条件として温度または圧力が制御されることで屈折率が調整されてなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前記誘電体層と保護膜との間に、誘電体層との間の屈折率の差と、保護膜との間の屈折率の差が、それぞれ0.05以下となるような干渉防止層が設けられてなる請求項1記載のプラズマディスプレイパネル。
- 前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護膜の膜厚が1200nm以上であるプラズマディスプレイパネル。 - 前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護膜を、薄膜形成プロセスによって形成し、その薄膜形成プロセスの際、誘電体層との屈折率差が0.05以下となるように、保護膜を成膜するときの圧力を制御することからなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 前面側の基板と背面側の基板との間に放電空間を形成し、前面側の基板の内面に電極と、その電極を覆う誘電体層と、その誘電体層を覆う保護膜を有してなるAC型のプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護膜を、薄膜形成プロセスによって形成し、その薄膜形成プロセスの際、誘電体層との屈折率差が0.05以下となるように、保護膜を成膜するときの温度を制御することからなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004304499A JP2006120356A (ja) | 2004-10-19 | 2004-10-19 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
TW094132301A TW200618020A (en) | 2004-10-19 | 2005-09-19 | Plasma display panel, and manufacturing method thereof |
KR1020050090377A KR100789056B1 (ko) | 2004-10-19 | 2005-09-28 | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 |
US11/247,205 US20060082308A1 (en) | 2004-10-19 | 2005-10-12 | Plasma display panel and method of manufacturing the same |
EP05256413A EP1650782A3 (en) | 2004-10-19 | 2005-10-14 | Plasma display panel and method of manufacturing the same |
CNA2005101086852A CN1763892A (zh) | 2004-10-19 | 2005-10-18 | 等离子体显示面板及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004304499A JP2006120356A (ja) | 2004-10-19 | 2004-10-19 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006120356A true JP2006120356A (ja) | 2006-05-11 |
JP2006120356A5 JP2006120356A5 (ja) | 2007-09-06 |
Family
ID=35563235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004304499A Withdrawn JP2006120356A (ja) | 2004-10-19 | 2004-10-19 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060082308A1 (ja) |
EP (1) | EP1650782A3 (ja) |
JP (1) | JP2006120356A (ja) |
KR (1) | KR100789056B1 (ja) |
CN (1) | CN1763892A (ja) |
TW (1) | TW200618020A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009176738A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Samsung Sdi Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
KR100943945B1 (ko) | 2006-11-01 | 2010-02-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101635241A (zh) * | 2008-07-07 | 2010-01-27 | 三星Sdi株式会社 | 基底结构及其制造方法和等离子体显示面板 |
US8436537B2 (en) * | 2008-07-07 | 2013-05-07 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Substrate structure for plasma display panel, method of manufacturing the substrate structure, and plasma display panel including the substrate structure |
US8329066B2 (en) * | 2008-07-07 | 2012-12-11 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Paste containing aluminum for preparing PDP electrode, method of preparing the PDP electrode using the paste and PDP electrode prepared using the method |
KR20100092216A (ko) * | 2009-02-12 | 2010-08-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3919577A (en) * | 1973-09-21 | 1975-11-11 | Owens Illinois Inc | Multiple gaseous discharge display/memory panel having thin film dielectric charge storage member |
JPS53112056A (en) * | 1977-03-11 | 1978-09-30 | Fujitsu Ltd | Gas discharging panel of self shift type |
JP3149249B2 (ja) * | 1992-02-25 | 2001-03-26 | 富士通株式会社 | Ac型プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
JP3163563B2 (ja) * | 1995-08-25 | 2001-05-08 | 富士通株式会社 | 面放電型プラズマ・ディスプレイ・パネル及びその製造方法 |
JP3339554B2 (ja) * | 1995-12-15 | 2002-10-28 | 松下電器産業株式会社 | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
US6017579A (en) * | 1997-04-14 | 2000-01-25 | Symetrix Corporation | Method of forming magnesium oxide films on glass substrate for use in plasma display panels |
JPH1154045A (ja) * | 1997-07-31 | 1999-02-26 | Fujitsu Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JPH11260265A (ja) * | 1998-03-10 | 1999-09-24 | Hitachi Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JP2000044277A (ja) * | 1998-07-24 | 2000-02-15 | Central Glass Co Ltd | 表示装置の絶縁性被膜形成材および表示装置 |
US6193378B1 (en) * | 1999-06-25 | 2001-02-27 | Gentex Corporation | Electrochromic device having a self-cleaning hydrophilic coating |
JP2002008549A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-01-11 | Nec Corp | プラズマディスプレイパネル |
JP4984343B2 (ja) * | 2000-09-29 | 2012-07-25 | 株式会社日立製作所 | 有機電界発光素子及びそれを用いた光電子素子 |
KR100708640B1 (ko) * | 2001-02-07 | 2007-04-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막 |
JP4033286B2 (ja) * | 2001-03-19 | 2008-01-16 | 日本板硝子株式会社 | 高屈折率誘電体膜とその製造方法 |
JP2002296406A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | 反射干渉色の少ない反射防止基材 |
JP2003317631A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JP2003331743A (ja) * | 2002-05-09 | 2003-11-21 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | プラズマディスプレイパネル |
JP4097480B2 (ja) * | 2002-08-06 | 2008-06-11 | 株式会社日立製作所 | ガス放電パネル用基板構体、その製造方法及びac型ガス放電パネル |
JP4181862B2 (ja) * | 2002-11-28 | 2008-11-19 | 篠田プラズマ株式会社 | 発光管アレイ型表示装置 |
-
2004
- 2004-10-19 JP JP2004304499A patent/JP2006120356A/ja not_active Withdrawn
-
2005
- 2005-09-19 TW TW094132301A patent/TW200618020A/zh unknown
- 2005-09-28 KR KR1020050090377A patent/KR100789056B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-10-12 US US11/247,205 patent/US20060082308A1/en not_active Abandoned
- 2005-10-14 EP EP05256413A patent/EP1650782A3/en not_active Withdrawn
- 2005-10-18 CN CNA2005101086852A patent/CN1763892A/zh active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100943945B1 (ko) | 2006-11-01 | 2010-02-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
JP2009176738A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Samsung Sdi Co Ltd | プラズマディスプレイパネル |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200618020A (en) | 2006-06-01 |
KR20060051739A (ko) | 2006-05-19 |
CN1763892A (zh) | 2006-04-26 |
US20060082308A1 (en) | 2006-04-20 |
KR100789056B1 (ko) | 2007-12-26 |
EP1650782A3 (en) | 2008-09-10 |
EP1650782A2 (en) | 2006-04-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100789056B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조 방법 | |
KR20060106652A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
US7489079B2 (en) | Plasma display having a recessed part in a discharge cell | |
JPH08212918A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JP3067673B2 (ja) | カラープラズマディスプレイパネル | |
US20060154394A1 (en) | Plasma display panel and manufacturing method of the same | |
JPH10255666A (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
JP2008159528A (ja) | 隔壁形成方法 | |
KR100726643B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 및 그의 제조방법 | |
JP4179345B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JP4259190B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JP3090079B2 (ja) | カラープラズマディスプレイパネル | |
JP2008159360A (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JP2005116349A (ja) | プラズマディスプレイ装置 | |
KR100823514B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널 | |
JP4791439B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
JP2002313241A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 | |
WO2007086105A1 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
JPWO2008032355A1 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその蛍光体層形成方法 | |
US20090026950A1 (en) | Plasma display panel | |
JPH11149261A (ja) | カラープラズマ・ディスプレイパネル | |
JP2006120388A (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
JP2001297706A (ja) | プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法 | |
WO2009113171A1 (ja) | プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
JP2002163989A (ja) | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070720 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070720 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20090609 |