JPH0795424B2 - 金属膜転写シートと蛍光面の形成方法 - Google Patents
金属膜転写シートと蛍光面の形成方法Info
- Publication number
- JPH0795424B2 JPH0795424B2 JP1184071A JP18407189A JPH0795424B2 JP H0795424 B2 JPH0795424 B2 JP H0795424B2 JP 1184071 A JP1184071 A JP 1184071A JP 18407189 A JP18407189 A JP 18407189A JP H0795424 B2 JPH0795424 B2 JP H0795424B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal film
- layer
- transfer sheet
- phosphor
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、陰極線管のメタルバック層の効率的な形成方
法及び蛍光面の形成に好適な方法である。
法及び蛍光面の形成に好適な方法である。
従来の技術 従来のカラーテレビの陰極線管アノード工程は、蛍光面
を構成するガラス基板に適当な表面処理を施した後PVA
−重クロム酸アンモニュウム感光液で、パターン露光・
現像し、グラファイト等の黒色物質を流転し、リフトオ
フしてブラックマトリックス層を形成していた。蛍光体
パターンは、PVA−重クロム酸アンモニュウム感光液中
に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・露光・
現像・乾燥という工程を３回繰り返しRGBの各層を形成
するという複雑なプロセスを用いていた。蛍光体層を形
成した後、ニトロセルロース等を含有する有機高分子膜
を形成した後、真空蒸着法やスパッタリング法等により
メタルバック層を形成していた。その後内在する有機物
を焼成分解して蛍光面を形成していた。また特開昭62−
185833号公報に、剥離性を有するベースフイルム上にメ
タルバック層を有した転写材を用い、陰極線管のフェー
スプレート上に転写してメタルバック層を形成する方法
が提案されているが、この方法で転写して焼成すると転
写面全域に膨れが発生し、メタルバック層としての機能
を果たすことが出来なかった。
を構成するガラス基板に適当な表面処理を施した後PVA
−重クロム酸アンモニュウム感光液で、パターン露光・
現像し、グラファイト等の黒色物質を流転し、リフトオ
フしてブラックマトリックス層を形成していた。蛍光体
パターンは、PVA−重クロム酸アンモニュウム感光液中
に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・露光・
現像・乾燥という工程を３回繰り返しRGBの各層を形成
するという複雑なプロセスを用いていた。蛍光体層を形
成した後、ニトロセルロース等を含有する有機高分子膜
を形成した後、真空蒸着法やスパッタリング法等により
メタルバック層を形成していた。その後内在する有機物
を焼成分解して蛍光面を形成していた。また特開昭62−
185833号公報に、剥離性を有するベースフイルム上にメ
タルバック層を有した転写材を用い、陰極線管のフェー
スプレート上に転写してメタルバック層を形成する方法
が提案されているが、この方法で転写して焼成すると転
写面全域に膨れが発生し、メタルバック層としての機能
を果たすことが出来なかった。
発明が解決しようとする課題 上記したメタルバック層の形成プロセスは工程が非常に
長くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリ
ング装置が必要となりコストアップの原因となってい
た。また内在する有機物の焼成分解がうまくいかないと
メタルバック層の一部もしくは、全体的に膨れを生じ
る。これは、有機物の分解により発生するガスがメタル
バック層に妨げられて外部へスムースに抜けきらないた
めと考えられる。この様な原因で発生するメタルバック
層の膨れた部分は蛍光体の反射効率が低下し、カラー受
像管に於て局部的な欠陥となって現れ、歩留まり低下の
大きな原因があった。
長くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリ
ング装置が必要となりコストアップの原因となってい
た。また内在する有機物の焼成分解がうまくいかないと
メタルバック層の一部もしくは、全体的に膨れを生じ
る。これは、有機物の分解により発生するガスがメタル
バック層に妨げられて外部へスムースに抜けきらないた
めと考えられる。この様な原因で発生するメタルバック
層の膨れた部分は蛍光体の反射効率が低下し、カラー受
像管に於て局部的な欠陥となって現れ、歩留まり低下の
大きな原因があった。
課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明に於ては、離型性支持
体上に、微細孔を有する金属膜を形成した金属膜転写シ
ートを用いている。これをガラス基板上に形成した蛍光
体層上に転写した後、有機物を焼成すれば蛍光面が出来
る。また離型性支持体上に微細孔を有する金属膜を形成
した金属膜転写シート上に、蛍光体層・ブラックマトツ
リクス層を順次形成した後、ガラス基板上に金属膜以下
を一括転写した後有機物を焼成して蛍光面とするように
している。
体上に、微細孔を有する金属膜を形成した金属膜転写シ
ートを用いている。これをガラス基板上に形成した蛍光
体層上に転写した後、有機物を焼成すれば蛍光面が出来
る。また離型性支持体上に微細孔を有する金属膜を形成
した金属膜転写シート上に、蛍光体層・ブラックマトツ
リクス層を順次形成した後、ガラス基板上に金属膜以下
を一括転写した後有機物を焼成して蛍光面とするように
している。
作用 そのために、従来のように大型設備を用い、しかも長時
間かかって陰極線管のメタルバック層を形成していたの
が短時間で形成でき、かつアルミ面に微細孔を形成して
いる為に、熱分解ガスの排出がスムースに行なわれ、焼
成時の膨れ等の不良の発生の無いメタルバック層が得ら
れる。また金属膜転写シート上にパターンを形成した蛍
光面形成シートを一括転写して蛍光面を形成することに
より大幅な工程の短縮が図れる。
間かかって陰極線管のメタルバック層を形成していたの
が短時間で形成でき、かつアルミ面に微細孔を形成して
いる為に、熱分解ガスの排出がスムースに行なわれ、焼
成時の膨れ等の不良の発生の無いメタルバック層が得ら
れる。また金属膜転写シート上にパターンを形成した蛍
光面形成シートを一括転写して蛍光面を形成することに
より大幅な工程の短縮が図れる。
実施例 以下、本発明の金属膜転写シートとその製造法及び金属
膜形成方法並びに蛍光面形成シートと蛍光面形成方法に
関して、図面を参照にしながら説明する。
膜形成方法並びに蛍光面形成シートと蛍光面形成方法に
関して、図面を参照にしながら説明する。
第１図は、本発明の金属膜転写シートの断面図である。
第１図に於て101は、機械的強度・耐溶剤性の優れた支
持体でありポリエチレンテレフタレート・ポリイミド・
ポリアミド等の各種樹脂フィルムが用いられ、該フィル
ムの厚さ３〜100μｍ好ましくは５〜50μｍの範囲が好
適である。102は、離型層でありシリコーン・フッ素・
アクリル・ワックス等離型性が優れた材料を薄層にして
用いられる。103は、金属膜であり真空蒸着、スパッタ
リング等の方法で形成される。104は、金属膜を処理し
て作られた微細孔であり、転写の際に用いる接着剤や蛍
光体層などの有機物の焼成の際に発生する多量の熱分解
ガスをスムースに排出される目的で形成されている。こ
の微細孔は、蛍光体層を印刷により形成する方法に特に
有効である。すなわち印刷法でパターンを形成する場合
印刷性を付与するために用いる多量の有機バインダーを
より効率的に排出させ焼成後金属膜（メタルバッグ層）
の膨れを防ぐ必要がある。
第１図に於て101は、機械的強度・耐溶剤性の優れた支
持体でありポリエチレンテレフタレート・ポリイミド・
ポリアミド等の各種樹脂フィルムが用いられ、該フィル
ムの厚さ３〜100μｍ好ましくは５〜50μｍの範囲が好
適である。102は、離型層でありシリコーン・フッ素・
アクリル・ワックス等離型性が優れた材料を薄層にして
用いられる。103は、金属膜であり真空蒸着、スパッタ
リング等の方法で形成される。104は、金属膜を処理し
て作られた微細孔であり、転写の際に用いる接着剤や蛍
光体層などの有機物の焼成の際に発生する多量の熱分解
ガスをスムースに排出される目的で形成されている。こ
の微細孔は、蛍光体層を印刷により形成する方法に特に
有効である。すなわち印刷法でパターンを形成する場合
印刷性を付与するために用いる多量の有機バインダーを
より効率的に排出させ焼成後金属膜（メタルバッグ層）
の膨れを防ぐ必要がある。
第２図は、金属膜転写シートを蛍光体上に転写してメタ
ルバック層を形成する方法を示している。支持体208に
設けられた離型層207上に微細孔206を有した金属膜205
を形成した金属膜転写シート209とガラス基板201上にブ
ラックマトリックス層202・蛍光体層203を順次設けた蛍
光面210を、蛍光体層203上もしくは、金属膜転写シート
209に設けられた接着層204により接着固定され蛍光体層
203上にメタルバック層が形成される。この接着層204
は、熱分解性の優れたアクリル樹脂・ワックス等が用い
られる。本発明の転写によるメタルバック層形成方法
は、従来の蛍光面を形成した後、蛍光体層の表面平滑化
してアルミ蒸着を行っていたものと比較すると、大幅な
工数の短縮及びコストの低減となる。またさらに、第３
図の様に支持体304上に離型層305を設け、微細孔307を
有した金属膜306を形成した金属膜転写シート301上に蛍
光体層302・ブラックスマトリックス層303・接着層308
を形成した蛍光面形成シートを作成し、第４図のごとく
接着層402によりガラス基板401に前記パターンを形成し
た蛍光面形成シート403を圧着固定し、離型性支持体を
剥離転写すると良好なブラックマトリックス層405・蛍
光体層406・微細孔を有するメタルバック層407が得られ
た。その後、450℃で焼成して、有機物を分解すると第
５図のごとくカラー陰極線管のアノードを作成すること
が出来る。第５図は、カラー陰極線管アノードの断面図
を示したものでありガラス製の基板501の内面に黒色物
質からなるブラックマトリックス層502および蛍光体層5
03があり、アルミの真空蒸着膜であるメタルバック層50
4を設けた構成となっている。メタルバック層は、蛍光
面で発した光を金属膜の鏡面作用により反射させ輝度の
向上を図っている。
ルバック層を形成する方法を示している。支持体208に
設けられた離型層207上に微細孔206を有した金属膜205
を形成した金属膜転写シート209とガラス基板201上にブ
ラックマトリックス層202・蛍光体層203を順次設けた蛍
光面210を、蛍光体層203上もしくは、金属膜転写シート
209に設けられた接着層204により接着固定され蛍光体層
203上にメタルバック層が形成される。この接着層204
は、熱分解性の優れたアクリル樹脂・ワックス等が用い
られる。本発明の転写によるメタルバック層形成方法
は、従来の蛍光面を形成した後、蛍光体層の表面平滑化
してアルミ蒸着を行っていたものと比較すると、大幅な
工数の短縮及びコストの低減となる。またさらに、第３
図の様に支持体304上に離型層305を設け、微細孔307を
有した金属膜306を形成した金属膜転写シート301上に蛍
光体層302・ブラックスマトリックス層303・接着層308
を形成した蛍光面形成シートを作成し、第４図のごとく
接着層402によりガラス基板401に前記パターンを形成し
た蛍光面形成シート403を圧着固定し、離型性支持体を
剥離転写すると良好なブラックマトリックス層405・蛍
光体層406・微細孔を有するメタルバック層407が得られ
た。その後、450℃で焼成して、有機物を分解すると第
５図のごとくカラー陰極線管のアノードを作成すること
が出来る。第５図は、カラー陰極線管アノードの断面図
を示したものでありガラス製の基板501の内面に黒色物
質からなるブラックマトリックス層502および蛍光体層5
03があり、アルミの真空蒸着膜であるメタルバック層50
4を設けた構成となっている。メタルバック層は、蛍光
面で発した光を金属膜の鏡面作用により反射させ輝度の
向上を図っている。
以下本発明を具体的な実施例によって説明する。
実施例１ 25ミクロンのPETフィルムの一面にアクリル樹脂を２ミ
クロンの厚さに設け離型層とし、前記離型層上に真空蒸
着により1000Åのアルミ膜を形成しアルミ転写シートを
得た。第６図のごとくアルミ転写シート601に、微細突
起を設けた円筒状電極604を圧接し、10〜30Vの電圧で放
電を行いアルミ面に微細孔を形成した。円筒状電極を回
転させ、放電回数を１回から５回と変えて転写シートに
形成される微細孔の数を変化させた微細孔を有する金属
膜転写シートを作成した。形成された微細孔の状態を定
量的に把握するため画像解析装置（ニレコ（株））を用
いて微細孔の開口率及び大きさを測定した。その転写シ
ートを従来の湿式方式でガラス基板に作成された蛍光体
層上にアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレート）
を介して圧接し支持体を剥離した後、450℃で焼成して
有機物を分解焼成させカラー陰極線管の蛍光面を形成し
た。しかし、アルミ蒸着膜の微細孔の形成状態により第
１表の様に焼成後の光反射層の表面状態に大きな差異が
発生した。
クロンの厚さに設け離型層とし、前記離型層上に真空蒸
着により1000Åのアルミ膜を形成しアルミ転写シートを
得た。第６図のごとくアルミ転写シート601に、微細突
起を設けた円筒状電極604を圧接し、10〜30Vの電圧で放
電を行いアルミ面に微細孔を形成した。円筒状電極を回
転させ、放電回数を１回から５回と変えて転写シートに
形成される微細孔の数を変化させた微細孔を有する金属
膜転写シートを作成した。形成された微細孔の状態を定
量的に把握するため画像解析装置（ニレコ（株））を用
いて微細孔の開口率及び大きさを測定した。その転写シ
ートを従来の湿式方式でガラス基板に作成された蛍光体
層上にアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレート）
を介して圧接し支持体を剥離した後、450℃で焼成して
有機物を分解焼成させカラー陰極線管の蛍光面を形成し
た。しかし、アルミ蒸着膜の微細孔の形成状態により第
１表の様に焼成後の光反射層の表面状態に大きな差異が
発生した。
第１表の焼成後の結果からも明かな様に、アルミ蒸着膜
に全く微細孔を開けない場合は、アルミ蒸着面の全域に
膨れが発生した。放電により微細孔を設けたアルミ蒸着
膜の場合は、放電回数１回では若干の膨れが発生したが
放電回数２回以上では、良好なメタルバック層が形成さ
れた。特に３回以上になればより安定したメタルバック
層が得られた。微細孔の大きさは15μｍ程度が平均値で
あり、それが50μｍ以上の孔になると輝度の低下につな
がる。焼成条件は、昇温速度10℃／分で、450℃１時間
保持である。この結果より微細孔の開口率は、５％以上
あれば焼成した後良好なアルミ蒸着面が維持される。
に全く微細孔を開けない場合は、アルミ蒸着面の全域に
膨れが発生した。放電により微細孔を設けたアルミ蒸着
膜の場合は、放電回数１回では若干の膨れが発生したが
放電回数２回以上では、良好なメタルバック層が形成さ
れた。特に３回以上になればより安定したメタルバック
層が得られた。微細孔の大きさは15μｍ程度が平均値で
あり、それが50μｍ以上の孔になると輝度の低下につな
がる。焼成条件は、昇温速度10℃／分で、450℃１時間
保持である。この結果より微細孔の開口率は、５％以上
あれば焼成した後良好なアルミ蒸着面が維持される。
実施例２ 12ミクロンのPETフィルムの一面にシリコーン樹脂を２
ミクロンの厚さに設け離型層とし、前記離型層上に真空
蒸着法により800Åのアルミ膜を形成しアルミ転写シー
トを得た。２枚のサンドペーパー（＃1000）で前記アル
ミ転写シートを挟み圧着ローラーを線圧4kg/cm2で５回
通過させて開口率10％、平均孔径10〜20μｍの微細孔を
有するアルミ転写シートを得た。
ミクロンの厚さに設け離型層とし、前記離型層上に真空
蒸着法により800Åのアルミ膜を形成しアルミ転写シー
トを得た。２枚のサンドペーパー（＃1000）で前記アル
ミ転写シートを挟み圧着ローラーを線圧4kg/cm2で５回
通過させて開口率10％、平均孔径10〜20μｍの微細孔を
有するアルミ転写シートを得た。
実施例１と同様に蛍光体層面に圧着転写し、450℃１時
間焼成したところ強固に接着した鏡面のメタルバック層
を得た。
間焼成したところ強固に接着した鏡面のメタルバック層
を得た。
実施例３ ガラス基板にアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレ
ート）を３μｍの厚さに塗布し、実施例２の金属膜転写
シートを圧着転写し、450℃１時間焼成したところ鏡面
の金属膜が得られた。
ート）を３μｍの厚さに塗布し、実施例２の金属膜転写
シートを圧着転写し、450℃１時間焼成したところ鏡面
の金属膜が得られた。
実施例４ 金属膜をニッケルとして実施例３と同様の実験を行った
ところ鏡面の金属膜を得た。
ところ鏡面の金属膜を得た。
実施例５ 12ミクロンのPETフィルムの一面にシリコーン樹脂を２
ミクロンの厚さに設け離型層とし、前記離型層上に真空
蒸着法により1000Åのアルミ膜を形成しアルミ転写シー
トを得た。このアルミ転写シートをサンドブラスト法
（COMCO社製）の装置を用い＃1500パスのカーボランダ
ム（平均粒径１μｍ）を中速で吹き付け、開口率８％平
均孔径５〜８μｍの微細孔を形成した。
ミクロンの厚さに設け離型層とし、前記離型層上に真空
蒸着法により1000Åのアルミ膜を形成しアルミ転写シー
トを得た。このアルミ転写シートをサンドブラスト法
（COMCO社製）の装置を用い＃1500パスのカーボランダ
ム（平均粒径１μｍ）を中速で吹き付け、開口率８％平
均孔径５〜８μｍの微細孔を形成した。
実施例１と同様に蛍光体層面に圧着転写し、450℃１時
間焼成したところ強固に接着した鏡面のメタルバック層
を得た。
間焼成したところ強固に接着した鏡面のメタルバック層
を得た。
実施例６ 離型性転写シートにアルミ蒸着を1000Åの厚さに施し、
放電加工により開口率10％のアルミ転写シートを得た。
さらに、下記組成物をセラミック３本ロールにて、３回
通して練肉し蛍光体インクを作成した。
放電加工により開口率10％のアルミ転写シートを得た。
さらに、下記組成物をセラミック３本ロールにて、３回
通して練肉し蛍光体インクを作成した。
同様にして、赤色蛍光体インク・青色蛍光体インクを作
成した。
成した。
ガラス板上に前記微細孔を形成したアルミ転写シートを
固定し、印刷性を向上させるためにアクリル粘着剤（メ
タアクリル酸イソブチルと２−エチルヘキシルアクリレ
ートの共重合：ガラス転移転−28℃）を２μｍの厚さに
塗布し、乾燥させた。そしてグラビアオフセット方式に
より、粘着層が形成されているアルミ転写シート上に緑
色蛍光体パターンを印刷した。順次赤色蛍光体、青色蛍
光体を所定の位置に印刷し、RGB3色の蛍光体パターンを
得た。印刷されたパターンは、ストライプの均一性，精
度，光学特性共に満足するものであった。
固定し、印刷性を向上させるためにアクリル粘着剤（メ
タアクリル酸イソブチルと２−エチルヘキシルアクリレ
ートの共重合：ガラス転移転−28℃）を２μｍの厚さに
塗布し、乾燥させた。そしてグラビアオフセット方式に
より、粘着層が形成されているアルミ転写シート上に緑
色蛍光体パターンを印刷した。順次赤色蛍光体、青色蛍
光体を所定の位置に印刷し、RGB3色の蛍光体パターンを
得た。印刷されたパターンは、ストライプの均一性，精
度，光学特性共に満足するものであった。
さらにブラックマトリックス層を下記の組成で作成し、
蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方式により
アルミ転写シート上に連続して印刷した。
蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方式により
アルミ転写シート上に連続して印刷した。
アルミ転写シート上に蛍光体層及び光吸収層を印刷した
後、ガラス基板上にアクリル粘着剤（イソデシルメタア
クリレート）を３ミクロンの厚さで一様に塗布した面に
圧着し、さらに転写シートの支持体を剥離してガラス基
板上にブラックマトリックス層及び蛍光体層を形成し
た。そして、昇温条件10℃／分・450℃１時間保持の条
件で焼成したところ良好な蛍光面が形成された。この蛍
光面は、カラー陰極線管アノードとして充分な特性のも
のが得られた。
後、ガラス基板上にアクリル粘着剤（イソデシルメタア
クリレート）を３ミクロンの厚さで一様に塗布した面に
圧着し、さらに転写シートの支持体を剥離してガラス基
板上にブラックマトリックス層及び蛍光体層を形成し
た。そして、昇温条件10℃／分・450℃１時間保持の条
件で焼成したところ良好な蛍光面が形成された。この蛍
光面は、カラー陰極線管アノードとして充分な特性のも
のが得られた。
発明の効果 以上の発明から明らかなように本発明は、離型性支持体
上に微細孔を有する金属膜転写シートを陰極線管フェー
スプレート上の蛍光体層に転写して支持体を剥離後焼成
して蛍光面を形成することを特徴としており、それによ
り大型の設備が不要となりまた大幅な工数の短縮も可能
となる。さらに、離型性支持体上に微細孔を有する金属
膜転写シート上に蛍光体層・ブラックマトリックス層を
形成し陰極線管フェースプレート上に一括転写し、支持
体を剥離後焼成することにより更に簡単にカラー陰極線
管のアノード面が形成される。陰極線管やプラズマディ
スプレイ等の蛍光体製品に応用すると、大きな製造設備
を必要とする事なく高品質で安価な製品が得られる。
上に微細孔を有する金属膜転写シートを陰極線管フェー
スプレート上の蛍光体層に転写して支持体を剥離後焼成
して蛍光面を形成することを特徴としており、それによ
り大型の設備が不要となりまた大幅な工数の短縮も可能
となる。さらに、離型性支持体上に微細孔を有する金属
膜転写シート上に蛍光体層・ブラックマトリックス層を
形成し陰極線管フェースプレート上に一括転写し、支持
体を剥離後焼成することにより更に簡単にカラー陰極線
管のアノード面が形成される。陰極線管やプラズマディ
スプレイ等の蛍光体製品に応用すると、大きな製造設備
を必要とする事なく高品質で安価な製品が得られる。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の金属膜転写シートの断面図、第２図は
本発明の金属膜転写シートを用いた転写工程の説明図、
第３図は本発明の他の実施例の蛍光面形成シートの断面
図、第４図は本発明の他の実施例の蛍光面形成シートを
用いた転写工程の説明図、第５図はカラー陰極線管のア
ノードの断面図、第６図は本発明の他の実施例の放電に
よる孔開け法の説明図である。 101……支持体、102……離型層、103……光反射層、104
……微細孔、201……ガラス基板、202……ブラックマト
リックス層、203……蛍光体層、204……接着層、205…
…金属膜、206……微細孔、207……離型層、208……支
持体、209……金属膜転写シート、210……蛍光面、301
……微細孔を有する金属膜転写シート、302……蛍光体
層、303……ブラックマトリックス層、304……支持体、
305……離型層、306……金属膜、307……微細孔、308…
…接着層、401……ガラス基板、402……接着層、403…
…蛍光面形成シート、404……離型性支持体、405……ブ
ラックマトリックス層、406……蛍光体層、407……メタ
ルバック層、501……ガラス基板（フェースプレー
ト）、502……ブラックマトリックス層、503……蛍光体
層、504……メタルバック層、601……金属膜転写シー
ト、602……アース、603……電源、604……円筒状電
極。
本発明の金属膜転写シートを用いた転写工程の説明図、
第３図は本発明の他の実施例の蛍光面形成シートの断面
図、第４図は本発明の他の実施例の蛍光面形成シートを
用いた転写工程の説明図、第５図はカラー陰極線管のア
ノードの断面図、第６図は本発明の他の実施例の放電に
よる孔開け法の説明図である。 101……支持体、102……離型層、103……光反射層、104
……微細孔、201……ガラス基板、202……ブラックマト
リックス層、203……蛍光体層、204……接着層、205…
…金属膜、206……微細孔、207……離型層、208……支
持体、209……金属膜転写シート、210……蛍光面、301
……微細孔を有する金属膜転写シート、302……蛍光体
層、303……ブラックマトリックス層、304……支持体、
305……離型層、306……金属膜、307……微細孔、308…
…接着層、401……ガラス基板、402……接着層、403…
…蛍光面形成シート、404……離型性支持体、405……ブ
ラックマトリックス層、406……蛍光体層、407……メタ
ルバック層、501……ガラス基板（フェースプレー
ト）、502……ブラックマトリックス層、503……蛍光体
層、504……メタルバック層、601……金属膜転写シー
ト、602……アース、603……電源、604……円筒状電
極。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松尾 孝二 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 相川 昇 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−102139（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−42070（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】離型性支持体上に、金属膜を形成し、前記
金属膜に開口率５％以上であり、かつ孔径が50μｍ以下
の微細孔を形成したことを特徴とする金属膜転写シー
ト。 - 【請求項２】離型性支持体上に金属膜を形成し、前記金
属膜に開口率５％以上であり、かつ孔径が50μｍ以下の
微細孔を形成した金属膜転写シートをガラス基板上の蛍
光体層に転写し、前記支持体を剥離してメタルバック層
を形成した後に焼成することを特徴とする蛍光面の形成
方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1184071A JPH0795424B2 (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 | 金属膜転写シートと蛍光面の形成方法 |
| EP19900301391 EP0382554A3 (en) | 1989-02-10 | 1990-02-09 | Method of forming a metal-backed layer and a method of forming an anode |
| KR1019900001626A KR930000390B1 (ko) | 1987-07-17 | 1990-02-10 | 금속막전사시트 및 애노드형성시트, 이를 이용한 메탈백층 및 애노드의 형성방법 |
| US07/478,499 US5141461A (en) | 1989-02-10 | 1990-02-12 | Method of forming a metal-backed layer and a method of forming an anode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1184071A JPH0795424B2 (ja) | 1989-07-17 | 1989-07-17 | 金属膜転写シートと蛍光面の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0349131A JPH0349131A (ja) | 1991-03-01 |
| JPH0795424B2 true JPH0795424B2 (ja) | 1995-10-11 |
Family
ID=16146873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1184071A Expired - Fee Related JPH0795424B2 (ja) | 1987-07-17 | 1989-07-17 | 金属膜転写シートと蛍光面の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0795424B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1255275A1 (en) | 2000-02-03 | 2002-11-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Transfer film, method for forming metal back layer, and image display |
| JP2003031150A (ja) | 2001-07-13 | 2003-01-31 | Toshiba Corp | メタルバック付き蛍光面、メタルバック形成用転写フィルムおよび画像表示装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5242070A (en) * | 1975-09-29 | 1977-04-01 | Hitachi Ltd | Manufacturing method for cathode ray tube |
| JPS63102139A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-07 | Toshiba Corp | 陰極線管の蛍光面製造方法 |
-
1989
- 1989-07-17 JP JP1184071A patent/JPH0795424B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0349131A (ja) | 1991-03-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5998085A (en) | Process for preparing high resolution emissive arrays and corresponding articles | |
| KR930000390B1 (ko) | 금속막전사시트 및 애노드형성시트, 이를 이용한 메탈백층 및 애노드의 형성방법 | |
| EP0887833B1 (en) | Process for preparing phosphor pattern for field emission panel and photosensitive element | |
| KR930002651B1 (ko) | 패턴형성방법과 패턴제품 | |
| TW565872B (en) | Method of forming phosphor screen | |
| JPH0795424B2 (ja) | 金属膜転写シートと蛍光面の形成方法 | |
| US2796374A (en) | Methods and means for transferring printed indicia | |
| JPH0821320B2 (ja) | 金属膜転写シート及びその製造方法、並びにアノード形成シート、並びにアノード製造方法 | |
| JPH05190084A (ja) | 金属膜転写シートとアノードの形成方法 | |
| JP2548451B2 (ja) | 黒色樹脂層転写シートとアノード形成方法 | |
| JPH03222236A (ja) | 金属膜転写シート、アノード、およびアノード製造方法 | |
| KR20000038860A (ko) | 칼라 음극선관의 형광면 형성방법 | |
| JPH0240833A (ja) | 陰極線管の蛍光膜形成方法 | |
| JPH02209487A (ja) | 成膜方法並びに蛍光体形成方法と蛍光体製品 | |
| JPH0532856B2 (ja) | ||
| JPH01109638A (ja) | 陰極線管蛍光面の形成方法 | |
| JPH03254040A (ja) | Ｃｒｔ画面の電極用材料 | |
| KR20030055942A (ko) | 전사필름 및 그를 이용한 칼라음극선관의 제조방법 | |
| JPH06131974A (ja) | 金属膜転写シート、アノード形成シート、およびアノード形成方法 | |
| JP2003317614A (ja) | 蛍光面基板の製造方法および蛍光面基板 | |
| JPH1140052A (ja) | 電界放出型ディスプレイ用蛍光体パターンの製造法、電界放出型ディスプレイ用感光性エレメント、電界放出型ディスプレイ用蛍光体パターン及び電界放出型ディスプレイ | |
| JPH0550089B2 (ja) | ||
| JPS624810B2 (ja) | ||
| JPH08273536A (ja) | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法及びそれに使用する転写シート | |
| JPH05325786A (ja) | 蛍光膜基板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |