JPH0349131A

JPH0349131A - 金属膜転写シートと蛍光面の形成方法

Info

Publication number: JPH0349131A
Application number: JP1184071A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Nishimura; 豊西村; Katsuhide Tsukamoto; 勝秀塚本; Hirotoshi Watanabe; 寛敏渡辺; Koji Matsuo; 孝二松尾; Noboru Aikawa; 相川　昇
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1989-07-17
Filing date: 1989-07-17
Publication date: 1991-03-01
Anticipated expiration: 2010-10-11
Also published as: JPH0795424B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、陰極線管のメタルバンク層の効率的な形成方
法及び蛍光面の形成に好適な方法である。

従来の技術従来のカラーテレビの陰極線管アノード工程は、蛍光面
を構成するガラス基板に適当な表面処理を施した後ＰＶ
Ａ−重クロムりアンモニュウム感光液で、パターン露光
・現像し、グラファイト等の黒色物質を流転し、リフト
オフしてブラックマトリンクス層を形成していた。蛍光
体パターンは、ＰＶＡ−一重りロム酸アンモニュウム感
光液中に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗布・乾燥・
露光・現像・乾燥という工程を３回繰り返しＲＧＢの各
層を形成するという複雑なプロセスを用いていた。蛍光
体層を形成した後、ニトロセルロース等を含有する有機
高分子膜を形成した後、真空蒸着法やスパッタリング法
等によりメタルバック層をセ成：５ていた。その後内在
する有機物を焼成分解！、て蛍光面を形成していた。ま
た特開昭６２−１８５８３３号公報に、剥離性を有する
ベースフィルム上にメタルバンク層を有した転写材を用
い、陰極線管のフェースプレート上に転写してメタルバ
ック層を形成する方法が提案されているが、この方法で
転写して焼成すると転写面全域に膨れが発生し、メタル
バック層としての機能を果たすことが出来なかった。

発明が解決しようとする課題上記したメタルバック層の形成プロセスは工程が非常に
長くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリ
ング装置が必要となりコストアップの原因となっていた
。また内在する有機物の焼成分解がうまくいかないとメ
タルバック層の一部もしくは、全体的に膨れを生じる。

これは、有機物の分解により発生するガスがメタルバッ
ク層に妨げられて外部へスムースに抜けきらないためと
考えられる。この様な原因で発生するメタルバンク層の
膨れた部分は蛍光体の反射効率が低下し、カラー受像管
に於て局部的な欠陥となって現れ、歩留まり低下の大き
な原因があった。

課題を解決するための手段上記課題を解決するために本発明に於ては、離型性支持
体上に、微細孔を有する金属膜を形成した金属膜転写シ
ートを用いている。これをガラス基板上に形成した蛍光
体層上に転写した後、有機物を焼成すれば蛍光面が出来
る。また離型性支持体上に微細孔を有する金属膜を形成
した金属膜転写ソー　層上に、蛍光体層・メタルバック
層を順次形成した後、ガラス基板上に金属膜以下を一括
転写した後有機物を焼成して蛍光面とするようにしてい
る。

作用そのために、従来のように大型設備を用い、しかも長時
間かかって陰極線管のメタルバック層を形成していたの
が短時間にしかも焼成時の膨れ等の不良の発生の無いメ
タルバック層が得られる。

また金属膜転写シート上にパターンを形成した蛍光面形
成シートを一括転写して蛍光面を形成することにより大
幅な工程の短縮が図れる。

実施例以下、本発明の金属膜転写シートとその製造法及び金属
膜形成方法並びに蛍光面形成シートと蛍光面形成方法に
関して、図面を参照にしながら説明する。

第１図は、本発明の金属膜転写シートの断面図である。

第１図に於て１０１は、機械的強度・耐溶剤性の優れた
支持体でありポリエチレンテレフタレート・ポリイミド
・ポリアミド等の各種樹脂フィルムが用いられ、該フィ
ルムの厚さ３〜１００μｍ好ましくは５〜５０μｍの範
囲が好適である。１０２は１．離型層でありシリコーン
・フッ素・アクリル・ワックス等離型性が優れた材料を
１層にして用いられる。１０３は、金属膜であり真空蒸
着・スパッタリング等の方法で形成される。１０４は、
金属膜を処理して作られた微細孔であり、転写の際に用
いる接着剤や蛍光体層などの有機物の焼成の際の熱分解
により発生する多量のガスをスムースに排出される目的
で形成されている。この微細孔は、蛍光体層を印刷によ
り形成する方法に特に有効である。すなわち印刷法でパ
ターンを形成する場合印刷性を付与するために用いる多
量の有機バインダーをより効率的に排出させ焼成後金属
膜（メタルバッグ層）の膨れを防ぐ必要がある。

第２図は、金属膜転写シートを蛍光体上に転写してメタ
ルバック層を形成する方法を示している。

支持体２０８に設けられた離型性２０７上に微細孔２０
６を有した金属膜２０５を形成した金属膜転写シート２
０９とガラス基板２０１上にブラックマトリックス層２
０２・蛍光体層２０３を順次設けた蛍光面２１０を、蛍
光体層２０３上もしくは、金属膜転写シート２０９に設
けられた接着層２０４により接着固定され蛍光体層２０
３上にメタルバック層が形成される。この接着層２０４
は、熱分解性の優れたアクリル樹脂・ワックス等が用い
られる。本発明の転写によるメタルバック層形成方法は
、従来の蛍光面を形成した後、蛍光体層の表面平滑化し
てアルミ蒸着を行っていたものと比較すると、大幅な工
数の短縮及びコストの低減となる。またさらに、第３図
の様に支持体３０４上に離型層３０５を設け、微細孔３
０７を有した金属膜３０６を形成した金属膜転写シート
３０１上に蛍光体層３０２・ブラックマトリックス層３
０３・接着層３０８を形成した蛍光面形成シートを作成
し、第４図のごとく接着層４０２によりガラス基板４０
１に前記パターンを形成した蛍光面形成シート４０３を
圧着固定し、離型性支持体を剥離転写すると良好なブラ
ックマトリックス層４０５・蛍光体層４０６・微細孔を
有するメタルバック層４０７が得られた。その後、４５
０°Ｃで焼成して、有機物を分解すると第５図のごとく
カラー陰極線管のアノードを作成することが出来る。第
５図は、カラー陰極線管アノードの断面図を示したもの
でありガラス製の基板５０１の内面に黒色物質からなる
ブラックマトリックス層５０２および蛍光体層５０３が
あり、アルミの真空蒸着膜であるメタルバック層５０４
を設けた構成となっている。メタルバック層は、蛍光面
で発した光を金属膜の鏡面作用により反射させ輝度の向
上を図っている。

以下本発明を具体的な実施例によって説明する。

実施例１２５ミクロンのＰＥＴフィルムの一面にアクリル樹脂を
２ミクロンの厚さに設は離型層とし、前記離型層上に真
空蒸着より１０００人のアルミ膜を形成しアルミ転写シ
ートを得た。第６図のごとくアルミ転写シート６０１に
、微細突起を設けた円筒状電極６０４を圧接し、１０〜
３０Ｖの電圧で放電を行いアルミ面に微細孔を形成した
。円筒状電極を回転させ、放電回数を１回から５回と変
えて転写シートに形成される微細孔の数を変化させた微
細孔を有する金属膜転写シートを作成した。形成された
微細孔の状態を定量的に把握するため画像解析装置にレ
コｌ！１）を用いて微細孔の開口率及び大きさを測定し
た。その転写シートを従来の湿式方式でガラス基板に作
成された蛍光体層上にアクリル粘着剤（イソデシルメタ
アクリレート）を介して圧接し支持体を剥離した後、４
５０’Ｃで焼成して有機物を分解焼成させカラー陰極線
管の蛍光面を形成した。しかし、アルミ蒸着膜の微細孔
の形成状態により第１表の様に焼成後の光反射層の表面
状態に大きな差異が発生した。

以下余白第１表第１表の焼成後の結果からも明がな様に、アルミ蒸着膜
に全く微細孔を開けない場合は、アルミ蒸着面の全域に
膨れが発生した。放電により微細孔を設けたアルミ蒸着
膜の場合は、放電回数１回では若干の膨れが発生したが
放電回数２回以上では、良好なメタルバック層が形成さ
れた。特に３回以上になればより安定したメタルバック
層が得られた。微細孔の大きさは１５φμｍ程度が平均
値であり、それが５０φμｍ以上の孔になると輝度の低
下につながる。焼成条件は、昇温速度１０”Ｃ／分で、
４５０°Ｃ１時間保持である。この結果より微細孔の開
口率は、５％以上あれば焼成した後良好なアルミ蒸着面
が維持される。

実施例２１２ミクロンのＰＥＴフィルムの一面にシリコーン樹脂
を２ミクロンの厚さに設は離型層とし、前記離型層上に
真空蒸着法により８００人のアルミ膜を形成しアルミ転
写シートを得た。２枚のサンドペーパー（＃ｌ０００）
で前記アルミ転写シートを挟み圧着ローラーを線圧４　
ｋｇ　／　ｅ＋ｊで５回通過させて開口率１０％、平均
孔径１０〜２０ｔμｍの微細孔を有するアルミ転写シー
トを得た。

実施例１と同様に蛍光体層面に圧着転写し、４５０’Ｃ
１時間焼成したところ強固に接着した鏡面のメタルバッ
ク層を得た。

実施例３ガラス基板にアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレ
ート）を３μｍの厚さに塗布し、実施例２の金属膜転写
シートを圧着転写し、４５０’ＣＩ時間焼成したところ
鏡面の金属膜が得られた。

実施例４金属膜をニッケルとして実施例３と同様の実験を行った
ところ鏡面の金属膜を得た。

実施例５１２ミクロンのＰＥＴフィルムの一面にシリコーン樹脂
を２ミクロンの厚さに設は離型層とし、前記離型層上に
真空蒸着法により１０００人のアルミ膜を形成しアルミ
転写シートを得た。このアルミ転写シートをサンドブラ
スト法（ＣＯＭＣＯ社製）の装置を用い＃　１５００バ
スのカーボランダム（平均粒径１μｍ）を中速で吹き付
け、開口率８％平均孔径５〜８μｍの微細孔を形成した
。

実施例６離型性転写シートにアルミ蒸着を１０００人の厚さに施
し、放電加工により開口率ＩＯ％のアルミ転写シートを
得た。さらに、下記組成物をセラミック３本ロールにて
、３回通して練肉し蛍光体インクを作成した。

作成し、蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方
式によりアルミ転写シート上に連続して印刷した。

同様にして、赤色蛍光体インク・青色蛍光体インクを作
成した。

ガラス板上に前記微細孔を形成したアルミ転写シートを
固定し、印刷性を向上させるためにアクリル粘着剤（メ
タアクリル酸イソブチルと２−エチルへキシルアクリレ
ートの共重合ニガラス転移点−２８°Ｃ）を２μｍの厚
さに塗布し、乾燥させた。

そしてグラビアオフセット方式により、粘着層が形成さ
れているアルミ転写シート上に緑色蛍光体パターンを印
刷した。順次赤色蛍光体、青色蛍光体を所定の位置に印
刷し、ＲＧＢａ色の蛍光体パターンを得た。印刷された
パターンは、ストライブの均一性、精度、光学特性共に
満足するものであった。

さらにブラックマトリックス層を下記の組成でアルミ転
写シート上に蛍光体層及び光吸収層を印刷した後、ガラ
ス基板上にアクリル粘着剤（イソデシルメタアクリレー
ト）を３ミクロンの厚さで一様に塗布した面に圧着し、
さらに転写シートの支持体を剥離してガラス基板上にブ
ラックマトリックス層及び蛍光体層を形成した。そして
、昇温条件１０°Ｃ／分・　４５０°Ｃ１時間保持の条
件で焼成したところ良好な蛍光面が形成された。この蛍
光面は、カラー陰極線管アノードとして充分な特性のも
のが得られた。

発明の効果以上の発明から明らかなように本発明は、離型性支持体
上に微細孔を有する金属膜転写シートを陰極線管フェー
スプレート上の蛍光体層に転写して支持体を剥離後焼成
して蛍光面を形成することを特徴としており、それによ
り大型の設備が不要となりまた大幅な工数の短縮も可能
となる。さらに、離型性支持体上に微細孔を有する金属
膜転写シート上に蛍光体層・ブラックマトリックス層を
形成し陰極線管フェースプレート上に一括転写し、支持
体を剥離後焼成することにより更に簡単にカラー陰極線
管のアノード面が形成される。陰極線管やプラズマデイ
スプレィ等の蛍光体製品に応用すると、大きな製造設備
を必要とする事なく高品質で安価な製品が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の金属膜転写シートの断面図、第２図は
本発明の金属膜転写シートを用いた転写工程の説明図、
第３図は本発明の他の実施例の蛍光面形成シートの断面
図、第４図は本発明の他の実施例の蛍光面形成シートを
用いた転写工程の説明図、第５図はカラー陰極線管のア
ノードの断面図、第６図は本発明の他の実施例の放電に
よる孔開は法の説明図である。１０１・・・・・・支持体、１０２・・・・・・離型層
、１０３・・・・・・光反射層、１０４・・・・・・微
細孔、２０１・・・・・・ガラス基板、２０２・・・・
・・ブラックマトリックス層、２０３・・・・・・蛍光
体層、２０４・・・・・・接着層、２０５・・・・・・
金属膜、２０６・・・・・・微細孔、２０７・・・・・
・離型層、２０８・・・・・・支持体、２０９・・・・
・・金属膜転写シート、２１０・・・・・・蛍光面、３
０１・・・・・・微細孔を有する金属膜転写シート、３
０２・・・・・・蛍光体層、３０３・・・・・・ブラッ
クマトリックス層、３０４・・・・・・支持体、３０５
・・・・・・離型層、３０６・・・・・・金属膜、３０
７・・・・・・微細孔、３０８・・・・・・接着層、４
０１・・・・・・ガラス基板、４０２・・・・・・接着
層、４０３・・・・・・蛍光面形成シート、４０４・・
・・・・離型性支持体、４０５・・・・・・ブラックマ
トリックス層、４０６・・・・・・蛍光体層、４０７・
・・・・・メタルバック層、５０１・・・・・・ガラス
基板（フェースプレート）　、５０２・・・・・・ブラ
ックマトリックス層、５０３・・・・・・蛍光体層、５
０４・・・・・・メタルバック層、６０１・・・・・・
金属膜転写シート、６０２・・・・・・アース、６０３
・・・・・・電源、６０４・・・・・・円筒状電極。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）離型性支持体上に少なくとも微細孔を有する金属
膜を形成したことを特徴とする金属膜転写シート。
（２）微細孔が、５０φμｍ以下の大きさであることを
特徴とする請求項（１）記載の金属膜転写シート。
（３）微細孔の、開口率が５％以上であることを特徴と
する請求項（１）記載の金属膜転写シート。
（４）離型性支持体上の金属膜を放電により微細孔を形
成することを特徴とする金属膜転写シートの製造法。
（５）離型性支持体上の金属膜を突起物の圧接により微
細孔を形成することを特徴とする金属膜転写シートの製
造法。
（６）離型性支持体上の金属膜をサンドブラスト法で微
細孔を形成することを特徴とする金属膜転写シートの製
造法。
（７）離型性支持体上に微細孔を有する金属膜を形成し
た金属膜転写シートを基板に接着剤で接着し、離型性支
持体を剥離した後焼成したことを特徴とする金属膜形成
方法。
（８）離型性支持体上に微細孔を有する金属膜を形成し
た金属膜転写シートをガラス基板上の蛍光体層に転写し
、支持体を剥離してメタルバック層を形成した後に、焼
成することを特徴とする蛍光面の形成方法。
（９）離型性支持体に順次少なくとも微細孔を有する金
属膜・蛍光体層・ブラックマトリックス層を形成したこ
とを特徴とする蛍光面形成シート。
（１０）離型性支持体上に微細孔を有する金属膜を形成
した金属膜転写シート上に、蛍光体層、ブラックマトリ
ックス層を順次形成した蛍光面形成シートを、ガラス基
板に接着し、離型性支持体を剥離して蛍光面を形成した
後、焼成することを特徴とする蛍光面形成方法。