JP2010280902A - 高解像度発光アレイの作成方法およびそれに対応する物品 - Google Patents

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Abstract

【課題】高解像度の発光アレイを製造するのに有用な熱転写要素および方法を提供すること。
【解決手段】発光または蛍光体スクリーンを形成する方法について記載してある。この方法は、ａ）前側と後側とを備えた基材を含む熱物質供与体要素に、前記基材の前記前側に接着された発光材料または蛍光体のコーティングを提供する工程と、ｂ）発光材料または蛍光体の前記コーティングを支持層に近接配置する工程と、ｃ）前記物質供与体要素にコヒーレント放射線を与えて、発光材料または蛍光体の前記コーティングの少なくとも一部を加熱し、前記発光材料または蛍光体の少なくとも一部を前記支持層に局所的に転写する工程と、ｄ）転写された発光材料または蛍光体のコーティングを、前記支持層上に少なくとも１平方センチメートルの面積で与えるのに十分な回数工程（ｃ）を繰り返す工程とを含む。
【選択図】なし

Description

本発明は、高解像度の発光アレイを製造するのに用いる、熱転写要素および画像形成放射線により行なわれる（例えば、レーザーにより行なわれる）熱物質転写（thermal mass transfer）方法に関する。特に、本発明は、転写層に蛍光体のような発光材料を有する放射線により行うことのできる転写要素の使用に関する。
歴史的に、蛍光体アレイは、テレビ、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）モニタ、医療機器、オシロスコープ、レーダ管、オプトエレクトロニック画像変換器、個人用安全製品、バーコード、医療用画像形成画面（増感または貯蔵蛍光体画面）等をはじめとする様々な製品に用いられてきた。発光アレイおよび蛍光体ディスプレイ技術は、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセントディスプレイ（ＥＬ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）等のような発光フラットパネルディスプレイデバイスの導入に伴い発展している。発光ディスプレイ技術については、情報表示装置協会の刊行物であるC. CurtinおよびC. Infanteによる「発光技術の基本」にある。発光ディスプレイ技術が関連製品の領域に広がるつれて、市場はより高品質でより高解像度の製品を要求し続けている。例えば、テレビ、ＰＣおよびポータブルビデオカメラのビューファインダーに用いる小型ディスプレイデバイスは５０ライン／ｍｍを超える解像度が求められる（Oki, K.およびL.Ozawa「高解像度ＣＲＴの蛍光体スクリーン」Journal of the SID, 3, 51, 1995年）。大きなピクチャフォーマットを有する高鮮明プロジェクションテレビについては、エレクトロンスポットの直径は、現在の直接可視陰極線管スクリーンのスポットの直径の約十倍であり、最大のエネルギー励起密度（約２Ｗ／ｃｍ2）は約１００倍である（Raue, R., A.T. VinkおよびT. Welker, Philips Tech. Rev., 44, 335, 1989年）。蛍光体にこれらの特性を与える理論上の可能性は否めないものの、これらの性能標準は、現在の蛍光体スクリーンの製造方法では得ることが難しい。
蛍光体は、陰極線管（ＣＲＴ）、電界エレクトロルミネッセンスデバイス（通例、ＥＬデバイスと呼ばれる）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）および電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）の重要な構成要素である。
ＣＲＴでは、スクリーン画像の品質は、カソードルミネッセント効率および蛍光体スクリーンの解像度に依存している。蛍光体スクリーンには多くの作成方法がある。様々な方法およびその応用については、Hase, T., T. Kano, E. NakazawaおよびH. Yamamoto「陰極線管の蛍光体材料」Advances in Electronic and Electron Physics, Academic Press, Inc.,ニューヨーク、79、271（1990年）に記載されている。
沈降プロセスは、モノクロＣＲＴのスクリーンに蛍光体を堆積するのに従来から広く行われているプロセスであり、今もそうである。このプロセスにおいては、水性ケイ酸塩溶液を添加したアルコールまたは水の蛍光体懸濁液を、ＣＲＴのガラス外囲器またはバルブに入れ、沈降により面板の内表面に堆積させる。蛍光体は、珪酸を徐々に沈殿させることによって、自身およびガラスの両方に接着する層を形成する。水性ケイ酸塩の凝固時間は、電解質を添加することにより蛍光体の沈降速度に合わせる。その結果得られるスクリーンは、凝固プロセスのために疎らに充填された蛍光体粒子を有する比較的粗い表面を有している。疎らに充填された蛍光体スクリーンは、より密に充填された蛍光体のスクリーンよりもやや高いカソードルミネッセント効率を有しているものの、疎らに充填されたスクリーンの解像度は低い。この方法の他の短所は、ピンホールのないコーティングを得るために比較的厚い（約６ｍｇ／ｃｍ2）のスクリーンを必要とすることである。また、厚いと、スクリーンの解像能力を下げる。
スラリー法は、一般に、スクリーンが多色ドットまたはストライプのアレイからなるシャドウマスクおよびアパーチャグリルカラーＣＲＴの作成に用いられている。このプロセスでは、まず、感光性樹脂中の単色蛍光体のスラリーを連続層としてガラスパネル上にスピンコーティングする。シャドウマスクのアパーチャを通じて点光源から紫外（ＵＶ）放射線でコーティングを露光して、露光した領域を水に不溶とする。露光していない領域を水で洗って除去して、ガラスパネル上に蛍光体画像を形成する。この画像形成プロセスを異なる色の蛍光体を用いて少なくともあと２回繰り返して、緑、青および赤の蛍光体パターンを生成する。多色シャドウマスクＣＲＴを製造するのに、ダスティング法もたまに用いられることがある。ダスティング法では、乾燥蛍光体を、画像形成の前に湿潤感光コーティング上に振り撒く以外は、上述の同一の基本プロセスを用いる。スクリーンをシャドウマスクのアパーチャを通じてＵＶ放射線で露光すると、照射された領域に蛍光体のコーティングが固定される。３色の蛍光体パターンがすべてガラスパネル上に形成されるまで、このプロセスを繰り返す。これらの方法において主に懸念されるのは、ピンホールの形成と、洗い流し工程における他の色の蛍光体による汚染との兼ね合いである。濯ぎが強いと、ピンホールが形成されることがあり、濯ぎが弱いと、露光していない領域の色のついた蛍光体が完全に洗い落とされないことがある。代替のダスティング法は、光粘着性レジストを用いるものである。この方法では、蛍光体を堆積する前に感光性層をＵＶ放射線で露光する。蛍光体は、粘着性の画像領域にのみ接着する。この方法において主に懸念されるのも、同じく、他の色の蛍光体により汚染されることである。
小さい粒子の非常に密なモノクロ蛍光体スクリーンを必要とする用途については、一般に、堆積法を用いる。このプロセスでは、蛍光体パウダーを、極性有機溶媒に懸濁させ、カチオン性添加剤を蛍光体表面に吸着させる。負の電位を、溶液に浸漬した導電性基材にかける。このとき、負極はその基材と平行に保たれている。このように印可された電界により正に帯電した蛍光体粒子が基材に移動して、表面がコーティングされる。
高密度蛍光体スクリーンを必要とする一つの用途は医療用Ｘ線画像形成である。こうしたスクリーンは、通常、キャリア層上にバインダー中の蛍光体を有している。蛍光体は、放射線写真画像のハードコピー出力に通常用いるハロゲン化銀よりも効率よくＸ線放射線を吸収する。蛍光体は、Ｘ線を効率のよい速度で吸収するばかりでなく、燐光を発し、蛍光体が吸収するＸ線の波長以外の波長で放射線を放出する。蛍光体の化学的性質および特性に応じて、放出される放射線は、実質的に、電磁スペクトルの赤外および紫外の波長の間で、そしてそれを含む波長である。ハロゲン化銀は、紫外および近青色の波長で放射線を吸収する性質で、電磁スペクトルの紫外、可視および赤外領域の他の部分において放射線を効率よく吸収するようスペクトルを高感度化することができる。蛍光体スクリーンをＸ線で露光することによって、ＵＶ、可視または赤外で蛍光体スクリーンを放出させ、ハロゲン化銀エマルジョンを、蛍光体スクリーンの放出の波長に対してスペクトルについて高感度化させて、蛍光体スクリーンに光学的に関与させることにより、Ｘ線画像形成システムの全体の効率を大幅に高めることができる。これによって、対象物の露光中、用いるＸ線の線量を低くすることができる。
このような蛍光体を用いることは、業界によく知られており、Ｘ線刺激の際の燐光放射線の直接放出についての米国特許第３，８８３，７４７号および第４，２０４，１２５号、Ｘ線への露光、蛍光体による吸収エネルギーの貯蔵、そして放射線を刺激することによる続く刺激によって蛍光体から貯蔵したエネルギーをＵＶ乃至赤外放射線として放出することについての米国特許第３，８５９，５２７号および第５，１６４，２２４号のような特許により実証されている。これらの蛍光体システムは商業的に成功しており、放射線写真業界に多大の利益をもたらしている。しかしながら、この種のシステムにおいては、速度と鮮鋭度との兼ね合いがある。より多くのＸ線を吸収して、より多くの光を放出するには、スクリーン自体をより厚くする。しかし、この場合、スクリーンの厚さにより生成された光は、そのほとんどが蛍光体粒により散乱されてしまい、フィルムに記録される生成画像の鮮鋭度が減じる。逆に、鮮鋭度を改善するには、より薄いスクリーンが望ましいが、Ｘ線吸収能が減じ、Ｘ線を照射される患者または対象者の受ける線量が最終的に増えてしまう。
システムの感度や速度に悪影響を及ぼすことなく、画像品質、特に、蛍光体スクリーンから生成される画像の鮮鋭度を改善する多くの方法が提案されている。ＥＰＯ １０２ ７９０（粉末ガラス）、日本国出願１４６，４４７／１９８０（白色顔料）、日本国特許出願１６−３，５００／１９８０（着色剤）およびＥＰＯ １７５ ５７８（蛍光体のスパッタリングまたは真空蒸着）に示されているように、反射微粒子、染料、顔料およびその他光の影響材料が、鮮鋭度を改善するために、蛍光体層への添加剤として提案されている。
これらの方法の主たる目的は、スクリーンの活性層において蛍光体濃度を高めて、均一な特性のスクリーンを提供することである。米国特許第５，３０６，３６７号は、溶媒で希釈した熱可塑性バインダー中に蛍光体粒子を分散させることによって貯蔵蛍光体スクリーンを生成し、その混合物をコートし、乾燥して溶媒を除去し、そのコーティングをバインダーの融点を超える温度で圧縮するものである。米国特許第５，２９６，１１７号は、ポリマーバインダー中に分散させた蛍光体粒子を電気泳動法により堆積させて蛍光体粒子を堆積するものである。この溶液を基材上にコートし、乾燥して、蛍光体スクリーンを作成する。この種のシステムはいずれも何らかの利点があるが、放射線写真の蛍光体スクリーンの鮮鋭度においてはまだまだ大きな改善の余地がある。特に、高価で複雑な堆積プロセスを排除し、環境に有害な溶剤の使用を排除し、そして、高いプロセス温度を排除または減じることが望まれている。
熱転写テープ、リボンまたはシートおよびサーマルヘッドプリンタを用いてガラスパネル上に直接蛍光体画像を転写する方法を提供するために様々な試みがなされてきた。この種の用途としては、日本出願番号６３−０２２７０Ａ、６２−６７４１６Ａおよび８４−０２０４６６Ｂに開示されているものが挙げられる。この種の方法の利点は、蛍光体の基材への選択的な配置である。しかしながら、サーマルプリンターヘッドを用いると、使用する基材の組成、形状および構成が限られ、近接した蛍光体の位置合わせの制御が難しく、プリントヘッドの速度が遅いために、製造される材料のスループットが減少してしまう。例えば、画像を均一に転写するためには、基材は平らでなければならない。さらに、サーマルプリントヘッドは、現在のところ大きさが限られており、プリントヘッドのサイズを減じるためには実用上の制限に直面している。
日本国特許出願番号６２−９５６７０Ａは、構造内に導電性フィルム層を用いる熱転写構造体について記載している。転写要素は、要素を覆うように取付けられた電極によって画像が形成される。この構造も、画像を均一に転写するために基材を平らにしなければならない点で、従来の熱転写要素と同じ制限を受けるものである。
さまざまな基材の大きさと構成において、発光材料または蛍光体画像を形成するのに十分な乾燥プロセスが求められている。さらに、高鮮明度のテレビ、電界放出ディスプレイの製造およびその他ハイブリッドディスプレイ技術において増大する要求に応えるために、高解像度で大きな励起密度を生成することのできる材料が求められている。
電磁スペクトルの紫外線、可視および特に近赤外および赤外領域において放出する高出力コンパクトレーザー、半導体光源、レーザーダイオードおよびその他放射線源の使用可能性および使用が増大することにより、これらの光源を、サーマルプリントヘッドのエネルギー源として実行可能な代替物として用いることを可能とさせている。レーザーやレーザーダイオードのような放射線源を画像形成源として用いることは電子情報を画像記録媒体に転写する主な手段の一つであり、好ましい手段である。媒体を露光するのに放射線を用いると、従来のサーマルプリントヘッド画像形成システムよりも高解像度で、最終画像のフォーマットサイズに融通がきく。さらに、レーザーおよびレーザーダイオードのような放射線源には、媒体が熱源と接触することによる有害な影響を排除するという利点がある。サイズ、形状、エネルギーおよびスポットの休止時間は、用いる特定のプロセスおよび材料の要件によって容易に調節することができる。様々な熱画像形成材料およびプロセスが、米国特許第５，１７１，６５０号、第５，１５６，９３８号、英国特許出願２ ０８３ ７２６Ａおよび特開昭６３［１９９８」−６０７９３号に示されている。
米国特許第５，１７１，６５０号および第５，１５６，９３８号は、材料を供与体層から受容体層へ率先して転写する情報転写システムおよびプロセスを開示している。この情報転写システムにおいて転写される挙げられた多くの材料の中に、ルミネッセント材料（米国特許第５，１７１，６５０号、第１３欄、８〜２３行）および蛍光体（米国特許第５，２７８，０２３号）がある。蛍光体は、テレビまたは医療用画像形成目的で用いられる蛍光体の種類として記載されてはいるものの、転写時に情報密度を与える広範な部類の材料の中に含まれており、全表面をコートするために転写させるのではなく、情報包含パターンとして分布されている。
米国特許第５，１７１，６５０号は、「アブレーション転写」技術を用いた熱画像形成方法および材料を開示している。画像形成プロセスにおいて用いられる供与体要素は、支持体、中間動的剥離層および着色剤を含有するアブレーシブキャリアトップコートを備えている。動的剥離層とカラーのキャリア層は両方とも赤外吸収する（光から熱への変換）染料または顔料を含んでいてもよい。着色された画像は、供与体要素を受容体と密に接触するように配置し、画像のある（imagewise）パターンに干渉光源によりその供与体を照射することにより作成される。着色したキャリア層は、光の当たった領域において動的剥離層から剥離すると同時に押すと、着色された画像が受容体上に作成される。
１９９２年３月２３日に出願された米国同時係属出願第０７／８５５，７９９号は、放射線吸収材と組み合せてグリシジルアジドポリマーを含むエネルギー感応性層を一部にコートした基材を含むアブレーシブ画像形成要素を開示している。そこに示された画像形成源としては、赤外、可視および紫外線レーザーが挙げられる。レーザーダイオードについては特に言及されていないが、固体レーザーは露光源として開示されていた。この出願は、主に、エネルギー感応層のアブレーションによる凸版印刷板およびリソグラフィー板の形成に関するものである。熱物質転写の用途については特に言及はない。
米国特許第５，３０８，７３７号は、照射時に比較的容量の大きい気体を生成する気体生成ポリマー層と共にポリマー基材上に黒色金属層を用いることを開示している。黒色金属（例えば、黒色アルミニウム）は、放射線を効率的に吸収し、それを気体生成材料のために熱に変換する。実施例において、場合によっては、黒色金属を基材から除去すると、基材上にポジの画像が残るのが観察されている。
米国特許第５，２７８，０２３号は、カラープルーフ、印刷板、フィルム、印刷回路基板およびその他媒体を作成するためのレーザーを用いることのできる熱転写材料を開示している。この材料には、窒素（Ｎ2）ガスを好ましくは約３００℃未満の温度で生成することのできる材料、放射線吸収材および熱物質転写材料を含む推進層でコートされた基材が含まれる。熱物質転写材料は、推進層または推進層上にコートされた追加の層に組み込んでもよい。放射線吸収材は、上に開示された層のいずれかに、またはレーザーのような電磁エネルギー源で局所加熱するために別個の層として用いてもよい。レーザー誘導による加熱の際、転写材料は、気体の急速な膨張により受容体へと押される。熱物質転写材料は、例えば、顔料、トナー粒子、樹脂、金属粒子、モノマー、ポリマー、染料またはこれらの組み合わせを含有していてもよい。また、画像の形成プロセスはもちろんのことそれにより作成された画像形成済み物品も開示されている。
レーザー誘導による物質転写プロセスには、加熱時間が非常に短い（ナノ秒〜マイクロ秒）という長所がある。これに対し、従来の熱物質転写方法は、プリントヘッドを加熱して、熱を供与体に伝えるのに必要とされる休止時間が長い（ミリ秒）ため、比較的遅い。レーザー誘導によりアブレーション画像形成状態下で生成された転写画像は、分断されている（表面から微粒子または破片として押されている）ことが多い。
本発明は、発光材料を作成し、レーザーを用いた熱画像形成技術を使って、その発光材料を基材に均一に（すなわち、平坦に分布、または微粒子の連続分布）選択的に転写して、高解像度の発光スクリーンおよびパネルを生成する方法を提供する。このようなスクリーンおよびパネルとしては、陰極線管（ＣＲＴ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセントディスプレイ（ＥＬ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）、Ｘ線増感スクリーン等が挙げられる。本発明は、（ａ）任意の光から熱への変換層、（ｂ）任意の中間層、（ｃ）発光材料（例えば、蛍光体、半導体エレクトロルミネッセント材料、フルオレサー（fluorescer）、発光有機ポリマー等）のコーティングを含む熱転写層および（ｄ）任意の接着コーティングが堆積した基材を含む発光熱転写要素、および均一な発光のパネルが転写プロセスにより形成されるように、前記発光材料の均一な分布で基材へ前記発光材料を転写する方法に関する。「均一」とは、発光パネルの全表面のフラッド刺激（flood stimulation）の際に、生成される発光に可視の情報パターンがないように、転写された各種の発光材料が、発光パネルを形成するのに受容体表面の表面に十分に平坦に分布されることを意味している（例えば、１種類以上の発光材料がカラー陰極線管の製造において転写される）。これは材料の統計上等しい、または均一な分布である。例えば、カラーＣＲＴスクリーンを堆積するときは、蛍光体の３つの連続領域と、蛍光体の各連続領域の間にブラックマトリックスがある。顕微鏡で観察すると、蛍光体がある程度まで配列すると、統計上等しい小さな寸法（例えば、０．１ｍｍ未満、特に０．０５ｍｍ未満）で、粒子の個々の種類が等しくても、均一に分布された個々の蛍光体の不連続な粒子または領域を見分けることができる。
蛍光体が、高エネルギー画像形成放射線により熱的に転写でき、その高品質な燐光性放出能を保持することは全く予期せぬことである。これは、上述の米国特許第５，３０８，７３７号その他として示した従来技術のアブレーシブ転写システムに特に当てはまる。これらのシステムは、材料を率先して爆発的に転写するが、これは、転写中に結晶に損傷を与えたり、粒子を破壊することが予想される。蛍光体を破損したり、強く応力を加えると、効率が減じ、発光スペクトルが変化する可能性があることはよく知られている。これは、当然のことながら、発光アレイの形成に望ましくない。
本発明はまた、上述の熱転写要素を用いて均一にコートされたパネル上の選択領域のみを刺激することにより、受容体上で連続発光アレイを用いる方法も提供する。均一のコーティングとは、発光パネルの全表面のフラッド刺激の際に、生成された発光に可視の情報パターンがないように、発光パネルの形成においてコーティングが受容体表面に十分に均等に分布されていることを意味している。可視とは、０．５メートル以上の距離から裸眼により検査した際のことを意味している。これらのコーティング自身には情報が含まれておらず、単に、発光材料を計数的に接触可能に堆積しただけである。均一なコーティングは、（ａ）受容体と前述の前記熱転写要素の熱転写層を密に接触するように配置し、（ｂ）発光材料熱転写要素を、放射線源により、均一な分布パターンで露光し、（ｃ）均一なパターンに対応する発光熱転写層を受容体に転写して、転写された発光剤の均一に分布されたパターンコーティングを前記支持層に与えることにより受容体上に転写される。前記均一なパターンの面積は、連続ラインとして形成したとき、好ましくは１平方センチメートル、より好ましくは少なくとも２ｃｍ2、さらに好ましくは少なくとも５ｃｍ2である。これらの横側寸法の面積も、例えば、蛍光体粒子の分布された連続領域の１平方ｃｍ、４平方センチメートル、２５平方センチメートルが望ましい。少なくとも１平方センチメートルの前記支持層上に複数の発光剤の均一なコーティングを与えるために、任意で、異なる発光熱転写供与体で、工程（ｃ）を十分な回数繰り返してもよい。カラーテレビ陰極線管においては、例えば、３つ以上の蛍光体をそれぞれ等しく、スクリーン表面に分布させてもよい。各蛍光体は、スクリーン表面に均一な（情報を含まない）コーティングであり、３つの蛍光体が合わさって均一で、多色の発光パターンの蛍光体コーティングを形成する。熱転写層が架橋可能な材料を含有しているときは、熱または放射線により、または化学硬化剤により処理すると、転写されたパターンが続いて架橋するような追加の硬化工程を行ってもよい。熱転写層が熱分解可能な材料を含有しているときは、ベークアウト工程を行って、有機残渣を除去してもよい。
発光材料は業界においてよく知られている。熱以外（ただし、熱以外の刺激といっても、十分に加熱するとすべての材料は放射線を放出する）により刺激されて放射線を放出する材料がある。本発明の実施において、発光材料としては、フォトルミネッセントおよび／またはカソードルミネッセントおよび／またはエレクトロルミネッセントである材料が含まれる。これらの発光材料は、また、放射線を吸収し（一時的、または、数日といった、より長い期間にわたって）、自発的または時間の経過または刺激により、測定すると分かるのだが、吸収された放射線の波長または波長帯域の異なる放射線を放出する。例えば、Ｘ線増感蛍光体は、Ｘ放射線を吸収して、ＵＶ、赤外または可視放射線を自発的に（蛍光体を増感して）または第３の放射線により続けて刺激されたときに放出する。陰極線管（ＣＲＴ）は電子を吸収し、可視放射線を放出する。ＥＬにおいては、高エネルギー（約２００ｅｖ）電子により蛍光体材料中で光放出中心の衝撃励起により光が生成される。カラープラズマパネルにおいて、気体放電は、蛍光体を励起して可視光を生成する紫外光を放出する。ＦＥＤは、カソードルミネッセント蛍光体が電子で照射されて、可視光を放出するマトリックスを用いた冷陰極アレイを用いる。これらの各蛍光体は、本発明の実施による発光材料である。
「密に接触する」という言回しは、材料の転写が転写プロセス中になされて、画像形成放射線を用いた熱により刺激された領域内で十分な材料の転写が行われるように２つの表面の間を十分に接触させることをいう。言い換えると、目的の用途において、転写された画像に非機能性を与える転写領域には空隙がない。陰極線スクリーンの場合、ブラックマトリックスが蛍光体を囲まなければならないが、これは、ＣＲＴ業界においては機能的で連続的と考えられる。個々の蛍光体は、市販に適したＣＲＴシステムのために十分に連続したコーティングを形成することはないが、３つ以上の蛍光体が合わさって本発明の実施において機能的に連続したコーティングを形成する。
「画像形成エネルギー」とは、フラッシュランプまたはレーザー（レーザーまたはレーザーダイオードのような固体エミッタまたはその他線源からのその他のコヒーレント放射線）エネルギーからのような吸収された放射線のことをいい、これは発光材料含有の、または蛍光体含有の物質転写供与体要素から受容体要素への単一の転写を生じさせる。
蛍光体スクリーンおよびパネルのような発光ディスプレイデバイスは、（ａ）支持体、（ｂ）任意の光から熱への変換層、（ｃ）任意の転写不可能な中間層、（ｄ）転写可能な発光材料含有層および（ｅ）任意の接着層を順に含む熱物質転写供与体要素の提供により本発明の実施に従って提供される。任意の層（ｂ）（ｃ）および（ｅ）のうち１枚以上を、本発明の実施において用いる熱転写要素に存在させてもよい。この方法には、次の工程を含むものと一般に説明される。（ｉ）基材と、上述の熱転写要素の転写可能発光材料（例えば、蛍光体）含有層（または転写可能層とそれを覆う接着層）を密に接触するように配置する工程、(ii)熱物質転写要素から局所転写を生じさせるのに十分な強度で放射線により１つ以上の熱転写要素または受容体要素（例えば、基材、転写層、光から熱への変換層、接着層等のいずれかの１つ以上の部分）を照射する工程、および(iii)照射された領域において転写可能発光（例えば、蛍光体）含有層（およびもしある場合は接着層）を基材に転写する工程。
蛍光体または発光材料を転写するために放射線、特にコヒーレント放射線を用いると、サーマルプリントヘッドプロセスに比べて、スクリーンの解像度、位置合わせおよび製造速度が増大する。一方、受容体の形状（例えば、曲面または不規則な表面）、組成および位置合わせに関して受容体として用いられる基材の範囲を広げる。
本発明の転写可能な発光材料含有供与体要素は、転写可能な発光材料含有供与体要素（例えば、転写可能な蛍光体含有層および任意の１層以上の光から熱への変換層、転写不可能な中間層、転写可能な接着層等）の層を基材上に提供することにより作成することができる。供与体基材は、物質転写供与体要素に基材として有用として知られる材料であればどんな材料でも構成することができる。供与体基材は、通常、ガラス、セラミックス、複合体のような剛性シート材料か、可撓性フィルム（例えば、ポリエステル、ポリカーボネート等のような有機ポリマーフィルム）のいずれかである。基材は、平滑または粗い、透明、不透明、半透明、シート状または非シート状とすることができる。適したフィルム基材としては、ポリエステル、特にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリスルフォン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、セルロースアセテートおよびセルロースブチレートのようなセルロースエステル、ポリ塩化ビニルおよびその誘導体、そして上述の材料の１種類以上を含むコポリマーが例示される。ポリマー基材の厚さは、通常、１〜２００ミクロン、より好ましくは２〜５０ミクロンである。剛性ガラスまたはセラミック基材の厚さは、通常、２０〜１０００ミクロン以上である。
転写可能な発光材料含有層は、有機バインダーを含有していてもよい。このバインダーは、アクリレート（メタクリレート、配合物、混合物、コポリマー、ターポリマー、テトラポリマー、オリゴマー、マクロマー等を含む）、エポキシ樹脂（同様に、コポリマー、配合物、混合物、ターポリマー、テトラポリマー、オリゴマー、マクロマー等を含む）、シラン、シロキサン（およびすべての種類の変異体）および重合可能な活性基（例えば、エポキシシロキサン、エポキシシラン、アクリロイルシラン、アクリロイルシロキサン、アクリロイルエポキシ等）の混合物を含む重合可能な組成物をはじめとする、熱硬化性、熱硬化可能な、または熱可塑性ポリマーのような数多くの既知のポリマーのいずれでもよい。一実施形態において、転写可能な発光材料含有層転写層は、熱可塑性バインダーを含有する。転写可能な発光材料含有転写層が、受容体要素に転写された後、例えば、特定の熱硬化性バインダーに適切であるように、熱硬化可能なバインダーを熱、適当な放射線源、水分または化学硬化剤に晒すことにより熱硬化可能なバインダーが架橋する。用途によっては、バインダーを発光材料含有層から除去してから、受容体に転写するのが望ましいことがある。この場合、例えば、熱、放射線および／または化学エッチング液を用いて容易に除去されるバインダー材料を用いるのが望ましい。
転写可能な発光、または蛍光体含有供与体要素は、物質転写供与体要素に有用として知られている成分を含有することができる。分散剤、界面活性剤およびその他添加剤（酸化防止剤、光安定化剤、光沢剤、白色顔料、反射微粒子、着色剤、コーティング補助剤、静電防止剤等）を入れて、発光材料の分散を補助したり、当業者に知られたその他所望の特性を転写可能な発光材料含有層に与えてもよい。発光材料、特に蛍光体層の供与体から受容体への平滑で清浄な転写を促すフッ素化界面活性剤および潤滑剤を入れるのが特に望ましい。転写可能な発光含有供与体要素は、任意で、画像形成放射線を吸収し、エネルギーを熱エネルギーに変換する光吸収材料を含有することができる。光吸収材料は、入射画像形成放射線の一部を吸収し、放射線エネルギーを熱エネルギーに変換し、それによって転写可能な発光含有層の供与体要素から受容体要素への転写を促す材料であれば何でもよい。光吸収材料として有用な材料としては、適切に吸収する染料（例えば、紫外、赤外等の波長において光を吸収するようなもの）、バインダーまたはその他ポリマー材料、黒体または非黒体吸収材とすることのできる有機または無機顔料、金属類または金属フィルムまたはその他適した吸収材料が例示される。
有用な光吸収材料として知られている染料としては、スペクトルの赤外領域において光を吸収する染料が例示される。例えば、松岡Ｍ．赤外吸収材料(Plenum Press、ニューヨーク、1990年)、松岡Ｍ．ダイオードレーザーの吸収スペクトル（Bunshin Publishing Co.,東京、1990年）、米国特許第４，７７２，５８３号、第４，８３３，１２４号、第４，９１２，０８３号、第４，９４２，１４１号、第４，９４８，７７６号、第４，９４８，７７７号、第４，９４８，７７８号、第４，９５０，６３９号、第４，９４０，６４０号、第４，９５２，５５２号、第５，０２３，２２９号、第５，０２４，９９０号、第５，２８６，６０４号、第５，３４０，６９９号、第５，４０１，６０７号および欧州特許第３２１，９２３号および第５６８，９９３号に記載されている。さらに、染料については、Bello, K.A.らJ.Chem.Soc., Chem. Commun., 452 (1993年)および米国特許第５，３６０，６９４号に記載されている。American CyanamidまたはGlendale Protective TechnologiesよりIR-99、IR-126およびIR-165という商品名で市場に出回っているＩＲ吸収材が、米国特許第５，１５６，９３８号にも開示されている通り、用いられている。従来の染料に加え、米国特許第５，３５１，６１７号は、ＩＲ吸収導電性ポリマーの光吸収材料としての使用について記載している。
好ましい光吸収材料のその他の例としては、カーボンブラックのような有機および無機吸収材料、金属類、金属酸化物または金属硫化物およびその他既知の顔料および吸収材が挙げられる。代表的な金属類としては、周期律表のIb、IIb、IIIa、IVa、IVb、Va、Vb、VIa、VIbおよびVIII族、そして、これらの合金、またはIa、IIa、IIIb族の元素との合金またはこれらの混合物が挙げられる。特に好ましい金属類は、Al、Bi、Sn、InまたはZnおよび周期律表のIa、IIaおよびIIIb族の元素との合金、またはこれらの化合物または混合物である。これらの金属類の適した化合物としては、Al、Bi、Sn、In、Zn、Ti、Cr、Mo、W、Co、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、ZrおよびTeの金属酸化物および硫化物およびこれらの混合物が挙げられる。
光吸収材料を、転写可能な発光含有供与体要素（例えば、基材、添加可能な発光含有層等）の１種類以上の成分に添加することができる。
本発明の一実施形態において、光吸収材料を、別個の層として転写可能な発光含有供与体要素中に存在させることができる。本明細書においてはこれを「光から熱への変換層」（ＬＴＨＣ）と呼ぶ。光から熱への変換層は、画像形成放射線を吸収する一層以上の有機または無機材料層を含むのが好ましい。好ましくは、光から熱への変換層は、熱的に安定した材料から構成される。好ましくは、光から熱への変換層は、画像形成プロセス中、実質的に無傷のままである。これらの光から熱への変換層は、例えば、光から熱への変換層が金属フィルムの形態の場合には、１００％の光吸収材料から構成させることもできる。金属タイプの光から熱への変換層の厚さは約０．００１〜１０マイクロメートルの範囲、より好ましくは約０．００２〜１．０マイクロメートルの範囲である。
この代わりに、光から熱への変換層は、バインダーに分散された光吸収材料の粒子（例えば、カーボンブラック）を含むことができる。バインダーは、フェノール樹脂（例えば、ノボラックおよびレゾール樹脂）、ポリビニルアセテート、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリレート、セルロースエーテルおよびエステル、ニトロセルロース、ポリカーボネートおよびこれらの混合物をはじめとする、熱硬化性、熱硬化可能な、または熱可塑性ポリマーのような数多くの既知のフィルム形成ポリマーとすることができる。好ましくは、この種の光から熱への変換層は、０．０５〜５．０マイクロメートル、より好ましくは０．１〜２．０マイクロメートルの乾燥厚さにコートする。
任意のＬＴＨＣ層に近接して、任意の転写不可能な中間層がコートされる。適した中間層の例については、１９９６年４月１５日に出願された「中間層を含有する熱転写供与体要素」という名称のChangらによる米国同時係属出願（FN# 52049USA1A）に記載されており、ここにリファレンスとして組み込まれる。中間層を、光から熱への変換層と発光材料含有転写可能層に配置して組み込むことにより、光から熱への変換層から生成される転写された画像の汚染レベルが減じ、転写された画像に生じる転写歪みが減少する。中間層は、有機または無機材料のいずれかである。生成する転写された発光含有画像の損傷および汚染を最小にするために、中間層は、高熱抵抗性を有する連続コーティングであり、実質的に無傷で、画像形成プロセス中にＬＴＨＣ層と接触させるのが好ましい。適した有機材料としては、熱硬化性（架橋）で熱可塑性の材料が挙げられる。中間層は、画像形成放射線の波長出力において透過性または反射性のいずれかとなる。
中間層に有用な適した熱硬化性樹脂としては、架橋したポリ（メソ）アクリレート、ポリエステル、エポキシ、ポリウレタン等のような熱および放射線架橋した材料が挙げられる。適用を容易にするために、熱硬化性材料は、通常、熱可塑性前駆物質として、光から熱への変換層上にコートし、続いて架橋させて、所望の架橋した中間層を形成する。適した熱可塑性の部類としては、ポリスルフォン、ポリエステル、ポリイミド等が挙げられ、従来のコーティング技術（溶剤コーティング等）を用いて光から熱への変換層に適用される。中間層の最良の厚さは、光から熱への変換層の転写および転写された層の歪みが排除される最小の厚さにより求める。通常、０．０５μｍ〜１０μｍである。
中間層材料として用いるのに適した無機材料としては、金属類、金属酸化物、金属硫化物、無機カーボンコーティング等が挙げられる。これらは画像形成放射線波長において非常に透過性であり、従来の技術（例えば、真空スパッタリング、真空蒸着、プラズマジェット等）を用いて光から熱への変換層に適用することができる。最良の厚さは、光から熱への変換層の転写および転写された層の歪みが排除される最小の厚さにより求める。通常、０．０１μｍ〜１０μｍである。
任意で、他の非発光材料含有転写層を供与体に存在させて、画像形成放射線転写領域において追加の機能を与えることができる。特に興味深いのは、蛍光体マトリックスまたは受容体表面（例えば、曲面ガラス）に接着する表面に接着材料および顔料（例えば、赤、緑および／または青色顔料）を加えることである。
任意で、転写可能な発光材料含有供与体要素を接着層によりコートすると、転写可能な発光材料含有層の受容体への転写を促す。
画像形成放射線露光中、画像形成された材料からの複数の反射による妨害パターンの形成を最小にするのが望ましい。これは様々な方法により行うことができる。最も一般的な方法は、米国特許第５，０８９，３７２号に記載されている通り、入射画像形成放射線の程度によって、熱画像形成可能な要素の表面を効果的に削ることである。これに代わる方法は、入射光が入る第２の界面で反射防止コーティングを用いることである。反射防止コーティングは業界によく知られており、米国特許第５，１７１，６５０号に記載されているように、フッ化マグネシウムのような四分の一厚さのコーティングからなる。コストや製造上の制限のために、多くの用途において、表面を削る方法が好ましい。
受容体は、発光材料、特に蛍光体の適用により利点の得られる連続コーティング発光ディスプレイ要素である。受容体は、平滑または粗い、透明、不透明、半透明、シート状または非シート状、平面または曲面（例えば、ＣＲＴ管の内部凹面のように）である。任意で、画像形成エネルギーに晒した領域の受容体への発光材料含有または蛍光体含有層の転写を促す接着層により受容体をコートしてもよい。熱転写可能な材料含有供与体要素における光吸収材料の代替として、光吸収材料を、受容体要素の成分中、例えば、受容体要素の基材中、または受容体要素の別個の層（例えば、基材上のブラックマトリックス中、受容体要素の接着層中等）に存在させてもよい。受容体要素中に光吸収材料が存在している、または、画像形成中に受容体要素に転写する転写可能な発光材料含有供与体要素の一部であると、光吸収材料が、画像形成された受容体要素に存在することになる。このような場合、光吸収材料は画像の形成された受容体の性能特性（例えば所望の光学特性）を妨げないのが好ましい。
熱画像形成プロセスにおいて用いることのできる、基材への十分な接着をもたらす何らかの方法によって放射材料を供与体基材にコートする。蛍光体のような発光材料は、例えば、蒸着、ゾル乾燥、熱乾燥、基材上の受容体コーティングに対するバインダーのない接着、蛍光体粒子およびバインダーの分散液／溶液のコーティングと乾燥、有機ルミネッセント材料の分散液／溶液のコーティングと乾燥等により堆積してもよい。連続コーティングには、物品に非機能性を与える目視できる寸法の物理穴がコーティング中にないことが必要である。この方法における発光材料の転写により、非常に均一で（厚さおよび配向）、等しく分布された、高解像度の発光材料の分布が発光アレイ中に得られる。解像度は、エッチングされた堆積発光材料のそれと少なくとも等しく、蛍光体単位の端部は、アンダーカットやその他エッチ異常が避けられるため、エッチングによるものより鋭い。
本発明において、発光材料は、熱以外（ただし、熱以外の刺激といっても、十分に加熱するとすべての材料は放射線を放出する）で刺激したときに放射線を放出する材料であれば何でもよい。本発明の実施において、好ましい発光材料は、１）電磁放射線を吸収して、２００ｎｍ〜１１００ｎｍの放射線を放出する（フォトルミネッセンス）、および／または２）電子が衝突すると２００ｎｍ〜１００ｎｍを放出する（カソードルミネッセンス）および／または３）電界に晒すと２００ｎｍ〜１１００ｎｍを放出する（エレクトロルミネッセンス）であれば何でもよい。本発明による発光材料としては、無機発光材料（例えば、蛍光体）および有機発光材料（例えば、発光有機ポリマー）およびこれらを組み合せたものが挙げられる。通常、これらの蛍光体は、本発明の実施において微粒子として用いられるコーティング組成物に提供される。この微粒子の平均粒径は０．３〜５０ミクロン、好ましくは０．５〜４０ミクロン、より好ましくは０．７〜３５ミクロン、最も好ましくは１〜３０ミクロンである。本発明の実施に入れられる業界に知られた多くの蛍光体としては、アルカリハロゲン化物、ドープされたアルカリハロゲン化物、希土類オキシハロゲン化物およびその蛍光体の開示がここにリファレンスとして含まれる米国特許第５，３０２，４２３号に記載されているようなその他のものがある。本発明の範囲に含まれると考えられる蛍光体を開示した他の文献としては、米国特許第４，２５８，２６４号、第４，２６１，８５４号、第５，１２４，５６４号、第４，２２５，６５３号、第４，３８７，１４１号、第３，７９５，８１４号、第３，９７４，３８９号、第４，４０５，６９１号等が挙げられる。
発光材料を意図していた以前の転写プロセスとは異なる本発明の他の特性は、本発明の方法の能力によって、大きなサイズの発光粒子を均一に転写して、供与体要素中の粒子の元のサイズ分布に入る一定のサイズ分布を保つことである。これは、米国特許第５，１７１，６５０号および第５，１５６，９３８号にあるアブレーシブ転写よりも熱溶融スティック形態の転写を強調することにより成される。転写のアブレーシブ形態は、発光材料を作成するのに有用ではなく、特に粒子としての蛍光体スクリーンは、制御のできない、または発光パネルまたはスクリーンに適していないアブレーシブプロセスにより小さなサイズに文字どおり破壊または粉砕される。蛍光体スクリーンを作成するのに、この比較的大きなサイズ領域に粒子のサイズ分布を維持するのが好ましい。この場合、蛍光体は、４マイクロメートル（より好ましくは５マイクロメートル）を超えるものが少なくとも５０個数％、より好ましくは、少なくとも６０個数パーセントが、４マイクロメートル（同様に、より好ましくは５マイクロメートル）を超える、最も好ましくは蛍光体粒子の少なくとも７５個数パーセントが、４マイクロメートル（さらに同様に、より好ましくは５マイクロメートル）を超える。転写された蛍光体の寸法は、線幅が１５０マイクロメートル未満であり、高さ（厚さ）が０．５〜５０マイクロメートルであるのが好ましい。線幅は１００マイクロメートル未満で、厚さは１〜１０マイクロメートルであるのがより好ましい。線幅が１０〜９０マイクロメートルで厚さが２〜５マイクロメートルであると最も好ましい。
本発明においては、「構造化された」蛍光体スクリーン、すなわち、貯蔵蛍光体モードで用いるとき、放射線を一点のみに照射するよりも全表面に照射することによりスクリーンを刺激できる、組込みラスタ配向の蛍光体スクリーンを作成するのが実際的である。これは、蛍光体分布の所望のパターン、通常、間隔をあけて密に並んだドットの行列であるパターンを、キャリア要素の表面に転写して、パターン内の本発明の組成物を硬化することによって成される。これらのパターンは、情報パターンではなく、例えば、行および／または列に沿ってラスタスキャニングするなど、選択した刺激機構により刺激を受ける単に接触可能なアレイである。
特に指定がなければ、以下で用いた材料はAldrich Chemical Co.（ウィスコンシン州、ミルウォーキー）より入手されたものであった。
ラスタ転写を、単一モードのNd:YAGレーザーを用いて、フラットフィールドスキャニング構成において行った。スキャニングは線形検流計で行い、ｆ−シータスキャンレンズを用いて画像平面に焦点を合わせた。画像平面にかけた電力は８ワットであり、レーザースポットサイズ（１／ｅ2の強度で測定した）は１４０×１５０ミクロンであった。画像平面で測定した線形レーザースポット速度は４．６メートル／秒であった。
ガラス受容体基材は、リセスのある真空フレームに保持され、供与体シートは受容体と接して置かれ、真空にして適当な位置に保持された。露光の後、供与体は取り除かれる。
蛍光体供与体の光から熱への変換層
カーボンブラックの光から熱への変換層を、下記の「ＬＴＨＣコーティング溶液１」を、線インチ当たり９０の螺旋セルのあるマイクログラビアロールを用いて、安井精機ラボコーターの型番ＣＡＧ−１５０で、３．８８ミルのＰＥＴ基材上にコーティングすることにより作成した。
Figure 2010280902
コーティングを１００℃でインライン乾燥し、H-バルブで固定したFusion Systems型番1600（６００ワット／インチ）UV硬化システムを用いて２０フィート／分でUV硬化した。硬化したコーティングの光学密度は１０６４ｎｍで１．２であった。
蛍光体供与体の中間層
光から熱への変換層のカーボンブラックコーティングの上に、「保護中間層コーティング溶液１」を、線インチ当たり１５０の螺旋セルのあるマイクログラビアロールで、安井精機ラボコーターの型番ＣＡＧ−１５０を用いて、輪転グラビアコートした。コーティングをインライン乾燥し（１００℃）、H-バルブで固定したFusion Systems型番1600（６００ワット／インチ）uv硬化システムを用いて２０フィート／分でuv硬化した。このLITI供与体要素は、「LITI供与体要素I」と示した。
Figure 2010280902
蛍光体供与体の転写層
LITI供与体要素１の保護中間層を、１２番のコーティングロッドを用いて「蛍光体転写層コーティング溶液１」でオーバーコートした。その後、コーティングを６０℃で３分間乾燥した。
Figure 2010280902
蛍光体供与体を、上述のレーザー画像形成条件を用いて、５×５インチの厚さ１．１ｍｍのガラス板に画像形成した。蛍光体およびバインダーを、供与体からガラス受容体へフィルムとしてうまく転写し、側面計により測定したところ、幅約９０μｍ、高さ３．３μｍの線となった。光学顕微鏡による倍率１０００倍での目視検査によると、９５％を超える面積が蛍光体粒子により覆われていた。転写されたスポットは、手提げUV源で励起され、暗室での裸眼による検査で燐光が観察された。

Claims (27)

  1. ａ）前側と後側とを備えた基材を含む熱物質供与体要素に、前記基材の前記前側に接着された発光材料のコーティングを提供する工程と、
    ｂ）発光材料の前記コーティングを受容体層に近接配置する工程と、
    ｃ）前記要素に十分な強度の放射線を与えて、発光材料の前記コーティングの少なくとも一部を加熱し、前記発光材料の少なくとも一部を前記受容体層に局所的に転写する工程と、
    ｄ）転写された発光材料の少なくとも１平方センチメートルの面積を有する均一なコーティングを前記受容体層上に与えるのに十分な回数工程（ｃ）を繰り返す工程と
    を含む発光スクリーンを形成する方法。
  2. 前記放射線がコヒーレント放射線である請求項１記載の方法。
  3. 前記発光材料が蛍光体を含む請求項２記載の方法。
  4. 転写された発光材料の前記コーティングがバインダーと蛍光体の連続コーティングを含む請求項２記載の方法。
  5. 前記受容体層がガラスを含む請求項４記載の方法。
  6. 前記受容体層が曲面ガラスを含み、前記連続コーティング中の各蛍光体が前記コーティング中に均一に分布されている請求項３記載の方法。
  7. 前記受容体層が曲面ガラスを含む請求項４記載の方法。
  8. 工程ｄ）が、第１の蛍光体を有する供与体要素で第１の工程ｃ）を実行し、次に第２の蛍光体を有する供与体要素で第２の工程ｃ）を実行することにより行われるものであって、前記第１および第２の蛍光体は異なる蛍光体であり、前記第１の蛍光体は刺激されると、前記第２の蛍光体を刺激したときに前記第２の蛍光体により放出される光の波長とは異なる波長の可視放射線を放出する請求項４記載の方法。
  9. 前記堆積が、ガラススクリーンの凹表面になされる請求項８記載の方法。
  10. 前記熱供与体要素上の前記蛍光体が、蛍光体、帯電防止剤および有機ポリマーバインダーを含む層中にある請求項４記載の方法。
  11. 前記熱供与体要素上の前記蛍光体が、蛍光体および有機ポリマーバインダーを含む層中にある請求項６記載の方法。
  12. 前記熱供与体要素上の前記蛍光体が、蛍光体および有機ポリマーバインダーを含む層中にある請求項７記載の方法。
  13. 前記熱供与体要素上の前記蛍光体が、蛍光体、帯電防止剤および有機ポリマーバインダーを含む層中にある請求項７記載の方法。
  14. 前記熱供与体要素が、前記基材、発光材料の前記コーティングおよび別個の光から熱への変換層を含む請求項１記載の方法。
  15. 前記光から熱への変換層が、前記コーティングと前記基材との間、または前記基材の裏側のいずれかにある請求項１４記載の方法。
  16. 前記光から熱への変換層が、工程（ｃ）の最中、前記受容体に転写されない請求項１４記載の方法。
  17. 前記コヒーレント放射線が、７２０ｎｍから１１００ｎｍの間の近赤外または赤外領域の電磁スペクトルの波長を有する請求項２記載の方法。
  18. 前記受容体層が曲面ガラスを含み、前記連続コーティング内の各蛍光体が前記コーティング内に均一に分布されている請求項８記載の方法。
  19. 蛍光体は転写され、前記転写された蛍光体の寸法は、線幅が１５０マイクロメートル未満で、高さが０．５〜１０マイクロメートルであり、前記蛍光体は粒子形態にあり、その粒子の少なくとも５０個数％が少なくとも４マイクロメートルの直径を有する請求項２記載の方法。
  20. 蛍光体は転写され、前記転写された蛍光体の寸法は、線幅が１５０マイクロメートル未満で、高さが０．５〜１０マイクロメートルであり、前記蛍光体は粒子形態にあり、その粒子の少なくとも５０個数％が少なくとも４マイクロメートルの直径を有する請求項１４記載の方法。
  21. 蛍光体は転写され、前記転写された蛍光体の寸法は、線幅が１５０マイクロメートル未満で、高さが０．５〜１０マイクロメートルであり、前記蛍光体は粒子形態にあり、その粒子の少なくとも５０個数％が少なくとも４マイクロメートルの直径を有する請求項４記載の方法。
  22. 前記受容体要素が、電界放出デバイス、プラズマディスプレイパネル、発光ダイオード、エレクトロルミネッセント要素および真空蛍光ディスプレイからなる群より選択される発光アレイである請求項２記載の方法。
  23. 接着剤が前記発光材料の上部にあり、前記発光材料の局所転写により、前記接着剤材料が前記発光材料と前記受容体との間になるように前記接着剤材料に局所転写も引き起こす請求項３記載の方法。
  24. 光から熱への変換層が前記基材と発光材料の前記コーティングとの間にあり、中間層が前記光から熱への変換層と発光材料の前記コーティングの間に配置されていて、前記発光材料の転写が前記光から熱への変換層の転写を引き起こさない請求項２記載の方法。
  25. 前記発光材料が無機材料である請求項２記載の方法。
  26. 前記発光材料が有機材料である請求項２記載の方法。
  27. 顔料層が前記発光材料の上部にあり、前記発光材料の局所転写により、前記顔料が前記発光材料と前記受容体との間になるように前記顔料に局所転写も引き起こす請求項３記載の方法。
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