JPH02209487A - 成膜方法並びに蛍光体形成方法と蛍光体製品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は無機質の膜を作成する成膜方法等に関係する。

従来の技術 基板上に無機質の膜を作成する方法は多く知られ、かつ
、実用化されている。例えば、蒸着、スパッタ、ＣＶＤ
等は一般的である。その外、半導体分野では薄膜の作成
に幾つかの方法がある。大面積に高速に作成するのは前
者の三つがよく使われる。

また、スクリーン印刷で無機質の顔料を含有するインキ
を基板上に塗布し、有機物が分解焼失する温度で焼成し
、無機質の膜を得る方法もある。

厚膜と呼ばれている。あるいは、同様の方法で金属原子
を結合している有機物を分解温度で焼成し、金属膜を作
成する方法もある。この方法で得られる膜は前述した蒸
着等と同じような薄い膜が得られる。

薄膜と厚膜の違いは前者が緻密であり、膜厚が薄く、厚
膜は膜厚が厚く、組織が粗であり空隙等が存在する。

パターンを形成するには直接パターン状に膜成分を堆積
させる方法もあるが、一般には、一様な膜を形成したの
ちに、フォトリソ技術により微細パターンを形成する。

発明が解決しようとする課題 上記のような成膜方法にはそれぞれ欠点がある。

真空を必要とするものは、装置が大掛かりとなり、製造
コストが多くかかるし、印刷を利用するものはコストは
安いが、薄膜の場合は膜の材料に制限があり、厚膜の場
合は緻密な膜が出来ない、あるいは微細パターンが難し
い等の欠点があった。

本発明はこのような問題を解決した、新規な成膜方法を
提供するものである。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明においては、転写シー
ト上に設けた膜を接着剤にて基板上に転写し、有機物が
分解焼失する温度で焼成し、基板上に無機質の膜を形成
するようにしている。

作用 本発明を用いれば、専門メーカによる大量連続生産が可
能な転写シートを用いるから、極く簡単に基板上に均質
な無機質の膜を作成することができ、そのために最終製
品の信頼性や歩留まりをあげ、また、製造コストを大き
く下げることができる。

陰極線管用あるいはプラズマデイスプレィ用の蛍光体形
成にこの成膜方法を用いると、多くの工程を省略するこ
とができると共に、真空蒸着を必要とせず、設備を省略
でき製造コストを安くできる。

実施例 以下、本発明の成膜方法等の一実施例について図面を参
照しながら説明する。第１図は本発明の成膜方法の説明
図である。第１図において１０１はセラミックガラス金
属等有機物を分解焼失させる際の温度に耐える基板であ
る。転写シート１０３は支持体１０４とその上に積層し
た離型層１０５と最終膜材料となる材料を含有する転写
層（膜）からなる。支持体の材料は広い範囲から選択で
きる。−船釣にはプラスチックが安くて取り扱いやすい
。

そのなかでもポリエチレンテレフタレート安価で丈夫で
ある。

しかし、このものでは後述するように、転写層をパター
ン状に形成しておき転写するようなものでは寸法制度が
保てない。このような場合は金属等がよい。支持体１０
４の機械的な性質として、転写層を転写する観点から可
撓性が好ましい。離型層１０５も多くの材料が存在する
。離型性が高いものでは、シリコン系やフンソ系の塗膜
がある。あるいは、ワックス系の材料も良い。その外に
も多くの離型性を示す樹脂類がある。離型性の程度は基
板上に付けた接着剤と転写層との接着力との関係で決め
る。支持体がポリエチレンテレフタレートの場合は転写
層との付着力は余り大きくないことが多（、離型層を積
極的に設けないでも転写可能な場合がある。

転写層１０６は基板上で最終膜になる無機質の材料を含
有する膜である。この層は分解焼失可能な例えばアクリ
ル系樹脂からなる有機バインダのなかに無機質の顔料を
分散させたインクを塗布あるいは印刷したもの、あるい
は、蒸着膜、あるいは、スパッタ膜である。もちろん−
層であってもよいし多層であっても良い。蒸着層を設け
たものでこのような構成の転写シートはホットスタンプ
用として市販されているものもある。接着層１０２は分
解焼失する有機物であり、例えばアクリル系の樹脂類等
はよく知られている。他の樹脂類でも６００°Ｃ以上の
高温で焼成する場合はほとんどの有機物は焼失するため
に使用可能である。常温で粘着質のものでも良いし、熱
可塑性で熱転写するようにしても良い。この接着層は必
ずしも基板１０１の上に設ける必要はない。転写シート
の転写層の上に設けても良い。

この方が簡単である。

本発明の成膜方法を用いてパターン形成を行うにあたっ
て、いくつかの有効な方法がある。例えば、転写層を全
面転写するのでなく、部分的に転写してパターンを形成
してしまい、その後焼成する事ができる。あるいは、全
面転写して、焼成後、従来のフォトリソ技術でパターン
を形成することもできる。

あるいは、全面転写した後に、レーザ等で部分的に有機
物を分解焼失させ、のこりの部分の有機物及び膜材料を
拭き取るか溶剤などで洗い流し、パターンを形成するこ
ともできる。

このように本発明はパターン形成工程をも成膜工程中に
折り込むことを可能にしたもので製品製造上その効果は
大きい。

実施例１ ラッピングテープ（＃　３０００　）でアルミ蒸着膜に
細かい擦り傷を設けた転写シート〔厚さ２５μのポリエ
チレンテレフタレートのシート（ＰＥＴ）上に離型剤と
１０００人のアルミ蒸着膜を設けたもの（株式会社　麗
光製）〕を用意した。この転写シートを接着層としてア
クリル系粘着剤（イソブチル−メタアクリレートとグリ
シジル−メタアクリレートの共重合体　ＴＧニー２°Ｃ
のトルエン３０％溶液）を塗布したガラス基板上に押圧
し、ＰＥＴシートを剥離して１０００人のアルミ蒸着膜
を転写した。このものを昇温速度１０”Ｃ／分、４５０
°Ｃで１時間保持の熱処理（焼成）を施した結果、ガラ
ス基板上に強固に付着した鏡面のアルミ膜を得た。

アルミ蒸着膜に擦り傷を施さない転写シートを用いた場
合は、４５０℃の焼成後、アルミ膜がガラス基板から剥
離した状態の物が出来た。これは接着剤が分解気化する
際にガスの逃げ場がなくこの結果になると考えられる。

しかし、数ｍｍ角というような小さいものはアルミ膜が
剥離する事なく得られる。

擦り傷を設けたものは良好な膜ができたが、傷のため所
々導電性を示さない部分が生じた。この問題は擦り傷で
はなく、微細な孔とすることにより解決できる。あるい
は、次の実施例のように多層にすることによっても解決
できる。

実施例２ 実施例１において焼成後、もう−度量し転写シートを用
いて２層目のアルミ蒸着膜を転写し、やはり、同じ熱処
理を行った。その結果は、接着力、鏡面性、導電性など
良好であった。

実施例３ 実施例１において焼成を行わず、連続２０ワツトのＹＡ
（１，レーザを１ｍ／秒の速さで照射し、トルエンを湿
した綿布で拭き取ったところ、レーザ照射したところの
みアルミ蒸着膜が残った。この膜は強固に付着していた
。

実施例４ 実施例１と同様な工程で、ただ、転写層として３０００
人の銅の蒸着膜を用いた。その結果、良好な銅の膜をえ
た。

実施例５ 厚さ１００μのＰＥＴ上に離型層を設けたシート（東洋
レーヨン類　セラピール）上に銅ペースト（デュポン製
　銅ペースｌ−９１５３）にて回路パターンをスクリー
ン印刷し、転写シートを得た。この転写シートを用い、
アクリル粘着剤を塗布したアルミナのセラミック基板上
に回路パターンを転写形成した。このものを還元雰囲気
中で４５°Ｃ／分で昇温、９００°Ｃで１０分保持、３
０°Ｃ／分の降温の熱処理を施し、印刷配線板を得るこ
とが出来た。

実施例６ ガラス基板上に形成した蛍光体層〔陰極線管の製法にお
いてよく知られている方法（蛍光体スラリーを用いるフ
ロー法と呼ばれる方法）で作成したもので、蛍光体粒子
とポリビニルアルコールのバインダからなる〕の上に、
アクリル粘着剤を塗布し、実施例１で用いた転写シート
を押圧剥離して、アルミ蒸着膜を形成した。このものに
実施例１と同様の熱処理を施した結果、アルミ蒸着膜の
ふくれ（ブリスタリング）もなく、発光特性の良い陰極
線管用の蛍光体層を形成できた。

実施例７ 実施例１で用いた転写シート上に蛍光体を含有するペー
スト〔蛍光体（ＺｎＳ：Ａｇ）２５０重量部　イソブチ
ルメタアクリレート　２５重量部　ブチルカルピトール
アセテート　７５重１部）　をストライプパターン状に
スクリーン印刷し、乾燥させて新たな転写シートを得た
。これをアクリル粘着剤を塗布したガラス基板上に押圧
転写したところ、アルミ蒸着膜がパターン状に抜け、蛍
光体ストライプ上にのみ付着した。このものに実施例１
と同じ熱処理（焼成）を行ったところ発光特性の良い蛍
光体層をうることかできた。

実施例７において、発光色の異る蛍光体ペーストを３回
印刷することにより、カラー蛍光体製品を得ることがで
きる。このものは陰極線管やプラズマデイスプレィ用の
アノードとして供し得る。

発明の効果 以上の発明から明らかなように、本発明は、転写シート
上に設けた膜を接着材にて基板上に転写し、有機物が分
解焼失する温度で焼成し、基板上に無機質の膜を形成す
るようにしており、そのために、蒸着等大きな設備を必
要とする成膜工程を専門メーカに任せ、主に転写工程と
焼成工程だけで緻密な均質な膜を製造することができる
。また、パターン形成工程もその工程中に効果的に組み
込むことが出来る等、製造コストに及ぼす効果は大きい
。

陰極線管やプラズマデイスプレィ等の蛍光体製品に応用
すれば、大きな製造設備を必要とすることなく、安価な
製品を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の成膜方法の説明図である。 １０１・・・・・・基板、１０２・・・・・・接着剤、
１０３・・・・・・転写シート、１０４・・・・・・支
持体、１０５・・・・・・離型層、１０６・・・・・・
転写層。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）転写シート上に設けた膜を接着材にて基板上に転
   写し、有機物が分解焼失する温度で焼成し、基板上に無
   機質の膜を形成することを特徴とする成膜方法。
2. （２）転写シート上の膜がパターン状に形成されている
   ことを特徴とする請求項（１）記載の成膜方法。
3. （３）転写シート上の膜をパターン状に転写することを
   特徴とする請求項（１）記載の成膜方法。
4. （４）転写シート上に設けた一様な膜を接着材にて基板
   上に転写し、有機物が分解焼失する温度で焼成し、基板
   上に一様な無機質の膜を形成し、この膜をパターン状に
   加工することを特徴とする成膜方法。
5. （５）転写シート上に設けた一様な膜を接着材にて基板
   上に転写し、この膜を部分的に有機物が分解焼失する温
   度まで昇温し、基板上にパターン状の無機質の膜を形成
   することを特徴とする成膜方法。
6. （６）ガラス基板上に形成した有機バインダと蛍光体か
   らなる蛍光体膜上に接着材を塗布し、転写シート上に設
   けた微細孔のあるアルミ蒸着膜を転写し、その後有機バ
   インダ並びに接着剤が分解焼失する温度で焼成すること
   を特徴とする蛍光体形成方法。
7. （７）発光色の異なるパターン状に形成した蛍光体の上
   にのみアルミ蒸着膜を施したことを特徴とする蛍光体製
   品。