JPH03222236A - 金属膜転写シート、アノード、およびアノード製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、　陰極線管のメタルバック層の形成従来の技
術 従来のカラーテレビのアノードの製造工程は蛍光面を構
成するガラス基板に適当な表面処理を施したのちＰＶＡ
−重クロム酸アンモニュウム感光液で、パターン露光　
現像し　グラファイト等の黒色物質を流転し　リフトオ
フしてブラックマトリックス層を形成していた 蛍光体パターン１ｔＰＶＡ−重クロム酸アンモニュウム
感光液中に蛍光体顔料を分散したスラリーを塗志　乾ａ
　　ｉｉ九　現像　乾燥という工程を３回繰り返しＲ，
Ｇ、　　Ｂの各層を形成するという複雑なプロセスを用
いていた さらに蛍光体層を形成した抵　その上にニトロセルロー
ス等を含有する有機高分子膜を形＃７．Ｌ。

真空蒸着法やスパッタリング法等により所謂メタルバッ
ク層と呼ばれる金属膜を形威していｔも　　そし、その
後、その後において内在する有機物を焼成分解して蛍光
面を形威していた あるいζ上　特開昭６２−１８５８３３号公報におい、
その後、剥離性を有するベースフィルム上にメタルバッ
ク層を有した転写材を用ｔ、Ｘ、陰極線管のフェースプ
レート上に転写してメタルバック層を形成する方法が提
案されｔう 発明が解決しようとする課題 上記した従来例の前者については　製造工程が非常に長
くかつ複雑であり、大型の真空蒸着装置やスパッタリン
グ装置が必要となりコストアップの原因となっていた 加え、その後、内在する有機物の焼成分解がうまくいか
ないとメタルバック層の一部もしくは　全体に膨れが生
じるという不良が発生することがあっｔうまた　後者の
従来例についてＬ　メタルバック層を転写して焼成する
とメタルバック層全域に膨れ　あるいはその膨れの破裂
という不良が発生しｔも これらのメタルバック層に関する不良は、　蛍光体の反
射効率を低下させ、カラー受像管に於て致命的な欠陥と
なって現れ　歩留まり低下の大きな原因であっ九 な耘　上記したメタルバック層の膨れ　膨れの破裂は　
焼成時にメタルバック層下面から発生する有機物のガス
圧が原因である。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するための手段は、　以下の通りである
。

基板シート上に　表面が適度に粗でかつメタルバック層
としての金属膜に対して離型性のよい樹脂材料で樹脂層
を形威し　この樹脂層上に　転写すべき金属膜を形成し
　金属膜転写シートを構成すも　そし、その後、この転
写シート上の金属膜を蛍光層上に転写するようになすこ
とであもあるいは　上記の金属膜転写シート上の金属膜
の上に更に蛍光層等を形威し　これら金属膜　蛍光層等
を一括してフェースプレートに転写するようになすこと
であも 作用 上記手段の作用は次の様になん 樹脂層の表面は上記の通り適度に風　すなわち表面に適
度な凹凸を有していも　その表面上に蒸着等により金属
膜を形成すると頂部（凸部）に比ベ、その後、谷部（凹
部）では金属膜の膜圧がかなり薄く形成される。すなわ
板　金属膜には　厚さの薄い薄肉部が点状に多数形成さ
れもそしてこの金属膜転写シートの金属膜を、接着層を
介してフェースプレート等のガラス基板上の蛍光層に押
圧したのち基板シートをはぐ様に取ると、離型性が良好
な樹脂層と金属膜との間で剥離が生し　金属膜がガラス
基板側に転写されるのである。

この転写された金属膜１よ　上記の様に点在する多数の
薄肉部を有する。この薄肉部は、　焼成工程における有
機物の焼成分解により発生する熱分解ガスのガス圧で、
ピンホール状に簡単に破れてガスを逃がす。その結果　
メタルバック層の膨れあるいは膨れの破裂が完全に防止
される。

しかＬ　この薄肉部の破裂跡は　ピンホール状であり、
メタルバック層としての機能は全く損なわれることがな
Ｌｌ その結果　従来では　大型設備を用１．Ｘ、長時間かか
って陰極線管のメタルバック層を形成していたの力交　
短時間にしかも焼成時の膨れ等の不良が無いメタルバッ
ク層が簡単に確実に得られる。

更に　上記した金属膜転写シートの金属膜上に更に蛍光
体パターン等を形成した後、これらをガラス基板上に一
括転写してアノードを形成することにより、更に大幅な
工数の短縮が図れるのである。

以下、本発明を図面を参照しながら説明すも（第１実施
例） 本実施例につい、その後、先ず概要を、その後に詳細を
説明する。

第１図（ａ）ｊｔ　　本発明の金属膜転写シート４を断
面で示したものであも 第１図（ａ）に於て３は機械的強度　耐溶剤性の優れた
基板シートであり、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド等の各種樹脂フィルムが用いられる
。　２は、　基板シート１上に密着して形成された樹脂
層であも　１ζよ　樹脂層２上に蒸着により形成された
金属膜であも第１図（ｂ）ｉ＆　　同図（ａ）に示す転
写シート４を、接着層７を介してブラックマトリックス
層５、蛍光層６を有するガラス基板８に押圧した後、基
板シート３を剥すようにして転写シート４上の金属膜１
を蛍光層６上に転写している状態を示している。樹脂層
２１よ　詳細は後述するが金属膜１に対して離型性に優
れたシリコーン、非気　アクリル、ワックス等をバイン
ダーとして形成されているので、金属膜ｌは、　接着層
７の接着力により樹脂層２より剥離して蛍光層６上に転
写される。

かくし、その後、蛍光層６上には、　目的とするメタル
バック層が金属膜１により構成されるのである。

以下に　本実施例を更に詳細に説明する。

基板シート３の厚さは通常３〜１００μｍ程度であれば
よい力＜、　５〜５０μｍの範囲が好適であり、本実施
例では２５μｍである。

樹脂層２は、　母材のアクリル樹脂に対し、その後、平
均粒径５μｍのシリカ粉末を２０ｗｔ％添加しホモミキ
サーにて３０分間混練して得た塗料を、ワイヤーバーに
て３μｍの厚さに塗布したものである。

シリカ粉末の平均粒径よりも薄い樹脂層２の表面に（上
　表面がアクリル樹脂で被覆された多数のシリカ粉末が
確実に突出することとなっ、その後、適度の凹凸が形成
された粗面となも　そし、その後、その表面平滑度１よ
　ベック平滑度で１５０秒であった次に　樹脂層２上に
真空蒸着によりアルミの金属膜を形成した　金属膜の厚
さは　第１図（ａ）に示される様に樹脂層２の表面の凹
凸の頂部（凸部）で最も厚く、谷部（凹部）で最も薄く
形成されも　本実施例では、　頂部での膜厚を約１００
０オングストロームとした　この隊　谷部での厚みは約
２００〜３００オングストロームであっｔもこの様に　
金属膜１の厚さは樹脂層２の表面粗さの影響を受仇　凹
部位置に薄肉部が多数形成されも その後、蛍光層６上に酢酸ビニル系の粘着性接着剤７を
塗布し　第１図（ｂ）に示す様にし、その後、樹脂層２
上に形成されたアルミ膜１を圧着転写し、その後、ガラ
ス基板８上にメタルバック層１を有するアノードを形成
しｔら 本実施例との比較のた吹　シリカ粉末を含有せず、従っ
て表面が滑らかな樹脂層上に形成されたアルミ蒸着膜を
転写したアノード（以降　このアノードを比較例と呼ぶ
）を、同様にしてガラス基板上に形成した その後の焼成工程におい、その後、約１５０℃の昇温に
より、本実施例のアノードの金属膜に１ヨ５〜ｌＯμｍ
の微細孔が形成されていることが顕微鏡観察によって確
認されｆ、、、　　−４，比較例のアノードの金属膜に
は、　この様な微細孔は形成されておらずミ　多数の小
さな膨れの発生が認められたさらに温度を上げ、その後
、　４５０℃で１時間の焼成を行なったのちでζよ　本
実施例の場合には接着層７等に含まれる有機物は完全に
分解されるとともに　アルミ膜ＣＬ　　膨れが全く発生
しておらず、金属光沢を有する表面状態を保っ、その後
、良好なアノードが得られたのに対し　比較例アノード
では　アルミ膜全面に亘って大きな膨れが発生しており
、中には膨れが破裂に至ったものも認められる状態であ
った この様に　本実施例では　金属膜に多数点在する上記薄
肉部力ｔ　焼成工程において金属膜下面の有機物（例え
ば接着剤）から発生するガス圧により破れてピンホール
状の多数の微細孔を形ｔＬ。

これがガス抜き穴として機能して金属膜層の膨れを完全
に防止しているのである。

それに対し、その後、比較例の場合には　金属膜にζよ
この様な微細孔が形成されないために膨れや膨れの破裂
といった損傷を受けるのである。

本実施例で得られたアノードの金属膜については　メタ
ルバック層として十分な特性を有するものであり、そし
、その後、アノードについてＬ　輝度、色度などの光学
特性を十分に満足することが確認された 本実施例で【よ　従来の技術すなわち周知の技術でガラ
ス基板上に蛍光面を形成した後、蛍光体層の表面平滑化
のため有機膜を形成し　　ガラス基板ごと蒸着装置内に
導入してアルミ蒸着を行っていた従来の工程に比べ　大
幅な工数の短縮及びコストの低減が可能となる。

な耘　本実施例の粗面化材としてば　シリカ以外にも各
種の顔料を用いることも勿論可能である。

また　本実施例の樹脂層の表面粗度は、　顔料の粒径お
よびその含有率で決まる。顔料の粒径は５０μｍ以下、
わけても３０μｍ以下が好ましく、かかる場合に（′！
、樹脂層の表面粗さとしてベック平滑度で４００秒程度
量下、焼成後の金属膜に５〜３０μｍ程度の良好な微細
孔を得ることができる。

また　金属膜をニッケルとしても良好なメタルバック層
が得られることが確認されｔもな耘　樹脂層２の上に薄
く離型剤を塗布し　その上に金属層を形成し、その後、
金属膜の転写時において金属膜と樹脂層との剥離性を更
に高めるようになすことも可能である。

（第２実施例） 第２実施例を、第２図を用いて説明すも第２実施例は、
　第２図（ａ）の様に　上記第１実施例で示した槽底の
金属転写膜シート４の上に更に蛍光体層６、ブラックマ
トリックス層５、接着層９を形成してアノード形成シー
ト１０となしこれを第２図（ｂ）のごとく接着層９をガ
ラス基板８に対向圧着させた後基板シート３を剥ぐよう
に取ると、アノード形成シートは樹脂層２と金属膜１と
の間で剥離し、その後、ガラス基板８上にアノードが形
成されるのである。

以下、第２実施例につき詳細に説明を行なう。

厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムの基板シート３上に　顔
料として炭酸マグネシウムを１５ｗｔ％含有したシリコ
ン膜を２．５μｍの厚さで塗布し樹脂層２を形成し亀　
樹脂層２の平滑度ば　ベック平滑度で１５０秒であつ？
＝　　この樹脂層２上にアルミニュームを最も厚い部分
で１０００オングストロームの厚さで蒸着して金属膜１
を形成しｔも第１実施例と同様に　この膜厚の最も厚い
部分は、　樹脂層２の表面の凹凸の頂部（凸部）に形成
され　薄肉部は谷部（凹部）に形成されもさらに　第１
表の組成物をセラミック３本ロールに、その後、　３回
通して練肉し緑色蛍光体インクを作成しｔも 第１表 同様にし、その後、赤色蛍光体イン久　青色蛍光体イン
クを作成した ガラス板上に　前記樹脂層上にアルミ蒸着を施した金属
膜転写シート４を固定し　グラビアオフセット方式によ
り、金属膜転写シート４上に　緑色蛍光体パターンを印
刷した　順次赤色蛍光体青色蛍光体を所定の位置に印刷
ＬＲ，Ｇ、Ｂ３色の蛍光体パターンを得た　印刷された
パターンは　ストライプの均一性、精度　光学特性共に
満足するものであった さらにブラックマトリックス層を第２表の組成で作ｔＬ
　　蛍光体パターンと同様のグラビアオフセット方式に
より金属膜転写シート４上に連続して印刷した 第２表 上記の様にして金属膜転写シー ト ４上に蛍光体 層及びブラックマトリックス層を印刷して得られたアノ
ード形成シートの最上面に　アクリル粘着剤（イソデシ
ルメタアクリレート）を３ミクロンの厚さで一様に塗布
する。このアノード形成シート１０を、フェースプレー
トとなるガラス基板に接着層９を対向させて圧着し　ア
ノード形成シートの基板シート３を剥離してガラス基板
８上にブラックマトリックス層５及び蛍光体層６、メタ
ルバック層ｌを形成した　そし、その後、昇温条件１０
℃／分、　４５０ｔｌ：１時間保持の条件で焼成しｆ。

その結果　良好なブラックマトリックス層６と蛍光体層
８及び微細孔が形成されたメタルバック層としての金属
膜１が得られ　良好なアノードが形成された このアノードは、　カラー陰極線管アノードとして充分
に特性を満足するものであった な耘　本実施例におい、その後、アクリル粘着剤（イソ
デシルメタアクリレート）はフェースプレートとなるガ
ラス基板上に塗布しておいてもよいことは勿論である。

発明の効果 以上の説明から明らかなように本発明は　樹脂層上に金
属膜を形成した　金属膜転写シートを陰極線管フェース
プレート上の蛍光体層に転写して樹脂層を剥離機　焼成
して陰極線管のアノードを形成することを特徴としてお
り、それにより大型の設備が不要となりまた大幅な工数
の短縮も可能となも　さらに　樹脂層上に金属膜を形成
した金属膜転写シート上に　蛍光体層及びブラックマト
リックス層を形成し陰極線管フェースプレート上に一括
転写し　樹脂層を剥離機　焼成することにより更に簡単
にカラー陰極線管のアノード面が形成されも　陰極線管
やプラズマデイスプレィ等の蛍光体製品に応用すると、
大きな製造設備を必要とする事なく高品質で安価な製品
が得られも

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）ｉｉ　　本発明の金属膜転写シートの断面
＠　第１図（ｂ）は第１図（ａ）の金属膜転写シートを
用いたアノードの形成工程は　第２図（ａ）ｉｔ　　ア
ノード形成シートの断面＠　第２図（ｂ）！友　　第２
図（ａ）のアノード形成シートを用いたアノードの形成
工程図である。 ｌ・・・基板シート、　２・・・樹脂＃　３・・金属［
５・・・ブラックマトリックス＃　６・蛍光休息　７、
９・　・接着凰　８・・ガラス基＆　　１０・・・アノ
ード転写シート。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）シートと、前記シート上に形成された、表面が粗
   な樹脂層と、前記粗な樹脂層表面に形成された金属膜と
   を具備した金属膜転写シート。 （２）樹脂層は顔料を含有しており、前記顔料が樹脂層
   表面から突出して粗面を形成することを特徴とする請求
   項１記載の金属膜転写シート。 （３）顔料は、平均粒径が５０μｍ以下であることを特
   徴とする請求項２記載の金属膜転写シート。 （４）樹脂層の厚さは、顔料の平均粒径よりも小さいこ
   とを特徴とする請求項２または３記載の金属膜転写シー
   ト。 （５）樹脂層のベック平滑度は、４００秒以下である請
   求項４記載の金属膜転写シート。（６）金属膜には、樹
   脂層の表面の凹凸の谷部において、頂部での膜厚よりも
   薄い薄肉部が形成されていることを特徴とする請求項１
   〜５の何れかに記載の金属膜転写シート。 （７）樹脂層と金属膜との間に離型剤が介在することを
   特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の金属膜転写シ
   ート。 （８）蛍光層とメタルバック層を具備したアノードであ
   って、前記メタルバック層には複数の微細孔が形成され
   たことを特徴とするアノード。 （９）微細孔の平均径は５０μｍ以下であることを特徴
   とする請求項８記載のアノード。（１０）蛍光層、メタ
   ルバック層を有し、焼成工程を経て製造されるアノード
   の製造方法であって、前記焼成工程において、メタルバ
   ック層に微細孔が形成されることを特徴とするアノード
   の製造方法。 （１１）請求項１〜７の何れかに記載の金属膜転写シー
   トを用い、前記金属膜転写シート上の金属膜を、ガラス
   基板上の蛍光体層に接着層を介して押圧し、その後、金
   属膜転写シートを、樹脂層と金属膜との間で剥離して前
   記金属膜を蛍光体層上に転写し、前記ガラス基板上の前
   記蛍光層上に前記転写金属膜によって構成されるメタル
   バック層を具備せしめてアノードを形成することを特徴
   とするアノード方法。 （１２）請求項１〜７の何れかに記載の金属膜転写シー
   トを用い、前記金属膜シート上の金属膜上に、更に蛍光
   体層、ブラックマトリックス層を形成してアノード形成
   シートとなし、前記アノード形成シートの最上面を接着
   層を介してガラス基板に押圧し、その後、前記アノード
   転写シートを、樹脂層と金属膜との間で剥離して、前記
   アノード形成シート上の金属膜層より上層部を前記ガラ
   ス基板に転写することにより、前記ガラス基板上にアノ
   ードを形成することを特徴とするアノード製造方法。