JPH10321144A

JPH10321144A - プラズマディスプレイパネル

Info

Publication number: JPH10321144A
Application number: JP9148428A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Tsuruoka; 美秋鶴岡; Hisao Tanabe; 尚雄田辺
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1997-05-23
Filing date: 1997-05-23
Publication date: 1998-12-04
Anticipated expiration: 2017-05-23
Also published as: JP3734337B2

Abstract

(57)【要約】【課題】放電効率を高めることにより輝度を高めること
が可能な隔壁形状を有するプラズマディスプレイパネル
を提供する。【解決手段】前面板と背面板の二枚のガラス基板が互い
に平行かつ対向して配置され、前記二枚のガラス基板は
ガラス基板上に設けられた隔壁により一定の間隔が保持
されているプラズマディスプレイパネルにおいて、一方
の基板から形成された隔壁と他方の基板の間に隙間を設
けたプラズマディスプレイパネル。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネルの技術分野に属する。特に、プラズマディスプ
レイパネルの背面板に形成された隔壁の形状に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー表示を行うプラズマディスプレイ
パネル（以降、略称として「ＰＤＰ」を併用する）では
背面板に平行線状に複数配列で形成される隔壁が形成さ
れる。隔壁と隔壁の間のアドレス電極上には蛍光面が設
けられる。各隔壁と隔壁の間の蛍光面にはＲＧＢ各色で
発光する蛍光体材料の１つが充填され、背面板はそのＲ
ＧＢ各色のストライプ状の蛍光面が３つから成る組を多
数配列した構造となる。

【０００３】図９はＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示すもの
で、前面板と背面板を離した状態で示したもので、２枚
のガラス基板１０１、１０２が互いに平行に且つ対向し
て配設されており、両者は背面板となるガラス基板１０
２上に互いに平行に設けられた隔壁１０３により一定の
間隔に保持されている。前面板となるガラス基板１０１
の背面側には、放電維持電極である透明電極１０４とバ
ス電極である金属電極１０５とで構成される複合電極が
互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層１０６が
形成されており、さらにその上に保護層（ＭｇＯ層）が
形成されている。また、背面板となるガラス基板１０２
の前面側には前記複合電極と直交するように隔壁１０３
の間に位置してアドレス電極１０８が互いに平行に形成
されており、さらに隔壁１０３の壁面とセル底面を覆う
ようにして蛍光面１０９が設けられている。また、図１
０に示すように、背面板となるガラス基板１０２に誘電
体からなる下地層１１０を形成した後、アドレス電極１
０８を設け、更にその上に誘電体層１０６’を積層した
後、隔壁１０３、蛍光面１０９を設けた構造としてい
る。この前面板と背面板の間にはネオンを主体としキセ
ノンを含む希ガスが封入される。

【０００４】このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、ア
ドレス電極により書き込みを行った後、前面板上の複合
電極に交流電圧を印加し空間に生成した電界により放電
させる構造である。この場合、交流をかけているために
電界の向きは周波数に対応して変化する。なお、ＤＣ型
ＰＤＰにあっては、電極は誘電体層で被覆されていない
構造を有する点で相違するが、その放電現象は同一であ
る。そして、この放電により生じる紫外線により蛍光面
１０９を発光させ、前面板を透過する光を観察者が視認
できるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このようなＰＤＰにお
いては蛍光面を発光させた場合の輝度を高めることが重
要な課題の一つとなっている。輝度を高めるために各種
の方法が提案されているが決定的な解決策はなく、それ
らの方法の積み重ねにより少しづつ輝度が高められてい
る。一般に放電効率を高めることは輝度を高めることに
つながる。そこで本発明の目的は、放電効率を高めるこ
とにより輝度を高めることが可能な隔壁形状を有するプ
ラズマディスプレイパネルを提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的は下記の本発
明によって達成される。すなわち、本発明は「前面板と
背面板の二枚のガラス基板が互いに平行かつ対向して配
置され、前記二枚のガラス基板はガラス基板上に設けら
れた隔壁により一定の間隔が保持されているプラズマデ
ィスプレイパネルにおいて、一方の基板から形成された
隔壁と他方の基板の間に隙間を設けたプラズマディスプ
レイパネル」である。本発明によれば、一方の基板から
形成された隔壁と他方の基板の間に隙間が設られる。こ
の隙間は放電効率を高める作用を有し、この隙間を隔壁
が有することにより輝度を高めることができる。また本
発明は「前記隙間が３〜２０μｍであるプラズマディス
プレイパネル」である。本発明によれば、隙間が３〜２
０μｍである。その隙間が３〜２０μｍのときに、動作
マージンを確保することができる。また本発明は「前記
隙間を形成するため、すくなくとも一方の基板に凸部を
形成するプラズマディスプレイパネル」である。本発明
によれば、凸部を有しその凸部によって前記隙間を形成
することができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】次に、本発明について実施の形態
により説明する。図１，図２は本発明のＰＤＰにおける
隔壁の形状の一例を示す斜視図である。図１，図２にお
いて、１ａ，１ｂ，１ｃは隔壁、２ａ，２ｂ，２ｃ，２
ｄ，４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ，４ｆ，４ｇ，４
ｈ，４ｉ，４ｊは隔壁１ａ，１ｂ，１ｃの頂上部分に設
けられた独立凸部、３は背面板である。背面板３には、
実際は多数の隔壁が形成されるのであるが、図１，図２
においては、その内から３つの隔壁だけを代表して示し
ている。また、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃの頂上部分には、
実際は多数の独立凸部が形成されるのであるが、図１に
おいては、その内から４つの独立凸部２ａ，２ｂ，２
ｃ，２ｄだけを代表して示し、図２においてはその内か
ら１０つの独立凸部４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４ｅ，４
ｆ，４ｇ，４ｈ，４ｉ，４ｊだけを代表して示してい
る。

【０００８】隔壁１ａ，１ｂ，１ｃはアドレス電極（図
示せず）と平行方向に背面板３に形成される。アドレス
電極は隔壁と隔壁の間の背面板３上の隔壁の側の面に設
けられる。図１，図２において、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃ
は隔壁が延びる方向と直角方向の断面が台形となってい
るが、断面形状は台形に限定されない。長方形でもよ
く、また、断面の各辺は直線でなくてもよい。

【０００９】独立凸部２ａ〜２ｄ，４ａ〜４ｊは、図
１，図２に示すように隔壁１ａ，１ｂ，１ｃの頂上部分
に設けられている。図１において、独立凸部２ａ〜２ｄ
は矩形板の形状を有する。前面板（図示せず）は、この
矩形板形状の独立凸部２ａ〜２ｄに密着して設けられ
る。したがって、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃの頂上部分にお
いて、独立凸部２ａ〜２ｄが設けられていない部分は隙
間を形成し、隣接するアドレス電極の放電空間と連通す
ることとなる。同様に、図２において、独立凸部４ａ〜
４ｊは円形板の形状を有する。前面板（図示せず）は、
この円形板形状の独立凸部４ａ〜４ｊに密着して設けら
れる。したがって、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃの頂上部分に
おいて、独立凸部４ａ〜４ｊが設けられていない部分は
隙間を形成し、隣接するアドレス電極の放電空間と連通
することとなる。

【００１０】原理は確定することは完全にはできていな
いが、隔壁１ａ，１ｂ，１ｃの頂上部分に設けられた独
立凸部２ａ〜２ｄ，４ａ〜４ｊは放電効率を高める作用
を有する。したがって、この独立凸部２ａ〜２ｄ，４ａ
〜４ｊを隔壁が有することにより輝度を高めることがで
きる。図３（ａ）は独立凸部の高さ、すなわち隔壁との
間の隙間（ＧＡＰ）と動作マージン（Ｖｍ）との関係を
示す図である。また、図３（ｂ）は隙間（ＧＡＰ）と輝
度（Ｂ）の関係を示す図である。図３（ｂ）において、
輝度（Ｂ）はＧＡＰが０（隙間なし）の時の輝度を１と
する相対値で示してある。

【００１１】図３（ａ）に示すように、隔壁と前面板と
の間の隙間（ＧＡＰ）が増大するに伴い、動作マージン
は減少するが、隙間（ＧＡＰ）が２０μｍ以下の領域に
おいて、動作マージンが確保されている。一方、図３
（ｂ）に示すように、輝度は隙間（ＧＡＰ）が３μｍ程
度までは輝度の向上は少ない。そこで、本発明において
は、独立凸部の高さを３〜２０μｍとすることにより、
動作マージンを確保するとともに、輝度、効率の向上が
可能となる。

【００１２】次に、本発明における独立凸部を有する隔
壁の形成方法について説明する。図４は表面に凹状パタ
ーンを形成したベースフィルムの断面図であり、図５は
隔壁を形成するための転写シートの断面図であり、ま
た、図６〜図７は、図５に示す転写シートを使用したパ
ターン形成方法を説明するための図である。このパター
ン形成方法は、ＰＤＰにおける隔壁だけでなく下地層、
電極、誘電体層その他のパターンを形成するために適用
することができるが、ここでは隔壁を形成する方法つい
て説明する。図４〜図７において、１１はベースフィル
ム、１２は凹状パターン部、１３はインキ層、１４は被
転写体である。ベースフィルム１１は、インキ層におけ
る溶剤に侵されず、また、工程中における加熱処理によ
り収縮延伸しないことが必要であり、ポリエチレンテレ
フタレート等のプラスチックフィルム、シート、アルミ
ニウム、銅等の金属箔が使用される。膜厚はたとえば１
００μｍ〜３００μｍのものが適当である。

【００１３】凹状パターン部は、上記の転写シートを使
用して形成される隔壁パターンに対応した形状を有する
ものである。すなわち、前述した図１〜図２に示す隔壁
の凸形状と填め合う形状である凹形状を有する。このよ
うな凹部は、ベースフィルム表面をエンボス加工、エッ
チング等により形成するか、その表面に凹状パターンを
有するように成型加工して形成することができる。好ま
しくは、凹版ローラを使用してベースフィルム上に凸状
パターン（填め合う形状）を硬化性樹脂により形成して
凹状パターンを形成する。

【００１４】凹状パターン形成装置を、図８を使用して
説明する。図８において、１１はべースフィルム、１２
は凹状パターン部、３３はローラ凹版、３４は凹部、３
５は樹脂供給装置、３６は硬化性樹脂、３７は硬化装
置、３９は剥離ローラ、４０は塗工部、４４は給紙巻取
ロール、４５は給紙側送リローラ、４７はコンペンセー
ターローラ、４８は排紙巻取ロールである。凹状パター
ン形成装置は、ベースフィルム１１を供給する給紙巻取
ロール４４、給紙側送リローラ４５、コンペンセーター
ローラ４７、および排紙巻取ロール４８から構成されて
いる。上記塗工部４０は、ベースフィルム１１を押圧す
る押圧ローラ３２、凹部３４が刻設されていたローラ凹
版３３、硬化性樹脂３６（この時点では未硬化の液状で
ある）をローラ凹版３３に塗工するための樹脂供給装置
３５、ローラ凹版の凹部３４に充填された液状の硬化性
樹脂３６を硬化させて固化させる硬化装置３７、及び剥
離ローラ３９からなる。

【００１５】塗工部４０では、押圧ローラ３２によって
ベースフィルム１１が押圧されて、ベースフィルム１１
が押圧ローラ３２と剥離ローラ３９との間の位置で、樹
脂供給装置によって塗工された硬化性樹脂３６を介して
ローラ凹版３３の版面に密着される。そして、ローラ凹
版３３は電動機等で駆動される駆動装置（図示せず）に
より、ベースフィルム１１の送り速度とローラ凹版３３
の周速度が同調するように回転駆動されており、ローラ
凹版３３と該ローラ凹版３３に密着されたベースフィル
ム１１との間でローラ凹版の凹部３４に充填された硬化
性樹脂３６がそのままの状態で硬化装置３７により硬化
させて固化することによりベースフィルム１１上に接着
させ、その後剥離ローラ３９によってベースフィルム１
１がローラ凹版３３から剥離され、ベースフィルム１１
上に凹状パターン部１２が形成される。上記押圧ローラ
３２はベースフィルム１１をローラ凹版の版面に押圧で
きればよいが、通常直径５０〜３００ｍｍ程度であり、
金属製の軸心の周囲にシリコーンゴム、天然ゴム等を被
覆したものである。

【００１６】硬化装置３７は、硬化性樹脂の種類に応じ
て適宜選択することができるが、電磁波または荷電粒子
線のうち硬化性樹脂を架橋・重合させるエネルギーを有
する放射線を照射する装置を挙げることができる。この
ような放射線として工業的に利用できるものは赤外線、
可視光、紫外線もしくは電子線等があり、その他マイク
ロ波やＸ線等の電磁波も利用できる。なお、図８におい
て３８は線源から発する放射線を効率よくローラ凹版に
照射するための反射鏡である。また、硬化装置３７は、
１基のローラ凹版に対して２基設けられており、且つこ
れらの２基の硬化装置の線源Ｓ１、Ｓ２はローラ凹版の
中心Ｏとを結んだ角Ｓ１ＯＳ２が７０〜１１０°の角度
範囲、好ましくは９０°の角度に設定されている。

【００１７】ローラ凹版３３としては、電子彫刻、エッ
チング、ミル押し、電鋳等の方法で所定の凹部３４を設
けたものを用いることができる。このローラ凹版の材質
はクロムを表面にメッキした銅、鉄等の金属、硝子、石
英等のセラミックス、アクリル、シリコン樹脂等の合成
樹脂等が用いられる。また、シート上に電離放射線硬化
性樹脂、熱硬化性樹脂等によりパターンを形成したシー
トをパターン面を外面としてローラに巻き付けたものを
用いることができる。ローラ凹版の大きさは特に限定さ
れないが通常直径１５０〜１０００ｍｍ、線幅３００〜
２０００ｍｍ程度である。ローラ凹版に形成される凹部
３４の大きさ形状はパターン部に対応して設定される。
また、ベースフィルム１１としては、放射線の硬化性樹
脂への到達を阻害しないものが用いられる。

【００１８】硬化性樹脂としては、公知の電離放射線硬
化性樹脂や、熱硬化性樹脂を用いることができる。電離
放射線硬化性樹脂としては、紫外線或いは電子線硬化性
樹脂等が使用でき、分子中に重合性不飽和結合またはエ
ポキシ基を有するプレポリマー、オリゴマー及び／また
は単量体を適宜混合した組成物を用いることができる。
プレポリマー、オリゴマーとしては、不飽和ジカルボン
酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル
類、エポキシ樹脂、ポリエステルメタクリレート、ポリ
エーテルメタクリレート、ポリオールメタクリレート等
のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、ポリ
エーテルアクリレート、ポリオールアクリレート等のア
クリレート類が挙げられる。

【００１９】単量体としては、少なくとも１つの重合可
能な炭素−炭素不飽和結合を有する化合物が挙げられ
る。例えばアリルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレング
リコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニル
アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリ
セロールアクリレート、等の１種または２種以上の混合
物が挙げられる。

【００２０】特に、紫外線硬化型の場合には、前述の組
成物に光開始剤を適宜混合する。光開始財としては、ベ
ンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４
−ピス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ピ
ス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、α−アミノアセ
トフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベ
ンゾイルー４−メチルジフェニルケトン、１ジベンジル
ケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェ
ノン、２，２−ジメトキシー２−フェニルアセトフェノ
ン、メチレンブルー等の光還元性の色素とアスコルビン
酸、トリエタノールアミン等の還元剤の組合せ等が挙げ
られる。また、これらの光開始剤の１種または２種以上
を組み合わせて使用してもよい。

【００２１】転写シートは、図４においては平板状とし
たが、シリンダー状としてもよいものであり、また、ベ
ースフィルムにおける凹部からのインキ層の転写性を向
上させるために、必要に応じて、凹部表面には剥離層が
設けられてもよく、また、ベースフィルム中、また凹部
を形成する硬化性樹脂中には剥離剤を混練してもよい。
剥離剤は、例えばポリエチレンワックス、アミドワック
ス、テフロンパウダー、シリコーンワックス、カルテバ
ワックス、アクリルワックス、パラフィンワックス等の
ワックス類、フッ素系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、電離放射線硬化型の多官能アクリレート樹
脂、ポリエステル街脂、エポキシ樹脂、アミノ変性、エ
ポキシ変性、ＯＨ変性、ＣＯＯＨ変性、触媒硬化型、光
硬化型、熱硬化型のシリコーンオイル、またはシリコー
ン樹脂が例示される。剥離層を形成する場合には膜厚１
０〜３０００μｍのものとされる。

【００２２】次に、ベースフィルム上に形成された凹部
１２には、インキ層が充填される。インキ層としては、
その用途として隔壁の場合には、少なくともガラスフリ
ットを有する無機成分と焼成により除去される樹脂成分
とからなる。ガラスフリットとしては、その軟化点が３
５０℃〜６５０℃で、熱膨張係数α₃₀₀が６０×１０^-7
／℃〜１００×１０^-7／℃のものが挙げられる。ガラス
フリットの軟化点が６５０℃を越えると焼成温度を高く
する必要があり、その積層対象によっては熱変形したり
するので好ましくなく、また、３５０℃より低いと樹脂
等が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中
に空隙等の発生が生じるので好ましくない。また、熱膨
張係数が６０×１０^-7／℃〜１００×１０^-7／℃の範囲
外であると、ガラス基板の熱膨張係数との差が大きく、
歪み等を生じるので好ましくない。

【００２３】また、無機成分として、ガラスフリットの
他に無機粉体、無機顔料をそれぞれ２種以上を混合して
使用してもよい。無機粉体としては、骨材であって、必
要に応じて添加される。無機粉体は、焼成に際しての流
延防止、級密性向上を目的とするものであり、ガラスフ
リットよリ軟化点が高いものであり、例えば酸化アルミ
ニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグネシ
ウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリ
ウム、炭酸カルシウム等の各無機粉体が利用ｉでき、平
均粒径０．１μｍ〜２０μｍのものが例示される。無機
粉体の使用割合は、ガラスフリット１００重量部に対し
て無機粉体０重量部〜３０重量部とするとよい。

【００２４】また、無機顔料としては、外光反射を低減
し、実用上のコントラストを向上させるために必要に応
じて添加されるものであり、暗色にする場合には、耐火
性の黒色顔料として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−
Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆ
ｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ
−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等
が挙げられる。また、耐火性の白色顔料としては、酸化
チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭酸カルシウム等
が挙げられる。

【００２５】次に、焼成により除去される樹脂成分は、
熱可塑性樹脂、または硬化性樹脂であり、無機成分のバ
インダーとして、また、転写性の向上を目的として含有
させるものである。熱可塑性樹脂としては例えばメチル
アクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレ
ート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレー
ト、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチル
アクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、イソブ
チルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒ
ｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレ
ート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、ヒドロキプロピルアクリレート、ヒ
ドロキプロピルメタクリレート等の１種以上からなるポ
リマーまたはコボリマー、エチルセルロース、ボリブテ
ン誘導体が好ましい。また、硬化性樹脂としては、上述
したベースフィルム表面の凹部形成の際に説明した硬化
樹脂が使用できる。

【００２６】無機成分と樹脂成分との使用割合は、無機
成分１００重量部に対して樹脂成分３重量部〜５０重量
部、好ましくは５重量部〜３０重量部の割合からなる。
樹脂成分が３重量部より少ないと、パターン形状保持性
が悪く、ＰＤＰ等の作製に支障となるという問題が発生
する。また、５０重量部より多くなると、焼成後の膜中
にカーボンが残り、品質が低下するので好ましくない。
また、必要に応じて可塑剤、増粘剤、分散剤、沈降防止
剤、消泡剤、剥離剤、レベリング剤等が添加される。

【００２７】可塑剤は、転写性、インキの流動性を向上
させることを目的として添加され、例えばジメチルフタ
レート、ジブチルフタレート等のフタル酸エステル類、
トリ−２−エチルヘキシルトリメリテート、トリ−ｎ−
アルキルトリメリテート等のトリメリット酸エステル、
ジメチルアジペート、ジブチルアジペート等の脂肪族二
塩基酸エステル類、グリコール誘導体、等が例示され
る。増粘剤は、インキにおける粘度を増大させることを
目的として必要に応じて添加されるものであり、公知の
ものを使用できるが、例えはヒドロキシエチルセルロー
ス、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
等が挙げられる。

【００２８】分散剤、沈降防止剤としては、無機成分の
分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例
えば燐酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル
系、各種界面滑性剤等が例示され、消泡剤としては、例
えばシリコーン系、アクリル系、各種界面滑性剤等が例
示され、剥離剤としては、例えばシリコーン系、フッ素
油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひ
まし油系、ワックス系、コンパウンドタイプが例示さ
れ、レベリング剤としては、例えばフッ素系、シリコー
ン系、各種界面滑性剤等が例示され、それぞれ、適宜量
添加される。

【００２９】上記のインキ材料は、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン等のアノン
類、１塩化メチレン、３−メトキシブチルアセテート、
エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレン
グリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレン
グリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコ
ールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレング
リコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコー
ルモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレング
リコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコ
ールモノアルキルエーテルアセテート類、α−若しくは
β−テルピオネール等のテルペン類に溶解、または分散
させてインキとされる。なお、このような溶剤を使用し
ないノンソルタイプのインキでもよい。

【００３０】また、転写シート表面には表面に防傷、ゴ
ミ混入防止、ブロッキング防止等を目的として、必要に
応じて保護フィルムが、貼合される。保護フィルムは例
えばポリエチレンテレフタレートフィルム、１．４−ポ
リシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリフェニレ
ンサルファイドフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ
プロピレンフィルム、ポリサルホンフィルム、アラミド
フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリビニルアル
コールフィルム、セロハン、酢酸セルロース等のセルロ
ース誘導体フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ塩化
ビニルフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィル
ム、アイオノマーフィルム等で、積層面がシリコーン処
理、アクリルメラミン処理、ワックス処理等により剥離
処理された膜厚１μｍ〜４００μｍ、好ましくは４．５
μｍ〜２００μｍのものである。

【００３１】なお、ベースフィルムの凹部内にインキを
充填し、必要により保護フィルムを貼合した後、シート
を−旦巻き取ってもよいが、保護フィルムを設けないで
そのまま基板に転写してもよい。また、必要な長さにベ
ースフィルムを裁断してからインキを充填し、転写に使
用してもよいし、また、インキを充填したものを必要な
長さに裁断してから基板への転写に使用してもよい。

【００３２】次に、転写シートを使用したパターン形成
方法について、図６〜７により説明する。インキ層１３
を充填したベースフィルム１１は、被転写体１４にラミ
ネートされた後、ベースフィルム１１の背面から押圧ロ
ーラ（図示せず）等を使用して転写するとよく、また、
インキ層における樹脂成分が熱可塑性樹脂である場合に
は熱ローラ、レーザー光、熱プレス等の方法により加熱
圧着させるとよく、また、硬化性樹脂の場合には、ラミ
ネート時に放射線照射、加熱等の硬化処理してもよく、
また、転写後、硬化させてもよい。また、ラミネート時
に熱ローラを使用してもよい。被転写体１４は、パター
ンがＰＤＰ部材における隔壁である場合には、下地層を
有するかもしくは有しないガラス基板上に電極層のみ、
もしくは電極層、誘電体層を順次積層したものである。

【００３３】また、転写シートにおける凹部パターン中
に、上記した顔料の相違したインキ層を複数層以上積層
することにより充填してもよい。例えば、隔壁形成層用
パターンとして、凹部中にまず黒色インキ層を一部設け
た後、次いで白色インキ層を積層し、黒色インキ層と白
色インキ層の２層からなる充填構造としてもよく、この
場合、基板上に転写された状態で白色リブ上に黒色リブ
が積層された複数層構成の隔壁とすることができる。こ
れにより、隔壁の観察側が黒色となり、コントラストが
向上する。また、転写シートを使用してパターン転写す
るにあたり、所望の膜厚を得るために同一パターンで充
填操作−転写操作を複数回繰り返してもよい。

【００３４】この転写シートを使用したパターン形成方
法は、特に、隔壁等の高精細なパターンを形成するのに
適するものであり、作製時間を短縮でき、歩留りを向上
させることができると共に、表面平滑性に優れ、かつ膜
厚が均一で分布精度の良好なパターンが得られる。被転
写体にインキ層がパターン状に転写された後、３５０℃
〜６５０℃の焼成温度でインキ層における有機成分を気
化、分解、揮発させることにより、溶融したガラスフリ
ットにより無機粉体が緻密に結合したものとでき、焼成
により隔壁だけでなく、電極層、下地層、誘電体層等を
形成することができる。

【００３５】なお、隔壁と補助隔壁の形成方法は、前述
の方法に限定されるものではない。たとえば、第１工程
として頂上部分に独立凸部を有しない高さのまでの隔壁
を形成し、次に第２工程として、隔壁の頂上部分に独立
凸部を形成するようにする。このような段階的な形成方
法とすれば、感光性の材料を用いたフォトリソ法、印刷
法、サンドブラスト法、基板上に型を形成して充填する
充填法、等の隔壁を形成する方法により、本発明におけ
る隔壁と補助隔壁を形成することができる。

【００３６】

【実施例】以下、実施例により説明する。（ベースフィルムの形成）紫外線硬化型インキ（日本化
薬（株）製、ＤＫＦ−９０１）を、図８に示す装置に装
填すると共に、ポリエチレンテレフタレートフィルム
（膜厚７５４ｍ）をベースフィルムとした。また、線源
は紫外線照射（６００ｍＪ／ｃｍ²）とし、図８に示す
ように、ベースフィルム上に、凹版ローラの回転速度５
ｍ／ｍｉｎで凹部を形成した。凹部の形状としては図
１，図２に示す隔壁形状と従来の隔壁形状（独立凸部な
し）とが各々得られるものであり、隔壁１ａ，１ｂに対
して線幅７０μｍ、深さ１７０μｍの凹部を、また独立
凸部２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄに対して縦横７０μｍ×７
０μｍ、深さ１０μｍの凹部を、また独立凸部４ａ〜４
ｊに対して直径２０μｍ、深さ１０μｍの凹部を形成し
た。また独立凸部なしの隔壁に対して線幅７０μｍ、深
さ１８０μｍの凹部を形成した。

【００３７】（隔壁形成用インキの組成）・ガラスフリツト（ＭＢ−００８、松浪硝子工業（株）製）・・・・６５重量部・α−アルミナＲＡ−４０（岩谷化学工業）・・・・１０重量部・ダイピロキザイドブラツク＃９５１０（大日精化工業（株）製）・・・・１０重量部・ｎ−ブチルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体（８／２）・・・・８重量部・ポリオキシエチレン化トリメチロールプロパントリアクリレート・・・・８重量部・シリコーン樹脂（信越化学工業（株）製Ｘ−２４−８３００）・・・・１重量部・光開始剤（チバガイギー社製「イルガキユア３６９」）・・・・３重量部・プロピレングリコールモノメチルエーテル・・・・１０重量部・イソプロピルアルコール・・・・１０重量部をセラミックビーズを使用したピーズミルを使用して混
合分散処理し、隔壁の形成に用いるインキを調製した。

【００３８】（転写シートの形成）このインキを上記で
得た凹部を有するベースフィルム上の凹部にインキをド
クターにより充填し、ポリエチレンフィルムをラミネー
トして、本発明の転写シートを形成した。（隔壁の形成）転写シートのポリエチレンフィルムを剥
離した後、オートカットラミネーター（旭化成（株）
製、型式ＡＣＬ−９１００）を使用し、基板プレヒート
温度８０℃、ラミローラ温度１００℃の転写条件で下地
層、電極、誘電体層を順次設けたガラス基板上にラミネ
ートした。次いで、ベースフィルムを剥離し、５７０℃
で焼成した。

【００３９】上記のようにして形成した隔壁を有する背
面板を用いてＰＤＰを構成し、その特性を測定して下記
の表１の結果を得た。

【表１】

【００４０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、放電効率
を高めることにより輝度を高めることが可能な隔壁形状
を有するプラズマディスプレイパネルが提供される。ま
た、隙間が３〜２０μｍである本発明によれば、動作マ
ージンを確保することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＰＤＰにおける隔壁の形状の一例（そ
の１）を示す斜視図である。

【図２】本発明のＰＤＰにおける隔壁の形状の一例（そ
の２）を示す斜視図である。

【図３】独立凸部の高さ、すなわち隔壁と前面板との間
の隙間（ＧＡＰ）と放電を開始する電圧（Ｖｍ）との関
係を示す図である。

【図４】凹部を形成したベースフィルムの断面を示す図
である。

【図５】転写シートの断面を示す図である。

【図６】独立凸部を有する隔壁の形成方法の説明図であ
る。

【図７】独立凸部を有する隔壁の転写された状態の説明
図である。

【図８】凹版ローラを使用したベースフィルムの作製方
法の説明図である。

【図９】ＡＣ型プラズマディスプレイパネルを説明する
ための図である。

【図１０】ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの他の例
を説明するための図である。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ，１ｃ隔壁２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ，４
ｅ，４ｆ，４ｇ，４ｈ，４ｉ，４ｊ独立凸部３背面板１１ベースフィルム１２凹状パターン部１３インキ層１４被転写体３３ローラ凹版３４凹部３５樹脂供給装置３６硬化性樹脂３７硬化装置３９剥離ローラ４０塗工部４４給紙巻取ロール４５給紙側送りローラ４７コンペンセーターローラ４８排紙巻取ロール１０１前面板１０２背面板１０３セル障壁１０４維持電極１０５バス電極１０６、１０６’ 誘電体層１０７ＭｇＯ層１０８アドレス電極１０９蛍光面１１０下地層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】前面板と背面板の二枚のガラス基板が互い
に平行かつ対向して配置され、前記二枚のガラス基板は
ガラス基板上に設けられた隔壁により一定の間隔が保持
されているプラズマディスプレイパネルにおいて、一方
の基板から形成された隔壁と他方の基板の間に隙間を設
けたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】前記隙間が３〜２０μｍであることを特徴
とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】前記隙間を形成するため、すくなくとも一
方の基板に凸部を形成することを特徴とする請求項１ま
たは２記載のプラズマディスプレイパネル。