JP2003109514A

JP2003109514A - 背面板、プラズマディスプレイパネル及びそれらの製造方法

Info

Publication number: JP2003109514A
Application number: JP2001303331A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Shioda; 聡塩田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2001-09-28
Filing date: 2001-09-28
Publication date: 2003-04-11

Abstract

(57)【要約】【課題】焼成時に障壁層の溶出成分が誘電体層に混入
しない、誘電体層と障壁層との同時焼成を可能とするプ
ラズマディスプレイパネル用背面板、プラズマディスプ
レイパネル、及びその製造方法を提供する。【解決手段】プラズマディスプレイパネル用背面板
は、誘電体層上に障壁層が形成されており、硬化状態の
誘電体層と、該誘電体層上に形成された障壁層が同時焼
成されている。前記硬化状態の誘電体層は、感光性セル
ロース樹脂組成物を含む誘電体層である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、誘電体層と障壁層
を同時に焼成したプラズマディスプレイパネル（略語：
ＰＤＰ）用背面板、プラズマディスプレイパネル、及び
それらの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ、Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そしてこれらの電極間に電圧を発生させる
ことにより、各セルを発光させて表示を行うようにして
いる。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを
選択的に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電
空間に露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われ
ている交流型（ＡＣ型）の２タイプがある。

【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの１構成例を示す。図
１においては、各層構成を見やすくするために、前面板
１０１と背面板１０２を離した状態で示している。図１
に示すように、ＡＣ型ＰＤＰは２枚のガラス基板１、２
が互いに平行に且つ対向して配置されており、前面板１
０１と背面板１０２は、背面板１０２となるガラス基板
２上に互いに平行に設けられた障壁層３を介して一定の
間隔に保持されるように接合されており、空間となった
各セルを形成している。前面板１０１となるガラス基板
１の背面板１０２側には透明電極である維持電極４と金
属電極であるバス電極５とで構成される複合電極１０３
が互いに平行に形成され、これを覆って誘電体層６が形
成されており、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が
形成されている。

【０００４】また、背面板１０２となるガラス基板２上
の前面板１０１側には前記複合電極１０３と直行するよ
うに、且つ各障壁層３の間に位置してアドレス電極８が
互いに平行に形成されており、これを覆って誘電体層９
が形成され、さらに障壁層３の壁面とセルの底面を覆う
ようにして蛍光体層１０が設けられている。そして、カ
ラー表示を行うため、各障壁層３の間にはＲＧＢ各色の
ストライプ状の蛍光面が３つからなる組を多数配列した
構造となっている。

【０００５】図１のＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、
アドレス電極８により書き込みを行った後、前面板１０
１上の複合電極１０３に交流電圧を印加し、空間のセル
内に生成した電界により放電させる構造である。この場
合、交流をかけているために電界の向きは周波数に対応
して変化する。そしてこの放電により生じる紫外線によ
り蛍光体層１０を発光させ、前面板１０１を透過する光
を観察者が視認するようになっている。

【０００６】上記のような構造のＰＤＰでは、従来、誘
電体層９の形成と障壁層３の形成については、誘電体層
９となる誘電体材料の印刷、乾燥、焼成した後に、障壁
層形成材料を塗布、乾燥、ドライフィルムレジストのラ
ミネート、露光、現像、サンドブラスト処理、ドライフ
ィルムレジストの剥離、焼成を行って、障壁層３を形成
しており、即ち、それぞれの層の前記焼成工程を別々に
行っていた。

【０００７】このような別々の焼成工程は、製造工程を
煩雑にしており、製造エネルギーの観点から効率化が求
められた。そこで、特開平１０−１４４２０５号公報に
は、熱可塑性樹脂とガラスフリットを混合した誘電体層
形成用転写箔シートをガラス基板に転写して誘電体層を
形成し、次いで、該誘電体層の熱可塑性樹脂よりも含有
量を少なくした熱可塑性樹脂とガラスフリットの混合物
を用いて障壁層を形成し、その後、誘電体層と障壁層を
同時焼成するプラズマディスプレイパネルの製造方法が
提案された。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、熱可塑
性樹脂を使用した前記従来の誘電体層と障壁層との同時
焼成を行って製造されたプラズマディスプレイパネル用
背面板では、障壁層形成材料中に溶剤などの溶出成分が
含まれており、且つ同時焼成前においては誘電体層は硬
化されていないため、同時焼成中に障壁層から溶出成分
が染みだし、誘電体層に混ざり合ってしまうとういう問
題を見いだした。

【０００９】そこで本発明は、焼成時に障壁層の溶出成
分が誘電体層に混入しない、誘電体層と障壁層との同時
焼成を可能とするプラズマディスプレイパネル用背面
板、プラズマディスプレイパネル、及びそれらの製造方
法を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決す
るための本発明のプラズマディスプレイパネル用背面板
は、誘電体層上に障壁層が形成されているプラズマディ
スプレイパネル用背面板であって、硬化状態の誘電体層
と、該誘電体層上に形成された障壁層が同時焼成されて
おり、前記誘電体層は、感光性セルロース樹脂組成物を
含む誘電体層であることを特徴とする。本発明のプラズ
マディスプレイパネル用背面板において、硬化状態の誘
電体層は、感光性セルロース樹脂組成物を含む誘電体層
が電離放射線の照射により硬化状態となっていることを
特徴とする。

【００１１】本発明のプラズマディスプレイパネルは、
前記のプラズマディスプレイ用背面板に前面板が配置さ
れてなることを特徴とする。

【００１２】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用背面板の製造方法は、誘電体層上に障壁層が形成さ
れているプラズマディスプレイパネル用背面板の製造方
法であって、該誘電体層は、感光性セルロース樹脂組成
物を含む誘電体層を電離放射線の照射により硬化状態と
し、該硬化状態の誘電体層上に障壁層を形成し、該誘電
体層と障壁層を同時焼成することを特徴とする。

【００１３】本発明において電離放射線とは、紫外線又
は電子線を含む。本発明のプラズマディスプレイパネル
の製造方法は、前記製造方法で得られたプラズマディス
プレイパネル用背面板に、さらに前面板を配置すること
を特徴とする。

【００１４】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板の製造方法、或いはプラズマディスプレイパネルの
製造方法によれば、誘電体層と障壁層の同時焼成前に
は、誘電体層は感光性セルロース樹脂組成物の硬化状態
となっているので、同時焼成時に障壁層の溶出成分が誘
電体層に混入することを防止できる。

【００１５】

【発明の実施の形態】図２、図３は、本発明に係るＰＤ
Ｐパネル用背面板の形成方法の連続した工程（ａ）〜
（ｈ）を示す工程図である。図中、１２は誘電体層形成
層、１３は電極、１４はガラス基板、１５は障壁層、１
６はフォトレジスト、１７はパターンマスク、１８はレ
ジストパターンである。

【００１６】誘電体層形成層１２は、少なくともガラス
フリットを有する無機成分と感光性セルロース樹脂組成
物の混合物を塗布、乾燥、硬化して形成したものであ
る。

【００１７】ガラスフリットとしては、その軟化点が３
５０℃〜６５０℃で、熱膨張係数α ₃₀₀が６０×１０^-7
／℃〜１００×１０^-7／℃のものが挙げられる。ガラス
フリットの軟化点が６５０℃を越えると焼成温度を高く
する必要があり、その積層対象によっては熱変形したり
するので好ましくなく、また、３５０℃より低いと感光
性セルロース樹脂組成物が分解、消滅する前にガラスフ
リットが融着し、層中に空隙等の発生が生じるので好ま
しくない。また、熱膨張係数α₃₀₀が６０×１０^-7／℃
〜１００×１０^-7／℃の範囲外であると、ガラス基板の
熱膨張係数α₃₀ ₀との差が大きく、歪み等を生じるので
好ましくない。

【００１８】例えば、ガラスフリットとして、Ｂ₂Ｏ₃
・Ｂｉ₂Ｏ₃系、ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃系、ＰｂＯ・ＳｉＯ
₂系、ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂系、ＰｂＯ・Ａｌ₂
Ｏ₃・ＳｉＯ₂系、ＺｎＯ・ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃系、Ｚｎ
Ｏ・Ｂ₂Ｏ₃系、ＣａＯ・Ｂ ₂Ｏ₃系、ＣａＯ・Ｂ₂Ｏ
₃・ＳｉＯ₂系、ＣａＯ・ＰｂＯ・ＳｉＯ₂系、ＣａＯ
・ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂系、ＭｇＯ・Ｂ₂Ｏ
₃系、ＭｇＯ・Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ₂系、ＭｇＯ・ＰｂＯ
・ＳｉＯ₂系、ＭｇＯ・ＰｂＯ・Ｂ₂Ｏ₃・ＳｉＯ ₂系
のガラス等を１種類もしくは２種類以上含有するものが
使用できる。上記酸化物又は酸化物を含有するガラス
は、誘電体層の形成もしくは焼成後の基板との接着性を
得るものである。

【００１９】また、無機成分として、ガラスフリットの
他に無機粉体、無機顔料をそれぞれ２種以上を混合して
使用してもよい。

【００２０】このような無機粉体としては、骨材であっ
て、必要に応じて添加される。無機粉体は、焼成に際し
ての流延防止、緻密性向上を目的とするものであり、ガ
ラスフリットより軟化点が高いものであり、例えば酸化
アルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マ
グネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸
化バリウム、炭酸カルシウム等の各無機粉体が利用で
き、平均粒径０．１μｍ〜２０μｍのものが例示され
る。無機粉体の使用割合は、ガラスフリット１００重量
部に対して無機粉体０重量部〜３０重量部とするとよ
い。

【００２１】前記無機顔料としては、例えばＰＤＰの外
光反射を低減し、実用上のコントラストを向上させるた
めに必要に応じて添加されるものであり、暗色にする場
合には、耐火性の黒色顔料として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、
Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−
Ｆｅ−Ｓｉ等が挙げられる。また、耐火性の白色顔料と
しては、酸化チタン、酸化アルミニウム、シリカ、炭酸
カルシウム等が挙げられる。

【００２２】本発明で使用する感光性セルロース樹脂組
成物は、無機成分のバインダーとして含有させるもので
あり、焼成時にガスとして飛散、消滅させるものであ
る。

【００２３】感光性セルロースは、分子内に酸素原子を
多く含み焼成性が良いため、本発明に好適に使用するこ
とができる。感光性セルロースは、例えば、次の式
（１）で示されるセルロース誘導体に、（メタ）アクリ
ロイルオキシエチルイソシアネート、又はグリシジル
（メタ）アクリレートを付加反応させて得られるセルロ
ースのカルボン酸誘導体が挙げられる。

【００２４】

【化１】

【００２５】式（１）において、Ｒ¹は、水素、炭素数
１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のヒドロキシアルキ
ル基、炭素数１〜８のアシル基及び−ＣＯＲ³ＣＯＯＨ
基からなる群から選択される置換基であって、少なくと
も、前記水素及び／又は前記ヒドロキシアルキル基と、
前記−ＣＯＲ³ＣＯＯＨ基とを含み、上記Ｒ³は、炭素
数１〜４のアルキレン基、炭素数６〜８のシクロアルキ
レン基、フェニレン基及び置換フェニレン基からなる群
から選択される置換基である。

【００２６】前記式（１）のセルロース誘導体への（メ
タ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート付加量
は、−ＯＨ基１モル当たり０．２モル以上が好ましい。
（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート付加
量が、−ＯＨ基１モル当たり０．２モル未満の場合、導
入される光重合性官能基の比率が低くなり感光性が劣
る。

【００２７】前記式（１）のセルロース誘導体へのグリ
シジル（メタ）アクリレート付加量は、−ＯＨ基１モル
当たり０．３モル以上が好ましい。グリシジル（メタ）
アクリレート付加量が、−ＯＨ基１モル当たり０．３モ
ル未満の場合、導入される光重合性官能基の比率が低く
なり、感光性が劣る。

【００２８】誘電体層を形成するための感光性ペースト
組成物には、ガラスフリット、感光性セルロース樹脂組
成物に加えて、光硬化性モノマー、光重合開始剤を配合
することが望ましい。

【００２９】添加する光硬化性モノマーとしては、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものであり、多官能および単官能の反
応性モノマーを挙げることができる。例えば、単官能で
はテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、ビニルピロリド
ン、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、
（メタ）アクリロイルオキシエチルフタレート等のモノ
（メタ）アクリレート；２官能以上では、骨格構造で分
類するとポリオール（メタ）アクリレート（エポキシ変
性ポリオール（メタ）アクリレート、ラクトン変性ポリ
オール（メタ）アクリレート等）、ポリエステル（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート；その他ポリブタジエン
系、イソシアヌール酸系、ヒダントイン系、メラミン
系、リン酸系、イミド系、フォスファゼン系等の骨格を
有する（メタ）アクリレートであり、紫外線硬化性、電
子線硬化性である様々なモノマーが利用できる。

【００３０】更に詳しく述べると、２官能のモノマー、
オリゴマー、ポリマーとしてはポリエチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メ
タ）アクリレート等；３官能のモノマー、オリゴマー、
ポリマーとしてはトリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等；４官能
のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロ
ールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テト
ラ（メタ）アクリレート等が挙げられ；５官能以上のモ
ノマー、オリゴマー、ポリマーとしてはジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエス
テル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する
（メタ）アクリレート等が挙げられる。官能基数は特に
限定されるものではないが、官能基数が３より小さいと
硬化性が低下する傾向があり、又、２０以上では焼成後
の膜中に炭化物が残存する傾向があるため、特に３〜２
０官能のものが好ましい。本発明では上記モノマーを１
種または２種以上の混合物として使用することができ
る。

【００３１】本発明の誘電体層を形成するための感光性
ペースト組成物に添加する光重合開始剤としては、焼成
によって揮発、分解して、焼成後の膜中に炭化物を残存
させることのないものである。具体的には、ベンゾフェ
ノン、０−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス
（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４−４ビス（ジエ
チルアミン）ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェ
ノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイ
ル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、
フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２
−ヒドロキシ−２−メチルプロピルフェノン、p −ｔｅ
ｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサント
ン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサン
トン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオ
キサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメト
キシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ア
ントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、
２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノ
ン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロ
ン、メチレンアントロン、４−アジドベンジルアセトフ
ェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４
−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブ
タジオン−２−（０−メトキシカルボニル）オキシム、
１−フェニル−プロパンジオン−２−（０−エトキシカ
ルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパント
リオン−２−（０−エトキシカルボニル）オキシム、１
−フエニル−３−エトキシープロパントリオン−２−
（０−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メ
チル−[ ４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォ
リノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミ
ノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−
１、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホ
ニルクロライド、n −フェニルチオアクリドン、４，４
−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィ
ド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホス
フィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモ
フェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチ
レンブルー、等の光還元性の色素とアスコルビン酸、ト
リエタノールアミン等の還元剤の組み合わせなどが挙げ
られ、これらを１種または２種以上の組み合わせで使用
することができる。

【００３２】感光性セルロース樹脂組成物の含有割合
は、無機成分１００重量部に対して１０重量部〜６０重
量部、好ましくは２０重量部〜５０重量部の割合からな
る。誘電体層において、感光性セルロース樹脂組成物が
１０重量部より少ないと、後述するサンドブラスト加工
に際して損傷を受けるので好ましくない。また、６０重
量部より多くなると、焼成後の膜中にカーボンが残り、
品質が低下するので好ましくない。

【００３３】また、誘電体層形成層には、必要に応じて
分散剤、沈降防止剤、消泡剤、剥離剤、レベリング剤等
が添加される。

【００３４】分散剤、沈降防止剤としては、無機成分の
分散性、沈降防止性の向上を目的とするものであり、例
えば燐酸エステル系、シリコーン系、ひまし油エステル
系、各種界面活性剤等が例示され、消泡剤としては、例
えばシリコーン系、アクリル系、各種界面活性剤等が例
示され、剥離剤としては、例えばシリコーン系、フッ素
油系、パラフィン系、脂肪酸系、脂肪酸エステル系、ひ
まし油系、ワックス系、コンパウンドタイプが例示さ
れ、レベリング剤としては、例えばフッ素系、シリコー
ン系、各種界面活性剤等が例示され、それぞれ適宜量添
加される。

【００３５】上記の誘電体層形成用材料は、スクリーン
印刷、ダイコート、ブレードコート、コンマコート、ロ
ールコート、グラビアコート法により塗布し、乾燥さ
せ、所定の膜厚とされ、乾燥後に、電離放射線の照射に
より硬化状態にされる。

【００３６】本発明におけるＰＤＰパネル形成方法にお
ける第１工程を、図２（ａ）、（ｂ）により説明する。

【００３７】図２（ａ）は、ガラス基板１４上に電極１
３を有する場合を図示するものであるが、電極１３は下
地層（図示せず）を介してガラス基板１４上に積層され
ていてもよい。

【００３８】次いで、感光性セルロース樹脂組成物と、
無機物の混合物を含む誘電体層を形成するための塗液を
用いて図２（ａ）に示すガラス基板１４上に、スクリー
ン印刷、ダイコート、ロールコート、ブレードコート等
により塗布して誘電体層１２を形成する図２（ｂ）。該
誘電体層１２を乾燥し、電離放射線を照射することによ
り硬化させて、該誘電体層１２を硬化状態にする。

【００３９】次に、第２工程は、図２（ｃ）で示され、
誘電体層１２上に障壁層１５を形成する工程である。障
壁層１５は、スクリーン印刷、ダイコート、ロールコー
ト、ブレードコート等により厚膜形成することができ
る。或いは、障壁層１５を転写により形成してもよく、
この場合、作製時間を短縮でき、歩留りのよい作製がで
きる。

【００４０】障壁層１５に含まれる無機成分としては、
上述した誘電体層１２に含まれる無機成分と同一の材料
を使用できるが、障壁層１５における無機粉体の使用割
合は、ガラスフリット１００重量部に対して無機粉体５
重量部〜５０重量部とするとよい。

【００４１】また、障壁層１５に用いられる樹脂には、
上述した誘電体層１２に含まれる感光性セルロース樹脂
組成物と同一の材料を使用してもよい。障壁層１５にお
ける電離放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂は、無機成
分１００重量部に対して１重量部〜３０重量部、好まし
くは１重量部〜１５重量部の割合とするとよい。電離放
射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂の割合が１重量部より
少ないと障壁層１５の保持性が低く、また、３０重量部
より多いと、後述するサンドブラスト加工においてサン
ドブラスト性が低下し、作業効率が悪くなる。

【００４２】また、障壁層１５には、前記誘電体層１２
と同様な分散剤、沈降防止剤、消泡剤、剥離剤、レベリ
ング剤等が必要に応じて添加されてもよい。

【００４３】障壁層形成材料は、硬化状態の誘電体層１
２上に塗布乾燥し、障壁層１５とする。障壁層１５は、
一回の塗布で所定の膜厚を得ることが困難な場合には複
数回の塗布と乾燥を繰り返して行なうとよい。また，塗
布の代わりに、ベースシート（図示せず）上に障壁層１
５を形成してなる障壁層形成用転写シート（図示せず）
を用い、前記硬化状態の誘電体層１２上に転写して、障
壁層１５を形成してもよい。

【００４４】次に、第３工程は図２（ｄ）、（ｅ）、図
３（ｆ）〜（ｈ）で示され、障壁層１５上にレジストパ
ターンを形成する工程である。障壁層１５上にレジスト
パターンを形成するには、スクリーン印刷により直接パ
ターニングすることも可能であるが、大面積で高精細な
加工を行なう場合には、レジスト材料としてフォトレジ
スト１６を使用し、フォトリソグラフィー法で形成する
のが好ましい。

【００４５】フォトレジスト１６としては、ドライフイ
ルムレジストや液状レジストのいずれの形態でもよく、
前記工程の障壁層１５上にフォトレジスト１６の層を形
成する。また、現像時に障壁層１５がダメージを受けな
いためには、水現像型レジストかアルカリ水溶液現像型
レジストとするとよい。

【００４６】フォトレジスト１６のパターニングは、ま
ず、図２（ｅ）に示すようにパターンマスク１７を介
し、紫外線照射又は電子線等の電離放射線の照射により
露光を行なう。次いで、未露光部のフォトレジストを、
図３（ｆ）に示すように現像液を使用して除去すること
によりレジストパターン１８が形成される。量産安定性
の観点から、現像液をスプレー塗布するのが好ましい。

【００４７】第４工程は、図３（ｇ）に示すようにパタ
ーンマスク１７が取り除かれたレジストパターン１８の
開口部から障壁層１５をサンドブラスト加工により除去
する工程である。サンドブラスト加工は、圧縮気体と混
合された研磨剤微粒子を高速で噴射して物理的にエッチ
ングを行なう加工方法である。

【００４８】第５工程は、図３（ｈ）に示すように、障
壁層１５上のレジストパターン１８を除去する工程であ
るが、現像液をスプレー塗布して除去するとよい。

【００４９】レジストパターン１８を除去した後、誘電
体層１２と障壁層１５は、ピーク温度約５７０℃程度の
条件で同時に焼成され、誘電体層１２とパターン化され
た障壁層１５とが同時にＰＤＰパネル上に形成される。
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。

【００５０】

【実施例】次の組成の感光性ペーストをガラス基板上に
スクリーン印刷した。感光性セルロース樹脂（GGK112：商品名、新中村化学社製）１０重量部光硬化性モノマー（KAYARAD PET-30: 商品名、日本化薬社製）３重量部希釈剤：単官能モノマー（ＡＣＭＯ：商品名、興人社製）５重量部光重合開始剤（Irg.907: 商品名、チバスペシャリティケミカルズ社製）２重量部（無機成分）ガラスフリット〔主成分：Ｂｉ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｂｉ₂Ｏ₃（無アルカリ）、平均粒径３μｍ〕７０重量部ＴｉＯ₂ ３重量部Ａｌ₂Ｏ₃ ７重量部上記無機成分混合体の軟化点は５７０℃、Ｔｇは４８５
℃、熱膨張係数α₃₀₀は８０×１０^-7／℃であった。

【００５１】上記工程で形成された塗膜を紫外線を照射
して（２００ｍＪ／ｃｍ²、照度：６ｍｗ／ｃｍ²）光
硬化を行うことにより誘電体層を形成した。得られた塗
膜上に、障壁層形成材料として次の組成の材料をブレー
ドコーターにて塗工した。ガラスフリット（MB-008: 商品名、松浪硝子工業社製）６５重量部 α−アルミナＲＡ−４０（商品名、岩谷化学工業社製）１０重量部ダイピロキサイドブラック♯9510（商品名、大日精化工業社製）１０重量部エチルセルロース４重量部フタル酸ビス（２−エチルヘキシル）４重量部フタル酸ジメチル８．５重量部イソプロピルアルコール２５重量部メチルエチルケトン５重量部

【００５２】前記工程で形成された塗膜上にネガ型ドラ
イフィルムレジスト（ＮＣＰ２２５：商品名、日本合成
化学社製、膜厚２５μｍ）を１００℃の熱ロールにてラ
ミネートした後、レジスト層上に、線幅８０μｍ、ピッ
チ２２０μｍのラインパターンマスクを位置合わせして
配置し、紫外線照射（２００ｍＪ／ｃｍ²、照度１０ｍ
Ｗ／ｃｍ²）し、露光した後、フォトレジスト層上の保
護膜を剥離し、液温３０℃の炭酸ナトリウム１重量％水
溶液を使用しスプレー現像した。ラインパターンに応じ
たレジストパターンが得られた。次いでこのレジストパ
ターンをマスクとして、サンドブラスト加工装置を使用
し、レジストパターン開口部の障壁層をサンドブラスト
処理した。レジストパターンを液温３０℃の水酸化ナト
リウム２重量％水溶液を使用し、スプレー剥離し、水洗
後、８０℃オーブン中で１５分間乾燥させた後、ピーク
温度を５７０℃で焼成し、誘電体層、障壁層を同時に形
成した。

【００５３】本実施例にて得られた塗膜に関して、次の
検査項目について評価した。密着性：ガラス基板上に誘電体層のみが形成されてい
る箇所の塗膜について、碁盤目剥離試験を行った。その
結果、誘電体層は剥離しなかった。

【００５４】障壁層塗布適正：ガラス基板上に誘電体
層及び障壁層が形成されている箇所の塗膜について観察
した結果、該箇所には障壁層の溶剤がしみだしておら
ず、誘電体層は剥離等のダメージを受けていなかった。

【００５５】サンドブラスト加工性：サンドブラスト
処理後においても誘電体層は殆ど削られておらず、電極
の露出もなかった。また、障壁層の線幅は５０μｍ、高
さが１２０μｍであり、高さが均一で、且つ表面は滑ら
かであり、障壁層に欠陥は見られなかった。

【００５６】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル用
背面板、プラズマディスプレイパネル、及びその製造方
法によれば、誘電体層と障壁層との同時焼成する際に、
誘電体層が硬化されているので障壁層の溶出成分が誘電
体層に混入するのを防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ＡＣ型ＰＤＰの１構成例を示す図である。

【図２】本発明に係るＰＤＰパネル形成方法の連続した
工程（ａ）〜（ｈ）を示す工程図の一部である。

【図３】本発明に係るＰＤＰパネル形成方法の連続した
工程（ａ）〜（ｈ）を示す工程図の一部である。

【符号の説明】

１、２ガラス基板３、１５障壁層４維持電極５バス電極６、９誘電体層７保護層８アドレス電極１０蛍光体層１２誘電体層１３電極１４ガラス基板１６フォトレジスト１７パターンマスク１８レジストパターン１０１前面板１０２背面板１０３複合電極

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】誘電体層上に障壁層が形成されているプ
ラズマディスプレイパネル用背面板であって、硬化状態の誘電体層と、該誘電体層上に形成された障壁
層が同時焼成されており、前記硬化状態の誘電体層は、感光性セルロース樹脂組成
物を含む誘電体層であることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル用背面板。
【請求項２】前記硬化状態の誘電体層は、電離放射線
の照射により硬化状態となっていることを特徴とする請
求項１記載のプラズマディスプレイパネル用背面板。
【請求項３】請求項１又は２記載のプラズマディスプ
レイ用背面板に前面板が配置されてなることを特徴とす
るプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】誘電体層上に障壁層が形成されているプ
ラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法であっ
て、該誘電体層は、感光性セルロース樹脂組成物を含む誘電
体層を電離放射線の照射により硬化状態とし、該硬化状態の誘電体層上に障壁層を形成し、該誘電体層と障壁層を同時焼成することを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネル用背面板の製造方法。
【請求項５】請求項４記載の製造方法で得られたプラ
ズマディスプレイパネル用背面板に、さらに前面板を配
置することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
製造方法。