KR100490966B1 - 플라즈마디스플레이패널 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명의 목적은 격벽의 손상에 의한 표시결함의 발생을 방지할 수 있는 플라즈마디스플레이패널용 격벽의 구조 및 추가 공정 없이 격벽에 소망하는 높이차를 형성할 수 있는 플라즈마디스플레이패널의 제조방법을 제공하는 데 있다.

이를 위해, 본 발명은 전면기판과 배면기판간의 방전셀을 형성하기 위한 플라즈마디스플레이패널용 격벽을 형성함에 있어서, 격벽(1)을 적어도 방전셀(화소(2))의 한 변에서 방전셀 외측으로 연장된 돌기부를 가지도록 형성하고, 또한 돌기부의 길이 및 격벽을 구성하는 재료의 구성비를 조정함으로써 소성공정에서 수축에 의해 돌기부가 방전셀 주위보다 높게 형성되도록 하여, 돌기부의 격벽(화소외부의 격벽(1a))과 전면기판을 접촉시킴으로써 격벽(1)에 손상이 발생하는 경우에도 화소결함의 발생을 방지할 수 있다.

Description

플라즈마디스플레이패널 및 그 제조방법{Plasma display panel and method of fabrication thereof}

본 발명은 플라즈마디스플레이패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 플라즈마디스플레이패널용 격벽의 구조 및 그 제조방법에 관한 것이다.

플라즈마디스플레이패널은, 대향하는 한쌍의 기판(전면기판 및 배면기판)간의 격벽에 의해서 분리된 미소공간(화소)을 만들고, 이 미소공간에 밀봉된 가스의 방전에 의해 발생된 자외선에 의해 형광체를 발광시켜 영상을 표시하는 디스플레이이다. 일반적으로, 화소를 구분하는 격벽은 저융점유리를 소성함으로써 형성된다.

상술한 종래의 플라즈마디스플레이패널에 있어서, 격벽은 방전공간을 분할하고 격벽과 전면기판 또는 격벽과 배면기판은 전체적으로 균일하게 접촉하는 것이 바람직하지만, 실제로는 격벽의 일부가 전면기판 또는 배면기판과 접촉하여, 접촉부의 격벽이 무너지는 경우 무너진 격벽에 의해 형광체가 비산되어 화소의 결함이 발생하는 문제가 있다.

구체적으로는, 인쇄법 등에 의하여 형성되는 전면기판과 배면기판은 완전한 평면으로 형성되는 것이 곤란하기 때문에, 전면기판, 배면기판 및 격벽이 점접촉 되어, 점접촉된 부분에 큰 부하가 걸려 격벽의 손상이 발생한다. 이 격벽의 손상에 의해서, 소자부에서는 붕괴된 격벽 및 격벽의 상면에 탑재된 형광체가 비산된다. 그 결과, 화소의 방전제어가 곤란하게 되어 부점정 또는 점멸 등의 표시결함이 발생한다.

이를 방지하기 위해, 전면기판과 배면기판을 연마하여 평탄화하는 방법이 고려되었지만, 플라즈마디스플레이패널과 같은 대화면(42인치 및 50인치)의 패널전면을 균일하게 연마하는 것은 과다한 기술, 시간 및 비용이 발생한다. 또한, 전면기판을 연마하는 경우, 광투과율이 감소되는 문제가 발생한다.

게다가, 화소부의 격벽의 손상을 방지하기 위해, 대향하는 기판(전면기판)에 절연층을 형성하여 격벽과 대향기판이 직접 접촉하지 않게 하는 방법도 고려되었지만, 이 절연층을 설치한 구조에서는 절연층을 퇴적하여 패터닝하는 공정이 추가되어야 하고, 또한 이 공정에는 높은 위치정밀도가 요구되기 때문에 제품생산율의 저하가 발생하는 문제도 있다.

상기 문제를 고려하여, 본 발명의 목적은 격벽의 손상에 의한 표시결함의 발생을 방지할 수 있는 플라즈마디스플레이패널용의 격벽 구조 및 추가공정 없이 격벽에 소망하는 높이차를 형성할 수 있는 플라즈마디스플레이패널의 제조방법을 제공하는 데 있다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 플라즈마디스플레이패널은 격벽이 형성된 제1기판과 대향하는 제2기판을 구비하고, 격벽에 의해 둘러싸인 방전셀의 표시를 제어하는 플라즈마디스플레이패널에 있어서, 방전셀을 구분하는 격벽은 적어도 방전셀의 한 변에 각 방전셀의 외측으로 연장된 돌기부를 가지고, 또한 돌기부의 격벽의 높이는 방전셀주위의 격벽보다 높게 형성되고, 돌기부의 격벽은 제2기판과 직접 접촉한다.

본 발명에 있어서는 돌기부의 격벽과 방전셀 주위의 격벽과의 높이차는 격벽의 소성공정동안의 수축에 의해 형성되는 것이 바람직하다.

게다가, 본 발명에서는 돌기부의 격벽과 방전셀 주위의 격벽과의 높이차가 돌기부의 길이 및 격벽을 구성하는 재료의 구성비에 의해 조정될 수 있고, 방전셀 외측으로 연장된 돌기부의 길이는 약 1㎛ 내지 100㎛의 범위로 설정될 수 있다.

게다가, 본 발명에서는 돌기부의 격벽의 너비가 방전셀 주위의 격벽보다 넓게 형성될 수 있다.

한편, 본 발명의 플라즈마디스플레이패널의 제조방법은 대향하는 제1 및 제2기판 중의 적어도 일방에 방전셀을 구분하는 격벽을 형성하는 플라즈마디스플레이패널의 제조방법에 있어서, 방전셀을 구분하는 격벽을 형성하는 경우, 방전셀의 적어도 일방에 방전셀 외측으로 연장된 돌기부를 구비하고, 동시에 돌기부의 격벽의 높이를 방전셀 주위의 격벽보다 높도록 소성한다.

본 발명에서는 돌기부의 격벽과 방전셀 주위의 격벽과의 높이차를 돌기부의 길이 및 격벽을 구성하는 재료의 구성비를 선택함으로서 조정되는 것이 바람직하다.

상술한 본 발명의 플라즈마디스플레이패널용 격벽의 구조에 따르면, 방전셀을 구분하는 격벽에 돌기부를 구비하고 돌기부의 격벽을 화소주위의 격벽보다 높게 함으로써, 전면기판과의 접촉에 의해 발생하는 격벽손상이 화소부에 발생하지 않아 표시결함의 발생을 방지할 수 있다.

게다가, 본 발명의 플라즈마디스플레이패널용 격벽의 구조에 따르면, 화소외부(돌기부)의 격벽의 너비가 넓어 강도가 강해지거나 화소외부의 격벽이 손상되는 경우에도 화소부로 손상된 격벽이 떨어지지 않는 구조가 되어 표시결함의 발생을 방지할 수 있다.

게다가, 본 발명의 플라즈마디스플레이패널용 격벽의 제조방법에 따르면, 화소외부(돌기부)의 격벽을 높이는 방법으로서, 격벽재료의 소성공정동안의 수축에 의한 형상변화를 이용하기 때문에, 공정의 추가 및 위치조정정밀도가 요구되지 않아 간단하고 확실하게 격벽에 소정의 높이차를 형성할 수 있다.

[실시예]

본 발명에 의한 플라즈마디스플레이패널의 바람직한 일실시예에 의한 제조방법에 있어서, 전면기판과 배면기판간의 방전셀을 형성하기 위해 플라즈마디스플레이패널용 격벽을 형성하는 경우, 격벽은 적어도 방전셀의 한 변에 방전셀 외측으로 연장된 돌기부를 구비함으로써 형성되고, 또한 돌기부의 길이 및 격벽을 구성하는 재료의 구성비를 조정함으로써 소성공정동안의 수축으로 돌기부가 방전셀 주위보다도 높게 되도록 형성되고, 그 결과 돌기부의 격벽과 전면기판을 접촉되게 함으로써 격벽에 손상이 발생된 경우에도 화소결함의 발생을 방지할 수 있다.

도 1 내지 3을 참조하여 상술한 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 격벽패턴의 일례를 표시한 도면으로서, (a)는 상면도, (b)는 (a)의 원형부를 확대한 사시도, 그리고 (c)는 격벽에 결함이 발생한 경우의 상태를 표시하는 사시도이다. 또한, 도 2는 소성에 의한 격벽의 형상변화를 설명하는 도면으로서, (a)는 격벽의 일부를 확대한 사시도, (b)는 (a)의 ①방향에서 본 소성전후의 평면도, 그리고 (c)는 소성전후의 사시도이다. 그리고, 도 3은 소성후의 격벽의 형상을 실측한 도면이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마디스플레이패널은 서로 대략 직교하는 방향의 직선상의 격벽(1)이 표시라인을 따라서 등간격으로 구비되고, 이 격벽(1)은 각 화소(2)의 주위만이 아니라, 격벽의 일부가 화소외부까지 연장하여 화소외부의 격벽(1a)이 형성된다. 그리고, 격벽(1)은 전면기판과 배면기판의 간격을 조정하는 이격물로 기능하고, 일방 기판에 격벽(1)을 구비한 경우에는 타방 기판은 격벽(1)에 접촉하게 된다.

한편, 이하에는 배면기판에 격벽(1)을 형성한 구성을 설명하지만, 전면기판에 격벽(1)을 구비하여 배면기판을 격벽(1)에 맞닿게 하는 구조 및 전면기판 및 배면기판 모두에 격벽(1)을 구비하여 격벽(1)끼리를 맞닿게 하는 구조로 해도 된다.

상술한 바와 같이, 격벽(1)과 전면기판은 균일하게 접촉하는 구조가 바람직하지만, 실제는 전면기판에는 요철이 있어 격벽의 일부와 전면기판이 접촉되어, 접촉부분의 격벽에 결함이 발생한다. 여기서, 화소외부의 격벽(1a)과 전면기판이 접촉하는 경우는 문제없지만, 화소(2) 주위의 격벽(1)과 전면기판이 접촉하는 경우에는 손상된 격벽(1b)이 화소(2)로 들어가 표시결함을 일으킨다.

그래서, 본 발명은 격벽(1)의 높이를 의도적으로 변화시켜, 화소외부의 격벽(1b)의 높이가 화소(2) 주위의 격벽(1)보다 높도록 격벽(1)을 형성하여, 화소외부의 격벽(1a)과 전면기판이 접촉하게 함으로써, 격벽(1)에 손상이 발생하는 경우에도 손상된 격벽(1b)이 화소(2)에 떨어지지 않게 한다.

화소외부의 격벽(1a)을 높게 하는 방법으로, 격벽(1)의 형성에 있어서, 화소(2)이외의 부분을 높게 하기 위한 공정을 부가하는 방법이 고려될 수 있다. 즉, 화소(2) 이외의 부분에 격벽재료를 높게 쌓는 방법 또는 화소(2)부분을 낮게 하는 방법으로 형성될 수 있다. 게다가, 전면기판에 요철부분을 형성하여 이 요철부가 화소외부의 격벽(1a)과 접촉하도록 요철부의 형성영역을 한정해도 동일한 효과를 얻을 수 있다.

상술한 방법으로 화소외부의 격벽(1a)과 전면기판을 접촉되게 할 수 있지만, 새로운 공정을 추가하든지 전면기판에 복잡한 공정을 추가해야 할 필요가 있다. 그래서, 추가 공정 없이 화소외부의 격벽(1a)의 높이가 화소(2) 주위의 격벽(1)보다 높게 된 구조를 실현하기 위해 격벽재료의 소성수축에 의한 형상변화를 이용한 방법이 사용될 수도 있다.

즉, 소성전의 격벽(1)을 유리, 골재가 되는 필러 및 수지로 형성하고, 이것이 소성함으로써 체적이 수축되는 성질을 이용한다. 도 2를 참조하여 이 방법을 설명한다.

예컨대, 도 2에 도시된 바와 같이, 화소외부의 격벽(1a)이 직선구조와 같은 연결성이 없는 측면을 구비하는 구조인 경우, 연결성이 없는 종단부에서 내측방향으로 수축이 가해지고, 이를 상쇠하기 위한 역방향으로의 수축이 가해지지 않고 또한 배면기판에 접촉된 부분의 수축이 억제되기 때문에, 소성후의 도 2c와 같이 종단부가 솟아오른다.

이 솟아오른 높이는 패턴형상이나 재료의 선택 등에 의해 필요범위내(인접셀과의 오등이 발생하지 않는 0~15㎛)로 제어할 수 있다. 이 방법은 공정의 추가 및 위치조정정밀도가 불필요하여 프로세스 측면에서 유리하다.

도 3은 패턴형상에 의해 화소외부의 격벽(1a)의 높이를 변형시킨 격벽(1)의 실제 형상을 보여준다. 도면중의 A의 거리(화소외부의 격벽(1a)의 길이)는 35㎛로서, 이 경우 화소주위의 격벽(1)보다 약 10㎛ 높게 된다. 한편, 도면중의 A의 거리를 25㎛로 한 경우에는 화소주위의 격벽(1)에 대해 솟아오른 높이는 5㎛가 된다. 이와 같이, 화소외부의 격벽(1a)의 길이를 적절하게 조절함으로써 솟아오른 높이를 변하게 할 수 있다. 또한, 화소외부의 격벽(1a)의 길이는 화소의 길이 및 격벽(1)의 높이 등에 의해 적절한 값이 선택될 수 있지만, 본 발명자의 지견에 의하면 1~100㎛정도의 범위가 바람직하다.

게다가, 격벽(1)의 재료는 유리 및 골재가 되는 필러(소성온도보다 높은 연화점을 가지는 재료이면 된다)를 함유한 것이다. 이 재료는 소성에 의해 소성전의 형상을 거의 유지하도록 한다. 예컨대, 유리와 필러의 중량비율에 의해서 결정되는 소성온도에 대한 수축율을 0.1%~35%로 하면 소성전의 형상을 유지하게 되고 상술한 바와 같이 솟아오름을 형성할 수 있다.

또한, 화소외부의 격벽(1a)이 화소를 둘러싸는 격벽(1)보다 높으면 되고, 이 패턴은 도면의 형상에 한정되지 않는다.

게다가, 본 발명은 화소외부의 격벽(1a)을 화소 주위의 격벽(1)보다 높게 형성하기 때문에, 전면기판과의 접촉에 의해 격벽이 손상된 경우에도, 그 파편은 화소부분으로 들어가지 않는 구성이지만, 격벽의 손상이 발생하지 못하도록 화소외부의 격벽(1a)의 너비를 크게 하여 강도를 높이는 것이 바람직하다.

게다가, 화소외부의 격벽(1a)이 손상되어도, 그 파편이 화소부분으로 떨어지지 않는 방법(예컨대, 화소외부의 격벽(1a)의 길이를 길게 하고 화소와 돌기부선단과의 거리를 길게 하거나, 전면기판의 격벽과의 접촉부분을 경사지도록 하여 손상된 격벽(1b)이 화소의 외측에 떨어지도록 하는 등)을 실시하는 것이 바람직하다.

상술한 바와 같이, 본 발명의 플라즈마디스플레이패널의 격벽구조에 따르면, 화소외부의 격벽을 높게 하고 화소 주위의 격벽을 전면기판과 접촉되지 않게 하여, 화소부의 격벽의 손상을 방지하여, 그 결과 화소결함을 방지할 수 있는 효과가 있다.

또한, 상기 구조를 달성하는 방법으로 격벽패턴형상과 격벽소성수축을 이용하여 화소이외의 격벽을 높게 할 수 있기 때문에, 공정의 추가 및 위치조정정밀도를 필요로 하지 않고 상기 구조를 얻을 수 있다.

게다가, 격벽에 의도적으로 소정의 높이차를 형성함으로써, 밀폐형셀 구조에서의 필요한 배기경로를, 추가 공정 없이도 형성할 수 있는 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 관한 플라즈마디스플레이패널의 격벽의 구조를 모식적으로 도시한 것으로서, (a)는 상면도이고, (b) 및 (c)는 (a)의 일부를 확대한 사시도,

도 2는 본 발명의 일실시예에 관한 플라즈마디스플레이패널의 격벽의 소성전후의 형상을 모식적으로 도시한 것으로서, (a)는 소성전의 상태를 도시한 사시도, (b)는 소성전후의 상태를 도시한 상면도, (c)는 소성전후의 상태를 도시한 사시도, 및

도 3은 본 발명의 일실시예에 관한 플라즈마디스플레이패널의 격벽의 구조를 실측한 실측도이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1:격벽 1a:화소외부의 격벽

1b:손상된 격벽 2:화소부

Claims (7)

1. 격벽이 형성된 제1기판과 상기 제1기판과 대향하는 제2기판을 구비하고, 상기 격벽에 의해 둘러싸인 방전셀에 표시를 제어하는 플라즈마디스플레이패널에 있어서,

   상기 방전셀을 구분하는 상기 격벽은 방전셀을 둘러싸는 방전셀주위의 격벽과 상기 방전셀 주위의 격벽의 적어도 한 변에서 길이방향으로 연장되는 방전셀외부의 격벽을 가지고, 또한 상기 방전셀외부의 격벽의 높이는 상기 방전셀주위의 격벽보다 높게 형성되고, 상기 방전셀외부의 격벽은 상기 제2기판과 맞닿는 플라즈마디스플레이패널.
2. 제1항에 있어서, 상기 방전셀외부의 격벽과 상기 방전셀주위의 격벽과의 높이차는 상기 격벽의 소성공정에서 수축에 의해 형성되는 플라즈마디스플레이패널.
3. 제2항에 있어서, 상기 방전셀외부의 격벽과 상기 방전셀주위의 격벽과의 높이차는 상기 방전셀외부의 격벽의 길이 및 상기 격벽을 구성하는 재료의 구성비에 의해 조정되는 플라즈마디스플레이패널.
4. 제3항에 있어서, 상기 방전셀외부의 격벽의 길이는 약 1㎛ 내지 100㎛의 범위로 설정되는 플라즈마디스플레이패널.
5. 대향하는 제1 및 제2기판의 적어도 일방에 방전셀을 구분하는 격벽을 형성하는 플라즈마디스플레이패널 제조방법에 있어서,

   상기 방전셀을 구분하는 상기 격벽을 형성함에 있어, 상기 방전셀을 둘러싸는 방전셀주위의 격벽과 상기 방전셀주위의 격벽의 적어도 한 변에서 길이방향으로 연장되는 방전셀외부의 격벽을 구비하고, 또한 상기 방전셀외부의 격벽의 높이는 상기 방전셀 주위의 격벽보다 높도록 소성하는 플라즈마디스플레이패널 제조방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 방전셀외부의 격벽과 상기 방전셀주위의 격벽과의 높이차는 상기 방전셀외부의 격벽의 길이 및 상기 격벽을 구성하는 재료의 구성비를 선택함으로서 조정되는 플라즈마디스플레이패널 제조방법.
7. 제6항에 있어서, 상기 방전셀외부의 격벽의 길이는 약 1㎛ 내지 100㎛의 범위로 설정되는 플라즈마디스플레이패널 제조방법.