TW590890B

TW590890B - Transparent electroconductive laminate and transparent touch panel using the same

Info

Publication number: TW590890B
Application number: TW091120091A
Authority: TW
Inventors: Haruhiko Ito; Hitoshi Mikoshiba; Yuji Tamura
Original assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2001-09-03
Filing date: 2002-09-03
Publication date: 2004-06-11
Also published as: CN101544075A; JP4286136B2; WO2003020509A1; JPWO2003020509A1; KR20040028670A; HK1065512A1; KR100944920B1; EP1886799A3; JP2008041669A; EP1426174A1; EP1426174A4; JP4869178B2; US20040151895A1; CN100537217C; US7294395B2; CN1509231A; CN101544075B; EP1426174B1; EP1886799A2; EP1886799B1

Description

590890 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（j 【發明之技術領域】本發明係有關透明導電性層合體及使用其之透明觸控板之發明。更詳細的說，其係有關於有機高分子薄膜之一側面具有光學繞射層，且對筆記耐久性而言具有極高信賴性之觸控板用透明導電性層合體及使用其所得之透明觸控板發明。【先前技術】近年來，資訊顯示端末機搭載資訊輸入用透明觸控板所得之攜帶型資訊端末機已開始廣泛地普及使用。但一般透明觸控板所使用的電阻膜式透明觸控板，其係具有由透明導電層所形成之2片透明電極基板以約10 /z m〜100 // m 間隔相對之方式所構成，僅受外力施加部分使兩電極接觸產生開關動作所得者，例如對顯示畫面上之標題進行選擇，或輸入圖型、文字等。以往之透明觸控板因光線透過率並不高，故常造成設置於透明觸控板下之顯示畫面過於灰暗。其中亦有嘗試於有機高分子薄膜與透明導電層間形成光學繞射層以提高顯示畫面之亮度。光層之形成方法，例如使用真空蒸鍍法或濺鍍法等真空至膜步驟以形成低折射率層與高折射率層之方法，將烷氧基矽烷、烷氧化鈦或烷氧化鍩水解與縮聚合以形成層，再將其組合以形成光學繞射層等方法。但前者使用真空製膜步驟雖可形成良好透過率之透明電極基板，但仍舊具有未能確保透明觸控板所必要之筆記耐久性等問〔，·) :：本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

，1Tn n m m (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

-4 - 590890 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（j 題。又，因使用真空製膜步驟，故製造費較高且不易量產。後者則因未採取真空製膜步驟即進行塗膜加工，故於經濟面上屬極有利者。但使用塗覆步驟所形成之完全未含有微粒子之目前光學繞射層所製得之透明觸控板，因進行筆記耐久試驗時於光學繞射層中之烷氧化鈦或烷氧化銷經水解與縮聚合所形成之層極容易受到破壞，而未能確保透明導電層與透明觸控板之信賴性。又，即使倂用二步驟下，亦未能對透明觸控板確保所要求之筆'記耐久性。 9本發明之第1目的，即係提供一種可經濟地製造光學繞射層，且具有優良透明性，且可確保透明觸控板所需求之筆記耐久性的高度信賴性的透明導電性層合體及透明觸控板Θ 又，透明觸控板之模糊度過高時，將會造成顯示畫面之顯示品質降低。故若提升透明觸控板表面之平坦化時，將可使顯示面板之品質向上提昇。若可動電極基板（輸入側之透明觸控板）之透明導電層與固定電極基板（與可動電極基板對向側之透明觸控板）之透明導電表層中之任一表層皆極爲平坦時，已知由此可動電極基板與固定電極基板之組合所製得之透明觸控板亦容易引起錯誤動作。即，常產生於透明觸控板上之點A以筆壓觸使可動電極基板、固定電極基板等二透明導電層表面間進行接觸，隨後將筆移至點B時，點A仍處於可動電極基板、固定電極基板等二透明導電層表面間進行接觸的現象或，點A由可動電極基板、固定電極基板等二透明導電層表面間接觸狀態下分 .-…:本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-5- 590890 A7 B7 五、發明説明（g 離需要花費較多時間等現象。此透明觸控板之錯誤動作，將容易引起可動電極基板、固定電極基板等二透明導電層表面間產生黏附現象。爲避免前述可動電極基板、固定電極基板等二透明導電層表面間產生黏附現象之方法，例如於硬化樹脂層中添加微粒子以使透明導電層表面粗面化之方法等（例如特開平8-21 6327號公報）。但於此硬化樹脂層中添加之微粒子之平均1次粒徑需大於硬化樹脂層之膜厚度，故其平均1 次粒徑多爲2 // m以上。使用添加此平均1次粒徑大於硬化樹脂層膜厚度之微粒子使透明導電層表面粗面化所得之透明導電性層合體所得之透明觸控板用於高精密度彩色液晶晝面上時，介由透明觸控板觀察液晶畫面時，將會於顯示畫面中觀察到閃光，故會造成顯示品質劣化。其原因應係硬化樹脂層中之微粒子的平均1次粒徑過大，故會使透過液晶面板之RGB 三原光於透過硬化樹脂層時產生散射所造成者。硬化樹脂層中所添加之微粒子之平均1次粒徑較硬化樹脂層之膜厚度爲小時，雖不會產生散光現象，但埋沒於硬化樹脂層中之微粒子將形成平坦化之硬化樹脂層，而未能防止可動電極基板、固定電極基板等二透明導電層表面間產生黏附現象所造成之錯誤動作。故前述於構成透明導電性層合體之硬化樹脂層中添加微粒子以使透明導電層表層粗面化之方法，極容易引起透過透明觸控板觀察時之高精密彩色液晶畫面之顯示品質降低等問題。本發明之第2目的，即是提供一種將透明觸控板設置、本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 m· eMmmi 1--"Jml am m n-ϋ .^111 —^n ϋϋ ml In —ι_ϋ nk^rn ι_ιϋ^ιιϋ ml ttlw 11 ·ϋϋ a·—— ml _111 -6 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 590890 Α7 Β7 五、發明説明（j 於高精密彩色液晶畫面上之狀態下’介由透明觸控板觀察液晶畫面時’可顯不出優良液晶畫面顯不品1質之透明導電性層合體。【發明之內容】 (1) 一種透明導電性層合體，其係爲由有機高分子薄膜層合透明導電層所得之透明導電性層合體’其特徵爲’ :々有機高分子薄膜之至少一側面上依序層合光學繞射層、透明導電層，且光學繞射層係由高折射率層與低折射率層所構成，又，低折射率層係與透明導電層連接，高折射率層與低折射率層係由交聯聚合物所構成，且，高折射率層與低折射率層中至少一個係含有1次粒徑爲lOOnm以下之金屬氧化物及/或金屬氟化物之超微粒子。 (2 )如上記（1 )之透明導電性層合體，其中前記金屬氧化物及/或金屬氟化物係使用選自Ah〇3、Bh〇3、

Ce〇2、In2〇3、In2〇3-Sn〇2、Hf〇2、La2〇3、MgF2、Sb2〇5、 Sb2〇5-Sn〇2、Si〇2、Sn〇2、TiCh、Y2〇3、Zn〇與Zr〇2所成群中之至少1種者。 (3 )如上記（1 ) ( 2 )之透明導電性層合體，其中高折射率層與低折射率層中至少1個之交聯聚合物係由金屬烷氧化物經水解與縮聚合所形成者。 (4 )如上記（3 )之透明導電性層合體，其中前記超微粒子與前記金屬烷氧化物之重量比爲5 : 95〜80 : 20。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-7- 590890 A7 B7 五、發明説明（g 中有機高分子薄膜與與光學繞射層間係具有硬化樹脂層。 (12 )如上記（1 )〜（11 )之透明導電性層合體，其中硬化樹脂層係由熱硬化型樹脂或放射線硬化型樹脂所形成，且膜厚爲2〜5//m。 (1 3 )如上記（11 )( 1 2 )之透明導電性層合體，其中前記硬化樹脂層係含有第3微粒子。 (14 )如上記（1 )之透明導電性層合體，其中高折射率層係由超微粒子與金屬烷氧化物所得之混合物經水解與縮聚合所形成，金屬烷氧化物係由烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化物爲主成分所得者，低折射率層係由烷氧基矽烷經水解與縮聚合所形成，又，超微粒子爲Ti〇2，第3微粒子爲氧化矽粒子。 (15 )如上記（1 )〜（14 )之透明導電性層合體，其係於有機高分子薄膜之光學繞射層的相對側之面上，介由楊氏率較有機高分子薄膜爲低之透明彈與透明基材層合。 (16 ) —種透明導電性層合體，其係爲於有機高分子薄膜上層合透明導電層所得之透明導電性層合體，其特徵爲，有機高分子薄膜之至少一側面上依序層合光學繞射層、透明導電層，且光學繞射層係由高折射率層與低折射率層所構成，又，低折射率層係與透明導電層連接，光學繞射層係由交聯聚合物所構成，高折射率層與低折射率層中之至少1個係含有平均1次粒徑爲光學繞射層 +紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製、τ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

-9 - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 590890 A7 B7 五、發明説明（g 外之金屬烷氧化物爲主成分，低折射率層係由烷氧基矽烷經水解與縮聚合所形成者，前記微粒子B係爲氧化砂。 (24 )如上記（1 6 )至（23 )之透明導電性層合體，其係於有機高分子薄膜之光學繞射層的相對側之面上，介由楊氏率較有機高分子薄膜爲低之透明彈與透明基材層合。 (25) —種透明觸控板，其係爲由至少側面設有透明導電層之2片透明電極以透明導電層相對向之配置方式所構成之觸控板，其特徵爲，至少一側之透明電極基板係使用上記（1 )至（24 )之透明導電性層合體者。 (26) 如上記（25)之透明觸控板，其中可動電極基板與固定電極基板之兩側係使用透明導電性層合體。【圖示之簡單說明】圖1 A與1B係爲本發明透明導電性層合體之構成例。圖2爲本發明之另一透明導電性層合體之構成例。圖3爲觸控板之模式圖。圖4爲裝置有觸控板之液晶顯示裝置的構成例。圖5與圖6爲實施例之觸控板的模式圖。主要元件對照表 1 有機高分子薄膜 2 硬化樹脂層 3 高折射率層〜在纸張尺度適用中國國家標準（ CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

-11 - 590890 A7 B7 五、發明説明（2 4 低折射率層 5 透明導電層 6 硬化樹脂層 7 透明彈性層 8 透明基材 9 玻璃基板 10 透明導電膜 11 點狀調距器 13 可動電極基板 14 固定電極基板 15 觸控板 16、 22 偏光板 17、 21 玻璃基板 18 ' 20 透明電極 19 液晶層 23 液晶顯示裝置 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製【發明之實施形態】本發明之透明導電性層合體，係於有機高分子薄膜之至少一側面上依序層合光學繞射層、透明導電層所構成者。圖1A與1B係爲本發明透明導電性層合體之構成例。圖1A與1B中，有機高分子薄膜1之1側面上係依序形成硬化樹脂層2 (僅圖1 B )、光學繞射層之高折射率層3及低折射率層4、透明導電層5，於有機高分子薄膜1之另一雜#紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇Χ297公釐） -12 - 590890 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 B7五、發明説明（j〇側面上係形成硬化樹脂層6。本發明之透明導電性層合體中，硬化樹脂層並非必須 (例如圖1A )，但以形成有硬化樹脂層者爲佳（圖1B )。本發明之透明導電性層合體，爲調整折射率或爲粗面化時，可將光學繞射層中添加特定添加量之具有特定粒徑之特定微粒子。 (1 )光學繞射層本發明之光學繞射層係由高折射率層與低折射率層所形成，該低折射率層係與透明導電層連接。此高折射率層與低折射率層皆係由交聯聚合物所構成，且至少一個係含有上記微粒子。本發明所使用之交聯聚合物，除將金屬烷氧化物水解與縮聚合所得之交聯聚合物外，亦可使用熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂之交聯聚合物。 (la)金屬烷氧化物水解與縮聚合所得之交聯聚合物_ 金屬烷氧化物水解與縮聚合所得之交聯聚合物中，就機械性強度或安定性、透明導電層或基板等密著性之觀點而言，以使用將烷氧化鈦、烷氧化銷與烷氧基矽烷水解與縮聚合所得之交聯聚合物爲佳。烷氧化鈦例如四異丙氧化鈦、四-η-鄰丙基鈦酸酯、四_ η-丁氧化鈦、四（2-乙基己氧基）鈦酸酯等，又，烷氧化鐯例如四異丙氧化锆、四-η-丁氧化鍩等。在紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) Α4規格（210X297公釐） "" (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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13- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 590890 A7 B7 五、發明説明（h 烷氧基矽烷例如，四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二曱氧基矽烷、T-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、Θ - (3,4-環氧基環己基）乙基三曱氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、N-石 (胺基乙基）r-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-/3 (胺基乙基）r-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、r-胺基丙基三乙氧基矽烷等。前述烷氧基矽烷於必要時，就層之機械性強度或密著性與耐溶劑性等觀點而言，以使用2種類以上混合者爲佳，特別是烷氧基矽烷佔全組成中重量比例爲0.5至60 %之範圍，更佳爲0.5至40%之範圍，又以分子內含有胺基之烷氧基矽烷者爲更佳。前述金屬烷氧化物，於作爲單體使用時，以進行水解與脫水縮合而得適度的低聚物化亦可，一般多將其溶解、稀釋於適當溶媒中之塗液塗覆於下層上。形成於下層上之塗覆膜，受空氣中之水分等進行水解，隨後再進行脫水縮聚合等。一般而言，促進縮聚合時需進行適度的加熱處理，故塗覆法之步驟中以於l〇(TC以上之溫度下進行數分鐘以上之加熱處理爲更佳。又，必要時，於前記熱處理之同時，可使用紫外線等活性光線照射處理以提高其交聯度。稀釋劑可使用醇系、烴系溶劑，例如乙醇、2-丙醇、丁醇、2-甲基-1-丙醇、卜甲氧基-2-丙醇、己烷、環己烷、石油醚等爲佳，其他如二甲苯、甲苯、環己酮、甲基異丁酮、乙酸異丁酯等極性溶劑亦可使用。其可單獨使用或將2 種以上混合使用。。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — 一 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-14- 590890 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（)2 (lb)放射線硬化性樹脂與熱硬化性樹脂•'丨 f發明之交聯聚合物，例如以多元醇两_酸酯、聚酯丙親趣酯、脲烷丙_酸酯、環氧基丙酯等作爲原料之 \、多官能性聚丙_酸酯系放射線硬化性樹脂，醚化羥甲基三氛肢等等爲原料之二聚截肢系熱硬化性樹脂，苯氧系熱硬化性樹脂，環氧系.硬化性樹脂等熱硬化型樹脂等。其中又以多官能性聚丙酸酯系放射線硬化性樹脂爲佳。放射線熱硬化性樹脂，係指可受紫外線或電子線等放射線照射而進行聚合之樹脂，例如單位構造中含有2個以 ^4' ν' 上丙烯醯基之多官能丙:费/酸酯成分之丙_酸酯系樹脂等。供作丙ji酸酯系樹脂之原料，具體而言，例如可使用三羥甲基丙烷三丙^酸酯、三羥甲基丙烷乙烯氧化物變性三丙<瘦酸酯、異氰尿酸乙烯氧化物變性三丙4酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二丙烯酸酯等各種丙烯酸酯單體或聚酯變性丙烯酸酯、脲烷變性丙烯酸酯、環氧基變性丙烯酸酯等多官能性低聚物等。前述樹脂可使用其單獨之組成，或降數種混合使用亦可。又，必要時，亦可將各種烷氧基矽烷之水解縮合物適量地添加於組成內容中。又’紫外線照射以使樹脂層進行聚合時可適量地添加公知之光反應起始劑。光反應起始劑例如二乙氧基丙酮苯酣、2 -甲基- l- {4-(甲基硫）苯基}-2 -嗎琳基丙院、2-經基_ 2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮等丙酮苯酚 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -15- 590890 13

Ο— (R7 X )B —CH2CH(OH)CH2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明（系化合物；苯偶因、苄基二甲基縮酮等苯偶因系化合物；二苯甲酮、苯醯苯甲酸等二苯甲酮系化合物；噻噸酮、2，4_ 一^氯嚷囉醒等嚷顺嗣系化合物等。又’苯氧系熱硬化性樹脂，例如下記式（1 )所示苯氧樹脂、苯氧基醚樹脂、苯氧基酯樹脂等受多官能異氰酸酯化合物熱交聯所得之樹脂等。 (1 ) 其中，R1至R6爲相同或不同之氫或碳數1至3之烷基，R7爲碳數2至5之伸烷基，X爲醚基、酯基、m爲0至 3之整數，η爲20至300之整數。其中又以R1、R2爲甲基，R3至R6爲氫，R7爲伸戊基時，就容易合成之生產性面而言爲較佳者。 ’ 又，多官能異氰酸酯化合物中，以一分子中含2個以上異氰酸酯基之化合物爲佳，其例如以下之化合物，2,6-甲苯二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯-三羥甲基丙烷加成化合物、t-環己烷-1，4-二異氰酸酯、m-苯基二異氰酸酯、P-苯基二異氰酸酯、六甲基二異氰酸酯、 1，3,6-六甲基三異氰酸酯、異佛耳酮二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、甲苯胺二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、氫化苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯、氫本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇><297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-16- 590890 A 7 B7 五、發明説明（)4 化二苯基甲烷-4,4、二異氰酸酯、瀨胺酸二異氰酸酯、賴」胺酸酯三異氰酸酯、三苯基曱烷三異氰酸酯、三（異氰酸酯苯基）硫代磷酸酯、m-四甲基硫代磷酸二異氰酸酯、 H11-十一烷基三異氰酸酯、1，8-二異氰酸酯-4-異氰酸酯甲基辛烷、二環庚烷三異氰酸酯、2,2,4-三甲基六甲基二異氰酸酉旨' 2,4,4-三甲六甲基二異氰酸酯等多異氰酸酯及其混合物或多元醇附加物等。其中就常用性、反應性之觀點而言’以2,6-曱苯二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯-三羥曱基丙烷加成化合物、六甲基二異氰酸酯等爲佳。其他反應促進劑，例如適量地添加公知之三乙基二胺等Ξ級胺、二丁基錫二月桂酸酯等有機化合物皆可提升交聯速度。又’環氧系熱硬化性樹脂，例如可使用各種樹脂，其中又以下記式（2 )所示酚醛淸漆型環氧樹脂經熱交聯所得之樹脂爲佳。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

^紙張尺度通用中國國家榡準（CNS ) Μ規格（2丨〇><297公釐) R — c — Η

2 -17- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 590890 A7 _B7___ 五、發明説明（& 其中，R8爲氫或甲基，R9爲氫或縮水甘油基苯基醚。又，q爲1至50之整數，實際上，q之値因爲一般分布情形故不易特定，平均之數以較大者爲佳，又以3以上或5 以上爲更佳。前述環氧樹脂交聯所得之硬化劑，可使用公知之硬化劑。例如胺系聚胺基醯胺系、酸與酸酐、咪唑、硫醇、苯酚樹脂等硬化劑。其中又以酸酐與脂環族胺類爲較佳，更佳爲酸酐。酸酐例如甲基六氫基苯甲酸酐、甲基四羥基苯甲酸酐等之環族酸酐、苯甲酸酐等芳香族酸酐、十二碳烯苯甲酸酐等脂肪族酸酐等，其中又以甲基六氫基酸酐爲佳。又，脂環族胺例如雙（4-胺基-3-甲基二環己基）甲烷、二胺基環己基曱烷、異佛耳酮二胺等，特別是雙（4-胺基-3-甲基二環己基）甲烷爲佳。其中，硬化劑若使用酸酐時，亦可添加促進環氧樹脂與酸酐硬化反應之反應促進劑。反應促進劑例如苯甲基胺、2,4,6-三（二曱基胺甲基）苯酚、吡啶、l，8-二氮雜二環（5·4·0)十一碳烯-1等公知之二級、三級胺類或咪唑類等硬化觸媒。交聯聚合物之實際塗覆法，例如將前記化合物與各種添加劑（硬化劑、觸媒等）溶解於各種有機溶劑中，使用調自卩濃度或黏度後之塗覆液，塗覆於下層後，再以放射線照射或加熱處理等方式使層硬化。塗覆方法例如可使用微凹板塗覆法、麥耶條狀塗覆法、直接式凹板塗覆法、逆輥塗覆法 '簾幕塗覆法、噴霧塗覆法、輥麻塗覆法、模式塗本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐）丨 ‘ Α-1 「- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-18- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製五、發明説明（)6 覆法、刮板塗覆法、旋轉塗覆法等各種方法。 (lc)超微粒子A (折射率調整田、一般而言，已知金屬氧化物水解與縮聚合後所得之層或熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂等交聯聚合物中，其各塗覆層間皆具有良好之密著性。但，僅將交聯聚合物層合所形成之光學繞射層，於提高硬化樹脂層與透明導電層各層間之密著性時，亦可提高筆記耐久性，但折射率差變小故光學繞射層未能發揮功能，而未能形成高透過率之透明導電性層合體。故，本發明爲使形成各光學繞射層之各層能同時發生折射率差，以於交聯聚合物層中添特定添加量之特定粒徑的透明微粒子（以下簡稱微粒子A)爲佳。添加特定之透明微粒子於由交聯聚合物所得之光學繞射層中時，可使光學繞射層得到所應有之折射率的同時，而提高各層間之密著性、筆記耐久性等。一般僅添加微粒子時，極容易產生形成之層產生白化等問題，但本發明於確保與光學繞射層之良好密著性，使形成光學繞射層之各層發生折射率差，所使用之微粒子係使用由金屬氧化物及/或金屬氟化物所得者，且於控制該微粒子之粒徑下，較佳微控制其添加比例下，可使塗膜不致產生白化，而實現形成良好的光學繞射層，而完成本發明。基於前數可以添加微粒子之方式於不造成塗膜白化之前提下調整光學熱射層之折射率，使高折射率層與低折射本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) «·· 、11

-19- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（)7 率層組合，而使與鄰接層具有優良密著性質且具有高折射率之目標成爲可能’而形成具有優良筆記耐久性與高透過率之透明導電性層合體。基於前述了解，而完成本發明之第1側面。本發明之第1側面中之光學繞射層，如前所述般，係由交聯聚合物所得之高折射率層與低折射率層中至少1 層，特別是於高折射率層上，以添加特定超微粒子之方式，調整形成光學繞射層之各層的折射率。此超微粒子，於本發明中，需使用1次粒徑爲100ηιη 以下者。將超微粒子之1次粒徑控制再l〇〇nm以下時，可在不使塗膜白化下而形成良好的光學繞射層。前述1次粒徑較佳爲80nm以下，更佳爲60nm以下。其下限並未有特別之限定，例如可爲5nm。前.述超微粒子，係由金屬氧化物及/或金屬氟化誤爲主要之構成內容。金屬氧化物、金屬氟化物例如A 1 2〇3、 Bi2〇3、Ce〇2、 Ιιΐ2〇3、In2〇3-Sn〇2、Hf〇2、La2〇3、MgF2、 Sb2〇5、Sb2〇5-Sn〇2、Si〇2、SnCh、Ti〇2、Y2〇3、Zn〇、Zr〇2 者。其中 Bi2〇3、Ce〇2、In2〇3、In2〇3-Sn〇2、Hf〇2、La2〇3、 Sb2〇5、Sb2〇5-Sn〇2、SnCh、Ti〇2、Y2〇3、Zn〇、Zr〇2 以作爲含於高折射率層之微粒子爲佳。Al2〇3、MgF2、Si〇2以作爲含於低折射率層之微粒子爲佳。前述超微粒子，可使用1種類或將2種類以上合倂使用亦可。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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L. ^态紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） JjU斗 -20 - 590890 A7 ______ΒΊ 五、發明説明（& 超微粒子與交聯聚合物其重量比例以1 : 99至8〇 : 2〇之範圍爲佳。超微粒子與交聯聚合物之重量比例低於1 : 99 時’則不具有調整折射率之效果。又，超微粒子與交聯聚合物之重量比例超過80 : 20時，則光學繞射層中必要強度或密著性亦會有不充分之情形產生。其中重量比例以3〇 : 70至65 : 35之範圍爲更佳。又，超微粒子與交聯聚合物之重量比例，以實際構成超微粒子與交聯聚合物之所饋入之原料使用量爲基準爲佳。將超微粒子添加於交聯聚合物之方法，如前所說明般，可於製造交聯聚合物層之最初步驟中，將超微粒子混入交聯聚合物之原料中，再依前述內容般進行塗覆，水解與縮聚合或進行交聯反應即可。 (Id)高折射率層與低析射率釋光學繞射層係由至少1層高折射率層與至少1層低折射率層所構成。又，高折射率層與低折射率層之組合單位亦可爲2個以上。光學繞射層由1層高折射率層與1層低折射率層所構成時，光學繞射層之膜厚度以30nm至150nm 爲佳，更佳爲50nm至150nm。形成光學繞射層之高折射率層如上所述般，係爲金屬烷氧化物經水解與縮聚合所得之層或熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂所得交聯聚合物層之單獨膜或，金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子與金屬烷氧化物所得混合物經交聯聚合所形成之膜，其膜厚度較佳爲15nm至本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Γ. -21 - 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（ lOOnm爲佳，更佳爲20nm至70nm。又，高折射率層之折射率，較低折射率層之折射率爲大，其差以〇.2以上者爲佳。又其差以0.25以上爲更佳。形成光學繞射層之低折射率層如上所述般，係爲金屬烷氧化物經水解與縮聚合所得之層或熱硬化性樹脂，或放射線硬化性樹脂所得交聯聚合物層之單獨膜或，金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子與金屬烷氧化物所得混合物經水解與縮聚合所得之層所形成之膜，或金屬氧化物超微粒子及/或金屬氟化物超微粒子與熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂之混合物經交聯聚合所形成之膜，其膜厚度較佳爲15nm至lOOnm爲佳，更佳爲20nm至70nm。又，低折射率層之折射率以1.6以下者爲佳。如前所述般，使用由高折射率層與低折射率層之金屬烷氧化物經水解與縮聚合所得之層或熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂所得交聯聚合物層時，雖極有利於生產費用上，但仍難兼顧優良光學繞射效果（所期待之折射率差與透明性）與優良之筆記耐久性。但依本發明之結果，使用高折射率層與低折射率層中至少1個，較佳爲於高折射率層中，添加較佳量之上記超微粒子以進行控制時，則在防止塗膜白化之下，而可得到兼具優良光學繞射效果與優良之筆記耐久性之光學繞射層。又，使用由低折射率層由熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂所得者時，高折射率層中以含有本發明之超微粒子 A、微粒子B (後記），低折射率層以不含微粒子（超微粒 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣.

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本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X297公釐） A r*· -22- 590890 A7 _____B7 五、發明説明（子A、微粒子B)者爲佳。 (le )高折射率層與低折射率層之較佳組& 本發明之1個較佳實施態樣，光學繞射層係由高折射率層與低折射率層所構成，低折射率層係與透明導電層連接’低折射率層係由院氧基砂院晶水解與縮聚合所得之層所構成，高折射率層，其係由煮成分爲烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化物的金屬烷氧化物經水解與縮聚合之層所構成’層中係含有由金屬氧化物所得之超微粒子。此高折射率層使用金屬烷氧化物爲主之烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化合物，且含有超微粒子之結果，可維持高折射率，且所得透明導電性層合體亦具有優良筆記耐久性。烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化合物，例如烷氧化鈦、烷氧化鉻等。烷氧化鈦與烷氧化銷之具體例示係如上所述內容。金屬烷氧化物爲主成分之烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化合物之含量以50%至100%者爲佳，更佳爲70%至100 % 。又，其含量以實際將金屬烷氧化物饋入之使用比例爲基礎進行決定爲佳。用於高折射率層使用之超微粒子，其金屬氧化物超微粒子，例如以使用Bh〇3、CeCh、In2〇3、In2〇3-Sn〇2、Hf〇” La2〇3、Sb2〇5、Sb2〇5-Sn〇2、Sn〇2、TiCh、Υ2〇3、ZnO、Zr〇2 中所選出之金屬氧化物超微粒子爲佳。又，超微粒子可使用1種或將2種以上組合使用亦可。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 23- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製五、發明説明（A 採用前述組合時，可使層間密著性更爲優良，且可增大其折射率差。較佳之折射率差以至少爲〇· 1以上，更佳爲 0·2以上，最佳爲0.25以上。金屬氧化物超微粒子與金屬院氧化物之重量比例以1 : 99至60 : 40之範圍爲佳，又以5 : 95至50 : 50爲更佳。此高折射率層之形成方法，例如可使用先前所敘述之形成金屬烷氧化物與超微粒子混合物之相同方法。與此高折射率層組合之低折射率層，係爲烷氧基矽烷經水解與縮聚合所形成之層，此層可以上述之方法形成。此低折射率層必要時亦可含有超微粒子。高折射率層低折射率層之膜厚度、折射率皆與前述內容爲相同範圍。 (le)第2之微粒子Β (粗面化用）如前所示般，爲迴避可動電極基板、固定電極基板之兩透明導電層表面間之黏附現象所產生透明觸控板之錯誤動作之方法，例如於硬化樹脂層中添加平均1次粒徑較硬化樹脂層之膜厚更大之微粒子以使透明導電層表面粗面化之方法，其將造成介由透明觸控板觀察時會降低高精細彩色液晶畫面之顯示品質。本發明發明者就對透明導電層表面粗面化之方法進行硏究，得知添加微粒子（以下稱爲微粒子B )於形成膜厚度較硬化樹脂層膜厚度爲薄之光學繞射層的高折射率層或低折射率層中至少1層中時，即使使用平均1次粒徑較添加於硬化樹脂層中之微粒子爲低時亦可使透明導電層表面粗 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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__r …本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）泛-0 -24- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局S工消費合作社印製五、發明説明（^ 面化。又，對所添加之微粒子的一次平均粒徑及添加量進行控制結果，可使未能由液晶所產生之RGB 三原光散射造成閃光之範圍的透明導電層表面粗面化。前述於高精細彩色液晶畫面上設置透明導電層表面粗面化之透明導電層所得的透明觸控板時，可使介由透明觸控板觀察時會之液晶晝面之顯示品質，與實質上未含微粒子之硬化樹脂層的具有平坦透明導電層表面之使用透明導電層的透明觸控板設置於高精細彩色液晶畫面上情形相同具有優良效果。又，使用添加有微粒子之由高折射率層或低折射率層中至少1個所得光學繞射層使透明導電層表面粗面化所得粗面化之透明導電性層合體的透明觸控板，可確認出其不具有因可動電極基板、固定電極基板之兩透明導電層表面間之黏附現象所產生透明觸控板之錯誤動作。如此，本發明之第二側面，可提供於高精細彩色液晶畫面上設置透明觸控板，而介由透明觸控板觀察液晶畫面時，不會造成顯示品質降低，此外，亦不會引起形成透明觸控板之可動電極基板、固定電極基板之兩透明導電層表面間之黏附現象所產生之錯誤動作，且可確保透明觸控板所要求之筆記耐久性等的透明導電性層合體與與透明觸控板。又，添加於構成光學繞射層之高折射率層或低折射率層中至少1個之微粒子B的添加量，以對添加有微粒子B 之層所構成之交聯聚合物，較佳爲金屬烷氧化物成分之0.5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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士夺紙張尺度適用中國國家標隼（CNS )八4規格（2丨〇、〆297公釐） -25- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（& 重量％以下時，可形成無損於由可動電極基板、固定電極基板之兩透明導電層表面間之黏附現象所產生之錯誤動作的抑制效果，且不會形成白濁狀的良好光學繞射層。微粒子B，添加於構成光學繞射層之高折射率層或低折射率層中至少1個時，若所添加之微粒子容易脫落或，降低光學繞射層與硬化樹脂層間之密著性時，將會損及觸控板所要求之筆記耐久性，故微粒子B以含於高折射率層，或含於高折射.率層與低折射率層中二者皆可。本發明之添加於構成光學繞射層之高折射率層或低折射率層中至少1個之微粒子B，以使用無機材料或有機材料皆可，而無須特別論其折射率（以高折射率層與低折射率層之折射率相近者爲佳）。例如可爲氧化矽微粒子、交聯丙烯酸微粒子、交聯聚苯乙烯微粒子等。該微粒子B之平均一次粒徑，其光學繞射層膜厚度之 1.1倍以上且平噘1次粒徑爲1.2 // m以下者。該微粒子之平均1次粒徑低於光學繞射層之膜厚度的1.1倍以下時，透明導電層表面交不易形成粗面化。又，該微粒子之平均1 次粒徑超過1.2 // m時，將添加有此種微粒子之構成光學繞射層之高折射率層或低折射率層中至少1個層所得層合體. 的透明觸控板設置於高精細彩色液晶畫面上時，於介由透明觸控板觀察時會之液晶畫面時，於液晶畫面上會發現閃光而使顯示品質降低。又，微粒子之平均1次粒徑超過1.2 // m時，添加有微粒子之光學繞射層的膜厚度遠較平均1 次粒徑爲大，故添加之微粒子極容易由光學繞射層脫落， (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) #·衣. 訂

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） A -26- 590890 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 ___ B7五、發明説明（） 25 本發明之透明導電性層合體可於光學繞射層與有機高分子薄膜間形成硬化樹脂層。硬化樹脂層爲一種可提高耐磨耗性、可撓性等之層。形成硬化樹脂層之材料，可使用熱硬化性型樹脂、紫外線等放射線性硬化型樹脂等硬化性樹脂。硬化樹脂之具體例如，甲基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷等作爲原料所得之有機矽烷系熱硬化型樹脂，醚化羥曱基三聚氰胺等爲原料之三聚氰胺熱硬化型樹脂，聚醇丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、脲烷丙烯酸酯、環氧基丙烯酸酯等爲原料之多官能丙烯酸酯系紫外線硬化型樹脂硬化樹脂層，於設有光學繞射層以使表面平坦化或粗面化皆可。粗面化時，可於硬化樹脂層內含有例如氧化矽微粒子等。但，利用作爲本發明第二側面時，設有光學繞射層之表面無須使其粗面化，較佳以平坦化爲宜。即，利用於本發明之第二側面時，於本發明之透明導電性層合體之光學繞射層與有機高分子薄膜間之硬化樹脂層，以實際上不含微粒子爲佳。硬化樹脂層中，若添加平均1次粒徑大於硬化樹脂層膜厚度之微粒子時，雖具有可迴避可動電極基板、固定電極基板之兩透明導電層表面間之黏附現象所產生之錯誤動作的效果，但仍會產生介由透明觸控板觀察時，於高精細彩色液晶畫面之顯示品質降低等問題。又，添加平均1次粒徑小於硬化樹脂層之膜厚度的微粒子時，除不具迴避上述黏附現象所產生之錯誤動作的效果外，介由透明觸控板觀察時，仍會產生高精細彩色液晶畫本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) #衣·

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-28- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（π) 26 面之顯示品質降低等問題。但，其可含有介由透明觸控板觀察時，不會妨礙高精細彩色液晶畫面之顯示品質的微粒子。又，爲防止可動電極基板與固定電極基板之繞射波爲目的時，可於透明導電層表面設置突起。防止繞射波爲目的之較佳表面形狀，以平均突起高度爲0.3至1// m，且突起之密度爲350至1 800個/mm2。硬化樹脂層之表面具有前述形狀之透明導電性層合體，於作爲可動電極基板及/或固定電極基板時，於可動電極基板所包圍之固定電極基板間距離在不黏附下，於兩透明導電層間亦不會產生繞射波，故可使顯示器之顯示畫面更容易觀看。又，平均突起高度低於0.3// m，且突起之密度低於350個/mm2時，其防止繞射之效果亦不佳。又，平均突起高度超過時，會降低筆輸入之耐久性。又，突起密度超過1800個/mm2時，容易造成因透明導電性層合體之模糊度會增加而造成顯示文字焦點擴散而不易觀看等問題。又，僅以防止黏附現象爲目的時，即使平均突起低於〇.3 // m時，突起密度亦可低於 350 個 /mm2 〇以下，平均突起高度、突起密度係依以下方式求得。首先使用理雅掃描型雷射顯微鏡（雷射合作公司製’ 1LM21D )，隨機選取250 // m四方視角的突起10至20 個，於測定各突起之高度後，計算其平均之突起高度。又，並以突起之數目計算同一視角內突起之密度（單位面積之突起數）。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29 - 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（27) 硬化樹脂層之厚度，就可撓性、耐磨擦性等觀點而言，以2至5 // m爲佳。硬化樹脂層係以塗覆方式形成。實際之塗覆法，，例如將前記化合物與各種添加劑（硬化劑、觸媒等）溶解於各種有機溶劑中，使用調節濃度或黏度後之塗覆液，塗覆於下層後，再以放射線照射或加熱處理等方式使層硬化。塗覆方法例如可使用微凹板塗覆法、麥耶條狀塗覆法、直接式凹板塗覆法、逆輥塗覆法、簾幕塗覆法、噴霧塗覆法、輥麻塗覆法、模式塗覆法、刮板塗覆法、旋轉塗覆法等各種方法。硬化樹脂層之厚度，就可撓性、耐磨擦性等觀點而言，以2至5//m爲佳。硬化樹脂層可於有機高分子薄膜上直接、或介由適當之固定層而層合。前述固定層例如，具有提高硬化樹脂層與有機高分子薄膜密著性機能之層，或具有K値（K二 [(iix + riy) /2·Πζ]χ(1 ’ 其中 ’ Πχ、iiy、riz 爲-X、y、z 軸方向之折射率，X軸、y軸爲薄膜平面內之正交軸，Z軸爲薄膜之厚度方向軸）爲負値之具有三次元折射率之層等之各種相位補償層、具有防止水分或空氣透過等機能或具有吸收水分或空氣等機能之層、具有吸收紫外線或紅外線機能之層、具有降低基板靜電性機能之層等。 (3)有機高分子薄膜本發明所使用之構成有機高分子薄膜之有機高# + (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -濟衣· 訂

U本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30 - 590890 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（28) 合物，只要其爲具有優良耐熱性之透明有機高分子時並未有特別之限定。例如可爲聚對苯二甲酸乙酯、聚酯-2,6-萘酯、聚二烯丙基苯甲酸酯等聚酯系樹脂，聚碳酸酯樹脂、聚醚磺酸樹脂、聚磺酸樹脂、聚丙烯酸樹脂、丙烯酸樹脂、纖維素乙酸酯樹脂、環狀聚烯烴、原菠烷樹脂等。當然亦可使用其均聚物或共聚物，或單獨或摻合物。又，將2 片以上由前述樹脂所形成之有機高分子薄膜以黏著劑貼合層合所得之高分子薄膜亦可使用。本發明之透明導電性層合體作爲透明觸控板之可動電極基板使用時，爲保持其於透明觸控板作爲開關動作時之可撓性與平坦性之強度，該有機高分子薄膜於基板形狀下之後度以75至400 // m之薄膜狀爲佳。作爲固定電極基板使用時，爲保持其平坦性之強度時，其厚度以0.4至4.0 n m 薄片狀者爲佳，厚度爲50至400 // m之薄膜狀之物，可與其他薄片貼合，以使其具有全體厚度爲0.4至4.0mm者亦可。本發明之透明導電層合體作爲透明透明觸控板之可動電極基板使用時，固定電極基板以使用於有機高分子薄膜基板、玻璃基板或其層合體積板上形成透明導電層者爲佳。就透明觸控板之強度、重量之觀點而言，以由單層或層合體所得之固定電極基板的厚度爲0.4至2.0mm爲佳。又，最近已開發出於透明觸控板之輸入側（使用者側）之面的偏光板，具有由（偏光板+相位差薄膜）層合所得之新型透明觸控板。此構成之優點主要係前記偏光板或 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 参衣· -訂

Η Γ本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1 -L - -J -31 - 590890 A7 B7 五、發明説明（3Q) 晶性烯烴及其變性物或另種材料之共聚物等成型基板爲最佳。更具體而言，聚碳酸酯例如雙酚A、1，1-二（4-苯酚）環己亞基、3,3,5 -三甲基-1，1-二（4 -苯酌）環己亞基、荀-9,9-二（4-苯酚）、芴-9,9-二（3-甲基-4-苯酚）等群中所選出之至少1種成分作爲單體所得之聚合物或共聚物或其混合物，且平均分子量約爲1 5000至100000範圍之聚碳酸酯 (商品名.，例如帝人公司製「比亞斯」、帝人公司製「帕來特」或拜耳公司製「ApecHT」等）所製得之成型基板爲佳。又，非晶性聚丙烯酸酯，例如商品名爲鐘淵化學公司製「耶魯麥」、優尼公司製「U聚合物」、意索公司製「依沙魯」等之成型基板等。又，非晶性聚烯烴例如商品名爲日本傑爾公司製「傑爾能」或JSR公司製「亞噸」等之成型基板。又，前述高分子材料之成型方法，例如捨用熔融擠壓法或溶液延流法、射出成||法等方法，就製得具有優良光 ’V、學等向性之觀點而言，以使用溶液延流法進行成型爲佳。 (4 )透明導電層本發明中，於上記低折射率層上係設置透明導電膜。於上記低折射率層上設置透明導電膜，可提高透明導電性層合體之光學特性、筆記耐久性等機械特性。透明導電層係由含有2至20重量％之ITO膜或摻雜有銻或氟之氧化錫 11.7：本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Μ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -33- 590890 A7 B7 五、發明説明（31) 膜。形成透明導電層之方法，例如可使用濺鍍法、真空蒸鍍法、離子蒸鍍法等PVD法或塗覆法、印刷法、CVD法等，其中又以PVD法或CVD法爲佳。於PVD法或CVD法時，透明導電層之厚度就透明性與導電性觀點而言，以5 至50nm爲佳。又，透明導電層可以主要爲結晶質氧化銦所得之膜爲更佳。特別是結晶粒徑爲2000nm以下爲主之結晶質銦氧化物所得之層爲最佳。結晶粒徑超過2000nm時，會造成筆輸入耐久性惡化而爲不佳。就光學特性與電阻値之安定性觀點，膜厚度以12至30nm爲更佳。透明導電層之膜厚度低於1 2nm時，電阻時或經時安定性會有劣化之傾向，又超過30nm時，因會造成透明導電性層合體之透過率降低而爲不佳。爲降低觸控板之消耗電力與電路處理上必要性觀點，以使用膜厚度12至30nm，且表面電阻爲100至 2000 Ω/□，更佳爲140至2000 Ω/□之範圍的透明導電層爲宜。上記由主要結晶質爲銦氧化物所構成之層，於提高透明性、調整表面電阻値爲目的時，可添加1種或2種選自氧化錫、氧化矽、氧化鈦、氧化鋁、氧化锆、氧化鋅等金屬氧化物。特別是，結晶質之銦錫氧合物（ITO )具有優良透明性、導電性等故爲較佳。製造使用上記結晶粒徑2000nm以下爲主之結晶質銦氧化物所得層之方法例如下所示。首先先將含有微小結晶核之非晶質的銦錫氧化物膜以濺鍍法、離子蒸鍍法、真空蒸鍍法等公知之PVD法進行層合。隨後，於1〇〇至150°C之 m本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）

I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -34- 590890 A7 B7 五、發明説明（32) 溫度進行鍛燒處理以使其以微小之晶核爲中心進行結晶成長。依PVD法之成型條件，例如以最小粒徑10nm形成最大粒徑300nm範圍之結晶粒徑分布膜，或以最小粒徑 250nm形成最大粒徑2000nm範圍之結晶粒徑分布膜。將此膜作爲透明導電層使用時可提高筆輸入耐久性，此外，因具有結晶粒徑分布般之膜構造，故於使用筆輸入時，結晶粒界可緩和加諸透明導電層之應力，而可增強透明導電層本身之膜強度。此結晶粒徑係指使用穿透型電子顯微鏡 (TEM )觀察所得之多角形狀或長圓形等各區域中對角線或直徑中最大者。 (5 )另1面之硬化樹脂層本發明之透明導電性層合體作爲可動電極基板使用時，透明觸控板中受外力施加之面，以使用硬化樹脂層爲佳。形成硬化樹脂層之材料，例如甲基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷等作爲原料所得之有機矽烷系熱硬化型樹月旨，或醚化羥甲基三聚氰胺等爲原料之三聚氰胺熱硬化型樹脂，聚醇丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、脲烷丙烯酸酯、環氧基丙烯酸酯等爲原料之多官能丙烯酸酯系紫外線硬化型樹脂等。必要時，可使用混合有氧化矽超微粒子之樹脂。硬化樹脂層之厚度，就可撓性、耐磨擦性等觀點而言，以2 至5 // m爲佳。 (6 )中間層 !/：1本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、?τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -35- 590890 A7 B7 五、發明説明（） 33 本發明之透明導電性層合體，於不損及本發明目的之範圍內，構成該透明導電層之各層，即有機高分子薄膜與硬化樹脂層間，硬化樹脂層與光學繞設層間可含有黏著層等中間層。例如，硬化樹脂層係於有機高分子薄膜上直接、或介由適當固定層予以層合。前述固定層例如，具有提高硬化樹脂層與有機高分子薄膜密著性機能之層，或具有K値爲負値之具有三次元折射率之層等之各種相位補償層、具有防止水分或空氣透過等機能或具有吸收水分或空氣等機能之層、具有吸收紫外線或紅外線機能之層、具有降低基板靜電性機能之層等。 (7)層合形式有機高分子薄膜基板使用本發明之透明導電性層合體作爲觸控板之可動電極基板使用時，爲提昇觸控板之手指輸入耐久性（敲撃特性）、筆輸入耐久性（筆端滑動性），高溫或高濕環境下之信賴度，可於有機高分子薄膜之透明導電層的相對側之面介由楊氏率較有機高分子薄膜爲低之透明彈性層與透明基材層合後使用。圖2係爲此實施態樣之透明導電性層合體之構成例。圖2中，與圖1相同部分請參考圖1之標號。即，有機高分子薄膜1，硬化樹脂層2，高折射率層3，低折射率層 4，透明導電層5，硬化樹脂層6。此實施態樣中，基板薄膜係由有機高分子薄膜1與透明基材8之間挾夾透明彈性 •本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -36- 590890 A7 B7 五、發明説明（） 38 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 用塗覆液B以條狀塗覆法進行塗覆，並進行130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度70nm之高折射率層。隨後，於該高折射率層上將塗覆液A以條狀塗覆法進行塗覆，並進行1 30 °C、2分鐘之熱培後形成膜厚度45nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再於此低折射率層上，將氧化銦與氧化錫以重量比9 : 1之組成，使用塡充密度爲98%之氧化銦-錫標靶以濺鍍法形成 ITO層作爲可動電極基板所得之透明導電性層合體。於ITO 製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲91.3% ，模糊値爲2.4% 。經濟部智慧財產局8工消費合作社印製另外，於厚度1.1mm之玻璃基板兩側面上以浸漬塗覆法塗覆後，以相同方法並使用濺鍍法形成厚度18nm之ITO 膜。隨後於ITO膜上形成高度7// m、直徑70// m、間隙 1.5mm之點狀調距器之方式製作固定電極基板。使用所製作之固定電極基板與可動電極基板製作如圖5所示之透明觸控板。並對所製作之透明觸控板由可動電極側之前端以 0.8R之聚縮醛製筆於荷重250g下以直線往返30萬次之方式進行筆記耐久性試驗。並對筆記耐久性試驗後之透明觸控板之電特性（線性）及光學繞射層之外觀進行觀察。其結果如表1所示。 [實施例2] 於厚度188// m之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜（帝人公司製 OFW )之一側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸 .矣紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ' 1- z ._? -41 - 590890 Α7 Β7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（）酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層（1 )。隨後於相對側以平均一次粒徑4.0 // m之氧化矽粒子以對樹脂固體成分1 00重量份爲0· 1重量份之比例混合所得之紫外線硬化型脲烷丙烯酸樹脂形成厚度3 // m之硬化樹脂層（2 )。又，以下實施例之硬化層中，有關添加氧化矽粒子之例示係全部屬於此內容。使用實施例1所使用之塗覆液A中之1次粒徑爲50nm 之Sn〇2微粒子以Sn〇2微粒子與烷氧基矽烷之重量比爲 50 : 50之方式混合以製作塗覆液C。並於含有氧化矽粒子之上記硬化樹脂層（2 )面上，使用塗覆液C以條狀塗覆法進行塗覆，並進行13(TC、2分鐘之熱培後形成膜厚度70nm 之高折射率層。隨後，將實施例1所使用之塗覆液A中1 次粒徑爲90nm之MgF2微粒子以MgF2微粒子與烷氧基矽烷以重量比10 : 90之方式混合以製作塗覆液D。將塗覆液D 以條狀塗覆法塗覆於該高折射率層上，並進行130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度50nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再於此低折射率層上，將氧化銦與氧化錫以重量比9 : 1之組成，使用塡充密度爲98%之氧化銦-錫標靶以反應性濺鍍法於該低折射率層上形成銦錫低級氧化物膜後，於150°C下處理15小時，得厚度19nm、表面電阻爲約400 Ω /□(約400 Ω /平方）之結晶性ITO膜作爲可動電極基板所得之透明導電性層合體。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲90.2% ，模糊値爲2.8% 。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣·

、1T

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 42- 590890 A7 B7 五、發明説明（_) 45 該高折射率層上以條狀塗覆法進行塗覆，並進行130°C、2 分鐘之熱培後形成膜厚度45nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再將依實施例1相同方法於低折射率層上形成ITO膜作爲可動電極基板而製得透明導電性層合體。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲89.5% ，模糊値爲2.7% 。使用所製得之可動電極基板與實施例1附有透明導電層之玻璃固定電極基板相同之固定電極基板製作如圖5所示之透明觸控板，並依實施例1相同方式般進行荷重250g 下之直線往返30萬次的筆記耐久性試驗。其結果如表1所 7\\ 0 表1 全光線透過率（°/〇 ) 模糊値（％ ) 荷重250g下之直線往返30萬次的筆記耐久性實施例1 91.3 2.4 電特性、外觀皆無變化實施例2 90.2 2.8 電特性、外觀皆無變化實施例3 可動電極：91.1 可動電極：2.4 電特性、外觀皆無變化固定電極：90.8 固定電極：1.7 實施例4 可動電極：89.8 可動電極：2.5 電特性、外觀皆無變化固定電極：90.2 固定電極：1.5 參考例 91.0 2.7 電特性異常，光學繞射層剝離比較例1 89.5 2.7 電特性異常，光學繞射層剝離 [實施例5] _、本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -48- 590890 A7 B7 五、發明説明（49) 塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層（2 )。隨後將比較例1所使用之塗覆液I以含量爲90%之方式，將塗覆液I與實施例1所使用之混有塗覆液A所得之金屬烷氧化物的混合液中，混以1次粒徑爲20nm之TiCh微粒子以TiCh微粒子與金屬烷氧化物之重量比爲15 : 85之方式混合以製作塗覆液L。於含有氧化政粒子之硬化樹脂層 (2 )面上，使用塗覆液L以條狀塗覆法進行塗覆，並進行 13(TC、2分鐘之熱培後形成膜厚度40nm之高折射率層。隨後，於該高折射率層上將塗覆液J以條狀塗覆法進行塗覆，並進行130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度40nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再於此低折射光學繞射層。再將依實施例5相同方法於該低折射率層上形成之ITO膜作爲可動電極基板而製得透明導電性層合體。ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲93.4% ，模糊値爲2.8% 。另外，於厚度1.0mm之聚碳酸酯薄片（帝人化成公司製帕來特）之兩側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層。隨後於硬化樹脂層之一側面上，將塗覆液L使用旋轉塗覆法進行塗覆，並進行130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度40nm之高折射率層，隨後，於該高折射率層上將塗覆液A以條狀塗覆法進行塗覆，並進行130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度40nm 之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再將依實施例5相同方法於低折射率層上务紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — ^^1 — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 • ftii— —ϋ -52- 590890 五、發明説明（5()) 形成ΙΤ〇膜，以製作透明導電性層合體。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲94.0% ，模糊値爲1.8 % 。以於ΙΤΟ膜上形成高度7 // m、直徑70 // m、間距 1.5mm之點狀調距器之方式製作固定電極基板。使用所製得之可動電極基板與固定電極基板製作圖6 所示之透明觸控板，並依實施例5相同方式般進行荷重 250g下之直線往返45萬次的筆記耐久性試驗。其結果如表 2所示。. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 表2 全光線透過率（％ ) 模糊値（％ ) 荷重250g下之直線往返30萬次的筆記耐久性實施例5 93.0 2.5 電特性、外觀皆無變化實施例3 可動電極：93· 1 可動電極：2·4 電特性、外觀皆無變化固定電極：92.8 固定電極：1.7 實施例4 可動電極：93.4 可動電極：2.8 電特性、外觀皆無變化固定電極：94.0 固定電極：1·8 il. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 [實施例8] 於厚度188// m之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜（帝人杜邦公司製 OFW )之一側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層（1 )。以塗覆液I中平均粒徑爲0·5 // m之氧化矽微粒子對四丁氧基鈦酸酯之100重量份爲0.3重量份之方式混合，以製 -53- 590890 A7 ______ B7_ 五、發明説明（） 51 得塗覆液Μ。使用塗覆液Μ於硬化樹脂層（1 )面上以條狀塗覆法進行塗覆，並進行13(TC、2分鐘之熱培後形成膜厚度50nm 之高折射率層。隨後，於該高折射率層上將烷氧基矽烷塗覆液A以條狀塗覆法進行塗覆，並進行1 3CTC、2分鐘之熱培後形成膜厚度45nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。於此低折射光學繞射層上，將依實施例1相同方法所形成ITO層膜作爲可動電極基板而製得透明導電性層合體。所形成之ITO層之膜厚度約爲20nm、表面電阻爲約 280 Ω /□。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲91.7% ，模糊値爲1.4% 。另外，使用依實施例5相同方法製作之附有透明導電層固定電極基板與可動電極基板製作如圖5所示透明觸控板。所製得之透明觸控板由可動電極側之前端以0.8R之聚縮醛製筆於荷重250g下以直線往返30萬次之方式進行筆記耐久性試驗。並對筆記耐久性試驗後之透明觸控板之電特性（線性）及光學繞射層之外觀進行觀察。爲確認可動電極基板與固定電極基板之透明導電層間之黏附現象，以使用筆以任意之壓力加壓於透明觸控板使可動電極基板與固定電極基板之透明導電層間接觸，並調查筆移動後之於可動電極基板與固定電極基板之透明導電層間是否有黏附現象。又，將透明觸控板設置於高精細彩色液晶畫面上，與介由透明觸控板觀察液晶畫面所得結果。其結果如表3 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 41^· 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 - 54 - 590890 A7 B7 五、發明説明（m) 52 所示。 [實施例9] 於厚度188// m之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜（帝人杜邦公司製 OFW )之兩側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層（1 )。將塗覆液Μ與塗覆液A之混合比爲70 : 30之比例製作塗覆液N .，並於塗覆液N中添加平均1次粒徑爲20nm之 Ti〇2微粒子以Ti〇2微粒子與金屬烷氧化物之重量比例爲 30 : 70之方式混合以製得塗覆液0。於上記硬化樹脂層 (1 )面上將塗覆液0以條狀塗覆法進行塗覆，並進行1 30 °C、2分鐘之熱培後形成膜厚度55nm之高折射率層。隨後，於該高折射率層上將實施例1所使用之塗覆液A以條狀塗覆法進行塗覆，並進行13(TC、2分鐘之熱培後形成膜厚度40nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。於此低折射光學繞射層上，將依實施例1相同方法所形成ITO膜作爲可動電極基板而製得透明導電性層合體。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲90.1% ，模糊値爲2.1% 。另外，於厚度75 // m之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜 (帝人杜邦公司製 OFW )之兩側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層 (1 )。以下則以與上記可動電極基板相同法般，於硬化樹脂層（1 )面上將塗覆液L以條狀塗覆法進行塗覆，並進行。夯紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 b 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -55- 590890 A7 _ B7 五、發明説明（ 53 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度55nm之高折射率層。隨後’於該高折射率層上將塗覆液A以條狀塗覆法進行塗覆’並進行130t、2分鐘之熱培後形成膜厚度40nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再於此低折射光學繞射層上，將依實施例1相同方法所形成ITO膜並製得透明導電性層合體。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲90.4% ，模糊値爲1.9% 。將此透明導電性層合體與形成ITO膜側之另一面以1.1mm之聚碳酸酯與黏著劑進行貼合，隨後於ιτ〇膜上形成高度7/z m、直徑70/z m、間距1.5mm之點狀調距器以製作固定電極基板。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製使用所製得之可動電極基板與固定電極基板製作如圖6 所示透明觸控板。並觀察依實施例8相同方法進行筆記耐久性試驗後之透明觸控板之電特性（線性）及光學繞射層之外觀進行觀察。並調查可動電極基板與固定電極基板間有無發生黏附現象，隨後將透明觸控板設置於高精細彩色液晶畫面上，並觀察介由透明觸控板觀看液晶畫面之結果。其結果如表3所示。 [比較例2] 於厚度1 8 8 // m之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜（帝人杜邦公司製〇FW )之兩側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層（丨）。於實施例8中所使用之塗覆液I中添加平均1次粒徑爲本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐）

•4 A -56- 590890 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（cc) 55 重量份之比例混合製作塗覆液Q。將塗覆液Q，於硬化樹脂層（1)面上以條狀塗覆法進行塗覆，並進行130°C、2分鐘之熱培後形成膜厚度50nm之高折射率層。隨後，於該高折射率層上將塗覆液A以條狀塗覆法進行塗覆，並進行1 30 °C、2分鐘之熱培後形成膜厚度45nm之低折射率層，而形成由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再依實施例8相同之方法，於低折射光學繞射層上形成ITO膜，作爲可動電極基板而製得透明導電性層合體。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲91.4 % ，模糊値爲2.3% 。將所製得之可動電極基板與實施例8相同之固定電極基板製作如圖5所示透明觸控板。並進行與實施例8相同之筆記耐久性試驗。因添加於光學繞射層中之微粒子的一次粒徑過大，故進行筆記耐久性試驗時，光學繞射層中之微粒子產生脫落，故透明觸控板之電特性（線性）與光學繞射層之外觀極差。又，將透明觸控板設置於高精細彩色液晶畫面上，並觀察介由透明觸控板觀看液晶畫面之結果。因所添加之微粒子的1次粒子過大，故觀察出有閃爍現象。矣紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣·

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-58- 590890 A7 B7 五、發明説明（ 56, 表筆記耐久性黏附現象之有無觀看液晶晝面之情形實施例8 電特性、外觀皆無變化 >frrr π It: j\\\ 良好實施例9 電特性、外觀皆無變化 ιΤΤΓ j\\\ 良好 [實施例10] 於厚度188//m之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜（帝人杜邦公司製 OFW )之兩側面上，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料形成厚度3 // m之硬化樹脂層（1 )。將實施例8中製得之塗覆液Μ於硬化樹脂層（1 )面上以條狀塗覆法進行塗覆，並進行13(TC ' 2分鐘之熱培後形成膜厚度50nm之高折射率層。隨後，將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯3 1.3重量份與二羥甲基丙烷六丙烯酸酯62.6重量份所得之紫外線硬化性樹脂，與1-羥基-環己基-苯基-酮5.0重量份、二苯甲酮1.〇重量份所得之光起始劑，與異丙基醇與1-甲氧基-2-丙醇之混合溶劑所製得之稀釋劑，製作塗覆液R。於該高折射率層上將塗覆液R以條狀塗覆法進行塗覆，並進行60°C、2分鐘之乾燥後，使用強度160W/cm之高壓水銀燈以積算光量爲300m】/cm2之條件下使塗覆膜硬化，以形成膜厚度45nm之低折射率層，並製作由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再於此低折射率層 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 衣· -訂· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製適度尺張紙本準標家國國公 97 2 -59- 590890 A7 B7 五、發明説明（） 58 於含有氧化矽粒子之上記硬化樹脂層（2 )面上，將實施例7之塗覆液L以條狀塗覆法進行塗覆，並進行1 30°C、 2分鐘之熱培後形成膜厚度55nm之高折射率層。隨後高折射率層上，將實施例10所使用之塗覆液R以條狀塗覆法進行塗覆，並進行60°C、2分鐘之乾燥後，使用強度160W/cm 之高壓水銀燈以積算光量爲300m〗/cm2之條件下使塗覆膜硬化，以形成膜厚度45nm之低折射率層，並製作由高折射率層與低折射率層所構成之光學繞射層。再於此低折射率層上，使用氧化銦與氧化錫之重量比爲9 : 1之組成，塡充密度爲98%之氧化銦-錫標靶以濺鍍法ITO層，並作爲可電電極基板而製得透明導電性層合體。所形成之ITO層之膜厚度約爲20nm、表面電阻爲約280 Ω /□。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲90.6% ，模糊値爲2.5 °/〇〇另外，依實施例1相同方法製作附有ITO膜之固定電極基板。使用所製得之固定電極基板與可動電極基板製作如圖5所示透明觸控板。所製得之透明觸控板由可動電極側之前端以0.8R之聚縮醛製筆於荷重250g下以直線往返 30萬次之方式進行筆記耐久性試驗。並對筆記耐久性試驗後之透明觸控板之電特性（線性）及光學繞射層之外觀進行觀察。其結果如表4所示。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -61 - 590890 A7 B7 五、發明説明（6()) 材8使用。於該聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜之一側面上，使用含有1%之由r -胺基丙基三乙氧基矽烷水解生成之低聚物成分之塗覆液塗覆後，經130°C、5分鐘乾燥以進行底層塗覆處理。其次，於底層塗覆處理面上，以含有聚二曱基矽氧烷所得聚矽氧樹脂成分之塗覆液Y舖設厚度30 // m之透明彈性層7。該透明彈性層7之楊氏率爲1.4 X 108Pa。又，依同樣方法測定之無塗覆層的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的楊氏率爲5·4 X 109 Pa。該透明彈性層7上再與其他聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜之底層處理面貼合，而製得聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、透明彈性層、聚對苯二曱酸乙二醇酯薄膜所構成之層合體R。隨後，使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料於該層合體R之兩側面上塗覆厚度3 // m之硬化樹脂層2、6，而製得硬化樹脂層2、聚對苯二甲酸乙二醇酯1、透明彈性層7、聚對苯二甲酸乙二醇酯8、硬化樹脂層6所構成之層合體S。使用實施例8所製得之塗覆液Μ，於硬化樹脂層2面上，以條狀塗覆法進行塗覆並實施130°C、2分鐘之燒培後，形成膜厚度50nm之高折射率層。於前記高折射率層上使用烷氧基矽烷塗覆液A，以條狀塗覆法進行塗覆並實施130°C、2分鐘之燒培後，形成膜厚度45nm之低折射率層，並製得由高折射率層與低折射率層所形成之光學繞射層。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -63- 590890 A7 __ B7 五、發明説明（〜） 61 隨後，再於此低折射率層上，依實施例1之方法形成 ITO層，並作爲可動電極基板以製作實施例12之透明導電性層合體。所形成之ITO層之厚度約爲20nm，表面電阻爲約280 Ω/□。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲91.0% ，模糊値爲1.7% 。又，爲製作實施例13之透明導電性層合體，則先行使用紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料於該層合體之一側面上舖設厚度3 // m之硬化樹脂層6，隨後於相對側面上使用混有氧化矽粒子之紫外線硬化型脲烷丙烯酸酯樹脂塗料舖設厚度3 // m之硬化樹脂層2，而製得硬化樹脂層6、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜8、透明彈性層7、聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜1、硬化樹脂層2,所構成之層合體T。使用實施例7所製得之塗覆液L，於硬化樹脂層2’面上，以條狀塗覆法進行塗覆並實施1 30°C、2分鐘之燒培後，形成膜厚度50nm之高折射率層。於前記高折射率層上使用烷氧基矽烷塗覆液A，以條狀塗覆法進行塗覆並實施13(TC、2分鐘之燒培後，形成膜厚度45nm之低折射率層，並製得由高折射率層與低折射率層所形成之光學繞射層。隨後，再於此低折射率層上，依實施例1之方法形成 IT〇層，並作爲可動電極基板以製作實施例1 5之透明導電性層合體。所形成之ΙΤΟ層之厚度約爲20nm，表面電阻爲約280 Ω /□。於ITO製膜後之透明導電性層合體之全光線透過率爲90.7% ，模糊値爲2.8% 。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -64- 590890

B 五、發明説明（62 ) 使用所製得之固定電極與可動電極基板製作如圖3所示透明觸控板。所製得之透明觸控板由可動電極側之前端以0.8R之聚縮醛製筆於荷重250g下以直線往返30萬次之方式進行筆記耐久性試驗。並對筆記耐久性試驗後之透明觸控板之電特性（線性）及光學繞射層之外觀進行觀察。其結果如表5所示。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝.· 、11 表5 全光線透過率模糊値 250g荷重下直線往返30萬次之筆記耐久性實施例12 90.6 2.5 電特性、外觀皆無變化實施例13 90.7 2.8 電特性、外觀皆無變化【產業上利用性】 Φ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製依本發明之技術內容，係提供一種光學繞射層係使用含有由金屬氧化物及/或金屬氟化物所得之1次粒徑爲 100nm以下之超微粒子的烷氧基矽烷之硬化物層，且使該超微粒子與烷氧基矽烷之重量比於特定之比例下，即可以低成本製得具有優良透明性且可確保透明觸控板所要求之筆記耐久性等之透明導電性層合體。又，依本發明之內容，於由低折射率層與高折射率層所得之光學繞射層中，低折射率層係使用烷氧基矽烷之硬化物層，高折射率層係使用以烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化物爲主成分之硬化物層，且高折射率層中含有特定比例之由金屬氧化物所得之丨次粒徑爲lOOnm以下之超微粒子時，即可以低成本提供一種 i43本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）广厂 -65 - 590890 A7 B7 五、發明説明（63 ) 具有優良透明性，且可確保透明觸控板所要求之筆記耐久性等之透明導電性層合體。此外，依本發明之內容，亦可提供一種電特性及外觀皆未產生變化，且具有優良筆記耐久性，未發生現黏附現象之可提供良好液晶顯示面板之適用於觸控板用之透明導電性層合體。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 Φ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -66-

Claims

590890 A8 B8 C8 D8 '1 乂 F: 甘申請專利範圍附件5: 第91 120091號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國93年2月13日修正 1. 一種透明導電性層合體，其係爲由有機高分子薄膜層合透明導電層所得之透明導電性層合體，其特徵爲，有機高分子薄膜之至少一側面上依序層合光學繞射層、透明導電層，且光學繞射層係由高折射率層與低折射率層所構成，又，低折射率層係與透明導電層連接，高折射率層與低折射率層係由交聯聚合物所構成，且，高折射率層與低折射率層中至少一個係含有1次粒徑爲100nm以下之金屬氧化物及/或金屬氟化物之超微粒子。 2. 如申請專利範圍第1項之透明導電性層合體，其中前記金屬氧化物及/或金屬氟化物係使用選自 Ah〇3、Bi2〇3、 Ce〇2、In2〇3、In2〇3-Sn〇2、HfCh、La2〇3、MgF2、Sb2〇5、 Sb2〇5-Sn〇2、SiCh、Sn〇2、TiCh、Y2〇3、Zn〇與 Zr〇2 所成群中之至少1種者。 3. 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其中高折射率層與低折射率層中至少1個之交聯聚合物係由金屬烷氧化物經水解與縮聚合所形成者。 4. 如申請專利範圍第3項之透明導電性層合體，其中前記超微粒子與前記金屬烷氧化物之重量比爲5: 95〜80: 20 c 5·如申請專利範圍第4項之透明導電性層合體，其中前氏張尺度適用中國國家標準（CNS ) A#見格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項本頁)

、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 590890 A8 B8 C8 __ D8 六、申請專利範圍記高折射率層係由前記超微粒子與烷氧基矽烷以重量比5 : 95〜80 : 20所得混合物經水解與縮聚合所形成者。 6.如申請專利範圍第3項之透明導電性層合體，其中前記高折射率層係由前記超微粒子與金屬烷氧化物以重量比 1 : 99〜60 : 40所得混合物經水解與縮聚合所形成，且前記金屬烷氧化物係以烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化物爲主要成分者。 7·如申請專利範圍第1項之透明導電性層合體，其中前記高折射率層係由前記超微粒子與前記熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂以重量比5 : 95〜80 : 20之混合物所形成者。 8. 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其中尚折射率層與低折射率層中至少1個之交聯聚合物係爲熱硬化型樹脂或放射線硬化型樹脂。 9. 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其中高折射率層與與低折射率層之折射率差爲0.2以上。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 10. 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其中高折射率層與低折射率層中至少1個中，含有平均1 次粒徑爲高光學繞射層膜厚之1.1倍以上，且平均粒徑爲 1.2//m以下之第2微粒子，且前記第2微粒子之含量係爲形成含有該第2微粒子之高折射率層及/或低折射率層之交聯聚合物成分的0.5重量％以下。 11. 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其中有機高分子薄膜與與光學繞射層間係具有硬化樹脂本紙張尺度適用中國國家揉準( CNS ) A4規格（ 210X297公釐） -2 - 590890 A8 B8 C8 D8 夂、申請專利範圍層。 -- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 12. 如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其中硬化樹脂層係由熱硬化型樹脂或放射線硬化型樹脂所形成，且膜厚爲2〜5//m。 13. 如申請專利範圍第1.或2項之透明導電性層合體，其中前記硬化樹脂層係含有第3微粒子。 14. 如申請專利範圍第1項之透明導電性層合體，其中高折射率層係由超微粒子與金屬烷氧化物所得之混合物經水解與縮聚合所形成，金屬烷氧化物係由烷氧基矽烷以外之金屬烷氧化物爲主成分所得者，低折射率層係由烷氧基矽烷經水解與縮聚合所形成，又，超微粒子爲Ti〇2，第3 微粒子爲氧化矽粒子。

1 5 .如申請專利範圍第1或2項之透明導電性層合體，其係於有機高分子薄膜之光學繞射層的相對側之面上，介由楊氏率較有機高分子薄膜爲低之透明彈與透明基材層合。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 6. —種透明導電性層合體，其係爲於有機高分子薄膜上層合透明導電層所得之透明導電性層合體，其特徵爲，有機高分子薄膜之至少一側面上依序層合光學繞射層、透明導電層，且光學繞射層係由高折射率層與低折射率層所構成’ 又，低折射率層係與透明導電層連接，光學繞射層係由交聯聚合物所構成，高折射率層與低折射率層中之至少1個係含有平均1次粒徑爲光學繞射層本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X：297公漦） -3- 590890 A8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍膜厚的1.1倍以上，且平均1次粒徑爲1·2// m以下之微粒子B，且，微粒子B之含量係爲形成含有微粒子B之高折射率及/或低折射率之交聯聚合物成分的0.5重量％以下。 17. 如申請專利範圍第16項之透明導電性層合體，其中交聯聚合物係爲金屬烷氧化物經水解與縮聚合所形成，且爲熱硬化型樹脂或放射線硬化型樹脂。 18. 如申請專利範圍第16或17項之透明導電性層合體，其中高折射率層與低折射率層中之至少1個係含有平均1次粒徑爲l〇〇nm以下之超微粒子A，且（超微粒子）：（交聯聚合物）之重量比爲〇 : 1〇〇〜80 : 20者。 1 9.如申請專利範圍第1 8項之透明導電性層合體，其中高折射率層係由超微粒子A與前記熱硬化性樹脂或放射線硬化性樹脂以重量比5 : 95〜80 : 20之混合物所形成者。 20.如申請專利範圍第16或17項之透明導電性層合體，其中有機高分子薄膜與光學繞射層間具有硬化樹脂層。 2 1.如申請專利範圍第20項之透明導電性層合體，其中硬化樹脂層係由熱硬化型樹脂或放射線硬化型樹脂所形成，且膜厚度爲2〜5 // m者。 22. 如申請專利範圍第16或17項之透明導電性層合體，其中硬化樹脂層中並未含有厚度較硬化樹脂層爲厚之微粒子。 23. 如申請專利範圍第16項之透明導電性層合體，其中高折射率層係由微粒子B與金屬烷氧化物所得混合物以水本^張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4規& ( 210X297公釐） ' (請先聞讀背面之注意事項再本頁) 本訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -4 - 590890 8 8 8 8 ABCD 六、申請專利範圍 Μ胃ϋ聚合所形成者，又，金屬烷氧化物係以烷氧基矽烷 w t金屬烷氧化物爲主成分，低折射率層係由烷氧基矽院，經水解與縮聚合所形成者，前記微粒子b係爲氧化矽。 24·如申請專利範圍第或17項之透明導電性層合體’其係於有機高分子薄膜之光學繞射層的相對側之面上’介由楊氏率較有機高分子薄膜爲低之透明彈與透明基材層合。 25. —種透明觸控板，其係爲由至少側面設有透明導電層之2片透明電極基板以透明導電層相對向之配置方式所構成之觸控板，其特徵爲，至少一側之透明電極基板係使用申請專利範圍第1至24項中任一項之透明導電性層合體者。 26. 如申請專利範圍第25項之透明觸控板，其中可動電極基板與固定電極基板之兩側係使用透明導電性層合體。· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -5-