TW562708B - Method and apparatus for forming a coating - Google Patents

Method and apparatus for forming a coating Download PDF

Info

Publication number
TW562708B
TW562708B TW090124519A TW90124519A TW562708B TW 562708 B TW562708 B TW 562708B TW 090124519 A TW090124519 A TW 090124519A TW 90124519 A TW90124519 A TW 90124519A TW 562708 B TW562708 B TW 562708B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
coating
substrate
patent application
forming
scope
Prior art date
Application number
TW090124519A
Other languages
English (en)
Inventor
Andrew Goodwin
Patrick Merlin
Jas Pal Badyal
Luke Ward
Original Assignee
Dow Corning
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26245097&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TW562708(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GB0024230A external-priority patent/GB0024230D0/en
Priority claimed from GB0114877A external-priority patent/GB0114877D0/en
Application filed by Dow Corning filed Critical Dow Corning
Application granted granted Critical
Publication of TW562708B publication Critical patent/TW562708B/zh

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
    • B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B17/00—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups
    • B05B17/04—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods
    • B05B17/06—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations
    • B05B17/0607—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers
    • B05B17/0623—Apparatus for spraying or atomising liquids or other fluent materials, not covered by the preceding groups operating with special methods using ultrasonic or other kinds of vibrations generated by electrical means, e.g. piezoelectric transducers coupled with a vibrating horn
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • B05D1/08—Flame spraying
    • B05D1/10—Applying particulate materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • C23C16/503—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using dc or ac discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2475—Generating plasma using acoustic pressure discharges
    • H05H1/2481—Generating plasma using acoustic pressure discharges the plasma being activated using piezoelectric actuators
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2240/00—Testing
    • H05H2240/10—Testing at atmospheric pressure

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
  • Multicomponent Fibers (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

562708 A7 B7 五、發明説明（1 本發明有關一種在基材上形成塗層之方法、特別是一種 使用大氣壓電漿放電在基材上形成塗層之方法、一種聚合 形成聚合物材料之方法、及進一步在基材上形成塗層之裝 置。 ’ 可因各種原因將基材塗覆，例如，為保護基材免於腐蝕 ，為提供氧化之障壁層，為改良與其他材料之黏著性，為 增加表面活性’及為了基材之生物醫學相容性之原因。將 基材表面改質或塗覆之通常使用之方法為將基材放在反應 器容器中及使其進行電漿放電。此種處理之許多實例係技 藝中已知；例如，美國專利第5, 876 753號揭示一種將目 標材料接在固體表面之方法，該方法包括藉由低電力可變 負荷循環波電漿沉積將含碳化合物固定至表面上，及 EP-A-0896035揭示一種具有基材與塗層之元件，其中係藉 由將包含至少一種有機化合物或單體之氣體電漿聚合而將 塗層塗覆至基材《在本申請案初次優先權日之後首先公告 之DE 19924108，敘述一種將染料與腐蝕抑制劑塗覆至基 材上之方法。該方法有關將液態膜塗料塗敷至基材上，及 接著塗敷電漿聚合物保護塗層。電漿聚合物塗層係使用氣 態單體及低壓電装所形成。 然而’此種電漿表面處理需要基材處於減壓之條件下， 及因此需要真空室。典型之形成塗層之氣壓係在5至25 Nm 2之範圍（與1大氣壓η· 〇1χ 1〇5 Nffl2比較）。減壓需求之 結果’造成表面處理昂責，侷限於批次處理，及形成塗層 之材料必須為氣態及/或蒸氣形式以便維持減壓之條件。 -4- 本紙狀/SL關τ ® a家標準(CNS) A4規格(⑽x 297公爱) 562708 A7 B7 五、發明説明（2 本發明之發明人已發現基材表面電漿處理上述之缺點能 夠藉由使用大氣壓電漿放電與原子化之液態及/或固態形 成塗層之材料之組合而克服。 因此，根據本發明，提供一種在基材上形成塗層之方法 ’該方法包含將原子化之液態及/或固態形成塗層之材料 導入大氣壓電漿放電中及/或所形成之離子化氣流，及使 基材曝露至原子化之形成塗層之材料。 應了解根據本發明之形成塗層之材料係能夠用以製造任 何適當塗層之材料，包括例如，能夠用以使膜發生輝光或 將存在之表面化學改質之材料。 本發明亦提供一種聚合形成聚合物材料之方法，該方法 包含將形成聚合物之材料原子化，及將該形成聚合物之材 料曝露至大氣壓電漿放電中。 本發明進一步提供在基材上形成塗層之裝置，該裝置包 含使用時在裡面放置基材之產生大氣壓電漿光輝放電構件 、在電漿放電中提供原子化之形成塗層之材料之原子化器 、及供應形成塗層之材料至原子化器之構件。 可在本發明中使用產生大氣壓電漿光輝放電之任何習用 構件，例如，大氣壓電漿喷射、大氣壓微波輝光放電、及 大氣壓輝光放電《典型之此種構件將使用稀釋氦氣及高頻 (例如> 1 kHz)電源供應，以經由Penning離子化機制在大 氣壓下產生均質輝光放電（參見，例如Kanazawa等人之J. Phys. D: Appl· Phys· 1988, 21，第 838 頁，Okazaki 等 人之 Proc, Jpn. Symp· Plasma Chem，1 989，之，第 95 頁 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210x 297公釐) 562708 A7 B7 五、發明説明（3 ，Kanazawa 等人之 Nuclear Instruments and Methods in Physical Research 1989， B37/38，第 842 頁，及 Y〇k〇yama 等人之 J· Phys. D: Appl· Phys· 1 990，23_,第 374 頁）。 可使用任何習用構件將形成塗層之材料原子化，例如， 超音波噴嘴。原子化器較佳產生形成塗層之材料滴之尺寸 為10至100 μπι，更佳為10至50 μπι。於本發明中使用之 適合之原子化器為美國紐約州Mi 1 ton市之Sono-Tek公司 之超音波噴嘴。本發明之裝置可包括多數個原子化器，其 可具有特別之利用，例如，在使用裝置以自二不同形成塗 層之材料形成塗覆在基材之共聚物時，在單體為不互溶或 在不同相時，例如，第一個為固態及第二個為氣態或液態 時。 可使用本發明以形成許多不同型態之基材塗層。形成於 基材上之塗層型態係由所使用之形成塗層之材料所決定， 及可使用本發明之方法將形成塗層之單體材料（共）聚合至 基材表面上。形成塗層之材料可為有機物或無機物、固體 、液體、或氣體、或其混合物。適合之有機形成塗層之材 料包括竣酸酯、甲基丙婦酸酯、丙稀酸酯、笨乙稀類、甲 基丙婦腈、稀類、及二稀，例如，甲基丙烯酸甲§旨、甲基 丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、及其他 甲基丙烯酸烷酯、及對應之丙烯酸酯，包括甲基丙烯酸酯 與丙烯酸酯與有機官能基形成之酯，包括甲基丙烯酸縮水 甘油酯、甲基丙烯酸三甲氧基矽烷基丙酯、甲基丙烯酸婦 丙酯、甲基丙烯酸羥乙酯、甲基丙烯酸羥丙酯、甲基丙稀 • 6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 562708 A7 _ B7 五、發明説明（4 ) 酸二烷基胺基烷酯、及（甲基）丙烯酸氟烷酯、甲基丙烯酸 、丙烯酸、富馬酸及酯、伊康酸（及酯）、馬來酐、苯乙烯 、α -甲基苯乙烯、鹵化烯（例如，乙烯鹵化物，如：氯乙 烯、氟乙烯、及氟化烯，例如，全氟烯）、丙烯腈、甲基丙 烯腈、乙烯、丙烯、烯丙基胺、亞乙烯基齒化物、丁二烯 、丙醯胺（如：Ν-異丙基丙醯胺、甲基丙醯胺）、乙氧化合 物，例如，縮水甘油氧丙基三曱氧基矽烷、縮水甘油、苯 乙烯氧化物、丁二烯一氧化物、乙二醇二縮水甘油醚、甲 基丙烯酸縮水甘油酯、雙酚Α二縮水甘油醚（及其寡聚物） 、乙烯基環己烯氧化物、導電性化合物（例如吡咯及嘧吩及 其衍生物）、及含磷化合物，例如，二甲基烯丙基膦酸鹽。 適合之無機形成塗層之材料包括金屬及金屬氧化物，包括 膠態金屬。有機金屬化合物亦可為適合之形成塗層之材料 ，包括金屬烷氧化物，如：鈦酸鹽、錫烷氧化物、锆酸鹽 、及鍺與铒之烷氧化物。然而，本發明之發明人已發現本 發明在提供使用包括含矽材料之形成塗層之組合物具有矽 氧或矽氧烷為主之塗層之基材方面，具有特別之用途《本 發明之方法中使用之適合之含矽材料包括矽烷類（例如，矽 烷、烷基_代矽烷、烷氧基矽烷）及線形（例如，聚二甲基 矽氧烷）與環狀矽氧烷（例如，八甲基環四矽氧烷），包括有 機官能基線形及環狀矽氧烷（例如，含有Si-H、鹵代官能 基、及齒代烷基-官能基線形及環狀矽氧烷，例如，四甲基 環狀四矽氧烷、及三（九氟墓丁基）三甲基環狀三矽氧烷） 。可使用不同含矽材料之混合物，例如，訂做特殊需要之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 562708
基材塗層物性（例如，熱性質、光學性質 '如折射率、及 彈性）。 此外，在氧化條件下，可使用本發明之方法以在基材上 形成含氧之塗層。例如，能夠從原子化之含矽之形成塗層 之材料在基材表面上形成以矽氧為主之塗料。在減壓下， 可使用本發明之方法形成不含氧之塗層，例如可從原子化 之含矽形成塗層之材料形成以碳化矽為主之塗層。 亦可使用含有氧以外之氣體之產生電漿之條件，例如， 貴重氣體、空氣、氫、氮、及氨。在含氮之氛圍中，氮可 結合至基材表面，及在含有氮與氧二者之氛圍中氮可結 合至基材表面或在基材表面上形成β 本發明優於先前技藝之優點為，可使用液態與固態二者 原子化之形成塗層之材料以形成基材塗層，此乃由於本發 明之方法在大氣壓之條件下進行。再者，能夠在載體氣體 不存在下將形成塗層之材料導入電漿放電或所得之氣流中 ’即，可藉由例如直接注射將其直接導入，因而將形成塗 層之材料直接注射至電漿中。 如上述，本發明之發明人已發現本發明之特別利用，使 用含石夕之材料以在基材上形成以石夕氧與石夕氧院為主之塗層 。在氧化條件下，例如，含氧之氛圍中，能夠從原子化之 含石夕材料在基材表面上形成以石夕氧為主之塗層，然而在非 氧化條件下，能夠從原子化之含矽單體在基材表面上形成 矽氧烷聚合物，例如，線形、支鏈形、或樹脂狀矽氧烷聚 合物。能夠藉由使用有機與含矽單體之混合物在基材表面 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X 297公釐) 562708 A7
上形成矽氧烷有機共聚物。再者，可在基材表面上形成以 矽氧為主之塗層，其可藉由進一步之材料（例如有機或矽氧 烷聚合物）塗覆。例如，當將矽氧烷與有機聚合物混合及從 該混合物形成基材時，由於有機聚合物與矽氧烷間表面能 量之差異，矽氧烷將遷移至基材之有機聚合物體表面。若 使此基材接著進行大氣壓電漿處理，將基材表面上之矽氧 烷氧化以形成以矽氧為主之塗層。然後可使此以矽氧為主 之塗層根據本發明進行處理，藉由進一步使其在原子化之 含矽單體之存在下進行大氣壓電漿處理，以在其上形成石夕 氧燒塗層。然而，本發明亦可用於在基材上形成有機塗層 ，例如，聚丙烯酸或全氟有機塗層。 要塗覆之基材可包含任何材料，例如金屬、陶瓷、塑膠 、矽氧烷、織布或非織布、天然纖維、合成纖維、纖維素 材料、及粉末。然而，基材尺寸限制在大氣壓電漿放電產 生之體積大小，即，產生電漿構件之電極間之距離。對於 典型之電漿產生裝置而言，電漿產生在5至50 mm (例如 ，12至25 mm)之縫隙中。因此，本發明具有塗覆膜、纖維 、及粉末之特別利用。 藉由本發明之方法所塗覆之基材可有多種利用。例如， 在氧化氛圍中所產生之以矽膠為主之塗層，可增強基材之 障壁及/或擴散性質及可增強其他材料黏著至基材表面上 之能力；含鹵素官能基之有機或矽氧烷塗層（例如全氟烯類） 可增加基材之疏水性、疏油性、抗燃料與抗污性、及/或 釋放性；聚二甲基矽氧烷塗層可增強基材之抗水性及釋放 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 562708 A7 ______B7 五、發明説明（7 ) 性’及可增強織物觸感之柔軟性；可使用聚丙烯酸聚合物 塗層做為黏著層以促進基材表面之黏著性或做為層合結構 之一部份；在塗層中包括膠態金屬物類可使基材具有表面 導電性’或增強其光學性質。聚嘍吩及聚吡咯產生有導電 性之聚合物塗層，亦可使金屬基材具有抗腐餘性。 當使用與電漿處理有關之方法塗覆基材時，易發生之主 要問題為’所用以形成塗層之材料可能會喪失化學性質。 因此’本發明之主要優點為形成塗層之材料之化學性質實 質上保留於所形成之塗層中。例如，在使用丙烯酸做為形 成塗層之材料時，在所形成之塗層中實質上維持羧酸官能 性。 本發明亦提供一種藉由上述方法製造具有多層塗層之基 材之方法。在此例中，在基材每次重複通過大氣壓電漿輝 光放電時就會塗敷一層塗層。較佳在此例中，可藉由捲軸 至捲轴方法之方式連續塗覆基材，其中基材以常速自第一 捲軸運行通過輝光放電及到第二捲轴上，以確保所有基材 在輝光放電内均停留預定之駐留時間。可使各個基材通過 或多-人輝光放電，因而在第一次通過時之第一或是供應 轴變成在第二次通過時之基材收集轴，而在第一次通過時 之基材收集轴反為在第二次通過時之供應轴，此二捲轴在 各次通過終了時，互換角色。或者，可使基材通過一連串 之大氣壓輝光放電室。 根據本發明塗覆之基材塗層之較佳用途包括層合黏著劑 、氧及/或濕氣障壁，例如食品包裝應用，及做為例如平 -10-
562708 A7 _ B7 五、發明説明（8 ) 面面板顯示器内有機發光二級體元件内或上面之部件。 ' 現將參fit附之圖式詳細說明本發明，其中圖1顯示根 據本發明之裝置之具體實施例。 示於圖1之根據本發明之裝置包含產生大氣壓電漿放電 之構件（一般記為10 )，及原子化器（一般記為1 2 );注射泵 14與原子化器12連接，以供應形成塗層之材料。產生放 電之構件1〇包含高壓15 kHz ac電源20，跨越以12 mm 距離分開之二鋁電極22與24供電，以玻璃介電板26遮蔽 較低之帶電電極22。原子化器12包含Sono-tek* 8700_120 超音波喷嘴30，及連接至Sono-tek* 06-05108寬頻超音 波產生器32。原子化器12插在0環34上之接地電極24 内。要被塗覆之基材40係置於電極22與24間之玻璃介電 板26上。 上文中參考圖1所述之裝置係用於所有下文中所述之步 驟。 (* Sono-tek公司，美國紐約州Mi 1 ton市，郵遞區號： 12547) 實例1 將一片聚乙烯膜基材放在異丙醇與環己烷之1:1混合物 中以超音波洗滌，及玫置在玻璃板上。在抽除殘餘氣體後 ’以1 900 seem之流速及1·〇2χ 1〇5ΝαΓ2之壓力導入電漿放 電氣體。使用二種放電氣體：氦氣及99%氦氣/丨％氧氣混合 物。在吹氣清掃10分鐘後，將注射泵14啟動，及使形成 塗層之材料以3χ 105 ml 之速率流動。使用二種形成塗 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 562708 A7 B7 五、發明説明（9 ) ^ 一 層之材料：八甲基環四矽氧烷（在下文中稱為"）及四甲 基環四矽氧烷（在下文中稱為"LH”）。當形成塗層之材料到 達超音波喷嘴時，啟動超音波產生器（2.5W)以使形成塗層 之材料開始原子化，及藉由在電極間施加1. 5 kV以點燃大 氣壓電漿放電。使形成塗層之材料進行10分鐘沉積，接著 取出基材及放在真空下20分鐘，以移除任何不穩定的材料。 上述步驟之結果示於下列表1。使用X射線光電光譜分 析（Kratos ES300)以進行基材表面之元素分析，及使用光 譜計（Aqui la Instruments nkd-6000)測定膜厚。使用影像 抓取裝置（AST Products VCA2500XE)測量接觸角，使用固 著性的2 μΐ去雜子水滴。 亦使用質譜儀測量基材表面之氣體穿透率，結果示於表 2。計算[經塗覆之基材之氣體穿透率]/[參考品之氣體穿透 率]作為障壁改良係數。 表1 實例 XPS分析 細角 (Q) 啸速率 (nms-1) 塗^/if·度 (nm) %C %0 %Si %SiOx D4 理論 50 25 25 0 D4 100% He 43· 3 29· 3 25.8 107· 8* 28 279 D4 1% 〇2 25.5 48.5 26.0 74.4 Ί 56.4 29 286 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 562708 A7 B7
五、發明説明（10
乾淨的聚乙烯 1.0(定義） D4，100% He ---_ 0· 9 1% 〇2 6· 8 100% He 0. 9 D4H, .1% 〇2 4· 5 基材表面之ATR-FTIR研究顯示L與Dd形成塗層之材料 發生了開環聚合而在基材表面上形成聚矽氧烷。特別是， 後者之ATR-FTIR研究顯示聚矽氧烷塗層仍有許多D4H之 Si-Η官能性。 如上述所製備之塗層在玻璃表面上之NMR研究顯示藉由 I與EUH形成塗層之材料之聚合而在基材表面所形成之聚 矽氧烷包含二價（CH3)2Si〇2/2單元及三價CH3Si〇3/2單元，即 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 562708 A7 ______B7 五、發明説明⑴ ） ，聚矽氧烷為樹脂性質。 實例2 使用玻璃基材及丙烯酸做為形成塗層之材料及單獨氦氣 做為放電氣體’重複上述實例1之方法。在分析之前自基 材移除塗層。 塗層之FT IR及固態NMR分析確定丙烯酸已聚合形成聚丙 嫦酸° FTIR與NMR二者之數據均顯示不飽和鍵c=c鍵之消 耗。 實例3 重複實例2之方法，但是使用耐綸及聚乙烯基材。 將塗層與市售聚丙烯酸比較FTIR分析，確定丙烯酸形成 塗層之材料已在基材表面上聚合形成聚丙烯酸塗層。 依照上述實例1之方式進行X射線光電光譜分析、膜厚 分析、及接觸角測量。結果示於下列表3。 __ 表3 XPS分析 接觸角 沉積速率 %c %0 %C〇2]T (s ) (nms'[) 理論 60· 0 40. 〇 _33. 3 一 市售聚丙稀酸 63· 3 36· 7 29. 9 濕 一 實例3 62· 6 37. 4 26. 4 濕 231土 95 塗層 以質譜儀測定通過經塗覆之聚乙烯膜之氣體，及依照上 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董) 562708 A7 B7 五 發明説明（12 ) 述實例1之方式計算未經處理之聚乙烯基材及市售聚丙烯 酸之障壁改良係數。結果示於下列表4。 表4 樣品 障壁改良係數 未經處理之基材 1·〇(定義） 市售聚丙烯酸 1· 1 ± 0· 1 實例3塗層 7. 2 ± 0. 9 如下進行經塗覆之耐綸基材之重疊剪力試驗將經塗覆之 耐綸基材之二相對面重疊以產生覆蓋1 cm2之連接處，及 使基材在2 kg重壓下於70 QC硬化60分鐘。然後使用拉力 計（Instron)以每分鐘5 mm之速率將基材拉開以測定各連 接處之黏著強度，記錄在斷裂前達到之最大負載。經塗覆 之基材在斷裂前能忍受74± 11 NciiT2之最大負載。比較未 經塗覆之耐綸所製得之連接處顯示無黏著性質。 實例4 使用玻璃基材及1H，1H，2H-全氟-1_辛婦（CF3(CF2)sCH=CH2) 做為形成塗層之材料，重複實例2之方法。 依照上述實例1之方式進行X射線光電光譜分析、nIR 分析、及接觸角測量（使用水及癸烷），及結果示於下列表 5。XPS及FTIR分析顯示玻璃基材塗層富含cj?2及cp3及依 照實例1之方式測定對於水及癸烷之接觸角。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇Χ 297公爱:) 562708 A7 B7 五、發明説明（13 ) 表 5 XPS分析 接觸角 水(〇) 接觸角 癸烧(〇) %c %F %0 理論 38· 1 61. 9 一 - 一 實例4 塗層 38. 0 60. 0 2. 1 118· 9土3· 0 61· 1±2· 2 接觸角測量結果顯示玻璃基材已實質上因塗層而呈疏水 性及疏油性。 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

  1. 562708 ^ 第090124519號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(92年8月>丨& 7T、申请專利範圍 1. 種在基材上形成塗層之方法，該方法包含將原子化之 液態及/或固態形成塗層之材料導入大氣壓電漿放電 及/或自其所得之離子化氣流中，及使基材曝露至原子 化之形成塗層之材料。 2 ·根據申請專利範圍第1項之方法，其中該形成塗層之材 料係藉由直接注射導入。 3.根據申請專利範圍第1或2項之方法，其中該形成塗層 之材料為含矽材料。 4·根據申請專利範圍第3項之方法，其中該形成塗層之材 料係選自二甲基矽氧烷，及具有矽-氫鍵之矽氧烷。 5.根據申請專利範圍第1或2項之方法，其中電漿係在含 氧氣之大氣中產生。 6·根據申請專利範圍第1或2項之方法，其中該形成塗層 之材料為有機或有機金屬材料。 7·根據申請專利範圍第ό項之方法，其中該形成塗層之材 料係選自丙烯酸及全氟烯類。 8·根據申請專利範圍第1或2項之方法，其中基材包含金 屬、陶瓷、塑膠 '織布或非織布、天然纖維、合成纖維 、纖維素材料、及粉末。 9·根據申請專利範圍第1或2項之方法，其中塗層增加基 材之黏性、釋離、氣體障壁、濕氣障壁、導電性與導熱 性、光學、介電、親水性、疏水性、及/或親油性性質 〇 10·種製造基材之方法，該基材具有根據申請專利範圍第 O:\73\73946-920820.doc
    562708 A B c D 申請專利範圍 1或2項之方法所形成之多層塗層，在該方法中，藉由 使該基材$複通過大氣電漿光輝放電或藉由使該基材 通過串聯之大氣光輝放電室，而塗敷塗層。 11·-種使形成聚合物之材㈣合之方法，#方法包含將形 成聚合物之材料原子化，1將原子化之形成$合物之材 料曝露至大氣壓電漿放電。 12.根據申請專利範圍第丨或2項之方法，其中原子化之液 態及/或固態形成塗層之材料之化學性質在所得之形 成之塗層中實質上係保留。 U.根據中請專利範圍第項之方法，纟中藉由使用捲 軸至捲軸裝置連續塗覆基材。 14. 一種在基材上形成塗層之裝置，該裝置包含使用時在裡 面放置基材之產生大氣壓電漿光輝放電構件、在電漿放 電中提供原子化之形纟塗層纟材料之原子化$、及供應 形成塗層之材料至原子化器之構件。 15. 根據申請專利範圍第14項之裝置，其中原子化器為超 音波噴嘴。 16. 根據申請專利範圍第14或15項之裝置，其中基材係固 定於捲軸至捲軸裝置以使基材能夠連續塗覆。 17. —種經塗覆之基材，係根據申請專利範圍第〗或2項之 方法所製得。 1 8 ·根據申請專利範圍第丨7項之經塗覆之基材，其中原子 化液®及/或固態形成塗層之材料之化學性質保留於 所得之塗層中。 O:\73\73946-920820.doc - 2 - 本紙張尺度適财®國家標準(CNS) A4規格(21GX 297公爱) I 丁 562708 8 8 8 8 A B c D 々、申請專利範圍 19. 一種根據申請專利範圍第1或2項之方法所形成之經塗 覆之基材，該基材係用來作為層合用黏著劑、氧氣及/ 或濕氣障壁、或用於有機光放射二極體元件中。 O:\73\73946-920820.doc - 3 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐）
TW090124519A 2000-10-04 2001-10-04 Method and apparatus for forming a coating TW562708B (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0024230A GB0024230D0 (en) 2000-10-04 2000-10-04 Method and apparatus for forming a coating
GB0114877A GB0114877D0 (en) 2001-06-19 2001-06-19 Method and apparatus for forming a coating

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW562708B true TW562708B (en) 2003-11-21

Family

ID=26245097

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW090124519A TW562708B (en) 2000-10-04 2001-10-04 Method and apparatus for forming a coating

Country Status (17)

Country Link
US (1) US7455892B2 (zh)
EP (1) EP1326718B2 (zh)
JP (1) JP5349726B2 (zh)
KR (1) KR100823858B1 (zh)
CN (1) CN1261233C (zh)
AT (1) ATE257412T1 (zh)
AU (1) AU2001290097A1 (zh)
BR (1) BR0114200B1 (zh)
DE (1) DE60101747T3 (zh)
DK (1) DK1326718T3 (zh)
EA (1) EA006831B1 (zh)
ES (1) ES2214444T5 (zh)
MX (1) MXPA03002988A (zh)
PT (1) PT1326718E (zh)
TR (1) TR200400076T4 (zh)
TW (1) TW562708B (zh)
WO (1) WO2002028548A2 (zh)

Families Citing this family (139)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9712338D0 (en) 1997-06-14 1997-08-13 Secr Defence Surface coatings
ES2214444T5 (es) 2000-10-04 2008-02-16 Dow Corning Ireland Limited Metodo y aparato para formar un recubrimiento.
US6821379B2 (en) 2001-12-21 2004-11-23 The Procter & Gamble Company Portable apparatus and method for treating a workpiece
TW200409669A (en) 2002-04-10 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Protective coating composition
GB0208261D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning An atmospheric pressure plasma assembly
TW200308187A (en) * 2002-04-10 2003-12-16 Dow Corning Ireland Ltd An atmospheric pressure plasma assembly
GB0208263D0 (en) 2002-04-10 2002-05-22 Dow Corning Protective coating composition
GB0211354D0 (en) 2002-05-17 2002-06-26 Surface Innovations Ltd Atomisation of a precursor into an excitation medium for coating a remote substrate
GB0212848D0 (en) 2002-06-01 2002-07-17 Surface Innovations Ltd Introduction of liquid/solid slurry into an exciting medium
MXPA05008024A (es) 2003-01-31 2006-01-27 Dow Corning Ireland Ltd Unidad de electrodos para generacion de plasma.
DE10319058A1 (de) * 2003-04-25 2004-12-02 Carl Freudenberg Kg Silikonisierte Einlagestoffe, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US7431989B2 (en) * 2003-05-06 2008-10-07 Tribofilm Research, Inc. Article with lubricated surface and method
US8092643B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060272675A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060162740A1 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using non-equilibrium atmospheric pressure plasma
WO2005000363A2 (en) * 2003-06-16 2005-01-06 Cerionx, Inc. Atmospheric pressure non-thermal plasma device to clean and sterilize the surface of probes, cannulas, pin tools, pipettes and spray heads
US20060272674A1 (en) * 2005-06-02 2006-12-07 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US20060162741A1 (en) * 2005-01-26 2006-07-27 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
US8092644B2 (en) * 2003-06-16 2012-01-10 Ionfield Systems, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
US8366871B2 (en) * 2003-06-16 2013-02-05 Ionfield Holdings, Llc Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects using plasma
GB2419358B (en) * 2003-08-28 2008-01-16 Surface Innovations Ltd Apparatus for the coating and/or conditioning of substrates
GB0323295D0 (en) * 2003-10-04 2003-11-05 Dow Corning Deposition of thin films
JP2007508135A (ja) 2003-10-15 2007-04-05 ダウ・コーニング・アイルランド・リミテッド 粒子の官能基化
US7893182B2 (en) 2003-10-15 2011-02-22 Dow Corning Corporation Manufacture of resins
MXPA06006916A (es) * 2003-12-16 2006-12-19 Sun Chemical Corp Metodo para formar una cubierta curable por radiacion y articulo cubierto.
GB0406049D0 (en) 2004-03-18 2004-04-21 Secr Defence Surface coatings
EP1582270A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-05 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek Method and apparatus for coating a substrate using dielectric barrier discharge
GB0410749D0 (en) * 2004-05-14 2004-06-16 Dow Corning Ireland Ltd Coating apparatus
GB2418379A (en) * 2004-09-23 2006-03-29 Reckitt Benckiser Cleansing wipes
US20060060085A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-23 Ptak Thaddeus J Composite filter media
DE102004051781A1 (de) * 2004-10-22 2006-04-27 Carl Freudenberg Kg Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zu deren Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
EP1650254A1 (de) 2004-10-22 2006-04-26 Carl Freudenberg KG Dichtung mit reduziertem Drehmoment, Verfahren zur Herstellung, deren Verwendung als Dichtung für Klappenventile und Klappenventil
GB0423685D0 (en) * 2004-10-26 2004-11-24 Dow Corning Ireland Ltd Improved method for coating a substrate
BRPI0516670A (pt) * 2004-10-29 2008-09-16 Dow Global Technologies Inc processo para preparar um revestimento de multicamadas, processo para preparar um revestimento sobre uma superfìcie de um substrato polimérico orgánico, estrutura composta, material de vitrificação e automóvel ou edifìcio
WO2006048649A1 (en) * 2004-11-05 2006-05-11 Dow Corning Ireland Limited Plasma system
GB0424532D0 (en) * 2004-11-05 2004-12-08 Dow Corning Ireland Ltd Plasma system
JP4926394B2 (ja) * 2004-11-30 2012-05-09 株式会社ブリヂストン トラバース塗装工程の前処理方法およびトラバース塗装方法
GB0504384D0 (en) 2005-03-03 2005-04-06 Univ Durham Method for producing a composite coating
GB0506051D0 (en) * 2005-03-24 2005-04-27 Univ Durham A method for producing an aldehyde functionalised surface
US20060237030A1 (en) * 2005-04-22 2006-10-26 Cerionx, Inc. Method and apparatus for cleaning and surface conditioning objects with plasma
GB0509648D0 (en) 2005-05-12 2005-06-15 Dow Corning Ireland Ltd Plasma system to deposit adhesion primer layers
EP1741826A1 (en) 2005-07-08 2007-01-10 Nederlandse Organisatie voor Toegepast-Natuuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Method for depositing a polymer layer containing nanomaterial on a substrate material and apparatus
EP1785198A1 (en) * 2005-11-14 2007-05-16 Vlaamse Instelling voor Technologisch Onderzoek A method for atmospheric plasma deposition of conjugated polymer coatings
GB2434369B (en) 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated electrical or electronic devices
GB2434368B (en) 2006-01-20 2010-08-25 P2I Ltd Plasma coated laboratory consumables
US7250195B1 (en) 2006-02-27 2007-07-31 Ionic Fusion Corporation Molecular plasma deposition of colloidal materials
WO2007128946A1 (en) 2006-05-02 2007-11-15 Dow Corning Ireland Limited Web sealing device
EP2013396A1 (en) 2006-05-02 2009-01-14 Dow Corning Ireland Limited Fluid replacement system
JP5043394B2 (ja) * 2006-09-29 2012-10-10 東京エレクトロン株式会社 蒸着装置およびその運転方法
GB0621520D0 (en) 2006-10-28 2006-12-06 P2I Ltd Novel products
GB0703172D0 (en) * 2007-02-19 2007-03-28 Pa Knowledge Ltd Printed circuit boards
EP1978038A1 (en) * 2007-04-02 2008-10-08 Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek (Vito) A method for producing a coating by atmospheric pressure plasma technology
PT1978067E (pt) * 2007-04-02 2010-05-06 Nitto Europe Nv Revestimento removível
GB0713830D0 (en) 2007-07-17 2007-08-29 P2I Ltd Novel products method
EP2192997A2 (fr) * 2007-09-06 2010-06-09 Université Libre de Bruxelles Procédé pour déposer une couche fluorée à partir d'un monomère précurseur
EP2242725B1 (en) * 2007-12-21 2016-04-06 3M Innovative Properties Company Liquid filtration systems
FR2925911A1 (fr) * 2007-12-27 2009-07-03 Bmuestar Silicones France Sas Silicones-autoadhesifs, procede de fabrication, complexes les utilisant et applications
WO2009143090A2 (en) * 2008-05-22 2009-11-26 Dow Corning Corporation Process and composition for fabricating non-sewn seams
GB0810326D0 (en) * 2008-06-06 2008-07-09 P2I Ltd Filtration media
EP2307147A1 (en) * 2008-07-04 2011-04-13 ABB Research Ltd. Apparatus for electrostatically coating a workpiece and method of reducing contamination thereof
US7985188B2 (en) 2009-05-13 2011-07-26 Cv Holdings Llc Vessel, coating, inspection and processing apparatus
WO2013170052A1 (en) 2012-05-09 2013-11-14 Sio2 Medical Products, Inc. Saccharide protective coating for pharmaceutical package
ES2513866T3 (es) 2009-05-13 2014-10-27 Sio2 Medical Products, Inc. Revestimiento e inspección de recipientes
US20120089084A1 (en) 2009-06-16 2012-04-12 O'keeffe Joe Wound healing device
US9458536B2 (en) 2009-07-02 2016-10-04 Sio2 Medical Products, Inc. PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles
GB2475685A (en) 2009-11-25 2011-06-01 P2I Ltd Plasma polymerization for coating wool
JP2011144412A (ja) 2010-01-13 2011-07-28 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜装置
GB201000538D0 (en) 2010-01-14 2010-03-03 P2I Ltd Liquid repellent surfaces
US20110241269A1 (en) * 2010-04-01 2011-10-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US8445074B2 (en) 2010-04-01 2013-05-21 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of tire cords
US11624115B2 (en) 2010-05-12 2023-04-11 Sio2 Medical Products, Inc. Syringe with PECVD lubrication
JP2011252085A (ja) 2010-06-02 2011-12-15 Honda Motor Co Ltd プラズマ成膜方法
EP2596688A1 (en) 2010-07-21 2013-05-29 Dow Corning France Plasma treatment of substrates
US9878101B2 (en) 2010-11-12 2018-01-30 Sio2 Medical Products, Inc. Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods
ES2764117T3 (es) 2010-12-13 2020-06-02 Theradep Tech Inc Dispositivos médicos implantables
US9272095B2 (en) 2011-04-01 2016-03-01 Sio2 Medical Products, Inc. Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods
KR20140037097A (ko) 2011-04-27 2014-03-26 다우 코닝 프랑스 기판의 플라즈마 처리
EP2532716A1 (en) 2011-06-10 2012-12-12 Eppendorf AG A substrate having hydrophobic moiety-repelling surface characteristics and process for preparing the same
GB201112369D0 (en) 2011-07-19 2011-08-31 Surface Innovations Ltd Polymeric structure
GB201112516D0 (en) 2011-07-21 2011-08-31 P2I Ltd Surface coatings
DE102011052306A1 (de) 2011-07-29 2013-01-31 Jokey Plastik Sohland Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer permeationshemmenden Beschichtung von Kunststoffbehältern und Beschichtungsanlage
GB201113610D0 (en) 2011-08-08 2011-09-21 Surface Innovations Ltd Product and method
CN104025719A (zh) * 2011-11-09 2014-09-03 道康宁法国公司 基材的等离子体处理
US8778462B2 (en) 2011-11-10 2014-07-15 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
US11116695B2 (en) 2011-11-11 2021-09-14 Sio2 Medical Products, Inc. Blood sample collection tube
CN103930595A (zh) 2011-11-11 2014-07-16 Sio2医药产品公司 用于药物包装的钝化、pH保护性或润滑性涂层、涂布方法以及设备
US8741393B2 (en) 2011-12-28 2014-06-03 E I Du Pont De Nemours And Company Method for producing metalized fibrous composite sheet with olefin coating
PL2623215T3 (pl) * 2012-02-01 2014-09-30 Bioenergy Capital Ag Powlekanie plazmowe nadające hydrofilowość
WO2013113875A1 (en) * 2012-02-02 2013-08-08 Centre De Recherche Public Henri Tudor Superamphiphobic surfaces by atmospheric plasma polymerization
US8545951B2 (en) * 2012-02-29 2013-10-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Endotracheal tubes and other polymer substrates including an anti-fouling treatment
CN104619907B (zh) * 2012-06-24 2017-08-11 盖茨公司 用于经增强的橡胶产品的碳帘线和产品
US9133412B2 (en) 2012-07-09 2015-09-15 Tribofilm Research, Inc. Activated gaseous species for improved lubrication
JP2015530234A (ja) 2012-08-09 2015-10-15 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーＥ．Ｉ．Ｄｕ Ｐｏｎｔ Ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ Ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ 改良障壁布
US9433971B2 (en) 2012-10-04 2016-09-06 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
US9441325B2 (en) 2012-10-04 2016-09-13 The Goodyear Tire & Rubber Company Atmospheric plasma treatment of reinforcement cords and use in rubber articles
WO2014071061A1 (en) 2012-11-01 2014-05-08 Sio2 Medical Products, Inc. Coating inspection method
US9903782B2 (en) 2012-11-16 2018-02-27 Sio2 Medical Products, Inc. Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics
US9764093B2 (en) 2012-11-30 2017-09-19 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition
AU2013352436B2 (en) 2012-11-30 2018-10-25 Sio2 Medical Products, Inc. Controlling the uniformity of PECVD deposition on medical syringes, cartridges, and the like
EP2945994B1 (en) 2013-01-18 2018-07-11 Basf Se Acrylic dispersion-based coating compositions
EP2961858B1 (en) 2013-03-01 2022-09-07 Si02 Medical Products, Inc. Coated syringe.
JP6160498B2 (ja) * 2013-03-08 2017-07-12 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
US9937099B2 (en) 2013-03-11 2018-04-10 Sio2 Medical Products, Inc. Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate
CN110074968B (zh) 2013-03-11 2021-12-21 Sio2医药产品公司 涂布包装材料
MX2015012544A (es) 2013-03-13 2016-02-10 Celanese Acetate Llc Filtros de humo para reducir componentes en un flujo de humo.
WO2014144926A1 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Sio2 Medical Products, Inc. Coating method
CN104069968B (zh) * 2013-03-28 2017-01-04 株式会社Enjet 喷雾嘴和使用该喷雾嘴的涂敷系统
ITMI20130855A1 (it) * 2013-05-27 2014-11-28 Univ Milano Bicocca Metodo di rivestimento con film polimerico di un substrato mediante deposizione e successiva polimerizzazione per trattamento a plasma di una composizione monomerica.
US9988536B2 (en) 2013-11-05 2018-06-05 E I Du Pont De Nemours And Company Compositions for surface treatments
WO2015095019A1 (en) 2013-12-17 2015-06-25 E. I. Du Pont De Nemours And Company Nonwoven fabric with low ice adhesion
CN103794462B (zh) * 2013-12-24 2016-11-23 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 一种超声波雾化等离子体处理装置
GB201403558D0 (en) 2014-02-28 2014-04-16 P2I Ltd Coating
KR101485980B1 (ko) * 2014-03-03 2015-01-27 주식회사 기가레인 코팅 장치
DE102014103025A1 (de) * 2014-03-07 2015-09-10 Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald Verfahren zur Beschichtung eines Substrates, Verwendung des Substrats und Vorrichtung zur Beschichtung
JP6455508B2 (ja) 2014-03-25 2019-01-23 住友金属鉱山株式会社 被覆はんだ材料およびその製造方法
EP3693493A1 (en) 2014-03-28 2020-08-12 SiO2 Medical Products, Inc. Antistatic coatings for plastic vessels
KR101894648B1 (ko) * 2014-04-15 2018-09-03 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 피복막, 피복막의 형성 방법 및 발광 다이오드 디바이스
US20150325831A1 (en) 2014-05-07 2015-11-12 E I Du Pont De Nemours And Company Polyimide web separator for use in an electrochemical cell
US10566106B2 (en) 2014-08-18 2020-02-18 The Boeing Company Conjugated polymer coatings and methods for atmospheric plasma deposition thereof
KR101532883B1 (ko) * 2014-09-02 2015-07-02 성균관대학교산학협력단 전이금속 디칼코게나이드 박막의 형성 방법
EP3224405B1 (en) * 2014-11-27 2020-01-01 Construction Research & Technology GmbH Inorganic binder composition comprising surface-modified polyolefin fibres
US20200032072A1 (en) 2015-06-09 2020-01-30 P2I Ltd Coating
AU2016275278A1 (en) 2015-06-09 2018-02-01 P2I Ltd Coatings
KR20180016559A (ko) 2015-06-09 2018-02-14 피2아이 리미티드 전자 또는 전기 장치 상에 코팅을 형성하는 방법
EP3337915B1 (en) 2015-08-18 2021-11-03 SiO2 Medical Products, Inc. Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate
JP2018535172A (ja) * 2015-10-02 2018-11-29 コーニング インコーポレイテッド 除去可能なガラス表面処理および粒子付着を低下させる方法
WO2017136334A1 (en) 2016-02-01 2017-08-10 Theradep Technologies Inc. Systems and methods for delivering therapeutic agents
DE102016124209A1 (de) 2016-12-13 2018-06-14 Jokey Plastik Wipperfürth GmbH Beschichtungsvorrichtung und Beschichtungsverfahren für Kunststoffbehälter
EP4289520A3 (en) 2017-08-23 2024-03-13 Molecular Plasma Group SA Soft plasma polymerization process for a mechanically durable superhydrophobic nanostructured coating
CN108080228B (zh) * 2017-10-26 2021-06-01 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 一种线路板防水防腐涂层及其制备方法
US11690998B2 (en) 2017-10-31 2023-07-04 Theradep Technologies, Inc. Methods of treating bacterial infections
FR3077821B1 (fr) 2018-02-09 2020-12-18 Coating Plasma Ind Film de protection a base de silicium pour adhesif, son procede de fabrication et ses utilisations
CN109267037A (zh) * 2018-11-21 2019-01-25 新疆大学 常压等离子体增强化学气相沉积方法及采用该方法的设备
EP3799964A1 (fr) * 2019-10-02 2021-04-07 ETA SA Manufacture Horlogère Suisse Procdede de fabrication d'une piece mecanique epilamee
EP3881941A1 (en) * 2020-03-17 2021-09-22 Molecular Plasma Group SA Plasma coating method and apparatus for biological surface modification
CN111519168B (zh) * 2020-06-09 2022-06-14 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种保护涂层及其制备方法
EP3940106A1 (de) * 2020-07-15 2022-01-19 TI Automotive Engineering Centre (Heidelberg) GmbH Verfahren zum beschichten einer rohrleitung und rohrleitung
EP4136974A1 (en) 2021-08-20 2023-02-22 Fixed Phage Limited Plasma treatment process and apparatus therefor
CN114460114B (zh) * 2022-04-13 2022-06-21 季华实验室 样品分析方法、装置、设备及存储介质

Family Cites Families (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4212719A (en) * 1978-08-18 1980-07-15 The Regents Of The University Of California Method of plasma initiated polymerization
JPS59160828A (ja) * 1983-03-01 1984-09-11 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体
US4588641A (en) * 1983-11-22 1986-05-13 Olin Corporation Three-step plasma treatment of copper foils to enhance their laminate adhesion
JPH0753764B2 (ja) 1986-03-28 1995-06-07 ト−メ−産業株式会社 ビニルモノマ−の重合法
DE3705482A1 (de) † 1987-02-20 1988-09-01 Hoechst Ag Verfahren und anordnung zur oberflaechenvorbehandlung von kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
GB8713986D0 (en) * 1987-06-16 1987-07-22 Shell Int Research Apparatus for plasma surface treating
DE3827628A1 (de) † 1988-08-16 1990-03-15 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zur oberflaechenvorbehandlung eines formkoerpers aus kunststoff mittels einer elektrischen koronaentladung
DE3925539A1 (de) * 1989-08-02 1991-02-07 Hoechst Ag Verfahren und vorrichtung zum beschichten eines schichttraegers
JP2811820B2 (ja) * 1989-10-30 1998-10-15 株式会社ブリヂストン シート状物の連続表面処理方法及び装置
US5185132A (en) * 1989-12-07 1993-02-09 Research Development Corporation Of Japan Atomspheric plasma reaction method and apparatus therefor
JP2990608B2 (ja) 1989-12-13 1999-12-13 株式会社ブリヂストン 表面処理方法
JP2897055B2 (ja) * 1990-03-14 1999-05-31 株式会社ブリヂストン ゴム系複合材料の製造方法
US5366770A (en) * 1990-04-17 1994-11-22 Xingwu Wang Aerosol-plasma deposition of films for electronic cells
US5206463A (en) * 1990-07-24 1993-04-27 Miraco, Inc. Combined rigid and flexible printed circuits and method of manufacture
JP3194148B2 (ja) * 1991-01-21 2001-07-30 イーシー化学株式会社 金属の表面処理方法
GB9102768D0 (en) 1991-02-09 1991-03-27 Tioxide Group Services Ltd Coating process
JPH04295818A (ja) 1991-03-26 1992-10-20 Seiko Epson Corp コンタクトレンズの製造方法
DE4111384C2 (de) * 1991-04-09 1999-11-04 Leybold Ag Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
JP3283889B2 (ja) * 1991-07-24 2002-05-20 株式会社きもと 防錆処理方法
JP3286816B2 (ja) * 1992-12-24 2002-05-27 イーシー化学株式会社 大気圧グロ−放電プラズマ処理法
JP3445632B2 (ja) 1993-02-26 2003-09-08 科学技術振興事業団 薄膜の製造方法とその装置
JPH06330326A (ja) 1993-03-26 1994-11-29 Shin Etsu Chem Co Ltd シリカ薄膜の製造方法
US5414324A (en) * 1993-05-28 1995-05-09 The University Of Tennessee Research Corporation One atmosphere, uniform glow discharge plasma
JPH0762546A (ja) 1993-08-25 1995-03-07 Shinko Electric Co Ltd 大気圧プラズマ表面処理装置
FR2713511B1 (fr) * 1993-12-15 1996-01-12 Air Liquide Procédé et dispositif de création d'une atmosphère d'espèces gazeuses excitées ou instables.
US6342275B1 (en) * 1993-12-24 2002-01-29 Seiko Epson Corporation Method and apparatus for atmospheric pressure plasma surface treatment, method of manufacturing semiconductor device, and method of manufacturing ink jet printing head
JP3064182B2 (ja) 1994-06-14 2000-07-12 松下電工株式会社 大気圧プラズマ粉体処理方法及びその装置
FI103647B (fi) * 1994-06-17 1999-08-13 Valmet Paper Machinery Inc Menetelmä ja sovitelma paperiradan päällystämiseksi
JP3508789B2 (ja) 1994-07-04 2004-03-22 セイコーエプソン株式会社 基板の表面処理方法
US5540959A (en) * 1995-02-21 1996-07-30 Howard J. Greenwald Process for preparing a coated substrate
US6086710A (en) * 1995-04-07 2000-07-11 Seiko Epson Corporation Surface treatment apparatus
DE19525453A1 (de) * 1995-07-13 1997-01-16 Eltex Elektrostatik Gmbh Vorrichtung zum Ablösen der gasförmigen laminaren Grenzschicht
DE19546187C2 (de) * 1995-12-11 1999-04-15 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Einrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung
AUPN820396A0 (en) 1996-02-21 1996-03-14 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Method for reducing crazing in a plastics material
US5876753A (en) 1996-04-16 1999-03-02 Board Of Regents, The University Of Texas System Molecular tailoring of surfaces
CA2205817C (en) 1996-05-24 2004-04-06 Sekisui Chemical Co., Ltd. Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof
JP3624566B2 (ja) 1996-07-11 2005-03-02 日新電機株式会社 イオン照射装置
WO1998010116A1 (en) 1996-09-05 1998-03-12 Talison Research Ultrasonic nozzle feed for plasma deposited film networks
EP0851720B1 (de) * 1996-12-23 1999-10-06 Sulzer Metco AG Indirektes Plasmatron
JP3899597B2 (ja) 1997-01-30 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
US6014235A (en) 1997-06-03 2000-01-11 Lucent Technologies Inc. Optical-loop buffer that enhances the extinction ratio of the buffered signal
JP3478068B2 (ja) 1997-06-11 2003-12-10 富士ゼロックス株式会社 定着装置
GB9715508D0 (en) * 1997-07-24 1997-10-01 Scapa Group Plc Industrial fabrics and method of treatment
DE19732901C1 (de) † 1997-07-30 1998-11-26 Tdz Ges Fuer Innovative Oberfl Vorrichtung zur Koronabehandlung der Oberfläche eines Substrats
IL125545A0 (en) 1997-08-08 1999-03-12 Univ Texas Devices having gas-phase deposited coatings
GB9717368D0 (en) * 1997-08-18 1997-10-22 Crowther Jonathan Cold plasma metallization
DE19742619C1 (de) † 1997-09-26 1999-01-28 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur Einbringung pulverförmiger Feststoffe oder Flüssigkeiten in ein induktiv gekoppeltes Plasma
ATE234165T1 (de) * 1998-02-05 2003-03-15 Empa Polare polymerartige beschichtung
US6368665B1 (en) * 1998-04-29 2002-04-09 Microcoating Technologies, Inc. Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition
DE19826550C2 (de) † 1998-06-15 2001-07-12 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines Pulveraerosols
US6705127B1 (en) * 1998-10-30 2004-03-16 Corning Incorporated Methods of manufacturing soot for optical fiber preforms and preforms made by the methods
JP3704983B2 (ja) 1998-12-25 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 表面処理装置
JP2000212753A (ja) 1999-01-22 2000-08-02 Sekisui Chem Co Ltd 表面処理品の製造方法
JP4096454B2 (ja) 1999-05-11 2008-06-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 プラスティック支持体の表面処理装置及びプラスティック支持体の表面処理方法
US20020129902A1 (en) * 1999-05-14 2002-09-19 Babayan Steven E. Low-temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device
DE19924108B4 (de) 1999-05-26 2007-05-03 Robert Bosch Gmbh Plasmapolymerbeschichtung und Verfahren zu deren Herstellung
US6331689B1 (en) * 1999-06-15 2001-12-18 Siemens Aktiengesellschaft Method and device for producing a powder aerosol and use thereof
JP2001074907A (ja) * 1999-09-06 2001-03-23 Sekisui Chem Co Ltd ディスプレイ用反射防止フィルム及びその製造方法
JP3399887B2 (ja) 1999-09-22 2003-04-21 パール工業株式会社 プラズマ処理装置
DE29919142U1 (de) * 1999-10-30 2001-03-08 Agrodyn Hochspannungstechnik G Plasmadüse
JP2001158976A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Showa Aluminum Kan Kk 大気圧低温プラズマにより処理したｄｉ缶及びその製造方法
FR2801814B1 (fr) * 1999-12-06 2002-04-19 Cebal Procede de depot d'un revetement sur la surface interne des boitiers distributeurs aerosols
DE60102903T2 (de) 2000-02-11 2005-05-12 Dow Corning Ireland Ltd., Midleton Eine plasmaanlage mit atmosphärischem druck
DE10011276A1 (de) * 2000-03-08 2001-09-13 Wolff Walsrode Ag Verwendung eines indirrekten atomosphärischen Plasmatrons zur Oberflächenbehandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe sowie ein Verfahren zur Behandlung oder Beschichtung bahnförmiger Werkstoffe
DE10017846C2 (de) * 2000-04-11 2002-03-14 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Abscheiden einer Polymerschicht und Verwendung derselben
JP2002057440A (ja) 2000-06-02 2002-02-22 Sekisui Chem Co Ltd 放電プラズマ処理方法及びその装置
FR2814382B1 (fr) * 2000-09-28 2003-05-09 Cebal Procede de depot d'un revetement interne dans un recipient en matiere plastique
ES2214444T5 (es) 2000-10-04 2008-02-16 Dow Corning Ireland Limited Metodo y aparato para formar un recubrimiento.
MY138190A (en) 2000-10-26 2009-05-29 Dow Corning Ireland Ltd An Irish Company An atmospheric pressure plasma assembly
TW531801B (en) * 2000-11-14 2003-05-11 Sekisui Chemical Co Ltd Normal plasma processing method and processing device

Also Published As

Publication number Publication date
AU2001290097A1 (en) 2002-04-15
EP1326718B2 (en) 2007-09-05
JP2004510571A (ja) 2004-04-08
CN1468154A (zh) 2004-01-14
BR0114200A (pt) 2003-12-09
JP5349726B2 (ja) 2013-11-20
WO2002028548A2 (en) 2002-04-11
EA006831B1 (ru) 2006-04-28
US20040022945A1 (en) 2004-02-05
ATE257412T1 (de) 2004-01-15
WO2002028548A3 (en) 2002-10-17
TR200400076T4 (tr) 2004-02-23
EA200300440A1 (ru) 2003-08-28
EP1326718B1 (en) 2004-01-07
ES2214444T3 (es) 2004-09-16
DE60101747T2 (de) 2004-10-14
KR100823858B1 (ko) 2008-04-21
DK1326718T3 (da) 2004-04-13
US7455892B2 (en) 2008-11-25
KR20030068543A (ko) 2003-08-21
BR0114200B1 (pt) 2011-05-03
DE60101747T3 (de) 2008-04-03
PT1326718E (pt) 2004-04-30
CN1261233C (zh) 2006-06-28
MXPA03002988A (es) 2004-12-06
ES2214444T5 (es) 2008-02-16
DE60101747D1 (de) 2004-02-12
EP1326718A2 (en) 2003-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW562708B (en) Method and apparatus for forming a coating
CN102355789B (zh) 用于等离子体处理表面的工艺
US7678429B2 (en) Protective coating composition
US9132609B2 (en) Method for fixation onto layer comprising amorphous carbon film, and laminate
JP6031038B2 (ja) 基材の接合方法および複合構造体の製造方法
US7438882B2 (en) Gel and powder making
KR20070072899A (ko) 향상된 증착 속도의 플라즈마 강화 화학 기상 방법
JP2008540771A (ja) 接着剤を基材に、プライマーを介して、結合させてみる
US20100009095A1 (en) Method and Apparatus for Producing a Coating on a Substrate
US10533114B2 (en) Polymeric film coating method on a substrate by depositing and subsequently polymerizing a monomeric composition by plasma treatment
CN101049053A (zh) 等离子体系统
JP4144042B2 (ja) ガス遮断性プラスチック包材とその製造方法
JP2021513581A (ja) 接着のためのケイ素ベースの保護フィルム、その製造方法及びその利用
KR102208451B1 (ko) 질화붕소분말의 발수처리 방법 및 발수코팅된 질화붕소
Carton et al. Atmospheric Pressure Plasmas: Polymerization
WO2014184566A1 (en) Method of forming polymer nanocomposites in joins between substrates

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees