TW525161B - Semiconductor device having early operation high voltage generator and high voltage supplying method therefore - Google Patents

Semiconductor device having early operation high voltage generator and high voltage supplying method therefore Download PDF

Info

Publication number
TW525161B
TW525161B TW090123193A TW90123193A TW525161B TW 525161 B TW525161 B TW 525161B TW 090123193 A TW090123193 A TW 090123193A TW 90123193 A TW90123193 A TW 90123193A TW 525161 B TW525161 B TW 525161B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
voltage
signal
word line
generator
voltage generator
Prior art date
Application number
TW090123193A
Other languages
English (en)
Inventor
Seong-Kue Jo
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW525161B publication Critical patent/TW525161B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • G11C11/417Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/4074Power supply or voltage generation circuits, e.g. bias voltage generators, substrate voltage generators, back-up power, power control circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4085Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C2207/00Indexing scheme relating to arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C2207/22Control and timing of internal memory operations
    • G11C2207/2227Standby or low power modes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

525161 A7 B7 五、發明説明(1 ) 發明背景 1 .發明範疇 本發明係關於半導體裝置,此等半導體裝置具有需要週 期性再生操作之記憶單元。更特定言之,本發明係關於使 用於此等半導體裝置之一種高壓產生器與一種高壓供應方 法,其適於從内部實施再生操作,同時在與靜態隨機存取 記憶體(SRAM)同一定時條件下,適於從外部操作。 2 .相關技藝説明 在半導體隨機存取記憶體(R人M)裝置中,資料是以單獨 的位址,存在記憶單元陣列的特定位置。此一資料存於基 本隨機存取記憶體(RAM)單元,如靜態隨機存取記憶體 (SRAM)單元與動態隨機存取記憶體(DRAM)單元。靜態隨 機存取記憶體(SRAM)單元具有靜態的閉鎖結構(通常包括 六個電晶體,或四個電晶體與兩個電阻器),此一閉鎖結 構只要維持外部之電源供應,無再生操作便可以儲存資 料。動態隨機存取記憶體(DRAM)單元包括一個儲存元件 (通常是電容器)與一存取電晶體。在動態隨機存取記憶體 (DRAM)單元中,高狀態之資料儲存於電容器中,此一電 容器隨時間逐漸放電。因此,高狀態之資料不能長時間存 在動態隨機存取記憶體(DRAM)單元中,除非動態隨機存 取記憶體(DRAM)單元是週期性再生的。 動態隨機存取記憶體(DRAM)單元要求週期性再生操作 以避免電荷泄漏與重要資料損失,其需要一電路,以於此 一資料漏失發生之前,實施再生操作。早期動態隨機存取 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)
裝 訂
525161 A7 B7 五、發明説明(2 ) 0己i思體(DRAM)(特別是外部操作之動態隨機存取記憶體 (DRAM)具有與靜態隨機存取記憶體(SRAM)相同之定時條 件)在外部儲存裝置控制器的控制下,可執行再生功能。 現在,大部分動態隨機存取記憶體(DRAM)記憶裝置擁有 内部的再生電路,可以執行内部再生功能。 動態隨機存取記憶體(DRAM)的好處,是在用相同製程 製造之動態隨機存取記憶體(DRAM)單元比靜態隨機存取 記憶體(SRAM)單元小,但較小的動態隨機存取記憶體 (DRAM)單元,卻可以存進比較大之靜態隨機存取記憶體 (SRAM)更多的資料。因此,希望開發可以取代靜態隨機 存取記憶體(SRAM),而不影響周圍電路的操作條件的動 態隨機存取記憶體(DRAM)。 可是,爲了半導體之可靠性能,確保直流(DC)產生器之 有效操作是重要的。因此,在直流(DC)產生器的穩定操作 上,已經有很多的嘗試。1997年3月丨丨曰頒予亞馬達 (Yamada)之美國專利第5,610,863號,揭示一種控制調壓器 電路,以提供高於外部電源供應電壓之高壓Vpp給需要高 壓VPP之内部電路的方法,此一内部電路如具有動態隨= 存取記憶體(DRAM)之記憶裝置中的字線驅動器。在該專 利之圖2中,調壓器電路使用震盪器與升壓電容器來產生 電壓VPP,經由一電晶體,將偏壓電容器充電到高於輸入 電源供應電壓的電壓。字線驅動器響應記憶體「有源」操 作期間所提供之選擇信號,將VPP切換到特殊的字線。Z 一特殊之罕線選擇提供再生電荷給記憶單元。既然調壓器 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 玎 525161 A7 B7 五 、發明説明(3 電路之典型的升壓操作比有源期間長,其可能在短循環週 期中,提供讀取操作所需之電壓給字線,因而改善記憶裝 置的可信度。 可是該專利並未提供在初始有源時期,發生於VPP電荷 供應期間之電平壓降問題的解決方案。此一發生於初始 VPP電荷消耗期間的電平壓降問題,將於下列解説中闡 明。 傳統動態隨機存取記憶體(DRAM)記憶單元存取之字 線,或W/L,起動時間,係根據經由特殊W/L路徑、隨機 應用之定時信號來決定的,而W/L路徑則是經由外部定時 之最短路徑來起動,以最小化存取時間。既然這樣,VPP 供應之起動時間係根據W/L起動時間來決定,以最小化歸 因於泄漏的電荷消耗。既然VPP產生器藉由使用泵激電容 器之升壓方法來產生電荷,升壓節點的預充電時間可以是 冗長的。因爲供升壓操作之電荷供應的起始時間係基於 W/L起動時間,而在保持後備VPP電平於後備操作模式的 條件下,與消耗VPP電荷的初始起始時間相較,其延遲了 供應VPP產生器中電荷的起始時間。因此,在3.3伏特同步 動態隨機存取記憶體(SDRAM)的情況中,於初始VPP電荷 消耗裡,有一來自參考VPP,約0·5〜0.7伏特的壓降。此一 壓降導致使用VPP之鏈電路中的時間延遲,而最壞的情況 是,記憶單元操作的失靈。在圖3中,當此一 VPP產生器基 於W/L起動時間(意指W/L)而起動時(意指VPP_EN),以圖 表顯示此一 VPP壓降。在圖3中,時間點tl與t2分別指示 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 裝 訂 525161 A7 B7 五、發明説明(4 ) VPP電荷初始電荷消耗時間,與初始VPP電荷之供應時 間。根據此一操作定時,指示爲G1之電平壓降發生了,而 且由於記憶單元操作的失靈,其可導致半導體裝置的性能 降低。 因此,有一論證的需要,以於動態隨機存取記憶體 (DRAM)之再生操作期間,避免上述壓降,以確保記憶裝 置的可信度。 、發明概要 因此本發明具體實施例之一特點爲提供一種適於VPP產 生器之改良的半導體裝置與其操作方法。 本發明具體實施例之另一特點爲提供一種操作控制方 法,藉由有效地控制VPP產生器,避免VPP電平降落。 本發明具體實施例之另一特點爲提供一種半導體裝置與 VPP供應之方法,其中此一半導體裝置可以減少或最小化 VPP電荷消耗之壓降。 根據本發明之較佳具體實施例,提供一種半導體記憶裝 置,其以執行靜態隨機存取記憶操作較佳,其包括一内部 電源供應電壓產生器,視需要提供高於外部電源供應電壓 之内部電壓,以及包括一耦合到内部電壓之字線驅動電 路,其中高壓產生器之電荷供應操作時間的起始點,比字 線驅動電路之高壓電荷消耗時間的起始點早發生。 根據本發明之另一具體實施例.,提供一種半導體裝置, 此一半導體裝置包括一内部電源供應電壓產生器,用來產 生耦合到外部電源供應電壓的内部電源供應電壓、一個耦 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 、發明説明( 合到内部電源供應電壓的内部電路 號產生器,用央db , + 乂及一個驅動控制信 用來對内邵電源供應電壓產… 信號,其中内立 登屋生态犯加驅動控制 始點,比内壓產生器之電荷供應時間的起 起始點早::$源供應電壓之電荷消耗時間的 内4¾源供應電壓產生器中之内部而厭 壓的電壓電平,古认kβ <内邛私壓供應電 佳。此一 V: 外郅電源供應電壓的電壓電平較 制信號’供/f應記憶單元存取操作期間激發之驅動控 ;L 、應给後備vpp輸出節點較佳。叙能萨撫六 憶體(DRAM)單开τ A i A - 動心隧機存取記 俨哲… 此耦合到内部電路,而此-半導體吒 裝置以執行靜態隨機存取記憶操作介面較佳。 ° 操發:之另* 一具!實施例,執行靜態隨機存取記憶 味的導體記憶單元,提供在許多字線與許多位元 r又术處所提供之許多再生型記憶單元、高壓產生哭塑 =憶單:存取操作期間激發之驅動控制信號,爲後備: 嗯f輸土即點所提供電壓’纟中此一高壓比電源電壓高、 ,動與罕線有關之内部電路,以使用響應指令信息與位址 ^息又=壓,從許多字線中選擇—字線;以及驅動控制信 唬產生态,其響應指令信息而產生驅動控制信號,其中用 °動同壓產生咨之時間的起始點,比在記憶單元存取操 作J間,於後備高壓輸出節點之電荷消耗時間的起始點 早屯诗消耗時間的起始點,以對應到所選擇字線之時間 的起動點較佳。 轉根據本發明之另一具體實施例,提供一種用來控制半導 心记k裝置之高壓產生器,與執行動態隨機存取記憶操作 525161 五 、發明説明(6 介面的方法,此一半導體記憶裝置具 線與許多位元線之交集處的再生型記憶單元,龙到4多字 法包括接收用於記憶單元存取操作期間的外部指:此:方 以及提供驅動控制信號給基於 :“, 器,其中高壓產生哭之♦ 心的兩壓產生 m 應操作時間的起始點,口/ ^產生器輸出節點之電荷消耗時間的起 前^在 此令信息以與讀取、寫入與再生信號有關較:發生。 據本發明芩另一具體實施例,提供一 體記憶裝置之高壓產生器,與執能控制半導 :面的方法,此-半導體記憶裝;= = 多位几線之交集處的再生型記憶單元,而執行:: : = 應記憶單元存取_ 、、 ^曰7 ^號,而產生指令輸出信號,其中此一 二去包括藉由在指令輸出信號的產生期間,起動此一高壓 =器以供應高壓给内部電路,以及延遲指令輸出信號, 、疋供此一延遲 < 指令輸出信號給内部電路,此一内部電 =用來從許多字線中選擇-字線,纟中所選擇的字線係 延犀時間點激發,此一時間點與高壓時間之供應點相比是 ^ ^此扣令輸出信號可能以用於位址選擇譯碼器較 2,此一位址選擇譯碼器產生第一個位址譯碼信號。内部 ^路可能包括字線起動電路、字線驅動器控制器,及字 、’泉。電荷消耗操作以於供應高壓之後,在内部電路中發生 車又佳,且可能在所選擇之字線起動之前發生。 根據本發明,可能大大地改善記憶單元存取操作的可信 丨X 297公釐) 525161 A7 B7 五、發明説明(7 ) 度,而且由於發生於VPP電荷消耗之壓降的最小化,允許 VPP產生器中泵激電容器尺寸的減少,其可能減少線路工 圖的尺寸。 對那些原本即熟諳此藝之士,藉著複習下列詳細敘述, 本發明之這些與其他特點與態樣,將迅速地變得顯而易 見。 圖式簡單説明 藉由參考下列説明之具體實施例的詳細説明,且連同附 圖一起閱讀時,本發明,以及便用之較佳模式、進一步特 點,與其優點,將是最好暸解的,其中: 圖1説明VPP產生器與電路之具體實施例的方塊圖,此一 VPP產生器與電路,和根據本發明之字線驅動有關; 圖2說明根據圖1之样細電路的電路圖; 圖3説明根據傳統半導體裝置之VPP供應操作之定時圖;及 圖4説明根據本發明之VPP供應操作之定時圖。 具體實施例詳細説明 2000年1 1月23日申請之韓國專利申請案第2000-69833 號,標題「具有早期操作高壓產生器的半導體裝置和其高 壓供應方法」,其以全文引用的方式併入本文中。 在下文中,將參考附圖詳細地敘述本發明之較佳具體實 施例。 在圖1中,説明VPP產生器與電路的方塊圖,此一 VPP產 生器與電路,和根據本發明之W/L驅動有關。圖2説明圖1 中之方塊的詳細電路。 -1 0 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 裝 玎 525161 A7 B7
五、發明説明( 首先凊即參見圖1,在記憶單元陣列(丨〇〇)中之再生型記 憶單元(MCO,MCI,MC2,MC3, Λπ7、沾土土 口 W/Ls (WL0,WL1,WL2,WL3)與位元線(犯,卜 〇·3)的交 集處,此等位元線包括許多行與列的矩陣。方塊之感應放 大器(80,81)以連接到相應之位元線較佳。 VPP產生器響應在記憶單元存取操作期間激發之驅動控 制化號(VPP一ΕΝ),提供向於電源源電壓(IVCC)(圖2之方塊 40)之VPP給後備之VPP輸出節點(li)。此一 Vpp產生器(3〇A) 的細節顯示於圖2之方塊(30),—且其以包含倒向器(19, no)、聚激電容益(Cl ’ C2,C3,C4),與驅動電晶體 (丁1,T2,T3,T4)較佳。 作爲驅動控制信號產生器之VPP起動電路(20),在記憶 單元存取操作期間,於後備VPP輸出節點(L1)之電荷消耗 之前,其響應爲操作VPP產生器(3〇)而應用之指令信息信 號(PREQ ’ WREQ ’ RREQ),產生驅動控制信號 (VPP—EN)。此一指令信號以與讀取、寫入與再生指令信號 有關較佳。此一 VPP起動電路(20)的細節顯示於圖2之方塊 (20),其以包括下列較佳:接收有關於讀取、寫入與再生 指令(PREQ,WREQ,RREQ)之信號的 NOR 閘(NOR1)、包 含用來延遲NOR閘(NOR1)輸出之倒向器(11-16)的倒向鏈路 (ICH)、用來接收倒向鏈路(ICH)與NOR閘(NOR1)之輸出的 NAND閘(ΝΑΝΙ)、用來將NAND閘(ΝΑΝΙ)之輸出倒向的第 一個倒向器(17),以及用來將第一個倒向器(17)之輸出倒向 的第二個倒向器(18)。 -11- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐) 裝 訂
525161 A7 B7 五、發明説明(9 後備之VPP產生電路(35),在記憶裝置未執行存取操作 期間之後備操作模式期間,產生預定之VPP電平。爲了最 小化功率消耗,後備VPP產生電路(35)之驅動能力,和VPP 產生器(30)之驅動能力比較起來是相對較低的,因此,後 備之VPP電壓電平和VPP產生器之VPP電平比較起來是低 的。後備VPP產生電路(3 5)之詳細操作解説,對那些原已 熟諳此藝之士而言是熟知的,而爲了單純起見,本文中將 其省略。 在本發明之較佳具體實施例肀,存取指令緩衝區(10)響 應經由外部輸入終端應用之信號,緩衝並產生與讀取、寫 入與再生指令(PREQ,WREQ,RREQ)有關之信號。與讀 取、寫入與再生指令(PREQ,WREQ,RREQ)有關之信 號,直接用於VPP起動電路(20),並亦經由延遲電路(25)來 延遲。對位址選擇譯碼器(40)施加延遲之信號(DPREQ, DWREQ,DRREQ)。延遲電路(25)包括習知之延遲元件。 半導體裝置中之讀取與寫入操作,可能藉由從外部施加之 位址信號,亦即ADDi,晶片起動信號,亦即CSB,與寫入 起動信號,亦即WEB,的轉換來初始。 位址選擇譯碼器(40)以響應用作控制信號之信號 (DPREQ,DWREQ,DRREQ)及於再生、寫入與讀取操作模 式中所提供之位址(CNTi,Ai-Write,Ai-Read),根據再生、 寫入與讀取操作模式,接收個別位址,並產生第一個位址 譯碼信號(DADDi)較佳。圖2中方塊(40)所示之位址選擇譯 碼器(40),以包括供信號倒向之倒向器(111,112,113)、傳 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 裝 玎 525161 A7 B7 五、發明説明(1〇 ) 輸閘(Gl,G2,G3)、供初始化之鉗位電晶體(P1),及倒向 器鎖存器(L1)較佳。在讀取操作模式中,將與讀取指令 (DRREQ)有關之信號用作高電平。因此,傳輸閘(G3)是打 開的,而讀取位址(Ai-Read)則提供給鎖存器(L1)輸入。初 始時,由於電晶體(P1)之初始化,鎖存器(L1)之輸出是低 電平的,而接著鎖存器(L1)將讀取位址(Ai-Read)倒向成供 讀取操作之第一個位址譯碼信號(DADDi)。 如圖2所示,耦合到VPP而當作電源供應電壓之W/L起動 電路(50),以響應第一個位址譯碼信號(DADDi)與第二個 位址譯碼信號,亦即行方塊位置信號(BADDi),產生第三 個位址譯碼信號,亦即在VPP電平之行位址譯碼信號(PXi) 較佳。如圖2所示之W/L起動電路(50)以包括一 NAND閘 (NAN2)、倒向器(Π 7,11 8)、交叉耦合p-通道金屬氧化物 半導體(MOS)電晶體(P2,P3),及η-通道金屬氧化物半導 體(MOS)電晶體(Nl,Ν2)較佳。剩下的W/L起動電路(51, 52 ’ 53)和W/L起動電路(50)相同的組態’而且根據第一個 位址譯碼信號(DADDi),其具有不同的輸入。 PXiD電路(60,61,62,63),亦即W/L驅動器控制器, 響應行位址譯碼信號(PXi,i=0〜3)與第四個位址譯碼信 號,亦即方塊控制信號(BSYi,i= 1〜m),產生輸出信號 (PXiD,PXiDD,PXiBD),以使用列位址譯碼信號(BSY), 起動選擇之列單元陣列方塊中的W/L。輸出信號(PXiD, PXiDD,PXiBD)係用於 W/L驅動器(70,71,72,73)。如 圖2中顯示之方塊(60)的PXiD電路之一,耦合到VPP作爲電 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 525161 A7 B7 五、發明説明(11 ) 源源,而其以包含位址譯碼信號(PXi)與方塊控制信號 (BSYi)較佳,第一個倒向器(119)產生第一個W/L驅動控制 信號(PXiD),將第一個NAND閘(NAN3)的輸出倒向,並控 制W/L驅動器,而第二個倒向器(120)產生第一個W/L驅動 控制信號(PXiDD),將第二個NAND閘(NAN4)的輸出倒 向,並控制W/L驅動器。如此,方塊控制信號(BSYi)用來 激發PXiD電路之電壓電平可能是VPP電平,以避免電流泄 漏。 耦合到供驅動相應W/Ls (WU〇,WL1,WL2,WL3)之 VPP的W/L驅動器(70,71,72,73),以包括電晶體(N3, N4,N5,N6)(圖2)較佳。用於電晶體(N3)(圖2)之汲極的輸 入信號,以第五個位址譯碼信號較佳,此信號亦即由未顯 示之行譯碼器所提供之正常的W/L起動信號(NWEi)(圖1與 圖2) 〇 在執行靜態隨機存取記憶操作介面之半導體裝置中,根 據本發明之動態隨機存取記憶體(DRAM)單元陣列的配 置,以和W/L驅動器均分兩個鄰接記憶單元陣列方塊較 佳,以減少線路佈局區域。 應從圖2了解,VPP係用於W/L起動電路(50,51,52, 53)、PXiD 電路(60,61,62,63),與 W/L驅動器(70,71, 72,73)。動態隨機存取記憶體(DRAM)中之VPP電荷消 耗,主要與W/L起動、方塊隔離,及方塊預充電操作有 關。在本發明中,於實際VPP電荷消耗中,可能藉由在初 始VPP電荷消耗前,操作VPP產生器(30)來減少或最小化壓 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 525161 A7 B7 五、發明説明(12 降。因此,可以改善記憶單元操作之可信度,並且可以減 少VPP產生器(30)之泵激電容器的尺寸。 在使用動態隨機存取記憶體(DRAM)單元,而執行作靜 態隨機存取記憶體(SRAM)之半導體裝置中,可能從施加 外邵信號的時間,延遲受到外部信號之實際W/L激發。本 發明藉由在電荷消耗前,操作VPP產生器來利用此點,因 而允許此一 vpp產生器之泵激電容器,在W/L激發期間, 藉著在W/L激發之前供應電荷給vpp產生器,而於vpp電荷 實際消耗之前,變成充電的。因-而可能減少實際vpp電荷 消耗中之壓降。 ° 圖3説明根據傳統方法之VPP產生器與狐激發控制的才品 作定時圖,其中VPP產生器(30)由信號(vpp en)起動,^ 指令信號(PREQ,WREQ,RREQ)激發,並根據狀 激發的同日寺,晶片選擇信號(CSB)在低電平時有效的二 精由傳統方法來驅動VPP產生器(3〇)時,初始vpp_、四 〜在發生VPP電荷消耗處供應vpp電荷之前發:何 供應VPP電荷的起始時間係經由最短路徑來決定,因馬 最短路徑具有用來保證錢操作之邊緣,因此發生2 — ΓΪΓ耗位置之延遲,而接著vpp電荷經由二: ..泉,被傳送到實際消耗VPP電荷之局部_ 4 費有限時間。初始VPP電荷消耗發生作花 WP電荷供應發生於時間點(t2 ' =)’而實際 -操作定時,發生指示爲G1之電平看足”此 W/L的電壓電平,其可能導致記憶操作的失靈。〈激發 -15-
525161 A7 B7 五、發明説明(13 ) 因此,根據本發明之VPP電荷係由如圖4所示之操作定時 來供應。圖4説明VPP產生器(30)與W/L激發控制的定時 圖,並顯示W/L激發之前,由信號(VPP_EN)起動VPP產生 器(30)時,VPP電平降落的減少。時間點(tl)指示初始VPP 電荷供應時間,而時間點(t2)則指示初始VPP電荷消耗時 間。圖4之時間點(tl)對應於圖3之時間點(t2)。根據圖4之 定時圖,發生之VPP電平降落係指示爲G2,其明顯地比131 小,而且可能避免或最小化記憶單元操作的失靈。 尤其是如圖4之定時圖中所説明之定時,在具有如本發 明之動態隨機存取記憶體(DRAM)單元與靜態隨機存取記 憶體(SRAM)介面操作的半導體記憶裝置中,是非常有用 的。既然不管外部指令,此一記憶裝置應避免單元資料之 損失,則應執行内部再生操作。 在本發明之具體實施例中,爲了確保根據内部再生週期 之再生操作,讀取或寫入操作中之初始的預定時間間隔是 不可或缺的。因此,響應自外部施加之記憶單元操作的信 號,而供實際單元操作的W/L激發,並不是經由最短路 徑,而是經由延遲路徑。既然供VPP產生器(30)操作之時 間點,可能根據用於單元操作之外部信號的時間點來決 定,對於實際單元操作,可能在實際W/L激發時間之前, 操作VPP產生器(30)。藉由在W/L激發之前,激發VPP產生 器(30),可預先供應足夠的VPP電荷,並且可能減少或最 小化W/L激發處之VPP壓降。 此外,既然預先供應足夠之VPP電荷,可能減少用來泵 -16- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)
裝 玎 525161 A7 B7 五、發明説明(14 ) 激之電容器尺寸,及因此之線路佈局區域。 在下文中’將解説讀取操作與圖4之相應的定時圖,此 一讀取操作即如圖1中之VPP產生器的記憶單元操作與關於 W/L的電路所執行的。在讀取操作模式中,提供位址信號 ADDi、晶片起動信號CSB,及寫入起動信號WEB給存取指 令緩衝區(10)。此一存取指令緩衝區(1〇)產生與讀取、寫 入與再生指令(PREQ,WREQ,RREQ)有關的信號,而這 些信號將用於VPP起動電路(20)與延遲電路(25)。VPP起動 電路(20)產生驅動控制信號(VPP二EN);接收此一驅動控制 信號(VPP—EN)的VPP產生器(30),提供高於電源源電壓 (IVCC)(圖2)的VPP給後備之Vpp輸出節點(L1)。延遲電路 (25)也用於與讀取、寫入與再生指令(DPREq,dwREQ, DRREQ)有關的信號給位址選擇譯碼器(4〇)。既然vpp電荷 還未於^^化起動電路(50,51,52,53)、?\丨〇電路(60, 61 ’ 62,63)與W/L驅動器(7〇,71,72,73)中消耗,後備 VPP輸出節點(L1)之電壓電平,變得比圖4中指示爲vpp電 平差X的後備VPP電平高。因此,在W/L激發之前,供應比 後備VPP電平高的VPP電平。此一操作持續到時間點t2,當 電荷開始消耗時。同樣地,假如用於與讀取指令(DrrEQ) 有關之預定時間延遲信號給位址選擇譯碼器(4〇),則在位 元線(BLi)是預充電的情況下,由位址譯碼信號選擇w/L。 當W/L由位址譯碼信號激發時,便打開每個連接到所選擇 之W/L的存取電晶體。此時,亦即圖4之時間點t2,開始發 生VPP電荷消耗。此處,既然將高於後備vpp電平之vpp電 平用作驅動電壓,在初始電荷消耗時間點t2之後,發生如 ___ -17- 本紙張尺度適用中國國家襟準(CNS) A4規格(21〇x 297公釐) 525161
圖4中指示爲G2的電壓電平降落,此_電平降落小於圖] 中,指示爲G1之傳統半導體裝置定時圖的電壓電平降落。 所以,在本發明中,可以避免不足之電壓電平處的w/l激 發。 打=存取電晶體之後,記憶單元之儲存器節點與連接到 c憶單元的特定位元線(BLi)可以均分電荷。在位元線(BLi) 中之電荷均分開始後,藉由應用之脈衝來操作感應放大器 =0 81)。其後,感應放大器(8〇,81)將相應之位元線(BLi) 二壓放大,並將放大之資料儲存於鎖存器當作記憶單元資 料。藉由反應行譯碼信號之行選擇線信號(CSL)的起動, 和儲存於鎖存咨的貝料傳輸到I/O線。由於相應之行選擇 、泉仏號(CSL)的播起動,而沒有傳輸到1/〇線之儲存的資 料,在W/L激發期間,被重新寫入到相應之記憶單元。換 句話説,完成稱作有效重建(active rest〇re)之再生操作。 如上所述,根據本發明具體實施例之半導體記憶裝置, 在肖耗之前操作Vpp產生器,因而減少實際電 荷消耗中的壓降,可以改善記憶單元存取操作的可信度。 而藉由有效地最佳化VPP產生器之泵激電容器的尺寸,也 可以減少線路佈局區域。 本文中已揭示本發明之較佳具體實施例,雖然未使用特 疋術語,其被使用,且僅被解釋成一般與説明之意,而非 限制之目的。於是,熟諳此藝之人士應了解,可以作各種 形式與範圍的改變而不脱離下列申請專利範圍陳述之本發 明的精神與範圍。 -1 8 -

Claims (1)

  1. 、申請專利範圍 嘗:::靜態隨機存取記憶操作介面之半導體記憶 7 L::—個再生型記憶單元,其 位元線的交集處; 於泎夕子線與纟午多 一高壓產生器,其響應記憶 驅動控制俨號,π瓜+ f 伃取k作期間激發之 ”二H 壓給一後備用之高壓輸出節點, - T此 问昼比電源電壓高; 一與字線有關之内部電路並 息與位址"之*厭卞 動來使用響應指令信 心足同堡,來從許一多字線中選擇-字線;以及 一驅動控制信號產生器,其塑 控制信號, …息而產生驅動 ,中在記憶單元存取操作期間,驅動高壓產生器的時 間點,比該備用高壓輸出節點之電荷消耗的時間%早。 2·如申請專利範園第i項之半導體記憶裝置,其中電荷消 耗時間之起始點,對應於所選擇字線之時間的起動點。 3·如申請專利範圍第丨項之半導體記憶裝置,其中指令信 息與謂取、窝入,及再生指令信號有關。 4·如申請專利範圍第1項之半導體記憶裝置,其中内部電 路在一與驅動高壓產生器之時間的起始點相比較爲延遲 的時間點,激發所選擇之字線。 5· —種半導體記憶裝置,其包括: 一内部電源供應電壓產生器,其產生耦合到外部電源 供應電壓之内部電源供應電壓; ' 一内邵電路,其耦合到内部電源供應電壓;及 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公I) 525161 A8 B8 C8
    ―驅動控制信號產生器,用來對内部 生器施加驅動控制信號, 节源供應電壓產 其中内部電源供應電壓產生器之電荷供應時間 點’比内邵電路中㈣電源供應電壓 。 起始點早。 1肖粍時間的 6. 裝置,其中内部電 電壓的電壓電平比 如申請專利範圍第5項之半導體記憶 源供應電壓產生器中之内部電源供應 外邵電源供應電壓之電壓電平高。 .如申請專利範圍第6項之半導-體記憶裝置,其中内部電 源供應電壓產生器包括複數個泵激電容器,這些泵激; 冢器是用來將外部電壓供應電壓升壓的。 8·如申請專利範圍第5項之半導體記憶裝置,進一步包括 耦合到内部電路之動態隨機存取記憶單元,而其中該半 導體記憶裝置執行靜態隨機存取記憶操作介面。 9·如申請專利範圍第8項之半導體記憶裝置,進一步包括 後備南壓產生器’其連接到内邵電源供應電壓產生器的 輸出節點。 ·發 ln _ :;_賴 10·—種用來控制半導體記憶裝置之高壓產生執行動 態隨機存取記憶操作介面的方法,該半導裝置具 有複數個連接到複數個字線與複數個位元集處的 再生型記憶單元,該方法包括·· 接收外部指令信息,此一外部指令信息係用於記憶單 元存取操作期間;及 提供驅動控制信號給基於外部指令信息的高壓產生 -20-本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Μ規格㈣父297公爱) 525161 A8 B8
    二甲高壓產生器之電荷供應操作時θ 问壓產生器輸出節點之電荷消耗:點κ 生。 J的起始點之前, 申請專利範圍第1G項之^ 1中外部指仰自以j 口貝取、寫入與再生信號有關較佳。 12· 一種用來執行靜態隨機存取記憶 置,其包括: 導體記憶1 内部電源供應電壓產生器,—其視需要提供 源電壓之内部電壓;及 ” 李馬合到内部電路之字線驅動電路, 高於外部電
    裝 ,是在 之前發 其中高壓產生器之電荷供應操作時間的起始點 字線驅動電路中高壓之電荷消耗時間的起始點 1 3 · 一種用來執行靜態隨機存取記憶操作 置,其包括: 之半導體記憶裝 訂 其連接於複數個字線與複數 線
    複數個再生型記憶單元 個位元線之間; 一存取指令緩衝區,其響應外部信號,產生也&取 寫入與再生指令㈣之信號,此等外部㈣包括:址信 號、晶片起動信號,與寫入起動信號; 一高壓起動電路,其響應至少輸出信號之其中之一, 產生一驅動控制信號; 一高壓產生器,其響應驅動控制信號,產生高壓及 -21-
    525161
    與罕線驅動有關之内部電路,其係用來從複數個字線中選擇一字線,並驅動所選擇之字線到一時間點之高 壓’而此-時間點與高壓產生器中產生之高壓相比是延 遲的。14·如申請專利範圍第13項之半導體記憶裝置,其中該與字 線驅動有關之内部電路包括: 延遲%路,其響應存取指令緩衝區之輸出信號,產 生延遲信號; -位址選擇譯碼器,其響反該等延遲信號,產生第一 個位址譯碼信號; 一字線起動電路,其響應第一個位址譯碼信號與第二 個位址譯碼信號,產生第三個位址譯碼信號;/ 字線驅動器控制器,其響應第三個位址譯碼信號與 第四個位址譯碼信號,產生字線驅動控制信號;及 丰線驅動為,其響應字線驅動控制信號與第五個位 址#碼仏號,驅動所選擇之譯碼線到高壓。 15·如申請專利範圍第13項之半導體記憶裝置,進一步包括 -備用高壓產生器,其連接到高壓產生器之輸出節點。16·如申請專利範圍第15項之半導體記憶裝置,其中該後備 咼壓產生器產生與後備操作中之高壓同樣的電壓電平。 17. —種用來控制半導體記憶裝置之高壓產生器與執行動態 隨機存取記憶操作介面的方法,此一半導體記憶裝置: 有複數個連接到複數個字線與複數個位元線之交集處的 再生型記憶單元,其包括步驟: 术
    裝 訂 線 -22- 申請專利範圍 響應記憶單元存取操作期間 產生指令輸出信號; ^邵指令信號, '藉由幻旨令輸出信號的產生期間,起動該 以供應高壓给内部電路, q 為 、 延遷指令輸出信號;及 才疋供㈣遲〈指令輸出信號给内部電路,此一内部電 路係用來彳< 複數個字線中選擇一字線, 其中所選擇的字線係於一時 丄 哼間點激發,此一時間點與 南壓時間之供應點相比是延遲的。 18. 如申請專利範圍第丨7項 、固矛貝又万法,其中該延遲之指令輸出 k號係用於位址選擇謹碑哭 卜 遝揮#碼态,而此一位址選擇譯碼器產 生第一個位址譯碼信號。 19. 如申請專利範圍第18項之方法,其中該内部電路包括字 線起動電路、字線驅動器控制器及字線。 如申#專利範圍第19項之方法,其中該字線起動電路響 應第一個位址譯碼信號與第二個位址譯碼信號,在高壓 電平產生第三個位址譯碼信號。 21·如申请專利範圍第17項之方法,其中該高壓之供應操作 時間的起始點,是在内部電路中電荷消耗操作之時間的 起始點之前發生。 22·如申請專利範圍第21項之方法,其中該電荷消耗操作在 向壓供應之後,但於起動所選擇之字線之前,發生於内 部電路。 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)
TW090123193A 2000-11-23 2001-09-20 Semiconductor device having early operation high voltage generator and high voltage supplying method therefore TW525161B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2000-0069833A KR100391152B1 (ko) 2000-11-23 2000-11-23 조기동작 고전압 발생기를 가지는 반도체 장치 및 그에따른 고전압 공급방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW525161B true TW525161B (en) 2003-03-21

Family

ID=19700764

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW090123193A TW525161B (en) 2000-11-23 2001-09-20 Semiconductor device having early operation high voltage generator and high voltage supplying method therefore

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6504783B2 (zh)
JP (1) JP5461749B2 (zh)
KR (1) KR100391152B1 (zh)
TW (1) TW525161B (zh)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100521375B1 (ko) * 2003-02-13 2005-10-12 삼성전자주식회사 동작 모드에 따라 데이터 재저장 시간을 가변시킬 수 있는반도체 메모리 장치
KR100558475B1 (ko) * 2003-04-16 2006-03-07 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 이 장치의 배치 방법
JP3705276B2 (ja) 2003-04-21 2005-10-12 セイコーエプソン株式会社 半導体メモリ装置におけるリフレッシュ制御および内部電圧の生成
KR100628832B1 (ko) 2004-11-10 2006-09-26 삼성전자주식회사 불휘발성 반도체 메모리 장치의 펌핑전압 발생회로
US7859935B2 (en) * 2005-12-28 2010-12-28 International Business Machines Corporation Memory system with low current consumption and method for the same
KR100745074B1 (ko) 2005-12-28 2007-08-01 주식회사 하이닉스반도체 반도체 장치
KR100735614B1 (ko) * 2006-01-13 2007-07-04 삼성전자주식회사 전압 공급 장치 및 그 동작 방법
KR100718046B1 (ko) 2006-06-08 2007-05-14 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US20080042730A1 (en) * 2006-06-29 2008-02-21 Hynix Semiconductor Inc. Internal voltage generating circuit and method for generating internal voltage using the same
KR100798797B1 (ko) 2006-06-30 2008-01-29 주식회사 하이닉스반도체 내부전압 발생장치를 구비하는 반도체메모리소자 및 그의구동방법
KR100776762B1 (ko) 2006-08-11 2007-11-19 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
KR100813534B1 (ko) 2006-09-13 2008-03-17 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
KR100816728B1 (ko) 2006-09-28 2008-03-27 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
KR100803364B1 (ko) 2006-11-13 2008-02-13 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치의 펌핑 전압 생성 회로
KR100870433B1 (ko) 2007-06-08 2008-11-26 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자
KR100898661B1 (ko) * 2007-08-06 2009-05-22 주식회사 하이닉스반도체 플래시 메모리 소자의 블럭 디코더
KR100859839B1 (ko) 2007-08-29 2008-09-23 주식회사 하이닉스반도체 코아전압 발생회로
KR100911193B1 (ko) 2007-10-09 2009-08-06 주식회사 하이닉스반도체 반도체 집적회로의 전압 생성장치
JP5343544B2 (ja) * 2008-12-08 2013-11-13 富士通セミコンダクター株式会社 半導体メモリ、半導体装置およびシステム
KR101559909B1 (ko) 2009-02-06 2015-10-15 삼성전자주식회사 워드라인 구동회로 및 그의 구동방법
KR101893346B1 (ko) * 2011-09-02 2018-08-31 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치
KR102153907B1 (ko) * 2013-12-11 2020-09-10 삼성전자주식회사 전압 레귤레이터, 메모리 컨트롤러 및 그것의 전압 공급 방법
KR102246342B1 (ko) 2014-06-26 2021-05-03 삼성전자주식회사 멀티 스택 칩 패키지를 갖는 데이터 저장 장치 및 그것의 동작 방법
KR102181767B1 (ko) * 2014-10-23 2020-11-24 에스케이하이닉스 주식회사 구동 장치
KR102375058B1 (ko) * 2015-08-31 2022-03-17 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 시스템
US10885967B2 (en) * 2019-01-14 2021-01-05 Micron Technology, Inc. Systems and methods for improving power efficiency in refreshing memory banks

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2945508B2 (ja) * 1991-06-20 1999-09-06 三菱電機株式会社 半導体装置
JP3510335B2 (ja) * 1994-07-18 2004-03-29 株式会社ルネサステクノロジ 半導体記憶装置、内部電源電圧発生回路、内部高電圧発生回路、中間電圧発生回路、定電流源、および基準電圧発生回路
JP3242564B2 (ja) 1995-11-29 2001-12-25 富士通株式会社 昇圧回路を有する記憶装置及び昇圧回路制御方法
JP2830807B2 (ja) * 1995-11-29 1998-12-02 日本電気株式会社 半導体メモリ装置
JPH10233091A (ja) * 1997-02-21 1998-09-02 Hitachi Ltd 半導体記憶装置およびデータ処理装置
JP3220035B2 (ja) 1997-02-27 2001-10-22 エヌイーシーマイクロシステム株式会社 スタチック型半導体記憶装置
US6215708B1 (en) * 1998-09-30 2001-04-10 Integrated Device Technology, Inc. Charge pump for improving memory cell low VCC performance without increasing gate oxide thickness
JP2001297584A (ja) * 2000-04-13 2001-10-26 Nec Corp 半導体記憶装置の昇圧回路
JP4960544B2 (ja) * 2000-07-06 2012-06-27 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置及びその制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002170387A (ja) 2002-06-14
US20020060943A1 (en) 2002-05-23
US6504783B2 (en) 2003-01-07
KR100391152B1 (ko) 2003-07-12
JP5461749B2 (ja) 2014-04-02
KR20020039950A (ko) 2002-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW525161B (en) Semiconductor device having early operation high voltage generator and high voltage supplying method therefore
JP4229674B2 (ja) 半導体記憶装置及びその制御方法
TW567495B (en) Semiconductor memory device control method and semiconductor memory device
US6240039B1 (en) Semiconductor memory device and driving signal generator therefor
JP2000215665A (ja) バンク別に選択的なセルフリフレッシュが可能な動的メモリ装置
US7800961B2 (en) Word line driver and semiconductor memory device having the same
KR100992470B1 (ko) 반도체 메모리 및 시스템
JP2001256775A (ja) 強誘電体メモリ
JP3959341B2 (ja) 半導体集積回路装置
JP2005158223A (ja) 半導体メモリ
EP0528352B1 (en) Semiconductor memory device
JPH09161477A (ja) 半導体記憶装置
JPH05274875A (ja) 半導体記憶装置
JP4458699B2 (ja) 半導体集積回路
US7426151B2 (en) Device and method for performing a partial array refresh operation
JP4132795B2 (ja) 半導体集積回路
US6529434B2 (en) Semiconductor memory device with concurrent refresh and data access operation
JP2002150768A (ja) 半導体記憶装置
US20050105372A1 (en) Semiconductor memory
JP2001126473A (ja) ワード線リセット回路を含むメモリ回路及びワード線のリセット方法
KR100327591B1 (ko) 프로그래머블 셀프리프레쉬 기능을 갖는 동기식 디램
JP2005310197A (ja) 半導体集積回路装置及びそのデータ書き込み方法
JPH1064260A (ja) 漏洩電流を減少させたディラム
KR100924355B1 (ko) 반도체 메모리 장치
JP3553027B2 (ja) 半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees