JP4132795B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数種の電圧生成回路を有する半導体集積回路に関する。また、本発明は、複数の動作モードを有する半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】
近時、バッテリーを使用して動作する携帯機器が普及してきている。これ等携帯機器に実装される半導体集積回路は、バッテリーの使用時間を長くするために低消費電力であることが要求される。このため、この種の半導体集積回路は、外部電源電圧より電圧の低い内部電源電圧を発生する電圧生成回路を内蔵している。内部電源電圧を半導体集積回路の内部回路に供給することで、低消費電力が実現される。また、DRAM等の半導体集積回路では、ワード線の昇圧電圧(内部電源電圧)を生成する電圧生成回路を有している。すなわち、複数種の電圧生成回路で生成される複数種の内部電源電圧が、複数の内部回路にそれぞれ供給される。
【0003】
さらに、この種の半導体集積回路は、電圧生成回路を能力の異なる複数のユニットで構成し、動作させるユニットを動作モードに応じて切り換えることで低消費電力を実現している。例えば、DRAMでは、読み出し動作および書き込み動作等が実行されるアクティブモード時には(ワード線の選択時)、能力の大きいユニットを動作させる。有効なコマンドが供給されていないスタンバイモード時には(ワード線の非選択時)、能力の小さいユニットを動作させる。さらに、パワーダウンモード(低消費電力モード)時には、全てのユニットの動作を停止し、内部電源電圧の生成を停止する。このとき、情報の保持が必要なラッチ回路等のみに外部電源電圧が供給され、その他の回路は動作を停止する。このため、さらに消費電力が下がる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、内部電源電圧の生成は、パワーダウンモード時に停止する。このため、半導体集積回路の状態が、スタンバイモードまたはアクティブモードからパワーダウンモードに移行するとき、内部電源電圧を供給する内部電源線は、フローティングになる。この際、内部電源線に溜まっている電荷は、リークパスを介して徐々に接地線に引き抜かれる。すなわち、内部電源電圧は徐々に降下する。
【0005】
図7は、スタンバイモードからパワーダウンモードに移行する際の内部電源電圧VPP、Vii(以下、昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiと称する)の変化を示している。リークパスの構成によっては、昇圧電圧VPPが降圧電圧Viiより早く降下し、昇圧電圧VPPが降圧電圧Viiより低くなる場合が考えられる(図7(a))。この際、昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiを受けている回路が誤動作するおそれがある。なお、リークパスの構成は、半導体集積回路の基板構造および回路レイアウトなどに依存する。
【0006】
図8は、半導体集積回路の誤動作の例を示している。この例では、縦続接続されたCMOSインバータ2、4、ラッチ回路6での誤動作を説明する。CMOSインバータ2のpMOSトランジスタのソースには、昇圧電源線VPPが接続されている。CMOSインバータ4のpMOSトランジスタのソースには、降圧電源線Viiが接続されている。ラッチ回路6は、入力と出力とが互いに接続された2つのCMOSインバータ8を有している。各CMOSインバータ8のpMOSトランジスタのソースには、外部電源線VDDが接続されている。
【0007】
スタンバイモード中、入力信号INは論理0に、CMOSインバータ2の出力は論理1(昇圧電圧VPP)に、CMOSインバータ4の出力は論理0に、ラッチ回路6の出力OUTは論理1になっている。半導体集積回路の動作モードがパワーダウンモードに移行し、図7(a)に示したように、昇圧電圧VPPが降圧電圧Viiより低くなると、CMOSインバータ4の入力は、論理1から論理0に変化する。CMOSインバータ4は、論理1を誤出力するため、ラッチ回路6のデータは反転する。すなわち、パワーダウンモード中に保持されるべきラッチ回路6のデータは、破壊されてしまう。したがって、パワーダウンモードからスタンバイモードあるいはアクティブモードに移行したときに、半導体集積回路は誤動作するおそれがある。
【0008】
本発明の目的は、半導体集積回路の誤動作を防止することにある。特に、複数の動作モードを有する半導体集積回路において、動作モードの切り替わり時に、内部回路が誤動作するを防止することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の半導体集積回路では、第1電圧生成回路は、第1内部電源線に供給する第1内部電源電圧を生成する。第2電圧生成回路は、第2内部電源線に供給する第2内部電源電圧を生成する。短絡回路は、第1および第2電圧生成回路がともに動作を停止しているときに、第1内部電源線と第2内部電源線とを短絡する。
例えば、第1および第2電圧生成回路は、外部電源電圧に基づいて第1および第2内部電源電圧をそれぞれ生成する。また、例えば、第1内部電源電圧は、外部電源電圧より高い昇圧電圧であり、第2内部電源電圧は、外部電源電圧より低い降圧電圧である。
【0010】
第1および第2電圧生成回路が動作を停止すると、第1および第2内部電源線は、フローティングになる。各内部電源線に蓄積された電荷は、リークパスを介して徐々に抜けていく。この際、電荷は、両内部電源線に再分配されるため、第1内部電源電圧と第2内部電源電圧は、同じ値になり、かつ降下していく。
このため、例えば、第1内部電源電圧が、第2内部電源電圧より高い場合、第1および第2電圧生成回路が動作を停止後、第1内部電源電圧が第2内部電源電圧より低くなることはない。したがって、第1および第2内部電源電圧が逆転することを防止でき、第1および第2内部電源線にそれぞれ接続された内部回路が誤動作することを防止できる。
【0011】
例えば、短絡回路は、ソース・ドレインの一方を第1内部電源線に接続し、ソース・ドレインの他方を第2内部電源線に接続したトランジスタを有している。このため、簡易な短絡回路で第1および第2内部電源線を互いに短絡できる。
例えば、第1内部回路は、第1および第2内部電源電圧を受けてそれぞれ動作する。半導体集積回路は、第1および第2電圧生成回路の動作を停止し、第1内部回路への第1および第2内部電源電圧の供給を停止するパワーダウンモードを有している。トランジスタは、パワーダウンモード中を示すパワーダウン制御信号の出力に応じてオンする。このため、パワーダウンモードへの移行に同期して、第1および第2内部電源線を迅速に短絡できる。また、短絡回路を簡易な論理回路で制御できる。
【0012】
上述したように、半導体集積回路は、第1および第2電圧生成回路の動作を停止し、第1内部回路への第1および第2内部電源電圧の供給を停止するパワーダウンモードを有している。第1内部回路には、第1および第2内部電源線がそれぞれ接続されている。第2内部回路には、外部電源線が接続されている。第2内部回路は、第1内部回路の出力を受けて動作する。すなわち、第2内部回路は、外部電源電圧を直接受けているため、パワーダウンモード中も動作する。短絡回路は、パワーダウンモード中に第1内部電源線と第2内部電源線とを短絡する。
【0013】
パワーダウンモードへの移行時に、第1および第2内部電源電圧は、徐々に降下する。このとき、短絡回路が第1および第2内部電源線を互いに短絡するため、第1および第2内部電源電圧が逆転することはない。このため、第1内部回路は、第1および第2内部電源電圧が所定の電圧(回路が動作可能な電圧)に低下するまでの期間、誤動作せず常に正しい論理の信号を出力する。
【0014】
したがって、パワーダウンモード中も動作する第2内部回路が、第1内部回路からの誤った出力を受けて誤動作することを防止できる。この結果、パワーダウンモードの解除後、半導体集積回路が誤動作することを防止できる。
また、例えば、半導体集積回路では、半導体集積回路は、パワーダウンモードの他に第1動作モードおよび第2動作モードを有している。例えば、第1動作モードは、内部回路が静的状態にあるスタンバイモードであり、第2動作モードは、内部回路が動作するアクティブモードである。第1電圧生成回路は、第1動作モード中に動作する第1電圧生成ユニットと、第2動作モード時に動作する第2電圧生成ユニットとを有している。第2電圧生成回路は、第1動作モード中に動作する第3電圧生成ユニットと、第2動作モード時に動作する第4電圧生成ユニットとを有している。
【0015】
半導体集積回路の状態が、第1動作モードまたは第2動作モードからパワーダウンモードに切り替わる際に、第1、第3電圧生成ユニットまたは第2、第4電圧生成ユニットが動作を停止する。そして、短絡回路は、第1および第2内部電源線を短絡する。このため、複数の動作モードを有する場合にも、パワーダウンモードへの移行時に、第1および第2内部電源線を短絡することで、内部回路の誤動作を防止できる。
【0016】
また、例えば、半導体集積回路では、第1電圧生成回路は、第1動作モード中に動作し、第1内部電源電圧に応じて第1電圧生成ユニットを帰還制御する第1検出回路を有している。また、第1電圧生成回路は、第2動作モード中に動作し、第1内部電源電圧に応じて第2電圧生成ユニットを帰還制御する第2検出回路を有している。第2電圧生成回路は、第1動作モード中に動作し、第2内部電源電圧に応じて第3電圧生成ユニットを帰還制御する第3検出回路を有している。また、第2電圧生成回路は、第2動作モード中に動作し、第2内部電源電圧に応じて第4電圧生成ユニットを帰還制御する第4検出回路を有している。各検出回路は、パワーダウンモード中に検出動作を停止する。このため、パワーダウンモード中に、第1および第2内部電源線が短絡され、第1および第2内部電源電圧が変化したときに、検出回路が誤った検出動作をすることを防止できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面を用いて説明する。
図1は、本発明の半導体集積回路の第1の実施形態を示している。この半導体集積回路は、シリコン基板上にCMOSプロセスを使用してDRAMとして形成されている。DRAMは、メモリセルのリフレッシュを外部に認識されることなく実行する機能を有している。また、DRAMの外部端子仕様および信号の入出力タイミング仕様は、SRAMに合わせられている。すなわち、このDRAMは、SRAMとして動作する擬似SRAMである。
【0018】
DRAMは、3つの動作モードを有しており、チップの外部から供給されるコマンドに応じて、スタンバイモード(第1動作モード)、アクティブモード(第2動作モード)、およびパワーダウンモードのいずれかの状態になる。スタンバイモードは、有効なコマンドが供給されず、ワード線(後述)が選択されない期間である。このとき、内部回路のうちメモリ動作を制御する内部回路(入力回路を除く論理回路)は、動作せず静的状態にある。アクティブモードは、内部回路が動作し、ワード線が選択され、読み出し動作および書き込み動作等が実行される期間である。パワーダウンモードは、内部電源電圧(後述するVPP、Vii)を生成する電圧生成回路が動作を停止し、内部電源電圧を受ける内部回路が動作を停止する期間である。
【0019】
DRAMは、コマンドバッファ/デコーダ10、アドレスバッファ/プリデコーダ12、VREF生成回路14、VPP生成回路16(第1電圧生成回路)、Vii生成回路18(第2電圧生成回路)、短絡回路20、メモリコア22、およびデータ入出力バッファ24を有している。図中、太線で示した信号線は、複数本で構成されている。信号線の先端の白丸は外部端子を示している。信号名の末尾の"Z"は、正論理を示している。
【0020】
コマンドバッファ/デコーダ10は、DRAMの外部から供給されるコマンド信号CMD(チップイネーブル信号、ライトイネーブル信号、アウトプットイネーブル信号等)をコマンド端子を介して受信する。コマンドバッファ/デコーダ10は、受けた信号をデコードし、読み出し制御信号RDZ、書き込み制御信号WRZ、アクティブ制御信号ACTZ、およびパワーダウン制御信号PDZとして出力する。
【0021】
アクティブ制御信号ACTZは、読み出し動作を実行する読み出しコマンドまたは書き込み動作を実行する書き込みコマンドが供給されたときに活性化される。読み出し制御信号RDZまたは書き込み制御信号WRZは、アクティブ制御信号ACTZの活性化に対応して活性化される。パワーダウン制御信号PDZは、DRAMをパワーダウンモードに移行するためのパワーダウンコマンドが供給されたときに活性化される。なお、パワーダウンモードへの移行は、パワーダウンコマンドの入力に限らない。専用の端子を使用してパワーダウン信号を外部から直接入力しても良い。
【0022】
アドレスバッファ/プリデコーダ12は、DRAMの外部から供給されるアドレス信号ADDをアドレス端子を介して受信する。アドレスバッファ/プリデコーダ12は、受けた信号をプリデコードし、内部アドレス信号IADDとして出力する。
VREF生成回路14は、電源端子を介して供給される外部電源電圧VDD(例えば2.5V)に基づいて、参照電圧VREF1、VREF2を生成する。VPP生成回路16は、アクティブ制御信号ACTZが活性化されたときまたはパワーダウン制御信号PDZが非活性化されたときに、参照電圧VREF1に基づいて外部電源電圧VDDより高い昇圧電圧VPP(第1内部電源電圧、例えば3.3V)を生成する。Vii生成回路18は、アクティブ制御信号ACTZが活性化されたときまたはパワーダウン制御信号PDZが非活性化されたときに、参照電圧VREF2に基づいて外部電源電圧VDDより低い降圧電圧Vii(第2内部電源電圧、例えば2V)を生成する。
【0023】
短絡回路20は、パワーダウン制御信号PDZが活性化されたとき、昇圧電圧VPPを内部回路(第1内部回路)に供給する昇圧電源線VPP(第1内部電源線)と降圧電圧Viiを内部回路(第1内部回路)に供給する降圧電源線Vii(第2内部電源線)とを短絡する。
メモリコア22は、メモリセルアレイ26、ワードデコーダ28、センスアンプ/スイッチ30、およびコラムデコーダ32を有している。
【0024】
メモリセルアレイ26は、転送トランジスタおよびキャパシタを含む複数のメモリセルMC、各メモリセルMCの転送トランジスタのゲートに接続されたワード線WL、および転送トランジスタのデータ入出力ノードに接続されたビット線BLを有している。
ワードデコーダ28は、内部アドレス信号IADDのうちロウアドレス信号に応じてワード線WLのいずれかを選択する。選択されたワード線WLには、昇圧電圧VPPが供給される。
【0025】
センスアンプ/スイッチ30は、図示しないセンスアンプおよびコラムスイッチを有している。センスアンプは、例えば読み出し動作時に、ビット線BLを介してメモリセルMCから読み出されるデータを増幅する。コラムスイッチは、ビット線BLに読み出された読み出しデータをデータバス線を介してデータ入出力バッファ24に伝達し、データバス線を介して供給される書き込みデータをビット線BLに伝達する。
【0026】
コラムデコーダ32は、内部アドレス信号IADDのうちコラムアドレス信号に応じてコラムスイッチを制御する制御信号を出力する。
データ入出力バッファ24は、読み出しデータをデータ端子DQを介して出力し、書き込みデータをデータ端子を介して入力する。
なお、昇圧電圧VPP、および降圧電圧Viiは、メモリコア22および所定の内部回路(第1内部回路)にそれぞれ供給される。外部電源電圧VDDは、パワーダウンモード時にデータを保持する必要のある内部回路(ラッチ回路、レジスタ等を含む第2内部回路)に供給される。
【0027】
図2は、VPP生成回路16およびVii生成回路18を示している。
VPP生成回路16は、スタンバイモード時に動作するVPP検出回路34(第1検出回路)、アクティブモード時に動作するVPP検出回路36(第2検出回路)、および昇圧回路38を有している。昇圧回路38は、スタンバイモード時に動作する昇圧ユニット38a(第1電圧生成ユニット)およびアクティブモード時に動作する昇圧ユニット38b(第2電圧生成ユニット)を有している。
【0028】
VPP検出回路34は、パワーダウン制御信号PDZの低レベル時に動作し、昇圧電圧VPPが参照電圧VREF1より低いときに動作信号OPT1Zを活性化する。すなわち、VPP検出回路34は、スタンバイモード時およびアクティブモード時に昇圧電圧VPPに応じて昇圧ユニット38aを帰還制御し、パワーダウンモード時に動作を停止する。
【0029】
VPP検出回路36は、アクティブ制御信号ACTZの高レベル時に動作し、昇圧電圧VPPが参照電圧VREF1より低いときに動作信号OPT2Zを活性化する。すなわち、VPP検出回路36は、アクティブモード時に昇圧電圧VPPに応じて昇圧ユニット38bを帰還制御し、スタンバイモードおよびパワーダウンモード時に動作を停止する。
【0030】
VPP検出回路34、36は、パワーダウンモード中に検出動作を停止する。このため、動作モードがパワーダウンモードに移行し、昇圧電圧VPPが変化したときに、VPP検出回路34、36が誤って検出動作することを防止できる。
昇圧ユニット38a、38bは、動作信号OPT1Z、OPT2Zをそれぞれ受けたときに動作し、外部電源電圧VDDをカップリング容量を利用したポンピング動作等により昇圧し、昇圧電圧VPPを生成する。
【0031】
Vii生成回路18は、スタンバイモード時に動作するVii検出回路40(第3検出回路)、アクティブモード時に動作するVii検出回路42(第4検出回路)、および降圧回路44を有している。降圧回路44は、スタンバイモード時に動作する降圧ユニット44a(第3電圧生成ユニット)およびアクティブモード時に動作する降圧ユニット44b(第4電圧生成ユニット)を有している。
【0032】
Vii検出回路40は、パワーダウン制御信号PDZの低レベル時に動作し、降圧電圧Viiが参照電圧VREF2より高いときに動作信号OPT3Zを活性化する。すなわち、Vii検出回路40は、スタンバイモードおよびアクティブモード時に降圧電圧Viiに応じて降圧ユニット44aを帰還制御し、パワーダウンモード時に動作を停止する。
【0033】
Vii検出回路42は、アクティブ制御信号ACTZの高レベル時に動作し、降圧電圧Viiが参照電圧VREF2より高いときに動作信号OPT4Zを活性化する。すなわち、Vii検出回路42は、アクティブモード時に降圧電圧Viiに応じて降圧ユニット44bを帰還制御し、スタンバイモード時およびパワーダウンモード時に動作を停止する。
【0034】
Vii検出回路40、42は、パワーダウンモード中に検出動作を停止する。このため、動作モードがパワーダウンモードに移行し、降圧電圧Viiが変化したときに、Vii検出回路40、42が誤って検出動作することを防止できる。
降圧ユニット44a、44bは、動作信号OPT3Z、OPT4Zを受けたときにそれぞれ動作し、外部電源電圧VDDを容量分割等により分圧することで降圧電圧Viiを生成する。
【0035】
図3は、短絡回路20の詳細を示している。短絡回路20は、縦続接続されたCMOSインバータ20a、20bと、一方の出力を他方の入力に帰還させたNORゲート20c、20dと、pMOSトランジスタ20eとを有している。
CMOSインバータ20a、20bのpMOSトランジスタのソースは、外部電源線VDDに接続されている。CMOSインバータ20aは、パワーダウン制御信号PDZを受けている。
【0036】
NORゲート20cは、CMOSインバータ20aの出力およびNORゲート20dの出力を受けている。NORゲート20dは、CMOSインバータ20bの出力およびNORゲート20cの出力を受けている。NORゲート20c、20dのpMOSトランジスタのソースは、昇圧電源線VPPに接続されている。
pMOSトランジスタ20eは、ソース・ドレインの一方を昇圧電源線VPPに接続し、ソース・ドレインの他方を降圧電源線Viiに接続し、ゲートでNORゲート20dの出力を受けている。NORゲート20dは、パワーダウン制御信号PDZが高レベルのとき常に低レベルを出力する。このため、パワーダウン制御信号PDZが高レベルのとき、pMOSトランジスタ20eは常にオンし、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiとを短絡する。すなわち、pMOSトランジスタ20eは、パワーダウン制御信号PDZの論理を直接受けて動作する。
【0037】
図4は、スタンバイモードからパワーダウンモードに移行する際の昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiの変化を示している。
この実施形態では、上述したように、スタンバイモード時にコマンド端子を介してパワーダウンコマンドが供給されることで、DRAMの状態はパワーダウンモードに移行する。この際、図1に示したコマンドバッファ/デコーダ10は、パワーダウン制御信号PDZを高レベルに変化させる(図4(a))。図2に示したVPP生成回路16のVPP検出回路34は、高レベルのパワーダウン制御信号PDZを受けて検出動作を停止し、動作信号OPT1Zを低レベルに変化させる(図4(b))。昇圧ユニット38aは、低レベルの動作信号OPT1Zを受けて動作を停止する。スタンバイモード時には、VPP検出回路36は、検出動作を停止し、低レベルの動作信号OPT2Zを出力している(図4(c))。このため、昇圧ユニット38bは、動作を停止している。
【0038】
同様に、Vii生成回路18のVii検出回路40は、高レベルのパワーダウン制御信号PDZを受けて検出動作を停止し、動作信号OPT3Zを低レベルに変化させる(図4(d))。降圧ユニット44aは、低レベルの動作信号OPT3Zを受けて動作を停止する。スタンバイモード時には、Vii検出回路42は、検出動作を停止し、低レベルの動作信号OPT4Zを出力している(図4(e))。このため、降圧ユニット44bは、動作を停止している。
【0039】
この結果、スタンバイモードからパワーダウンモードへの切り替わりにより、昇圧回路38および降圧回路44は、いずれも動作を停止する。
図3に示した短絡回路20のpMOSトランジスタ20eは、高レベルのパワーダウン制御信号PDZに応答してオンし、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiを短絡する。この結果、昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiは、所定の期間後に同じ電圧になり、その後徐々に降下する(図4(f))。スタンバイモード時に、昇圧電圧VPPは、降圧電圧Viiより高い。このため、昇圧回路38および降圧回路44が動作を停止した後に、昇圧電圧VPPが降圧電圧Viiより低くなることはない。
【0040】
図5は、第1内部回路および第2内部回路の例を示している。
第1内部回路は、縦続接続されたCMOSインバータ46、48として形成され、第2内部回路は、ラッチ回路50として形成されている CMOS インバータ46の pMOS トランジスタのソースには、昇圧電源線 VPP が接続されている。CMOSインバータ48のpMOSトランジスタのソースには、降圧電源線Viiが接続されている。ラッチ回路50は、入力と出力とが互いに接続された2つのCMOSインバータ52を有している。各CMOSインバータ52のpMOSトランジスタのソースには、外部電源線VDDが接続されている。
【0041】
スタンバイモード中、入力信号INは論理0に、CMOSインバータ46の出力は論理1(昇圧電圧VPP)に、CMOSインバータ48の出力は論理0に、ラッチ回路50の出力OUTは論理1になっている。
動作モードがスタンバイモードからパワーダウンモードに移行したとき、短絡回路20が昇圧電源線VPPおよび降圧電源線Viiを互いに短絡するため、昇圧電圧VPPは、降圧電圧Viiより低くなることなない。このため、CMOSインバータ46、48は、昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiが所定の電圧(回路が動作可能な電圧)に低下するまでの期間、誤動作せず常に正しい論理の信号を出力する。したがって、ラッチ回路50が、CMOSインバータ48からの誤った出力を受けて誤動作することはない。パワーダウンモード中に保持されるべきラッチ回路50のデータが、反転することが防止されるため、動作モードがパワーダウンモードからスタンバイモード、アクティブモードに移行したときに、DRAMは正常に動作する。
【0042】
以上、本実施形態では、パワーダウンモード中に、短絡回路20によって、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiを互いに短絡した。このため、昇圧電圧VPPが降圧電圧Viiより低くなることを防止できる。したがって、昇圧電源線VPPおよび降圧電源線Viiがそれぞれ接続される第1内部回路は、誤動作せず常に正しい論理の信号を出力する。この結果、パワーダウンモード中も動作する第2内部回路が、第1内部回路からの誤った出力を受けて誤動作することを防止できる。第2内部回路が誤動作しないため、パワーダウンモードの解除後、DRAMが誤動作することを防止できる。
【0043】
複数の動作モードを有する場合にも、パワーダウンモードへの移行時に、昇圧電源線VPPおよび降圧電源線Viiを短絡することで、内部回路の誤動作を防止できる。
pMOSトランジスタ20eのソース・ドレインの一方を昇圧電源線VPPに接続し、pMOSトランジスタ20eのソース・ドレインの他方を降圧電源線Viiに接続した。このため、簡易な短絡回路20で昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiとを短絡できる。
【0044】
pMOSトランジスタ20eのゲートをパワーダウン制御信号PDZの論理で直接制御したので、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiとを迅速に短絡できる。
図6は、本発明の半導体集積回路の第2の実施形態を示している。第1の実施形態で説明した回路・信号と同一の回路・信号については、同一の符号を付し、これ等については、詳細な説明を省略する。
【0045】
この実施形態は、第1の実施形態の短絡回路20にnMOSトランジスタ20fが追加されて構成されている。その他の構成は、第1の実施形態と同じである。すなわち、この半導体集積回路は、シリコン基板上にCMOSプロセスを使用してDRAMとして形成されている。DRAMは、SRAMとして動作する擬似SRAMである。
nMOSトランジスタ20fは、ソース・ドレインの一方を昇圧電源線VPPに接続し、ソース・ドレインの他方を降圧電源線Viiに接続し、ゲートでNORゲート20cの出力を受けている。
【0046】
NORゲート20cは、パワーダウン制御信号PDZが高レベルのとき常に高レベルを出力する。このため、パワーダウン制御信号PDZが高レベルのとき、 MOSトランジスタ20fは常にオンし、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiとを短絡する。すなわち、 MOSトランジスタ20fは、パワーダウン制御信号PDZの論理を直接受けて動作する。
【0047】
この実施形態においても、上述した第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、この実施形態では、pMOSトランジスタ20eおよびnMOSトランジスタ20fを用いて、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiとを短絡したので、パワーダウンモードへの移行時に、昇圧電源線VPPと降圧電源線Viiとを、迅速に同じ電圧にできる。
【0048】
なお、上述した実施形態では、本発明を擬似SRAMとして動作するDRAMに適用した例について述べた。本発明はかかる実施形態に限定されるものではない。例えば、本発明をクロック同期式のSDRAMに適用してもよい。あるいは、本発明をマイクロコンピュータ、ロジックLSI、システムLSI等の半導体集積回路に適用しても良い。
【0049】
以上、本発明について詳細に説明してきたが、上記の実施形態およびその変形例は発明の一例に過ぎず、本発明はこれに限定されるものではない。本発明を逸脱しない範囲で変形可能であることは明らかである。
【0050】
【発明の効果】
本発明の半導体集積回路では、第1および第2電圧生成回路が動作を停止後、第1内部電源電圧が第2内部電源電圧より低くなることはない。したがって、第1および第2内部電源電圧が逆転することを防止でき、第1および第2内部電源線にそれぞれ接続された内部回路が誤動作することを防止できる。
また、本発明の半導体集積回路では、簡易な短絡回路で第1および第2内部電源線を互いに短絡できる。
【0051】
また、本発明の半導体集積回路では、このため、パワーダウンモードへの移行に同期して、第1および第2内部電源線を迅速に短絡できる。また、短絡回路を簡易な論理回路で制御できる。
また、本発明の半導体集積回路では、パワーダウンモード中も動作する第2内部回路が、第1内部回路からの誤った出力を受けて誤動作することを防止できる。この結果、パワーダウンモードの解除後、半導体集積回路が誤動作することを防止できる。
【0052】
また、本発明の半導体集積回路では、複数の動作モードを有する場合にも、パワーダウンモードへの移行時に、第1および第2内部電源線を短絡することで、内部回路の誤動作を防止できる。
また、本発明の半導体集積回路では、パワーダウンモード中に、第1および第2内部電源線が短絡され、第1および第2内部電源電圧が変化したときに、検出回路が誤った検出動作をすることを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体集積回路の第1の実施形態を示すブロック図である。
【図2】図1のVPP生成回路およびVii生成回路を示すブロック図である。
【図3】図1の短絡回路の詳細を示す回路図である。
【図4】第1の実施形態のおけるスタンバイモードからパワーダウンモードに移行する際の昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiの変化を示す説明図である。
【図5】第1内部回路および第2内部回路の例を示す回路図である。
【図6】第2の実施形態におけるの短絡回路の詳細を示す回路図である。
【図7】従来のスタンバイモードからパワーダウンモードに移行する際の昇圧電圧VPPおよび降圧電圧Viiの変化を示す説明図である。
【図8】従来の半導体集積回路の誤動作の例を示す説明図である。
【符号の説明】
10 コマンドバッファ/デコーダ
12 アドレスバッファ/プリデコーダ
14 VREF生成回路
16 VPP生成回路
18 Vii生成回路
20 短絡回路
20a、20b CMOSインバータ
20c、20d NORゲート
20e pMOSトランジスタ
20f nMOSトランジスタ
22 メモリコア
24 データ入出力バッファ
26 メモリセルアレイ
28 ワードデコーダ
30 センスアンプ/スイッチ
32 コラムデコーダ
34 VPP検出回路
36 VPP検出回路
38 昇圧回路
38a、38b 昇圧ユニット
40 Vii検出回路
42 Vii検出回路
44 降圧回路
44a、44b 降圧ユニット
46、48 CMOSインバータ
50 ラッチ回路
52 CMOSインバータ
CMD コマンド信号
RDZ 読み出し制御信号
WRZ 書き込み制御信号
ACTZ アクティブ制御信号
PDZ パワーダウン制御信号
IADD 内部アドレス信号
VDD 外部電源電圧
VREF 参照電圧
VPP 昇圧電圧、昇圧電源線
Vii 降圧電圧、降圧電源線
MC メモリセル
WL ワード線
BL ビット線
DQ データ端子
OPT1Z、OPT2Z、OPT3Z、OPT4Z 動作信号

Claims (6)

  1. 第1内部電源線に供給する第1内部電源電圧を、外部電源電圧より高い昇圧電圧として生成する第1電圧生成回路と、
    第2内部電源線に供給する第2内部電源電圧を、前記外部電源電圧より低い降圧電圧として生成する第2電圧生成回路と、
    前記第1および第2電圧生成回路がともに動作を停止しているときに、前記第1内部電源線と前記第2内部電源線とを短絡する短絡回路と、
    前記第1および第2内部電源線が接続されている第1内部回路と、
    外部電源線が接続され、前記第1内部回路の出力を受けて動作する第2内部回路とを備え、
    前記第1および第2電圧生成回路の動作を停止し、前記第1内部回路への前記第1および第2内部電源電圧の供給を停止するパワーダウンモードを有し、
    前記短絡回路は、前記パワーダウンモード中に、ともにフローティング状態である第1内部電源線と第2内部電源線とを短絡することを特徴とする半導体集積回路。
  2. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記短絡回路は、ソース・ドレインの一方を前記第1内部電源線に接続し、ソース・ドレインの他方を前記第2内部電源線に接続したトランジスタを有することを特徴とする半導体集積回路。
  3. 請求項2記載の半導体集積回路において、
    前記トランジスタは、前記パワーダウンモードを示すパワーダウン制御信号の出力に応じてオンすることを特徴とする半導体集積回路。
  4. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    第1動作モードおよび第2動作モードを有し、
    前記第1電圧生成回路は、第1動作モード中に動作する第1電圧生成ユニットと、第2動作モード時に動作する第2電圧生成ユニットとを有し、
    前記第2電圧生成回路は、前記第1動作モード中に動作する第3電圧生成ユニットと、前記第2動作モード時に動作する第4電圧生成ユニットとを有することを特徴とする半導体集積回路。
  5. 請求項4記載の半導体集積回路において、
    前記第1電圧生成回路は、第1動作モード中に動作し、前記第1内部電源電圧に応じて前記第1電圧生成ユニットを帰還制御する第1検出回路と、第2動作モード中に動作し、前記第1内部電源電圧に応じて前記第2電圧生成ユニットを帰還制御する第2検出回路とを有し、
    前記第2電圧生成回路は、第1動作モード中に動作し、前記第2内部電源電圧に応じて前記第3電圧生成ユニットを帰還制御する第3検出回路と、第2動作モード中に動作し、前記第2内部電源電圧に応じて前記第4電圧生成ユニットを帰還制御する第4検出回路とを有することを特徴とする半導体集積回路。
  6. 請求項4記載の半導体集積回路において、
    前記第1動作モードは、前記第1および第2内部回路が静的状態にあるスタンバイモードであり、
    前記第2動作モードは、前記第1および第2内部回路が動作するアクティブモードであることを特徴とする半導体集積回路。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100426443B1 (ko) * 2002-06-29 2004-04-13 주식회사 하이닉스반도체 딥 파워다운 제어 회로
KR100452327B1 (ko) * 2002-07-08 2004-10-12 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 내부 전원 전압 발생회로
JP2004178782A (ja) * 2002-10-04 2004-06-24 Sharp Corp 半導体記憶装置およびその制御方法および携帯電子機器
JP4386706B2 (ja) 2003-11-06 2009-12-16 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
KR100562646B1 (ko) * 2004-12-22 2006-03-20 주식회사 하이닉스반도체 저전압용 반도체 메모리 장치
KR100715147B1 (ko) * 2005-10-06 2007-05-10 삼성전자주식회사 전류소모를 감소시키는 내부전원전압 발생회로를 가지는멀티칩 반도체 메모리 장치
KR20100035428A (ko) * 2008-09-26 2010-04-05 삼성전자주식회사 디스플레이 장치 및 방법
JP5742508B2 (ja) * 2011-06-27 2015-07-01 富士通セミコンダクター株式会社 半導体メモリ、システムおよび半導体メモリの動作方法
US9417675B2 (en) 2014-05-29 2016-08-16 Silicon Storage Technology, Inc. Power sequencing for embedded flash memory devices
US9997230B1 (en) * 2017-06-20 2018-06-12 Elite Semiconductor Memory Technology Inc. Reference voltage pre-processing circuit and reference voltage pre-processing method for a reference voltage buffer
GB201718054D0 (en) * 2017-11-01 2017-12-13 Smith & Nephew Sterilization of integrated negative pressure wound treatment apparatuses and sterilization methods
US11257549B2 (en) 2020-05-08 2022-02-22 Micron Technology, Inc. Sequential voltage control for a memory device

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07220472A (ja) * 1994-01-31 1995-08-18 Mitsubishi Electric Corp 内部電源回路
FR2724025B1 (fr) * 1994-08-31 1997-01-03 Sgs Thomson Microelectronics Circuit integre avec fonction de demarrage rapide de sources de tension ou courant de reference
JP3645593B2 (ja) * 1994-09-09 2005-05-11 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
JP3641511B2 (ja) * 1995-06-16 2005-04-20 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
TW324101B (en) * 1995-12-21 1998-01-01 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit and its working method
JP3319960B2 (ja) * 1996-10-17 2002-09-03 富士通株式会社 半導体装置
TW404063B (en) * 1997-02-27 2000-09-01 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit apparatus and semiconductor memory apparatus
JP4094104B2 (ja) * 1997-02-27 2008-06-04 株式会社東芝 半導体集積回路装置および記憶装置
JPH10283776A (ja) * 1997-04-04 1998-10-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JP3235516B2 (ja) * 1997-06-12 2001-12-04 日本電気株式会社 半導体集積回路
JPH11186527A (ja) * 1997-12-24 1999-07-09 Hitachi Ltd ラッチ制御回路、半導体記憶装置、及びデータ処理装置
JP3480309B2 (ja) * 1998-05-21 2003-12-15 松下電器産業株式会社 半導体記憶装置
JP4390304B2 (ja) * 1998-05-26 2009-12-24 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
JP2000075944A (ja) * 1998-08-31 2000-03-14 Hitachi Ltd 半導体装置
JP2000113693A (ja) * 1998-10-08 2000-04-21 Hitachi Ltd 不揮発性メモリおよび半導体集積回路
JP3233911B2 (ja) * 1999-03-17 2001-12-04 株式会社 沖マイクロデザイン 半導体集積回路装置
JP4043142B2 (ja) * 1999-05-18 2008-02-06 富士通株式会社 メモリデバイス
US6563746B2 (en) 1999-11-09 2003-05-13 Fujitsu Limited Circuit for entering/exiting semiconductor memory device into/from low power consumption mode and method of controlling internal circuit at low power consumption mode

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