TW522074B - Base cloth for polishing and polishing method - Google Patents

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TW522074B
TW522074B TW090130019A TW90130019A TW522074B TW 522074 B TW522074 B TW 522074B TW 090130019 A TW090130019 A TW 090130019A TW 90130019 A TW90130019 A TW 90130019A TW 522074 B TW522074 B TW 522074B
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Manabu Tanaka
Yoshiyuki Suzuki
Shusuke Kitawaki
Masahisa Mimura
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Teijin Ltd
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Description

522074 A7 _ _—_ _ B7 _ 五、發明説明（1 ) 技術領域 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關用於要求高精度表面加工之磁記錄媒體 及類似媒體的製造之硏磨基布。尤其是有關硬碟等磁記錄 基板之製造中，適用於紋理加工之硏磨基布，及使用該硏 磨基布之硏磨方法。 先ί了技術 近年來隨電腦等資訊處理技術之發達，對磁記錄媒體 、石夕晶圓有筒精度表面加工之要求。例如製造硬碟等之磁 記錄基板時，係於鋁、玻璃等表面作平滑化加工，再施以 鍍鎳- Ρ等非磁性鍍層處理後，以鈷系合金等形成磁性薄 膜，再被覆以碳質等之表面保護層。上述平滑化加工所用 硏磨基布之要求日益提升。尤以磁記錄基板平滑化加工之 最後階段，爲於碟片表面形成細溝，係用分散有磨粒之漿 料及硏磨基布作所謂紋理加工之表面加工處理，而最適於 高容量化、高密度化之硏磨基布，其開發備受市場期待。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 用於紋理加工之硏磨基布，向來係纖維徑5微米左右 的極細纖維之織物，或植以纖維徑約1 4微米之纖維的植 毛片等。然而5微米左右之極細纖維於硏磨上不充分，且 因織物內纖維自由度低，另一方面，植毛片表面因有粗纖 維垂直排列，易造成基材表面之深度刮傷，只能製得可靠 性差之磁記錄媒體。 爲解決該問題，日本專利特開平9 一 2 7 7 1 7 5號 公報提議，絡合纖維徑1 0微米以下之極細纖維，於表面 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -4- 522074 A7 _B7 _ 五、發明説明（2 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 有立毛之不織布硏磨片。但，用熔體吹塑法之不織布時， 纖維強度低，而由於使用通常之分割纖維之不織布時亦僅 物理絡合，有極細纖維易於脫落之問題。又通常紋理加工 係於帶狀使用，於該方法強度不足，須以增強層層合。又 ，特開平1 1 一 1 3 8 4 0 7號公報提議，將織布之織束 部份切斷起毛成爲硏磨布。但所得織布之織束一且部份切 斷，須使直徑不及2微米之極細纖維立毛，工業製造困難 〇 再者，特開2000 — 23795 1號公報提議，由 含0 · 3分特以下之極細纖維的不織布構成，表面具親水 性之硏磨布。具體而言，該硏磨布係用3 0根或以下極細 纖維之纖維束構成的不織布，該極細纖維係對酞酸乙二醇 酯纖維，其纖維徑由其製法看來較爲均勻。該不織布因構 成纖維束之極細纖維根數較少且纖維徑均勻，難以同保硏 磨布之強度及硏磨精度。 發明所欲解決之問題 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明係爲解決上述問題，其目的在提供，進行磁記 錄媒體等之表面紋理加工等精密硏磨之際，可變動硏磨條 件不於基板表面造成深溝（刮傷）均勻硏磨並具充分強度 之硏磨基布，及使用其之磁記錄基板的硏磨方法。 用以解決課題之手段 根據本發明人等之硏究發現，本發明之目的可藉纖維 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -5- 522074 A7 B7 五、發明説明（3 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 基材及充塡於其中之高分子彈性體所成之複合基布所成之 硏磨基布達成，該硏磨基布之特徵爲：該纖維基材係（1 )由2 0至3，0 0 0根極細纖維集束成纖維束所構成， (2 )該纖維束其長方向之垂直剖面自中心至半徑1 / 2 範圍之中心部其極細纖維平均直徑（D 1 )在0 · 3至 1 0微米，自半徑1 / 2至外周之外周部其極細纖維平均 直徑（D2)在0.05至1微米，且D1/D2之比在 1 . 5以上。更發現本發明之目的可藉上述硏磨基布，其 中（a )其一表面側之吸水高度達2 0毫米/小時以上， 反面之吸水高度在5毫米/小時以下，且（b ) —表面側 經立毛處理之硏磨基布達成。 以下更詳細說明本發明之硏磨基布。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之硏磨基布係由纖維基材及於其中充塡以高分 子而成之複合體基布所成。該纖維基材係以極細纖維集束 成之纖維束所構成，纖維基材表層部以外之基材內部，除 纖維束外主要有高分子彈性體存在。亦即高分子彈性體係 實質上存在於纖維束間之空隙。纖維束係由2 0至 3，000根，50至2，000爲較佳’ 1〇〇至 1，6 0 0爲更佳，極細纖維所成。極細纖維不足2 0根 時外周部纖維根數少，以下說明之中心部及外周部平均直 徑之差異效果不易發揮。而從生產生等方面’構成1纖維 束之極細纖維纖度合計以1至1 0分特’尤以2至5分特 爲合適。 構成纖維束之極細纖維，長纖維束長方向之垂直剖面 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） —R — 522074 A7 B7 五、發明説明（4 ) 中心起至半徑1 / 2範圍之中心部，其極細纖維之平均直 徑（d 1 )須在0 . 3至1 0微米（約0 _ 0〇0 8至約 〇.94分特）’ 〇 _ 5至2微米（約0 . 0024至約 〇 . 0 3 8分特）爲較佳。該中心部極細纖維之平均直徑 (d 1 )不及〇 · 3微米時極細纖維強度低，複合體基布 強度亦低。又該平均直徑（d 1 )超過1 〇微米時’硏磨 中易傷及被硏磨基材。 外周部極細纖維之平均直徑（d 2 )須在0 · 0 5至 1微米（約0.00002至約0.0094分特）’ 0·1至0·7微米（約〇.〇〇〇1至約〇·0046 分特（爲較佳，〇 . 2至0 . 5微米（約0 _ 00038 至約0 · 0024分特）爲最佳。平均直徑（d2)不及 0 . 0 5微米時，極細纖維強度低’硏磨時極細纖維容易 脫落。且平均直徑（d 2 )超過1微米時’與習知技術中 者無差。 構成纖維束之極細纖維的最大直徑以在1 〇微米（約 0 · 9 4分特）以下爲佳，3微米（約0 · 1分特）以下 爲更佳。極細纖維最細者直徑以在〇 · 〇 1微米（約 0 _ 0 0 0 0 0 1分特）以上爲佳。極細纖維直徑超過 1 0微米時，硏磨中有傷及被硏磨基材之傾向。 而（）內之數値（單位分特）隨密度而異’係以尼龍 6極細纖維之換算値爲例供參考。 並且，纖維束中心部之平均直徑（d 1 )對外周部之 平均直徑（d2)須在1 . 5倍以上。（dl)對（d2 I---^---\-I•衣-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2!〇X 297公釐） 522074 A7 B7 五、發明説明（5 ) )以2 · 0倍至6倍爲佳，3 . 0倍至5倍爲最佳。本發 明因具該關係，兼具硏磨基布之強度及精密硏磨性。 在此，極細纖維之纖維徑，係作基布剖面之電子顯微 照相，以該相片量測極細纖維剖面之直徑。亦即，以剖面 內1纖維束之最長徑的中點爲中心，從該中心至最外周距 離1 / 2範圍內（中心部）存在之極細纖維定義爲中心部 之纖維’由該1 / 2之側面可觀察到之最外層止之極細纖 維定義爲外周部纖維。 構成纖維基材之極細纖維，其製造方法無特殊限制， 具體而言有，使用溶劑溶解性不同之2種以上纖維形成性 高分子，以已知紡紗法製成纖維後將其一分成萃取去除之 方法。必要時紡紗後之延伸可賦予纖維所需之強度。爲製 得最適於本發明目的之纖維束，以例如特開平6 -2 5 7 0 1 6號公報所例示之混合紡紗法爲佳。構成極細 纖維成分之纖維成形性高分子（島成分），可用尼龍6、 尼龍6 ，6、尼龍1 2等聚醯胺或聚對酞酸乙二醇酯、聚 對酞酸丁二醇酯等聚酯等，與此等溶解性不同之高分子（ 海成分）可用低密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等。其中 以尼龍6 /聚乙烯之組合因工業生產容易而較佳。尤以用 尼龍等聚醯胺纖維時，模數低於聚醒纖維，硏磨時不易達 成刮傷係爲最適。 又，海成分之高分子於紡紗溫度的熔體流動指數降低 ，島成分與海成分熔體流動指數之差異加大，均係放大纖 維束之D 1 / D 2比之較佳手段。混合紡紗之際，添加 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I---^---：-I•衣-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -8 _ 522074 A7 B7 五、發明説明（6 ) 〇 · 2至3重量％之聚乙二醇，0 · 5至2重量％爲較佳 ’係有利手段。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之纖維基材可係上述極細纖維之纖維束構成之 不織布、織物、針織布等，但從本發明之目的係以不織布 爲最佳。不織布可用已知方法製成，無特殊限制，但以藉 梳棉機、交錯淸棉機、針紡機等之針刺不織布，使用流體 之絡合不織布等爲佳。 纖質基材爲增強，於其纖維束間充塡以高分子彈性體 。所用高分子彈性體以1 0 0 %伸長模數在9至4 0百分 帕者爲佳。高分子彈性體可用聚氨酯樹脂、聚氨酯•聚脲 樹脂、聚丙烯酸樹脂、聚苯乙烯•丁二烯樹脂、聚丙烯腈 •丁二烯樹脂等，但從加工性、耐磨耗性、耐水解性等係 以聚氨酯樹脂爲佳。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 聚氨酯樹脂可用分子量5 0 0至4，0 0 0之聚醚二 醇、聚酯二醇、聚碳酸酯二醇等多元醇單獨或混合物與有 機異氰酸酯，分子量5 0 0以下之低分子鏈延長劑之反應 產物。磨粒之漿料在鹼性或酸性下會有聚氨酯樹脂之水解 劣化時可用醚系或碳酸酯系聚氨酯。 高分子彈性體·纖維基材之重量比，以1 0 / 9 0至6〇 /4 0爲佳2 5/7 5至5 0/5 0爲更佳。高分子彈性 體之比率不及1 0 %時無增強效果，加工時尺寸安定性不 足。另一方面，高分子彈性體超過6 0 %時磨粒之附著狀 態不良，硏磨屑亦有不易去除之傾向。充塡高分子彈性體 之方法，可於纖維基材浸滲高分子彈性體之有機溶劑溶液 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -9- 522074 A7 B7 五、發明説明（7 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 或水性分散液，及/或塗布後以濕式凝固，或乾式凝固法 附著，必須使高分子彈性體將纖維基材中之纖維束間空隙 實質充塡均勻附著，並使高分子彈性體凝固成多孔質狀抓 牢磨粒以免造成刮傷等缺陷，在硏磨上較佳，因此係以濕 式凝固法爲最適。高分子彈性體之有機溶劑可用二甲基甲 醯胺、二甲基乙醯胺、二甲亞硕等極性溶劑，甲苯、丙酮 、丁酮等。 高分子彈性體不僅充塡於纖維束間之空隙，表面之極 細纖維所成之纖維束中亦有少量充塡，此可抑制極細纖維 之脫落，減少硏磨屑之發生而較佳。因此，高分子彈性體 充塡後可將上述溶劑或高分子彈性體之溶液，以凹版等手 段少量塗布於表面。又，以本身爲已知之方法硏磨表面成 爲立毛品使用時因被硏磨品損傷較少故爲較佳。 硏磨基布以長方向、寬方向厚度均勻爲佳。硏磨用基 布厚度以0.3至1·2毫米爲佳，不足0.3毫米則有 強度不足之傾向，厚1 . 2毫米以上則有工作性差之傾向 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 。厚度之精度係於長方向量測之厚度標準偏差（C V値） 在3以下者爲佳，2以下時被硏磨體碟片等表面平滑度有 提升之傾向。爲作厚度之最適化，並提升生產力，將所得 基布分條係良好方法。硏磨基布以寬5至3 0 0毫米，較 佳者爲7至2 0 0毫米之帶狀爲有利。 本發明硏磨基布之較佳拉伸強度在1 0牛頓/公分以 上，25至200牛頓/公分爲更佳，50至180牛頓 /公分爲最佳。拉伸強度高時加工中無寬度減少，表面不 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X297公釐） 522074 A7 B7 五、發明説明（8 ) 破壞，可均勻加工。 又，以帶狀作紋理加工時，以尺寸變化小者爲佳。依 後敍方法量測之帶寬減少比率宜在2 0 %以下，1 5 %以 下爲較佳，6 %以下爲最佳。在此，寬度減少比率指對無 荷重之帶寬，於5牛頓/公分荷重下寬度減少之百分率値 〇 於硬碟等被硏磨材與硏磨基布間供給磨粒漿料時，硏 磨基布表面以具親水性而能適當快速吸入硏磨基布者爲佳 。亦即，硏磨基布硏磨面之親水性，以後敍條件量測之吸 水速度宜在8 0秒以下，1至6 0秒爲較佳，2 0至 5 0秒爲更佳。爲使硏磨基布具吸水速度如上之親水性， 可用陰離子性或非離子性浸透劑處理硏磨基布。具體而言 ，陰離子性浸透劑有二辛基磺基琥珀酸鈉鹽、十二基二苯 醚二磺酸鈉鹽、十二基苯磺酸鈉鹽、萘磺酸鈉鹽等，非離 子性浸透劑有月桂醇•乙醇酯、十二烷醇之氧化乙烯加成 物，乙烯氧化物加成烷基苯醚等。浸透劑之處理量隨所用 藥劑而異，爲基布之0 · 〇 1至3重量％左右。 賦予硏磨基布親水性，有將硏磨基布浸泡於浸透劑水 溶液中之方法，於硏磨基布表面以浸透劑水溶液用噴霧法 或凹版輥法等手段塗布之方法。 將硏磨基布浸泡於浸透劑之水溶液，可賦予硏磨基布 全體親水性。但此等磨粒獎料浸滲至硏磨基布內部’有硏 磨用以外的漿料之無謂浪費。昂貴的硏磨漿料之耗用減省 ，於降低硏磨成本有其必要。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210x297公釐^ I----:---："10^-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522074 A7 B7 五、發明説明（9 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 因此本發明硏磨基布係硏磨表面有親水層，內側（含 背面）具疏水性之複合構造。若使用如此複合構造之硏磨 基布，可減少磨粒漿料之使用，並可均勻地高效硏磨被硏 磨材。 有親水性層及疏水性層二者之複合構造的硏磨基布， 可由種種方法製得。例如，可將硏磨基布浸泡於含拒水劑 之液體中，或散布含拒水劑之液體於硏磨基布製得拒水性 硏磨基布，再於其表面以噴霧法或凹版輥法等塗布具親水 性之浸透劑液，得表面具親水性，內部（表面）具疏水性 之硏磨基布。 用以賦予親水性之浸透劑可用上述陰離子性或非離子 性物之任一。另一方面用以賦予拒水性之拒水劑，可用例 如氟系拒水劑、臘系拒水劑。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 上述由親水性面及疏水性面形成之硏磨基布，可藉該 二表面之吸水高度表示親水性及疏水性之程度。亦即，用 後敍方法及條件，保持硏磨基布垂直，一端浸在水中時，親 水性面之吸水高度宜在2 0毫米/小時以上，4 0至 9 0毫米/小時爲佳，另一方面疏水性面之吸水高度宜在 5毫米/小時以下，〇至2毫米/小時爲佳。親水性面於 1 0分鐘後之吸水高度以1 0至6 0毫米爲佳，2 0至 5 0毫米爲更隹。硏磨中硏磨漿料之投入時，因漿料並不 一次大量被硏磨基布吸數，可高效率有效利用硏磨漿料。 本發明硏磨布之硏磨面以具親水性層爲佳，其親水性 層厚宜在5 0 0微米以下，較佳者在4 0 0微米以下，最 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -12- 522074 A7 B7 五、發明説明（10) 佳者在3 5 0微米以下。實用下限爲1 0 0微米。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之硏磨基布其硏磨面之表面係以經立毛處理者 爲佳。用經立毛處理之表面硏磨更易於發揮在被硏磨基材 形成均勻同心圓溝之效果，異常損傷之發生減少。硏磨面 表面之立毛可藉其本身爲已知之方法施行。 爲製得表面經立毛之硏磨基布，可例如對纖維基材以 高分子彈性體充塡所得之複合體基布作起毛處理。此際複 合基布以有機砂氧化合物處理，可望提高纖維之起毛效果 。該有機矽氧化合物可係通常纖維基材之立毛處理當中， 一般用以提升纖維之滑性者。 根據本發明人等之硏究，使用有機矽氧化合物作纖維 基布之起毛處理時，於該基布殘留有機矽氧化合物，該殘 留有機矽氧化合物於硏磨之際脫落，附著於硏磨後之磁記 錄媒體表面，該附著之有機矽氧化合物於媒體表面形成磁 性層時在該附著部份會引起磁性層之剝離。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 爲防有機矽氧化合物自硏磨基布脫落之異常，須將硏 磨基布中之有機矽氧化合物充分淸洗去除，其含量宜係矽 原子在硏磨基布之3 0 0 p p m以下，較佳者在2 0 0 p p m以下。 爲使有機矽氧化合物含量減少至上述範圍，起毛處理 後宜對硏磨基布用含聚氧化乙烯脂烯醚〇 . 5至1 0克/ 升，1至7克/升之濃度爲較佳之水溶液淸洗。在此聚氧 化乙烯脂烯醚可用有氧化乙烯鏈2至2 5重複單位而烷基 碳原子數4至25者。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -13- 522074 A7 B7 五、發明説明（11 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次說明使用本發明硏磨基布硏磨磁記錄基板之方法 ，及硬碟製造中之紋理加工。該方法使用本發明硏磨用基 布及分散有磨粒之漿料。可採用通常之紋理加工條件，例 如，硏磨漿料之供給量在4至1 5毫升/分鐘，碟片轉數 1 0 0至5 0 0 r pm，硏磨基布供給量1至1 〇毫米/ 秒，唧筒按押壓力4 9至2 9 4千帕，硏磨時間5至3 0 秒。 分散磨粒之漿料及硏磨用基布之離子性宜係同離子性 ，或均係非離子性。例如，任一爲陰離子性另一係陽離子 性時，硏磨基布表面有漿料分離，紋理加工安定性有受損 之傾向。 與硏磨基布倂用之磨粒可用氧化鋁、二氧化矽、氧化 鈽、氧化銷、氮化矽、單或多晶鑽石等，粒徑各在 〇.05至〇.5微米左右。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 尤以使用硏磨表面有親水性層，其內側係疏水性之複 合構造之硏磨基布作紋理加工而得之硬碟，其表面粗度平 均値至山頂部之距離（R p )小於自平均値至谷底部之距離 (Rv)，記錄資料可進一步高密度化。更具體言之，自最 大山頂部至平均値之距離爲R P，自最大谷底部至平均値之 距離爲R V時，所得硬碟之R u / R p > 1 . 5爲較佳， Rv/RP>3·0爲更佳。 發明之作用 本發明之硏磨基布係由纖維基材及高分子彈性體所成 本紙張尺度適用巾國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) -14- 522074 A7 ___B7_ 五、發明説明（12 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ，以高分子聚合物增強而抑制纖維之脫落。又，構成纖維 質基材之纖維係極細纖維集束而成之纖維束所形成，纖維 束中心部極細纖維之平均直徑（d 1 )在外周部極細纖維 之平均直徑（d 2 )的1 · 5倍以上。本發明因具此一關 係，硏磨基布兼具強度及精密之硏磨性。若中心部之極細 纖維與外周部粗細相同，則硏磨基布之強度不保。尤以如 硬碟之紋理加工時以帶狀使用時，加工中因張力硏磨基布 之寬度若降低則表面破壞無法均勻加工。構成本發明硏磨 基布之纖維基材的纖維束，由於中心部極細纖維之直徑大 ，纖維束之強度不下降，且外周部極細纖維直徑小，微細 磨粒於硏磨基布之附著性提升，並加大硏磨屑等造成雜訊 之微細塵粒之去除效果。 實施例 以下藉實施例進一步說明本發明，惟本發明不限於此 。實施例中除非特加聲明，百分率（％ )、比率係重量％ ，或重量比。實施例中之量測値各係用以下方法測得。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (1 )極細纖維之平均直徑 依下述方法求出極細纖維剖面之直徑。 首先以製成之硏磨基布爲試片，以水充分脫氣含水後 用曰本MICROTOME硏究所（股）製附E F — 1 0型電子 式試樣冷卻裝置之R Μ - S型切薄片機，於- 2 0 °C之凍 結狀態用銳利刀片切片。接著於室溫將試樣解凍，保持剖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 522074 A7 B7 五、發明説明（13 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 面不動於1 2 0 °C乾燥3 0分鐘。接著用日本電子DATUM( 股）製JFC— 1 5 0 0型離子濺鍍裝置以金蒸鍍，用J S Μ - 6 1 0 0型掃瞄式電子顯微鏡，選取硏磨基布表面之垂 直切斷的圓形或近似圓形之纖維束剖面5處，以4 0 0 0 倍放大作剖面之照相。用該照片量測纖維束內極細纖維斷 面之直徑。 剖面之纖維束最長徑中點爲中心，至纖維束最外周之 距離的1 / 2範圍內存在之極細纖維定義爲中心部極細纖 維，由側面可觀察之最外層極細纖維定義爲外周部極細纖 維，對象極細纖維少時以全數，多時隨機選取中心部之極 細纖維2 0根，外周部之極細纖維5 0根，量測直徑求出 1纖維束之平均値。再由5纖維束計算最終平均値，求出 用於硏磨基布纖維束之中心部之極細纖維平均直徑d 1， 及外周部極細纖維之平均直徑d 2。 (2 ) 1 0〇％伸長模數 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 高分子彈性體之1 0 0 %伸長模數係依；ί I S - K 6 5 5 0之方法，至拉斷試片用島津製作所（股）製島津 AUTOGRAPH AGS — 5 0 0 G以拉伸速度5 0毫米/分鐘 量測，以1 0 0 %伸長時之應力爲1 0 0 %伸長模數。 (3 )厚度及厚度之偏差度（CV値） 硏磨基布長方向無負荷下於5 0 0處量測厚度，由該 資料求出厚度之平均値及標準偏差，依下式求出標準偏差 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16- 522074 A7 B7 五、發明説明（14 ) 値（C V値）。 C V値（％ )=(標準偏差/平均値）x 1 〇 〇 厚度係用讀取至百分之1 ，厚度計加重1 i . 8千帕 之條件下測定之値。 (4 )拉伸強度 依JIS-K6550之方法，至拉斷試片用島津製 作所（股）製島津AUTOGRAPH AGS — 5 0 0 G以拉伸速 度5 0毫米/分鐘求出拉伸強度。 (5 )寬度減少率 40毫米（寬）X 1 5 0毫米（長）之試片至拉斷用 島津製作所（股）製之島津AUTOGRAPH AGS- 5 0 0 G 以拉伸速度5 0毫米/分鐘，拉伸至荷重2 0牛頓（5牛 頓/公分）時量測寬度，求出寬度減少率（％ )。 (6 )吸水速度及表面側親水性之層厚量測 硏磨基布於2 0 °C、濕度6 0 %之乾燥器放置1 2小 時以上作爲試片。於溫度2 0 °C、濕度6 0 %之室內平面 靜置之試片上2公分高度，用微滴管滴下1 5微升之水。 從滴下起量測基布吸水完所需時間，以其秒數決定吸水速 度。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) _裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522074 A7 ____B7_ 五、發明説明（15 ) 滴下之水滴完全吸入試片後，剖面以KEYENCE(股）製 VH-8000型數位顯微鏡觀察水滴浸透部份之剖面，計數有水 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 滴浸滲部份之層數。以N = 1 〇之平均値爲親水層之厚度 〇 (7 )吸水高度 將硏磨基布切成2 5 (橫）毫米X 2 5 0 (縱）毫米 成試片，於溫度2 0 °C、濕度6 0 %之乾燥器放置1 2小 時以上。燒杯內裝純水至深度5公分以上，將試片垂直固 定使末端2 0毫米浸入水中。1小時後或1 0分鐘後水因 毛細現象上吸之高度於正反面加以量測。量測三片以平均 値作評估。 (8 )含砂量之量測 用理學電機（股）製3 0 8 Ο E型螢光X線分析裝置 量測。精稱1 0 0毫克之硏磨基布作量測樣本。測得之矽 量以重量分率（P pm)表之。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (9 )磁記錄基板表面平均粗度（R a )、峰値（R p )、 谷値（R v ) 紋理加工後之磁記錄基板以表面粗度計（Veeco Instrument Inc製T M S — 2 0 0 0 )量測取得之圖，用】 I S - Β 〇 6 0 1之方法算出。亦即，量測之表面粗度以 對長方向X自〇至L之區間的函數F ( X )表示，經下式 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） -18- 522074 A7 _ _B7 五、發明説明（16 ) (1 )計算而得。 式（1)中<F (X) >係函數F (X)之x=o至 L之平均値。 R a =丄fL| F〇)—<F(X)>| 办 L Jo 又，R p及R v各係表面粗度平均値至山頂部及谷底部 之差，如下式。
Rp=最大山頂部一平均値，最大谷底値一平均 値 實施例1 溫度2 6 0 t之熔體流動指數9 0之聚乙烯4 9 . 1 份，熔體流動指數1 8之尼龍6 5 0份，聚乙二醇 〇· 9份以片粒混合。將該混合片粒供給於擠出機進行紡 紗。熔化部及螺桿末端溫度爲2 6 0 °C，紡紗組件及噴絲 頭溫度2 5 0 °C，而噴絲頭孔徑係直徑〇 . 3毫米。各混 紡纖維延伸、機械捲縮後切斷。所得混紡纖維（原紗）係 纖度6 . 6分特，長5 1毫米之短纖。短纖通過梳棉機成 網，經針刺處理成絡合纖維網。該網通過1 4 0 °C之加熱 區，以軋光輥壓製得基重6 7 0克/平方米，厚1 · 9毫 米之纖維基材。 另一方面，以聚四亞甲基二醇/聚己二酸丁二醇酯（ 分子量各2，0〇〇) =60 /40，二苯甲烷二異氰酸 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 一 -19- I---^---："10^-- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、·§! 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 522074 Α7 Β7 五、發明説明（17 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 酯’乙二醇反應得1 〇 〇%伸長模數爲1 〇 · 8百萬帕之 聚氨酯樹脂（高分子彈性體）。於該聚氨酯樹脂添加凝固 調整劑，二甲基曱醯胺（DMF)，製成固體成分15% 之浸滲溶液。 其次將上述纖維基材浸泡於聚氨酯1 5 %濃度之浸滲 溶液’經過軋輥擠壓後於水中濕式凝固並進行脫溶劑。所 得基材以熱風乾燥，得纖維基材與充塡於其空隙之高分子 彈性體之複合體，聚氨酯浸滲之基材。該高分子彈性體係 形成多孔體。該基材經8 5 °C之熱甲苯甲浸滲-軋面操作 之重複進行溶解去除纖維中之海成分聚乙烯而成極細纖維 。所得聚氨酯浸滲極細纖維基材中高分子彈性體聚氨酯樹 脂與纖維之比（R / F )爲3 5 / 6 5。原來的混紡纖維 (原紗）係僅尼龍極細纖維之纖維束所成，纖維束內極細 纖維剖面之纖維徑，以上述量測法所量測之中心部平均纖 維直徑爲1 . 1 0微米，外周部平均纖維直徑〇 . 3 1微 米，纖維束內極細纖維約6 5 0根。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 所得聚氨酯浸滲極細纖維基材之表裡各以凹版輥塗布 D M F約5克/平方米後乾燥。處理後之表面極細纖維束 間之空隙存在有高分子彈性體。該高分子彈性體係D M F 可再溶之聚氨酯。之後兩面以裝有3 2 0目砂紙之硏磨機 硏磨起毛，分割成1/2厚度，製成厚度〇 . 6 5毫米之 立毛基布。 以該基布所成之硏磨基布於2 0 %延伸時之應力爲 27·1牛頓/公分，拉伸強度爲87.6牛頓/公分， 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -20- 522074 A7 _____ B7 五、發明説明（18 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 寬4 . 〇公分之硏磨基布在2 0牛頓之荷重下拉伸之際中 央部寬度減少2 . 0毫米，硏磨基布表面無破壞，可充分 抵抗使用時之拉伸。 所得硏磨基布分條作4 . 0公分寬，用於磁記錄媒體 鋁硬碟之紋理加工。硏磨劑含〇 . 1微米之多晶鑽石磨粒 及陰離子性分散劑。硬碟表面良好，平均粗度R a = 3 . 5 埃。 所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表1。 比較例1 溫度2 6 0 t之熔體流動指數9 0之聚乙烯爲複合纖 維之海成分，熔體流動指數1 8之尼龍6爲複合纖維之島 成分，島成分0.056分特，島數38根，配合比聚乙 烯（海成分）：尼龍6 (島成分）=4 0 : 6 0複合紡紗 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 ，得纖度5 . 3分特，纖維長5 1毫米之複合纖維。替代 實施例1之混紡纖維改用該複合纖維以外，如同實施例1 製成硏磨基布。所得硏磨基布中纖維束外周部極細纖維及 中心部極細纖維直徑均係2 . 4微米。 接著如同實施例作紋理加工。紋理加工後碟片表面之 平均粗度R a爲1 8埃，得類似實施例1之均勻表面。所得 到硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表1。 實施例2 替代實施例1所用之固體成分1 5 %之聚氨酯樹脂浸 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 - 522074 A7 B7 五、發明説明（19) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 滲液’改用固體成分5 %之浸滲液以外如同實施例1製作 硏磨基布。該硏磨基布之高分子彈性體（聚氨酯樹脂）與 纖維基材之比爲5 / 9 5。 該硏磨基布如同實施例所得者係由極細纖維構成。惟 較實施例1者毛足長，表面均勻性略差，厚度分散度 3 · 8 ’拉伸強度8牛頓/公分。 其次如同實施例1進行紋理加工後少有刮傷。所得硏 磨基布及磁記錄基板之物性示於表1。 比較例2 聚乙烯5 0份及聚對酞酸乙二醇酯5 0份以片粒混合 。其次供給該混合片粒於擠出機並紡紗。熔化部及螺桿末 端溫度爲2 9 0 t，紡絲組件及噴絲頭溫度爲2 8 5 °C， 噴絲頭之孔徑0 . 3毫米。再將各混紡纖維延伸、機械捲 縮後切斷，成混紡纖維原紗，6 . 6分特之短纖。其次通 過梳棉機成網，經針刺處理得基重6 7 0克/平方米之纖 維基材。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 接著如同實施例1以聚氨酯樹脂浸滲，極細纖維化， 進行起毛，製成硏磨基布。所得基布中纖維束中心部極細 纖維及外周部極細纖維之直徑各爲0 . 3 2微米、 0 . 2 3微米。硏磨基布之拉伸強度爲2 5牛頓/公分， 寬度減少8 · 5毫米，厚度分散度4 · 0%，成強度差且 表面破壞之硏磨基布。 以該硏磨基布進行如同實施例1之紋理加工，結果多 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -22- 522074 A7 B7 五、發明説明（2〇 ) 有刮傷，碟片表面平均粗度R a亦爲1 0埃’得近似實施例 1之均勻表面。所得硏磨基布及磁記錄基板物性列於表1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 〇 實施例3 除不用砂紙硏磨外如同實施例1 ，製成非立毛型硏磨 基布。 使用所得硏磨基布於如同實施例1之紋理加工。硬碟 表面良好，平均粗度Ra4 . 0埃。 所得硏磨基布及磁記錄基板之物性示於表2。 實施例4 如同實施例1製作立毛基布。之後用陰離子系浸滲劑 二辛基磺基琥珀酸鈉之1 %水溶液，以該立毛基布浸泡， 軋面至軋液率7 0 %。再於1 2 0 °C，5分鐘之條件熱風 乾燥成硏磨基布。 經處理之硏磨基布吸水速度爲5秒。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 使用經該陰離子系浸透劑處理之硏磨基布，如同實施 例1進行紋理加工。硏磨劑於硏磨基布之浸透速度比實施 例1快，無刮傷等缺點，紋理表面平均粗度R a亦良好，爲 3 . 1 埃。 所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表2。 實施例5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 522074 Α7 Β7 五、發明説明（21 ) 實施例1之聚氨酯樹脂（高分子彈性體）其1 〇 〇 % 伸長模數1 0 . 5百萬帕者改用2 7 · 5百萬帕者以外， 如同實施例1製作硏磨基布。 所得硏磨基布如同實施例1用於紋理加工。硬碟之表 面平均粗度R a爲3 · 8埃，良好。所得硏磨基布及磁記錄 基板之物性列於表2。 實施例6 如同實施例1得聚氨酯浸滲極細纖維基材。 所得基材之表裡以凹版輥塗布約5克/平方米之 D M F後乾燥。其次於該基材以SILCOTE FZS (松本油脂 製藥（股）製胺基改質聚矽氧，固體成分濃度2 0%)之 1 %水溶液以砑光機擠壓成滲液=7 0 %後乾燥。之後二 面以裝有4 0 0目砂紙之硏磨機表裡各硏磨2回起毛，分 割成厚0.8毫米之立毛基布。 所得立毛基布爲作全體之拒水處理，浸入含氟樹脂F 一 9 0 C (大日本油墨工業（股）製），經厚7 0 %之間 隙軋面後乾燥。於基布之F - 9 0 C之固體成分附著量爲 0 · 5 %。此時之拒水度，依J I S - Κ 6 3 2 8之拒水 試驗爲1 0 0分。於該拒水基布表面以7 0目凹版輥塗布 二辛基磺基琥珀酸鈉之5 %甲醇溶液後乾燥。重複該處理 2次得表面經親水處理之硏磨基布。拉伸強度爲8 6 . 7 牛頓/公分，寬4 · 0公分之硏磨基布在2 0牛頓荷重下 拉伸之際中央部之寬度減少2 . 1毫米，硏磨基布表面無 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -----^---；---- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、11 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -24- 522074 A7 B7 ___ 五、發明説明（22 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 破壞，使用時可充分抵抗拉伸。又，該硏磨基布吸水® ® 1 0分鐘表面2 · 6公分裡面0 _ 0公分，1小時表面 5 . 0公分裡面0 . 0公分，隨著時間緩慢吸水。表面個1 親水性層厚3 1 5微米。矽含量3，1 5 0 p p m。 以所得硏磨基布進行如同實施例1之紋理加工° W _ 劑於硏磨材之浸透速度亦爲最適，少有刮傷等缺點°又’ 紋理加工後R v / R p = 4 . 0，R p < R u _ R a亦良好’ 爲3 . 2埃。 所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表3。 實施例7 如同實施例6製作立毛基布。將所得立毛基布，於含 松本油脂製藥（股）製商品名S S K - 4 (聚氧化乙烯烷 基醚類）4克/升，及含氫氧化鈉2克/升之溶液中，浴 比4 0對1，以液流染色機於6 0 °C淸洗4 0分鐘。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 之後如同實施例6，作所得立毛基布全體之拒水處理 ，表面親水處理，得硏磨基布。拉伸強度8 6 . 7牛頓/ 公分，寬4 . 0公分之硏磨基布於2 0牛頓荷重拉伸之際 中央部寬減少2 . 1毫米，硏磨基布表面無破壞，使用時 可充分抵抗拉伸。該硏磨基布之吸水高度1 0分鐘時表面 2.4公分，裡面0.0公分1小時表面5.0公分，裡 面0 _ 1公分，隨著時間緩慢吸水。表面側親水性層厚度 3 1 5微米。因淸洗效果矽含量3 0 p p m，較之實施例 6之3，1 5 0 p p m明顯下降。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） -25- 522074 A7 __B7_ 五、發明説明（23 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 以所得硏磨基布進行如同實施例1之紋理加工。硏磨 劑於硏磨材之浸透速度亦爲最適，且無刮傷等缺陷，硬碟 之 RV/RP=4 . 0 而 RP<RU . Ra 爲 3 . 2 埃，良好 。之後得更於表面構成磁性層之硬碟。所得硬碟無磁性層 浮起而良好。 所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表3。 實施例8 除不用砂紙進行硏磨以外如同實施例6製作非立毛型 硏磨基布。該硏磨基布吸水高度1 0分鐘時表面2 . 0公 分裡面0.0公分，1小時表面4·8公分裡面0.0公 分，隨時間緩慢吸水。表面親水性層之厚度爲3 2 0微米 〇 以所得硏磨基布如同實施例1作紋理加工。雖有若干 刮傷的增多之傾向，硬碟之R v / R p = 3 · 5而R p < R V ，表面平均粗度R a爲1 . 9埃，良好。 所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表3。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 比較例3 溫度2 6 0 °C下之熔體流動指數9 0之聚乙烯爲複合 纖維之海成分，熔體流動指數1 8之尼龍6爲複合纖維之 島成分，以島成分0.056分特，島數38根，配合比 聚乙烯（海成分）：尼龍6 (島成分）=40 : 60複合 紡紗，得纖度5 _ 3分特，纖維長5 1毫米之複合纖維。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -26- 522074 A7 B7 五、發明説明（24 ) 替代實施例6之混紡纖維改用複合纖維以外如同實施例6 製作硏磨基布。所得硏磨基布中纖維束外周部極細纖維及 中心部極細纖維之直徑均爲2 . 4微米。而硏磨布之吸水 高度表面4·0公分，裡面0.0公分。 接著如同實施例1進行紋理加工。紋理加工後碟片表 面粗度R a爲9 . 5埃，得近似實施例1、實施例6之均勻 表面。所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列於表4。 實施例9 基於實施例1之用於實施例6之固體成分1 5 %聚氨 酯樹脂浸滲液，改用固體成分5 %之浸滲液以外如同實施 例6得硏磨基布。該硏磨基布之高分子彈性體聚氨酯樹脂 與纖維基材之比爲5 / 9 5。 該硏磨基布如同實施例6，係由極細纖維構成。但因 高分子彈性體少表面形態不保，較之實施例6，所得毛足 長，表面均勻性差，厚度分散度亦大。 其次如同實施例1進行紋理加工，加工中硏磨基布吸 水時有延伸之傾向。所得硏磨基布及磁記錄基板之物性列 於表4。 實施例1 0 基於實施例1而用於實施例6之固體成分1 5 %之_ 氨酯樹脂浸滲液改用固體成分3 0 %之浸滲液以外如同胃 施例6製作硏磨基布。該硏磨基布之高分子彈性體聚氨酉旨 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I----：--1--0^— — (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -27- 522074 A7 B7 五、發明説明（25 ) 樹脂及纖維基材之比爲7 0 / 3 0。而該硏磨基布之吸水 高度表面4.0公分裡面0·0公分。 其次如同實施例1作紋理加工。表面多有聚氨酯外露 ，有若干刮傷發生。但紋理加工後碟片之R v/R p = 2 . 4而RP<RV，且表面粗度1^爲4 · 5埃，良好。 fem· emmBtt im eBMmmt ϋϋ —Bi^— tan— ϋϋ ϋί I (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（⑽）纖格⑺οχ29糊 _ 522074
A B 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（26 ) 表1 實施例1 比較例1 實施例2 比較例2 硏磨基布厚度 毫米 0.65 0.65 0.5 0.65 厚度之CV値 ％ 2 2 3.8 4 纖維束中之極細纖維 中心部D1 微米 1.1 2.4 1.1 0.32 外周部D2 微米 0.31 2.4 0.31 0.23 D1/D2 3.5 1 3.5 1.4 最大直徑 微米 4.3 2.4 4.3 0,41 最小直徑 微米 0.05 2.4 0.05 0.05 極細纖維根數 根 650 38 650 2500 合計纖度（1纖維束)分特 3.3 2.1 3.3 3.3 高分子彈性體 100%伸張模數 百萬帕 10.5 10.5 10.5 10.5 高分子彈性體/纖維（R/F) 35/65 35/65 5/95 35/65 拉伸強度 牛頓/公分 87.6 120 8 25 寬度減少率 ％ 5.0 0.5 10 8.5 吸水速度 秒 25 25 10 5 吸水高度（1小時）正面公分 18.4 17.6 17.3 14.3 反面公分 17.5 16.3 18.4 15.3 紋理加工結果 Ra 埃 3.5 18 12 10 Rv/Rp 1.2 1.2 1 1.1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Μ規格⑺OX 2晴^ 四 522074
7 B 五、發明説明（27 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表2 實施例3 實施例4 實施例5 硏磨基布厚度 毫米 0.7 0.65 0.65 厚度之CV値 ％ 1.8 2 2 高分子彈性體 100%伸張模數 百萬帕 10.5 10.5 27.5 高分子彈性體/纖維（R/F) 35/65 35/65 35/65 拉伸強度 牛頓/公分 87.6 87.6 131.4 寬度減少率 ％ 5.0 5.0 1.3 吸水速度 秒 25 5 25 吸水高度（1小時）正面公分 18.5 20 16.5 反面公分 17.3 19.5 17.5 立毛 >fnrp Μ 有 有 紋理加工結果 Ra 埃 4 3.1 3.8 Rv/Rp 1.1 0.95 0.85 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) .if. 、v" Γ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 30 522074
B 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明説明（28 ) 表3 實施例6 實施例7 實施例8 硏磨基布厚度 毫米 0.8 0.8 0.8 厚度之CV値 % 2.2 2.0 2.3 高分子彈性體 100%伸張模數 百萬帕 10.5 10.5 10.5 高分子彈性體/纖維（R/F) 35/65 35/65 35/65 拉伸強度 牛頓/公分 86.7 78.3 88.5 寬度減少率 % 5.3 5.0 5.8 吸水速度 秒 45 45 53 吸水厚度 微米 315 315 320 吸水高度（1小時）正面公分 5.0 5.0 4.8 反面公分 0.0 0.0 0.0 立毛 有 有 te j \ w 紋理加工結果 Ra 埃 3.2 3.2 1.9 Rv/Rp 4.0 4.0 3.5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Ί Γ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -31- 522074
7 B 五、發明説明（29 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 表4 比較例3 實施例9 實施例10 硏磨基布厚度 毫米 0.8 0.8 0.8 厚度之CV値 % 2.3 3.8 2.0 纖維束中之極細纖維 中;L·、部D1 微米 2.4 1.1 1.1 外周部D2 微米 2.4 0.31 0.31 D1/D2 1 3.5 3.5 最大直徑 微米 2.4 4.3 4.3 最小直徑 微米 2.4 0.05 0.05 極細纖維根數 根 38 650 650 合計纖度（1纖維束）分特 2.1 3.3 3.3 高分子彈性體 100%伸張模數 百萬帕 10.5 10.5 10.5 高分子彈性體/纖維（R/F) 35/65 5/95 70/30 拉伸強度 牛頓/公分 126.5 8.0 88.1 寬度減少率 ％ 3.8 25 5.0 吸水速度 秒 95 50 58 吸水高度（1小時）正面公分 4.0 5.0 4.0 反面公分 0.0 0.0 0.0 紋理加工結果 Ra 埃 9.5 12 4.5 Rv/Rp 3.5 1.0 2.4 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-?口 Γ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） 32-

Claims (1)

  1. 522074 A8 B8 C8 D8 7、申請專利乾圍1 1 · 一種硏磨基布，係由纖維基材及充塡於其中之高 分子彈性體而成之複合體基布所成，其特徵爲：該纖維基 材係（1 )由2 0至3，0 0 0根極細纖維集束成之纖維 束構成，（2 )該纖維束自其長方向之垂直剖面中心至半 徑的1 / 2範圍之中心部極細纖維平均直徑（D 1 )在 0 . 3至10微米，半徑的1/2周圍至外周之外周部極 細纖維平均直徑（D 2 )在0 . 0 5至1微米，且 D1/D2之比在1·5以上。 2 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中高分子 彈性體/纖維基材之重量比在1 0/9 0至6 0/4 0之 範圍。 3 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中構成該 纖維基材之纖維束間的空隙實質上有高分子彈性體之## 〇 4 ·如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中該纖,維 基材係由5 0至2，0 0 0根極細纖維集束成之纖維束|幕 成。 5 ·如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中旨亥,纖糸隹 束中心部極細纖維之平均直徑（D 1 )在〇 . 5至2 |# ，且外周部極細纖維平均直徑（D ‘2 )在〇 .，1至〇 _ 7 微米。 6 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中旨亥，纖g 基材係由纖維束構成之不織布構造體。 ‘ 7 ·如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中該高& 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、1Τ f. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -33 - 522074 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍2 子彈性體於1 〇 〇 %伸長之模數在9至4 0百萬帕。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 8 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中該纖維 束係由聚醯胺形成之極細纖維構成。 9 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其厚度在 〇· 3至1 · 2毫米，且厚度之標準偏差値（CV)在3 以下。 1 〇 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其係寬5 至3 0 0毫米之帶狀形態。 1 1 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其拉伸強 度在10牛頓/公分以上。 1 2 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其5牛頓 /公分荷重下寬度減少在2 0%以下。 1 3 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中至少 一表面之吸水速度在8 0秒以下。 1 4 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中一表 面有親水性之層且該層厚度在5 0 0微米以下。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 5 ·如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中一表 面側之吸水高度在2 0毫米/小時以上，其反面側之吸水 高度在5毫米/小時以下。 1 6 .如申請專利範圍第1項之硏磨基布，其中一表 面側係經立毛處理。 1 7 · —種硏磨基布，係由纖維基材及充塡於其中之 高分子彈性體而成之複合體基布所成，其特徵爲：該纖維 基材係（1)由20至3，000根之極細纖維集束成之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） — -34- 522074 A8 B8 C8 D8 3 申請專利範圍 纖維束構成，（2 )該纖維束自其長方向之垂 至半徑的1 / 2範圍之中心部極細纖維平均直 在0 · 3至10微米，半徑的1/2周圍至外 維平均直徑（D2)在0·05至1微米且D 比在1 . 5以上，該硏磨基布（a)其一表面 度在2 0毫米/小時以上，其反面側之吸水高 /小時以下，且（b ) —表面側係經立毛處理。 1 8 · —種磁記錄基板之硏磨方法，其特 於磁記錄基板表面供給含至少一種選自氧化鋁 、氧化鈽、氧化锆、氮化矽、單晶鑽石及多晶 之直徑0 . 0 5至0 . 5微米之磨粒的漿料， 利範圍第1項之硏磨基布硏磨該基板之表面。 直剖面中心 徑（D 1 ) 周之極細纖 1 / D 2 之 側之吸水高 度在5毫米 徵爲：一面 、二氧化矽 鑽石所成群 用如申請專 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 f 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） •35-
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