TW457525B - Apparatus for cleaning and drying substrates - Google Patents

Description

Λ7 457525 B7_ 五、發明說明（） 發明領域： 本發明有關同時沖洗及乾燥基材之方法。更詳言之， 本發明有關一同時沖洗及馬氏效應乾燥半導體基材之超 方法及設備。 發明背景： 因為半導體裝置幾何形狀持續降低，超潔淨製程之重 要性增加。在一液體槽（或一浴）内的溶液潔淨，接著一沖 洗浴（即在一分離槽，或以替換潔淨槽液體）以獲得所欲之 潔淨等級。在由沖洗浴除去後，不使用乾燥裝置，浴流體 將由基材表面揮發而造成紋路、斑點及/或殘留浴殘餘物於 基材表面。依此，必須非常注意當基材由水溶液浴除去時 乾燥基材的改良方法。 已知為馬氏效應乾燥的方法產一表面張力梯度以促 使浴流體由基材以一方法流動，其使得基材實質無浴流體 殘留，且因此避免蚊路、斑點及殘餘記號。馬氏效應乾燥 方法使用相對較少量之IPA。特別地，在馬氏效應乾燥期 間，一可與浴流體相溶的溶劑引入至當基材由浴中升起或 浴液體由基材表面排除時形成之\流體彎界面。此溶劑蒸氣 沿流體表面吸附，吸附蒸氣的濃度高於彎界面的頂部。此 一流體已知為"馬式效應”流體，且可用以獲得基材乾燥而 未留下紋路、斑點浴殘餘物於基材上。 一慣用馬氏效應乾燥系統係揭露於歐洲專利第〇 3 85 5 3 6 A 1號，名稱為''在一液體中處理後乾燥基材之方法及 第3頁 本紙張尺度適用申國國家標準（CNS)A4規格CIO X 297公Μ ) (請先閱讀背面之主意事項再填寫本頁) 訂---------線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 457525 Λ7 [37 五、發明說明（ 設備 。, ς Ί 3 3 6號專利之系統係將一基材浸入於一流體浴 十 〇 "*~™· 'oj' 興浴流體相溶之蒸氣（例如醇蒸氣）與一載體氣體 相混合，沙Μ μ侠以多個喷嘴通過流體浴的表面。此蒸氣沿基 材表面、、右 〃、吼體浴相混合，降低流體浴的表面張力^當基材 由流體浴电 τ升起，沿空氣/液體/基材界面形成一流體彎 面。此_ $ 由表面層形成，因此具有一較主體浴流體具有 幸3Ϊ· *|]^ 场張力。依此’流體由基材表面流至主體浴流 劳會，**JC c爆的表面。雖然如5 3 6號申請案中揭露之設備 可有效由其u . 材除去流體，其消耗相當量的流體，因為浴流 體不能過濟η 〜'及回收以由其除去乾燥的蒸氣。因此，浴流體 :，瞀換以在乾燥彎面維持充分之表面張力梯度。再 者▲材由潔淨浴移動至沖洗浴、或替換浴流體需要相當 時間。 因 ιΗ- ，+ i 子有-需要可迅速且有效潔淨、沖洗及乾燥基 號：且！万法及設備，…除去软路、斑點及浴殘留記 所需的體的消耗及減少潔淨、沖洗及乾燥製程 I H ί Γ— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〉 經濟部智慧財產局員工消費合作'£印製 本發明提供可潔淨、沖洗及馬氏效應乾燥' 法及設備。本發明的完成可有利地 i材之 少、流體消耗。本發明包含一乾"…无之生產量及 巷材的設備，玆也版 一第一線性噴嘴（即一具有 叹備包名 . 長孔洞而能嗜Φ 混髂的喷嘴，其相較於單一標 一線' ，薄可濕潤基材相對大 第4頁 -II---.II0%--------訂---------t^------ί---l·------------- Λ7 B： 中，本發明設備包含一潔淨流體 升起機制以由槽中升起基材 洗流體源以當基材由槽中 表面。沖洗流體接觸基材 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 457525 五、發明說明（ 份） 一搞合.至第一線性喷嘴的流體供應裝置； —第二線性喷嘴’其位於接近第一線性噴嘴，以致其 產生之乾燥蒸氣可影響由第一線性噴嘴噴出之流體而產 生馬氏乾燥效應； 一乾燥蒸氣源耦合至第二線性噴嘴·，及 一將基材在一可操作距離内通過第一及蔑-姑 夂米—線性嘴 嘴的機制，以致基材可以馬氏效應乾燥效果而乾燥之 、 可選擇的，第一及第二喷嘴可以第一及第二風扇式$嘴$ 性矩陣取代之。另一可選擇的，乾燥蒸氣可被動的供應/ 而不是經由至少一喷嘴。 ’ 本發明之喷嘴系統可與多個慣用或先進者共同使用 以進一步促進潔淨/沖洗量及系統的吐$ θ ^ ......._ 的生產量。在第-實施例 槽，—可操作耦合至槽之 車乙燦蒸氣源及一配置之、、中 洗流體源以當基材由槽中升起時^ , /r T 了供應沖洗流體至基絲 表面。沖洗流體接觸基材形成—+ # ^ a乳/基材/沖洗流體界 面，較佳為彎面形式。此乾燥茱痛呢 ’、巩源之設置為供應乾燥芪 氣至空氣/基材/沖洗流體界面，將私^ w &紐蒸氣朝向高於空氣/ 基材/沖洗流體界面之1 - 5 m m點虚 ,Λ

< °冲洗流體源及乾燥I 氣源較佳為包含風扇式喷嘴陣列劣 „„ _ ^ … 戌一單一線性噴嘴。然 而，此乾燥蒸氣源亦可包含一被動，塔 ^ ^ 原，如一充填乾燥流禮 之容器沿沖洗流體源至乾燥反應室 ^ 王間通道設置，以致乾 燥蒸氣擴散至空氣/基材/沖洗流體敦 ..._ 吸界面。此沖洗流體嘴嘴 第5贯 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A<!規格（2]〇^97公坌） {猜先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} ¾.---------------1 I，457 52 5

五、發明說明（） 及乾燥流體噴嘴可沿基材之前侧及後側延伸，因而同時、.中 洗及乾燥基材的二面 乾燥蒸氣經由乾燥蒸氣喷嘴的主動供應可提供在乾 燥脅面的乾燥路氣的濃度上的嚴密控制 <>:.不.同"於其他浴义 -馬式效應乾燥機本發明提供新鮮沖洗流體的持續供 應’此不同於停滯之浴流體，且無乾燥蒸氣與之混合。因 此，本發明在乾燥彎面及殘餘仲洗流體流間經歷較大表面 張力梯度。此較大表面張力梯度促進馬氏效應乾燥的速 度。更詳言之，因為與浸潰基材相較，需要較少流體喷至 基材的全部表面，所以與慣用浴式馬式效應乾燥機相較， 使用沖洗流體噴嘴明顯減少流體消耗。 在一較佳實施例中’本發明潔淨/乾燥系統之生產量 經由二部份槽增進’其中第一部份用以接受及潔淨基材及 第二部份用以沖洗基材。潔淨槽之第一及第二部份為可流 體流動。一封密沖洗流體源及乾燥蒸氣源之乾燥包封物可 操作的鶴合至槽的第二部份上，以用以接受來自其之基 材。 , ,--「展--------訂 --------^-'-目_ f靖先閱磧背面之沒意事項再填寫本頁) 地 佳 較 以 緣 外 材 基 沿 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 部 起 部 一 升 一 第，第 之後之 槽然槽 在 。 至 梭份回 之部梭 材二後 基第然 之 ， 支槽物 至密 材封 基密 遞乾 傳至 並材 材基 基一 1 第 第起 收升 接制 价機 同產 ， 生 燥的 乾大 中較 物供 封提 包此 燥因 乾， 在份。 可部低 材 \ 降 基第的 一 的對 第槽相 ， 淨上 中潔本 式入成 方載作 i 材操 此基在 在二 且 。 第 ， 价時量 施 實 佳 較 列 下 由 可 點 優 及 徵 特 ' 的 目 他 其 之 明 發 本 貫 6 第 本紙張尺度適用中國國家標準（CN，S)A.丨規格（2ίϋ x 1^公藶） 45752S at [竹 五、發明說明（） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印4,1^ 例 、申請專利範園及所附圖式而 更完整的顯見 \ 圖 式簡箪說明： 第 1A圖為圖示本發明構形 之潔： 爭/乾燥系統的侧視圖； 第 1B圖為第1A圖之潔淨/乾燥； 手、統的前視圖； 第 1C圖為基材表面的特窝 圖， 用以描述本發明之乾燥操 作；及 第 2A-D圖第1 A及1B圖之 潔淨/乾燥系統的連續側面圖， 用以描述本發明之產量增 加。 圖 號對照說明： 11 潔淨/乾燥系統 13 槽 13 a 槽之潔淨部份 13b 槽之沖洗部份 15 基材梭 15a 基材棱的第一支撐面 15b 基材梭的第二支撐面 16a ,16b 第一對軌 17 升起機制 18a ,18b 第二對軌 19 包封物 19a 内壁 19 C 外壁 21 可密封部份 22 a,22b 可縮回定位銷 23 沖洗流體喷嘴 25 乾燥蒸氣喷嘴 27 2氣/基材/沖洗流體界 •面 3 1 控制器 S 基材 T 能量轉換器 M 弩面 第？頁 (請先閲讀背面之泫意事項再填寫本頁) n an 1 i n n n 一ni1 I fj n fl I n n — 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21ϋ X 297公釐） 457525 Λ7 _____ _ B7 五、發明說明（） 發明評細描產二一 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製

第丨A及1 B圖分別為本發明構成之一較佳潔淨/乾燥 系統Π之側視圖及前視圖<此較佳之潔淨/乾燥系統j } 包含一潔淨流體槽1 3。槽1 3包含二部份，—基材接受及 潔淨.部份13a及一基材沖洗部份13b。一基材棱15可操作 的耦合以承載基材s由基材接受及潔淨部价Π a至基材沖 洗部份1 3 b»基材棱1 5較佳為詨計為可支撐基材s垂直沿 如第1B圖所示的側面。因此，在槽13之基材沖洗部份 1 3 b内的升起機制1 7可在基材梭} 5之第一及第二支撐面 1 5 a，1 5 b間向上延伸，以在其間升起基材s。 在沖洗部份13b内永久裝設第一對軌道i6a，Ub，其 設置係於當升起機制1 7將基材S由基材支撐物1 5之及第 一及第二支撐面15a，15b升起時接受基材s。第二軌18&， 1 8 b為永久裝設在乾燥包封物I9内，且其設置係以接受來 自第一對軌16a ’ 16b之基材S。 乾燥包封物19為設置於槽13之基材沖洗部份丨外之 上’以致一基材可由基材沖洗部份l3b升起至乾燥包封物 1 9。乾燥包封物1 9由多個壁1 9a-e形成。外壁i9c具有〜 可密封部份2 1，基材s可經此處取出。乾燥包封物丨9之 内壁I 9a向下延伸以致部份浸入在槽1 3内之流體中。乾 燥包封物1 9可與槽一體成型或以外壁丨密閉轉合至槽 1 3。壁1 9a-e含有多個孔（未顯示）以排除蒸氣至排氣系统 (未顯示）中。 在乾燥包封物19内，設置一含有至少油：±、> Λ 叹〇 $王^冲洗说體噴嘴 第8頁 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)/V丨規格公穿 Λ7 457525 五、發明說明（） 23之沖洗流體供應裝置以當基材s由基材沖洗耗⑴ 、-内升起時，橫過基材S之全部水平全幅_沖洗流體，同 時設置-含有至少乾燥蒸氣嘴嘴25之乾燥蒸氣供應裝置 以當基材S由基材沖洗部| 13b内升起時，橫過基材3之 全部水平全幅流動乾燥蒸氣。乾燥蒸氣喷嘴25之設置較 佳為可使乾燥蒸氣可在空氣/基材/沖洗流體界面27，如第 1C圖所示，被沖洗流體吸收。為了獲得此一吸收作用， 乾蒸氣流體杈佳在空氣/基材/沖洗流體界面2 7之丨-5 上擊衝基材s。且，如第I c圖所示T空氣/基材/沖洗流體 界面27較佳形成一彎面（如以虛線圓形⑽所圏起者），其 助於馬氏效應乾燥。 在乾燥包封物19内，設置第二對軌丨8a , i 8b以接觸 基材S之乾燥邵份（即已通過沖洗流體及乾燥蒸氣噴霧部 份），且因而由升起機制17接受基材s。可縮回定位銷 22a，22b在最高位置與基材接合，且固持基材s於_固定 位置’以致晶圊處理器（未顯示）可重複由乾燥包封物i 9 移除基材S。 沖洗流體喷嘴23及/或乾燥蒸氣喷嘴25耦合至一控 制器31，且控制器31為程式化以在當基材s之下半部過 時’經由選擇性的脫離在沖洗流體及/或乾燥蒸氣陣列内之 .最外噴嘴以保存沖洗流體及/或乾燥蒸氣。控制器31亦可 搞合至升起機制17、至定位銷22a、22b及至基材梭15， 且程式化以造成其之運作如參考第2A至2D圖進一步的描 述。 本紙張尺度迺用中國國家標準（CNS)A4規格（2⑴X 297公爱 I------. '衣--------訂---------線 kiu''}. (請先閱讀背面之注意事項再填寫本買) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 457525 Λ7 B7 經濟部智慧財產局_ Η消費合作社印奴 五、發明說明（） 第2 A至2 D圖為第1圖之較佳潔淨/乾燥系統1 1的連 續側視围，其可用描述本發明之潔淨/乾燥系統U的操作 及因此:獲得之增加生產量^如第2A圖所示’基材梭1 5最 切位於槽1 3之基材接受及潔淨部份1 3 a内的縮回位置’ 且經由一晶圓搬運機（未顯示）降低基材3至基材梭15内。 基材S在基材接受及潔淨部份1 3 a經由至少一位於接 受及潔淨部份i3 a内的能量轉換器τ發出之兆聲波能量而 兆聲波潔淨之。為了促進基材s之全部表面皆均勻’基材 S可經由一轉子（未顯示）轉動。在基材S潔淨後’基材梭 15帶有基材3延伸至槽13之基材沖洗部份13b’如第2B 圖所示。 此升起機制1 7升起，接觸基材S之下緣及由流體中 緩慢升起基材S(第2C圖）。此基材S較佳在一低於或等於 沖洗流體流出彎曲Μ之尖端的垂直速率之速度升起。 當基材S達到槽流體的頂部，沖洗流體喷嘴2 3銜合 並開始喷灑沖洗流體，以致當基材S由浴中可與沖洗流體 迅速接觸’因此在達到乾燥蒸氣噴嘴2 5前未乾燥（即，經 蒸發作用）。控制沖洗流體喷霧的流動速率以預防沖洗流 體濺入或濺至乾燥蒸氣喷霧。 一里當基材S與沖洗流體喷嘴2 3相交，乾燥蒸氣喷 嘴25銜合並將乾燥蒸氣流體導向在基材s之表面上形成 尤沖洗流體彎面Μ -乾燥蒸氣由沖洗流體吸收’其降低沖 洗流體之表面張力並造成f面之馬氏效應流體流向沖洗 流體之主體。馬氏效應流體因而乾燥晶材表面而留下無紋 第10頁 本紙張仏賴相H辟(CNS)A.;規格297公;^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫木頁) 装 訂-------W. 457525 Λ7 B7 五、發明說明（） 路、斑點及/或潔淨流體殘餘物的表面。 (請先間讀背面之注意事項再填寫本頁) 當升起機制升起基材S至乾燥包封物19内時’基材 梭15之弟—及第二支撐面15a，15b及接著第一對軌16a， 16b 供沿基材s緣之穩疋接觸。在基材s脫離梭15之支 撐面1 5 a，.1 5 b後，梭返回槽1 3之接受及潔淨部份1 3 a， 且準備接受及潔淨下一基材。第一對軌道i6a，丨6b在空 氣/基材/沖洗流體界27下支撐基材s。當基材S進入乾燥 包封物19時，由第二對軌道I8a，18b引導及支撐基材S 之乾燥部份。在第一對軌道！ 6a，丨6b及第二對軌道1 8a， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1 8 b間之溝槽足以容受沖洗流體喷嘴2 3及乾燥蒸氣喷嘴 25,以致當基材遇到第二對軌道18a，18b時（即5-10 mm)， 基材乾燥。升起機制17持續升起基材S以致其之底部可 通過乾燥彎面Μ(第2C圖）»當基材S位在固定銷22a，22b ..上3-5 mm時，控制器3 1釋離固定銷22a，22b。升起機制 17縮回，基材S與其一起降低直至基材由固定銷22a，22b 支撐，沖洗流體喷霧停止，且經由混合表面張力梯度及經 由藉一噴嘴（未顯示）施加至基材底部3 mm熱氮氣1至2 秒以脈衝而驅離殘餘沖洗流體。然後，基材S由乾燥包封 物19經可密封口 21卸載。固定銷22a，22b在一已知位 置固定基材S之Z-袖一致，以使卸載自動控制裝置可重複 取出基材S。 當基材沖洗且乾燥，沖洗流體由基材流至槽13 ’其接 合至槽流體及溢流至溢流管線（未顯示）。沖洗流體亦可持 續由槽頂部引入，且可經由一加熱器及過濾器回流。 第11頁 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） Λ7 ί57525 五、發明說明（） 如第2D圖顯示，在基材3 ,.,,,斤舉玍苐一對軌道丨以， 1 6 b的時間内，基材 _ ' 5。至基材接受及潔淨部份 弗一基材S2經由一晶圓處 ^ 梭15。味揸筮廿 里器（未顯市）載入基材 “： 《―基材S2經死聲潔淨，同時第二基材Sl 餘直至升起機制17縮回。若在接受及潔淨部份 1 ：? a中之潔淨及沖漆含# 成第—基材S2準備移動至基材沖 洗部份13 b，同時第-A从c , 中—&材心由乾燥封閉物1 9經由可密 封口 21卸載。在此方式中，本發明之潔淨/乾燥系統1 1 之生產里增加，因為慣用槽系統所需之承載及卸載時間與 加工（潔淨、沖洗及乾燥）所需時間重疊。 兩述揭露僅為本發明之較佳實施例，前述之設備及方 法在本發明範疇内所進行之修飾為熟於此技人士巳可瞭 解的。事實上’雖然本發明在二部份槽上具有乾燥包封物 為較佳，但本發明潔淨、沖洗及乾燥方法可使用慣用槽進 行，且可以具有或不具有乾燥包封物者進行之。 潔淨流體可包含sCI、去離子水，戒一用於表面潔之 P h調整溶液等。包含在槽内或經由喷嘴喷霧之沖洗流體可

包含具或不具有腐姓抑制劑或其他溶刻等之去離子水，JL

乾燥蒸氣可包含任何當冷凝或吸附在沖洗流體表面（IPA 等）顯示具有低表面張力的蒸氣。若潔淨·流體不同於沖洗 流體’接受及潔淨部份1 3 a可密閉由沖洗部份1 3 b以一吁 密封閘分離，且潔淨流體可排出至一貯存容器（未顯示）， 接受及潔淨部份1 3 a在開啟閘前以沖洗流體充填。離然# 較佳的，能量轉換器可省去，以使僅造沖洗及乾燥，或在 第12頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)iV1規格（21ϋ X 297公髮 (請先閱讀背面之庄意事項再填寫本頁) 訂. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 457525 Λ7 B7 五、發明說明（） 槽1 3之第二部份1 3 b使用能量轉換器。能量轉換器雖顯 示沿槽底部設置，可在其他位置設置。最後，描述之梭及 升起機制僅為例示，其他此種機制為熟於此技人士已知 的。 因此，雖然本發明以較佳實施例描述，應瞭解其他屬 於本發明精神及範®壽之實施例，如在後附申請專利範圍中 界定者。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) '—^--------訂·--------. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第13頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21ϋχ 297公t )

Claims (1)

1. 45752B

   六、 ggD8第矜奶號郝丨案W年&月

   Ί. A Η 否 擎曰II 。之 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1. 一種沖洗及乾燥基材之設備’該設備至少包含： 一流體搢，用以至少部份浸入一基材； —升起機制，其可操作的耦合至槽以由流體中升起 一基材； 一沖洗流體源，其設置係當升起機制由潔淨流體中 升起基材時供應沖洗流體至基材表面，其中沖洗流體接 觸基材，因而形成空氣/基材厂冲洗流體界面；及 一乾燥蒸氣源，其設置以供應乾燥蒸氣至空氣/基材 /沖洗流體界面。 2 ·如申諳專利範圍第I項所述之設備，其中沖洗流體源包 含至少一喷嘴且擴展至基材全幅，以致於沖洗流體噴霧 可濕潤基材表面在空氣/基材/沖洗流體界面及其之下的 每一部份β 3 ·如申請專利範園第2項所述之設備，其中沖洗流體源包 含至少一喷嘴陣列，以致於沖洗流體喷霧可濕潤基材表 面在空氣/基材/沖洗流體界面及其之下的每一部份》 4 ·如申請專利範圍第3項所述之設備，其進一步包含一控 制器可操作的耦合至噴嘴陣列，以致在陣列中的多個喷 嘴可獨立開啟及關閉。 5.如申請專利範圍第1項所述之設備，其中該槽包含： 第14頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CMS)A4規格（210 x 297公釐） 請 先閲 讀 背 Sj 之 注 意 事 項 再 填' 寫 頁 裝 訂 457525 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 一第一部份，用以接受及潔淨一基材；及 一第二部份，用以可操作的耦合至第一部份以沖洗 基材。 6_如申請專利範圍第5項所述之設備，其中該設備進一步 包含一乾燥包封物，其可操作的耦合至槽第二部份之 上，用以由其接受基材，其中乾燥包封物封入沖洗流體 源及乾燥蒸氣源。 7 ·如申請專利範圍第5項所述之設備’其中該第一及第二 部份為水平相鄰；且其中該設備更包含一基材梭’其係 可操作的耦合於槽内以在第一部份接受基材，且用以移 動基材至第二部份。 8 -如申請專利範圍第7項所述之設備，其更包含： 一升起機制，用以由基材梭升起基材至乾燥包封 物。 9.如_請專利範圍第8項所述之設備’其更包含一機制以 適於固定晶圓於固定位置。 I 0,如申請專利範圍第6項所述之設備’其中乾燥包封物更 包含一具有可密封開口之侧壁用以基材的取出° 第15頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------------------t· — —----線 J r . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 457525

   經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申清專利範圍 .種用以潔淨、沖洗及乾燥一基材之方法，該方法至少 包含下列步驟： 至少部份浸入一第一基材至一流體槽中； 由流體中升起第一基材； 當第—基材升起時在第一基材表面上喷灑沖洗流 體，因而形成空氣/基材/沖洗流體界面；及 供應乾燥蒸氣至空氣/基材/沖洗流體界面之步驟包 士在空氣/基材/沖洗流體界面供應可與沖洗流體互溶而 吸收的乾燥蒸氣’其具有比沖洗流體之表面張力低之表 面張力’因而產生馬氏效應流體；及 當基材由沖洗流體噴霧中升起時，馬氏效應乾燥第 一基材之表面。 1 2，如申請專利範圍第！ 1項所述之方法，其中乾燥蒸氣為 .主動供應至空氣/基材/沖洗流體界面。 13·如申請專利範圍第η項所述之方法，其中在第—基材 表面上噴灑沖洗流體包含控制一沖洗流體噴嘴陣列，以 致於其之最上的喷嘴可在基材全幅通過後關閉。 1 4. 一種潔淨、沖洗及乾燥基材之方法’其至少包含下列步 驟： 提供一第一部份及一第二部份之流體槽； 至少部份浸入一第一基材至槽之第一部份中； . 第16頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐> · -------------訂---------線} 一 - (請先閲讀背面之注意事項再f寫本頁) 457525 A8 B3 C8 D8 dj-ΜΠ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 在槽之第一部份潔淨第一基材； 由槽之第一部份經由一梭移動第一基材至槽之第二 部份； 由槽之第二部份中升起基材至一乾燥區域； 在第一基材由梭上脫離後，將梭回至槽之第β部 份； 當第一基材升起時在第一基材表面上噴灑沖洗流 體’因而形成空氣/基材/沖洗流體界面； 當第一基材升起時供應乾燥蒸氣至空氣/基材/沖洗 流體界面： 在槽之第一部份接受一第二基材； 在槽之第一部份潔淨第二基材； 固定第·一基材於用以由乾燥區域取出之位置； 將第二基材移動至槽之第二部份：及 由乾燥區域取出第一基材； 其中潔淨、乾燥及移動第二基材至少之一的時間與 至第一基材升起與取出之時間重叠。 15.如申請專利範圍第14項所述之方法， 其中供應乾燥蒸 氣至空氣/基材/沖洗流體界面之步騾包含在空氣/基材 沖洗流體界面供應可與沖洗流體互汝^ ^ > '合而吸收的乾燥蒸 、 氣，其具有比沖洗流體之表面張力低女 & <表面張力，因而 產生馬氏效應流體；及 當基材由沖洗流體喷霧中升起時，1 ^ 馬氏效應乾燥第- 第17頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁Ϊ ，裝---- •lneJ«III — 線、 457525 A8 B8 C8 D8 經濟部智慧財產局員1消費合作社印製 六、申請專利範圍 一基材之表面。 1 6. —種乾燥基材之設備，該設備至少包含： 一第一線性噴嘴； 一耦合至第一線性喷嘴的流體供應裝置； 一第二線性喷嘴，其位於接近第一線性喷嘴，以致 其產生之乾燥蒸氣可影響由第.一線性喷嘴噴出之流體 而產生馬氏乾燥效應； 一乾燥蒸氣源耦合至第二線性喷嘴；及 一將基材在一可操作距離内通過第一及第二線性嘴 嘴的機制，以致基材可以馬氏效應乾燥效果而乾燥之。 1 7 .如申請專利範圍第1 6項之設備，其中該第二線性喷嘴 平行於第一線性噴嘴。 1 8.如申請專利範圍第I 6項之設備，其中該第一線性喷嘴 包含一噴嘴且擴展至基材全幅，以致沖洗流體喷霧可濕 潤基材全幅之每一部份 1 9.如申請專利範圍第1 6項之設備，其中該第一線性喷嘴 包含一喷嘴且擴展至基材幅徑，以致沖洗流體喷霧可濕 潤基材幅徑之每一部份。 20. —種乾燥基材之設備，該設備至少包含： - 第18頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------1 ------------丨訂·1 丨丨丨 I---- - ,· (請先閱讀背面之沒意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 4 57 5 25 el C8 D8 六、申請專利範圍 一第一風扇式喷嘴陣列，其擴展至少基材之幅徑； 一耦合至第一風扇式噴嘴陣列的流體供應裝置： 一第二風扇式噴嘴陣列，其位於接近第一風扇式喷 嘴陣列，以致其產生之乾燥蒸氣可影響由第一喷嘴喷出 之流體而產生馬氏乾燥效應； 一乾燥蒸氣源耦合至第二風扇式喷嘴陣列：及 一將基材在一可操作距離内通過第一及第二風扇式 噴嘴陣列的機制，以致基材可以馬氏效應乾燥效果而乾 燥之。 2 1.如申請專利範圍第2〇項之設備，其更包含一控制器可 操作的耦合至風扇式噴嘴陣列，以致在陣列中的多個噴 嘴可獨立開啟及關閉，其中第一及第二陣列擴展至基材 全幅<» 2 2，一種乾燥基材的方法，其至少包含下列步驟： 在基材表面由一第一線性噴嘴喷灑一流體； 由一位於接近第一線性噴嘴之第二線性噴嘴噴灑乾 燥蒸氣至基材表面，以致乾燥蒸氣可影響由第—線性嘴 嘴喷出之流體而產生馬氏乾燥效應； 在可操作距離内相對第一及第二線性噴嘴移動基 材’以致基材可以馬氏效應乾燥效果而乾燥之„ 23.如申請專利範圍第22項之方法，其中在基材表面由一 第19頁 尺度適用中_規格⑽χ视 ）-- -- ------------\/^ --------^--------- - - <請先閱讀背面之沒意事項再填窝本頁) > '4575 20 A8 B8 CS D8 六、申請專利範園 流體，其包含 第一線性喷嘴噴灑一 幅。 ;燕潤基材表面的全 甲請專利範圍 25 之方法，其中相對第一第一 線性噴嘴移動基材，其包含維 ί第及弟一 維持弟一及第二線性喷嘴不 動，而移動基材通過。 .如申請專利範圍第22項之方法，其中相對第一及第二 線性噴嘴移動基材，其包含維持基材不動，而移動第— 及第二線性噴嘴通過β 2 6’種乾燥基材的方法，其至少包含下列步驟： 噴灑一流體線至一基材，因而在基材上形成空氣/流 體界面線； 噴灑一乾燥蒸氣線至空氡/流體界面線，以致沿空氣 /流體界面線產生馬氏乾燥效應；及 相對2氣/流體界面線移動基材a 2 7 ·如申請專利範圍第2 6項之方法，其中噴灑一流體線包 含由多個風扇式噴嘴噴灑流體。 28.—種沖洗及乾燥一基材之設備，該設備至少包含： 一流體槽，用以至少部份浸入/基材，其中該槽包 含一第一部份及一第二部份，其中該第一部份用以接收- 第20頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS}A4規格（210 X 297公釐） ----------裝--------訂 ---------線J (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 4 5 7 5 2 5 B8 08 D8 六、申請專利範圍 及潔淨一基材，而該第二部份用以可操作的耦合至第一 部份以沖洗基材，且該第一及第二部份在水平上係為相 鄰之部份； 一升起機制，其可操作的耦合至槽以由流體中升起 一基材： 一沖洗流體源，其設置係當升起機制由潔淨流體中 升起基材時供應沖洗流體至基材表面，其中沖洗流體接 觸基材，因而形成空氣/基材/沖洗流體界面，其中該沖 洗流體源振展至基材全幅’並至少包含一喷嘴陣列，以 致於一沖洗流體噴霧可濕潤基材表面在空氣/基材/沖洗 流體界面及其之下的每一部份； 一乾燥蒸氣源，其設置以供應乾燥蒸氣至空氣/基材 /沖洗流體界面；及 基材梭’在操作時可镇合在該槽之内，以將該基 材接收至該第一部份之内，並可用以將該基材運送至該 第二部份。 29. 如申請專利範圍第6項所述之設備，其更包含： 一升起機制，用以將該基材梭上之基材舉起，並送 至該乾燥包封物》 30. 如申請專利範圍第8項所述之設備，其更包含一可將晶 圓固定於一固定位置之機制。 第21頁 本紙張尺度適用中國國家標準格（21〇 x 297 g ) ------------yM--------訂---------線J (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 457525

   經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 31.如申請專利範園第6項所述之設備’其卡該乾燥包封物 更包含一具有可密封開口之侧壁，以使該基材得以取 出。 3 2 —種沖洗及乾燥一基材之設備，該設備至少包含： 一流體槽，用以至少部份浸入一基材，其中該槽包 含一第一部份及~第二部份，其中該第一部份用以接收 及潔淨一基材，而該第二部份則在水平上與該第一部份 相鄰； 一升起機制，用以從該槽之第二部份將該基材黎 起。 33.如申諳專利範圍第28項所述之設備，其中更包含一基 材梭，該基材梭在操作時可耦合在該槽之内，以將該基 材接收至該第一部份之内’並可用以將該基材運送至該 第二部份。 34. 如申請專利範圍第28項所述之設備，其中更包含： 一乾燥蒸氣源’其設置以供應乾燥蒸氣至一空氣/基 材/沖洗流體界面，其中該界面係在該基材為該升起機 制從該槽之第二部份舉起時所建立的。 35. —種沖洗及乾燥一基材之方法，該方法至少包含： 至少部份將一基材浸入一流體槽之一第一部修中；. 第22頁 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x297公釐〉 —~*- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --- 訂---------. 457525 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 及 升起該基材，從該流體槽之一第二部份升起，其中 該第二部份在水平向與該第一部份相鄰。 36·如申請專利範圍第蜂之方法，其中更包免從該 流體槽之第一部份將該基材運送至該流體槽之第二部 份的步驟。 37.如申請專利範圍第3 1項所述之方法，其中更包含供應 乾燥蒸氣至一空氣/基材/流體界面之步驟，其中該界面 係在該基材從該流體槽之第二部份舉起時建立的。 n n I n n n n u ϊ I » I 1— I n n f— rt w IP*. l n (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -!線 經濟部智慧財產局員1消費合作社印製 第23頁 本紙張尺度適用尹國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）