TW434116B - Method and apparatus for grinding a workpiece - Google Patents

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TW434116B TW089106040A TW89106040A TW434116B TW 434116 B TW434116 B TW 434116B TW 089106040 A TW089106040 A TW 089106040A TW 89106040 A TW89106040 A TW 89106040A TW 434116 B TW434116 B TW 434116B
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Mitsuru Nukui
Shirou Murai
Michihiro Takata
Tetsuo Okuyama
Muneaki Kaga
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Nippei Toyama Corp
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Description

4 3 4 " 6, 五、發明說明(1) 發明之背景 1. 發明之領域 本發明係有關於一種工作件之研磨方法及裝置,精確言 之,用以研磨例如為一半導體晶圓之由一圓形薄板所形成 之一工作件的一外部周邊邊緣。 2. 習知技術之說明 傳統的,在研磨此一形態之由一圓形薄板的形成之工作 件的情況中,採用如示於囷16中之一種研磨方法。即為, 在傳統方法中,一工作件71係繞著位於其之中心的一軸線 轉,且一成型研磨輪72被移動朝向工作件?!之一外部 周邊邊緣部份71 a進給,且被繞著平行於工作件71之中央 軸線L!的一軸線Lz旋轉。其結果,工作件71之外部周邊邊 緣部份71 a係由成型研磨輪72之外部周邊的一凹入輪表面 72a所研磨。 但是,以此一研磨一工作件之傳統方法,因為工作件71 之外部周邊邊緣部份71a係被安排由成型研磨輪72之凹入 輪表面72a於一次研磨’成型研磨輪72之凹入輪表面72a易 於磨損,且其結果,易於發生其之輪廓的變形。為此理 由特別疋在完工中,很困難經由單一之成型研磨輪72來 J持多樣之工作件71的外部周邊邊緣部份之輪廓的一致機 製準確性’且其需要經常地更換成型研磨輪72,因此,在 機製準確性與機製成本上產生困難問題。
本發明係針對傳統習知技術中存在的前述問題所研發。
五、發明說明(2) 其之目的係提供一種工作件的研磨方法及裝置,其可以維 持穩定之機製形態準確性來研磨工作件之外部周邊邊緣部 份,且其不需要經常地替換研磨輪。 為解決前述目的’依據本發明之第一相位,提供一種研 磨一工作件I方法’由一圓形薄板形成之一工作件繞著其 之位於中央的轴線旋轉’被繞著延伸在實質上平行於工作 件之平面的/軸線紋轉之每一圓盤形研磨輪,係被製成沿 著工作件之-外部周邊邊緣部份,而在工作件之正面與反 面表面之二側上進行相對進給移動。其結果,工作件之外 部周邊邊緣部份係由母一旋轉研磨輪之一外部周邊輪表面 所研磨。 於此,”旋轉研磨輪"包 光。而且,造些名詞於下 此外,前述相對進給移 件之厚度方尚’連續地移 一部份之預定組態上。 為此理由,與工作件的 輪所研磨之傳統研磨方法 的輪廓較不易變形’因此 輪。依此,可以減少旋轉 機製成本。此外’因為每 易變形,工作件之外部周 準確性之一定的機製形態 含一襯墊,且"研磨〃係包含拋 之說明中亦使用。 動係被執行使得研磨輪沿著工作 動在將被研磨之邊緣部份的至少 外部周邊邊緣部份係由成型研磨 比較,每一旋轉研磨輪之輪表面 不祐要經常地更換旋轉研磨 研磨輪之材料成本,且因而減少 %轉研磨輪之輪表面的輪廓較不 邊邊緣部份可被研磨成為具有高 此外’工作件之邊緣部份可經由工作件及旋轉研磨 輪之
434116 ,而由相 明之一工 於工作件 旋轉係橫 之,工作 依此,經 體寬度, 明之一工 工研磨用 由研磨輪 效地分別 部份6 明之一工 之粗研磨 ,不需要 持,且可 部周邊邊 作件之位 與完工研 置之配置 明之一工 定研磨顆 旋轉研磨 作件的 與完工 輸送工 在被置 緣部份 置準確 磨用之 ,且研 作件的 粒所形 輪。為 同之研磨輪完工成為一任意形態。 作件研磨方法中’旋轉研磨輪之細 之徑向方向的方式放置。為此理 向於每一旋轉研磨輪之外部周邊表 件進行在旋轉研磨輪的寬度方向中 由有效地使用旋轉研磨輪之外部周 可有效地研磨工作件之全體外部周 作件的研磨方法中,旋轉研磨輪由 之二研磨輪所構成,粗研磨與完工 所執行。為此理由,可以高準確 進行粗研磨及完工研磨該工作件之 五、發明說明(3) 相對進給控制 在依據本發 線,係以垂直 由,工作件之 面進行。換言 的相對移動。 邊輪表面之全 邊邊緣部份。 在依據本發 供粗研磨及完 研磨係個別的 性,連續且有 外部周邊邊緣 在依據本發 周邊邊緣部份 行。為此理由 位工作件之固 續地執行供外 而,可維持工 的’供粗研磨 可簡化研磨裝 在依據本發 矽顆粒成為固 為供完工用之 研磨方法中, 研磨,係由相 作件進入另一 於相同工作站 之粗研磨與完 性且改良操作 工作站不需要 磨裝置可被製 研磨方法中, 成之旋轉研磨 此理由,經由 工作件之外部 同工作站執 工作站,或移 之狀態下,連 工研磨。因 效率。進一步 分離地提供, 成密實。 由結合二氧化 輪,係被使用 依據二氧化矽
434 11 6'j. 五、發明說明(4) --- 用的化學作用本質’工作件的外部周邊邊緣部 可被研磨具有良好完工研磨表面粗糙度◊ 知 在依據本發明之一工作件的研磨方法中,在工作件 部周邊邊緣部份經由使用旋轉研磨輪進行粗研磨與+ $外 磨之後,經由使用圓盤形拋光襯墊及漿體而在另研 中執行最終拋光。為此理由,拋光襯墊之可彎性可, 準確性之機製,且漿體冷卻工作件之機製部份。因此,、^ 進一步加強工作件之外部周邊邊緣部份之研磨表面粗糙Τ 度,且進行超完工研磨。 在依據本發明之一工作件的研磨方法中,工作件之外音 周邊邊緣部份係被研磨。 依此,在研磨外部周邊邊緣部份中可獲致前述之作 點。 ’愛 在依據本發明之一工作件的研磨方法中,具有一圓孔於 其之中央的工作件之内部周邊邊緣部份係被研磨β 、 依此,在研磨内部周邊邊緣部份中可獲致前述之作業優 點。 、 在依據本發明之一工作件的研磨方法中,在由圓盤形旋 轉研磨輪之前的一過程中,一供圓筒研磨用之旋轉研磨輪 係被繞著被放置實質上平行於工作件之中央軸線的一軸線 旋轉’以經由圓筒研磨進行工作件之邊緣部份的粗切削。 依此’因為圓筒研磨產生每單位時間之大數量研磨,可 有效地執行粗切削’且因為此一圓筒研磨係為粗切削,即 使如果旋轉研磨輪之外部周邊表面些微的斷裂,機製準確
89106040.ptd 第10頁 434116 < 五、發明說明(5) 性仍可維持不 於此,供圓 在依據本發 法,其特徵在 位於中央的軸 地繞著平行於 筒研磨進行工 伸在實質上平 向中之柏線旋 沿著工作件之 上進行相對進 表面研磨工作 依此,因為 粗切削,可有 受影響。 筒研磨用 明之第二 於,由一 線旋轉, 工作件之 作件之一 行於工作 轉之一圓 一邊緣部 給移動, 件之一邊 工作件之 效地執行 進一步的’圓盤形旋轉 常地更換 具有尚準 因此,無須經 可被研磨成為 在依據本發 用之一研磨輪 均被提供為圓 磨與完工研磨 依此,經由 地執行工作件 之接合,該裝 明之一工 及供完工 盤形旋轉 之旋轉 相位中 圓形薄 供圓筒 中央軸 邊緣部 件之平 盤形旋 份而在 以經由 緣部份 邊緣部 其次之 研磨輪 旋轉研 確性之 作件的 研磨用 研磨輪 研磨輪包含一成 ,提供一 板形成之 研磨用之 線的一轴 份的粗切 面並垂直 轉研磨輪 工作件之 圓盤形研 份係在前 工作件的 之輪表面 種工作 工作件 一旋轉 線旋轉 削,且 於工作 ,係實 正面與 磨輪之 一過程 邊緣部 係很困 工作件 一穩定機製形m 研磨方法中,包 之另一研磨輪的 切削之 磨輪,且 且在粗 分為粗研磨與完工研磨,可以高 之邊緣部份的研磨,且經由機製 置之配置可被製成為簡單且密實 型研磨輪。 件之研磨方 係繞著其之 研磨輪同時 ,以經由圓 被繞著一延 件之徑向方 質上被製成 反面表面側 一外部周邊 中事先進行 份之研磨。 難被磨損, 之邊緣部份 〇 含供粗研磨 二研磨輪, 後執行粗研 準確性有效 工作站使用
89106040.pid 第11頁 434 1 1 6 五、發明說明(6) 進一步的,依據本發明之第三相位,提供一種供導引一 工作件之裝置,其特徵在於包括了 :一工作件固持單位, 用以固持由一圓形薄板形成且繞著其本身之袖線旋轉之工 作件;及一具有圓盤形研磨輪之研磨單位,且供導致繞著 實質上平行於工作件之一平面的一軸線旋轉之旋轉研磨 輪,沿著工作件之一邊緣部份的工作件之正面與反面表面 之二侧上進行相對進給移動,以研磨工作件之邊緣部份。 依此’該一裝置之研磨輪的輪表面不易磨損,因而不需 要經常地更換研磨輪,且如前述的,工作件之外部周邊邊 緣部份或内部周邊邊緣部份,可被研磨成為具有高準確性 之一穩定機製形態。 此外’經由工作件與旋轉研磨輪之相對進給控制,可由 相同之研磨輪將工作件之邊緣完工成為任意之形態。 在依據本發明之一工作件的研磨裝置中,供導引工作件 與旋轉研磨輪之相對移動以執行處理之一導引機構,係由 一液體靜力軸承所形成。 依此’當研磨輪與工作件均相對地移動在例如為沿著工 作件之旋轉軸線之一 Z方向與垂直於該軸線之γ方向令時, $磨輪與工作件之相對移動可經由包含了液體靜力軸承之 5丨機構平順地進行。依此,可預防在研磨輪與工作件之 目對移動期間產生變化’因而’可改良工作件之研磨表面 之處理準確性。 進—步的,依據本發明之第四相位,以一方向旋轉之旋 研磨輪,係被移動朝向工作件之邊緣部份進給’且起始
6 ^34 1 五、發明說明(7) 於其之正面表面側然後鈾 邊緣部份之正面表面側梢侧移動’卩因而研磨 研磨輪,係被移動朝向工作匕以相反方命旋轉之旋轉 其之反面表面然後朝向/乍件之邊緣部份進♦,且起始於 緣部份之反面表面側。夫梢部份移動,以因而研磨邊 >而ϋ T私:磨方法’目為研磨係以在正面表面側與反面 =侧上㈣對稱的移動執跡之方式,經^分供工作件 ,邊緣部份的正面與反面表面之裕度而執行,目而研磨可 相對應於邊緣部份顯現之結晶面的角纟,而由相同之供正 面與反面表面二側用之研磨條件的改變所執行,且其可預 防在邊緣部份之正面表面側與反面表面侧之間的研磨表面 產生粗糙度的變化。因而,工作業之邊緣部份可被研磨成 為具有高準確性之統一研磨表面粗糙度。 毯_佳具體例之詳細說明 現在參照圖1至9Β,將說明本發明之一具體例。 如示於圖1至3,一杈22被直立地提供在研磨裝置之一床 台2 1上’且作用為一工作件固持構件之工作件固持機構2 4 被置於該枉2 2上’用以固持由例如為半導體晶圓之圓形薄 板所形成之一工作件2 3。一作用為一研磨構件之研磨機構 25 ’係相對應於工作件固持機構24而被置於床台2丨上。研 磨機構25係設有一供圓筒研磨用之旋轉研磨輪26,以使粗 切削工作件2 3之外部周邊邊緣部份2 3 a,以及二圓盤形旋 轉研磨輪27與28 ’以供粗切削及完工切削工作件23之外部 周邊邊緣部份23a。
89106040.ptd 第13頁 434 1 16 ^ 五、發明說明(8) 必須注意’於此具體例中,經由將二氧化矽顆粒與一粘 接劑結合以將二氧化矽形成為固定研磨顆粒所形成之旋轉 研磨輪’係被使用為前述之供完工用的旋轉研磨輪28。 在研磨機構25之左侧上’一載入站29被置於床台21上, 且容納多數之未機製工作件23的一卡匣30係被載入此一載 入站29内。一第一工作自動機械31係被安裝在載入站29之 後方’且未機製工作件23係由第一工作自動機械3〗自卡匣 30 —個接一個地取出,且被運送至工作件固持機構24 ^ 如示於圖1,用以測量工作件23之厚度的一接觸型厚度 測量感測器2 0 2 ’係被置於載入站2 9之上方。經由使用四 感測器元件202a、202b、202c及20 2d,厚度測量成測器 m可以-次的測量一工作件23之外部周邊度的么量/,、匕 測有效之工作件。進一步的,依據所測量之厚度,一控制 器201計算工作件23之厚度方向中之中心,且決定供在z方 向中進給工作件23之一基準位置。 在研磨機構25之右側上’―載入站32係被置於床台21 上,且一清潔機構33係被置於其之下部部份中。一第二工 作自動機械34被安裝在載出站32之後方,已機製工作件㈡ ,由第二工作自動機械34自工作件固持機構24所接收,且 在通過清潔機觸之後,被容納在載出站32上之卡£3()。 j外側直徑測量感測器2〇6係被置於載出站32之上方。 必須注意,於圖1中’為了說明之原因,外側直徑測量感 測器206並未顯示位於載出站32之上方,而传於一不同之 位置。經由導致被提供在—感測器元件的—緊靠板2心與
第14頁
IH 89106040.ptd 五、發明說明(9) 一推進板2 0 6 b與工作件接觸,外侧直徑測量感測器2 〇 6測 量工作件23之外側直徑,緊靠板2〇 6&與推進板2〇6b均被提 供在相對應於工作件之直徑的二點處。依據所測量之外側 直徑,控制器201可確認工作件23之完工。 接下來,將詳細說明工作件固持機構24之詳細配置。如 示於圖3,一工件頭座37以可經由滾動軸承通過一導軌38 在z轴方向中(直立方向中)移動之方式,而被支撐在柱22 之一側邊表面上。一旋轉軸39以可繞著延伸在z軸方向中 之軸線L1旋轉之方式被支撐在工件頭座37上,且一用以吸 取且固持工件件23之吸入襯墊40被提供在其之下部末端。 一工作件旋轉馬達41被放置於工件頭座37之頂部上,旋 轉軸3 9被馬達41旋轉’導致被吸入襯墊4 〇所吸取並固持之 工作件2 3繞著做為其之中心的軸線L1旋轉。一 Z軸移動馬 達42被置於柱22之頂部上’滾珠螺釘43係由馬連42旋轉, 導致工件頭座37經由一被附接至一螺帽44的連接臂45而移 動在Z軸方向中。 接下來’將s兑明研磨機構2 5之詳細配置。如示於圖2與 3,一支樓桌4 7係以可經由滾動軸承沿著一對導軌4 8在X軸 方向中(縱向方向中)移動之方式,而被置於床台21上。_ 鞍座49係以可經由滾動軸承沿著一對導桿5〇在γ軸方向中 (橫向方向中)移動之方式,而被支撐在支撐桌47上。 —X軸移動馬達51係被置於床台21上,且一滾珠螺釘52 係由馬達51所旋轉,導致支撐桌47經由—螺帽53而移動於 X軸方向中。一γ軸移動馬達54係被置於支撐桌47之後方,
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ϋ珠螺釘55係由馬達54旋轉,以經由—螺帽56將鞍座49 在Υ軸方向中。X軸移動馬達5 1、Υ軸移動馬達54、及ζ 軸移動馬達42均受到數值控制,且允許依據一Nc程式之自 動控制。 —第一研磨輪旋轉馬達57係被置於左手側上之支撐桌47 的頂部,且前述之供圓筒研磨用之旋轉研磨輪26係被裝配 在由馬達57之上部表面突出之一馬達軸58上。此一供圓筒 研磨用之旋轉研磨輪26係由第一研磨輪旋轉馬達57,繞著 平行於工作件23之中央軸線L1之軸線L2旋轉。 一第二研磨輪旋轉馬達59係被置於鞍座49上,且前述之 供粗研磨用之盤形旋轉研磨輪27及供完工研磨用之旋轉研 磨輪28,均互相以預定之間隔被裝配在自第二研磨輪旋轉 馬達59之左側表面上突出之一馬達軸60上。供粗研磨用之 旋轉研磨輪27及供完工研磨用之旋轉研磨輪28係均由第二 研磨輪旋轉馬達59,繞著平行於工作件23之平面的一軸線 L 3旋轉。 研磨機構2 5係設有一接觸型工件外側直徑測量感測器 2 0 3,用以測量在粗切削處理之後的工作件2 3之外側直 徑、—研磨輪直徑測量感測器2 0 4 ’用以測量供粗研磨用 之旋轉研磨輪27及供完工研磨用之旋轉研磨輪28之直徑、 及一 Z方向位置測量感測器2 0 5 ’用以偵測工作件2 3在Z方 向中之位置。 工作件外侧直徑測量感測器203係被放置鄰近於第一旋 轉輪旋轉馬達57 ’以使測量在粗切削處理後之工作件23的
89106040.ptd 第16頁 434 116 五、發明說明(11) 外側直徑。依據所測量之工作件23的外侧直徑,控制器 2 〇 1偵測供圓筒研磨用之旋轉研磨輪2 6之磨損數量。控制 器201調整研磨輪26在X方向中之進給數量,因此,在粗切 削過程中切削進入工作件23之深度均為一定。此外,如果 工作件23未以預定數量研磨’控制器201判定研磨輪26之 磨損很大’且警告操作者更換研磨輪26。進一步的,一用 以裝配感測器2 0 3之裝配基座,以及工作件固持機構2 4, 包3旋轉轴39、吸入概塾40及類似物,由於研磨過程中之 產生的熱而膨脹,對測量產生反效果。為此理由,為補償 由熱膨脹導致之位移’執行零位調整,以調整感測器2 〇 3 與吸入襯墊40之相對位置。此一零位調整係經由導致感測 器2 03抵靠向吸入襯墊4〇之一外部周邊邊緣部份而進行。 研磨輪直徑測量感測器204係被置於供粗研磨用之旋轉 研磨輪27或供完工研磨用之旋轉研磨輪28之徑向向外處, 以測量研磨輪27與28之外侧直徑。控制器2〇 1經由測量研 磨輪27與28之外側直徑來偵測研磨輪27與28之磨損數量, 且調整研磨輪27與28在Y方向中之進給數量及工作件23在2 方向中之進給數量。進一步的,如果判定研磨輪27與⑼之 磨損數量很大,控制器201警告操作者更換研磨輪21:與 28。在研磨輪直徑測量感測器2〇4的情況中亦相同,為補償 由於供裝配感測器204之裝配基座、供裝配研磨輪27與2/ 用之馬達軸60、及類似物之熱膨脹造成之位移,執行零位 調整,以調整感測器204與研磨輪27與28之相對位置。此一 零位調整係經由導致感測器204抵靠向被提供在用以裝配
五、發明說明(12) ' 研磨輪2 7與28之馬達抽β〇的一軸承殼上之一座塊而進行。 Ζ軸方向位置測量感測器2〇5係被置於馬達59之外殼側 上,以使面向吸入襯墊4〇之下部表面,由於ζ軸方向位置 測量感測器205係以相對於在工作件23未配合入吸入襯塾 40中之狀態下的吸入襯墊4〇之下部表面的方式放置因而 以無捿觸方式在其之基準位置處測量吸入襯墊4〇之2方向 位置。依據工作件23之Ζ方向位置,控制器201偵測包含旋 轉軸39、吸入襯墊4〇、及類似物之工件固持機構24由於熱 膨脹所造成之在ζ方向中之伸長,且調整供工作件23在ζ方 向中進給用之基準位置。 此外’為使維持工作件23與研磨輪27及28之間的γ方向 中之相對位置關係於一定,在吸入襯墊4〇之徑向向外處可 長:供一 Υ方向位置測量感測器,以補償由於供研磨輪2 7與 28及工作件固持機構24用之γ方向進給機構之熱膨脹產生 之位移。於此情況,相關於被提供在鞍座49或馬達59之外 殼上之一基準點’以無接觸方式測量於γ方向基準位置處 之Υ方向位置。可選擇的,γ方向位置測量感測器可被置於 鞍座49之一側上或馬達59之外殼上。依據工作件23之γ方 向位置’控制器201偵測Υ方向進給機構與工作件固持機構 24由於熱膨脹而在Υ方向中之伸長,且調整供該工作件23 在Υ方向中進給用之基準位置。 接下來’將說明在工作件23之外部周邊邊緣23a係使用 具有則述構造之研磨裝置所研磨的情況中之研磨方法。 在研磨一工作件之方法中,如示於圖4A至4C,工作件23
89106040,ptd 第18頁 434 1 16 ' — " p -—一 五、發明說明(13) " '— 之外部周邊邊緣23a係分別地以三程序研磨。即為首 先,工作件23之外部周邊邊緣部份23a,由供圓筒研磨 之旋轉研磨輪26進行粗切削,如示於圖4A。接下來,如八 =圖4B,粗切削之後的外部周邊邊緣部份23a係由供粗研" 磨用之盤形旋轉研磨輪27進行粗研磨。其次,如示於圖 纤,粗研磨之後的外部周邊邊緣部份係由供完工研磨用之 旋轉研磨輪28進行完工研磨。 依此,將詳細說明粗切削過程。如示於圖5A與冗,工作 件23以被吸取且固持在工作件固持機構24之吸父襯墊4〇上 之狀態’由Z轴移動馬達42移動且放置在相對於供圓筒研 磨用之旋轉研磨輪2 6的咼度方向位置處。於此狀態,工作 件23由工作件旋轉馬達41繞著軸線L1旋轉,且供圓筒研磨 用之旋轉研磨輪26係由第一研磨輪旋轉馬達57繞著平行於 工作件23之中央轴線L1之韩線L2旋轉。於同時,供圓筒研 磨用之旋轉研磨輪26由X轴移動馬達51移動以朝向工作件 2 3之外部周邊邊緣部份2 3 a進給。結果,工作件2 3之外部 周邊邊緣部23a由圓筒研磨進行粗切削,如示於圖4A與5]6 中之鏈線《 在粗切削過程中’可使用如示於圖5c中之一成型研磨輪 做為供圓筒研磨用之旋轉研磨輪2 6,以使減少在接下來之 粗研磨過程中之研磨數量。 其次,在粗研磨過程中,如示於圖6A與6B,供粗研磨用之 旋轉研磨輪27係由X軸移動馬達5 1移動且放置於相對應於 在X方向中通過工作件23之軸線L1的一線L4之位置,而工作
89106040.ptd 第19頁 4 3 4 1 1 6αι 五、發明說明(14) --------- 件2 3係被吸取且固接為哄 Μ姑工柞杜& - κ #在及襯墊4〇上。於此狀態,工作件 達41所旋轉,且供粗研磨用之旋轉研磨 = 旋轉馬達59繞著延伸在平行於工作件 於工作件23之徑向方向的方向中之軸線L3 硬轉。 ^ 缸工士作件23依據一預定之NC程式由2軸移動馬達 向’且供粗研磨用之旋轉研磨輪27係由Y轴 移馬^ 5 4移動在γ轴方向中。經由此—同時地二#控 制,如示於圖7,旋轉研磨輪27以沿著工作件㈡之外部周 邊邊緣部份23a ’而在工作件23之正面與反面表面之間描 出一預定之移動轨跡之方式,移動進給至相關之工作件 23。其結果,如示於圖4B、6£|及7中之鏈線,工作件㈡之 外部周邊邊緣部份23a由旋轉研磨輪27之外部周邊輪表面 進行粗研磨(在供前述之粗切削過程之相同站中),以此方 式,在其之橫剖面中形成具有一弧形周邊邊緣部份之錐拔 輪廓。 進一步的,在完工研磨過程中,如示於圖8A與8β,供完 工研磨用之旋轉研磨輪28由X軸移動馬達51移動且放置於 相對應於X方向中之線L4之一位置處,而工作件23係被吸 取且固持在吸入襯墊4 0上。於此狀態,工作件2 3係由工作 件旋轉馬達41所旋轉’且供完工研磨用之旋轉研磨輪28係 由第二研磨輪旋轉馬達59繞著軸線L3旋轉。
於同時,工作件23依據該預定之NC程式由Z軸移動馬達 42移動在Z軸方向中’且供完工研磨用之旋轉研磨輪28由Y
Μ 89106040.ptd 第20頁 五、發明說明(15)
軸移動馬達54移動在γ軸方向中。經由此一同時地二軸控 制’如示於圖9A與9B,旋轉研磨輪28沿著工作件23之外部 周邊邊緣部份23a,而在工作件23之正面與反面表面之間 描出-預定之移動轨跡之方式,移動進給至相關之工作件 23。其結果’如示於圖4C、8B、9A及㈣中之鍵線,工作件 23之外部周邊邊緣部份23a在供前述之粗切削過程與粗研 磨過程之相同站中,由旋轉研磨輪28之外部周邊輪表面進 行完工研磨至一所需要之輪廓。 於此情況,如示於圖9八與叩,在工作件23中延伸之結晶 軸方向實質上與工作件23之正面與反面表面平#,且結晶 面之不同角度自二正面與反面表面側至邊緣部份之尖梢處 而顯現在工作件23之外部周邊邊緣部份23a中。為此理 由,需要依據結晶面之角度而改變研磨條件來進行研磨 (研磨移動之進給速率、工作件23與研磨輪28之旋轉速率 等)。如示於圖9A與9B,,經由採用在正面與反面表面上之 機製步驟係為平分的之研磨方法,且相關於工作件23之外 ,周邊邊緣部份23a來改變旋轉研磨輪28之旋轉方向及供 完工研磨用之旋轉研磨輪28之進給移動方向,以描出共同 對稱之移動軌跡,使得經由相同之研磨條件之改變可進行 研磨二正面與反面表面側,且可預防在邊緣部份之正面表 面側與反面表面侧之間的研磨表面產生粗糙度之變化。 精確言之,工作件23之外部周邊邊緣部份23a的正面與 反面表面側之間並非連續地研磨,且供正面表面侧與反面 表面側之完工研磨係分離地進行。即為,如示於圖9A,首
4341165 五、發明說明(16) 先’以一方向旋轉之供完工研磨用之旋轉研磨輪28,係被 移動朝向工作件23之外部周邊邊緣部份23a進給,且起始 於其之正面表面側然後再朝向其之尖銷側移動,因而進行 外部周邊邊緣部份23a之正面表面側之完工研磨。其次, 如示於圖9B ’以相反方向旋轉之旋轉研磨輪28,係被移動 朝向工作件23之外部周邊邊緣部份23a進給,且起始於其 之反面表面側然後再朝向其之尖梢側移動,因而進行外部 周邊邊緣部份23a之反面表面側之完工研磨。 進一步的,在如前述的進行完工研磨工作件23之外部周 邊邊緣部份23a之後,工作件23以被容納在卡 態自研磨裝置輸送至另一站。於此一另一站卡广30:二狀用 一未顯示於圖中之圓盤形拋光襯墊及漿體進行工作件“之 部份❿之最終完工研磨。即為,圓盤形拋 , σ卩周邊表面以相同於旋轉研磨輪27與28之方 致抵靠向工作件23之外部周邊表面。於同時,由 一分散劑内而準備之衆體,被供應至拋 光襯墊與工作件23之間的一間隙内。由此, 緣部份23a由漿體内t顆粒進行 邊 (修改) 名 =\意+,,此一具體例可應用下列之修改。 ㈣個別地由液體靜力輪承142中工二件頭,與鞍座 被支樓至導引氣飯140與導桿50。46與180,而可移動地 兒月包含液體靜力軸承之工作件固持機構“。如 η
第22胃 434116 五、發明說明(17) 示於圖10 ’導引氣缸140係以延伸在直立方向(Z方向)之方 式附接至柱2 2之一侧。一支撐氣缸1 41係以可移動在Z方向 中之方式由液體靜力軸承142支撐在導引氣缸140中。一支 撐軸145係以可旋轉且可上昇之方式由液體靜力軸承146支 樓在軸承氣缸143與144中。一通氣道145a被形成在其之中 心’且通氣道145a經由一軟管145b連接至一真空泵(未示 於圖)。 一吸入襯墊147經由螺栓(未示於圖)固定至支撐軸145之 下部末端。在吸入襯墊147之中心,形成一與支撐轴145之 通氣道145a連通之通氣道147a。進一步的,在其之下部表 面中形成多數的與通氣道147a連通之吸入槽道i47b » —供 旋轉用之馬達148係被置於支撐I缸141内,其之一定子 148a固定至支撐氣缸141 ’且其之一轉子148b固定至支樓 軸145。吸入襯墊147係經由支撐軸145而由供旋轉用之馬 達1 4 8旋轉。 〜 一供移動用之馬達42係被置於柱22之上方,且一滾珠螺 釘43係突出地被提供在馬達42之一下部部份上β 一 ^接臂 45係突出地被提供在支撐氣缸141之一外部周邊上,且與 滾珠螺釘4 3嚙合之螺帽4 4係被附接至連接臂4 5之一遠端。 在滚珠螺釘43被供移動用之馬達42旋轉時,支樓氣缸Μι 由螺帽44直立地移動,因而直立地移動吸入襯塾147。 為此理由,當工作件23至少在Ζ方向中移動時,圓盤形 旋轉研磨輪27與28及工作件23之相對運動,係由包含液體 靜力軸承142與146之導引機構平順地進行β依此,與包含
89106040.ptd 第23頁 434 " 6 五、發明說明(18) --------- 滾動軸承之一導引機構比較,其可預防於圓盤形旋轉研磨 輪27與28及工作件23之相對運動期間發生振動,因而,可 改良工作件23之研磨表面的處理準確性。 包含液體靜力軸承180之導引機構亦被提供在此配置中 以供在Y方向中移動研磨機構25。為此理由’當旋轉研磨 輪27與28及工作件23均於包含圓盤形旋轉研磨輪27與28之 旋轉軸線之平面内而相對地移動在γ方向中時,旋轉研磨 輪27與28及工作件23的相對運動,係由包含液體靜力轴承 1 8 0之導引機構平順地進行。依此,亦可預防於旋轉研磨 輪27及28與工作件23在γ方向中之相對運動期間發生振 動’因而’使可進一步改良工作件23之研磨表面的處理準 辖性。 液體靜力軸承146亦被提供在供支撐工作件23之旋轉用 的機構中。在此理由,工作件2 3被支撐以使可平順地旋 轉’因而’使可進一步的改良工作件23之研磨表面之處理 準確性。 (b)在前述具體例之研磨裝置中,如示於圖12a,第二研 磨輪旋轉馬達59係以可進行分度旋轉(indexed rotation) 63支撐在鞍座49上,且供粗研磨用之旋轉研磨輪27與供完 工研磨用之旋轉研磨輪28均個別地被裝配在自馬達59之左 與右之相對側表面突出之馬達軸60上。 於此配置中,因為第二研磨輪旋轉馬達5 9係被製成進行 分度旋轉,任一供粗研磨用之旋轉研磨輪27與供完工研磨 用之旋轉研磨輪28係均被置於相對於工作件23之軸線L1之
89106040.ptd 第24頁 4 3 4 1 16 五、發明說明(19) 位置處。然後’於此一相對應位移之狀態中,工作件“之 外部周邊邊緣部份23a的粗研磨與完工研磨,可由相同之 站連續地執行。 (c) 在前述具體例之研磨裝置中’如示於圖12B,供粗研 磨用之圓盤形旋轉研磨輪27及供完工研磨用之旋轉研磨輪 28,以及一拋光襯墊64,係均以預定之間隔被裝配在自第 二研磨輪旋轉馬達59之左側表面突出之馬達轴6〇上。 於所提供之配置中,在經由使用供粗研磨用之旋轉研磨 輪2 7及供完工研磨用之旋轉研磨輪28進行工作件23之外部 周邊邊緣表面23a之粗研磨與完工研磨之後,可在供這些 研磨作業之相同站中’經由使用拋光襯墊64及漿體執行作 件23之外部周邊邊緣部份23a之最終完工。 (d) 在前述具體例之研磨裝置中,如示於圖Me,第二研 磨輪旋轉馬達59係以可進行分度之旋轉方式,由支揮轴63 支樓在鞍座49上’且供粗研磨用之旋轉研磨輪2?、供完工 研磨用之旋轉研磨輪28、及拋光襯墊64,均被裝配在自馬 達59之左與右之相對側表面及後方表面突出之馬達軸 上。 於此配置中’因為第二研磨輪旋轉馬達59係被製成進行 分度旋轉’任一供粗研磨用之旋轉研磨輪2γ、供完工研磨 用之旋轉研磨輪2 8、及拋光襯墊6 4,係均被置於相對應於 工作件2 3之軸線L1之位置處。然後,在此一相對應位移之 狀態中’工作件23之外部周邊緣部份23a的粗研磨、完工 研磨、及最終拋光’均可由相同之站連續地進行。
89]06040.ptd 第25頁 434116 五、發明說明(20) (e) 在前述具體例之研磨裝置中,供粗研磨用之旋轉研 磨輪27亦可使用與供完工研磨用之旋轉研磨輪28的相同方 式,使用經由結合二氧化矽顆粒成為固定研磨顆粒所形成 之旋轉研磨輪。 (f) 可應用一般使用之碳化矽或類似物,做為供完工研 磨用之旋轉研磨輪2 8之固定研磨顆粒。 (g) 在前述具體例之研磨裝置中’經由供粗研磨用之旋 轉研磨輪27進行之工作件23的外部周邊邊緣部份23a之粗 研磨’亦可以示於圖9A與9B之完工研磨的相同方式,分別 地於外部周邊邊緣部份23a之正面表面侧與反面表面側執 行0 (h)在前述具體例之研磨裝置,一成型研磨輪被使用為 供粗切削用之旋轉研磨輪26。 (i) 一 Z軸方向移動機構係被提供在研磨輪27、28側上, 且工作件23之外部周邊邊緣部份23a係由研磨輪27、28之2 袖方向與Y轴方向中之進給移動所研磨,而無須移動工作 件23 ^可選擇的,工作件23側可移動在父軸方向與γ軸方向 中’而研磨輪27、28側係被製成可移動在z軸方向。 (D如示於圖13,一具有一圓孔23c於其之中央的工作件 係被使用為工作件23,圓孔23c之周邊邊緣,即為一内部 周邊邊緣部份23d,亦如外部周邊邊緣部份23a的被研磨。 即為,工作件23被吸在具有一空間4〇a於中央部份之吸入 襯墊40上’ -較小之供粗研磨用之旋轉研磨輪”或供完工 研磨用之旋轉研磨輪28,係以前述之外部周邊邊緣部份
89106040.ptd 第26頁 434 1 16 五、發明說明(21) 2 3a之研磨的相同方式,相對地移動以進給至工作件23之 正面與反面表面之間,因而,可研磨内部周邊邊緣部份 2 3d。於此情況,經由使用相同之研磨輪於相同之機製站 中’可連續地執行工作件23之外部周邊邊緣部份23c與内 部周邊邊緣部份23d之研磨,因此,該裝置之配置可被製 成密實,且可改良機製形態準確性。 (k)在别述具體例之研磨方法中,可在示於圖14與15之 研磨裝置中執行粗研磨過程及完工研磨過程。 在示於圖14與15之研磨裝置中,一對基座121與122互相 地連接° 一工作件固持機構24與一研磨機構25均被置於第 一基座12 1上’因此,例如為一圓形薄板之工作件23的外 部周邊係由工作件固持機構24的吸取及固持,並由研磨機 構25所研磨。 包含第一移動桌133與第二移動桌134之一晶圓承載機構 129係被置於第二基座122上。第一移動桌133係以可移動 在相對應於工作件固持機構24之一處理位置p3與相距一距 離之一縮回位置P2之間的方式而放置。進一步的,第二移 動桌1 34係以可與第一移動桌】33整體且相對地移動之方 =而被支撑在第一移動桌133上。上未處理工作件23係 破第-移動桌133承載於工作件固持機構24上,且一已處 ,之工作件23係由第二移動桌! 34自工作件固持機構24載 而
4 3 4 I 16 五、發明說明(22) 上昇或下降之方式而被置於一實質上之中間部份中。於研 磨工作件23期間’擋門1 36係關閉的,因此,在第一基座 121上之部份與第二基座122上之部份均被分離,因而"防止 一冷卻劑或類似物被濺射至第二基座1 22上之部份。此 外’當工作件23由晶圓承載機構129載入或載出時,擋門 1 3 6開啟。 在此一修改之研磨機構2 5中,如示於圖1 5,供移位用之 一支撐基座160係被置於第一基座121上,且一對供移位用 之導執1 6 1均以延伸在自左手側上之前方朝向右手侧上之 後方之一對角地移位方向S之水平平面内的方式,被平置 在支撐基座160之一上部表面上。一移位基座162係可移位 地被支撑在供移位用之導軌161上,且一對延伸在左與右 方向(X方向)之水平平面内的X方向導軌163,均被平置於 移位基座162之一上部表面上。 一移動基座164係由一對滾動單位可移動地支樓在X方向 導轨163上,且一對延伸在Y方向之水平平面内之γ方向導 桿165 ’均被置於移動基座164之一上部部份上。一鞍座 166係由液體靜力轴承可移動地支撐在γ方向導桿165上。 此外’一處理頭座1 6 7係以可由一馬達與一滾珠螺釘而繞 著一直立軸線轉動之方式,經由一支撐軸168而被支撐在Y 方向導桿1 6 5之一上部部份上。一對旋轉轴1 6 9係以延伸在 垂直於支撐軸168之軸線的水平方向中的方式,被突出地 提供在處理頭座1 67之二側上,且旋轉軸1 69及1 70均由被 容納在處理頭座1 67中之馬達1 Ή所旋轉。然後,供粗研磨
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$^發明說明(23) 用之旋轉研磨輪27係裝配在旋轉軸169上’而供完工研磨 用之旋轉研磨輪2 8係裝配在另一旋轉軸1 7 〇上。必須注 意,為了減少成本,液體靜力軸承僅使用在有關於處理之 Z軸及Y軸。但是,液體靜力軸承亦可使用在旋轉研磨輪2 7 與2 8在X方向與在S方向中之相對移動之時。 現在將詳細說明自前述具體例可預期獲得之優點。 在此一具體例中之一工作件之研磨方法中,由圓形薄板 形成之工作件2 3係繞著其之中心軸線l 1旋轉,且繞著實質 上平行於工作件23之平面的軸線L3旋轉之每一圓盤形旋轉 研磨輪27與28,係被製成沿著工作件23之外部周邊邊緣部 份23a上的工作件23之二正面與反面表面侧之至少一部 份,而進行相對且連續之進給移動。其結果’工作件23之 外=周邊邊緣部份23a係由每一旋轉研磨輪27與28之外部 周邊輪表面所研磨。 為此理由’與傳統之由一成 周邊邊緣部份的研磨方法比磨輪研磨工作件之外部 輪表面之輪廊變:因磨輪27與28之 轉研磨輪27與28。依此,可以須要經常地更換旋 料成本’ I因而減少機製成本:磨輪27與28之材 研磨輪27與28之輪表面的 因為每一旋轉 部周邊邊緣部份23a,可以 ^易變形’工作件23之外 機製形態。 確性研磨成為具有恆定之 此外,工作件2 3之邊緣部份2 % 研磨輪27與28之相對進給控 /經由工作件23及旋轉 %由相同之研磨輪27與28 Η
_6040.ptd 第29 g 4 3 ,~3 〜 五、發明說明(24) 完工成為一任意形態 在此一具體例之一工作件的 愈28之軸線L3 研磨方法令,旋轉研磨輪27 之釉線L3,係以垂直於工作件23之徑向方向 卩 置。為此理由,工作件23之旋轉係橫向於每—旋 ^ 7與28之外部周邊表面進行。換言之’工作件2 : 轉研磨輪27與28的寬度方向中之相對移動。依此,=:走 效地使用旋轉研磨輪27與28之外部周邊輪表面之全體有 度,可有效地研磨工作件23之全體外部周邊邊緣部份 2 3a。 在此一具體例之一工作件的研磨方法中,工作件2 3之外 部周邊邊緣部份23a之粗研磨與完工研磨,係由相同工作 站執行。為此理由,不需要輸送工作件23進入另一工作 站,或移位工作件23之固持,且可在被置於相同工作站的 狀態下,連續地執行供外部周邊邊緣部份23a之粗研磨與 完工研磨。因而’可維持工作件之位置準確性且改良操作 效率。進一步的,供粗研磨與完工研磨用之工作站不須要 分離的提供’可簡化研磨裝置之配置,且研磨裝置可被製 成密實。 在此一具體例之一工作件的研磨方法中,由結合二氧化 5夕顆粒成為固定研磨顆粒所形成之旋轉研磨輪,係被使用 為供完工用之旋轉研磨輪28。為此理由,經由依據二氧化 矽之還原作用之化學作用的本質,工作件2 3之外部周邊邊 緣部份23a可被研磨具有良好完工研磨表面粗链度。 在此一具體例之一工作件的研磨方法十,在由圓盤形旋 圓
89106040.ptd 第30頁 _4 3 Λ 1 16 ._____ 五、發明說明(25) 轉研磨輪27與28之研磨之前,供圓筒研磨用之旋轉研磨輪 2 6繞著平行於工作件2 3之中央軸線L1之軸線L 2旋轉,以經 由圓筒研磨粗切削工作件23之外部周邊邊緣部份23a 為 此理由’因為工作件23之外部周邊邊緣部份23a在先前處 理中事先進行粗切削,可有效地執行其次之工作件2 3之外 部周邊邊緣部份23a之研磨,因而,可以改良整體作業之 效率。此外,圓筒研磨產生每單位時間之大量研磨,可有 效地執行粗切削’且因為圓筒研磨係粗切削,即使如果旋 轉研磨輪26之外部周邊表面些微地斷裂,機製準確度仍可 維持未被影響,因此,不須要經常地更換研磨輪。 在此一具體例之一工作件的研磨方法中,在工作件2 3之 外部周邊邊緣部份23a經由使用旋轉研磨輪27與28進行粗 研磨與完工研磨之後,經由使用圓盤形拋光襯墊與漿體而 在另一站中執行最終拋光。為此理由’拋光襯墊之可變性 可提供高準確性之機製,且漿體冷卻工作件23之機製部 份。因而’可進一步加強工作件2 3之外部周邊邊緣部份 23a之研磨表面粗糙度,且進行超完工研磨。 在此一具體例之一工作件的研磨方法中,以一方向旋轉 之供完工研磨用之旋轉研磨輪2 8,係被移動朝向工作件2 3 之外部周邊邊緣部份2 3 a進給,且起始於其之正面表面側 然後再朝向其之尖梢側移動,因而進行外部周邊邊緣部份 23a之正面表面侧之完工研磨。其次,以相反方向旋轉之 旋轉研磨輪28 ’係被移動朝向工作件23之外部周邊邊緣部 份23a進給,且起始於其之反面表面側然後再朝向其之尖
4341164 ------——- ------- $、發明說明(26) 梢側移動,因而進行外部周邊邊緣部份2 3 a之反面表面側 之完工研磨。 為此理由,可相對應於顯現在工作件2 3之外部周邊邊緣 部份23a之正面表面側與反面表面側上之外部周邊邊緣部 份2 3 a内之結晶面的角度,改變研磨條件,且可預防在外 部周邊邊緣部份23a之正面表面側與反面表面側之面的研 磨表面之粗糙度的變化。因而,可以高準確度及統一之研 磨表面粗糙度來研磨工作件23之外部周邊邊緣部份23&。 在此一具體例之一工作件的研磨方法中,以一方向 之旋轉研磨輪,係被移動朝向工作件之邊緣部份進給疋 起始於其之正面表面側然後朝向其之尖梢側移 ^且 研磨邊緣部份之正面表面側,且其次,以相反 =而 方疋轉研磨輪,係被移動朝向工作件之邊緣部份二疋之 始於其之反面表面側然後朝向其之尖梢侧移:^起 磨邊緣部份之反面表面側。 以因而研 依據此研磨方法,因為研磨係以在正面表面彳丨叙 表面侧上描出對稱的移動執跡面側與反面 之邊緣部份的it而也c ,、主由千分供工作件 面與反面表面之裕度而執行,m ^ 相對應於邊緣都彳八♦狀 巩订,因而研磨可 正面與反面表面-相而由相同之供 預防在邊緣部:::2研磨條件的改變所執行,且其可 面產生粗链度的SIT,面表面側之間的研磨表 具有高準確性之蛴 因而,工作件之邊緣部份可被研磨 ’注之統—研磨表面 方法不侷限於芈八 Q 又 乂肩左意,分離之 於千々,且可使用多種之分離方法,例如,三
麵 第32頁 434 1 彳 6 五、發明說明(27) 等分成為正面表面側、反面表面側、及尖梢側,及分離成 為正面表面侧、反面表面側、尖梢侧、在正面表面侧與尖 梢側之間的區域、及反面表面侧與尖梢側之間的區域之五 部份。於該種情況中亦相同的,正面與反面表面側之研磨 表面粗糙度可被製成一致。 此處之揭示係相關於被包含在1999年8月3日申請之曰本 專利申請案第11-220019及1999年3月31日申請之第 11-91947中之内容,其之全體均於此結合作為參考。 雖然僅有本發明之某些具體例已於此特定地說明,但很 清楚的,無須離開本發明之精神與範疇,便可製成多種之 修改與變化。
89106040.ptd 第33頁 圖式簡單說明 圖1係一部份局部f面圖,顯示〜岍磨裝置具體例; 圖2係顯示一基本部份之放大平面圖,且顯示放大之一 部份示於圖1中之研磨裝置; 圖3係示於圖丨之研磨裝置的基本部份之放大橫剖面圖; 圖4A至4C均為說明圖,顯示研磨一外部周邊邊緣 方法的處理次序; 圖係顯示一粗切削過程之前视圖與平面圖; 圖6A與6B係顯示一粗研磨過程之前視圖與平面圖; 圖®6A_中之粗研磨過程之放大形式的側視 = = 示―完工研磨過程之前視圖與平面圖; X Γ:= 圓8A_中之完工研磨過程的放大形 式的部份侧視圖; 工作件固持機構的修 圖10係示於圖1中之研磨裝置的 改形式之放大橫剖面圖; 圖11係示於圖1中之研麻肚 的放大平面圖; 研磨裝置的-研磨機構之修改形式 圖12A至12C均為顯示 ㈣係-橫剖面圖,:磨輪頭座之修改形式的平面圖; 圖U係-前視圓,,.、肩不研磨過程之-修改形式; ㈣係-平面圖,;:研磨褒置之-修改形式; 式;及 "貞不於圓丨4中之研磨裝置之一修改形 圖1 6係一說明圖,翻_ ‘‘不一種傳統之工作件的研磨方法。
89106040.ptd 第34頁

Claims (1)

  1. 434 116 六、申請專如範圍 1 _ —種工作件之研磨方法,包括下列步驟: 繞著一中央軸線旋轉由—圓形薄板形成之工作件; 繞著一被置於實質上平行於工作件之一平面的一軸線旋 轉一圓盤形旋轉研磨輪;及 在工作件與該研磨輪之間執行一相對進給移動,由此, 該旋轉研磨輪在工作件之一厚度方向中沿著工作件之一邊 緣部份的至少一部份移動,而同時地旋轉工作件與該旋轉 研磨輪, 因此’該旋轉研磨輪之一外部周邊表面研磨工作件之邊 緣部份。 2.如申清專利範圍第1項之方法,其中,該旋轉研磨輪 之軸線’係以實質上地垂直於工作件之一徑向方向的方式 而放置。 3. 如申請專利範園第1項之方法,其中,該旋轉研磨輪 包含供粗研磨用之一旋轉研磨輪及供完工研磨用之一旋轉 研磨輪’因此,粗研磨與完工研磨均被執行。 4. 如申請專利範圍第3項之方法,其中,該粗研磨與該 完工研磨均在一相同工作站中執行。 5. 如申請專利範圍第3項之方法,其中,至少供+工研 磨用之該旋轉研磨輪,係由結合二氧化矽顆粒或為70固定 磨顆粒所形成。 6.如申請專利範圍第3項之方法,其中,經由導致—圓 盤形拋光襯墊抵靠向工作件且旋轉圓盤形拋光襯墊,及經 由供應由混合研磨顆粒在-分散劑中所形成之㈣進入在
    ^34 1 1 6'* 六、申請專利範圍 該拋光襯墊與工作件之間的一間隙内,執行最終拋光。 7·如申請專利範圍第丨項之方法,其中,工作件之一外 部周邊邊緣部份被研磨。 8·如申請專利範圍第7項之方法,其中,在由該圓盤形 旋轉研磨輪之前的一過程中’ 一供圓筒研磨用之旋轉研磨 ,係繞著被&置實質上平行⑪卫作# t中央㈣H線 旋轉’以經由圓筒研磨進行工作件之邊緣部份的粗切削。 9.如申請專利I!圍第i項之方法,|中,具有—圓孔於 一中央部份之工作件的一内部周邊邊緣部份被研磨。 1 0.—種工作件之研磨方法,包括下列步驟: 經由圓筒研磨粗切削由一圓形薄板形成之工作件的一 緣部份,該粗切削步驟係經由繞著被放置實質上平行於工 ϋ件之一中央軸線的一軸線旋轉供圓筒研磨用之一第一旋 研磨輪,且繞著其之中央軸線旋轉工作件而獲致丨及 、經由一第二旋轉研磨輪之—外部周邊表面研磨工作件之 邊緣部份,該研磨步驟係經由執行在該第二旋轉研磨輪與 工作件之間的一相對移動以使得第二旋轉研磨輪在工S件 之厚度方向中沿著工作件之邊緣部份的至少一部份移 動’且繞著延伸在實質上平行於工作件之一平面並實質上 垂直於工作件之一徑向方向的方向中之一軸線旋轉該第二 旋轉研磨輪而獲致。 π .如申請專利範圍第1 〇項之方法’其中,該第二旋轉 研磨輪包含供粗研磨用之一旋轉研磨輪及供完工研磨用之 旋轉研磨輪,且該研磨步驟包含在粗切削之後執行的粗
    六、申請專利範圍 研磨與完工研磨。 12.—種工作件之研磨裝置,包括: d =單位…固持由一圓形薄板形成且繞著 兵之甲兴軸線旋轉工作件,·及 免耆 旋轉K輪::: = = '之=單位,經由執行在該 Μ ^ 4 作件間的一相對進給移動以使得該旋# 部:移•,且繞著被放置實質上平 轴線旋轉該研磨輪,該研磨單位研磨工作=二 1 一3_如申請專利範圍第1 2項之裝i,進一步包括: 2動機構在该旋轉研磨輪與工作件之間執行相對移 動,及 尨山=ϋ ϊ構,導引該移動機構之相對移動’*亥導引機構 係由液體靜力軸承所建構。 lj·如中請專利範圍第13項之裝置n 動機構 包括: 第移動機構,在該旋轉研磨輪與工作件之間執行一 第一相對線性移動;及 卞< 第一移動機構,在該旋轉研磨輪與工作件之間執行垂 直=該第-相對線性移動之—第二相對線性移動。 15.如申請專利範圍第14項之裝置1中,用以導弓丨該 •^動機構之S —相對移動之該導引機構,係由該浪體 靜力軸承所建構。
    89106040.ptd 第37頁 4341 1 6 、申請專利範圍 16,如申請專利範圍第15項之裝置,其中,用以導引該 第二移動機構之第二相對移動之該導引機構,係由該液體 靜力軸承所建構。 1 7.如申請專利範圍第丨4項之裝置,其中,該工作件固 持單位包含該第一移動機構,且該研磨單位包含該第二移 動機構。 1 8.如申請專利範圍第1 7項之裝置,其中,該工作件固 持單位包含: 固持工作件之襯塾; 一旋轉軸,附接該襯墊於其之一端處; 一圊筒形構件,旋轉地支撐該旋轉軸;及 被置於該旋轉軸與該圓筒形構件之間的該液體靜力軸 承0 1 9.如申請專利範圍第1 2項之裝置,其中’該研磨單位 包含: 一粗切削單位,具有供圓筒研磨用之另一旋轉研磨輪, 經由執行在另一研磨輪與工作件之間的一相對線性移動, 且在實質上相同之平面中旋轉另一研磨輪與工作件,該粗 切削單位切削工作件之邊緣部份。 2 0.如申請專利範圍第1 9項之裝置,進一步包括: 一工作件外側直徑測量感測器,測量由該粗切削單位所 切削之工作件的—外側直徑, 其中’依據所測量之工作件的外徑直徑,決定在另一研 磨輪與工作件之間的該相對線性移動。
    89106040.Ptd 第38頁 43411 六、申請專利範圍 2 1 _如申請專利範圍第2 〇項之裝置,其中,該工作件外 側直徑測量感測器執行一零位調整’以調整供測量用之該 感測器與工作件之間的一相對位置。 22.如申請專利範圍第12項之裝置,進一步包括: 一研磨輪直徑測量感測器’測量該旋轉研磨輪之外側直 其中’依據該旋轉研磨輪之外測直徑,決定該相 移動。 T進給 23. 如申請專利範圍第22項之裝置,其中,該研磨 徑測量感測器執行一零件調整,以調整供測量用之兮 器與該旋轉研磨輪之間的一相對位置。 ^鐵測 24. 如申請專利範圍第12項之裝置,進一步包括: 一直立位置測量感測器,用以剛量該工作件固持 一直立伸長度。 干位之
    89106040,ptd 第39頁
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