JPH07205001A - ウェーハ面取り機 - Google Patents

ウェーハ面取り機

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JPH07205001A
JPH07205001A JP5311351A JP31135193A JPH07205001A JP H07205001 A JPH07205001 A JP H07205001A JP 5311351 A JP5311351 A JP 5311351A JP 31135193 A JP31135193 A JP 31135193A JP H07205001 A JPH07205001 A JP H07205001A
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JP
Japan
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wafer
grindstone
chamfering
notch
wafer table
Prior art date
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Pending
Application number
JP5311351A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Yasunaga
雅昭 安永
Takeshi Kanda
武史 鑑田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D7/00Bonded abrasive wheels, or wheels with inserted abrasive blocks, designed for acting otherwise than only by their periphery, e.g. by the front face; Bushings or mountings therefor
    • B24D7/18Wheels of special form
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B9/00Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
    • B24B9/02Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
    • B24B9/06Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B9/065Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54493Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェーハのノッチの面取りを正確に加工する
ことができるとともに、加工機のスペースが小さく低価
格で、加工時間の短いウェーハ面取り機を提供すること
を目的とする。 【構成】 回転自在なウェーハテーブル21と回転自在
な外周加工砥石31を相対的に上下及び水平方向に移動
可能に構成し、ウェーハをウェーハテーブル21に固定
して、ウェーハテーブル21と外周加工砥石31の相対
的な上下方向位置を設定するとともに、ウェーハテーブ
ル21と外周加工砥石31を回転させながらウェーハテ
ーブル21と外周加工砥石31を相対的に近づけること
によってウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取
り機に、ノッチ面取り加工ユニツト40を、外周加工砥
石31の両端面の延長面で挟まれる空間に干渉しない位
置で、外周加工砥石31の砥石軸受け台33のウェーハ
テーブル21側に設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子の素材となる
シリコン等のウェーハの面取り加工を行うウェーハ面取
り機に係わり、特にウェーハの外周及びノッチの面取り
を同一の加工機で加工するウェーハ面取り機に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシンに
て薄く切り出された後、外周をウェーハ面取り機によっ
て面取り加工される。また、ウェーハには円周方向位置
決め用にノッチが形成されており、これについても面取
り加工される。図2にノッチ付きウェーハの外観図を示
す。図2においてDはウェーハ外周11の直径、αはノ
ッチ12の開き角度、δはウェーハ外周11の中心に対
するノツチ12の中心の傾き角、Lはウェーハ外周11
からノッチ12までの距離(ノッチ12部分に示す円は
測定値を表すための円でありウェーハの一部ではな
い。)である。また、図3にウェーハ外周11及びノッ
チ12に必要な面取り形状を示す。図図3において、B
uとBdは面取り幅、θuとθdはテーパ角であり、R
uとRdはコーナーが曲面で、tは外周が平らな部分を
持っている(尖っていない)ことを示す。Tはウェーハ
の厚さである。面取り加工用の砥石は、図4に示す台形
砥石31または図5に示す総形砥石51が用いられてい
る。図2及び図3に示した各寸法及び形状は各々許容値
があり許容値から外れると不良品となる。図2及び図3
に示した面取りを加工する方法は、外周面取り専用の面
取り機とノッチ面取り専用の面取り機の2つの専用機で
加工する方法と、外周面取り機内に別にノッチ面取り加
工ステーションを設けて加工する方法がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法では、ウェーハ外周11の面取りを加工する場合と
ノッチ12の面取りを加工する場合とで各々にウェーハ
のウェーハテーブルへのウェーハの位置決め及び真空吸
着等による取り付け、加工終了後のウェーハのウェーハ
テーブルからの取り外し作業が必要となる。従って、ウ
ェーハ外周11の直径Dに対するノッチ12の位置決め
を正確に行うことが困難であるためにウェーハ外周11
の直径Dに対するノッチ12の各寸法及び形状を正確に
面取り加工することが困難であるという問題がある。ま
た、加工機が各々必要であったり加工ステーションが別
々に必要であるために加工機のスペースが大きくなると
ともに加工機が高価格になるという問題がある。さら
に、ウェーハテーブルへのウェーハの位置決め及び真空
吸着等による取り付け、加工終了後のウェーハのウェー
ハテーブルからの取り外し作業が2度必要となるため、
加工に時間がかかるという問題がある。本発明はこのよ
うな事情に鑑みてなされたもので、ウェーハ外周11に
対するノッチ12の面取りを正確に加工することができ
るとともに、加工機のスペースが小さく低価格であり、
加工時間が短いウェーハ面取り機を提供することを目的
とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、回転自在なウェーハテーブルと回転自在
な外周加工砥石を相対的に上下及び水平方向に移動可能
に構成し、ウェーハを前記ウェーハテーブルに固定し
て、前記ウェーハテーブルと前記外周加工砥石の相対的
な上下方向位置を設定するとともに、前記ウェーハテー
ブルと前記外周加工砥石を回転させながら前記ウェーハ
テーブルと前記外周加工砥石を相対的に近づけることに
よってウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取り
機において、ノッチ面取り加工ユニツトを、前記外周加
工砥石の両端面の延長面で挟まれる空間に干渉しない位
置で、前記外周加工砥石の砥石軸受け台のウェーハテー
ブル側に設けた。
【0005】
【作用】本発明によれば、ウェーハ外周の面取り加工と
ノッチの面取り加工をウェーハをウェーハテーブルに一
度取り付けるだけで行うことができる。
【0006】
【実施例】図1に本発明に係る実施例1のウェーハ面取
り機の要部が示されている。図1において、ウェーハ1
0は回転自在のウェーハテーブル21に真空吸着等にて
固定される。ウェーハテーブル21の一方はテーブル軸
受け台23に設けられたテーブル軸22に取り付けられ
ており、テーブル軸22はモータ24で回転される。テ
ーブル軸受け台23は上下スライダ25に固着されてお
り、上下スライダ25は上下ガイド26によって上下方
向移動自在でモータ27を含む駆動機構によって上下方
向に駆動される。これによって、ウェーハ10はウェー
ハテーブル21に固定された状態で回転自在となるとと
もに上下方向にも移動自在となる。また、31は外周面
取り加工用の外周加工砥石で、砥石軸受け台33に設け
られた砥石軸32に取り付けられており、砥石軸32は
水平スライダ35に設けられモータ34でベルト等を介
して回転される。砥石軸受け台33は水平スライダ35
に固着されており、水平スライダ35は水平ガイド36
によってウェーハテーブル21方向(水平方向)に移動
自在でモータ37を含む駆動機構によって水平方向に駆
動される。これによって、外周加工砥石31は回転自在
となるとともにウェーハテーブル21方向(水平方向)
に移動自在となる。さらに、砥石軸受け台33のウェー
ハテーブル21側にはノッチ面取り加工ユニット40が
設けられており、ノッチ面取り加工ユニット40はノッ
チ加工砥石41、砥石軸42、砥石軸受け台43、モー
タ44で構成され、モータ44によって砥石軸42が回
転されてノッチ加工砥石41が回転される。また、ノッ
チ面取り加工ユニット40は外周加工砥石31の上側
(砥石軸受け台33側)に設けられており、ノッチ加工
砥石41の下側端面と外周加工砥石31の上側端面とは
干渉しないようになっている。
【0007】 このように構成されたウェーハ面取り
機でウェーハ10の外周11の面取り加工とノッチ12
の面取り加工を行う場合、ウェーハ10は図示しないウ
ェーハ姿勢制御部で外周11の中心がウェーハテーブル
21の回転中心と一致するように姿勢制御された後、ウ
ェーハテーブル21に固定され上下スライダ25によっ
て所定の位置(上下方向)に位置決めされる。次に、外
周加工砥石31が回転するとともに水平スライダ35に
よってウェーハ10の方向に移動し、ウェーハテーブル
21は回転する。外周加工砥石31は内側が略台形にな
っており、テーパ部分31a(図4参照)がウェーハ1
0の外周11のエッジ部分に当たるようにウェーハ10
と外周加工砥石31の上下位置関係が設定されているの
で、これによって、ウェーハ10の片面(図1で上側)
の外周面取り加工が行われる。ウェーハ10の片面の外
周面取り加工が終わると、ウェーハテーブル21はウェ
ーハ10のもう一方の面のエッジ部分が外周加工砥石3
1のもう一方のテーパ部分31b(図4参照)に当たる
ように上下スライダ25によって下方に送られるので、
ウェーハ10のもう一方の面(図1で下側)の外周面取
り加工が行われる。ただし、加工の順序は前述した内容
と反対に、すなわち、ウェーハ10のウェーハテーブル
21と反対側の面(図1で下側)を先に加工し、次にウ
ェーハテーブル21側の面(図1で上側)を加工する方
法もあり、いずれの順序でもよい。
【0008】 外周の面取り加工が終了すると、外周
加工砥石31とノッチ加工砥石41がウェーハ10の外
周から外れるまで水平スライダ35によって後退した
後、ウェーハテーブル21が上下スライダ25によって
上昇し、ノッチ加工砥石41に対する所定の位置(上下
方向)に位置決めされる。次に、ノッチ加工砥石41が
回転し水平スライダ35によってウェーハ10の方向に
移動するが、同時にノッチ12の形状に沿ってウェーハ
テーブル21の回転角とノッチ加工砥石41の位置関係
が制御される。ノッチ加工砥石41は内側が略台形にな
っており、テーパ部分31aがウェーハ10の外周のエ
ッジ部分に当たるようにウェーハ10とノッチ加工砥石
41の上下位置関係が設定されているので、これによっ
て、ウェーハ10の片面(図1で上側)のノッチ面取り
加工が行われる。ウェーハ10の片面のノッチ面取り加
工が終わると、ウェーハテーブル21はウェーハ10の
もう一方の面のエッジ部分がノッチ加工砥石41のもう
一方のテーパ部分31bに当たるように上下スライダ2
5によって上方に送られ、上側と同様にウェーハテーブ
ル21の回転角とノッチ加工砥石41の位置関係が制御
されるので、ウェーハ10のもう一方の面(図1で下
側)のノッチ面取り加工が行われる。ただし、外周加工
の場合と同様に、加工の順序は前述した内容と反対に、
すなわち、ウェーハ10のウェーハテーブル21と反対
側の面(図1で下側)を先に加工し、次にウェーハテー
ブル21側の面(図1で上側)を加工する方法もあり、
いずれの順序でもよい。
【0009】図6に本発明に係る実施例2のウェーハ面
取り機の要部が示されている。実施例2は実施例1に対
してウェーハ面取り機の基本構成が異なっており、ウェ
ーハテーブル21関係が下側に配置されるとともに、水
平スライダ35に固着されて水平方向に移動自在となっ
ている。また、外周加工砥石31及びノッチ加工砥石4
1関係が上下スライダ25に固着されて上下方向に移動
自在となっている。それ以外は実施例1と同様である。
従って、実施例2の場合は、ウェーハ10は姿勢制御さ
れウェーハテーブル21に固定されると、上下スライダ
25によって外周加工砥石31が所定の位置(上下方
向)に位置決めされ、ウェーハテーブル21が水平スラ
イダ35によって外周加工砥石31の方向に移動してウ
ェーハ10の外周面取り加工が行われる。外周面取り加
工が終了すると、外周加工砥石31とノッチ加工砥石4
1の位置がウェーハ10の外周11から外れるまで水平
スライダ35が後退した後、ノッチ加工砥石41が上下
スライダ25によって下降し、ノッチ加工砥石41がウ
ェーハ10に対する所定の位置(上下方向)に位置決め
される。次に、水平スライダ35によってウェーハテー
ブル21がノッチ加工砥石41方向への移動するととも
にノッチ12の形状に沿ってウェーハテーブル21の回
転角とノッチ加工砥石41の位置関係が制御されて、ウ
ェーハ10のノッチ面取り加工が行われる。
【0010】なお、実施例1及びは実施例2に示した基
本構成以外にも、ウェーハ面取り機の基本構成は、ウェ
ーハテーブル21側についてはウェーハテーブル21が
下向きで水平方向に移動する構造、ウェーハテーブル2
1が上向きで上下方向に移動する構造等があり、また、
砥石側については砥石軸受け台33と砥石軸受け台43
が下側に設けられて水平方向または上下方向に移動する
構造等があり、それらの組み合わせによってウェーハテ
ーブル21側と砥石側の相対位置が上下及び水平方向に
移動自在な構成であれば、実施例1及び実施例2に示し
た基本構成のウェーハ面取り機に限らず本発明は適用で
きる。同様に、ウェーハテーブル21や外周加工砥石3
1及びノッチ加工砥石41の回転伝達機構及び上下スラ
イダ25や水平スライダ35の駆動機構についても、実
施例1及び実施例2に示した機構のウェーハ面取り機に
限らず本発明は適用できる。また、外周加工砥石31と
ノッチ加工砥石41は台形砥石の場合について説明した
が、これに限らず、図5に示したような総形砥石51を
外周加工砥石31及び/またはノッチ加工砥石41に用
いて砥石が上下せずに両面を一度で加工する場合にも発
明は適用できる。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハ面取り機によれば、回転自在なウェーハテーブル21
と回転自在な外周加工砥石31を相対的に上下及び水平
方向に移動可能に構成し、ウェーハをウェーハテーブル
21に固定して、ウェーハテーブル21と外周加工砥石
31の相対的な上下方向位置を設定するとともに、ウェ
ーハテーブル21と外周加工砥石31を回転させながら
ウェーハテーブル21と外周加工砥石31を相対的に近
づけることによってウェーハ外周の面取り加工を行うウ
ェーハ面取り機に、ノッチ面取り加工ユニツト40を、
外周加工砥石31の両端面の延長面で挟まれる空間に干
渉しない位置で、外周加工砥石31の砥石軸受け台33
のウェーハテーブル21側に設け、ウェーハをウェーハ
テーブル21に一度取り付けるだけでウェーハの外周面
取り加工及びノッチ面取り加工を行うので、ウェーハの
ノッチ面取りを正確に加工することができるとともに、
加工機のスペースが小さく低価格であり、さらに加工時
間が短いウェーハ面取り機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る実施例1のウェーハ面取り機の要
部を示す図
【図2】ノッチ付きウェーハの外観を示す図
【図3】ウェーハに必要な面取り形状を示す図
【図4】台形砥石の外周形状を示す図
【図5】総形砥石の外周形状を示す図
【図6】本発明に係る実施例2のウェーハ面取り機の要
部を示す図
【符号の説明】
10 ウェーハ 21 ウェーハテーブル 23 テーブル軸受け台 25 上下スライダ 31 外周加工砥石 33 砥石軸受け台 35 水平スライダ 40 ノッチ面取り加工ユニット 41 ノッチ加工砥石 43 砥石軸受け台

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転自在なウェーハテーブルと回転自在
    な外周加工砥石を相対的に上下及び水平方向に移動可能
    に構成し、ウェーハを前記ウェーハテーブルに固定し
    て、前記ウェーハテーブルと前記外周加工砥石の相対的
    な上下方向位置を設定するとともに、前記ウェーハテー
    ブルと前記外周加工砥石を回転させながら前記ウェーハ
    テーブルと前記外周加工砥石を相対的に近づけることに
    よってウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取り
    機において、 ノッチ面取り加工ユニツトを、前記外周加工砥石の両端
    面の延長面で挟まれる空間に干渉しない位置で、前記外
    周加工砥石の砥石軸受け台の前記ウェーハテーブル側に
    設けたことを特徴とするウェーハ面取り機。
JP5311351A 1993-11-16 1993-11-16 ウェーハ面取り機 Pending JPH07205001A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5311351A JPH07205001A (ja) 1993-11-16 1993-11-16 ウェーハ面取り機
US08/337,498 US5609514A (en) 1993-11-16 1994-11-08 Wafer chamfering machine
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JP5311351A JPH07205001A (ja) 1993-11-16 1993-11-16 ウェーハ面取り機

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ID=18016111

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JP5311351A Pending JPH07205001A (ja) 1993-11-16 1993-11-16 ウェーハ面取り機

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JP (1) JPH07205001A (ja)
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