JPH0731256U - ウェーハ面取り機 - Google Patents

ウェーハ面取り機

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JPH0731256U
JPH0731256U JP6624493U JP6624493U JPH0731256U JP H0731256 U JPH0731256 U JP H0731256U JP 6624493 U JP6624493 U JP 6624493U JP 6624493 U JP6624493 U JP 6624493U JP H0731256 U JPH0731256 U JP H0731256U
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JP
Japan
Prior art keywords
wafer
grindstone
trapezoidal
chamfering
wafer table
Prior art date
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Pending
Application number
JP6624493U
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English (en)
Inventor
武史 鑑田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Publication of JPH0731256U publication Critical patent/JPH0731256U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェーハ外周の面取り加工精度が向上しウェ
ーハ外周面取り加工の歩留まりが高く、加工後の検査を
ほぼ不要とするウェーハ面取り機を提供することを目的
とする。 【構成】 回転自在なウェーハテーブル21と回転自在
な台形砥石31を相対的に上下及び水平方向に移動可能
に構成し、ウェーハの片面をウェーハテーブル21に真
空吸着等で固定して、ウェーハテーブル21と台形砥石
31の相対的な上下方向位置を設定した後、ウェーハテ
ーブル21と台形砥石31を回転させながらウェーハテ
ーブル21と台形砥石31を相対的に近づけることによ
ってウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取り機
に、ウェーハテーブル21からのウェーハの反り量を検
出するセンサ42をウェーハテーブル21のテーブル軸
受け台23側に設けるとともに、センサ42の信号によ
って、ウェーハの反り量が許容値以下になるように台形
砥石31のウェーハへの研削力を制御する制御部43を
設けた。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は半導体素子の素材となるシリコン等のウェーハ外周の面取りを加工す るウェーハ面取り機に関する考案である。
【0002】
【従来の技術】
半導体素子の素材となるシリコン等のウェーハは、インゴットの状態からスラ イシングマシンにて薄く切り出された後、外周をウェーハ面取り機によって面取 り加工される。図3はウェーハ外周に必要な面取り形状を表す図である。 図3において、BuとBdは面取り幅、θuとθdはテーパ角であり、Ruと Rdはコーナーが曲面で、tは外周が平らな部分を持っている(尖っていない) ことを示す。Tはウェーハの厚さでありDは直径である。各寸法及び形状は各々 許容値があり許容値から外れると不良品となる。
【0003】 図5は従来のウェーハ面取り機の要部を示す図である。また、図6は加工状態 の概要を示す図で、左側がウェーハテーブル21側を加工している状態、右側が ウェーハテーブル21と反対側を加工している状態である。 図5及び図6において、ウェーハ10は回転自在のウェーハテーブル21に真 空吸着等にて固定される。ウェーハテーブル21の一方はテーブル軸受け台23 に設けられたテーブル軸22に取り付けられており、テーブル軸22はモータ2 4で回転される。テーブル軸受け台23は上下スライダ25に固着されており、 上下スライダ25は上下ガイド26によって上下方向移動自在でモータ27を含 む駆動機構によって上下方向に駆動される。これによって、ウェーハ10はウェ ーハテーブル21に固定された状態で回転自在となるとともに上下方向にも移動 自在となる。 また、31は外周面取り加工用の台形砥石で、砥石軸受け台33に設けられた 砥石軸32に取り付けられており、砥石軸32は水平スライダ35に設けられた モータ34でベルト等を介して回転される。砥石軸受け台33は水平スライダ3 5に固着されており、水平スライダ35は水平ガイド36によってウェーハテー ブル21方向(水平方向)に移動自在でモータ37を含む駆動機構によってに水 平方向に駆動される。これによって、台形砥石31は回転自在となるとともにウ ェーハテーブル21方向(水平方向)に移動自在となる。
【0004】 このように構成されたウェーハ面取り機でウェーハ10の外周面取り加工を行 う場合、ウェーハ10は図示しないウェーハ姿勢制御部で直径Dの中心がウェー ハテーブル21の回転中心と一致するように姿勢制御された後、ウェーハテーブ ル21に固定され上下スライダ25によって所定の位置(上下方向)に位置決め される。 次に、台形砥石31が回転するとともに水平スライダ35によってウェーハ1 0の方向に移動し、ウェーハテーブル21は回転する。台形砥石31は内側が略 台形になっており、テーパ部分31aがウェーハ10の外周のエッジ部分に当た るようにウェーハ10と台形砥石31の上下位置関係が設定されているので、こ れによって、ウェーハ10の片面(図5及び図6で上側)の外周面取り加工が行 われる。 ウェーハ10の片面の外周面取り加工が終わると、ウェーハテーブル21はウ ェーハ10のもう一方の面のエッジ部分が台形砥石31のもう一方のテーパ部分 31bに当たるように上下スライダ25によって下方に送られ、同様の方法でウ ェーハ10のもう一方の面(図5及び図6で下側)の外周面取り加工が行われる 。 ただし、加工の順序は前述した内容と反対に、すなわち、ウェーハ10のウェ ーハテーブル21と反対側の面(図5及び図6で下側)を先に加工し、次にウェ ーハテーブル21側の面(図5及び図6で上側)を加工する方法もあり、いずれ の順序でもよい。
【0005】 また、図7に示す例は、総形砥石51にて加工する場合で、総形砥石51の内 側形状がウェーハ10に要求される面取り形状と同じ形状になっているので、総 形砥石51をウェーハ10の外周に押し込むだけでウェーハ10を上下に送らな くてもウェーハ10の面取りが加工できる。
【0006】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の技術の方法では、ウェーハ10はウェーハテーブル21 に片面のみが真空吸着等で固定されているので、ウェーハ10のウェーハテーブ ル21側の面取りを加工する場合、台形砥石31のテーパ部分31aによって直 径方向に押圧力を受けるとその下方向の分力によってウェーハ10はウェーハテ ーブル21と反対側(図5及び図6で下方向)に反る。この結果、面取り形状が 設定値に対して正しく加工されない。これに対しウェーハ10のウェーハテーブ ル21と反対側の面取りを加工する場合は、台形砥石31のテーパ部分31bに よってウェーハ10はウェーハテーブル21側(図5及び図6で上方向)に押さ れるがウェーハテーブル21によって規制されているためウェーハ10はほとん ど反らず、面取り形状は正しく加工される。 従って、ウェーハ10のウェーハテーブル21側の面取りが正しく加工されな いとともに、2つの面の面取り形状が異なるという問題がある。また、加工精度 の信頼性が低いため、加工後にウェーハ10の外周全位置を検査をしなければな らないという問題がある。
【0007】 さらに、図7の方法では2つの面の面取りを同時に行うのでウェーハ10が反 る問題はないが、このような総形砥石を製作をするのは高価であるとともに、形 状を維持する事が困難であるという問題がある。 本考案はこのような事情を鑑みてなされたもので、ウェーハ外周の面取り加工 精度を向上させてウェーハ外周面取り加工の歩留まりを高くするとともに、加工 後の検査をほぼ不要とするウェーハ面取り機を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本考案は、前記目的を達成するために、回転自在なウェーハテーブルと回転自 在な台形砥石を相対的に上下及び水平方向に移動可能に構成し、ウェーハの片面 を前記ウェーハテーブルに真空吸着等で固定して、前記ウェーハテーブルと前記 台形砥石の相対的な上下方向位置を設定した後、前記ウェーハテーブルと前記台 形砥石を回転させながら前記ウェーハテーブルと前記台形砥石を相対的に近づけ ることによってウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取り機に、前記ウェ ーハテーブルからのウェーハの反り量を検出するセンサを前記ウェーハテーブル のテーブル軸受け台側に設けるとともに、前記センサの信号によって、ウェーハ の反り量が許容値以下になるように前記台形砥石のウェーハへの研削力を制御す る制御部を設けた。
【0009】
【作用】
本考案によれば、台形砥石の研削力によってウェーハがウェーハテーブルから 反る量をセンサによって検出し、ウェーハの反り量が許容値以下になるように台 形砥石の研削力を制御するのでウェーハ外周の面取り形状が正しく加工される。
【0010】
【実施例】
図1に本考案に係る実施例1のウェーハ面取り機の要部が示されている。 図1におけるウェーハ面取り機の要部の基本構成は、図5と同じであり従来の 技術で説明した通りであるので、基本構成の説明は省略する。 実施例1では、従来の技術に対して次の点が異なる。すなわち、図2に示す図 1の部分拡大図に示すように、テーブル軸受け台23にホルダ41が設けられ、 ホルダ41はウェーハテーブル21のウェーハ10取り付け面側(図1で下側) まで延長されていて、ウェーハ10の反り量を検出するセンサ42の検出面がウ ェーハ10に向けて取り付けられている。センサ42の信号は制御部43に送ら れ、制御部43はウェーハテーブル21を回転するモータ24を制御する。 また、本実施例ではセンサ42に静電容量形センサを用いており、研削液がセ ンサ42に影響しないように、ホルダ41にはセンサ42と台形砥石31の間に スクレーパ44がセンサ42を取り囲むように設けられている。
【0011】 このように構成されたウェーハ面取り機でウェーハ10の外周面取り加工を行 う場合、従来の技術と同様に、ウェーハ10は図示しないウェーハ姿勢制御部で 直径Dの中心がウェーハテーブル21の回転中心と一致するように姿勢制御され た後、ウェーハテーブル21に固定され上下スライダ25によって所定の位置( 上下方向)に位置決めされる。 次に、台形砥石31が回転するとともに水平スライダ35によってウェーハ1 0の方向に移動し、ウェーハテーブル21は回転する。台形砥石31は内側が略 台形になっており、テーパ部分31a(図6参照)がウェーハ10の外周のエッ ジ部分に当たるようにウェーハ10と台形砥石31の上下位置関係が設定されて いるので、これによって、ウェーハ10の片面(図1で上側)の外周面取り加工 が行われる。 このとき、従来の技術で説明したように、ウェーハ10は台形砥石31のテー パ部分31aによる力を受けて下方向に反るが、その量がセンサ42で検出され 制御部43に送られ、反り量が許容値以下になるようにウェーハテーブル21の 回転速度を調整することによって台形砥石31の研削力が制御される。 ウェーハ10の片面の外周面取り加工が終わると、ウェーハテーブル21はウ ェーハ10のもう一方の面のエッジ部分が台形砥石31のもう一方のテーパ部分 31b(図6参照)に当たるように上下スライダ25によって上方に送られ、同 様の方法でウェーハ10のもう一方の面(図1で下側)の外周面取り加工が行わ れる。 図1で下側の場合、通常はウェーハ10の反り量は許容値以下になるが、もし 、許容値を越える状態が発生すれば上側の場合と同様にセンサ42で反り量が検 出されるので、検出された信号が制御部43に送られて反り量が許容値以下にな るようにウェーハテーブル21の回転速度を調整することによって台形砥石31 の研削力が制御される。 ただし、加工の順序は前述した内容と反対に、すなわち、ウェーハ10のウェ ーハテーブル21と反対側の面(図1で下側)を先に加工し、次にウェーハテー ブル21側の面(図1で上側)を加工する方法もあり、いずれの順序でもよい。
【0012】 図4に本考案に係る実施例2のウェーハ面取り機の要部が示されている。 実施例2は実施例1に対してウェーハ面取り機の基本構成が異なっており、ウ ェーハテーブル21関係が下側に配置されるとともに、水平スライダ35に固着 されて水平方向に移動自在となっている。また台形砥石31関係が上下スライダ 25に固着されて上下方向に移動自在となっている。そして、実施例1と同様に テーブル軸受け台23にホルダ41が設けられてセンサ42とスクレーパ44が 取り付けられている。 従って、実施例2の場合は、ウェーハ10は姿勢制御されウェーハテーブル2 1に固定されると、上下スライダ25によって台形砥石31が所定の位置(上下 方向)に位置決めされ、ウェーハテーブル21は水平スライダ35によって台形 砥石31の方向に移動してウェーハ10の外周面取り加工が行われる。このとき 、実施例1と同様にウェーハ10の2つの面のうち主としてウェーハテーブル2 1側が加工される場合はウェーハ10はウェーハテーブル21から反るが、この 量はセンサ42にて検出され制御部43に送られて、ウェーハ10の反り量が許 容値以下になるようにウェーハテーブル21の回転速度を調整することによって 台形砥石31の研削力が制御される。
【0013】 なお、実施例1及びは実施例2に示した基本構成以外にも、ウェーハ面取り
機 の基本構成は、ウェーハテーブル21側についてはウェーハテーブル21が下向 きで水平方向に移動する構造、ウェーハテーブル21が上向きで上下方向に移動 する構造等があり、また、台形砥石31側については砥石軸受け台33が下側に 設けられて水平方向または上下方向に移動する構造等があり、それらの組み合わ せによってウェーハテーブル21側と台形砥石31側の相対位置が上下及び水平 方向に移動自在な構成であれば、実施例1及び実施例2に示した基本構成のウェ ーハ面取り機に限らず本考案は適用できる。 同様に、ウェーハテーブル21や台形砥石31の回転伝達機構及び上下スライ ダ25や水平スライダ35の駆動機構についても、実施例1及び実施例2に示し た機構のウェーハ面取り機に限らず本考案は適用できる。 また、実施例1及び実施例2では台形砥石31の研削力の制御をウェーハテー ブル21の回転速度を調整する方法の場合について説明したが、これに限らず、 研削抵抗を低減する他の方法によって行ってもよい。 また、実施例1及び実施例2ではウェーハ10の反り量を検出するセンサを静 電容量形センサ42を用いスクレーパ44も取り付けたが、これに限らず、他の センサを用いてもよく、他のセンサで研削液が影響しないものであればスクレー パ44は取り付けなくてもよい。さらにセンサ42は検出面をウェーハテーブル 21と反対側のウェーハ面に向けたが、これに限らず、ウェーハテーブル21側 のウェーハ面に向けてもよい。 なお、ウェーハ10はオリエンテーションフラット付きウェーハでもノッチ付 きウェーハでも本考案は適用できる。
【0014】
【考案の効果】
以上説明したように本考案に係るウェーハ面取り機によれば、回転自在なウェ ーハテーブル21と回転自在な台形砥石31を相対的に上下及び水平方向に移動 可能に構成し、ウェーハの片面をウェーハテーブル21に真空吸着等で固定して 、ウェーハテーブル21と台形砥石31の相対的な上下方向位置を設定した後、 ウェーハテーブル21と台形砥石31を回転させながらウェーハテーブル21と 台形砥石31を相対的に近づけることによってウェーハ外周の面取り加工を行う ウェーハ面取り機に、ウェーハテーブル21からのウェーハの反り量を検出する センサ42をウェーハテーブル21のテーブル軸受け台23側に設けるとともに 、センサ42の信号によって、ウェーハの反り量が許容値以下になるように台形 砥石31のウェーハへの研削力を制御する制御部43を設けた。 従って、ウェーハ外周の面取りの加工精度が向上してウェーハ外周面取り加工 の歩留まりが高くなるとともに、加工時のウェーハ外周各位置ごとの反り量を記 録することによりウェーハ外周各位置ごとの加工後の面取り形状が推定できるの で加工後の検査がほぼ不要となるウェーハ面取り機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る実施例1のウェーハ面取り機の要
部を示す図
【図2】図1のセンサ部分の拡大図
【図3】ウェーハ外周に必要な面取り形状を示す図
【図4】本考案に係る実施例2のウェーハ面取り機の要
部を示す図
【図5】従来のウェーハ面取り機の要部を示す図
【図6】従来のウェーハ面取り機によるウェーハの加工
状態の概要を示す図
【図7】総形砥石を用いた従来のウェーハ面取り機によ
る加工状態の概要を示す図
【符号の説明】
10 ウェーハ 21 ウェーハテーブル 23 テーブル軸受け台 31 台形砥石 33 砥石軸受け台 41 ホルダ 42 センサ 43 制御部

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転自在なウェーハテーブルと回転自在
    な台形砥石を相対的に上下及び水平方向に移動可能に構
    成し、ウェーハの片面を前記ウェーハテーブルに真空吸
    着等で固定して、前記ウェーハテーブルと前記台形砥石
    の相対的な上下方向位置を設定した後、前記ウェーハテ
    ーブルと前記台形砥石を回転させながら前記ウェーハテ
    ーブルと前記台形砥石を相対的に近づけることによって
    ウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取り機にお
    いて、 前記ウェーハテーブルのテーブル軸受け台側に設けら
    れ、前記ウェーハテーブルからのウェーハの反り量を検
    出するセンサと前記センサの信号によって、ウェーハの
    反り量が許容値以下になるように前記台形砥石のウェー
    ハへの研削力を制御する制御部と、 を備えたことを特徴とするウェーハ面取り機。
  2. 【請求項2】 回転自在なウェーハテーブルと回転自在
    な台形砥石を相対的に上下及び水平方向に移動可能に構
    成し、ウェーハの片面を前記ウェーハテーブルに真空吸
    着等で固定して、前記ウェーハテーブルと前記台形砥石
    の相対的な上下方向位置を設定した後、前記ウェーハテ
    ーブルと前記台形砥石を回転させながら前記ウェーハテ
    ーブルと前記台形砥石を相対的に近づけることによって
    ウェーハ外周の面取り加工を行うウェーハ面取り機にお
    いて、 前記ウェーハテーブルのテーブル軸受け台側に設けら
    れ、前記ウェーハテーブルからのウェーハの反り量を検
    出する静電容量形センサと前記静電容量形センサと前記
    台形砥石の間に設けられ、前記静電容量形センサを研削
    液から保護するスクレーパと、 前記静電容量形センサの信号によって、ウェーハの反り
    量が許容値以下になるように前記ウェーハテーブルの回
    転速度を調整し前記台形砥石のウェーハへの研削力を制
    御する制御部と、 を備えたことを特徴とするウェーハ面取り機。
JP6624493U 1993-11-16 1993-11-16 ウェーハ面取り機 Pending JPH0731256U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010188443A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd 板状ワークの外周研削装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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