TW201732415A - 防塵薄膜組件 - Google Patents

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Abstract

提供一種在防塵薄膜組件框架的角部沒有疑似異物，從而提高異物檢查的精度，由此減少防塵薄膜組件製品的不合格率。使防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的角部從截面來看為大致曲線狀，特別是，防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各角部為被C倒棱的防塵薄膜組件中，防塵薄膜組件框架的內側面和該C倒棱面形成的C倒棱面所成的角部被R倒棱或C倒棱。

Description

防塵薄膜組件
本發明涉及製造半導體裝置、IC封裝體、印刷基板、液晶面板或有機EL面板等時，作為光罩幕的防塵器而使用的防塵薄膜組件。
LSI、超LSI等的半導體製造或液晶顯示板等的製造中，向半導體晶片或液晶用原版照射光進行圖案化，但在該場合使用的曝光原版(微影用罩幕)如有灰塵附著，該灰塵就會吸收光、或使光彎曲，因此轉印的圖案會變形、或邊緣不齊，還會有基底汙黒，尺寸、品質、外觀等損壞的問題。
由此，這些的作業通常在無塵室中進行，但是即使在該無塵室內，要經常保持曝光原版清淨是困難的，所以採用在曝光原版的表面貼附用於防塵且使曝光用的光良好通過的防塵薄膜組件的方法。該場合，灰塵不在曝光原版的表面上直接附著，而是在防塵薄膜上附著，所以只要在微影時將焦點對準在曝光原版的圖案上，防塵薄膜上的灰塵對轉印的圖案就沒有影響。
防塵薄膜組件的基本構成為，包括：進行了黑色耐酸鋁處理或塗佈了丙烯酸系電沈積(electrodeposition)塗裝樹脂的鋁合金製的防塵薄膜組件框；在該防塵薄膜組件框的上端面隔著丙烯酸樹脂、環氧樹脂或氟樹脂等的接著劑接著的使用於曝光的光良好透過的包含硝化纖維素、乙酸纖維素、氟系聚合物等的透明防塵薄膜；為了將防塵薄膜組件安裝在曝光原版上而塗佈在防塵薄膜組件框的下端面的包含聚丁烯樹脂、聚乙酸乙烯基樹脂、丙烯酸樹脂、矽酮樹脂等的黏著層；以及以保護該黏著層為目的而賦與至黏著層的光罩（Reticule）黏著劑保護用襯墊(例如，參照專利文獻1、2)。
另外，專利文獻3中公開了一種微影用防塵薄膜組件，其特徵在於：對防塵薄膜組件框架的防塵薄膜接著面以及曝光原版接著面和框架內外側面所成的角部進行了C倒棱，將曝光原版接著面的倒棱的尺寸設為比C0.35大且C0.55以下。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]特開昭58-219023號公報 [專利文獻2]美國專利第4861402號說明書 [專利文獻3]特開2009-251022號公報
防塵薄膜組件是以圍繞形成在罩幕基板的表面的圖案區域的方式而設置的。防塵薄膜組件是為了防止在罩幕基板上有灰塵附著而設置的，所以該圖案區域和防塵薄膜組件外部以防塵薄膜組件外部的灰塵不在圖案面上附著的方式被隔離。
近年，LSI的設計規則在向次四分之一微米(sub-quarter micron)進行微細化，伴隨此，汙染抑制對象的粒子尺寸也越來越小。由此，不僅防塵薄膜組件框架的內側面，對上下端面和內側面的境界邊緣部分或上下端面和內側面之間的C倒棱面附近的邊緣部分的粒子進行管理的必要性也越來越高了。
上述那樣的上下端面和內側面的境界邊緣部分或上下端面和內側面之間的C倒棱面附近的邊緣部分在防塵薄膜組件框架金屬加工時或框架皮膜形成時、以及防塵薄膜組件製造步驟中產生的傷痕或突起，亦有可能在防塵薄膜組件異物檢查時被看成粒子而被判定為疑似異物，所以有嚴格管理的必要。
一般來說，防塵薄膜組件框架的各邊緣部分由於其形狀而易於產生傷痕或突起。由此，通常在防塵薄膜組件框架的各內外側面和上下端面之間設置C倒棱面，該C倒棱面和各上下端面、以及和內外側面的境界部的邊緣部分雖然為鈍角，也易於產生突起或傷痕。
由此，本發明的目的為提供一種可以抑制上述那樣的存在於防塵薄膜組件框架的各面的境界部的邊緣部分的傷痕或突起的生成的防塵薄膜組件。
為了解決上述課題，本發明人進行了充分的研究，結果發現藉由使防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的邊緣從截面看為大致曲線狀，可減少防塵薄膜組件框架內側面的上下邊緣部的被看為粒子的傷痕或突起。  即，本發明為一種防塵薄膜組件，其特徵在於：防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各個的邊緣從截面看為大致曲線狀。
上述防塵薄膜組件中，優選對上述邊緣進行R倒棱。
另外，上述防塵薄膜組件中，上述防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各邊緣被C倒棱，防塵薄膜組件框架的內側面與經由該C倒棱形成的C倒棱面所成的邊緣被R倒棱或C倒棱(二次C倒棱面)，藉此也可以得到同樣的效果。
進一步，優選上述防塵薄膜組件框架的內側面與上述被二次C倒棱而形成的二次C倒棱面所成的邊緣的角度以及上述C倒棱面和上述二次C倒棱面所成的邊緣的角度比135°大。
另外，上述防塵薄膜組件框架的內側面和上述被二次C倒棱而形成的二次C倒棱面所成的邊緣以及上述C倒棱面和上述二次C倒棱面所成的邊緣也可以被進一步R倒棱或C倒棱。
而且，優選上述防塵薄膜組件框架上賦予有陽極氧化皮膜或丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜。 [發明的效果]
本發明的防塵薄膜組件可以減少在防塵薄膜組件完成時實施的防塵薄膜組件框架外觀異物檢查中，防塵薄膜組件框架內側面的上下邊緣部的被看成粒子的傷痕或突起，由此使上述檢查精度提高，因而可以進行嚴格的粒子管理。
以下，參照附圖對本發明進行詳細說明。
首先，對含有本發明的防塵薄膜組件的一般構成進行說明。圖1為表示一般的防塵薄膜組件的構成的概念截面圖。通常，防塵薄膜組件包括：防塵薄膜組件框架1；防塵薄膜2；用於將防塵薄膜組件框架1和防塵薄膜2接著的接著劑層3；用於將防塵薄膜組件安裝在光罩幕5上的黏著劑層4；在輸送、保管時用於進一步對黏著劑層4進行保護的襯墊(未圖示)。本發明的防塵薄膜組件的構成也同樣，可適用一般的防塵薄膜組件的構成。
防塵薄膜組件框架1的材料中大多使用進行了黑色耐酸鋁處理的鋁合金或塗佈了丙烯酸系電沈積塗裝樹脂的鋁合金。
另外，如圖2中擴大表示的那樣，防塵薄膜組件框架1中，內側面11或外側面12和上端面13或下端面14所成的邊緣有時被C倒棱。這是為了製成難以產生傷痕的結構而防止產生灰塵，並且提高處理功能。如圖2表示的那樣，通過上述C倒棱，防塵薄膜組件框架1上形成有在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面15、在防塵薄膜組件框架的內側面和下端面所成的邊緣上設置的C倒棱面16、在防塵薄膜組件框架的外側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面17、以及在防塵薄膜組件框架的外側面和下端面所成的邊緣上設置的C倒棱面18。另外，在圖2中，符號19表示在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面15、與防塵薄膜組件框架的內側面11所成的邊緣；符號20表示在防塵薄膜組件框架的內側面和下端面所成的邊緣上設置的C倒棱面16、與防塵薄膜組件框架的內側面11所成的邊緣。
另外，圖5為將防塵薄膜組件框架的內側面11和上端面13所成的邊緣附近擴大表示的概念截面圖。同圖中，在防塵薄膜組件框架的內側面11和上端面15所成的邊緣上設置的C倒棱面15與防塵薄膜組件框架的內側面11所成的邊緣19的角度表示135°。
在防塵薄膜2中使用了使曝光中使用的光良好透過的硝化纖維素、乙酸纖維素、氟系聚合物等。在作為次世代微影技術而期待的EUV曝光中，也正在對矽結晶膜的使用進行討論。
接著劑層3中使用了可以將防塵薄膜2良好接著在防塵薄膜組件框架1上的丙烯酸樹脂、環氧樹脂或氟樹脂等的接著劑。另外，黏著劑層4中使用了聚丁烯樹脂、聚乙酸乙烯基樹脂、丙烯酸樹脂以及矽酮樹脂等構成的黏著劑。
對一般的防塵薄膜組件的構成以及各構件中使用的材料進行了簡單說明，但是本發明並不限於在此列舉之物，可以根據需要進行設計變更。接著，於以下對本發明的特徵點進行說明。
圖3為表示申請專利範圍2的發明的一例的概念截面圖。如圖3表示的那樣，防塵薄膜組件框架的內側面11和上端面13、以及防塵薄膜組件框架的內側面11和下端面14所成的各邊緣被R倒棱，而形成有R倒棱面21、22。
進行R倒棱時，使用市售的加工機等即可，R(半徑)的值也沒有限定。但是，如考慮防塵薄膜組件框架的強度、接著劑的塗佈面積、黏著劑的塗佈面積等，則不優選R的值過大。
圖6為表示申請專利範圍3的發明的一例的概念截面圖。如圖6表示的那樣，防塵薄膜組件框架的內側面11和上端面13所成的邊緣被C倒棱，進而防塵薄膜組件框架的內側面11和該被C倒棱而形成的C倒棱面15所成的邊緣被R倒棱，其結果，形成有R倒稜面25。在此，其他的邊緣被倒棱也可，例如，防塵薄膜組件框架的上端面以及下端面和該C倒棱面所成的邊緣被二次倒棱也可。
圖4為表示申請專利範圍4的發明的一例的概念截面圖。如圖4表示的那樣，防塵薄膜組件框架的內側面11和上端面13、以及防塵薄膜組件框架的內側面11和下端面14所成的各邊緣被C倒棱，進而防塵薄膜組件框架的內側面11和該被C倒棱而形成的C倒棱面15、16所成的邊緣被二次C倒棱，其結果，形成有二次C倒棱面23、24。
圖7為針對上述被二次C倒棱而成的防塵薄膜組件，將內側面和上端面所成的邊緣附近擴大而表示的概念截面圖。如圖7表示的那樣，本發明中，邊緣26以及邊緣27的角度(分別為θ、θ’)都優選比135°大。通過使該邊緣的角度比135°大，可以更進一步減少該邊緣上產生的傷痕或突起。另外，圖7中，符號26表示在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面15及防塵薄膜組件框架的內側面11所成的邊緣上設置的二次C倒棱面23、與防塵薄膜組件框架的內側面11所成的邊緣；符號27表示在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面15及防塵薄膜組件框架的內側面11所成的邊緣上設置的二次C倒棱面23、與在防塵薄膜組件框架的內側面11與上端面13所成的邊緣上設置的C倒棱面15所成的邊緣。
另外，邊緣26以及邊緣27上也可以進一步實施R倒棱或C倒棱，對通過進行該C倒棱而產生的邊緣進一步倒棱沒有限制。如此，若進行多次C倒棱，則減少邊緣部的傷痕或突起的效果會變高，只要考慮操作性等來決定是否實施即可。
然後，在如上述那樣進行了加工的防塵薄膜組件框架上，優選賦予陽極氧化皮膜或丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜。通過使用陽極氧化皮膜或丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜覆蓋防塵薄膜組件框架表面，可以使邊緣部的傷痕或突起減少。
另外，通過使邊緣部R倒棱、或使C倒棱部的邊緣角度變大，可以防止邊緣部的陽極氧化皮膜或丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜的厚度局部變薄，從而可以形成更均勻的皮膜。 [實施例]
以下表示實施例以及比較例，對本發明進行具體說明，但是，本發明並不限定於下述實施例。
[實施例1] 作為防塵薄膜組件框架，準備框架外寸149mm×115mm×3.15mm、框架厚度2mm的鋁製框架。以成為R0.5(mm)左右的方式對該框架的上下端面和內側面所成的邊緣部進行了R倒棱加工。對上下端面和外側面所成的邊緣部進行如以往一樣的200μm的C倒棱加工。該加工後，在該框架表面形成黑色耐酸鋁皮膜，完成防塵薄膜組件框架。 將該防塵薄膜組件框架精密洗淨後，在該防塵薄膜組件框架的內側面塗佈內面黏著劑，在下端面塗佈罩幕黏著劑，在上端面塗佈防塵薄膜接著劑，進一步在上端面上貼附防塵薄膜。如此，完成100個防塵薄膜組件。 對完成的防塵薄膜組件進行防塵薄膜組件框架內側面的外觀檢查，結果沒有任何一個在防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面上觀察到被認為是傷痕或異物的矚目點。
[實施例2] 作為防塵薄膜組件框架，準備框架外寸149mm×115mm×3.15mm、框架厚度2mm的鋁製框架。在該框架的上下端面和內側面所成的邊緣部、及上下端面和外側面所成的邊緣部上，實施如以往一樣的200μm的C倒棱加工。然後，對該C倒棱面和該框架的內側面的境界邊緣部分用#600的砂紙進行打磨，由此實施R倒棱加工。該加工後，在該框架表面上形成黑色耐酸鋁皮膜，完成防塵薄膜組件框架。 在將該防塵薄膜組件框架精密洗淨後，在該防塵薄膜組件框架的內側面塗佈內面黏著劑，在下端面塗佈罩幕黏著劑，在上端面塗佈防塵薄膜接著劑，進一步在上端面上貼附防塵薄膜。如此，完成100個防塵薄膜組件。 對完成的防塵薄膜組件進行防塵薄膜組件框架內側面的外觀檢查，結果沒有任何一個在防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面上觀察到被認為是傷痕或異物的矚目點。
[實施例3] 作為防塵薄膜組件框架，準備框架外寸149mm×115mm×3.15mm、框架厚度2mm的鋁製框架。對該框架的上下端面和內側面所成的邊緣部、及上下端面和外側面所成的邊緣部實施與以往同樣的200μm的C倒棱加工。然後，對該C倒棱面和該框架的內側面的境界邊緣部分進一步實施100μm的二次C倒棱加工。此時，防塵薄膜組件框架的內側面和該二次C倒棱面所成的邊緣的角度、及該C倒棱面和該二次C倒棱面所成的邊緣的角度都為157.5°。該加工後，在該框架表面上形成丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜，完成防塵薄膜組件框架。 在將該防塵薄膜組件框架精密洗淨後，在該防塵薄膜組件框架的內側面塗佈內面黏著劑，在下端面塗佈罩幕黏著劑，在上端面塗佈防塵薄膜接著劑，進一步在上端面上貼附防塵薄膜。如此，完成100個防塵薄膜組件。 對完成的防塵薄膜組件進行防塵薄膜組件框架內側面的外觀檢查，結果沒有任何一個在防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面上觀察到被認為是傷痕或異物的矚目點。
[實施例4] 作為防塵薄膜組件框架，準備框架外寸149mm×115mm×3.15mm、框架厚度2mm的鋁製框架。對該框架的上下端面和內側面所成的邊緣部、及上下端面和外側面所成的邊緣部實施與以往同樣的200μm的C倒棱加工。然後，對該C倒棱面和該框架的內側面的境界邊緣部分進一步實施100μm的二次C倒棱加工。然後，將防塵薄膜組件框架的內側面和該二次C倒棱面所成的邊緣部、及該C倒棱面和該二次C倒棱面所成的邊緣部用#600的砂紙打磨，來實施R倒棱加工。該加工後，在該框架表面上形成丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜，完成防塵薄膜組件框架。 將該防塵薄膜組件框架精密洗淨後，在該防塵薄膜組件框架的內側面塗佈內面黏著劑，在下端面塗佈罩幕黏著劑，在上端面塗佈防塵薄膜接著劑，進一步在上端面上貼附防塵薄膜。如此，完成100個防塵薄膜組件。 對完成的防塵薄膜組件進行防塵薄膜組件框架內側面的外觀檢查，結果沒有任何一個在防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面上觀察到被認為是傷痕或異物的矚目點。
[比較例1] 作為防塵薄膜組件框架，準備框架外寸149mm×115mm×3.15mm、框架厚度2mm的鋁製框架。對該框架的上下端面和內側面所成的邊緣部、及上下端面和外側面所成的邊緣部實施與以往同樣的200μm的C倒棱加工。該加工後，在框架表面形成黑色耐酸鋁皮膜，完成防塵薄膜組件框架。 將該防塵薄膜組件框架精密洗淨後，在該防塵薄膜組件框架的內側面塗佈內面黏著劑，在下端面塗佈罩幕黏著劑，在上端面塗佈防塵薄膜接著劑，進一步在上端面上貼附防塵薄膜。如此，完成100個防塵薄膜組件。 對完成的防塵薄膜組件進行防塵薄膜組件框架內側面的外觀檢查，結果確認到12個在防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面觀察到被認為是傷痕或異物的矚目點。
[比較例2] 作為防塵薄膜組件框架，準備框架外寸149mm×115mm×3.15mm、框架厚度2mm的鋁製框架。對該框架的上下端面和內側面所成的邊緣部、及上下端面和外側面所成的邊緣部進行與以往同樣的200μm的C倒棱加工。該加工後，在該框架表面上形成丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜，完成防塵薄膜組件框架。 將該防塵薄膜組件框架精密洗淨後，在該防塵薄膜組件框架的內側面塗佈內面黏著劑，在下端面塗佈罩幕黏著劑，在上端面塗佈防塵薄膜接著劑，進一步在上端面上貼附防塵薄膜。如此，完成100個防塵薄膜組件。 對完成的防塵薄膜組件進行防塵薄膜組件框架內側面的外觀檢查，結果確認到9個在防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面上觀察到被認為是傷痕或異物的矚目點。
根據以上的結果，本發明的防塵薄膜組件在防塵薄膜組件框架外觀異物檢查中，沒有確認到防塵薄膜和防塵薄膜組件框架的境界部分或罩幕黏著劑和防塵薄膜組件框架的境界部分的內側面上的異物以及傷痕，所以可以推測被看作異物粒子的傷痕或突起減少了，由此可理解到提高了上述檢查精度，使更嚴格的粒子管理成為可能。
1‧‧‧防塵薄膜組件框架
2‧‧‧防塵薄膜
3‧‧‧接著劑層
4‧‧‧黏著劑層
5‧‧‧光罩幕
11‧‧‧防塵薄膜組件框架的內側面
12‧‧‧防塵薄膜組件框架的外側面
13‧‧‧防塵薄膜組件框架的上端面
14‧‧‧防塵薄膜組件框架的下端面
15‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面
16‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和下端面所成的邊緣設置的C倒棱面
17‧‧‧在防塵薄膜組件框架的外側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面
18‧‧‧在防塵薄膜組件框架的外側面和下端面所成的邊緣設置的C倒棱面
19‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣
20‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和下端面所成的邊緣設置的C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣
21‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的R倒稜面
22‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和下端面所成的邊緣設置的R倒稜面
23‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二次C倒棱面
24‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和下端面所成的邊緣設置的C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二次C倒棱面
25‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的R倒稜面
26‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二次C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣
27‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二次C倒棱面、和在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面所成的邊緣
θ、θ’‧‧‧角度
圖1為表示一般的防塵薄膜組件的構成的概念截面圖。 圖2為針對以往的防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各邊緣被C倒棱的防塵薄膜組件，將防塵薄膜組件框架的一部分擴大而表示的概念截面圖。 圖3為針對本發明的防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各邊緣被R倒棱的防塵薄膜組件，將防塵薄膜組件框架的一部分擴大而表示的概念截面圖。 圖4為針對本發明的防塵薄膜組件框架的內側面和C倒棱面所成的邊緣被二次C倒棱的防塵薄膜組件，將防塵薄膜組件框架的一部分擴大而表示的概念截面圖。 圖5為針對以往的防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各邊緣被C倒棱的防塵薄膜組件，將內側面和上端面所成的邊緣附近擴大而表示的概念截面圖。 圖6為針對本發明的防塵薄膜組件框架的內側面和C倒棱面所成的邊緣被R倒棱的防塵薄膜組件，將內側面和上端面所成的邊緣附近擴大而表示的概念截面圖。 圖7為針對本發明的防塵薄膜組件框架的內側面和C倒棱面所成的邊緣被二次C倒棱的防塵薄膜組件，將內側面和上端面所成的邊緣附近擴大而表示的概念截面圖。
2‧‧‧防塵薄膜
3‧‧‧接著劑層
11‧‧‧防塵薄膜組件框架的內側面
13‧‧‧防塵薄膜組件框架的上端面
15‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面
23‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二 次C倒棱面
26‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二次C倒棱面、和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣
27‧‧‧在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣設置的C倒棱面和防塵薄膜組件框架的內側面所成的邊緣設置的二次C倒棱面、和在防塵薄膜組件框架的內側面和上端面所成的邊緣上設置的C倒棱面所成的邊緣
θ、θ’‧‧‧角度

Claims (8)

  1. 一種防塵薄膜組件，其特徵在於，防塵薄膜組件框架的內側面和上端面以及下端面所成的各邊緣從截面來看為大致曲線狀。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中所述各邊緣被R倒棱。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中所述各邊緣被C倒棱，防塵薄膜組件框架的內側面和該被C倒棱而形成的C倒棱面所成的邊緣被R倒棱。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的防塵薄膜組件，其中所述各邊緣被C倒棱，防塵薄膜組件框架的內側面和該被C倒棱而形成的C倒棱面所成的邊緣被二次C倒棱。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的防塵薄膜組件，其中防塵薄膜組件框架的內側面和所述被二次C倒棱而形成的二次C倒棱面所成的邊緣的角度以及所述C倒棱面和所述二次C倒棱面所成的邊緣的角度比135°大。
  6. 如申請專利範圍第4項或第5項所述的防塵薄膜組件，其中防塵薄膜組件框架的內側面和所述被二次C倒棱而形成的二次C倒棱面所成的邊緣以及所述C倒棱面和所述二次C倒棱面所成的邊緣被R倒棱或被C倒棱。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的防塵薄膜組件，其中防塵薄膜組件框架上賦予有陽極氧化皮膜。
  8. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的防塵薄膜組件，其中防塵薄膜組件框架上賦予有丙烯酸系電沈積塗裝樹脂皮膜。
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