KR20170082990A - 펠리클 - Google Patents

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KR20170082990A
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유이치 하마다
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

(과제) 펠리클 프레임의 에지부에 있어서의 유사 이물질을 없애서, 이물질 검사의 정밀도를 높이고, 이로써 펠리클 제품의 불합격률을 줄인다.
(해결 수단) 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 에지를 단면에서 봤을 때에 대략 곡선상으로 하고, 특히 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 C 모따기된 펠리클에 있어서, 펠리클 프레임의 내측면과 그 C 모따기에 의해 형성된 C 면이 이루는 에지를 R 모따기 또는 C 모따기한다.

Description

펠리클 {PELLICLE}
본 발명은, 반도체 디바이스, IC 패키지, 프린트 기판, 액정 디스플레이 혹은 유기 EL 디스플레이 등을 제조할 때, 포토마스크의 먼지막이로서 사용되는 펠리클에 관한 것이다.
LSI, 초 LSI 등의 반도체 제조 혹은 액정 표시판 등의 제조에 있어서는, 반도체 웨이퍼 혹은 액정용 원판에 광을 조사하여 패터닝을 제조하는 것인데, 이 경우에 사용하는 노광 원판 (리소그래피용 마스크) 에 먼지가 부착되어 있으면, 이 먼지가 광을 흡수하거나, 광을 휘게 하기 때문에, 전사된 패턴이 변형되거나, 에지가 버석거리는 것이 되는 것 외에, 하지가 검게 오염되거나 하여, 치수, 품질, 외관 등이 저해된다는 문제가 있었다.
이 때문에, 이들 작업은 통상적으로 클린룸에서 실시되고 있지만, 이 클린룸 내에서도 노광 원판을 항상 청정하게 유지하기 어려우므로, 노광 원판의 표면에 먼지막이를 위한 노광용 광을 잘 통과시키는 펠리클을 첩착 (貼着) 하는 방법이 취해지고 있다. 이 경우, 먼지는 노광 원판의 표면 상에는 직접 부착되지 않고, 펠리클막 상에 부착되기 때문에, 리소그래피시에 초점을 노광 원판의 패턴 상에 맞춰 두면, 펠리클막 상의 먼지는 전사된 패턴에 영향을 주지 않는다.
펠리클의 기본적인 구성은, 흑색 알루마이트 처리나 아크릴계 전착 도장 수지를 코팅한 알루미늄 합금제의 펠리클 프레임과, 이 펠리클 프레임의 상단면에 아크릴 수지, 에폭시 수지나 불소 수지 등의 접착제를 통하여 접착되는 노광에 사용하는 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 불소계 폴리머 등으로 이루어지는 투명한 펠리클막과, 펠리클을 노광 원판에 장착시키기 위해 펠리클 프레임의 하단면에 도포되는 폴리부텐 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착층과, 이 점착층의 보호를 목적으로 하여 점착층에 부착되는 레티클 점착제 보호용 라이너를 포함하는 것이다 (예를 들어, 특허문헌 1, 2 참조).
또, 특허문헌 3 에는, 펠리클 프레임의 펠리클막 접착면 및 노광 원판 접착면과 프레임 내외측면이 이루는 모서리부에 C 모따기가 이루어져 있고, 노광 원판 접착면에 있어서의 모따기의 치수를 C0.35 보다 크고 C0.55 이하로 한 것을 특징으로 하는 리소그래피용 펠리클이 개시되어 있다.
일본 공개특허공보 소58-219023호 미국 특허 제4861402호 명세서 일본 공개특허공보 2009-251022호
펠리클은, 마스크 기판의 표면에 형성된 패턴 영역을 둘러싸도록 설치된다. 펠리클은, 마스크 기판 상에 먼지가 부착되는 것을 방지하기 위해 형성되는 것이므로, 이 패턴 영역과 펠리클 외부는 펠리클 외부의 진애가 패턴면에 부착되지 않도록 격리되어 있다.
최근, LSI 의 디자인 룰은 서브쿼터 마이크론으로 미세화가 진행되고 있고, 그것에 따라, 컨태미네이션 억제 대상인 파티클 사이즈도 계속 작아져 왔다. 그 때문에, 펠리클 프레임의 내측면은 물론이거니와, 상하단면과 내측면의 경계 에지 부분이나 상하단면과 내측면 사이의 C 면 부근의 에지 부분에 대해서도 파티클을 관리할 필요성이 점점 높아져 왔다.
상기와 같은 상하단면과 내측면의 경계 에지 부분이나 상하단면과 내측면 사이의 C 면 부근의 에지 부분은, 펠리클 프레임 금속 가공시나 프레임 피막 형성시, 및 펠리클 제조 공정 중에 발생하는 흠집이나 돌기에 대해서도, 펠리클 이물질 검사시에 파티클처럼 보여져 유사 이물질로 판정될 가능성이 있어, 엄격한 관리가 필요해졌다.
일반적으로 펠리클 프레임의 각 에지 부분은, 그 형상 때문에, 흠집이나 돌기가 생성되기 쉽다. 그 때문에, 통상적으로 펠리클 프레임의 각 내외측면과 상하단면 사이에는 C 면이 형성되어 있는데, 이 C 면과 각 상하단면 및 내외측면의 경계부의 에지 부분도 둔각이기는 하지만 돌기나 흠집이 생성되기 쉽다.
그래서, 본 발명의 목적은, 상기와 같은 펠리클 프레임의 각 면의 경계부에 있는 에지 부분에 있어서의 흠집이나 돌기의 생성을 억제할 수 있는 펠리클을 제공하는 것이다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명자들이 예의 검토한 결과, 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 에지를 단면에서 봤을 때에 대략 곡선상으로 함으로써, 펠리클 프레임 내측면의 상하 에지부의 파티클처럼 보여지는 흠집이나 돌기를 감소시킬 수 있음을 알아냈다.
즉, 본 발명은, 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 단면에서 봤을 때에 대략 곡선상인 것을 특징으로 하는 펠리클이다.
상기 펠리클에 있어서는, 상기 에지를 R 모따기하는 것이 바람직하다.
또, 상기 펠리클에 있어서, 상기 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 C 모따기되어 있고, 펠리클 프레임의 내측면과 그 C 모따기에 의해 형성된 C 면이 이루는 에지가 R 모따기 또는 C 모따기 (2 차 C 모따기) 되어 있음에 의해서도, 동일한 효과가 얻어진다.
또한, 상기 펠리클 프레임의 내측면과 상기 2 차 C 모따기되어 생긴 2 차 C 면이 이루는 에지의 각도 및 상기 C 면과 상기 2 차 C 면이 이루는 에지의 각도는 135°보다 큰 것이 바람직하다.
또, 상기 펠리클 프레임의 내측면과 상기 2 차 C 모따기되어 생긴 2 차 C 면이 이루는 에지 및 상기 C 면과 상기 2 차 C 면이 이루는 에지는, 추가로 R 모따기 또는 C 모따기되어 있어도 된다.
그리고, 상기 펠리클 프레임에는, 양극 산화 피막 또는 아크릴계 전착 도장 수지 피막이 부여되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 펠리클은, 펠리클 완성시에 실시하는 펠리클 프레임 외관 이물질 검사에 있어서, 펠리클 프레임 내측면의 상하 에지부의 파티클처럼 보여지는 흠집이나 돌기를 감소시켜, 이로써 상기 검사 정밀도를 향상시키기 때문에, 엄격한 파티클 관리를 가능하게 한다.
도 1 은 일반적인 펠리클의 구성을 나타낸 개념 단면도이다.
도 2 는 종래의 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 C 모따기된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임의 일부를 확대하여 나타낸 개념 단면도이다.
도 3 은 본 발명의 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 R 모따기된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임의 일부를 확대하여 나타낸 개념 단면도이다.
도 4 는 본 발명의 펠리클 프레임의 내측면과 C 면이 이루는 에지가 2 차 C 모따기된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임의 일부를 확대하여 나타낸 개념 단면도이다.
도 5 는 종래의 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 C 모따기된 펠리클에 대해, 내측면과 상단면이 이루는 에지 부근을 확대하여 나타낸 개념 단면도이다.
도 6 은 본 발명의 펠리클 프레임의 내측면과 C 면이 이루는 에지가 R 모따기된 펠리클에 대해, 내측면과 상단면이 이루는 에지 부근을 확대하여 나타낸 개념 단면도이다.
도 7 은 본 발명의 펠리클 프레임의 내측면과 C 면이 이루는 에지가 2 차 C 모따기된 펠리클에 대해, 내측면과 상단면이 이루는 에지 부근을 확대하여 나타낸 개념 단면도이다.
이하, 본 발명에 대해 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다.
먼저, 본 발명을 포함하는 펠리클의 일반적인 구성에 대해 설명한다. 도 1 은 일반적인 펠리클의 구성을 나타낸 개념 단면도이다. 통상적으로 펠리클은, 펠리클 프레임 (1), 펠리클막 (2), 펠리클 프레임 (1) 과 펠리클막 (2) 을 접착하기 위한 접착제층 (3), 펠리클을 포토마스크 (5) 에 장착하기 위한 점착제층 (4), 또한 수송, 보관시에 있어서는 점착제층 (4) 을 보호하기 위한 라이너 (도시 생략) 로 구성된다. 본 발명의 펠리클의 구성도 동일하며, 일반적인 펠리클의 구성을 적용할 수 있다.
펠리클 프레임 (1) 의 소재에는, 흑색 알루마이트 처리를 실시한 알루미늄 합금이나 아크릴계 전착 도장 수지를 코팅한 알루미늄 합금이 사용되는 경우가 많다.
또, 펠리클 프레임 (1) 은, 도 2 에서 확대하여 나타내는 바와 같이, 내측면 (11) 또는 외측면 (12) 과 상단면 (13) 또는 하단면 (14) 이 이루는 에지는 C 모따기되는 경우가 있다. 이것은, 흠집이 잘 발생하지 않는 구조로 하여 발진 (發塵) 을 방지하고, 또한 핸들링 성능을 높이기 위해서이다. 상기 C 모따기에 의해, 펠리클 프레임 (1) 에는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (15), 펠리클 프레임의 내측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (16), 펠리클 프레임의 외측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (17), 및 펠리클 프레임의 외측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (18) 이 형성된다. 또한, 도 2 중, 부호 (19) 는 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (15) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 이 이루는 에지, 부호 (20) 은 펠리클 프레임의 내측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (16) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 이 이루는 에지를 나타낸다.
또, 도 5 는 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 상단면 (13) 이 이루는 에지 부근을 확대하여 나타낸 개념 단면도이다. 동 도면에 있어서, 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 상단면 (13) 이 이루는 에지에 형성된 C 면 (15) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 이 이루는 에지 (19) 의 각도는 135°를 나타내고 있다.
펠리클막 (2) 에는, 노광에 사용하는 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산셀룰로오스, 불소계 폴리머 등이 사용된다. 차세대 리소그래피 기술로서 기대되고 있는 EUV 노광에서는, 실리콘 결정막의 사용도 검토되고 있다.
접착제층 (3) 에는, 펠리클 프레임 (1) 에 펠리클막 (2) 을 양호하게 접착할 수 있는 아크릴 수지, 에폭시 수지나 불소 수지 등의 접착제가 사용된다. 또, 점착제층 (4) 에는, 폴리부텐 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 아크릴 수지 및 실리콘 수지 등으로 이루어지는 점착제가 사용된다.
일반적인 펠리클의 구성 및 각 부재에 사용되는 재료에 대해 간단하게 설명하였지만, 본 발명에서는, 여기서 예시된 것에 한정되지 않고, 필요에 따라 설계 변경을 실시할 수 있다. 다음으로, 본 발명의 특징점에 대해 이하에 설명한다.
도 3 은 청구항 2 에 관련된 발명의 일례를 나타낸 개념 단면도이다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 상단면 (13) 및, 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 하단면 (14) 이 이루는 각 에지는, R 모따기되어 있어, R 면 (21, 22) 이 형성되어 있다.
R 모따기를 실시할 때에는, 시판되고 있는 가공기 등을 사용하면 되며, R (반경) 의 값도 한정되지 않는다. 그러나, 펠리클 프레임의 강도, 접착제의 도포 면적, 점착제의 도포 면적 등을 고려하면, R 의 값이 지나치게 큰 것은 바람직하지 않다.
도 6 은 청구항 3 에 관련된 발명의 일례를 나타낸 개념 단면도이다. 도 6 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 상단면 (13) 이 이루는 에지가 C 모따기되어 있고, 또한 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 그 C 모따기되어 생긴 C 면 (15) 이 이루는 에지가 R 모따기되어 있고, 그 결과, R 면 (25) 이 형성되어 있다. 여기서는, 그 밖의 에지가 모따기되어 있어도 되며, 예를 들어, 펠리클 프레임의 상단면 및 하단면과 그 C 면이 이루는 에지가 2 차 모따기되어 있어도 된다.
도 4 는 청구항 4 에 관련된 발명의 일례를 나타낸 개념 단면도이다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 상단면 (13) 및, 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 하단면 (14) 이 이루는 각 에지가 C 모따기되어 있고, 또한 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 그 C 모따기되어 생긴 C 면 (15, 16) 이 이루는 에지가 2 차 C 모따기되어 있고, 그 결과, 2 차 C 면 (23, 24) 이 형성되어 있다.
도 7 은 상기 2 차 C 모따기된 펠리클에 대해, 내측면과 상단면이 이루는 에지 부근을 확대하여 나타낸 개념 단면도이다. 도 7 에 나타내는 바와 같이, 본 발명에 있어서는, 에지 (26) 및 에지 (27) 의 각도 (각각 θ, θ') 는, 모두 135°보다 큰 것이 바람직하다. 그 에지의 각도를 135°보다 크게 함으로써, 그 에지에 발생하는 흠집이나 돌기를 보다 더 감소시킬 수 있다. 또한, 도 7 중, 부호 (26) 은 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (15) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 이 이루는 에지에 형성된 2 차 C 면 (23) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 이 이루는 에지, 부호 (27) 은 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면 (15) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 이 이루는 에지에 형성된 2 차 C 면 (23) 과 펠리클 프레임의 내측면 (11) 과 상단면 (13) 이 이루는 에지에 형성된 C 면 (15) 이 이루는 에지를 나타낸다.
또, 에지 (26) 및 에지 (27) 에는, 추가로 R 모따기 또는 C 모따기를 실시해도 되고, 그 C 모따기를 실시함으로써 생성되는 에지를 추가로 모따기하는 것에 제한은 없다. 이와 같이, C 모따기를 복수 회 실시하면, 에지부의 흠집이나 돌기를 감소시키는 효과가 높아지지만, 작업성 등을 고려하여 실시의 유무를 결정하면 된다.
그리고, 상기와 같이 가공된 펠리클 프레임에는, 양극 산화 피막 또는 아크릴계 전착 도장 수지 피막이 부여되는 것이 바람직하다. 펠리클 프레임 표면을 양극 산화 피막 또는 아크릴계 전착 도장 수지 피막으로 덮음으로써, 에지부의 흠집이나 돌기를 줄일 수 있다.
또, 에지부가 R 모따기되거나, C 모따기부의 에지 각도를 크게 함으로써, 에지부의 양극 산화 피막 또는 아크릴계 전착 도장 수지 피막의 두께가 국소적으로 얇아지는 것을 방지할 수 있어, 보다 균일한 피막을 형성하는 것이 가능해진다.
실시예
이하에 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
펠리클 프레임으로서, 프레임 외측 치수 149 ㎜ × 115 ㎜ × 3.15 ㎜, 프레임 두께 2 ㎜ 의 알루미늄제 프레임을 준비하였다. 이 프레임의 상하단면과 내측면이 이루는 에지부를 R0.5 (㎜) 정도가 되도록 R 모따기 가공을 실시하였다. 상하단면과 외측면이 이루는 에지부는, 종래와 같은 200 ㎛ 의 C 모따기 가공을 실시하였다. 그 가공 후, 그 프레임 표면에 흑색 알루마이트 피막을 형성하여, 펠리클 프레임을 완성시켰다.
이 펠리클 프레임을 정밀 세정한 후, 그 펠리클 프레임의 내측면에 내면 점착제를, 하단면에 마스크 점착제를, 상단면에 펠리클막 접착제를 도포하고, 추가로 상단면에는 펠리클막을 첩부 (貼付) 하였다. 이와 같이 하여, 100 개의 펠리클을 완성시켰다.
완성된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임 내측면의 외관 검사를 실시한 결과, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 흠집이나 이물질로 생각되는 반짝거림이 관찰된 것은 하나도 없었다.
[실시예 2]
펠리클 프레임으로서, 프레임 외측 치수 149 ㎜ × 115 ㎜ × 3.15 ㎜, 프레임 두께 2 ㎜ 의 알루미늄제 프레임을 준비하였다. 이 프레임의 상하단면과 내측면이 이루는 에지부와, 상하단면과 외측면이 이루는 에지부에는, 종래와 같은 200 ㎛ 의 C 모따기 가공을 실시하였다. 그리고, 이 C 면과 그 프레임의 내측면의 경계 에지 부분을 ＃600 의 샌드 페이퍼로 문질러 닦음으로써 R 모따기 가공을 실시하였다. 그 가공 후, 그 프레임 표면에 흑색 알루마이트 피막을 형성하여, 펠리클 프레임을 완성시켰다.
이 펠리클 프레임을 정밀 세정한 후, 그 펠리클 프레임의 내측면에 내면 점착제를, 하단면에 마스크 점착제를, 상단면에 펠리클막 접착제를 도포하고, 추가로 상단면에는 펠리클막을 첩부하였다. 이와 같이 하여, 100 개의 펠리클을 완성시켰다.
완성된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임 내측면의 외관 검사를 실시한 결과, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 흠집이나 이물질로 생각되는 반짝거림이 관찰된 것은 하나도 없었다.
[실시예 3]
펠리클 프레임으로서, 프레임 외측 치수 149 ㎜ × 115 ㎜ × 3.15 ㎜, 프레임 두께 2 ㎜ 의 알루미늄제 프레임을 준비하였다. 이 프레임의 상하단면과 내측면이 이루는 에지부와, 상하단면과 외측면이 이루는 에지부에는, 종래와 같은 200 ㎛ 의 C 모따기 가공을 실시하였다. 그리고, 이 C 면과 그 프레임의 내측면의 경계 에지 부분에는, 추가로 100 ㎛ 의 2 차 C 모따기 가공을 실시하였다. 이 때, 펠리클 프레임의 내측면과 그 2 차 C 면이 이루는 에지의 각도와, 그 C 면과 그 2 차 C 면이 이루는 에지의 각도는, 모두 157.5°였다. 그 가공 후, 그 프레임 표면에 아크릴계 전착 도장 수지 피막을 형성하여, 펠리클 프레임을 완성시켰다.
이 펠리클 프레임을 정밀 세정한 후, 그 펠리클 프레임의 내측면에 내면 점착제를, 하단면에 마스크 점착제를, 상단면에 펠리클막 접착제를 도포하고, 추가로 상단면에는 펠리클막을 첩부하였다. 이와 같이 하여, 100 개의 펠리클을 완성시켰다.
완성된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임 내측면의 외관 검사를 실시한 결과, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 흠집이나 이물질로 생각되는 반짝거림이 관찰된 것은 하나도 없었다.
[실시예 4]
펠리클 프레임으로서, 프레임 외측 치수 149 ㎜ × 115 ㎜ × 3.15 ㎜, 프레임 두께 2 ㎜ 의 알루미늄제 프레임을 준비하였다. 이 프레임의 상하단면과 내측면이 이루는 에지부와, 상하단면과 외측면이 이루는 에지부에는, 종래와 같은 200 ㎛ 의 C 모따기 가공을 실시하였다. 그리고, 이 C 면과 그 프레임의 내측면의 경계 에지 부분에는, 추가로 100 ㎛ 의 2 차 C 모따기 가공을 실시하였다. 그리고, 펠리클 프레임의 내측면과 그 2 차 C 면이 이루는 에지부와, 그 C 면과 그 2 차 C 면이 이루는 에지부를 ＃600 의 샌드 페이퍼로 문질러 닦아, R 모따기 가공을 실시하였다. 그 가공 후, 그 프레임 표면에 아크릴계 전착 도장 수지 피막을 형성하여, 펠리클 프레임을 완성시켰다.
이 펠리클 프레임을 정밀 세정한 후, 그 펠리클 프레임의 내측면에 내면 점착제를, 하단면에 마스크 점착제를, 상단면에 펠리클막 접착제를 도포하고, 추가로 상단면에는 펠리클막을 첩부하였다. 이와 같이 하여, 100 개의 펠리클을 완성시켰다.
완성된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임 내측면의 외관 검사를 실시한 결과, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 흠집이나 이물질로 생각되는 반짝거림이 관찰된 것은 하나도 없었다.
[비교예 1]
펠리클 프레임으로서, 프레임 외측 치수 149 ㎜ × 115 ㎜ × 3.15 ㎜, 프레임 두께 2 ㎜ 의 알루미늄제 프레임을 준비하였다. 이 프레임의 상하단면과 내측면이 이루는 에지부와, 상하단면과 외측면이 이루는 에지부에는, 종래와 같은 200 ㎛ 의 C 모따기 가공을 실시하였다. 그 가공 후, 프레임 표면에 흑색 알루마이트 피막을 형성하여, 펠리클 프레임을 완성시켰다.
이 펠리클 프레임을 정밀 세정한 후, 그 펠리클 프레임의 내측면에 내면 점착제를, 하단면에 마스크 점착제를, 상단면에 펠리클막 접착제를 도포하고, 추가로 상단면에는 펠리클막을 첩부하였다. 이와 같이 하여, 100 개의 펠리클을 완성시켰다.
완성된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임 내측면의 외관 검사를 실시한 결과, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 흠집이나 이물질로 생각되는 반짝거림이 관찰된 것이 12 개 확인되었다.
[비교예 2]
펠리클 프레임으로서, 프레임 외측 치수 149 ㎜ × 115 ㎜ × 3.15 ㎜, 프레임 두께 2 ㎜ 의 알루미늄제 프레임을 준비하였다. 이 프레임의 상하단면과 내측면이 이루는 에지부와, 상하단면과 외측면이 이루는 에지부에는, 종래와 같은 200 ㎛ 의 C 모따기 가공을 실시하였다. 그 가공 후, 그 프레임 표면에 아크릴계 전착 도장 수지 피막을 형성하여, 펠리클 프레임을 완성시켰다.
이 펠리클 프레임을 정밀 세정한 후, 그 펠리클 프레임의 내측면에 내면 점착제를, 하단면에 마스크 점착제를, 상단면에 펠리클막 접착제를 도포하고, 추가로 상단면에는 펠리클막을 첩부하였다. 이와 같이 하여, 100 개의 펠리클을 완성시켰다.
완성된 펠리클에 대해, 펠리클 프레임 내측면의 외관 검사를 실시한 결과, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 흠집이나 이물질로 생각되는 반짝거림이 관찰된 것이 9 개 확인되었다.
이상의 결과로부터, 본 발명의 펠리클은, 펠리클 프레임 외관 이물질 검사에 있어서, 펠리클막과 펠리클 프레임의 경계 부분이나 마스크 점착제와 펠리클 프레임의 경계 부분의 내측면에 있어서의 이물질 및 흠집이 확인되지 않았으므로, 이물질 파티클처럼 보여지는 흠집이나 돌기도 감소시켰다고 추측할 수 있으며, 이로써 상기 검사 정밀도를 향상시켜, 보다 엄격한 파티클 관리를 가능하게 하는 것을 이해할 수 있다.
(1) : 펠리클 프레임
(2) : 펠리클막
(3) : 접착제층
(4) : 점착제층
(5) : 포토마스크
(11) : 펠리클 프레임의 내측면
(12) : 펠리클 프레임의 외측면
(13) : 펠리클 프레임의 상단면
(14) : 펠리클 프레임의 하단면
(15) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면
(16) : 펠리클 프레임의 내측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면
(17) : 펠리클 프레임의 외측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면
(18) : 펠리클 프레임의 외측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면
(19) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지
(20) : 펠리클 프레임의 내측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지
(21) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 R 면
(22) : 펠리클 프레임의 내측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 R 면
(23) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지에 형성된 2 차 C 면
(24) : 펠리클 프레임의 내측면과 하단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지에 형성된 2 차 C 면
(25) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지에 형성된 R 면
(26) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지에 형성된 2 차 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지
(27) : 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면과 펠리클 프레임의 내측면이 이루는 에지에 형성된 2 차 C 면과 펠리클 프레임의 내측면과 상단면이 이루는 에지에 형성된 C 면이 이루는 에지

Claims (8)

  1. 펠리클 프레임의 내측면과 상단면 및 하단면이 이루는 각각의 에지가 단면에서 봤을 때에 대략 곡선상인 것을 특징으로 하는 펠리클.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 각각의 에지가 R 모따기되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 각각의 에지가 C 모따기되어 있고, 펠리클 프레임의 내측면과 그 C 모따기되어 생긴 C 면이 이루는 에지가, R 모따기되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 각각의 에지가 C 모따기되어 있고, 펠리클 프레임의 내측면과 그 C 모따기되어 생긴 C 면이 이루는 에지가, 2 차 C 모따기되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
  5. 제 4 항에 있어서,
    펠리클 프레임의 내측면과 상기 2 차 C 모따기되어 생긴 2 차 C 면이 이루는 에지의 각도 및 상기 C 면과 상기 2 차 C 면이 이루는 에지의 각도가, 135°보다 큰 것을 특징으로 하는 펠리클.
  6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
    펠리클 프레임의 내측면과 상기 2 차 C 모따기되어 생긴 2 차 C 면이 이루는 에지 및 상기 C 면과 상기 2 차 C 면이 이루는 에지가, R 모따기 또는 C 모따기되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    펠리클 프레임에 양극 산화 피막이 부여되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.
  8. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    펠리클 프레임에 아크릴계 전착 도장 수지 피막이 부여되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클.

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