TW201307881A - 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種聚酯基材與硬塗層之密接性優異並可高度地抑制於液晶顯示裝置之顯示影像中產生虹不均及干涉條紋之情況的光學積層體。本發明之光學積層體係於聚酯基材上形成有底塗層且於上述底塗層上形成有硬塗層所成者，上述聚酯基材具有8000nm以上之延遲，且作為折射率較大之方向的遲相軸方向之折射率（nx）與和上述遲相軸方向正交之方向的進相軸方向之折射率（ny）之差（nx－ny）為0.07~0.20，上述底塗層之折射率（np）、上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率（nx）及進相軸方向之折射率（ny）具有ny＜np＜nx之關係，上述硬塗層之折射率（nh）、上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率（nx）及進相軸方向之折射率（ny）具有ny＜nh＜nx之關係。

Description

光學積層體、偏光板及影像顯示裝置
本發明係關於一種光學積層體、偏光板及影像顯示裝置。
液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(OELD或IELD)、場發射顯示器(FED)、觸控面板、電子紙等影像顯示裝置係於影像顯示面板之顯示畫面側配置有偏光片，進而於最表面設置有具有抗反射性、硬塗性等功能之光學積層體。
先前，使用由以三乙酸纖維素為代表之纖維素酯所構成之膜作為此種光學積層體之透光性基材。其係基於如下優點：纖維素酯由於延遲值較低，故而對影像顯示裝置之顯示品質之影響較小；或由於具有適度之透水性，故而可使於製造使用光學積層體而成之偏光板時殘留於偏光片上之水分通過光學積層體而乾燥等。又，纖維素酯膜就相對廉價之方面而言亦較有利。
然而，纖維素酯膜之耐濕熱性較差，若於高溫多濕之環境下使用硬塗膜作為偏光板保護膜，則有使偏光功能或色相等偏光板功能下降之缺點。
由於上述纖維素酯膜之問題，故業界期待將可於市場上容易獲得或可藉由簡易之方法製造的通用性膜用作光學積層體之基材，例如正嘗試利用聚對苯二甲酸乙二酯等之 聚酯膜作為纖維素酯替代膜(例如參照專利文獻1)。
[專利文獻1]日本特開2004-205773號公報
然而，根據本發明者等人之研究，得知：於將使用對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯膜作為纖維素酯膜替代膜聚之光學積層體配置於偏光元件上之情形時，尤其是於自斜向觀察顯示畫面時，有於液晶顯示裝置中產生顏色不同之斑點(以下，亦稱為「虹不均」)而損害液晶顯示裝置的顯示品質之問題。
對於使用上述聚酯膜之情形時之問題進行進一步研究，結果發現：藉由使用具有某種程度之較高之延遲值的聚酯膜作為光學積層體之透光性基材，與先前之使用具備由聚酯膜所構成之透光性基材的光學積層體之情形相比，可改善虹不均之問題。
然而，得知：於將此種具有某種程度之較高之延遲值的聚酯膜用作透光性基材之情形時，為了保證與硬塗層之密接性而需要底塗層，但於此種構成之光學積層體中，干涉條紋之產生成為問題且明顯損害影像顯示裝置之顯示品質。
鑒於上述現狀，本發明之目的在於提供一種聚酯基材與硬塗層之密接性優異並可高度地抑制於液晶顯示裝置之顯示影像中產生虹不均及干涉條紋之情況的光學積層體，使用該光學積層體之偏光板及影像顯示裝置。
第一本發明係一種光學積層體，係於聚酯基材上形成有底塗層並於上述底塗層上形成有硬塗層所成者，上述聚酯基材具有8000 nm以上之延遲(retardation)，且作為折射率較大之方向的遲相軸方向之折射率(nx)與和上述遲相軸方向正交之方向的進相軸方向之折射率(ny)之差(nx-ny)為0.07~0.20，上述底塗層之折射率(np)、上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<np<nx之關係，上述硬塗層之折射率(nh)、上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<nh<nx之關係。
又，第二本發明亦為一種光學積層體，其係於聚酯基材上形成有底塗層並於上述底塗層上形成有硬塗層者，其特徵在於：上述聚酯基材具有8000 nm以上之延遲，且作為折射率較大之方向的遲相軸方向之折射率(nx)與作為與上述遲相軸方向正交之方向的進相軸方向之折射率(ny)之差(nx-ny)為0.07~0.20，上述底塗層之厚度為3~30 nm，上述硬塗層之折射率(nh)、上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<nh<nx之關係。
於第二本發明之光學積層體中，上述聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)與底塗層之折射率(np)較佳為具有ny>np之關係，上述聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)與底塗層之折射率(np)之差(ny-np)較佳為0.05以下，且上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)與上 述硬塗層之折射率(nh)之差(nx-nh)、及上述硬塗層之折射率(nh)與上述聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)之差(nh-ny)較佳為均為0.025以上。
又，於上述第一光學積層體及第二本發明之光學積層體中，較佳為於上述聚酯基材之雙面上形成有上述底塗層及硬塗層。
又，本發明亦為一種偏光板，係具備偏光元件而成者，於上述偏光元件之表面具備第一本發明之光學積層體或第二本發明之光學積層體。
又，本發明亦為一種影像顯示裝置，其具備第一本發明之光學積層體或第二本發明之光學積層體、或者本發明之偏光板。
又，本發明亦為一種觸控面板，係使用第一本發明之光學積層體或第二本發明之光學積層體而成者，於上述光學積層體硬塗層的與底塗層側相反側之表面上設置有不可見電極；且於在上述聚酯基材之雙面上形成有底塗層及硬塗層之情形時，於上述光學積層體至少一者之硬塗層的與底塗層側相反側之表面上設置有不可見電極。
以下，詳細地說明本發明。
再者，於本發明中，只要無特別記載，則亦將單體、低聚物、預聚物等硬化性樹脂前驅物記載為“樹脂”。
又，本發明所記載之底塗層、硬塗層之折射率及膜厚均為製成硬化膜之情形時的折射率及膜厚。
本發明者等人鑒於上述先前之問題而進行潛心研究， 結果發現：於使用聚酯基材並於該聚酯基材與硬塗層之間設置有底塗層之光學積層體中，藉由將聚酯基材設為具有特定延遲值者，可抑制顯示影像之虹不均之產生，進而，基於以下之見解，亦可抑制干涉條紋之產生，從而完成第一本發明之光學積層體及第二本發明之光學積層體。
即，發現於將聚酯基材、底塗層及硬塗層積層而成之光學積層體中存在如下干涉條紋：藉由聚酯基材及底塗層之界面之反射光與底塗層及硬塗層之界面之反射光的干涉而產生之干涉條紋、藉由底塗層及硬塗層之界面之反射光與硬塗層表面之反射光的干涉而產生之干涉條紋、以及藉由聚酯基材及底塗層之界面之反射光與於硬塗層表面之反射光的干涉而產生之干涉條紋。
又，干涉條紋係於聚酯基材、底塗層及硬塗層中存在折射率差之情形時產生，進而，原因雖不明確，但認為係於底塗層存在厚度不均之情形時亦對干涉條紋之產生造成影響。
因此，本發明者等人發現：藉由極高度地控制底塗層及硬塗層之折射率，可實際上消除該底塗層、聚酯基材及硬塗層之折射率之差，並可充分地抑制上述干涉條紋之產生，從而完成第一本發明之光學積層體。
又，通常，底塗層係藉由塗佈含有特定材料之底塗層用組成物而形成，於技術上難以使該底塗層用組成物之塗佈量均勻化。因此，無法避免底塗層用組成物之塗佈量產生一定程度之偏差，且無法完全消除所形成之底塗層之厚 度不均。因此，本發明者等人進一步進行潛心研究，結果發現：藉由使所形成之底塗層之厚度成為極薄者，可製成其厚度不均亦極小者，且不會產生一般認為是由底塗層之厚度不均所引起的人眼可辨識之干涉條紋，進而，極高度地控制硬塗層之折射率而於實際上消除聚酯基材與硬塗層之折射率差，藉此上述干涉條紋不會成為問題，從而完成第二本發明之光學積層體。
再者，於以下之說明中，對於第一本發明之光學積層體與第二本發明之光學積層體中共通的部分，將兩者匯總並作為本發明之光學積層體而進行說明。
圖1係示意性地表示本發明之光學積層體的一例之剖面圖。
如圖1所示，本發明之光學積層體10係於聚酯基材11上形成有底塗層12並於底塗層12上形成有硬塗層13。
於此種構成之本發明之光學積層體中，上述聚酯基材具有8000 nm以上之延遲。若延遲未達8000 nm，則於使用本發明之光學積層體而成的液晶顯示裝置之顯示影像中產生虹不均。另一方面，作為上述聚酯基材之延遲之上限，並無特別限定，較佳為3萬nm左右。若超過3萬nm，則無法觀察到進一步之顯示影像的虹不均改善效果之提高，且膜厚變得相當厚，故而欠佳。
就虹不均防止性及薄膜化之觀點而言，上述聚酯基材之延遲較佳為1萬~2萬nm。
再者，所謂上述延遲，係指藉由於聚酯基材之面內折 射率最大之方向(遲相軸方向)之折射率(nx)、與遲相軸方向正交的方向(進相軸方向)之折射率(ny)及聚酯基材之厚度(d)，並根據以下之式表示者。
延遲(R θ)=(nx-ny)×d
又，上述延遲例如可藉由王子測量器製造之KOBRA-WR而測定(測定角0°，測定波長548.2 nm)。
又，使用兩塊偏光板求出聚酯基材之配向軸方向(主軸之方向)，並藉由阿貝折射率計(Atago公司製造之NAR-4T)求出與配向軸方向正交之兩個軸的折射率(nx、ny)。此處，將顯示更大折射率之軸定義為遲相軸。聚酯基材厚度d(nm)係使用電子測微計(日本安立公司製造)而測定，並將單位換算成nm。亦可藉由折射率差(nx-ny)與膜之厚度d(nm)之積而計算延遲。
再者，關於折射率，使用分光光度計(島津製作所公司製造之UV-3100PC)測定波長380~780 nm之平均反射率(R)，並使用以下之式自所獲得之平均反射率(R)求出折射率(n)之值。
底塗層及硬塗層之平均反射率(R)係於未進行易接著處理之50 μm的PET上塗佈各自之原料組成物而製成1~3 μm之厚度之硬化膜，為了防止背面反射，將大於測定光點面積之寬度的黑聚氯乙烯絕緣帶(例如Yamato聚氯乙烯絕緣帶NO200-38-21，38 mm寬)貼於PET之未經塗佈之面(背面)上，其後測定各塗膜之平均反射率。聚酯基材之折射率係以相同方式將黑聚氯乙烯絕緣帶貼於與測 定面相反之面上後進行測定。
R(%)=(1-n)2/(1+n)2
又，作為於成為光學積層體後測定底塗層或硬塗層之折射率之方法，可利用如下方法：使用切割器等切取各層之硬化膜而製作粉末狀態之樣品，且依據JIS K7142(2008)B法(粉體或粒狀之透明材料用)之貝克法(Baker method)(使用已知折射率之嘉吉(Cargill)試劑，將上述粉末狀態之樣品置於載玻片等上，向該樣品上滴加試劑而將樣品浸漬於試劑中；藉由顯微鏡觀察觀察其狀態，將無法目測觀察到貝克線、即因樣品與試劑之折射率不同而於樣品輪廓上產生之亮線的試劑之折射率設為樣品的折射率之方法)。
於為聚酯基材之情形時，較佳為不使用貝克法，藉由將述黑聚氯乙烯絕緣帶貼於底塗層或硬塗層之處理面上而測定平均反射率並求出。
再者，於本發明中，上述nx-ny(以下，亦記載為△n)為0.07~0.20。若上述△n未達0.07，則無法獲得充分之虹不均之抑制效果，又，為了獲得上述延遲值所必需之膜厚變厚。另一方面，若上述△n超過0.20，則作為聚酯基材，易於產生開裂、破裂等，作為工業材料之實用性明顯下降。
上述△n之較佳之下限為0.08，較佳之上限為0.15。再者，若上述△n超過0.15，則存在耐濕熱性試驗中之聚酯基材的耐久性較差之情形。就耐濕熱性試驗中之耐久性優異之方面而言，上述△n之更佳之上限為0.12。
再者，作為上述(nx)，較佳為1.67~1.78，更佳之下 限為1.69，更佳之上限為1.73。又，作為上述(ny)，較佳為1.55~1.65，更佳之下限為1.57，更佳之上限為1.62。
藉由上述nx及ny於上述範圍內，且滿足上述△n之關係，可獲得較佳之虹不均之抑制效果。
作為構成上述聚酯基材之材料，只要為充分滿足上述延遲者，則並無特別限定，係由芳香族二元酸或其酯形成性衍生物與二醇或其酯形成性衍生物所合成之線性飽和聚酯。作為該聚酯之具體例，可例示：聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚(對苯二甲酸-1,4-環亞己基二甲酯)、聚2,6-萘二甲酸乙二酯。
又，聚酯基材所使用之聚酯可為該等上述聚酯之共聚物，亦可為以上述聚酯作為主體(例如80莫耳%以上之成分)並與較小比例(例如20莫耳%以下)之其他種類的樹脂摻合而成者。作為聚酯，就力學物性及光學物性等之平衡較佳之方面而言，尤佳為聚對苯二甲酸乙二酯或聚2,6-萘二甲酸乙二酯。尤佳為由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)所構成。其原因在於：聚對苯二甲酸乙二酯之通用性較高且容易獲取。於本發明中，即便為如PET之通用性極高之膜，亦可獲得可製作顯示品質較高之液晶顯示裝置之光學積層體。進而，關於PET，透明性、熱或機械特性優異，可藉由拉伸加工而控制延遲，固有雙折射較大，且即便膜厚較薄，亦可相對容易地獲得較大之延遲。
作為獲得上述聚酯基材之方法，只要為充分滿足上述延遲之方法，則並無特別限定，例如可列舉：於玻璃轉移 溫度以上之溫度下使用拉幅機等對將材料之上述PET等聚酯熔融並擠出為片狀而成形之未拉伸聚酯進行橫向拉伸後，實施熱處理之方法。
作為上述橫向拉伸溫度，較佳為80~130℃，更佳為90~120℃。又，橫向拉伸倍率較佳為2.5~6.0倍，更佳為3.0~5.5倍。若上述橫向拉伸倍率超過6.0倍，則所獲得之聚酯基材之透明性容易下降，若橫向拉伸倍率未達2.5倍，則存在由於拉伸張力亦變小而導致所獲得之聚酯基材之雙折射減小，無法使延遲為8000 nm以上之情形。
又，於本發明中，亦可使用雙軸拉伸試驗裝置於上述條件下進行上述未拉伸聚酯之橫向拉伸，其後進行相對於該橫向拉伸之縱向之拉伸(以下，亦稱為縱向拉伸)。於該情形時，關於上述縱向拉伸，拉伸倍率較佳為2倍以下。若上述縱向拉伸之拉伸倍率超過2倍，則存在無法將△n之值設為上述較佳之範圍之情形。
又，作為上述熱處理時之處理溫度，較佳為100~250℃，更佳為180~245℃。
作為將藉由上述方法所製作之聚酯基材之延遲控制於8000 nm以上之方法，可列舉適當地設定拉伸倍率或拉伸溫度、所製作之聚酯基材的膜厚之方法。具體而言，例如拉伸倍率越高，拉伸溫度越低，且膜厚越厚，則越容易獲得較高之延遲，拉伸倍率越低，拉伸溫度越高，且膜厚越薄，則越容易獲得較低之延遲。
作為上述聚酯基材之厚度，較佳為40~500 μm之範 圍內。若未達40 μm，則存在如下情形：無法將上述聚酯基材之延遲設為8000 nm以上，且力學特性之向異性變得明顯，容易產生開裂、破裂等，作為工業材料之實用性明顯下降。另一方面，若超過500 μm，則聚酯基材非常剛直，高分子膜所特有之柔軟度下降，作為工業材料之實用性亦下降，故而欠佳。上述聚酯基材之厚度的更佳之下限為50 μm，更佳之上限為400 μm，進而更佳之上限為300 μm。
又，上述聚酯基材係可見光區域之穿透率較佳為80%以上，更佳為84%以上。再者，上述穿透率可藉由JIS K7361-1(塑膠-透明材料之總透光率之試驗方法)而測定。
又，於本發明中，亦可於不脫離本發明之主旨之範圍內對上述聚酯基材進行皂化處理、輝光放電處理、電暈放電處理、紫外線(UV，Ultra Violet)處理、及火焰處理等表面處理。
於本發明之光學積層體中，於聚酯基材上具有底塗層。
上述底塗層係以聚酯基材與硬塗層之密接性提昇作為第一目的而設置之層。
於第一本發明之光學積層體中，上述底塗層之折射率(np)、上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<np<nx之關係。藉由具有此種折射率之關係，可減小該底塗層與聚酯基材之折射率差，可抑制於第一本發明之光學積層體中產生干涉條紋。
如上所述，上述底塗層之折射率(np)係於上述聚酯 基材之進相軸方向的折射率(ny)之最小折射率(1.55)至上述聚酯基材之遲相軸方向的折射率(nx)之最大折射率(1.78)之間，尤其適於防止產生干涉條紋之折射率範圍為1.57~1.65。
進而，於第一本發明之光學積層體中，如下所述般硬塗層之折射率(nh)相對於上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)而具有特定之關係，藉此進一步減小底塗層之折射率對干涉條紋防止性能造成之影響。
具體而言，上述硬塗層之折射率(nh)係於上述聚酯基材之進相軸方向的折射率(ny)之最小折射率(1.55)至上述聚酯基材之遲相軸方向的折射率(nx)之最大折射率(1.78)之間，尤其適於防止產生干涉條紋之折射率範圍為1.57~1.65，進而較佳之下限為1.62。
於第一本發明之光學積層體中，作為上述底塗層之材料，只要為滿足上述折射率之條件者，則並無特別限定，例如可適當選擇先前公知者而使用，例如可列舉：熱硬化性或熱塑性之聚酯樹脂、胺基甲酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂、及該等之改質體等。又，為了調整底塗層之折射率，可添加高折射率微粒子、螯合化合物等。
作為上述聚酯樹脂，例如可使用由下述多元酸成分及二醇成分所獲得之聚酯。
作為上述多元酸成分，例如可例示：對苯二甲酸、間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、鄰苯二甲酸酐、2,6-萘二甲酸、1,4- 環己烷二甲酸、己二酸、癸二酸、偏苯三甲酸、均苯四甲酸、二聚物酸、間苯二甲酸-5-磺酸鈉(monosodium-5-sulfoisophthalate)。
又，作為上述二醇成分，例如可例示：乙二醇、1,4-丁二醇、二乙二醇、二丙二醇、1,6-己二醇、1,4-環己烷二甲醇、己二醇、二甲苯二醇、二羥甲基丙烷等、或聚(環氧乙烷)二醇(poly(ethyleneoxide)glycol)、聚(環氧丁烷)二醇(poly(tetramethyleneoxide)glycol)。
又，作為上述丙烯酸系樹脂，例如可列舉藉由使以下所例示之單體共聚合而獲得者。
作為上述單體，例如為如下者：丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯(作為烷基，為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、2-乙基己基、環己基等)；丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、丙烯酸2-羥丙酯、甲基丙烯酸2-羥丙酯等含羥基之單體；丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚等含環氧基之單體；丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸、苯乙烯磺酸及其鹽(鈉鹽、鉀鹽、銨鹽、三級胺鹽等)等含羧基或其鹽之單體；丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-烷基丙烯醯胺、N-烷基甲基丙烯醯胺、N,N-二烷基丙烯醯胺、甲基丙烯酸N,N-二烷基酯(作為烷基，為甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、2-乙基己基、環己基等)；N-烷氧基丙烯醯胺、N-烷氧基甲基丙烯醯胺、N,N-二烷氧基丙烯醯胺、N,N-二 烷氧基甲基丙烯醯胺(作為烷氧基，為甲氧基、乙氧基、丁氧基、異丁氧基等)；丙烯醯啉、N-羥甲基丙烯醯胺、N-羥甲基甲基丙烯醯胺、N-苯基丙烯醯胺、N-苯基甲基丙烯醯胺等具有醯胺基之單體；順丁烯二酸酐、衣康酸酐等酸酐之單體；2-乙烯基-2-噁唑啉、2-乙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-乙烯基-5-甲基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-4-甲基-2-噁唑啉、2-異丙烯基-5-甲基-2-噁唑啉等含噁唑啉基之單體；甲氧基二乙二醇甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯(methoxy polyethylene glycol methacrylate)、異氰酸乙烯酯、異氰酸烯丙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、乙烯基三烷氧基矽烷、順丁烯二酸單烷基酯、反丁烯二酸單烷基酯、衣康酸單烷基酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、偏二氯乙烯、乙烯、丙烯、氯乙烯、乙酸乙烯酯、丁二烯。
又，作為上述胺基甲酸酯樹脂，例如可列舉由多元醇、聚異氰酸酯、鏈長延長劑、交聯劑等所構成者。
作為上述多元醇，例如可列舉：聚氧乙二醇、聚氧丙二醇、聚氧四亞甲基二醇(polyoxytetramethyleneglycol)之類的聚醚，包含聚己二酸乙二酯、聚乙烯-己二酸丁二酯、聚己內酯等之藉由二醇與二羧酸之脫水反應而製造之聚酯，具有碳酸酯鍵之聚碳酸酯，丙烯酸系多元醇，蓖麻油等。
又，作為上述聚異氰酸酯，例如可列舉：甲苯二異氰酸酯、苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、苯二亞甲基二異氰酸酯、4,4'-二環己基甲烷 二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯等。
又，作為上述鏈延長劑或交聯劑，例如可列舉：乙二醇、丙二醇、二乙二醇、三羥甲基丙烷、肼、乙二胺、二伸乙三胺、三伸乙四胺、4,4'-二胺基二苯基甲烷、4,4'-二胺基二環己基甲烷、水等。
作為上述高折射率微粒子，例如可較佳地使用折射率為1.60~2.80之金屬氧化物微粒子等。
作為上述金屬氧化物微粒子，具體而言，例如可列舉：氧化鈦(TiO2，折射率：2.71)、氧化鋯(ZrO2，折射率：2.10)、氧化鈰(CeO2，折射率：2.20)、氧化錫(SnO2，折射率：2.00)、銻錫氧化物(ATO(Antimony Tin Oxides)，折射率：1.75~1.95)、銦錫氧化物(ITO(Indium Tin Oxides)，折射率：1.95~2.00)、磷錫化合物(PTO(Phosphor Tin Oxides)，折射率：1.75~1.85)、氧化銻(Sb2O5，折射率：2.04)、鋁鋅氧化物(AZO(Aluminum Zinc Oxides)，折射率：1.90~2.00)、鎵鋅氧化物(GZO(Gallium Zinc Oxides)，折射率：1.90~2.00)、五氧化鈮(Nb2O5，折射率：2.33)、氧化鉭(Ta2O5：折射率：2.16)及銻酸鋅(ZnSb2O6，折射率：1.90~2.00)等。
上述高折射率微粒子之平均一次粒徑較佳為5~100 nm。若平均一次粒徑超過100 nm，則存在於上述底塗層中產生光學散射，透明性變差之情形，若未達5 nm，則存在微粒子彼此之凝聚增多，二次粒徑增大而產生光學散射，上述底塗層之透明性變差之情形。
關於該等高折射率微粒子之折射率，例如於將已知折射率之熱塑性樹脂與測得質量之金屬氧化物混合後，使其成型為適當厚度的透明之顆粒物，進行該顆粒物之折射率測定，可根據其與上述已知折射率之樹脂的調配比而算出高折射率微粒子之折射率。上述折射率測定例如可藉由依據JIS K7142(2008)A法之貝克法並利用阿貝折射計而求出，例如可使用Atago公司製造之DR-M4。再者，測定折射率之波長係設為589 nm。
又，上述平均一次粒徑可藉由利用TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)、STEM(Scanning Transmission Electron Microscope，掃描穿透式電子顯微鏡)等穿透型電子顯微鏡觀察之影像解析而作為20個粒子粒徑之平均值求出。
作為上述高折射率微粒子之含量，並無特別限定，例如為了以與添加於底塗層中之樹脂成分之硬化物的預先測得之折射率之值之加權平均計，使所形成之硬塗層的折射率滿足上述關係，只要根據與其他成分之關係而適當調整即可。
又，作為上述螯合化合物，例如可列舉：水溶性鈦螯合化合物、水溶性鈦醯化合物及水溶性鋯化合物等。
作為上述水溶性鈦螯合化合物，例如可列舉：二異丙氧基雙(乙醯丙酮)鈦、異丙氧基(2-乙基-1,3-己二醇)鈦、二異丙氧基雙(三乙醇胺)鈦、二-正丁氧基雙(三乙醇胺)鈦、羥基雙(乳酸)鈦、羥基雙(乳酸)鈦之銨鹽、過氧檸檬酸鈦銨鹽 等。
又，作為水溶性鈦醯化物(titanium acylate compound)，例如可列舉氧鈦雙(草酸單銨)等。
又，作為水溶性鋯化合物，例如可列舉：四乙醯丙酮酸鋯、乙酸鋯等。
於第一本發明之光學積層體中，作為上述底塗層之厚度，並無特別限定，只要根據所要求之性能而適當調節即可，例如可設為10~1000 nm。若上述底塗層之最大厚度為500 nm以下，則可提高第一本發明之光學積層體之鉛筆硬度(依據JIS K5600-5-4)，故而較佳，尤其是若為300 nm以下，則例如於厚度為800 nm時為H者成為2H等，鉛筆硬度明顯提高，故而更佳。
於第一本發明之光學積層體中，如上所述般上述底塗層之折射率(np)相對於上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)而具有特定之關係，故而可將上述底塗層之厚度設定為相對較廣之範圍。其原因在於：於第一本發明之光學積層體中，上述底塗層之折射率(np)相對於上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)而具有特定之關係，藉此底塗層之厚度對干涉條紋防止性能造成之影響減小。因此，即便為第一本發明之光學積層體中之底塗層的厚度較下述第二本發明之光學積層體中之底塗層厚之情形，干涉條紋防止性能亦成為良好者。
再者，上述底塗層之厚度例如係利用電子顯微鏡(SEM (Scanning Electron Microscope，掃描式電子顯微鏡)、TEM、STEM)觀察上述底塗層之剖面，藉此測定任意之10點而獲得之平均值(nm)。於為非常薄之厚度之情形時，係藉由以照片之形式記錄經高倍率觀察者，進而將其放大而測定。於放大之情形時，雖邊界線為可明確地識別之程度的非常細之線，但層界面線成為較粗之線。於該情形時，以將較粗之線寬度二等分之中心部分作為邊界線而測定。
又，於第二本發明之光學積層體中，上述底塗層之厚度為3~30 nm。若未達3 nm，則上述聚酯基材與硬塗層之密接性變得不充分，若超過30 nm，則第二本發明之光學積層體之干涉條紋防止性變得不充分。第二本發明之光學積層體中之底塗層的厚度之較佳之下限為10 nm，較佳之上限為20 nm。
第二本發明之光學積層體中之底塗層的厚度係以與上述第一本發明之光學積層體中之底塗層的厚度相同之方式進行測定而獲得之值。
再者，於第二本發明之光學積層體中，上述底塗層之折射率並無特別限定。其原因在於：於第二本發明之光學積層體中，上述底塗層之厚度極薄，且如下所述般硬塗層之折射率(nh)相對於上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)而具有特定之關係，藉此底塗層之折射率對干涉條紋防止性能造成之影響減小。
作為此種構成第二本發明之光學積層體中的底塗層之 材料，並無特別限定，可使用先前用作光學積層體之底塗層者。
其中，於自先前之光學積層體用底塗層之材料考慮之情形時，若選擇密接性及硬度均滿足者，則上述底塗層之折射率成為1.47~1.80之範圍，與不控制底塗層厚度之情形相比，於第二本發明之光學積層體中，底塗層之材料選擇範圍非常大，故而較佳。
再者，關於上述硬塗層之折射率(nh)，係如下所述般於上述聚酯基材之進相軸方向之折射率(ny)的最小折射率(1.55)至上述聚酯基材之遲相軸方向之折射率(nx)的最大折射率(1.78)之間，尤其適於防止干涉條紋之折射率範圍為1.57~1.65，進而較佳之下限為1.62。
又，於先前之光學積層體用底塗層之材料不含上述高折射率微粒子之情形時，通常底塗層之折射率(np)成為低於聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)者。關於包含上述高折射率微粒子之底塗層，並非於製造成本方面較不利，由於必需考慮該高折射率微粒子與其他樹脂材料之組合，故而材料選擇受到制約。
因此，於第二本發明之光學積層體中，上述底塗層之折射率(np)較佳為更小之值，具體而言，上述聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)與上述底塗層折射率(np)具有ny>np之關係。若具有此種折射率之關係，則於先前之光學積層體中之底塗層中，該底塗層之厚度為超過30 nm之較厚者，故而有產生干涉條紋之問題。然而，於第二本 發明之光學積層體中，上述底塗層之厚度極薄而為3~30 nm，故而即便為具有上述成為ny>np之關係之情形，亦不產生干涉條紋之問題。
又，於第二本發明之光學積層體中，於具有上述ny>np之關係之情形時，上述底塗層之折射率(np)較佳為儘可能接近上述聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)之值，具體而言，聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)與底塗層之折射率(np)之差(ny-np)較佳為0.05以下。若超過0.05，則有防止干涉條紋之效果較差之虞。
進而，就第二本發明之光學積層體之干涉條紋防止性能成為優異者之方面而言，較佳為上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)與硬塗層之折射率(nh)之差(nx-nh)、及上述硬塗層之折射率(nh)與上述聚酯基材的進相軸方向之折射率(ny)之差(nh-ny)均為0.025以上。
於本發明之光學積層體中，上述底塗層可使用使上述材料、視需要之光聚合起始劑及其他成分混合分散於溶劑中而製備之底塗層用組成物而形成。
上述混合分散較佳為使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機等公知之裝置而進行。
作為上述溶劑，可較佳地使用水，較佳為以水溶液、水分散液或乳化液等水性塗液之形態使用。又，可含有少許有機溶劑。
作為上述有機溶劑，例如可列舉：醇(例如：甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄 醇、PGME(Propylene Glycol Monomethyl Ether，丙二醇單甲醚)、乙二醇)、酮(例如：丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮、庚酮、二異丁基酮、二乙基酮)、脂肪族烴(例如：己烷、環己烷)、鹵化烴(例如：二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烴(例如：苯、甲苯、二甲苯)、醯胺(例如：二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、正甲基吡咯烷酮)、醚(例如：二乙醚、二噁烷、四氫呋喃)、醚醇(例如：1-甲氧基-2-丙醇)、酯(例如：乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丙酯)等。
作為上述其他成分，並無特別限定，例如可列舉：調平劑、有機或無機微粒子、光聚合起始劑、熱聚合起始劑、交聯劑、硬化劑、聚合促進劑、黏度調整劑、抗靜電劑、抗氧化劑、防污劑、潤滑劑、折射率調整劑、分散劑等。
上述底塗層用組成物係總固形物成分較佳為3~20%。若未達3%，則有殘餘溶劑殘留或產生白化之虞。若超過20%，則有底塗層用組成物之黏度升高、塗敷性下降而於表面出現斑點或條紋，或無法獲得所需之膜厚之虞。上述固形物成分更佳為4~10%。
上述底塗層用組成物於上述聚酯基材上之塗佈可於任意之階段實施，較佳為於聚酯基材之製造過程中實施，進而較佳為將其塗佈於配向結晶化結束前之聚酯基材上。
此處，所謂結晶配向結束前之聚酯基材，係包含未拉伸膜、使未拉伸膜於縱向或橫向之任一方向上配向而成之單軸配向膜、進而於縱向及橫向之兩個方向上低倍率拉伸 配向而成者(最終於縱向或橫向上再拉伸而使配向結晶化結束前之雙軸拉伸膜)等者。其中，較佳為於未拉伸膜或於一個方向上配向而成之單軸拉伸膜上塗佈上述底塗層用組成物之水性塗液，並直接實施縱向拉伸及/或橫向拉伸與熱固定。
於將上述底塗層用組成物塗佈於聚酯基材上之時，作為用以提高塗佈性之預備處理，較佳為對聚酯基材表面實施電暈表面處理、火焰處理、電漿處理等物理處理，或將底塗層用組成物及與其具有化學惰性之界面活性劑併用。
作為上述底塗層用組成物之塗佈方法，可應用公知之任意塗敷法。例如可單獨或組合使用輥塗法、旋塗法、輥式刷塗法、噴霧塗佈法、氣刀塗佈法、含浸法、淋幕式塗佈法等。再者，塗膜可視需要僅形成於聚酯基材之單面，亦可形成於雙面。即，如圖2所示，本發明之光學積層體20亦可於聚酯基材21之雙面上形成有底塗層22，並於該底塗層22之分別與聚酯基材21側為相反側之面上形成有硬塗層23。再者，圖2係示意性地表示本發明之光學積層體之另外一例之剖面圖。
進而，本發明之光學積層體亦可於上述聚酯基材之一面上形成上述第一光學積層體中之底塗層，並於另一面上形成上述第二光學積層體中之底塗層，於該情形時，於上述第一光學積層體中之底塗層之與聚酯基材側為相反側的面上形成下述第一光學積層體中之硬塗層，並於上述第二光學積層體中之底塗層之與聚酯基材側為相反側的面上形 成下述第二光學積層體中之硬塗層。
本發明之光學積層體係於上述底塗層上形成有硬塗層。
上述硬塗層係保證本發明之光學積層體之表面的硬塗性之層，例如較佳為使用含有藉由紫外線而硬化之樹脂即電離放射線硬化型樹脂與光聚合起始劑之硬塗層用組成物而形成者。
於本發明之光學積層體中，作為上述電離放射線硬化型樹脂，例如可列舉具有丙烯酸酯系官能基之化合物等具有一個或兩個以上的不飽和鍵之化合物。作為具有一個不飽和鍵之化合物，例如可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。作為具有兩個以上之不飽和鍵之化合物，例如可列舉：聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等、及藉由環氧乙烷(EO，Ethylene Oxide)等使該等改質之多官能化合物、或上述多官能化合物與(甲基)丙烯酸酯等之反應產物(例如多元醇之聚(甲基)丙烯酸酯)等。再者，於本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯。
除上述化合物以外，亦可將具有不飽和雙鍵之相對低分子量(數量平均分子量300~8萬，較佳為400~5000) 之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸系樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多硫醇多烯樹脂等用作上述電離放射線硬化型樹脂。再者，所謂該情形時之樹脂，包括除單體以外之二聚物、低聚物、聚合物之全部。
作為本發明中之較佳之化合物，可列舉具有三個以上之不飽和鍵之化合物。若使用此種化合物，則可提高所形成之硬塗層之交聯密度，可使塗膜硬度變良好。
具體而言，於本發明中，較佳為適當組合季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、聚酯多官能丙烯酸酯低聚物(3~15官能)、胺基甲酸酯多官能丙烯酸酯低聚物(3~15官能)等而使用。
上述電離放射線硬化型樹脂亦可與溶劑乾燥型樹脂(熱塑性樹脂等藉由僅使為了於塗敷時調整固形物成分而添加之溶劑乾燥而成為被膜之樹脂)併用。藉由併用溶劑乾燥型樹脂，可有效地防止塗佈面之被膜缺陷。作為可與上述電離放射線硬化型樹脂併用之溶劑乾燥型樹脂，並無特別限定，通常可使用熱塑性樹脂。
作為上述熱塑性樹脂，並無特別限定，例如可列舉：苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯基醚系樹脂、含鹵素之樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。上述熱塑性樹脂較佳為非結晶性且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚 合物或硬化性化合物之共用溶劑)。就成膜性、透明性或耐候性之觀點而言，尤佳為苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等。
又，上述硬塗層用組成物亦可含有熱硬化性樹脂。
作為上述熱硬化性樹脂，並無特別限定，例如可列舉：酚樹脂、脲樹脂、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
作為上述光聚合起始劑，並無特別限定，可使用公知者，例如，作為上述光聚合起始劑，具體而言可列舉：苯乙酮類、二苯甲酮類、米其勒苯甲醯基苯甲酸酯、α-戊基肟酯、噻噸酮類、苯丙酮類、二苯基乙二酮類、安息香類、醯基氧化膦類。又，較佳為混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁基胺、三乙基胺、聚-正丁基膦等。
作為上述光聚合起始劑，於上述電離放射線硬化型樹脂為具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系之情形時，較佳為單獨或混合使用苯乙酮類、二苯甲酮類、噻噸酮類、安息香、安息香甲醚等。又，於上述電離放射線硬化型樹脂為具有陽離子聚合性官能基之樹脂系之情形時，作為上述光聚合起始劑，較佳為單獨或以混合物之形式使用芳香族重氮鎓鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等。
作為本發明中使用之起始劑，於為具有自由基聚合性不飽和基之電離放射線硬化型樹脂之情形時，基於與電離放射線硬化型樹脂之相溶性、及黃變亦較少之原因，較佳為1-羥基-環己基-苯基-酮。
上述硬塗層用組成物中之上述光聚合起始劑之含量較佳為相對於上述電離放射線硬化型樹脂100質量份而為1~10質量份。其原因在於：若未達1質量份，則存在無法將第一本發明之光學積層體中之硬塗層的硬度設為上述範圍之情形，若超過10質量份，則有電離放射線未到達所塗設之膜之深部而未促進內部硬化，作為目標之硬塗層的表面之鉛筆硬度無法獲得3 H以上之虞。
上述光聚合起始劑之含量之更佳之下限為2質量份，更佳之上限為8質量份。由於上述光聚合起始劑之含量於該範圍內，故於膜厚方向上不產生硬度分佈而易於成為均勻之硬度。
上述硬塗層用組成物可含有溶劑。
作為上述溶劑，可根據所使用之樹脂成分之種類及溶解性而選擇使用，例如可例示：酮類(丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、二丙酮醇等)、醚類(二噁烷、四氫呋喃、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等)、脂肪族烴類(己烷等)、脂環式烴類(環己烷等)、芳香族烴類(甲苯、二甲苯等)、鹵化碳類(二氯甲烷、二氯乙烷等)、酯類(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、水、醇類(乙醇、異丙醇、丁醇、環己醇等)、賽路蘇類(甲 基賽路蘇、乙基賽路蘇等)、乙酸賽路蘇類、亞碸類(二甲基亞碸等)、醯胺類(二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等)等，亦可為該等之混合溶劑。
尤其是於本發明中，就與樹脂之相溶性、塗敷性優異之原因而言，較佳為於酮系溶劑中至少包含甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮中之任一者或該等之混合物。
作為上述硬塗層用組成物中之原料之含有比例(固形物成分)，並無特別限定，通常設為5~70質量%，尤佳為設為25~60質量%。
於上述硬塗層用組成物中，為了提高硬塗層之硬度、抑制硬化收縮、防止結塊、控制折射率、賦予防眩性、改變粒子或硬塗層表面之性質等，亦可添加先前公知之有機、無機微粒子、分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、防著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑等。
又，上述硬塗層用組成物可混合光敏劑而使用，作為其具體例，例如可列舉：正丁基胺、三乙基胺、聚-正丁基膦等。
作為上述硬塗層用組成物之製備方法，只要可將各成分均勻地混合，則並無特別限定，例如可使用塗料振盪器、珠磨機、捏合機、混合機等公知之裝置而進行。
又，作為將上述硬塗層用組成物塗佈於上述底塗層上之方法，並無特別限定，例如可列舉：旋塗法、浸漬法、 噴霧法、模塗法、棒塗法、輥塗法、彎液面塗佈法、軟板印刷法、絲網印刷法、液滴塗佈法等公知之方法。
於本發明之光學積層體中，上述硬塗層之折射率(nh)與上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<nh<nx之關係。於本發明之光學積層體中，硬塗層相對於聚酯基材之折射率而具有上述關係，且於第一本發明之光學積層體中，底塗層如上所述般具有特定之折射率(np)，於第二本發明之光學積層體中，底塗層如上所述般極薄，故而均可較佳地防止干涉條紋之產生。
再者，關於上述硬塗層之折射率(nh)及底塗層之折射率(np)均存在於上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)與進相軸方向之折射率(ny)間的第一本發明之光學積層體，係指上述硬塗層之折射率(nh)與底塗層之折射率(np)之差較小而於實際上消除該等層間之折射率差。藉由實際上消除上述硬塗層之折射率(nh)與底塗層之折射率(np)之差而抑制該硬塗層與底塗層的界面之反射，其結果，可較佳地防止干涉條紋之產生。再者，所謂實際上消除上述硬塗層之折射率(nh)與底塗層之折射率(np)之差，係指上述硬塗層之折射率(nh)與底塗層之折射率(np)之差的絕對值(| nh-np |)為0.05以下之情形。
又，於第二本發明之光學積層體中，上述硬塗層之折射率(nh)相對於上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)而滿足上述關係，但於為更 接近上述聚酯基材之遲相軸方向之折射率(nx)的值之情形時，該硬塗層具有更高之折射率，故而於將第二本發明之光學積層體用於下述觸控面板之情形時，接近形成於最表面之ITO等電極之折射率，故而有利於該電極之圖案之不可見化。
又，於上述硬塗層之折射率(nh)為上述聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)與進相軸方向之折射率(ny)之中間值、或更接近上述聚酯基材之進相軸方向之折射率(ny)的值之情形時，第二本發明之光學積層體成為干涉條紋防止性能極優異者。
此種本發明之光學積層體中之硬塗層較佳為於上述硬塗層用組成物中使用含有高折射率微粒子之高折射率硬塗層用組成物而形成。藉由含有上述高折射率微粒子，可將上述硬塗層之折射率設為相對於上述聚酯基材之折射率而具有上述關係者。
作為上述高折射率微粒子，例如可較佳地使用折射率為1.50~2.80之金屬氧化物微粒子等。作為上述金屬氧化物微粒子，具體而言，例如可列舉：氧化鈦(TiO2，折射率：2.71)、氧化鋯(ZrO2，折射率：2.10)、氧化鈰(CeO2，折射率：2.20)、氧化錫(SnO2，折射率：2.00)、銻錫氧化物(ATO，折射率：1.75~1.95)、銦錫氧化物(ITO，折射率：1.95~2.00)、磷錫化合物(PTO，折射率：1.75~1.85)、氧化銻(Sb2O5，折射率：2.04)、鋁鋅氧化物(AZO，折射率：1.90~2.00)、鎵鋅氧化物(GZO，折射 率：1.90~2.00)及銻酸鋅(ZnSb2O6，折射率：1.90~2.00)等。其中，氧化錫(SnO2)、銻錫氧化物(ATO)、銦錫氧化物(ITO)、磷錫化合物(PTO)、氧化銻(Sb2O5)、鋁鋅氧化物(AZO)、鎵鋅氧化物(GZO)及銻酸鋅(ZnSb2O6)係導電性金屬氧化物，有可藉由控制微粒子之擴散狀態並形成導電路徑而賦予抗靜電性之優點。
作為上述高折射率微粒子之含量，並無特別限定，例如為了以藉由與添加於硬塗層用組成物中之樹脂成分之硬化物的預先測得之折射率之值之加權平均計，使所形成之硬塗層的折射率滿足上述關係，只要根據與其他成分之關係而適當調整即可。
作為將上述硬塗層用組成物塗佈於上述底塗層上之方法，並無特別限定，例如可列舉：旋塗法、凹版塗佈法、浸漬法、噴霧法、模塗法、棒塗法、輥塗法、彎液面塗佈法、軟板印刷法、絲網印刷法、液滴塗佈法等公知之方法。
將上述硬塗層用組成物塗佈於上述底塗層上而形成之塗膜較佳為視需要進行加熱及/或乾燥並藉由活性能量線照射等而使其硬化。
作為上述活性能量線照射，可列舉利用紫外線或電子束之照射。作為上述紫外線源之具體例，例如可列舉：超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、黑光螢光燈、金屬鹵化物燈等光源。又，作為紫外線之波長，可使用190~380 nm之波長區域。作為電子束源之具體例，可列舉：考克饒夫-瓦爾頓(Cockcroft Walton)型、凡德格 拉夫(Van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或直線型、高頻高壓加速器型、高頻型等各種電子束加速器。
再者，上述硬塗層之較佳之膜厚(硬化時)為0.5~100 μm，更佳為0.8~20 μm，由於防捲曲性或防龜裂性尤其優異，故而最佳為2~10 μm之範圍。上述硬塗層之膜厚係利用電子顯微鏡(SEM、TEM、STEM)觀察剖面並測定任意之10點而獲得之平均值(μm)。針對硬塗層之膜厚，作為除此以外之方法，亦可使用作為厚度測定裝置之三豐公司製造的數顯量表(Digimatic Indicator)IDF-130測定任意之10點並求出平均值。
藉由使上述硬塗層用組成物中含有抗靜電劑，可對上述硬塗層賦予抗靜電性能。
作為上述抗靜電劑，可使用先前公知者，例如可使用四級銨鹽等陽離子性抗靜電劑、摻錫氧化銦(ITO)等微粒子或導電性聚合物等。
於使用上述抗靜電劑之情形時，相對於總固形物成分之合計質量，其含量較佳為1~30質量%。
又，本發明之光學積層體較佳為於上述硬塗層上進而具有低折射率層。
作為上述低折射率層，較佳為包含1)含有二氧化矽或氟化鎂之樹脂、2)作為低折射率樹脂之氟系樹脂、3)含有二氧化矽或氟化鎂之氟系樹脂、4)二氧化矽或氟化鎂之薄膜等之任一者。除氟系樹脂以外之樹脂可使用與上述黏 合劑樹脂相同之樹脂。
又，上述二氧化矽較佳為中空二氧化矽微粒子，此種中空二氧化矽微粒子例如可藉由日本專利特開2005-099778號公報之實施例所記載之製造方法而製作。
關於該等低折射率層，其折射率為1.47以下，尤佳為1.42以下。
又，低折射率層之厚度並無特別限定，通常只要自10 nm~1 μm左右之範圍內適當設定即可。
作為上述氟系樹脂，可使用至少於分子中包含氟原子之聚合性化合物或其聚合物。作為聚合性化合物，並無特別限定，例如較佳為具有藉由電離放射線而硬化之官能基、熱硬化之極性基等硬化反應性基者。又，亦可為同時兼具該等反應性基之化合物。相對於該聚合性化合物，所謂聚合物，係指完全不具有如上所述之反應性基等者。
作為具有藉由上述電離放射線而硬化之官能基之聚合性化合物，可廣泛使用具有乙烯性不飽和鍵的含氟之單體。更具體而言，可例示氟烯烴類(例如氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二氧雜環戊烯等)。作為具有(甲基)丙烯醯氧基者，亦有(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟丁基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟己基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(全氟癸基)乙酯、丙烯酸α-三氟甲基甲酯、丙烯酸α-三氟甲基乙酯之類的於分子中具有氟原子之(甲基)丙 烯酸酯化合物；於分子中包含具有至少三個氟原子之碳數1~14之氟烷基、氟環烷基或氟伸烷基與至少兩個(甲基)丙烯醯氧基之含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
作為上述熱硬化之極性基，較佳為例如羥基、羧基、胺基、環氧基等氫鍵形成基。該等不僅與塗膜之密接性優異，而且與二氧化矽等無機超微粒子之親和性亦優異。作為具有熱硬化性極性基之聚合性化合物，例如可列舉：4-氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物；氟乙烯-烴系乙烯基醚共聚物；環氧、聚胺基甲酸酯、纖維素、苯酚、聚醯亞胺等各樹脂之氟改質物等。
作為兼具藉由上述電離放射線而硬化之官能基與熱硬化之極性基的聚合性化合物，可例示：丙烯酸或甲基丙烯酸之部分及完全氟化烷基、烯基、芳基酯類，完全或部分氟化乙烯基醚類，完全或部分氟化乙烯基酯類，完全或部分氟化乙烯基酮類等。
又，作為氟系樹脂，例如可列舉如下所述者：包含至少一種具有上述電離放射線硬化性基之聚合性化合物之含氟(甲基)丙烯酸酯化合物的單體或單體混合物之聚合物；上述含氟(甲基)丙烯酸酯化合物之至少一種與如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之於分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物之共聚物；如氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、三氟氯乙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯之含氟單體之均聚物或共聚 物等。亦可使用於該等共聚物中含有聚矽氧成分之含聚矽氧之偏氟乙烯共聚物。作為該情形時之聚矽氧成分，可例示：(聚)二甲基矽氧烷、(聚)二乙基矽氧烷、(聚)二苯基矽氧烷、(聚)甲基苯基矽氧烷、烷基改質(聚)二甲基矽氧烷、含偶氮基之(聚)二甲基矽氧烷、二甲基矽酮、苯基甲基矽酮、烷基/芳烷基改質矽酮、氟矽酮、聚醚改質矽酮、脂肪酸酯改質矽酮、甲基氫矽酮、含矽烷醇基之矽酮、含烷氧基之矽酮、含苯酚基之矽酮、甲基丙烯酸改質矽酮、丙烯酸改質矽酮、胺基改質矽酮、羧酸改質矽酮、甲醇改質矽酮、環氧基改質矽酮、巰基改質矽酮、氟改質矽酮、聚醚改質矽酮等。其中，較佳為具有二甲基矽氧烷構造者。
進而，亦可將由如下所述之化合物所構成之非聚合物或聚合物用作氟系樹脂。即，可使用如下化合物：使於分子中具有至少一個異氰酸酯基之含氟化合物與於分子中具有至少一個胺基、羥基、羧基之類的與異氰酸酯基反應之官能基之化合物反應而獲得之化合物；使含氟之聚醚多元醇、含氟之烷基多元醇、含氟之聚酯多元醇、含氟之ε-己內酯改質多元醇之類的含氟之多元醇與具有異氰酸酯基之化合物反應而獲得之化合物等。
又，亦可將上述具有氟原子之聚合性化合物或聚合物與上述所記載之各黏合劑樹脂混合而使用。進而，可適當使用用以使反應性基等硬化之硬化劑、用以提高塗敷性或賦予防污性之各種添加劑、溶劑。
於形成上述低折射率層時，較佳為將添加低折射率劑 及樹脂等而成之低折射率層用組成物之黏度設為可獲得較佳的塗佈性之0.5~5 mPa．s(25℃)、較佳為0.7~3 mPa．s(25℃)之範圍者。可實現可見光線優異之抗反射層，且可形成均勻且無塗佈不均之薄膜，且可形成密接性尤其優異之低折射率層。
樹脂之硬化方法可與下述硬塗層中之硬化方法相同。於為了硬化處理而利用加熱方法之情形時，較佳為將藉由加熱而產生例如自由基而使聚合性化合物之聚合開始的熱聚合起始劑添加至氟系樹脂組成物中。
作為本發明之光學積層體之製造方法，例如於藉由上述方法而於聚酯基材上形成之底塗層上形成硬塗層用塗膜，視需要使其乾燥後，使上述硬塗層用塗膜硬化而形成硬塗層。並且，藉由視需要利用公知之方法使上述低折射率層形成於上述硬塗層上，可製造本發明之光學積層體。
又，作為上述硬塗層用塗膜之乾燥之方法，並無特別限定，通常較佳為於30~120℃下乾燥3~120秒鐘。
作為使上述硬塗層用塗膜硬化之方法，只要根據構成成分而適當選擇公知之方法即可。例如，若所含之黏合劑樹脂成分為紫外線硬化型者，則只要藉由對塗膜照射紫外線而使其硬化即可。
於上述照射紫外線之情形時，紫外線照射量較佳為80 mJ/cm2以上，更佳為100 mJ/cm2以上，進而較佳為130 mJ/cm2以上。
於依據JIS K5600-5-4(1999)之鉛筆硬度試驗(荷重 4.9 N)中，本發明之光學積層體之硬度較佳為HB以上，更佳為H以上。
又，於本發明之光學積層體中，總透光率較佳為80%以上。若未達80%，則於裝著於影像顯示裝置上之情形時，有損害色再現性或視認性之虞，除此以外，亦有無法獲得所需之對比度之虞。上述總透光率更佳為90%以上。
上述總透光率可使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7361之方法而測定。
又，本發明之光學積層體之霧度較佳為1%以下。若超過1%，則無法獲得所需之光學特性，且將本發明之光學積層體設置於影像顯示裝置表面時之視認性下降。
上述霧度可使用霧度計(村上色彩技術研究所製造，製品編號：HM-150)並藉由依據JIS K-7136之方法而測定。
又，如下偏光板亦為本發明之一，其係具備偏光元件而成者，其特徵在於：於上述偏光元件之表面貼合聚酯基材等而具備本發明之光學積層體。
作為上述偏光元件，並無特別限定，例如可使用藉由碘等進行染色並使其拉伸之聚乙烯醇膜、聚乙烯甲醛膜、聚乙烯縮醛膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。於上述偏光元件與本發明之硬塗膜之層壓處理中，較佳為對透光性基材進行皂化處理。藉由皂化處理而使接著性變良好。
於此種使用本發明之光學積層體的本發明之偏光板中，上述光學積層體較佳為以上述聚酯基材之遲相軸與下 述偏光元件(配置於液晶單元之視認側之偏光元件)之吸收軸所成的角度成為0°±30°或90°±30°之方式配設。藉由使上述聚酯基材之遲相軸與偏光板的吸收軸所成之角度於上述範圍內，可極高度地抑制於使用本發明之偏光板的液晶顯示裝置之顯示影像中產生虹不均。其原因雖不明確，但認為係由以下之原因引起。
即，於無外光或螢光燈之光之環境下(以下，亦將此種環境下稱為「暗處」)，本發明之光學積層體的聚酯基材之遲相軸與偏光板之吸收軸所成之角度無論為何種角度，均可抑制虹不均之產生。然而，於有外光或螢光燈之光之環境下(以下，亦將此種環境下稱為「明處」)，外光或螢光燈之光並非僅具有連續的範圍較廣之光譜者，故而若不將聚酯基材之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成的角度設為上述範圍，則產生虹不均且顯示品質下降。
進而，推測：由於穿透液晶顯示裝置中之彩色濾光片之背光裝置之光亦並非僅具有連續的範圍較廣之光譜者，故而若不將聚酯基材之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成的角度設為上述範圍，則產生虹不均且顯示品質下降。
又，本發明亦為具備上述光學積層體或上述偏光板而成之影像顯示裝置。上述影像顯示裝置可列舉：LCD、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、觸控面板、電子紙、平板PC等。
上述LCD係具備穿透性顯示體及自背面照射上述穿透性顯示體之光源裝置而成者。於本發明之影像顯示裝置為 LCD之情形時，係於該穿透性顯示體的表面形成本發明之光學積層體或本發明之偏光板而成者。
於本發明為具有上述光學積層體而成之液晶顯示裝置之情形時，光源裝置之光源係自光學積層體之下側(基材側)照射。再者，於STN(Super Twisted Nematic，超扭曲向列)型液晶顯示裝置中，可於液晶顯示元件與偏光板間插入相位差板。於該液晶顯示裝置之各層間，可視需要設置接著劑層。
上述PDP係具備表面玻璃基板、及與該表面玻璃基板對向並於其間填充放電氣體而配置之背面玻璃基板而成者。於本發明之影像顯示裝置為PDP之情形時，亦為於上述表面玻璃基板之表面、或其前面板(玻璃基板或膜基板)上具備上述光學積層體而成者。
其他影像顯示裝置亦可為將於施加電壓時發光之硫化鋅、二胺類物質等發光體蒸鍍於玻璃基板上並控制施加於基板之電壓而進行顯示之ELD裝置；或將電氣訊號轉換為光而產生人眼可見之影像之CRT等影像顯示裝置。於該情形時，係於如上所述之各顯示裝置之表面或其前面板之表面具備上述光學積層體而成者。
本發明之光學積層體於任一情形時均可用於電視、電腦等之顯示器之表面。尤其是可較佳地用於液晶面板、PDP、ELD、觸控面板、電子紙等高精細影像用顯示器之表面。
其中，本發明之光學積層體可較佳地用於觸控面板。 此種使用本發明之光學積層體之觸控面板亦為本發明之一。
即，本發明之觸控面板係使用本發明之光學積層體而成者，其特徵在於：於上述光學積層體之硬塗層的與底塗層側為相反側之表面上設置有不可見電極。
此處，通常就觸控面板而言，根據位置檢測之方法而已知有光學方式、超音波方式、靜電電容方式、電阻膜方式等。
上述電阻膜方式之觸控面板係成為經由間隔件而將透明導電性膜與附透明導電體層之玻璃對向配置，使電流於透明導電性膜中流動而測量附透明導電體層之玻璃中的電壓之構造。另一方面，靜電電容方式之觸控面板之特徵在於：其係以於基材上具有透明導電層者作為基本構成且無可動部分，由於具有高耐久性、高穿透率，故而適用於液晶顯示顯示器、手機及車輛用顯示器等。
於上述觸控面板中，存在使透明導電體層圖案化之情形。然而，若使上述透明導電體層圖案化，則於圖案部與非圖案化部，由於構成透明導電體層之材料通常為高折射率，故而圖案部與非圖案部之折射率差等差異變得明確，可自顯示畫面觀察到圖案部分，不僅損害作為顯示器之外觀，亦損害顯示畫面之視認性。
尤其是於靜電電容方式之觸控面板中，為了將透明導電體層用於入射表面側，較理想為其影響較強且於使透明導電體層圖案化之情形時亦無法自顯示畫面觀察到其圖案 的經不可見化之不可見電極。
再者，所謂上述不可見電極，係指積層有用以使透明導電體層之電極圖案無法自顯示畫面側觀察到之光學功能層的狀態之電極，作為其構成，可列舉依序積層有高折射率層、低折射率層及透明導電體層之構成。對於此種構成之不可見電極，可藉由於下述範圍內組合上述高折射率層及低折射率層之折射率與膜厚而使其不可見化，又，於上述硬塗層之顯示畫面側之表面，以成為最表面之方式積層有上述透明導電體層。
本發明之觸控面板較佳為設置有上述不可見電極、尤其是靜電電容方式之觸控面板。
又，於本發明之光學積層體為於聚酯基材之雙面形成有底塗層及硬塗層的構成之情形時，本發明之觸控面板係於該光學積層體之至少一層硬塗層的與底塗層側為相反側之表面設置有上述不可見電極。此種構成之觸控面板亦為本發明之一。
圖3係示意性地表示本發明之觸控面板之一例之剖面圖。
於圖3所示之本發明之觸控面板30中，本發明之光學積層體係於聚酯基材31之雙面形成有底塗層32，且於該底塗層32之分別與聚酯基材31側為相反側之面形成有硬塗層33。並且，此種本發明之光學積層體係介隔黏著層300而積層有兩層(以下，亦將顯示畫面側之光學積層體稱為上層之光學積層體，將另一側之光學積層體稱為下層之光 學積層體)。進而，上層之光學積層體及下層之光學積層體係分別於顯示畫面側之硬塗層33之面積層有不可見電極34。該不可見電極34係自硬塗層33側依序積層有高折射率層35、低折射率層36及透明導電體層37。
此種本發明之觸控面板30係介隔黏著層300而積層有下層之光學積層體之不可見電極34及與上層之光學積層體的顯示畫面側為相反側之硬塗層33。
又，於上層之光學積層體之硬塗層33的與底塗層32側之相反側積層之不可見電極34係介隔黏著層38而設置有覆蓋玻璃39，該覆蓋玻璃39構成最表面。
又，圖4係示意性地表示本發明之觸控面板之另外一例之剖面圖。
如圖4所示，本發明之觸控面板40係於聚酯基材41之雙面形成有底塗層42，於該底塗層42之分別與聚酯基材41側為相反側之面上形成有硬塗層43，進而於該硬塗層43之與底塗層42側為相反側之面上形成有不可見電極44。該不可見電極44係自硬塗層43側依序積層有高折射率層45、低折射率層46及透明導電體層47。並且，於顯示畫面側之不可見電極44上，介隔黏著層48而設置有覆蓋玻璃49，該覆蓋玻璃49構成最表面。
再者，作為圖3及圖4中之黏著層300、38及48、以及覆蓋玻璃39、49，並無特別限定，可使用與公知之觸控面板中所用之黏著層及覆蓋玻璃相同者。又，上述覆蓋玻璃亦可為塑膠膜。
又，圖3及圖4所示之本發明之觸控面板均使用於聚酯基材之雙面形成有底塗層及硬塗層的本發明之光學積層體，於本發明之光學積層體為於聚酯基材之雙面形成有底塗層及硬塗層者之情形時，本發明之觸控面板並不限定於圖3及4所示之構成。
上述構成之不可見電極例如可藉由利用氣相法(化學氣相法：CVD或物理氣相法：PVD)之塗佈、或利用液相法之塗佈而積層、形成。
於上述不可見電極中，上述高折射率層較佳為折射率為1.67~1.85、膜厚為20~80 nm，且上述低折射率層較佳為折射率為1.40~1.50、膜厚為20~80 nm。較佳為於該等範圍內適當組合上述高折射率層及低折射率層之折射率及膜厚而使用可使上述透明電極層不可見化之組合。再者，所謂高折射率，係指折射率高於作為高折射率層之下層之硬塗層，所謂低折射率，係指折射率低於作為低折射率層之下層之高折射率層。
於藉由利用氣相法之塗佈而積層形成上述不可見電極之情形時，作為上述高折射率層，可使用折射率為1.67~2.50者。
另一方面，於藉由利用液相法之塗佈而積層形成上述不可見電極之情形時，上述高折射率層及低折射率層之材料並無特別限定，可藉由選擇適當之塗佈方法塗佈使平均一次粒徑為10~100 nm之高折射率超微粒子或低折射率超微粒子與有機溶劑或分散劑等添加劑一同均勻分散於黏合 劑基質中而成之組成物，並使其乾燥、硬化(熱硬化、UV硬化、EB硬化)而獲得。
除此以外，亦可不使用上述高折射率超微粒子而將黏合劑樹脂本身為高折射率樹脂或低折射率樹脂之化合物用作組成物。
作為上述黏合劑基質，只要為可充分地保持膜強度之化合物、例如具有於熱及UV或EB條件下反應之反應性基之化合物，則並無特別限定。作為此種化合物，例如較佳為於分子中具有至少3個以上之乙烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基等可聚合之不飽和鍵的丙烯酸系化合物、或藉由溶膠-凝膠反應而硬化之材料。作為藉由上述溶膠-凝膠反應而硬化之材料，例如可列舉R'xSi(OR)4-x(R：烷基，R'：末端具有乙烯基、丙烯醯基、甲基丙烯醯基等可聚合之不飽和鍵之官能基，x為0<x<4之取代數)所表示之化合物及其水解物等。
又，作為上述黏合劑，較佳為與上述硬塗層之材料相同之化合物，尤佳為例如作為3官能以上之(甲基)丙烯酸酯化合物的PETA、PETTA、DPPA、DPHA、TMPTA等。
作為上述高折射率超微粒子，較佳為折射率較高且為無色或幾乎未著色之金屬氧化物超微粒子，可使用硬塗層之高折射率化所用之材料。其中，可較佳地使用TiO2(折射率：2.71)、ZrO2(折射率：2.10)、Nb2O5(折射率：2.33)、Ta2O5(折射率：2.16)，由於可使透明導電體層圖案不可見化，且塗膜之透明性或耐久性等良好，故而尤 佳為ZrO2粒子或ATO粒子。
上述低折射率層之材料可與於將本發明之光學積層體形成為抗反射膜之情形時積層之低折射率層相同。
作為上述透明導電體層之構成材料，並無特別限定，例如可使用選自由銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、矽、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢所構成之群中之至少一種金屬之金屬氧化物。於該金屬氧化物中，亦可視需要進一步含有上述群所示之金屬原子。例如可較佳地使用含有氧化錫之氧化銦(ITO)、含有銻之氧化錫(ATO)等。
上述透明導電體層之厚度並無特別限制，為了製成將其表面電阻設為1×103 Ω/□以下之具有良好導電性之連續被膜，需要某種程度之膜厚，若膜厚變得過厚，則會導致透明性之下降等，故而上述厚度之較佳之下限為15 nm，較佳之上限為45 nm，更佳之下限為20 nm，更佳之上限為30 nm。若厚度未達15 nm，則表面電阻變高，且難以成為連續被膜。又，若超過45 nm，則存在導致透明性之下降等之情形。
作為上述透明導電體層之形成方法，並無特別限定，可採用先前公知之方法。具體而言，例如可例示：真空蒸鍍法、濺鍍法、離子電鍍法。又，亦可根據所需之膜厚而採用適當之方法。
再者，於在上述低折射率層上形成上述透明導電體層後，可視需要於100~150℃之範圍內實施退火處理而使其結晶化。
於本發明中，上述透明導電體層較佳為進行蝕刻而使其圖案化。由於若使上述透明導電體層結晶化，則存在蝕刻變得困難之情形，故而上述透明導電體層之退火化處理較佳為於使該透明導電體層圖案化後進行。進而，於對上述高折射率層及低折射率層進行蝕刻之情形時，較佳為於該高折射率層及低折射率層之蝕刻後進行透明導電體層之退火化處理。
本發明之光學積層體係由上述構成所構成者，故而聚酯基材與硬塗層之密接性優異，且可高度地抑制於液晶顯示裝置之顯示影像中產生虹不均及干涉條紋。因此，本發明之光學積層體可較佳地用於陰極線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、電子紙、平板PC等顯示器，尤其是高精細化顯示器。
藉由下述實施例對本發明之內容進行說明，但本發明之內容並非限定於該等實施態樣而加以說明者。又，只要無特別說明，則「份」及「%」為質量基準。
又，底塗層及硬塗層之折射率係使用分光光度計(島津製作所公司製造之UV-3100PC)測定波長380~780 nm之平均反射率(R)，並利用以下之式自所獲得之平均反射率(R)求出折射率(n)之值。底塗層及硬塗層係將各自之原料組成物塗佈於未經易接著處理的50 μm之PET上 而製成1~3 μm之厚度之硬化膜，為了防止背面反射而將大於測定光點面積之寬度之黑聚氯乙烯絕緣帶(例如Yamato聚氯乙烯絕緣帶NO200-38-21，38 mm寬)貼附於PET的未經塗佈之面(背面)上，其後測定塗膜之平均反射率。
R(%)=(1-n)2/(1+n)2
關於聚酯基材之折射率，係使用兩塊偏光板，求出聚酯基材之配向軸方向(主軸之方向)，藉由阿貝折射率計(Atago公司製造之NAR-4T)求出相對於配向軸方向正交的兩個軸之折射率(nx、ny)。
於實施例中，藉由該方法測定折射率，但於為光學積層體之情形時，亦可藉由如上所述之貝克法而測定。
又，關於硬塗層於乾燥硬化後之膜厚之測定，亦可藉由剖面觀察而測定，此處簡易地使用作為厚度測定裝置之三豐公司製造的數顯量表IDF-130測定任意之10點並求出平均值。
又，底塗層之膜厚係藉由TEM照片觀察光學積層體之剖面而求出。
又，實施例及比較例中所使用之材料如下所述。
黏合劑成分(1)：日本化藥公司製造之多官能丙烯酸酯，商品名KAYARAD-PET-30(PETA(季戊四醇三丙烯酸酯：3官能)
黏合劑成分(2)：東亞合成公司製造之多官能低聚物，商品名Aronix M-9050(聚酯丙烯酸酯，3官能以上，數量 平均分子量400~5000)
黏合劑成分(3)：共榮社化學工業公司製造之商品名LINC-3A(氟單體)
高折射率微粒子分散液(1)：CIK NanoTek公司製造之TiO2微粒子之水分散液，商品名為氧化鈦漿料(固形物成分為20%之分散液)
高折射率微粒子分散液(2)：住友大阪水泥公司製造之ZrO2微粒子之MEK(Methyl Ethyl Ketone，甲基乙基酮)分散液，商品名MZ-230X(固形物成分為30%之分散液)
低折射率微粒子：中空二氧化矽微粒子之MIBK(Methyl Isobutyl Ketone，甲基異丁基酮)分散液(平均一次粒徑50 nm，固形物成分20%，空隙率40%)
光聚合起始劑(1)：BASF公司製造之商品名Irgacure 184
光聚合起始劑(2)：BASF公司製造之商品名Irgacure 127
防污劑：信越化學工業公司製造之X-22-164E(反應性聚矽氧系防污劑)
溶劑(1)：甲基乙基酮(縮寫：MEK)
溶劑(2)：甲苯
溶劑(3)：環己酮(縮寫：Anone)
溶劑(4)：甲基異丁基酮(縮寫：MIBK)
(底塗層用組成物、硬塗層用組成物及低折射率層用組成物之製備)
調配如下所示之組成之成分而分別製備底塗層用組成物、硬塗層用組成物及低折射率層用組成物。
(底塗層用組成物1)
(底塗層用組成物2)
(硬塗層用組成物1)
(硬塗層用組成物2)
(硬塗層用組成物3)
(低折射率層用組成物)
(不可見化用高折射率層用組成物)
(不可見化用低折射率層用組成物)
(實施例1)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於120℃下預熱1分鐘後，於120℃下以4.5倍之拉伸倍率拉伸，其後藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物1均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以1.5倍拉伸倍率拉伸而獲得延遲=10000 nm、膜厚=100 μm、nx=1.70、ny=1.60、△n=0.10之聚酯基材。再者，底塗層之折射率為1.65，膜厚為100 nm。
其後，於所形成之底塗層上藉由棒式塗佈機塗佈硬塗層用組成物1，於70℃下乾燥1分鐘並去除溶劑而形成塗膜。
繼而，對於該塗膜，使用紫外線照射裝置[Fusion UV System Japan公司製造：H Valve(商品名)]以150 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為6.0 μm之硬塗層而製造光學積層體。
再者，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例2)
除使用硬塗層用組成物3代替硬塗層用組成物1以外，以與實施例1相同之方式製造光學積層體。再者，硬塗層之折射率為1.61。
(實施例3)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於120℃下預熱1分鐘後，於120℃下以5.2倍拉伸倍率拉伸後，藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物2均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以1.2倍拉伸倍率拉伸而獲得延遲=9000 nm、膜厚=60 μm、nx=1.73、ny=1.58、△n=0.15之聚酯基材。再者，底塗層之折射率為1.57，膜厚為20 nm。
其後，於所形成之底塗層上藉由棒式塗佈機塗佈硬塗層用組成物1，於70℃下乾燥1分鐘並去除溶劑而形成塗膜。
繼而，對於該塗膜，使用紫外線照射裝置[Fusion UV System Japan公司製造：H Valve(商品名)]以150 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為6.0 μm之硬塗層而製造光學積層體。
再者，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例4)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於120℃下預熱1分鐘後，於120℃下以3.5倍拉伸倍率拉伸，其後藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物1均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以1.5倍拉伸倍率拉伸而獲得延遲=8750 nm、膜厚=125 μm、nx=1.685、ny=1.615、△n=0.07之聚酯基材。再者，底塗層之折射率為1.65，膜厚為300 nm。
其後，於所形成之底塗層上藉由棒式塗佈機塗佈硬塗層用組成物1，於70℃下乾燥1分鐘並去除溶劑而形成塗膜。
繼而，對於該塗膜，使用紫外線照射裝置[Fusion UV System Japan公司製造：H Valve(商品名)]以150 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為6.0 μm之硬塗層而製造光學積層體。
再者，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例5)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於120℃下預熱1分鐘後，於120℃下以5.2倍拉伸倍率拉伸，其後藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物1均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以拉伸倍率1.2倍進行拉伸，而獲得延遲=9000 nm、膜厚=60 μm、nx=1.73、ny=1.58、△n=0.15之聚酯基材。再者，底塗層之折射率為1.65，膜厚為300 nm。
其後，於所形成之底塗層上藉由棒式塗佈機塗佈硬塗層用組成物1，於70℃下乾燥1分鐘並去除溶劑而形成塗膜。
繼而，對於該塗膜，使用紫外線照射裝置[Fusion UV System Japan公司製造：H Valve(商品名)]以150 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為6.0 μm之硬塗層而製造光學積層體。
再者，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例6)
除使用底塗層用組成物2代替底塗層用組成物1以外，以與實施例1相同之方式製造光學積層體。
再者，聚酯基材之延遲=10000 nm、膜厚=100 μm、nx=1.70、ny=1.60、△n=0.10，底塗層之折射率為1.57，膜厚為20 nm。又，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例7)
除使用硬塗層用組成物3代替硬塗層用組成物1並將底塗層之膜厚設為10 nm以外，以與實施例6相同之方式製造光學積層體。再者，硬塗層之折射率為1.61。
(實施例8)
於與實施例6相同之條件下形成聚酯基材、底塗層及硬塗層，繼而，使用棒式塗佈機將低折射率層用組成物塗佈於該硬塗層上而形成塗膜。以與硬塗層相同之方式對該塗膜進行乾燥、紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為100 nm之低折射率層而製造具有低折射率層之光學積層體。
(實施例9)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於120℃下預熱1分鐘後，於120℃下以3.5倍拉伸倍率拉伸，其後藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物2均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以1.5倍拉伸倍率拉伸，而獲得延遲=8750 nm、膜厚=125 μm、nx=1.685、ny=1.615、△n=0.07之聚隔酯基材。再者，底塗層之折射率為1.57，膜厚為20 nm。
其後，藉由棒式塗佈機將硬塗層用組成物1塗佈於所形成之底塗層上，於70℃下乾燥1分鐘，並去除溶劑而形 成塗膜。
繼而，對該塗膜使用紫外線照射裝置[Fusion UV System Japan公司製造：H Valve(商品名)]，以照射量150 mJ/cm2進行紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為6.0 μm之硬塗層，而製造光學積層體。
再者，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例10)
除使用底塗層用組成物2代替底塗層用組成物1以外，以與實施例1相同之方式製造光學積層體。
再者，聚酯基材之延遲=10000 nm、膜厚=100 μm、nx=1.70、ny=1.60、△n=0.10，底塗層之折射率為1.57，膜厚為3 nm。又，硬塗層之折射率為1.65。
(實施例11)
除使用底塗層用組成物2代替底塗層用組成物1以外，以與實施例1相同之方式製造光學積層體。
再者，聚酯基材之延遲=10000 nm、膜厚=100 μm、nx=1.70.ny=1.60、△n=0.10，底塗層之折射率為1.57，膜厚為30 nm。又，硬塗層之折射率為1.65。
(比較例1)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)，將該未拉伸膜於120℃下預熱1分鐘後，於120℃下，以拉伸倍 率4.5倍拉伸，其後，藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物2均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以拉伸倍率1.5倍進行拉伸，而獲得延遲=10000 nm、膜厚=100 μm、nx=1.70、ny=1.60、△n=0.10之聚酯基材。再者，底塗層之折射率為1.57，膜厚為100 nm。
其後，於與實施例1相同之條件下，形成硬塗層，而製造光學積層體。再者，硬塗層之折射率為1.65。
(比較例2)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於120℃下1分鐘預熱後，於120℃下以拉伸倍率1.5倍拉伸，其後藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物2均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以拉伸倍率1.5倍拉伸而獲得延遲=10000 nm、膜厚=100 μm、nx=1.70、ny=1.60、△n=0.10之聚酯基材。再者，底塗層之折射率為1.57，膜厚為20 nm。
其後，於所形成之底塗層上藉由棒式塗佈機塗佈硬塗層用組成物2，於70℃下乾燥1分鐘並去除溶劑而形成塗膜。
繼而，對於該塗膜，使用紫外線照射裝置[Fusion UV System Japan公司製造：H Valve(商品名)]以150 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射，形成乾燥硬化後之膜厚為6.0 μm之硬塗層而製造光學積層體。再者，硬塗層之折射率為1.52。
(比較例3)
除使用東洋紡公司製造之PET膜「A4100」(延遲=6200 nm、膜厚=188 μm、△n=0.033)作為聚酯基材以外，於與實施例1相同之塗佈條件下形成底塗層及硬塗層而製造光學積層體。再者，硬塗層之折射率為1.65。
(比較例4)
使熔融聚對苯二甲酸乙二酯於290℃下熔融，通過膜形成模具而擠出為片狀，使其密接於經水冷冷卻之旋轉急冷轉鼓上而加以冷卻，從而製作未拉伸膜。
藉由雙軸拉伸試驗裝置(東洋精機公司製造)將該未拉伸膜於150℃下預熱1分鐘後，於150℃下以8.0倍拉伸倍率拉伸後，藉由輥式塗佈機將底塗層用組成物1均勻地塗佈於其雙面上。
繼而，繼續於95℃下使該塗佈膜乾燥，於與其拉伸方向成90度之方向上以1.0倍拉伸倍率拉伸而獲得延遲=12500 nm、膜厚=50 μm、nx=1.80、ny=1.55、△n=0.025之聚酯基材。
然而，於上述條件下製作之基材會產生膜之開裂、破裂，缺乏實用性，無法進行硬塗組成物之塗敷，且無法進 行評價。
(比較例5)
除將底塗層之膜厚設為40 nm以外，於與實施例7相同之條件下製造光學積層體。
(比較例6)
除將底塗層之膜厚設為1 nm以外，於與實施例7相同之條件下製造光學積層體。
對於實施例及比較例中獲得之光學積層體進行以下之評價。將結果示於表1中。
(虹不均評價)
將於實施例、比較例中製作之光學積層體配置於液晶監視器(FLATORON IPS226V(LG Electronics Japan公司製造))的觀察者側之偏光元件上而製作液晶顯示裝置。再者，以使聚酯基材之遲相軸與液晶監視器之觀察者側的偏光元件之吸收軸所成之角度成為0°之方式進行配置。
並且，於暗處及明處(液晶監視器周邊照度400勒克斯)，自正面及傾斜方向(約50度)進行目測及隔著偏光太陽眼鏡對顯示影像之觀察，依據以下之基準評價虹不均之有無。隔著偏光太陽眼鏡之觀察與目測相比為非常嚴格之評價法。觀察係由10人進行，將最多數之評價作為觀察結果。
◎：隔著偏光太陽眼鏡未觀察到虹不均。
○：雖隔著偏光太陽眼鏡觀察到虹不均，但較淡，目測未觀察到虹不均，於實用上不存在問題之水準。
△：隔著偏光太陽眼鏡虹觀察到不均，目測觀察到極淡之虹不均。
×：隔著偏光太陽眼鏡觀察到較強之虹不均，目測亦觀察到虹不均。
(干涉條紋之評價)
使用Funatech公司製造之干涉條紋檢查燈(Na燈)目測檢查干涉條紋之有無，以下述基準進行評價。利用黑色油墨將樣品之塗敷面之相反側全部塗抹，使塗敷面與干涉條紋檢查燈接觸，藉由反射觀察進行評價。
◎：未觀察到干涉條紋之產生。
○：雖觀察到干涉條紋，但極淡，為實用上不存在問題之水準。
△：觀察到較淡之干涉條紋。
×：清楚地觀察到干涉條紋。
(密接性之評價)
進行如下所示之棋盤格密接性試驗的密接率之測定。
(棋盤格密接性試驗)
於光學積層體之塗佈面側畫出1 mm見方且合計100格之棋盤格，使用Nichiban公司製造之工業用24 mm Sellotape(註冊商標)而進行5次連續剝離試驗，求出基於下述基準算出之未剝離而殘留的柵格之比例。
密接率(%)={未剝離之柵格之數/合計之柵格數(100)}×100
○：密接率為90%以上。
×：密接率未達90%。
(反射率之測定)
反射率之測定係使用日本分光公司製造之商品名V7100型紫外可見分光光度計及日本分光公司製造之商品名VAR-7010絕對反射率測定裝置，將入射角設為5°，將偏光片設為N偏光，將測定波長範圍設為380~780 nm，為了防止背面反射而將黑聚氯乙烯絕緣帶貼合於與加工面為相反側之聚酯基材側(例如Yamato聚氯乙烯絕緣帶NO200-38-21，38 mm寬度)，並將其設置於裝置上而進行測定。再者，將於測定波長範圍內求出之測定結果之平均值設為反射率，對設置有低折射率層之光學積層體進行測定。
根據表1而明確：實施例1~11之光學積層體係虹不均之評價優異，亦可較佳地抑制干涉條紋，且密接性亦優異。又，於實施例7中，硬塗層之折射率(nh)與聚酯基材之進相軸方向的折射率(ny)之差(nh-ny)較小而為0.01，故而干涉條紋之評價稍差。又，於實施例8中，將控制折射率之層之低折射率層積層，且抗反射特性亦優異。又，於實施例4及9中，聚酯基材之延遲為8750 nm，與其他實施例相比，為較小之值，故而稍差於虹不均之評價。又，於實施例11中，底塗層之厚度(30 nm)厚於實施例10的底塗層之厚度(3 nm)，該底塗層之厚度對干涉條紋之防止造成影響而稍差。又，於比較例1、2之光學積層體中，虹不均之評價雖良好，但產生干涉條紋，於比較例3之光學積層體中，雖可抑制干涉條紋，但觀察到較強之虹不均。關於比較例4之聚酯基材，基材本身產生開裂、破裂，缺乏實用性。於比較例5中，底塗層之膜厚偏離本發明之範圍，且觀察到干涉條紋。於比較例6中，底塗層之膜厚較薄，缺乏密接性。
(參考例1)
除將對硬塗層用組成物之塗膜照射之紫外線照射量設為50 mJ/cm2以外，以與實施例1相同之方式製造積層有折射率為1.65之硬塗層之光學積層體。
繼而，於該硬塗層上藉由棒式塗佈機塗佈不可見化用高折射率層用組成物，於60℃下將該塗膜乾燥1分鐘而去除溶劑，其後使用Fusion UV System Japan公司製造之H Valve(商品名)以50 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射而形成乾燥硬化後之膜厚為45 nm、折射率為1.70之高折射率層。
繼而，於該高折射率層上藉由棒式塗佈機塗佈不可見化用低折射率層用組成物，將塗膜於60℃下乾燥1分鐘而去除溶劑，其後使用Fusion UV System Japan公司製造之H Valve(商品名)以100 mJ/cm2之照射量進行紫外線照射而形成乾燥硬化後之膜厚為45 nm、折射率為1.46之低折射率層。
繼而，於該低折射率層上，於由氬氣97%與氧氣3%所構成之0.4 Pa之氣體環境中，藉由使用氧化銦97重量%、氧化錫3重量%之燒結體材料的反應性濺鍍法形成厚度為30 nm之ITO膜(折射率1.95)而製成透明導電體層並形成不可見電極。
(利用ITO膜之蝕刻之圖案化)
於所獲得之透明導電體層上塗佈圖案化為條紋狀之光阻劑，乾燥硬化後於25℃、5%之鹽酸(氯化氫水溶液)中浸漬1分鐘而進行ITO膜之蝕刻。其後，去除光阻劑。
(透明導電體層之利用退火處理之結晶化)
於使上述ITO膜圖案化後，對上述光學積層體於140℃下進行90分鐘之加熱處理而進行ITO膜之結晶化。
藉由該處理，可獲得良好之耐化學品性等物性。
根據以上內容，獲得具有經圖案化之不可見電極之光學積層體。
(參考例2)
以與實施例1相同之方式製造積層有硬塗層之光學積層體。
繼而，於該硬塗層上以與參考例1相同之方式僅積層形成由ITO膜所構成之透明導電體層。繼而，進行利用ITO膜之蝕刻的圖案化與透明導電體層之結晶化處理而獲得具有透明導電體層之光學積層體。
(電極之不可見性評價)
對參考例中獲得之光學積層體，藉由以下之方法目測評價透明導電體層是否實現不可見化。
再者，關於透明導電體層之圖案，於螢光燈下之明室中存在如下情形：於斷開顯示器之電源之狀態、即背景為黑畫面之狀態下，可藉由反射光而觀察到之情形；及於接通顯示器之電源之狀態、即為白畫面之狀態下，可藉由穿透光而觀察到之情形，故而對兩者之狀態進行雙重檢查。
(評價方法)
(1)反射光評價：於螢光燈(Panasonic公司製造之32W FHF32EX-n-NU)下之房間中，以使黑板之上方成為透明導電體層側上方之方式放置黑板(距螢光燈1.5 m之位置)，自距光學積層體30 cm之位置目測觀察反射光而評價圖案部與非圖案部是否實現不可見化。
(2)穿透光評價：於螢光燈下之房間中，於距螢光燈(Panasonic公司製造之32W FHF32EX-n-NU)1.5 m之位置，以經由光學積層體而觀察螢光燈之方式配置該光學積 層體，目測觀察光學積層體之穿透光而評價圖案部與非圖案部是否實現不可見化。評價基準如下所述。
○：於(1)、(2)兩者之評價中，未目測到圖案部與非圖案部，可實現不可見化。
×：於(1)、(2)任一者或兩者之評價中，可清楚地辨別圖案部與非圖案部。
其結果，參考例1之光學積層體係不可見電極發揮作用而評價為○，參考例2由於並非不可見電極之構成，故而清楚地觀察到透明導電體層之圖案而將其評價為×。
[產業上之可利用性]
本發明之光學積層體可較佳地用於陰極線管顯示裝置(CRT)、液晶顯示器(LCD)、電漿顯示器(PDP)、電致發光顯示器(ELD)、觸控面板、電子紙、平板PC等顯示器，尤其是高精細化顯示器。
10、20‧‧‧光學積層體
11、21、31、41‧‧‧聚酯基材
12、22、32、42‧‧‧底塗層
13、23、33、43‧‧‧硬塗層
30、40‧‧‧觸控面板
34、44‧‧‧不可見電極
35、45‧‧‧高折射率層
36、46‧‧‧低折射率層
37、47‧‧‧透明導電體層
38、48、300‧‧‧黏著層
39、49‧‧‧覆蓋玻璃
圖1係示意性地表示本發明之光學積層體之一例之剖面圖。
圖2係示意性地表示本發明之光學積層體之另外一例之剖面圖。
圖3係示意性地表示本發明之觸控面板之一例之剖面圖。
圖4係示意性地表示本發明之觸控面板之另外一例之剖面圖。
10‧‧‧光學積層體
11‧‧‧聚酯基材
12‧‧‧底塗層
13‧‧‧硬塗層

Claims (10)

  1. 一種光學積層體，係於聚酯基材上形成有底塗層且於該底塗層上形成有硬塗層者，其特徵在於：該聚酯基材具有8000 nm以上之延遲，且遲相軸方向之折射率(nx)與進相軸方向之折射率(ny)的差(nx-ny)為0.07~0.20，其中該遲相軸方向為折射率較大之方向，該進相軸方向為與該遲相軸方向正交之方向，該底塗層之折射率(np)、該聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<np<nx之關係，該硬塗層之折射率(nh)、該聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<nh<nx之關係。
  2. 一種光學積層體，係於聚酯基材上形成有底塗層且於該底塗層上形成有硬塗層者，其特徵在於：該聚酯基材具有8000 nm以上之延遲，且遲相軸方向之折射率(nx)與進相軸方向之折射率(ny)的差(nx-ny)為0.07~0.20，其中該遲相軸方向為折射率較大之方向，該進相軸方向為與該遲相軸方向正交之方向，該底塗層之厚度為3~30 nm，該硬塗層之折射率(nh)、該聚酯基材的遲相軸方向之折射率(nx)及進相軸方向之折射率(ny)具有ny<nh<nx之關係。
  3. 如申請專利範圍第2項之光學積層體，其中，聚酯基 材之進相軸方向之折射率(ny)與底塗層的折射率(np)具有ny>np之關係。
  4. 如申請專利範圍第3項之光學積層體，其中，聚酯基材之進相軸方向之折射率(ny)與底塗層的折射率(np)之差(ny-np)為0.05以下。
  5. 如申請專利範圍第2項、第3項或第4項之光學積層體，其中，聚酯基材之遲相軸方向之折射率(nx)與硬塗層的折射率(nh)之差(nx-nh)、及該硬塗層之折射率(nh)與該聚酯基材之進相軸方向的折射率(ny)之差(nh-ny)均為0.025以上。
  6. 如申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項或第5項之光學積層體，其中，於聚酯基材之雙面形成有底塗層及硬塗層。
  7. 一種偏光板，係具備偏光元件而成者，其特徵在於：於該偏光元件之表面具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之光學積層體。
  8. 一種影像顯示裝置，具備申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項、第5項或第6項之光學積層體、或申請專利範圍第7項之偏光板。
  9. 一種觸控面板，使用有申請專利範圍第1項、第2項、第3項、第4項或第5項之光學積層體，於該光學積層體硬塗層之與底塗層側為相反側的表面上設置有不可見電極。
  10. 一種觸控面板，使用有申請專利範圍第6項之光學 積層體，於該光學積層體至少一者之硬塗層之與底塗層側為相反側之表面上設置有不可見電極。
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