JP2013174856A - 偏光板、画像表示装置及びタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】ポリエステル基材とハードコート層との密着性に優れ、液晶表示装置の表示画像にニジムラ及び干渉縞が生じることを高度に抑制することができる光学積層体を提供する。
【解決手段】ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、上記プライマー層上にハードコート層が形成された光学積層体であって、上記ポリエステル基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０７〜０．２０であり、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘなる関係を有し、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有することを特徴とする光学積層体。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＥＬＤ又はＩＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置は、画像表示パネルの表示画面側に偏光子が配置され、更に、最表面に反射防止性、ハードコート性等の機能を有する光学積層体が設けられている。

従来、このような光学積層体の光透過性基材として、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルはリタデーション値が低いため、画像表示装置の表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、光学積層体を用いてなる偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。また、セルロースエステルフィルムは比較的廉価であるという点も寄与している。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、耐湿熱性に劣り、ハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。

このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを光学積層体の基材として用いることが望まれており、例えば、セルロースエステル代替フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００４−２０５７７３号公報

ところが、本発明者らの研究によると、セルロースエステルフィルム代替フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを用いた光学積層体を、偏光素子上に配置した場合、液晶表示装置に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が、特に表示画面を斜めから観察したときに生じ、液晶表示装置の表示品質が損なわれてしまうという問題点があることが判明した。

このようなポリエステルフィルムを用いた場合の問題に対して、更に検討したところ、光学積層体の光透過性基材として、ある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを用いることで、従来のポリエステルフィルムからなる光透過性基材を備えた光学積層体を用いた場合と比較して、ニジムラの問題を改善できることを見出した。
ところが、このようなある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを光透過性基材として用いた場合、ハードコート層との密着性を担保するためプライマー層が必須となるが、このような構成の光学積層体では、干渉縞の発生が問題となり画像表示装置の表示品質が著しく損なわれることが判明した。

本発明は、上記現状に鑑みて、ポリエステル基材とハードコート層との密着性に優れ、液晶表示装置の表示画像にニジムラ及び干渉縞が生じることを高度に抑制することができる光学積層体、該光学積層体を用いた偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とする。

第１の本発明は、偏光素子の表面に光学積層体を備えてなる偏光板であって、上記光学積層体は、ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、上記プライマー層上にハードコート層が形成されており、上記ポリエステル基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０７〜０．２０であり、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘなる関係を有し、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有し、上記ポリエステル基材の遅相軸と上記偏光素子の吸収軸とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設される偏光板である。

また、第２の本発明は、偏光素子の表面に光学積層体を備えてなる偏光板であって、上記光学積層体は、ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、上記プライマー層上にハードコート層が形成されており、上記ポリエステル基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０７〜０．２０であり、上記プライマー層は、厚みが３〜３０ｎｍであり、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有し、上記ポリエステル基材の遅相軸と上記偏光素子の吸収軸とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設されることを特徴とする偏光板である。

また、本発明は、第１の本発明の偏光板又は第２の本発明の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。

また、本発明は、第１の本発明の偏光板又は第２の本発明の偏光板を用いたタッチパネルであって、上記偏光板の光学積層体のハードコート層のプライマー層側と反対側の表面上に不可視電極が設けられていることを特徴とするタッチパネルでもある。
本発明のタッチパネルにおいて、上記不可視電極は、上記光学積層体のハードコート層側から高屈折率層と低屈折率層とが積層された構成を有し、上記高屈折率層は、屈折率が１．６７〜１．８５、膜厚が２０〜８０ｎｍであり、上記低屈折率層は、屈折率が１．４０〜１．５０、膜厚が２０〜８０ｎｍであることが好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も“樹脂”と記載する。
また、本発明に記載されるプライマー層、ハードコート層の屈折率及び膜厚は、全て硬化膜とした場合の屈折率及び膜厚である。

本発明者らは、上述した従来の問題に鑑みて鋭意検討した結果、ポリエステル基材を用い、該ポリエステル基材とハードコート層との間にプライマー層を設けた光学積層体において、ポリエステル基材を所定のリタデーション値を有するものとすることで表示画像のニジムラの発生を抑えることができ、更に、以下の知見に基づき、干渉縞の発生も抑制できることを見出し、第１の本発明の光学積層体及び第２の本発明の光学積層体を完成するに至った。

すなわち、ポリエステル基材、プライマー層及びハードコート層が積層されてなる光学積層体には、ポリエステル基材及びプライマー層の界面での反射光とプライマー層及びハードコート層の界面での反射光との干渉により生じる干渉縞、プライマー層及びハードコート層の界面での反射光とハードコート層の表面での反射光の干渉により生じる干渉縞、並びに、ポリエステル基材及びプライマー層の界面での反射光とハードコート層の表面での反射光との干渉により生じるにより生じる干渉縞があることを見出した。
また、干渉縞は、ポリエステル基材、プライマー層及びハードコート層に屈折率差がある場合に発生し、更に、理由は明確ではないが、プライマー層に厚みムラがある場合も干渉縞の発生に影響を及ぼしているものと考えられる。
そこで、本発明者らは、プライマー層及びハードコート層の屈折率を極めて高度に制御することで、該プライマー層、ポリエステル基材及びハードコート層での屈折率の差を事実上なくし、上述した干渉縞の発生を充分に抑制できることを見出し、第１の本発明の光学積層体を完成するに至った。
また、通常、プライマー層は、所定の材料を含有したプライマー層用組成物を塗布することで形成されており、該プライマー層用組成物の塗布量を完全に均一にすることは技術的に困難であった。このため、プライマー層用組成物の塗布量にある程度のバラツキが出ることは不可避であり、形成されるプライマー層の厚みムラを完全に解消することはできなかった。このため、本発明者らは、更に鋭意検討した結果、形成するプライマー層の厚みを極めて薄いものとすることで、その厚みムラも極めて小さなものとでき、プライマー層の厚みムラに起因すると考えられる人間の目で認識可能な干渉縞は発生せず、更に、ハードコート層の屈折率を極めて高度に制御して、ポリエステル基材とハードコート層との屈折率差を事実上なくすことで、上述した干渉縞が問題となることはないことを見出し、第２の本発明の光学積層体を完成するに至った。
なお、以下の説明において、第１の本発明の光学積層体と第２の本発明の光学積層体とに共通する部分については、両者をまとめて本発明の光学積層体として説明する。

図１は、本発明の光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示すように、本発明の光学積層体１０は、ポリエステル基材１１上にプライマー層１２が形成され、プライマー層１２上にハードコート層１３が形成されている。
このような構成の本発明の光学積層体において、上記ポリエステル基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有する。リタデーションが８０００ｎｍ未満であると、本発明の光学積層体を用いた液晶表示装置の表示画像にニジムラが生じてしまう。一方、上記ポリエステル基材のリタデーションの上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、これ以上の表示画像のニジムラ改善効果の向上が見られず、また、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記ポリエステル基材のリタデーションは、ニジムラ防止性及び薄膜化の観点から、１万〜２万ｎｍであることが好ましい。

なお、上記リタデーションとは、ポリエステル基材の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、ポリエステル基材の厚み（ｄ）とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５４８．２ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、ポリエステル基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。ポリエステル基材厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、分光光度計（島津製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めた。
プライマー層及びハードコート層の平均反射率（Ｒ）は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから各塗膜の平均反射率を測定した。ポリエステル基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）^２／（１＋ｎ）^２
また、光学積層体となった後にプライマー層やハードコート層の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。
ポリエステル基材の場合は、ベッケ法ではなく、プライマー層やハードコート層の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求めることが好ましい。
なお、本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０７〜０．２０である。上記Δｎが０．０７未満であると、充分なニジムラの抑制効果が得られず、また、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなる。一方、上記Δｎが０．２０を超えると、ポリエステル基材として、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下する。
上記Δｎの好ましい下限は０．０８、好ましい上限は０．１５である。なお、上記Δｎが０．１５を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎのより好ましい上限は０．１２である。
なお、上記（ｎｘ）としては、１．６７〜１．７８であることが好ましく、より好ましい下限は１．６９、より好ましい上限は１．７３である。また、上記（ｎｙ）としては、１．５５〜１．６５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．６２である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、好適なニジムラの抑制効果を得ることができる。

上記ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを例示することができる。
また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらの上記ポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い液晶表示装置を作製することが可能な、光学積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。

上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを８０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度としては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。

上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを８０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。

上記ポリエステル基材の厚みとしては、４０〜５００μｍの範囲内であることが好ましい。４０μｍ未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを８０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、５００μｍを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は５０μｍ、より好ましい上限は４００μｍであり、更により好ましい上限は３００μｍである。

また、上記ポリエステル基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

また、本発明において、上記ポリエステル基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。

本発明の光学積層体は、ポリエステル基材上にプライマー層を有する。
上記プライマー層は、ポリエステル基材とハードコート層の密着性向上を第一目的として設ける層である。
第１の本発明の光学積層体において、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘなる関係を有する。このような屈折率の関係を有することで、該プライマー層とポリエステル基材との屈折率差が低減され、第１の本発明の光学積層体に干渉縞の発生することを抑制することができる。
上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）は、上記したように上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）の最小屈折率（１．５５）から上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）の最大屈折率（１．７８）の間であるが、特に干渉縞発生防止に好ましい屈折率範囲は、１．５７〜１．６５である。

更に、第１の本発明の光学積層体において、後述するようにハードコート層の屈折率（ｎｈ）が上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）に対して特定の関係を有することで、更にプライマー層の屈折率が干渉縞防止性能に与える影響が少なくなる。
具体的には、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）は、上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）の最小屈折率（１．５５）から上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）の最大屈折率（１．７８）の間であるが、特に干渉縞発生防止に好ましい屈折率範囲は、１．５７〜１．６５であり、更に好ましい下限は１．６２である。

第１の本発明の光学積層体において、上記プライマー層の材料としては、上述した屈折率の条件を満たすものであれば特に限定されず、例えば、従来公知のものを適宜選択して用いてよく、例えば、熱硬化性又は熱可塑性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、これらの変性体等が挙げられる。また、プライマー層の屈折率を調整するために、高屈折率微粒子、キレート化合物等を添加することができる。

上記ポリエステル樹脂としては、例えば、下記の多塩基酸成分とジオール成分とから得られるポリエステルを用いることができる。
上記多価塩基成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。

また、上記ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコールを例示することができる。

また、上記アクリル樹脂としては、例えば、以下に例示されるモノマーを共重合することで得られるものが挙げられる。
上記モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー；メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンである。

また、上記ウレタン樹脂としては、例えば、ポリオール、ポリイソシアネート、鎖長延長剤、架橋剤等で構成されものが挙げられる。
上記ポリオールとしては、例えば、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエーテル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン等を含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カーボネート結合を有するポリカーボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。

また、上記ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。

また、上記鎖延長剤あるいは架橋剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、水等が挙げられる。

上記高屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が１．６０〜２．８０の金属酸化物微粒子等が好適に用いられる。
上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ_２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、五酸化ニオブ（Ｎｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．３３）、酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５：屈折率２．１６）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径が１００ｎｍを超えると、上記プライマー層に光学散乱が発生し、透明性が悪くなることがあり、５ｎｍ未満であると微粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなって光学散乱が発生し、上記プライマー層の透明性が悪くなることがある。
これらの高屈折率微粒子の屈折率は、例えば、屈折率がわかっている熱可塑性の樹脂と、質量を測定した金属酸化物とを混合した後、適当な厚さの透明なペレットに成型し、このペレットの屈折率測定を行い、上記屈折率既知の樹脂との配合比から高屈折率微粒子の屈折率を算出できる。上記屈折率測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ａ法に従ったベッケ法によりアッベ屈折計により求めることができ、例えば、アタゴ社製ＤＲ−Ｍ４を用いることができる。なお、屈折率を測定する波長は５８９ｎｍとする。
また、上記平均一次粒子径は、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡観察による画像解析によって粒子２０個分の粒径の平均値として求めることができる。
上記高屈折率微粒子の含有量としては特に限定されず、例えば、プライマー層に添加する樹脂成分の硬化物の、予め測定した屈折率の値との加重平均で、形成するハードコート層の屈折率が上述した関係を満たすよう、その他の成分との関係で適宜調整すればよい。

また、上記キレート化合物としては、例えば、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物及び水溶性のジルコニウム化合物等が挙げられる。
上記水溶性のチタンキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジイソプロポキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。
また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、例えば、オキソチタンビス（モノアンモニウムオキサレート）等が挙げられる。
また、水溶性のジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。

第１の本発明の光学積層体において、上記プライマー層の厚さとしては、要求される性能に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、例えば、１０〜１０００ｎｍとすることができる。上記プライマー層の最大厚さは、５００ｎｍ以下であると第１の本発明の光学積層体の鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に従う）が向上できるので好ましく、特に３００ｎｍ以下であると、例えば厚さ８００ｎｍのときにＨであったものが２Ｈになるなど、鉛筆硬度が明確に向上するので更に好ましい。
第１の本発明の光学積層体は、上述のように上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）に対して特定の関係を有するものであるため、上記プライマー層の厚みを比較的広範囲に設定することができる。これは、第１の本発明の光学積層体では、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）が上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）に対して特定の関係を有することで、プライマー層の厚みが干渉縞防止性能に与える影響が少なくなるからである。従って、第１の本発明の光学積層体におけるプライマー層の厚みが後述する第２の本発明の光学積層体におけるプライマー層より厚い場合であっても、干渉縞防止性能は良好なものとなる。
なお、上記プライマー層の厚みは、例えば、上記プライマー層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより、任意の１０点を測定して得られた平均値（ｎｍ）である。非常に薄い厚みの場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定する。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を２等分した中心部分を境界線として測定する。

また、第２の本発明の光学積層体において、上記プライマー層は、厚みが３〜３０ｎｍである。３ｎｍ未満であると、上記ポリエステル基材とハードコート層との密着性が不充分となり、３０ｎｍを超えると、第２の本発明の光学積層体の干渉縞防止性が不充分となってしまう。第２の本発明の光学積層体におけるプライマー層の厚みの好ましい下限は１０ｎｍ、好ましい上限は２０ｎｍである。
第２の本発明の光学積層体におけるプライマー層の厚みは、上述した第１の本発明の光学積層体におけるプライマー層の厚みと同様にして測定して得られた値である。

なお、第２の本発明の光学積層体において、上記プライマー層の屈折率は特に限定されない。これは、第２の本発明の光学積層体では、上記プライマー層の厚みが極めて薄く、かつ、後述するようにハードコート層の屈折率（ｎｈ）が上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）に対して特定の関係を有することで、プライマー層の屈折率が干渉縞防止性能に与える影響が少なくなるからである。
このような第２の本発明の光学積層体におけるプライマー層を構成する材料としては特に限定されず、従来、光学積層体のプライマー層として用いられているものを用いることができる。
ただし、従来の光学積層体用のプライマー層の材料から考えた場合、密着性や硬度も満たすものを選択すると、上記プライマー層の屈折率は１．４７〜１．８０の範囲となるが、プライマー層厚みを制御しない場合と比較し、第２の本発明の光学積層体では、プライマー層の材料選択範囲が非常に大きく好ましい。
なお、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）は、後述するように上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）の最小屈折率（１．５５）から上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）の最大屈折率（１．７８）の間であるが、特に干渉縞防止に好ましい屈折率範囲は、１．５７〜１．６５であり、更に好ましい下限は１．６２である。

また、従来の光学積層体用のプライマー層の材料が上述した高屈折率微粒子を含まない場合、通常、プライマー層の屈折率（ｎｐ）は、ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）よりも低いものとなる。上記高屈折率微粒子を含むプライマー層は、製造コスト的に不利である場合でなく、該高屈折率微粒子とその他の樹脂材料との組み合わせを考慮する必要があるため、材料選択に制約がかかる。
このため、第２の本発明の光学積層体では、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）は、より小さな値、具体的には、上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と、上記プライマー層屈折率（ｎｐ）とが、ｎｙ＞ｎｐなる関係を有することが好ましい。このような屈折率の関係を有すると、従来の光学積層体におけるプライマー層では、該プライマー層の厚みが３０ｎｍを超えるような厚いものであったことから、干渉縞が発生するという問題があった。しかしながら、第２の本発明の光学積層体では、上記プライマー層の厚みが３〜３０ｎｍと極めて薄いものであるため、上記ｎｙ＞ｎｐなる関係を有する場合であっても、干渉縞の問題が生じることがない。

また、第２の本発明の光学積層体において、上記ｎｙ＞ｎｐなる関係を有する場合、上記プライマー層の屈折率（ｎｐ）は、上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）に可能な限り近い値であることが好ましく、具体的には、ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）と、プライマー層の屈折率（ｎｐ）との差（ｎｙ−ｎｐ）が０．０５以下であることが好ましい。０．０５を超えると、干渉縞を防止する効果が劣る恐れがある。

更に、第２の本発明の光学積層体の干渉縞防止性能が優れたものとなることから、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）とハードコート層の屈折率（ｎｈ）との差（ｎｘ−ｎｈ）、及び、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｈ−ｎｙ）が、いずれも０．０２５以上であることが好ましい。

本発明の光学積層体において、上記プライマー層は、上述した材料と、必要に応じて光重合開始剤及び他の成分とを溶媒中に混合分散させて調製したプライマー層用組成物を用いて形成することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。

上記溶媒としては、水が好ましく用いられ、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。また、多少の有機溶媒を含んでもよい。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル）等が挙げられる。

上記その他の成分としては特に限定されず、例えば、レベリング剤、有機又は無機微粒子、光重合開始剤、熱重合開始剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。

上記プライマー層用組成物は、総固形分が３〜２０％であることが好ましい。３％未満であると、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。２０％を超えると、プライマー層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出たり、所望の膜厚が得られないおそれがある。上記固形分は、４〜１０％であることがより好ましい。

上記プライマー層用組成物の上記ポリエステル基材への塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステル基材の製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステル基材に塗布することが好ましい。
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記プライマー層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び／又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記プライマー層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはプライマー層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。

上記プライマー層用組成物の塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独又は組合せて用いることができる。なお、塗膜は必要に応じポリエステル基材の片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。すなわち、図２に示したように、本発明の光学積層体２０は、ポリエステル基材２１の両面にプライマー層２２が形成され、このプライマー層２２のそれぞれポリエステル基材２１側と反対側面上にハードコート層２３が形成されていてもよい。なお、図２は、本発明の光学積層体の別の一例を模式的に示す断面図である。
更に、本発明の光学積層体は、上記ポリエステル基材の一方の面上に上述した第１の光学積層体におけるプライマー層を形成し、他方の面上に上述した第２の光学積層体におけるプライマー層を形成してもよく、この場合、上記第１の光学積層体におけるプライマー層のポリエステル基材側と反対側面上に後述する第１の光学積層体におけるハードコート層を形成し、上記第２の光学積層体におけるプライマー層のポリエステル基材側と反対側面上に後述する第２の光学積層体におけるハードコート層を形成する。

本発明の光学積層体は、上記プライマー層上にハードコート層が形成されている。
上記ハードコート層は、本発明の光学積層体の表面のハードコート性を担保する層であり、例えば、紫外線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。

本発明の光学積層体において、上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等及びこれらをエチレンオキサイド（ＥО）等で変性した多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。

上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量（数平均分子量３００〜８万、好ましくは４００〜５０００）のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。なお、この場合の樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマー全てを含む。
本発明における好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、塗硬度を良好にできる。
具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましい。

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

また、上記ハードコート層用組成物は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。

上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、上記光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

上記光重合開始剤としては、上記電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
本発明において用いる開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から好ましい。

上記ハードコート層用組成物にける上記光重合開始剤の含有量は、上記電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、第１の本発明の光学積層体におけるハードコート層の硬度を上述した範囲とすることができないことがあり、１０質量部を超えると、塗設した膜の深部まで電離放射線が届かなくなり内部硬化が促進されず、目標であるハードコート層の表面の鉛筆硬度３Ｈ以上が得られないおそれがあるためである。
上記光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は２質量部であり、より好ましい上限は８質量部である。上記光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。

上記ハードコート層用組成物は、溶剤を含有していてもよい。
上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
特に本発明においては、ケトン系の溶媒でメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか、又は、これらの混合物を少なくとも含むことが、樹脂との相溶性、塗工性に優れるという理由から好ましい。

上記ハードコート層用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。

上記ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、ブロッキングを防止する、屈折率を制御する、防眩性を付与する、粒子やハードコート層表面の性質を変える等の目的に応じて、従来公知の有機、無機微粒子、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。

また、上記ハードコート層用組成物は、光増感剤を混合して用いてもよく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。

上記ハードコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。

また、上記ハードコート層用組成物を上記プライマー層上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。

本発明の光学積層体において、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有する。本発明の光学積層体では、ハードコート層がポリエステル基材の屈折率に対して上記関係を有するとともに、第１の本発明の光学積層体では、プライマー層が上述のように特定の屈折率（ｎｐ）を有し、第２の本発明の光学積層体では、プライマー層が上述のように極めて薄いため、いずれも干渉縞の発生を好適に防止することができる。
なお、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）及びプライマー層の屈折率（ｎｐ）が、いずれも上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との間に存在している第１の本発明の光学積層体は、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）とプライマー層の屈折率（ｎｐ）との差が小さく、これらの層間での屈折率差を事実上なくしていることを意味している。上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）とプライマー層の屈折率（ｎｐ）との差を事実上なくしていることで、該ハードコート層とプライマー層との界面での反射が抑制され、その結果、干渉縞の発生を好適に防止することができる。なお、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）とプライマー層の屈折率（ｎｐ）との差を事実上なくしているとは、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）とプライマー層の屈折率（ｎｐ）との差の絶対値（｜ｎｈ−ｎｐ｜）が０．０５以下である場合をいう。

また、第２の本発明の光学積層体において、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）は、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）に対して上記関係を満たすが、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）により近い値の場合、該ハードコート層がより高い屈折率を有することとなるため、第２の本発明の光学積層体を後述するタッチパネルに用いる場合、最表面に形成するＩＴＯ等の電極の屈折率に近くなるため、該電極のパターンの不可視化に有利となる。
また、上記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）が、上記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との中間の値であるか、上記ポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）により近い値の場合、第２の本発明の光学積層体は、干渉縞防止性能が極めて優れたものとなる。

このような本発明の光学積層体におけるハードコート層は、上述したハードコート層用組成物に、高屈折率微粒子を含有する高屈折率ハードコート層用組成物を用いて形成することが好ましい。上記高屈折率微粒子を含有することで上記ハードコート層の屈折率を上記ポリエステル基材の屈折率に対して上述した関係を有するものとすることができる。

上記高屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が１．５０〜２．８０の金属酸化物微粒子等が好適に用いられる。上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ_２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ_２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ_２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。なかでも、酸化錫（ＳｎＯ_２）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、燐錫化合物（ＰＴＯ）、酸化アンチモン（Ｓｂ_２Ｏ_５）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ_２Ｏ_６）は、導電性金属酸化物であり、微粒子の拡散状態を制御し、導電パスを形成することで、帯電防止性を付与できるという利点がある。

上記高屈折率微粒子の含有量としては特に限定されず、例えば、ハードコート層用組成物に添加する樹脂成分の硬化物の、予め測定した屈折率の値との加重平均で、形成するハードコート層の屈折率が上述した関係を満たすよう、その他の成分との関係で適宜調整すればよい。

上述したハードコート層用組成物を、上記プライマー層上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、グラビアコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。

上記プライマー層上に上記ハードコート層用組成物を塗布して形成した塗膜は、必要に応じて加熱及び／又は乾燥し、活性エネルギー線照射等により硬化させることが好ましい。

上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

なお、上記ハードコート層の好ましい膜厚（硬化時）は０．５〜１００μｍ、より好ましくは０．８〜２０μｍ、カール防止性やクラック防止性が特に優れるので、もっとも好ましくは２〜１０μｍの範囲である。上記ハードコート層の膜厚は、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、任意の１０点を測定した平均値（μｍ）である。ハードコート層の膜厚は、このほかの方法として、厚さ測定装置ミツトヨ社製のデジマチックインジケーターＩＤＦ−１３０を用いて任意の１０点を測定し、平均値を求めてもよい。

上記ハードコート層用組成物中に帯電防止剤を含有させることで、上記ハードコート層に帯電防止性能を付与することがでる。
上記帯電防止剤としては従来公知のものを用いることができ、例えば、第４級アンモニウム塩等のカチオン性帯電防止剤や、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）等の微粒子や、導電性ポリマー等を用いることができる。
上記帯電防止剤を用いる場合、その含有量は、全固形分の合計質量に対して１〜３０質量％であることが好ましい。

また、本発明の光学積層体は、上記ハードコート層上に更に低屈折率層を有することが好ましい。
上記低屈折率層としては、好ましくは１）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成される。フッ素系樹脂以外の樹脂については、上述したバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４７以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は１０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。

上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。

上記電離放射線で硬化する官能基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとしては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。

上記熱硬化する極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等が挙げられる。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。

また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体など。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。

更には、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。

また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、上記に記載したような各バインダー樹脂を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。

上記低屈折率層の形成においては、低屈折率剤及び樹脂等を添加してなる低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｍＰａ・ｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止層を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ、密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、後述するハードコート層における硬化手段と同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

本発明の光学積層体の製造方法としては、例えば、上述した方法でポリエステル基材上に形成したプライマー層に、ハードコート層用塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記ハードコート層用塗膜を硬化させてハードコート層を形成する。そして、必要に応じて上記低屈折率層を上記ハードコート層上に公知の方法で形成することで本発明の光学積層体を製造することができる。
また、上記ハードコート層用塗膜の乾燥の方法としては特に限定されないが、一般的に３０〜１２０℃で３〜１２０秒間乾燥を行うとよい。

上記ハードコート層用塗膜を硬化させる方法としては、構成成分に応じて公知の方法を適宜選択すればよい。例えば、含有するバインダー樹脂成分が紫外線硬化型のものであれば、塗膜に紫外線を照射することにより硬化させればよい。
上記紫外線を照射する場合は、紫外線照射量が８０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上であることがより好ましく、１３０ｍＪ／ｃｍ^２以上であることが更に好ましい。

本発明の光学積層体は、硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、ＨＢ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。

また、本発明の光学積層体は、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。８０％未満であると、画像表示装置に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、９０％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。

また、本発明の光学積層体は、ヘイズが１％以下であることが好ましい。１％を超えると、所望の光学特性が得られず、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性が低下する。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。

また、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光素子の表面に、ポリエステル基材を貼り合わせる等して本発明の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板も本発明の１つである。

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明のハードコートフィルムとのラミネート処理においては、光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好となる。

このような本発明の光学積層体を用いた本発明の偏光板において、上記光学積層体は、上記ポリエステル基材の遅相軸と後述する偏光素子（液晶セルの視認側に配置された偏光素子）の吸収軸とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設されることが好ましい。上記ポリエステル基材の遅相軸と偏光板の吸収軸とのなす角度が上記範囲内にあることで、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置の表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる。この理由は明確ではないが、以下の理由によると考えられる。
すなわち、外光や蛍光灯の光のない環境下（以下、このような環境下を「暗所」ともいう）では、本発明の光学積層体のポリエステル基材の遅相軸と偏光板の吸収軸とのなす角度は、どのような角度であってもニジムラの発生を抑制できる。しかしながら、外光や蛍光灯の光のある環境下（以下、このような環境下を「明所」ともいう）においては、外光や蛍光灯の光は、連続的な幅広いスペクトルを有するものばかりではないため、ポリエステル基材の遅相軸と偏光素子の吸収軸とのなす角度を上述の範囲にしないと、ニジムラが生じてしまい表示品位が低下してしまう。
更に、液晶表示装置におけるカラーフィルターを透過したバックライトの光も連続的な幅広いスペクトルを有するものばかりではくなるため、ポリエステル基材の遅相軸と偏光素子の吸収軸とのなす角度を上述の範囲にしないと、ニジムラが生じてしまい表示品位が低下してしまうと推測している。

本発明はまた、上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等が挙げられる。

上記ＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側（基材側）から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

上記ＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。

その他の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。

本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、タッチパネル、電子ペーパー等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。

なかでも、本発明の光学積層体は、タッチパネルに好適に用いることができる。このような本発明の光学積層体を用いたタッチパネルもまた、本発明の一つである。
すなわち、本発明のタッチパネルは、本発明の光学積層体を用いたタッチパネルであって、上記光学積層体のハードコート層のプライマー層側と反対側の表面上に不可視電極が設けられていることを特徴とする。
ここで、一般的に、タッチパネルには、位置検出の方法により、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などが知られている。
上記抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電性フィルムと透明導電体層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、透明導電性フィルムに電流を流し透明導電体層付ガラスにおける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電層を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、液晶表示ディスプレイ、携帯電話及び車載用ディスプレイ等において適用されている。
上記タッチパネルにおいて、透明導電体層をパターン化する場合がある。しかしながら、上記透明導電体層をパターン化すると、パターン部と非パターン化部とでは、透明導電体層を構成する材料が一般的に高屈折率であるために、パターン部と非パターン部との屈折率差などの相違が明確化して、表示画面からパターン部分が見えてしまい、ディスプレイとしての外観を損なうだけではなく、表示画面の視認性も損なう。
特に、静電容量方式のタッチパネルにおいては、透明導電体層が入射表面側に用いられるためその影響が強く、透明導電体層をパターン化した場合にもそのパターンが表示画面から見えないようにする不可視化させた不可視電極であることが望まれている。

なお、上記不可視電極とは、透明導電体層の電極パターンが表示画面側から視認できないようにするための光学機能層が積層された状態の電極であり、その構成としては、高屈折率層、低屈折率層及び透明導電体層がこの順に積層された構成が挙げられる。このような構成の不可視電極は、上記高屈折率層及び低屈折率層の屈折率と膜厚とを、後述する範囲で組み合わせることで不可視化することが可能になり、また、上述したハードコート層の表示画面側の表面に、上記透明導電体層が最表面となるように積層される。
本発明のタッチパネルは、上記不可視電極が設けられており、特に、静電容量方式のタッチパネルであることが好ましい。

また、本発明の光学積層体が、ポリエステル基材の両面にプライマー層及びハードコート層が形成された構成の場合、本発明のタッチパネルは、上記不可視電極は、該光学積層体の少なくとも一方のハードコート層の、プライマー層側と反対側の表面上に不可視電極が設けられている。このような構成のタッチパネルもまた、本発明の一つである。
図３は、本発明のタッチパネルの一例を模式的に示す断面図である。
図３に示した本発明のタッチパネル３０において、本発明の光学積層体は、ポリエステル基材３１の両面にプライマー層３２が形成され、このプライマー層３２のそれぞれポリエステル基材３１側と反対側面上にハードコート層３３が形成されている。そしてこのような本発明の光学積層体は、粘着層３００を介して２層積層されている（以下、表示画面側の光学積層体を上層の光学積層体、他方の光学積層体を下層の光学積層体ともいう）。更に、上層の光学積層体及び下層の光学積層体は、それぞれ、表示画面側のハードコート層３３の面上に不可視電極３４が積層されている。この不可視電極３４は、ハードコート層３３側から高屈折率層３５、低屈折率層３６及び透明導電体層３７がこの順に積層されている。
このような本発明のタッチパネル３０は、粘着層３００を介して、下層の光学積層体の不可視電極３４と、上層の光学積層体の表示画面側と反対側のハードコート層３３とが積層されている。
また、上層の光学積層体のハードコート層３３のプライマー層３２側と反対側に積層された不可視電極３４は、粘着層３８を介してカバーガラス３９が設けられ、このカバーガラス３９が最表面を構成している。

また、図４は、本発明のタッチパネルの別の一例を模式的に示す断面図である。
図４に示したように、本発明のタッチパネル４０は、ポリエステル基材４１の両面にプライマー層４２が形成され、このプライマー層４２のそれぞれポリエステル基材４１側と反対側面上にハードコート層４３が形成されており、更にこのハードコート４３のプライマー層４２側と反対側の面上に不可視電極４４が形成されている。この不可視電極４４は、ハードコート層４３側から高屈折率層４５、低屈折率層４６及び透明導電体層４７がこの順に積層されている。そして、表示画面側の不可視電極４４には粘着層４８を介してカバーガラス４９が設けられ、このカバーガラス４９が最表面を構成している。

なお、図３及び図４における粘着層３００、３８及び４８、並びに、カバーガラス３９、４９としては特に限定されず、公知のタッチパネルにおいて用いられている粘着層及びカバーガラスと同様のものが用いられる。また、上記カバーガラスは、プラスチックフィルムであってもよい。
また、図３及び図４に示した本発明のタッチパネルは、いずれもポリエステル基材の両面にプライマー層及びハードコート層が形成された本発明の光学積層体を用いているが、本発明の光学積層体がポリエステル基材の両面にプライマー層及びハードコート層が形成されたものである場合、本発明のタッチパネルは、図３及び４に示した構成に限定されるものではない。

上記構成の不可視電極は、例えば、気相法（化学的気相法：ＣＶＤや、物理的気相法：ＰＶＤ）によるコーティングや、液相法によるコーティングにより積層し、形成することができる。
上記不可視電極において、上記高屈折率層は、屈折率が１．６７〜１．８５、膜厚が２０〜８０ｎｍであり、かつ、上記低屈折率層は、屈折率が１．４０〜１．５０、膜厚が２０〜８０ｎｍであることが好ましい。上記高屈折率層及び低屈折率層の屈折率及び膜厚をこれらの範囲で適宜組み合わせて、上記透明電極層を不可視化できる組み合わせを用いるのがよい。なお、高屈折率とは、高屈折率層の下の層であるハードコート層よりも屈折率が高いこと、低屈折率とは、低屈折率層の下の層である高屈折率層よりも屈折率が低いことをいう。

上記不可視電極を気相法によるコーティングで積層形成した場合、上記高屈折率層としては、屈折率が１．６７〜２．５０のものを用いることができる。
一方、上記不可視電極を液相法によるコーティングで積層形成した場合、上記高屈折率層及び低屈折率層の材料は特に限定はないが、バインダーマトリックス中に平均１次粒子径が１０〜１００ｎｍの高屈折率超微粒子又は低屈折率超微粒子を有機溶剤や分散剤などの添加剤とあわせて均一分散させた組成物を適切な塗布方法を選択して塗布し、乾燥、硬化（熱硬化、ＵＶ硬化、ＥＢ硬化）することで得られる。
その他、上記高屈折率超微粒子を用いずに、バインダー樹脂自身が高屈折率樹脂や低屈折率樹脂である化合物を組成物として用いることもできる。

上記バインダーマトリックスとしては、膜強度を充分に保持させることのできる化合物、例えば、熱及びＵＶやＥＢに反応する反応性基を有する化合物であれば特に限定されない。このような化合物としては、例えば、分子中にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を少なくとも３個以上を有するアクリル系化合物や、ゾルゲル反応により硬化する材料であることが好ましい。上記ゾルゲル反応により硬化する材料としては、例えば、Ｒ’ｘ Ｓｉ（ＯＲ）４−ｘ（Ｒ：アルキル基、Ｒ’：末端にビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの重合可能な不飽和結合を有する官能基、ｘは０＜ｘ＜４の置換数）で表される化合物、及び、その加水分解物などが挙げられる。
また、上記バインダーとしては、上述したハードコート層の材料と同じ化合物であることが好ましく、例えば、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物であるＰＥＴＡ、ＰＥＴＴＡ、ＤＰＰＡ、ＤＰＨＡ、ＴＭＰＴＡなどが特に好ましい。
上記高屈折率超微粒子としては、屈折率が高く、かつ、無色であるか又はほとんど着色していない金属酸化物超微粒子が好ましく、ハードコート層の高屈折率化で用いる材料を使用できる。なかでも、ＴｉＯ_２（屈折率：２．７１）、ＺｒＯ_２（屈折率：２．１０）、Ｎｂ２Ｏ５（屈折率：２．３３）、Ｔａ_２Ｏ_５（屈折率：２．１６）が好適に用いられ、特に、透明導電体層パターンを不可視化でき、かつ、塗膜の透明性や耐久性などが良好であるためＺｒＯ_２粒子やＡＴＯ粒子が好ましい。
上記低屈折率層の材料は、本発明の光学積層体を反射防止フィルムにする場合に積層する低屈折率層と同様であってよい。

上記透明導電体層の構成材料としては特に限定されず、例えば、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。例えば、酸化スズを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）などが好ましく用いられる。

上記透明導電体層の厚さは特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０^３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、ある程度の膜厚が必要であるが、膜厚が厚くなりすぎると透明性の低下などをきたすため、上記厚さの好ましい下限は１５ｎｍ、好ましい上限は４５ｎｍであり、より好ましい下限は２０ｎｍ、より好ましい上限は３０ｎｍである。厚さが１５ｎｍ未満であると表面電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、４５ｎｍを超えると透明性の低下などをきたしてしまうことがある。

上記透明導電体層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。
なお、上記透明導電体層を上記低屈折率層上に形成した後、必要に応じて、１００〜１５０℃の範囲内でアニール処理を施して結晶化することができる。
本発明では、上記透明導電体層は、エッチングしてパターン化されていることが好ましい。上記透明導電体層を結晶化するとエッチングが困難になる場合があるため、上記透明導電体層のアニール化処理は、該透明導電体層をパターン化した後に行うことが好ましい。更には、上記高屈折率層及び低屈折率層をエッチングする場合には、該高屈折率層及び低屈折率層のエッチングの後に透明導電体層のアニール化処理を行うことが好ましい。

本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、ポリエステル基材とハードコート層との密着性に優れ、液晶表示装置の表示画像にニジムラ及び干渉縞が生じることを高度に抑制することができる。このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、電子ペーパー、タブレットＰＣ等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。

本発明の光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。 本発明の光学積層体の別の一例を模式的に示す断面図である。 本発明のタッチパネルの一例を模式的に示す断面図である。 本発明のタッチパネルの別の一例を模式的に示す断面図である。

本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。また、特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
また、プライマー層及びハードコート層の屈折率は、分光光度計（島津製作所社製のＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めた。プライマー層及びハードコート層は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから塗膜の平均反射率を測定した。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）^２／（１＋ｎ）^２
ポリエステル基材の屈折率は、二枚の偏光板を用いて、ポリエステル基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求めた。
実施例においては、この方法で屈折率を測定したが、光学積層体の場合は、上述したようなベッケ法によっても測定できる。
また、ハードコート層の乾燥硬化後の膜厚の測定は、断面観察でも測定できるが、ここでは簡易的に厚さ測定装置ミツトヨ社製のデジマチックインジケーターＩＤＦ−１３０を用いて任意の１０点を測定し、平均値を求めた。
また、プライマー層の膜厚は、光学積層体の断面をＴＥＭ写真で観察し、求めた。

また、実施例及び比較例で使用した材料は以下の通りである。
バインダー成分（１）：日本化薬社製の多官能アクリレート、商品名ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０ ＰＥＴＡ（ペンタエリスリトールトリアクリレート：３官能）
バインダー成分（２）：東亞合成社製の多官能オリゴマー、商品名アロニックスＭ−９０５０（ポリエステルアクリレート、３官能以上、数平均分子量４００〜５０００）
バインダー成分（３）：共栄社化学工業社製の商品名ＬＩＮＣ−３Ａ（フッ素モノマー）
高屈折率微粒子分散液（１）：ＣＩＫナノテック社製のＴｉＯ_２微粒子の水分散液、商品名酸化チタンスラリー（固形分２０％分散液）
高屈折率微粒子分散液（２）：住友大阪セメント社製のＺｒＯ２微粒子のＭＥＫ分散液、商品名ＭＺ−２３０Ｘ（固形分３０％分散液）
低屈折率微粒子：中空シリカ微粒子のＭＩＢＫ分散液（平均一次粒径５０ｎｍ、固形分２０％、空隙率４０％）
光重合開始剤（１）：ＢＡＳＦ社製の商品名イルガキュア１８４
光重合開始剤（２）：ＢＡＳＦ社製の商品名イルガキュア１２７
防汚剤：信越化学工業社製のＸ−２２−１６４Ｅ（反応性シリコーン系防汚剤）
溶剤（１）：メチルエチルケトン（略語：ＭＥＫ）
溶剤（２）：トルエン
溶剤（３）：シクロヘキサノン（略語：アノン）
溶剤（４）：メチルイソブチルケトン（略語：ＭＩＢＫ）

（プライマー層用組成物、ハードコート層用組成物及び低屈折率層用組成物の調製）
下記に示す組成の成分を配合してプライマー層用組成物、ハードコート層用組成物及び低屈折率層用組成物をそれぞれ調製した。
（プライマー層用組成物１）
ポリエステル樹脂の水分散体 ２０．７質量部
高屈折率微粒子分散液（１） ９．１質量部
水 ７０．２質量部

（プライマー層用組成物２）
ポリエステル樹脂の水分散体 ２８．０質量部
水 ７２．０質量部

（ハードコート層用組成物１）
高屈折率微粒子分散液（２）ＭＺ−２３０Ｘ ５８．８質量部
バインダー成分（１）ＰＥＴ−３０ １１．８質量部
溶剤（４）ＭＩＢＫ ２８．８質量部
光重合開始剤（１）イルガキュア１８４ ０．６質量部

（ハードコート層用組成物２）
バインダー成分（１）ＰＥＴ−３０ ５．７質量部
バインダー成分（２）Ｍ−９０５０ ２３．１質量部
溶剤（４）ＭＩＢＫ ７０．０質量部
光重合開始剤（１）イルガキュア１８４ １．２質量部

（ハードコート層用組成物３）
高屈折率微粒子分散液（２）ＭＺ−２３０Ｘ ４８．８質量部
バインダー成分（１）ＰＥＴ−３０ １４．６質量部
溶剤（４）ＭＩＢＫ ３５．９質量部
光重合開始剤（１）イルガキュア１８４ ０．７質量部

（低屈折率層用組成物）
中空シリカ微粒子分散液 １５．０質量部
バインダー成分（１）ＰＥＴ−３０ １．０質量部
バインダー成分（３）ＬＩＮＣ−３Ａ １．０質量部
溶剤（４）ＭＩＢＫ ８３．０質量部
光重合開始剤（２）イルガキュア１２７ ０．１質量部
防汚剤Ｘ−２２−１６４Ｅ ０．０５質量部

（不可視化用高屈折率層用組成物）
高屈折率微粒子分散液（２）ＭＺ−２３０Ｘ １１．０質量部
バインダー成分（１）ＰＥＴ−３０ １．６質量部
溶剤（４）ＭＩＢＫ ８７．３質量部
光重合開始剤（２）イルガキュア１２７ ０．１質量部

（不可視化用低屈折率層用組成物）
バインダー成分（１）ＰＥＴ−３０ ０．６質量部
バインダー成分（３）ＬＩＮＣ−３Ａ ２．２質量部
溶剤（４）ＭＩＢＫ ９７．０質量部
光重合開始剤（２）イルガキュア１２７ ０．２質量部
防汚剤Ｘ−２２−１６４Ｅ ０．０１質量部

（実施例１）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物１をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、Δｎ＝０．１０のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．６５、膜厚は１００ｎｍであった。

その後、形成したプライマー層上に、ハードコート層用組成物１をバーコーターにて塗布し、７０℃で１分間乾燥して、溶剤を除去して塗膜を形成した。
次いで、その塗膜に紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）〕を用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚６．０μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。
なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例２）
ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物３を用いた以外は実施例１と同様にして、光学積層体を製造した。なお、ハードコート層の屈折率は１．６１であった。

（実施例３）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率５．２倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物２をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．２倍にて延伸を行い、リタデーション＝９０００ｎｍ、膜厚＝６０μｍ、ｎｘ＝１．７３、ｎｙ＝１．５８、Δｎ＝０．１５のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は２０ｎｍであった。
その後、形成したプライマー層上に、ハードコート層用組成物１をバーコーターにて塗布し、７０℃で１分間乾燥して、溶剤を除去して塗膜を形成した。
次いで、その塗膜に紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）〕を用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚６．０μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。
なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例４）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率３．５倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物１をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝８７５０ｎｍ、膜厚＝１２５μｍ、ｎｘ＝１．６８５、ｎｙ＝１．６１５、Δｎ＝０．０７のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．６５、膜厚は３００ｎｍであった。
その後、形成したプライマー層上に、ハードコート層用組成物１をバーコーターにて塗布し、７０℃で１分間乾燥して、溶剤を除去して塗膜を形成した。
次いで、その塗膜に紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）〕を用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚６．０μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。
なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例５）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率５．２倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物１をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．２倍にて延伸を行い、リタデーション＝９０００ｎｍ、膜厚＝６０μｍ、ｎｘ＝１．７３、ｎｙ＝１．５８、Δｎ＝０．１５のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．６５、膜厚は３００ｎｍであった。
その後、形成したプライマー層上に、ハードコート層用組成物１をバーコーターにて塗布し、７０℃で１分間乾燥して、溶剤を除去して塗膜を形成した。
次いで、その塗膜に紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）〕を用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚６．０μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。
なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例６）
プライマー層用組成物１に代えて、プライマー層用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、ポリエステル基材のリタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、Δｎ＝０．１０であり、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は２０ｎｍであった。また、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例７）
ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物３を用い、プライマー層の膜厚を１０ｎｍとした以外は実施例６と同様にして、光学積層体を製造した。なお、ハードコート層の屈折率は１．６１であった。

（実施例８）
実施例６と同条件にて、ポリエステル基材、プライマー層及びハードコート層を形成し、次いで、そのハードコート層上に、バーコーターを用いて低屈折率層用組成物を塗布し、塗膜を形成した。その塗膜にハードコート層と同様に乾燥、紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚１００ｎｍの低屈折率層を形成し、低屈折率層を有する光学積層体を製造した。

（実施例９）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率３．５倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物２をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝８７５０ｎｍ、膜厚＝１２５μｍ、ｎｘ＝１．６８５、ｎｙ＝１．６１５、Δｎ＝０．０７のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は２０ｎｍであった。
その後、形成したプライマー層上に、ハードコート層用組成物１をバーコーターにて塗布し、７０℃で１分間乾燥して、溶剤を除去して塗膜を形成した。
次いで、その塗膜に紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）〕を用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚６．０μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。
なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例１０）
プライマー層用組成物１に代えて、プライマー層用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、ポリエステル基材のリタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、Δｎ＝０．１０であり、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は３ｎｍであった。また、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（実施例１１）
プライマー層用組成物１に代えて、プライマー層用組成物２を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、ポリエステル基材のリタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、Δｎ＝０．１０であり、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は３０ｎｍであった。また、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（比較例１）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物２をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、Δｎ＝０．１０のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は１００ｎｍであった。
その後、実施例１と同条件にて、ハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（比較例２）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、その両面にプライマー組成物２をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、ｎｘ＝１．７０、ｎｙ＝１．６０、Δｎ＝０．１０のポリエステル基材を得た。なお、プライマー層の屈折率は１．５７、膜厚は２０ｎｍであった。

その後、形成したプライマー層上に、ハードコート層用組成物２をバーコーターにて塗布し、７０℃で１分間乾燥して、溶剤を除去して塗膜を形成した。
次いで、その塗膜に紫外線照射装置〔フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）〕を用いて、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚６．０μｍのハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。なお、ハードコート層の屈折率は１．５２であった。

（比較例３）
ポリエステル基材として、東洋紡社製ＰＥＴフィルム「Ａ４１００」（リタデーション＝６２００ｎｍ、膜厚＝１８８μｍ、Δｎ＝０．０３３）を用いた以外は、実施例１と同様の塗布条件にて、プライマー層及びハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。なお、ハードコート層の屈折率は１．６５であった。

（比較例４）
溶融ポリエチレンテレフタレートを、２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１５０℃にて１分間予熱した後、１５０℃にて、延伸倍率８．０倍に延伸した後、その両面にプライマー層用組成物１をロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを引続き９５℃で乾燥し、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．０倍にて延伸を行い、リタデーション＝１２５００ｎｍ、膜厚＝５０μｍ、ｎｘ＝１．８０、ｎｙ＝１．５５、Δｎ＝０．０２５のポリエステル基材を得た。
しかしながら、上記条件にて作成した基材は、フィルムの裂け、破れを生じ、実用性に乏しく、ハードコート組成物の塗工が出来ず、評価できなかった。

（比較例５）
プライマー層の膜厚を４０ｎｍとした以外は、実施例７と同じ条件にて光学積層体を製造した。

（比較例６）
プライマー層の膜厚を１ｎｍとした以外は、実施例７と同じ条件にて光学積層体を製造した。

実施例及び比較例で得られた光学積層体について、以下の評価を行った。結果を表１に示した。

（ニジムラ評価）
実施例、比較例にて作製した光学積層体を、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光素子上に配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光素子の吸収軸とのなす角度が０°となるように配置した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
◎：偏光サングラス越しでニジムラが観察されない。
○：偏光サングラス越しでニジムラが観察されるが、薄く、目視ではニジムラが観察さ れない、実使用上問題ないレベル。
△：偏光サングラス越しでニジムラが観察され、目視ではニジムラがごく薄く観察される。
×：偏光サングラス越しでニジムラが強く観察され、目視でもニジムラが観察される。

（干渉縞の評価）
フナテック社製の干渉縞検査ランプ（Ｎａランプ）を用い、目視にて干渉縞の有無を検査し、下記基準で評価した。サンプルは塗工面の反対側を黒インキで塗りつぶし、塗工面に干渉縞検査ランプをあて、反射観察にて評価を行った。
◎：干渉縞の発生が見られなかった。
○：干渉縞が観察されるが、極めて薄く、実使用上問題ないレベル。
△：干渉縞が薄く観察される。
×：干渉縞がはっきり観察される。

（密着性の評価）
下記に示す碁盤目密着性試験の密着率の測定を行った。
（碁盤目密着性試験）
光学積層体の塗布面側に１ｍｍ角で合計１００目の碁盤目を入れ、ニチバン社製工業用２４ｍｍセロテープ（登録商標）を用いて５回連続剥離試験を行い、下記基準に基づいて算出される、剥がれずに残ったマス目の割合を求めた。
密着率（％）＝｛剥がれなかったマス目の数／合計のマス目数（１００）｝×１００
○：密着率が９０％以上。
×：密着率が９０％未満。

（反射率の測定）
反射率の測定は、日本分光社製の商品名Ｖ７１００型紫外可視分光光度計及び日本分光社製の商品名ＶＡＲ−７０１０絶対反射率測定装置を用いて、入射角を５°、偏光子をＮ偏光、測定波長範囲を３８０〜７８０ｎｍとして、加工面とは逆側のポリエステル基材側に、裏面反射を防止するために黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼合し、それを装置に設置して測定を行った。なお、測定波長範囲にて求められた測定結果の平均値を反射率とし、低屈折率層を設けた光学積層体について測定を行った。

表１から明らかなように、実施例１〜１１の光学積層体は、ニジムラの評価に優れ、干渉縞も好適に抑制できており、また、密着性にも優れている。また、実施例７では、ハードコート層の屈折率（ｎｈ）とポリエステル基材の進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｈ−ｎｙ）が０．０１と小さかったため、干渉縞の評価が僅かに劣っていた。また、実施例８では、屈折率を制御する層である低屈折率層を積層しており、反射防止特性にも優れている。また、実施例４及び９は、ポリエステル基材のリタデーションが８７５０ｎｍと他の実施例と比較して小さな値であったため、ニジムラの評価に若干劣っていた。また、実施例１１は、プライマー層の厚さ（３０ｎｍ）が、実施例１０のプライマー層の厚さ（３ｎｍ）と比較して厚く、該プライマー層の厚さが干渉縞の防止に影響を及ぼして若干劣っていた。また、比較例１、２の光学積層体では、ニジムラの評価は良好であったが、干渉縞が発生し、比較例３の光学積層体では、干渉縞は抑制できているが、ニジムラが強く観察された。比較例４のポリエステル基材は、基材自体に裂け、破れが発生し、実用性に乏しい。比較例５では、プライマー層の膜厚が本発明の範囲から外れ、干渉縞が観察された。比較例６では、プライマー層の膜厚が薄く、密着性に乏しかった。

（参考例１）
ハードコート層用組成物の塗膜に照射する紫外線照射量を、５０ｍＪ／ｃｍ^２とした以外は、実施例１と同様にして、屈折率１．６５のハードコート層を積層した光学積層体を製造した。
次いで、このハードコート層上に、不可視化用高屈折率層用組成物をバーコーターにて塗布し、その塗膜を６０℃で１分乾燥して溶剤を除去した後、フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）を用いて照射量５０ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚４５ｎｍ、屈折率１．７０の高屈折率層を形成した。
次に、この高屈折率層上に、不可視化用低屈折率層用組成物をバーコーターにて塗布し、その塗膜を６０℃で１分乾燥して溶剤を除去した後、フュージョンＵＶシステムジャパン社製：Ｈバルブ（商品名）を用いて照射量１００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線照射を行い、乾燥硬化後の膜厚４５ｎｍ、屈折率１．４６の低屈折率層を形成した。
次に、この低屈折率層上に、アルゴンガス９７％と酸素ガス３％とからなる０．４Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム９７重量％、酸化スズ３重量％の焼結体材料を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍのＩＴＯ膜（屈折率１．９５）を形成して、透明導電体層とし不可視電極を形成した。

（ＩＴＯ膜のエッチングによるパターン化）
得られた透明導電体層に、ストライプ状にパターン化されたフォトレジストを塗布し、乾燥硬化させた後、２５℃、５％の塩酸（塩化水素水溶液）に、１分間浸漬して、ＩＴＯ膜のエッチングを行った。その後、フォトレジストを除去した。

（透明導電体層のアニール処理による結晶化）
上記ＩＴＯ膜をパターン化した後、上記光学積層体を１４０℃で９０分間の加熱処理を行って、ＩＴＯ膜の結晶化を行った。
この処理によって良好な耐薬品性などの物性が得られる。
以上により、パターン化された不可視電極を有する光学積層体を得た。

（参考例２）
実施例１と同様に、ハードコートを積層した光学積層体を製造した。
次いで、このハードコート層上に参考例１と同様にして、ＩＴＯ膜からなる透明導電体層のみを積層形成した。次いで、ＩＴＯ膜のエッチングによるパターン化と透明導電体層の結晶化処理とを行い、透明導電体層を有する光学積層体を得た。

（電極の不可視性評価）
参考例で得られた光学積層体について、以下の方法により透明導電体層が不可視化できているか否かを目視評価した。
なお、透明導電体層のパターンは、蛍光灯下の明室において、ディスプレイの電源をオフにした状態：背景が黒画面の状態で、反射光によって見えてしまう場合と、ディスプレイの電源をオンにした状態で白画面の状態で透過光によって見えてしまう場合があるため、両方の状態をダブルチェックした。

（評価方法）
（１）反射光評価：蛍光灯（パナソニック社製３２Ｗ ＦＨＦ３２ＥＸ−ｎ・ＮＵ）下の部屋で、黒い板の上に透明導電体層側が上になるように置き（蛍光灯から１．５ｍはなれている位置）、光学積層体から３０ｃｍはなれた位置から反射光を目視観察し、パターン部と非パターン部が不可視化できているかどうかを評価した。
（２）透過光評価：蛍光灯下の部屋で、蛍光灯（パナソニック社製３２Ｗ ＦＨＦ３２ＥＸ−ｎ・ＮＵ）から１．５ｍはなれている位置で、光学積層体を通して蛍光灯を観察するように該光学積層体を配置し、光学積層体の透過光を目視観察し、パターン部と非パターン部が不可視化できているかどうかを評価した。評価基準は以下の通り。
○：（１）、（２）両方の評価においてパターン部と非パターン部とが目視されず、不可視化できている。
×：（１）、（２）どちらか一方又は両方の評価においてパターン部と非パターン部とをはっきりと判別できる。

その結果、参考例１に係る光学積層体は、不可視電極が機能し、評価は○であったが、参考例２は、不可視電極の構成でないため、透明導電体層のパターンがはっきりと見え、評価は×であった。

本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等のディスプレイ、特に高精細化ディスプレイに好適に使用することができる。

１０、２０ 光学積層体
１１、２１、３１、４１ ポリエステル基材
１２、２２、３２、４２ プライマー層
１３、２３、３３、４３ ハードコート層
３０、４０ タッチパネル
３４、４４ 不可視電極
３５、４５ 高屈折率層
３６、４６ 低屈折率層
３７、４７ 透明導電体層
３８、４８、３００ 粘着層
３９、４９ カバーガラス

Claims (5)

1. 偏光素子の表面に光学積層体を備えてなる偏光板であって、
   前記光学積層体は、ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、前記プライマー層上にハードコート層が形成されており、
   前記ポリエステル基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０７〜０．２０であり、
   前記プライマー層の屈折率（ｎｐ）と、前記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｐ＜ｎｘなる関係を有し、
   前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、前記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有し、
   前記ポリエステル基材の遅相軸と前記偏光素子の吸収軸とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設される
   ことを特徴とする偏光板。
2. 偏光素子の表面に光学積層体を備えてなる偏光板であって、
   前記光学積層体は、ポリエステル基材上にプライマー層が形成され、前記プライマー層上にハードコート層が形成されており、
   前記ポリエステル基材は、８０００ｎｍ以上のリタデーションを有し、かつ、屈折率が大きい方向である遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）と、前記遅相軸方向と直交する方向である進相軸方向の屈折率（ｎｙ）との差（ｎｘ−ｎｙ）が、０．０７〜０．２０であり、
   前記プライマー層は、厚みが３〜３０ｎｍであり、
   前記ハードコート層の屈折率（ｎｈ）と、前記ポリエステル基材の遅相軸方向の屈折率（ｎｘ）及び進相軸方向の屈折率（ｎｙ）が、ｎｙ＜ｎｈ＜ｎｘなる関係を有し、
   前記ポリエステル基材の遅相軸と前記偏光素子の吸収軸とのなす角度が、０°±３０°又は９０°±３０°となるように配設される
   ことを特徴とする偏光板。
3. 請求項１又は２記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
4. 請求項１又は２記載の偏光板を用いたタッチパネルであって、
   前記偏光板の光学積層体のハードコート層のプライマー層側と反対側の表面上に不可視電極が設けられている
   ことを特徴とするタッチパネル。
5. 不可視電極は、光学積層体のハードコート層側から高屈折率層と低屈折率層とが積層された構成を有し、
   前記高屈折率層は、屈折率が１．６７〜１．８５、膜厚が２０〜８０ｎｍであり、
   前記低屈折率層は、屈折率が１．４０〜１．５０、膜厚が２０〜８０ｎｍである
   請求項４記載のタッチパネル。
   

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