TWI835262B - 光學膜、積層體、偏光板、影像顯示裝置及偏光板之製造方法 - Google Patents

Abstract

提供一種與接著劑之接著性良好且具有優異韌性的保護膜。 若根據本發明之一態樣，則可提供一種保護膜20，為使用於偏光板之無基材的保護膜20，具備含有由硬化物構成之樹脂的核心層21與設置於核心層21之一面21A的接著性提升層22，接著性提升層22之表面22A形成保護膜20之一表面20A，且保護膜20之厚度未達40μm，且保護膜20之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。

Description

光學膜、積層體、偏光板、影像顯示裝置及偏光板之製造方法

本案主張已提出申請之日本申請案：特願2016－77044（申請日：2016年4月7日）及特願2016－77045（申請日：2016年4月7日）之優先權，並將其揭示內容整體引用作為本說明書之一部份。

本發明係關於一種保護膜、光學膜、積層體、偏光板、影像顯示裝置及偏光板之製造方法。

近年來，不斷開發利用液晶或有機發光二極體之薄型顯示器。尤其不斷開發被稱為智慧型手機或平板（tablet）之行動載具。於此種行動載具等之影像顯示裝置，通常相較於顯示元件，於靠近觀察者側設置有偏光板。

偏光板係由偏光元件與設置於偏光元件兩面之保護膜構成，作為保護膜，通常使用三乙醯基纖維素（triacetylcellulose）基材（TAC基材）。偏光元件與TAC基材大多透過聚乙烯醇系接著劑等水系接著劑接著（例如，參照日本特開2013－19996號公報）。

隨著近年來薄型顯示器之開發，而要求偏光板之薄型化。然而，作為使用於偏光板之保護膜的TAC基材其厚度厚，且通常於TAC基材含有可發揮想要功能之添加劑，因此，若單純地使TAC基材變薄，則相應地會變得難以得到想要的功能。具體而言，例如，行動載具大多是在室外使用，因此會有偏光元件受到紫外線曝曬而容易劣化之問題，故通常TAC基材含有紫外線吸收劑，但若單純地使TAC基材變薄，則相應地會變得難以得到紫外線吸收效果。

因此，目前正研究使用核心層（core layer）來代替TAC基材這類的基材，該核心層相對於基材，更能謀求薄型化，且含有可藉由添加添加劑而發揮想要功能之硬化物。具體而言，例如正研究使用可得到想要之紫外線吸收效果的核心層，該核心層含有由硬化物構成之黏合劑樹脂及紫外線吸收劑。

然而，若使用核心層代替基材，則與使用於和偏光元件貼合時之水系接著劑的接著性會惡化，難以貼合核心層與偏光元件。又，目前對於具備此種核心層之保護膜，為了抑制與偏光元件貼合時發生之裂紋，而要求優異之韌性。

又，若使用含有紫外線吸收劑之核心層代替基材，則會發生下述問題：於核心層之表面會滲出（bleed out）紫外線吸收劑，與接著劑之接著性或光學膜本身之透明性會降低。又，目前即使是具備含有此種紫外線吸收劑之核心層的光學膜，為了抑制與偏光元件貼合時發生之裂紋，亦要求優異之韌性。

本發明係為了解決上述問題而完成者。亦即，目的在於提供一種與接著劑之接著性良好且具有優異之韌性的保護膜、具備其之積層體、偏光板及影像顯示裝置。又，目的在於提供一種保護膜與接著劑之接著性良好的偏光板之製造方法。又，目的在於提供一種可抑制紫外線吸收劑滲出且具有優異之韌性的光學膜、具備其之積層體、偏光板及影像顯示裝置。並且，目的在於提供一種光學膜與接著劑之接著性良好的偏光板之製造方法。

若根據本發明之一態樣，則可提供一種保護膜，為使用於偏光板之無基材的保護膜，具備含有由硬化物構成之樹脂的核心層與設置於前述核心層之一面的接著性提升層，前述接著性提升層之表面形成前述保護膜之一表面，且前述保護膜之厚度未達40μm，前述保護膜之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。

於上述保護膜中，皂化處理後之前述接著性提升層表面對水的接觸角在80°以下。

於上述保護膜中，前述接著性提升層可為硬化性組成物之硬化物，該硬化性組成物含有游離輻射聚合性化合物與具有反應性官能基及水解性基之矽烷偶合劑。

於上述保護膜中，前述游離輻射聚合性化合物可為多官能游離輻射聚合性化合物。

於上述保護膜中，前述反應性官能基可為游離輻射聚合性官能基。

於上述保護膜中，可進一步具備有設置於前述核心層之前述一面的相反側另一面的透光性功能層。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種積層體，該積層體具備上述保護膜與設置於前述保護膜之前述一表面的相反側另一表面的脫模膜。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種偏光板，該偏光板具備上述保護膜與透過接著劑層貼在前述保護膜之前述接著性提升層的偏光元件。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種影像顯示裝置，該影像顯示裝置具備顯示面板，前述顯示面板具備顯示元件與配置於較前述顯示元件靠近觀察者側之上述保護膜或上述偏光板。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種偏光板之製造方法，該方法具備下述步驟：以接著劑接觸上述積層體之前述接著性提升層的方式，透過前述接著劑將前述積層體與偏光元件貼合之步驟，與將前述積層體與前述偏光元件貼合後，自前述積層體將前述脫模膜剝離之步驟。

於上述偏光板之製造方法中，可於將前述積層體與前述偏光元件貼合之前，進一步具備有對前述積層體實施皂化處理之步驟。

若根據本發明之其他態樣，則可為一種光學膜，該光學膜為無基材之光學膜，具備核心層與滲出抑制層，該核心層含有由硬化物構成之黏合劑樹脂及分散於前述黏合劑樹脂中之紫外線吸收劑，該滲出抑制層設置於前述核心層之一面且抑制前述紫外線吸收劑滲出，前述光學膜之厚度未達40μm，前述光學膜之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。

於上述光學膜中，前述滲出抑制層可含有由多官能游離輻射聚合性化合物之硬化物構成的樹脂。

於上述光學膜中，前述滲出抑制層可進一步含有矽烷偶合劑。

於上述光學膜中，可進一步具備有設置於前述核心層之另一面的透光性功能層。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種積層體，該積層體具備上述光學膜與設置於前述光學膜之滲出抑制層側表面的相反側表面的脫模膜。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種偏光板，該偏光板具備上述光學膜與透過接著劑貼在前述光學膜之前述滲出抑制層的偏光元件。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種影像顯示裝置，該影像顯示裝置具備顯示面板，前述顯示面板具備顯示元件與配置於較前述顯示元件靠近觀察者側之上述光學膜或上述偏光板。

若根據本發明之其他態樣，則可提供一種偏光板之製造方法，該方法具備下述步驟：以接著劑接觸上述積層體之前述滲出抑制層的方式，透過前述接著劑將前述積層體與偏光元件貼合之步驟，與將前述積層體與前述偏光元件貼合後，將前述脫模膜剝離之步驟。

於上述偏光板之製造方法中，可於將前述積層體與前述偏光元件貼合之前，進一步具備有對前述積層體實施皂化處理之步驟。

若根據本發明之一態樣的保護膜，則由於具備有接著性提升層，因此，可提供一種與接著劑之接著性良好且具有優異之韌性的保護膜。又，根據本發明之其他態樣，可提供一種具備此種保護膜之積層體、偏光板及影像顯示裝置。並且，根據本發明之其他態樣，可提供一種保護膜與接著劑之接著性良好且具有優異之韌性的偏光板之製造方法。

若根據本發明之其他態樣的光學膜，則可提供一種能夠抑制紫外線吸收劑滲出且具有優異之韌性的光學膜。又，根據本發明之其他態樣，可提供一種具備此種光學膜之積層體、偏光板及影像顯示裝置。並且，根據本發明之其他態樣，可提供一種光學膜與接著劑之接著性良好的偏光板之製造方法。

[第1實施形態] 以下，一邊參照圖式，一邊說明本發明之第1實施形態的保護膜、積層體、偏光板及影像顯示裝置。於本說明書中，「膜」、「片」等用語，並非僅基於名稱不同來區別彼此。因此，例如「膜」係以亦包含亦被稱為片之類的構件的意思來使用。又，本說明書中之「透光性」，意指使光透射之性質，例如包含總光線透射率在50％以上，較佳在70％以上，更佳在80％以上，尤佳在90％以上。所謂透光性，並非一定要是透明，亦可為半透明。圖1為本實施形態之保護膜的概略構成圖，圖2（A）～圖2（C）及圖3（A）～圖3（C）為示意性地表示本實施形態之保護膜的製造步驟之圖。

＜＜＜保護膜及積層體＞＞＞ 圖1所示之積層體10具備有保護膜20與積層於保護膜20之脫模膜30。

＜＜保護膜＞＞ 保護膜20不具備有基材，亦即為無基材之保護膜。本說明書中之「基材」，意指成為用以形成保護膜之支持體且由熱塑性樹脂或玻璃構成的膜或片。作為基材，例如可列舉：三乙醯基纖維素等之醯化纖維素（cellulose acylate）基材、環烯聚合物基材、聚碳酸酯基材、丙烯酸基材、聚對酞酸乙二酯基材等聚酯基材，或玻璃基材。另，脫模膜30由於最後會自保護膜20剝離，因此並非是構成保護膜20之一部份者。

保護膜20具備有核心層21與設置於核心層21之一面21A的接著性提升層22。保護膜20可進一步具備有設置於核心層21之另一面21B的透光性功能層23。

保護膜20之厚度從保護膜20之薄型化的觀點，未達40μm。關於保護膜20之厚度，係使用掃描型電子顯微鏡（SEM），拍攝保護膜20之剖面，於該剖面之影像，測量保護膜20之厚度20個部位，使保護膜20之厚度為該20個部位之厚度的平均值。保護膜20之厚度從保護膜20之薄型化的觀點，較佳未達21μm，更佳未達15μm，最佳未達10μm。

圖1所示之保護膜20雖為透光性功能層23、核心層21、接著性提升層22之3層構造，但各層間之介面可無須明確。當各層間之介面不明確的情形時，可藉由對各層之成分進行分析，來判斷為透光性功能層、核心層及接著性提升層。

保護膜20之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。關於保護膜20之拉伸斷裂強度的測量，係依據JIS　K7161－1：2014，使用TENSILON萬能測試機，以寬度：25mm、夾頭間距離：80mm、測試速度：300mm／min，將保護膜拉伸，藉此來進行，將當保護膜斷裂時施加於保護膜之應力作為拉伸斷裂強度。使拉伸斷裂強度為測量3次而得到之值的算術平均值。另，使保護膜20之拉伸斷裂強度為於經剝離脫模膜30之狀態下所測量者。保護膜20之拉伸斷裂強度較佳在40N／mm ²以上。

保護膜20之透濕度較佳在100g／（m ²・24h）以上600g／（m ²・24h）以下。若保護膜之透濕度未達100g／（m ²・24h），則當塗布水系接著劑時，水分難以從保護膜脫離，容易產生皺紋，又，若超過600g／（m ²・24h），則當使用有機發光二極體作為顯示元件之情形時，會有有機發光二極體因水分而劣化之虞。本說明書中之「透濕度」，意指藉由依據JIS　Z0208：1976記載之透濕度測試方法（杯式法（cup method））的手法，於溫度40℃、相對濕度90％之環境下所測量的24小時通過保護膜之水蒸氣量（g／（m ²・24h））。使透濕度為測量3次而得到之值的算術平均值。另，使保護膜20之透濕度為於經剝離脫模膜30之狀態下所測量者。保護膜20之透濕度的下限較佳在200g／（m ²・24h）以上，上限更佳在500g／（m ²・24h）以下。

保護膜20之波長380nm之光的透射率較佳在7％以下。藉由使保護膜20在此波長區域之光的透射率在7％以下，而可在將保護膜20使用於智慧型手機或平板終端之類的行動載具之情形時，抑制偏光元件受到紫外線之曝曬而劣化。保護膜之波長380nm之光的透射率之上限更佳為5％。透光率可使用分光光度計（製品名「UV－2450」，島津製作所製）來測量。使上述透射率為測量3次而得到之值的算術平均值。

保護膜20較佳為霧度（haze）值（總霧度值）未達1％。藉由使保護膜20之霧度值未達1％，可在將保護膜20使用於行動載具之情形時，抑制畫面之白化。保護膜20之霧度值的上限更佳未達0.5％，再更佳為0.4％以下，再更佳為0.3％以下，最佳為0.2％以下。此處之霧度值，意指後述之耐濕熱性測試前的保護膜20之霧度值，但耐濕熱性測試後的保護膜20之霧度值亦較佳未達1％。耐濕熱性測試後的保護膜20之霧度值更佳未達0.5％，最佳為0.3％以下。霧度值可依據JIS　K7136：2000，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製）求得。使霧度值為測量3次而得到之值的算術平均值。保護膜20之透光率及霧度值，例如可藉由對核心層21等中之紫外線吸收劑的添加量進行調整之方式等來達成。

保護膜20可切成想要的大小，但亦可為捲筒狀。當保護膜20被切成想要的大小之情形時，保護膜之大小並無特別限制，例如可根據智慧型手機、平板終端、個人電腦（PC）、穿戴式終端、數位標示、電視等影像顯示裝置的顯示面大小來適當決定。具體而言，保護膜20之大小例如可在1吋以上500吋以下。

＜＜核心層＞＞ 核心層21為含有由硬化物構成之樹脂的層。使用由硬化物構成之樹脂來作為形成核心層21之樹脂的原因在於：當使用熱塑性樹脂之類的溶劑乾燥型樹脂代替此樹脂來形成核心層的情形時，核心層會變得過軟，保護膜之鉛筆硬度會降低。

核心層21可為僅由上述樹脂構成之層，但為了發揮想要的功能，亦可含有添加劑。作為添加劑，並無特別限定，但由於行動載具大多在室外使用，偏光元件容易受到紫外線曝曬而劣化，因此，較佳為吸收紫外線，抑制因紫外線所導致之偏光元件劣化的紫外線吸收劑（UVA）。又，為了提高尺寸穩定性或斷裂強度，核心層21亦可含有二氧化矽粒子等無機粒子、滑石或有機系纖維等作為添加劑。作為有機系纖維，可適合使用纖維素奈米纖維。當核心層21含有紫外線吸收劑等添加劑之情形時，樹脂作為黏合劑樹脂用。

核心層21之膜厚較佳在5μm以上且未達40μm。藉由使核心層21之膜厚在此範圍，可抑制核心層21之強度顯著降低，且可容易進行用以形成核心層21之硬化性組成物（以下，將此組成物稱為「核心層用組成物」。）的塗布（coating），並且亦不會發生因核心層21之厚度過厚所引起的加工性（尤其是耐崩裂性）惡化。核心層21之膜厚可藉由以掃描型電子顯微鏡（SEM）觀察核心層之剖面來求得。具體而言，使用掃描型電子顯微鏡之影像，於1影像中測量3處核心層21之膜厚，對5個影像進行此測量，算出所測得之膜厚的平均值。核心層21之膜厚的上限更佳為30μm以下，再更佳為20μm以下，最佳為10μm以下。

＜樹脂＞ 核心層21所含之樹脂如上述，為由硬化物構成之樹脂，此種樹脂之中，較佳為由游離輻射聚合性化合物之硬化物（聚合物）構成的樹脂。游離輻射聚合性化合物係具有1個以上可藉由照射游離輻射進行聚合反應之游離輻射聚合性官能基的化合物。作為游離輻射聚合性官能基，例如，可列舉：（甲基）丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等之乙烯性不飽和基。另，「（甲基）丙烯醯基」意指包括「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」兩者。又，作為使游離輻射聚合性化合物聚合時所照射之游離輻射，可列舉：可見光、紫外線、X射線、電子射線、α射線、β射線及γ射線。

當要得到具有優異韌性及某程度柔軟性之核心層的情形時，例如，較佳使用游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物作為游離輻射聚合性化合物。作為游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物，可列舉：胺酯（甲基）丙烯酸酯（urethane（meth）acrylate）、聚酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、聚氟烷基（甲基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲基）丙烯酸酯等之寡聚物或預聚合物。此等游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物可使用1種或組合2種以上使用。

游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物之重量平均分子量，較佳為1000以上20000以下。於本說明書中，「重量平均分子量」，係溶解於四氫呋喃（THF）等溶劑，藉由利用以往公知之凝膠滲透層析法（GPC）法進行之聚苯乙烯換算得到之值。游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物之重量平均分子量的下限較佳為3000以上，上限更佳為12000以下，再更佳為10000以下。

關於樹脂，為了調整硬度或組成物之黏度等，亦可為除了含有游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物之外，還含有單官能游離輻射聚合性單體之混合物的硬化物。

單官能游離輻射聚合性單體為在分子內具有1個以上之游離輻射聚合性官能基的化合物。作為單官能游離輻射聚合性單體，例如可列舉：羥乙基丙烯酸酯（HEA）、甲基丙烯酸環氧丙酯、甲氧基聚乙二醇（甲基）丙烯酸酯、異硬脂（甲基）丙烯酸酯、2－丙烯醯氧基乙基琥珀酸酯等。

＜紫外線吸收劑＞ 紫外線吸收劑具有吸收紫外線之功能。作為紫外線吸收劑，並無特別限定，例如可列舉：三系紫外線吸收劑、二苯基酮系紫外線吸收劑及苯并三唑系紫外線吸收劑等。

作為上述三系紫外線吸收劑，例如可列舉：2－（2－羥基－4－[1－辛氧基羰基乙氧基]苯基）－4,6－雙（4－苯基苯基）－1,3,5－三、2－[4－[（2－羥基－3－十二基氧基丙基（dodecyloxypropyl））氧基]－2－羥基苯基]－4,6－雙（2,4－二甲基苯基）－1,3,5－三、2,4－雙[2－羥基－4－丁氧基苯基]－6－（2,4－二丁氧基苯基）－1,3,5－三、2－[4－[（2－羥基－3－十三基氧基丙基）氧基]－2－羥基苯基]－4,6－雙（2,4－二甲基苯基）－1,3,5－三及2－[4－[（2－羥基－3－（2’－乙基）己基）氧基]－2－羥基苯基]－4,6－雙（2,4－二甲基苯基）－1,3,5－三等。

又，作為市售之三系紫外線吸收劑，例如，可列舉：TINUVIN460（BASF日本公司製）、LA－46（艾迪科公司製）等。

作為上述二苯基酮系紫外線吸收劑，例如可列舉：2－羥基二苯基酮、2,4－二羥基二苯基酮、2,2’－二羥基－4,4’－二甲氧基二苯基酮、2,2’,4,4’－四羥基二苯基酮、2－羥基－4－甲氧基二苯基酮、羥基甲氧基二苯基酮磺酸及其三水化合物（trihydrate）、羥基甲氧基二苯基酮磺酸鈉等。又，作為市售之二苯基酮系紫外線吸收劑，例如可舉CHMASSORB81／FL（BASF日本公司製）等。

作為上述苯并三唑系紫外線吸收劑，例如可列舉：2－乙基己基－3－〔3－三級丁基－4－羥基－5－（5－氯－2H－苯并三唑－2－基）苯基〕丙酸酯、2－（2H－苯并三唑－2－基）－6－（直鏈及側鏈十二基）－4－甲苯酚、2－〔5－氯（2H）－苯并三唑－2－基〕－4－甲基－6－（三級丁基）苯酚、2－（2H－苯并三唑－2－基）－4,6－二－三級戊基苯酚、2－（2’－羥基－5’－甲基苯基）苯并三唑、2－（2’－羥基－3’,5’－二－三級丁基苯基）苯并三唑、2－（2’－羥基－3’－三級丁基－5’－甲基苯基）苯并三唑、2－（2’－羥基－3’,5’－二－三級丁基苯基）－5－氯苯并三唑、2－（2’－羥基－3’－（3’’,4’’,5’’,6’’－四氫酞醯亞胺甲基）－5’－甲基苯基）苯并三唑、2,2－亞甲基（methylene）雙（4－（1,1,3,3－四甲基丁基）－6－（2H－苯并三唑－基）苯酚）及2－（2’－羥基－3’－三級丁基－5’－甲基苯基）－5－氯苯并三唑等。

又，作為市售之苯并三唑系紫外線吸收劑，例如可列舉：KEMISORB71D、KEMISORB79（皆為凱米布羅化成公司製）；JF－80、JAST－500（皆為城北化學公司製）；ULS－1933D（一方公司製）；RUVA－93（大塚化學公司製）等。

上述紫外線吸收劑之中，較適用三系紫外線吸收劑，具體而言，從紫外線吸收性、對構成核心層21之上述游離輻射聚合性單體或游離輻射聚合性寡聚物的溶解性等觀點，尤其適用TINUVIN400（BASF日本公司製）。

上述紫外線吸收劑之含量並無特別限定，較佳相對於核心層用組成物之樹脂固形物成分100質量份，為1質量份以上6質量份以下。若使核心層用組成物中之紫外線吸收劑的含量在此範圍內，則可使核心層充分含有紫外線吸收劑，且可抑制核心層產生顯著之著色或強度降低。紫外線吸收劑之含量的更佳下限為2質量份以上，更佳之上限為5質量份以下。

核心層21亦可含有調平劑（leveling agent）。核心層21另外亦可視需要而例如含有潤滑劑、塑化劑、填充劑、填料、抗靜電劑、防黏劑（anti-blocking agents）、交聯劑、光穩定劑、染料、顏料等著色劑等其他成分。

＜調平劑＞ 所謂調平劑，意指防止因核心層之表面張力不均一而產生之收縮、凹陷、針孔、橘皮等缺陷，使表面平滑的添加劑。調平劑並無特別限定，可舉具有聚醚基、聚胺酯（polyurethane）基、環氧基、羧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、甲醇基或羥基之化合物等。上述調平劑可於主鏈之末端（單末端、兩末端）具有聚醚基、聚胺酯基、環氧基、羧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、甲醇基或羥基，亦可於側鏈具有聚醚基、聚胺酯基、環氧基、羧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、甲醇基或羥基，或亦可於主鏈之末端及側鏈具有聚醚基、聚胺酯基、環氧基、羧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、甲醇基或羥基。作為調平劑，若為具有聚醚基、聚胺酯基、環氧基、羧基、丙烯酸酯基、甲基丙烯酸酯基、甲醇基或羥基之化合物，則無特別限定，例如，可列舉：聚矽氧系、氟系、聚矽氧／氟混合系、丙烯酸系、甲基丙烯酸（methacryl）系、芳香族系之調平劑。

含有矽原子之調平劑若添加量多，則會有再塗覆特性（recoating property）變差及收縮等塗布缺點變多之虞，作為調平劑，較佳為氟系調平劑。作為市售之氟系調平劑，例如可列舉：F－568、F－556、F－554、F－553（皆為迪愛生公司製）等。

調平劑之含量較佳相對於核心層用組成物中之樹脂固形物成分100質量份，為0.01質量份以上5質量份以下。藉由使調平劑之含量在此範圍內，可得到平坦性更加優異之核心層21。

＜＜接著性提升層＞＞ 接著性提升層22為用以提升與接著劑的接著性之層。於本說明書中，所謂「接著性提升層」，意指於藉由以下之方法測量與接著劑之間的介面之剝離強度時，剝離強度為1N以上之層。具體而言，首先，當無基材之保護膜尚未被裝入偏光板之情形時，透過聚乙烯醇系接著劑（將聚乙烯醇樹脂（製品名「PVA－117」，可樂麗公司製）以純水稀釋至固形物成分5％而成的聚乙烯醇水溶液），將皂化處理後之無基材之保護膜貼在偏光元件之一面，又，將三乙醯基纖維素基材貼在偏光元件之另一面，將無基材之保護膜裝入偏光板。然後，使用此偏光板，將偏光板中的無基材之保護膜側之表面藉由寺岡製作所製之雙面帶「751B」以偏光板超出玻璃板之方式貼在玻璃板。然後，以夾頭夾住超出玻璃板之偏光板，於180度之角度以375mm／min之速度進行拉伸測試，測量此時接著劑與無基材之保護膜和接著劑接觸之層的介面之剝離強度。另，將行程（stroke）量（拉伸長度）100mm～200mm之間經平均化後的強度作為剝離強度。另一方面，當無基材之保護膜已裝入偏光板的情形時，使用此偏光板，將偏光板中的無基材之保護膜側之表面藉由寺岡製作所製之雙面帶「751B」以偏光板超出玻璃板之方式貼在玻璃板。然後，以與上述同樣之次序，測量剝離強度。當於無基材之保護膜中與接著劑接觸之層為核心層的情形時，接著劑與核心層之介面的剝離強度由於為100mN以下，故當於核心層上存在與接著劑接觸之層，且接著劑與此層之剝離強度為1N以上的情形時，可判斷為與接著劑之接著性因該層而獲得提升，因此，該層可稱為接著性提升層。

接著性提升層22若為可提升與接著劑的接著性之層，則無特別限定，例如，當核心層21含有紫外線吸收劑之情形時，由於會有在核心層21之表面滲出（bleed out）紫外線吸收劑，保護膜之霧度值上升之虞，因此，接著性提升層22除了提升接著性之功能外，亦可發揮抑制紫外線吸收劑滲出之功能。

於接著性提升層22之表面22A，由於會塗布後述之水系接著劑等，因此，皂化處理後之接著性提升層22其表面22A對水的接觸角較佳為80°以下。皂化處理係藉由使保護膜或積層體浸漬於2當量濃度、溫度55℃之氫氧化鈉水溶液3分鐘來進行。接著性提升層22之表面22A對水的接觸角可依據JIS　R3257－1999記載之躺滴法，使用顯微鏡式接觸角計（製品名「CA－QI series」，協和界面科學股份有限公司製）來測量。接著性提升層22之表面22A對水的接觸角更佳為70°以下。

接著性提升層22除了提升與接著劑之接著性的功能之外，亦可具有抑制紫外線吸收劑滲出之功能。此處，是否具有抑制紫外線吸收劑滲出之功能，可藉由下述方式判斷：對於保護膜，進行將光學膜於80℃、相對濕度90％之環境下放置24小時之耐濕熱性測試，耐濕熱性測試後之保護膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之保護膜的霧度值之比是否在10以下。亦即，於接著性提升層存在於核心層上之情形，當耐濕熱性測試後之保護膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之保護膜的霧度值之比在10以下的情形時，判斷為接著性提升層亦具有抑制紫外線吸收劑滲出之功能。霧度值可依據JIS　K7136：2000，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製）來求得。使霧度值為測量3次而得到之值的算術平均值。耐濕熱性測試後之保護膜20的霧度值相對於耐濕熱性測試前之保護膜20的霧度值之比，較佳為5以下，更佳為3以下。

接著性提升層22之膜厚較佳為100nm以上且未達800nm。若接著性提升層之膜厚未達100nm，則有與接著劑之接著性無法提升之虞，又，若接著性提升層之膜厚為800nm以上，則有硬化收縮會變大，與核心層之密接性變差之虞。接著性提升層22之膜厚可藉由與上述核心層21之膜厚的測量方法同樣之測量方法進行測量。接著性提升層22之膜厚的下限更佳為150nm以上。接著性提升層22之膜厚的上限更佳為600nm以下，最佳為500nm以下。

從提升與接著劑之接著性的觀點，接著性提升層22較佳為含有「游離輻射聚合性化合物」與「具有反應性官能基及水解性基之矽烷偶合劑」之硬化性組成物（以下，將此組成物稱為「接著性提升層用組成物」。）的硬化物。

＜游離輻射聚合性化合物＞ 作為接著性提升層用組成物中之游離輻射聚合性化合物，若為分子內具有1個以上之游離輻射聚合性官能基的化合物即可，較佳為分子內具有2個以上之游離輻射聚合性官能基的多官能游離輻射聚合性化合物。藉由使用多官能游離輻射聚合性化合物，可提升接著性提升層22之抗刮性，且可更加確保與核心層21之密接性。又，若於核心層添加紫外線吸收劑，則會有紫外線吸收劑從核心層移至接著性提升層，而滲出於接著性提升層之表面的傾向，但藉由將多官能游離輻射聚合性化合物使用於接著性提升層用組成物，由於接著性提升層中之交聯密度會變高，因此，可抑制紫外線吸收劑滲出。多官能游離輻射聚合性化合物較佳於分子內具有2個以上之游離輻射聚合性官能基，更佳具有3個以上。

作為接著性提升層用組成物中之游離輻射聚合性化合物，並無特別限定，可列舉：多元醇與（甲基）丙烯酸之酯化合物、雜環式（甲基）丙烯酸酯、胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯酸酯及此等之混合物等。

＜矽烷偶合劑＞ 矽烷偶合劑為具有反應性官能基及水解性基之有機矽化合物。反應性官能基為可與多官能游離輻射聚合性化合物等反應之基，作為反應性官能基，可舉選自由乙烯基、環氧基、苯乙烯基、（甲基）丙烯醯基、胺基、脲基、巰基（thiol group）、硫基（sulfide group）及異氰酸酯基組成之群中的1種以上之官能基。此等之中，從與核心層21之密接性的觀點，較佳為（甲基）丙烯醯基。

水解性基為能以水解而與矽烷醇基（silanol group）（Si－OH）產生醇之基，作為水解性基，例如可列舉：鹵素原子、烷氧基、醯氧基、烯氧基、胺甲醯基、胺基、胺氧基（aminoxy group）、酮肟酸基（ketoximate group）等。當水解性基具有碳原子之情形時，其碳數較佳為6以下，更佳為4以下。尤佳為碳數4以下之烷氧基或烯氧基，尤佳為甲氧基或乙氧基。

作為矽烷偶合劑之具體例，例如可列舉：3－甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3－甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3－甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3－甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3－丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等。

矽烷偶合劑之含量相對於接著性提升層用組成物中之樹脂固形物成分100質量份，較佳為10質量份以上50質量份以下。藉由使矽烷偶合劑之含量在此範圍內，可使與接著劑之接著性更加良好。

＜＜透光性功能層＞＞ 本說明書中之「透光性功能層」係指：具有透光性，且於保護膜中，意欲發揮某些功能之層。具體而言，透光性功能層例如可舉：用以發揮硬塗（hard coat）性或抗反射性等功能之層。透光性功能層可為單層，亦可為積層2層以上者。當透光性功能層為積層2層以上者之情形時，各層所具有之功能可相同，亦可不同。於本實施形態中，係針對透光性功能層23為具有硬塗性之層亦即硬塗層的情形來説明。

透光性功能層23由於如上述係作為硬塗層用，因此，透光性功能層23為於JIS　K5600－5－4：1999所規定之鉛筆硬度測試具有「H」以上之硬度的層。藉由使鉛筆硬度在「H」以上，可使保護膜20變硬，提升耐久性。鉛筆硬度測試係於對鉛筆施加750g之負重且使刮速為1mm／秒的狀態下進行。使鉛筆硬度為於鉛筆硬度測試中透光性功能層之表面沒有受到損傷的最高硬度。另，於測量鉛筆硬度時，係使用複數根硬度不同之鉛筆進行，每1根鉛筆進行5次鉛筆硬度測試，當5次中有4次以上光學膜之表面沒有受到損傷的情形時，判斷為於此硬度之鉛筆下透光性功能層之表面沒有受到損傷。上述損傷係指於螢光燈下對進行過鉛筆硬度測試之透光性功能層的表面進行透射觀察所目視辨認者。從透光性功能層之韌性及防止捲曲的觀點，較佳使透光性功能層23之鉛筆硬度的上限為4H左右。

透光性功能層23中之核心層21側的面23A相反側的面23B（以下，將此面稱為「透光性功能層之表面」。）形成保護膜20之另一表面20B。於透光性功能層23之表面23B的1μm見方（1μm×1μm）及5μm見方（5μm×5μm）之區域內，較佳為，算術平均粗糙度（Ra）各自為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）各自為4nm以上20nm以下，最大峰高（Rp）各自為2nm以上15nm以下。Ra、Rz及Rp之定義係依據JIS　B0601：2001。Ra、Rz、Rp例如使用原子力顯微鏡（製品名「WET－9100」，島津製作所製）如以下般算出。具體而言，首先，於保護膜，隨機選出3處至少在目視下沒有異常之部位（沒有大的異物或擦傷等之部位），切成5mm見方，而得到3個樣品。另一方面，準備複數片直徑15mm及厚度1mm之平坦圓形的金屬板，將日新EM股份有限公司製之碳雙面帶貼在各金屬板。將1個樣品以樣品之表面（保護膜之表面）成為上側的方式貼在該帶上。然後，為了確實將帶與樣品接著，而於乾燥器之中將附有樣品之金屬板放置一晩。放置一晩後，以磁鐵將附有樣品之金屬板固定於原子力顯微鏡（製品名「WET－9400」，島津製作所製）之測量台上，以間歇接觸模式（tapping mode），於測量區域1μm見方及5μm見方，藉由原子力顯微鏡觀察表面形狀。然後，使用原子力顯微鏡內裝之面解析軟體，從觀察到之數據算出Ra、Rz、Rp。另，使面解析時之縱向尺度為20nm。觀察係於室溫進行，使用NanoWorld公司製之NCHR－20作為懸臂。又，於觀察時，對1個樣品隨機選擇5個部位，對3個樣品×5個部位（合計15處）分別觀察表面形狀。然後，對於得到之15處的全部數據，使用原子力顯微鏡內裝之面解析軟體算出Ra、Rz、Rp，使15處之算術平均值為各個樣品之Ra、Rz、Rp。

在1μm見方之區域內測量透光性功能層23之表面23B的Ra等，係由於比在5μm見方之區域的測量更能提升解析度，又，在5μm見方之區域內測量透光性功能層23之表面23B的Ra等，係由於相較於在1μm見方之區域的測量，能在更廣之區域進行表面形狀之觀察。

又，會使用Ra、Rz、Rp規定透光性功能層23之表面23B，係由於以下之理由。Ra係用以觀察存在於透光性功能層表面之峰與谷之高度的平均值，Rz係用以觀察透光性功能層表面之峰高之最大值與谷深之最大值的和，而Rp則是用以觀察透光性功能層表面之峰高的最大值。此處，Ra由於是觀察存在於透光性功能層表面之峰與谷之高度的平均值，故可瞭解透光性功能層之大概的表面形狀，但即使有大的山峰或山谷，亦會受到平均化，而有可能會沒注意到其存在。又，Rp由於是觀察透光性功能層表面之峰高的最大值，故當使用Ra與Rp之2個參數的情形時，即使有深谷，亦可能會沒注意到其存在，並且Rz由於是觀察透光性功能層表面之峰高的最大值與谷深的最大值之和，故當使用Ra與Rz之2個參數的情形時，可能會無法掌握峰是否高或谷是否深。因此，為了更加正確判斷是否具有均一且平坦之面形狀，Ra之1個參數、Ra與Rp之2個參數或Ra與Rz之2個參數並不足夠，必須要為Ra、Rz及Rp之3個參數。因此，於本實施形態中，使用Ra、Rz及Rp之3個參數來規定透光性功能層之表面形狀。

若透光性功能層表面之1μm見方及5μm見方之區域內的Ra未達0.5nm，則會有因過於平滑，而於將保護膜捲繞成捲筒狀時保護膜彼此貼在一起之虞，又，若Ra超過1.5nm，則會有對水之接觸角會變大，且因表面之凹凸而使得霧度值變高，損及透明性之虞。因此，如上述，透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方之區域內的Ra分別較佳為0.5nm以上1.5nm以下。

於透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方的區域內，Ra之下限分別較佳為1.0nm以上。

若透光性功能層表面之1μm見方及5μm見方之區域內的Rz未達4nm，則會有因過於平滑，而於將保護膜捲繞成捲筒狀時保護膜彼此貼在一起之虞，又，若Rz超過20nm，則會有對水之接觸角變大，且因表面之凹凸而使得霧度值變高，損及透明性之虞。因此，如上述，透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方之區域內的Rz分別較佳為4nm以上20nm以下。

於透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方的區域內，Rz之下限分別較佳為5nm以上，Rz之上限分別較佳為15nm以下。

若透光性功能層表面之1μm見方及5μm見方之區域內的Rp未達2nm，則會有因過於平滑，而於將保護膜捲繞成捲筒狀時保護膜彼此貼在一起之虞，又，若Rp超過15nm，則會有對水之接觸角變大，且因表面之凹凸而使得霧度值變高，損及透明性之虞。因此，如上述，透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方之區域內的Rp分別較佳為2.0nm以上15nm以下。

於透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方的區域內，Rp之下限分別較佳為3nm以上，Rp之上限分別較佳為10nm以下。

表面23B之1μm見方及5μm見方之區域內的算術平均粗糙度（Ra）分別為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）分別為4nm以上20nm以下，最大峰高（Rp）分別為2nm以上15nm以下的透光性功能層23，可藉由將脫模膜30之表面形狀轉印至透光性功能層23之表面23B來實現。當將脫模膜30之表面形狀轉印至透光性功能層23之表面23B，而得到上述特定之表面形狀的情形時，並不會受到透光性功能層23所含之添加物的影響，製造變得容易。另，若藉由將透光性功能層用組成物塗布於透光性基材上使之硬化之方法此類以往的製造方法，則極為難以形成如本實施形態之透光性功能層23的特定表面形狀。

透光性功能層23之膜厚較佳為2.0μm以上15μm以下。若透光性功能層23之膜厚為此範圍，則可得到想要的硬度，且可減少殘留溶劑，並可抑制密接性降低。透光性功能層23之膜厚可藉由與核心層21之膜厚測量方法同樣的方法來測量。

關於透光性功能層23之膜厚的下限，從抑制透光性功能層破裂之觀點，更佳未達12μm。又，從謀求透光性功能層之薄膜化，且同時抑制捲曲發生的觀點，透光性功能層23之膜厚再更佳為3μm以上且未達10μm。

透光性功能層23之折射率可為1.50以上1.60以下。透光性功能層23之折射率的下限亦可為1.52以上，透光性功能層23之折射率的上限亦可為1.56以下。

透光性功能層23之折射率可藉由阿貝折射計（製品名「NAR－4T」，愛宕公司製）或橢圓偏振計來測量。又，亦可用切刀等將透光性功能層23削下，製作粉狀態之樣品，藉由依據JIS　K7142：2008記載之B法（粉體或粒狀之透明材料用）的貝克法（Becke’s method）（為下述之方法：使用折射率為已知之卡吉爾（Cargill）試劑，將前述粉狀態之樣品放置於載玻片等，將試劑滴於其樣品上，以試劑浸漬樣品。藉由顯微鏡觀察觀察其狀態，將目視無法觀察到「因樣品與試劑之折射率不同而產生於樣品之輪廓的明線（貝克線）」之試劑的折射率作為樣品的折射率），來求出透光性功能層23之折射率。

透光性功能層23較佳含有由游離輻射聚合性化合物之硬化物（聚合物）構成的樹脂。透光性功能層23可為僅由樹脂構成之層，但從提升透光性功能層之硬度的觀點，較佳除了樹脂之外，還含有無機粒子。當透光性功能層23含有無機粒子之情形時，樹脂係作為黏合劑樹脂用。又，透光性功能層23亦可含有調平劑。

＜樹脂＞ 透光性功能層23所含之樹脂如上述，較佳由游離輻射聚合性化合物之硬化物構成，作為游離輻射聚合性化合物，可列舉：游離輻射聚合性單體、游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物，可適當調整此等來使用。作為游離輻射聚合性化合物，較佳為游離輻射聚合性單體與游離輻射聚合性寡聚物或游離輻射聚合性預聚合物之組合。

（游離輻射聚合性單體） 作為游離輻射聚合性單體，較佳為具有2個（亦即雙官能）以上之游離輻射聚合性官能基的多官能單體。作為游離輻射聚合性單體，可舉導入有氧化烯（alkylene oxide）改質、胺酯（urethane）改質、環氧改質或烷氧基改質等改質基之游離輻射聚合性單體。此等之中，從可得到自脫模膜之剝離性佳，並具有黏性且機械強度高之保護膜的觀點，較佳為氧化烯改質（甲基）丙烯酸酯。作為氧化烯，可列舉：甲醛、氧化乙烯、氧化丙烯、氧化丁烯等。

此等之中，從得到良好之剝離性及抗刮性的觀點，更佳為氧化乙烯改質（EO改質）丙烯酸酯、氧化丙烯改質（PO改質）丙烯酸酯。並且，此等之中，由於剝離性與抗刮性之平衡良好，故尤佳為PO改質丙烯酸酯。

（游離輻射聚合性寡聚物） 作為游離輻射聚合性寡聚物，可列舉：胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、聚氟烷基（甲基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲基）丙烯酸酯等之寡聚物等。

（游離輻射聚合性預聚合物） 作為游離輻射聚合性預聚合物，較佳為10000以上80000以下，更佳為10000以上40000以下。當重量平均分子量超過80000之情形時，由於黏度高，而會有塗布適性降低，得到之保護膜的外觀惡化之虞。作為游離輻射聚合性預聚合物，可列舉：胺酯（甲基）丙烯酸酯、聚酯（甲基）丙烯酸酯、環氧（甲基）丙烯酸酯、三聚氰胺（甲基）丙烯酸酯、聚氟烷基（甲基）丙烯酸酯、聚矽氧（甲基）丙烯酸酯等之預聚合物等。此等之中，從提高與核心層之層間密接性的觀點，較佳為胺酯丙烯酸酯預聚合物。

游離輻射聚合性單體與游離輻射聚合性預聚合物之適宜的組合，係游離輻射聚合性單體為EO改質丙烯酸酯，且游離輻射聚合性預聚合物為胺酯丙烯酸酯預聚合物。

游離輻射聚合性單體與游離輻射聚合性預聚合物較佳以90：10～70：30含有。藉由在此範圍含有游離輻射聚合性單體與游離輻射聚合性預聚合物，可在不會使硬度降低下，提升柔軟性或韌性。

＜無機粒子＞ 無機粒子係用以提升透光性功能層23之機械強度或鉛筆強度的成分，作為無機粒子，例如可列舉：二氧化矽（SiO ₂）粒子、氧化鋁粒子、二氧化鈦粒子、氧化錫粒子、摻銻氧化錫（簡稱：ATO）粒子、氧化鋅粒子等之無機氧化物粒子。此等之中，從更加提高硬度之觀點，較佳為二氧化矽粒子，二氧化矽粒子之中，更佳為異形二氧化矽粒子。當使用球形二氧化矽粒子之情形時，球形二氧化矽粒子之粒徑越小，透光性功能層之硬度越高。相對於此，異形二氧化矽粒子即使沒有較市售之最小粒徑的球形二氧化矽粒子小，亦可達成與此球形二氧化矽同等之硬度。

異形二氧化矽粒子之平均一次粒徑，較佳為1nm以上100nm以下。即使異形二氧化矽粒子之平均一次粒徑為此範圍，亦可達成與平均一次粒徑為1nm以上45nm以下之球形二氧化矽同等之硬度。關於異形二氧化矽粒子之平均粒徑，係於使用穿透式電子顯微鏡（TEM）以20萬倍拍攝透光性功能層之剖面而得的畫面，隨意地選出10個異形二氧化矽粒子，算出各粒徑後，將其平均值作為平均粒徑。使各異形二氧化矽粒子之粒徑為於粒子之剖面中最長徑與最短徑的平均值。

透光性功能層23中之無機粒子的含量，較佳為20質量％以上70質量％以下。若無機粒子之含量未達20質量％，則會難以擔保足夠之硬度，又，若無機粒子之含量超過70質量％，則填充率會過度上升，無機粒子與樹脂成分之密接性惡化，反而使透光性功能層之硬度降低。

作為無機粒子，較佳使用表面具有反應性官能基之無機粒子（反應性無機粒子）。此種表面具有反應性官能基之無機粒子，可藉由矽烷偶合劑等對無機粒子進行表面處理來製作。作為以矽烷偶合劑對無機粒子之表面進行處理的方法，可列舉：對無機粒子噴灑矽烷偶合劑的乾式法或將無機粒子分散於溶劑後加入矽烷偶合劑使之反應的濕式法等。

＜調平劑＞ 作為透光性功能層23所含之調平劑，由於與核心層21之欄記載的調平劑相同，因此，此處省略説明。調平劑之含量，相對於用以形成透光性功能層23之硬化性組成物（以下，將此組成物稱為「功能層用組成物」。）中的樹脂固形物成分100質量份，較佳為0.01質量份以上5質量份以下。藉由使調平劑之含量於此範圍內，可得到平坦性更優異之透光性功能層23的表面23B。

＜＜脫模膜＞＞ 脫模膜30係用以自保護膜20剝離而藉此將保護膜20轉印於後述之偏光板者。脫模膜30可為透光性，但由於將保護膜20轉印於偏光板後，脫模膜30會被剝離，因此，亦可非為透光性。

脫模膜30之厚度並無特別限定，較佳為25μm以上100μm以下。若脫模膜之厚度未達25μm，則當藉由游離輻射使後述之透光性功能層硬化時，透光性功能層之硬化收縮的影響會顯著出現，而容易於脫模膜發生明顯的皺紋，又，若脫模膜之厚度超過100μm，則製造成本會變高。

當得到於表面23B之1μm見方（1μm×1μm）及5μm見方（5μm×5μm）的區域內，算術平均粗糙度（Ra）分別為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）分別為4nm以上20nm以下，最大峰高（Rp）分別為2nm以上15nm以下之透光性功能層23的情形時，脫模膜30之一面30A，於1μm見方及5μm見方之區域內，算術平均粗糙度（Ra）較佳分別為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）較佳分別為4nm以上20nm以下，最大谷深（Rv）較佳分別為2nm以上15nm以下。Ra、Rz及Rv之定義係依據JIS　B0601：2001者。Ra、Rz、Rv例如使用原子力顯微鏡（製品名「WET－9100」，島津製作所製），以與透光性功能層23之欄所説明之Ra、Rz、Rp同樣之次序及條件等算出。

作為脫模膜30並無特別限定，例如適用至少單面未經處理之聚對酞酸乙二酯（PET）膜。於此情形時，將聚對酞酸乙二酯膜之未處理側之面使用作為剝離面。至少單面未經處理之聚對酞酸乙二酯膜，除了與透光性功能層之脫模性優異外，由於價格便宜，因此可壓低本實施形態之積層體的製造成本。例如，若使用塗布有含有矽原子之Si系脫模劑等的脫模膜作為上述脫模膜，則有時該脫模膜之剝離性良好，且於轉印透光性功能層時脫模劑之成分會轉印於透光性功能層側，透光性功能層表面之凹凸會變大，且透光性功能層表面之對水的接觸角會上升。相對於此，若使用至少單面未經處理之聚對酞酸乙二酯膜作為脫模膜30，則由於在轉印保護膜20時沒有會轉印於透光性功能層23之成分，因此，透光性功能層表面之凹凸小，又，於轉印後之透光性功能層23的表面23B，難以發生水之接觸角的變化。於本說明書中，所謂「至少單面未經處理之聚對酞酸乙二酯膜」，意指具有未經表面處理之面的聚對酞酸乙二酯膜。因此，於至少單面未經處理之聚對酞酸乙二酯膜的未經處理側之面，不存在用以提高剝離性之脫模劑。

＜＜＜保護膜及積層體之製造方法＞＞＞ 積層體10及保護膜20例如可用下述方式製作。首先，於脫模膜30之一面30A塗布透光性功能層用組成物，使之乾燥，如圖2（A）所示，形成透光性功能層用組成物之塗膜24。

透光性功能層用組成物含有游離輻射聚合性化合物，另外亦可視需要而添加上述無機粒子、上述調平劑、溶劑、聚合起始劑。並且，於透光性功能層用組成物，根據提高透光性功能層之硬度、抑制硬化收縮或控制折射率等之目的，亦可添加以往公知之分散劑、界面活性劑、矽烷偶合劑、增黏劑、抗著色劑、著色劑（顏料、染料）、防沫劑、阻燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、潤滑劑等。

＜溶劑＞ 作為溶劑，例如可列舉：醇類（甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、苄基醇、PGME、乙二醇等）、酮類（丙酮、甲基乙基酮（MEK）、環己酮、甲基異丁基酮、二丙酮醇、環庚酮、二乙基酮等）、醚類（1,4－二烷、二氧戊環（dioxolane）、二異丙基醚二烷、四氫呋喃等）、脂肪族烴類（己烷等）、脂環式烴類（環己烷等）、芳香族烴類（甲苯、二甲苯等）、鹵化烴類（二氯甲烷、二氯乙烷等）、酯類（甲酸甲酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯等）、賽珞蘇類（甲基賽珞蘇、乙基賽珞蘇、丁基賽珞蘇等）、乙酸賽珞蘇類、亞碸類（二甲基亞碸等）、醯胺類（二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺等）或此等之混合物。

＜聚合起始劑＞ 聚合起始劑為會因光或熱而分解，產生自由基而使硬化性樹脂前驅物之聚合（交聯）開始或進行的成分。使用於透光性功能層用組成物之聚合起始劑，可舉光聚合起始劑（例如，光自由基聚合起始劑、光陽離子聚合起始劑、光陰離子聚合起始劑）。

作為上述光自由基聚合起始劑，例如可列舉：二苯基酮系化合物、苯乙酮系化合物、氧化醯基膦（acyl phosphine oxide）系化合物、二茂鈦系化合物、肟酯系化合物、安息香醚系化合物、9－氧硫𠮿（thioxanthone）等。

上述光自由基聚合起始劑之中，市售者例如可列舉：IRGACURE184、IRGACURE369、IRGACURE379、IRGACURE651、IRGACURE819、IRGACURE907、IRGACURE2959、IRGACURE　OXE01、Lucirin TPO（皆為BASF日本公司製）、NCI－930（艾迪科公司製）、SPEEDCURE　EMK（日本siberhegner公司製）、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚（皆為東京化成工業公司製）等。

作為上述光陽離子聚合起始劑，例如可列舉：芳香族重氮鹽、芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽等。上述光陽離子聚合起始劑之中，市售者例如可列舉：Adeka Optomer SP－150、Adeka Optomer SP－170（皆為艾迪科公司製）等。

透光性功能層用組成物中之聚合起始劑的含量，較佳相對於游離輻射聚合性化合物100質量份，為0.5質量份以上10.0質量份以下。藉由使聚合起始劑之含量在此範圍內，可充分保有硬塗性能，且可抑制硬化阻礙。

作為塗布透光性功能層用組成物之方法，可列舉：旋塗、浸漬法、噴灑法、斜板式塗布（slide coat）法、棒塗法、輥塗法、凹版塗布（gravure coat）法、壓模塗布（die coat）法等公知之塗布方法。

接著，如圖2（B）所示，對塗膜24照射紫外線等游離輻射，使游離輻射聚合性化合物聚合（交聯），藉此使塗膜24半硬化（half cure）。本說明書中之「半硬化」，意指若照射游離輻射，則硬化會實質進行。另，當使塗膜半硬化之情形時，若進行氮氣沖洗，則透光性功能層會過度變硬，因此，較佳在不進行氮氣沖洗下，使塗膜固化。

當使用紫外線作為使透光性功能層用組成物之塗膜24半硬化時的游離輻射之情形時，可利用從超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、氙弧燈、金屬鹵素燈等發出之紫外線等。又，作為紫外線之波長，可使用190～380nm之波長區域。作為電子射線源之具體例，可列舉：科克羅夫－瓦爾頓（Cockcroft－Walton）型、凡得克雷夫（van de Graaff）型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型或直線型、高頻高壓加速（Dynamitron）型、高頻型等各種電子射線加速器。

使塗膜24半硬化後，如圖2（C）所示，將核心層用組成物塗布於塗膜24之脫模膜30側之面的相反側之面，使之乾燥，而形成核心層用組成物之塗膜25。核心層用組成物如上述含有游離輻射聚合性化合物，但另外亦可視需要而添加上述紫外線吸收劑、上述調平劑、溶劑、聚合起始劑。核心層用組成物所含之溶劑或聚合起始劑，由於與透光性功能層用組成物之欄記載的溶劑或聚合起始劑相同，因此，此處省略説明。

接著，如圖3（A）所示，對塗膜25照射紫外線等之游離輻射，使塗膜25半硬化（half cure）。使塗膜25半硬化後，如圖3（B）所示，將接著性提升層用組成物塗布於塗膜25之塗膜24側之面的相反側之面，使之乾燥，而形成接著性提升層用組成物之塗膜26。接著性提升層用組成物如上述含有多官能游離輻射聚合性化合物及矽烷偶合劑，但另外亦可視需要而添加溶劑、聚合起始劑。接著性提升層用組成物所含之溶劑或聚合起始劑，由於與透光性功能層用組成物之欄記載的溶劑或聚合起始劑相同，因此，此處省略説明。

接著，如圖3（C）所示，對塗膜24～26照射紫外線等游離輻射，使塗膜24～26完全硬化（full cure）。藉此，而形成透光性功能層23、核心層21、接著性提升層22，得到圖1所示之保護膜20及積層體10。本說明書中之「完全硬化」，意指即使再照射光，實質上硬化亦不會進行。另，於本實施形態中，雖使塗膜24～26半硬化，最後再使塗膜24～26完全硬化，但亦可在不使之半硬化下，於各層使之完全硬化。

＜＜＜偏光板＞＞＞ 保護膜20例如可裝入偏光板使用。圖4為裝入本實施形態之保護膜的偏光板之概略構成圖。如圖4所示，偏光板40具備有偏光元件41、透過接著劑42貼在偏光元件41之一面的無基材之保護膜20及透過接著劑43貼在偏光元件41之另一面的保護膜44。另，偏光板40雖其中一保護膜為無基材之保護膜20，但兩保護膜亦可皆為無基材之保護膜20。

＜＜偏光元件＞＞ 偏光元件41可舉藉由碘或雙色染料染色，經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂膜。作為聚乙烯醇系樹脂，可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了為乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯外，可舉乙酸乙烯酯與可和乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物等。作為可和乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，例如可列舉：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂亦可使用可經改質例如經醛類改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。

＜＜接著劑＞＞ 作為用以貼合偏光元件41與保護膜20，及偏光元件41與保護膜44之接著劑，可列舉：水系接著劑或游離輻射硬化性接著劑。本說明書中之「水系接著劑」，意指以水溶液或者水分散乳液等形式液狀化後進行塗布，使水乾燥而固化接著之形態的接著劑。作為水系接著劑，可列舉：聚乙烯醇系接著劑、環氧系接著劑、丙烯酸系接著劑等。此等之中，偏光元件之貼合一般使用聚乙烯醇系接著劑。又，「游離輻射硬化性接著劑」，意指對含有游離輻射聚合性化合物之接著組成物照射游離輻射而接著之形態的接著劑。作為水系接著劑或游離輻射硬化性接著劑，可使用以往已知之水系接著劑或游離輻射硬化性接著劑。

＜＜保護膜＞＞ 保護膜44係用以保護偏光元件41之膜。保護膜44由於並不會成為用以形成保護膜20之支持體，因此，並非是本說明書中之「基材」。

作為保護膜44，並無特別限定，例如可由選自由聚對酞酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯（polyethylene naphthalate）等聚酯系樹脂；聯乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系樹脂；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯或丙烯腈－苯乙烯共聚物（AS樹脂）等苯乙烯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；具有聚乙烯、聚丙烯、環系或降莰烯構造之聚烯烴系樹脂；氯乙烯系樹脂；耐綸或芳香族聚醯胺等之醯胺系聚合物；醯亞胺系聚合物；碸系聚合物；聚醚碸系樹脂；聚醚醚酮系樹脂；聚苯硫系樹脂；乙烯醇系樹脂；二氯亞乙烯系樹脂；乙烯醇縮丁醛系樹脂；芳酯（arylate）系樹脂；聚甲醛系樹脂及環氧系樹脂組成之群中的1種以上之聚合物形成。

＜＜＜偏光板之製造方法＞＞＞ 偏光板40例如可以下述方式製作。圖5（A）～圖5（C）係示意地表示本實施形態之偏光板的製造步驟之圖。首先，如圖5（A）所示，以接著劑42接觸積層體10之接著性提升層22的方式，透過接著劑42將積層體10與偏光元件41之一面加以積層。另一方面，透過接著劑43將偏光元件41之另一面與保護膜44加以積層。此處，於透過接著劑42將積層體10與偏光元件41之一面加以積層前，較佳預先對積層體10施加皂化處理。若將調平劑添加於核心層21或透光性功能層23，則有調平劑移動而存在於接著性提升層22之表面22A附近，使與接著劑42之接著性降低之虞，但若對積層體10施加皂化處理，則由於可去除存在於接著性提升層22之表面22A附近的調平劑，因此，可更加提升接著性。

接著，如圖5（B）所示，使接著劑42、43乾燥。當使用水系接著劑作為接著劑之情形時，藉由此乾燥，可將積層體10與偏光元件41及保護膜44與偏光元件41貼合。又，當使用游離輻射硬化性接著劑作為接著劑之情形時，於此乾燥後，可藉由對積層體照射游離輻射，將積層體與偏光元件及保護膜與偏光元件貼合。

透過接著劑42、43將積層體10與偏光元件41，及保護膜44與偏光元件41貼合後，如圖5（C）所示，從保護膜20將脫模膜30剝離。藉此，可得到圖4所示之偏光板40。

若根據本實施形態，由於在核心層21上設置有接著性提升層22，因此，可提升與接著劑42之接著性。尤其當接著性提升層22含有具有水解性基之矽烷偶合劑的情形時，可更加提升與接著劑42之接著性。亦即，接著性提升層22中之矽烷偶合劑於皂化處理時或與接著劑接觸時水解性基會水解，而產生矽烷醇基。此矽烷醇基與接著劑之羥基形成氫鍵，藉由乾燥步驟進行脫水縮合反應，而形成共價鍵。藉此，可更加提升與接著劑42之接著性。

若根據本實施形態，由於保護膜20之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上，因此，可得到具有優異韌性之保護膜20。此處，若使用含有多官能游離輻射化合物與矽烷偶合劑之硬化性組成物形成核心層，則核心層會過度變硬，而無法得到拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上之保護膜，但藉由如核心層21與接著性提升層22般將層分開，可得到拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上之保護膜。

於直接接合（direct bonding）方式之影像顯示裝置中，由於在透光性功能層表面塗布親水性接著組成物，故對水之接觸角宜低。此處，為了得到對水之接觸角低的透光性功能層，透光性功能層表面較佳為均一且平坦，但即使是為了得到均一且平坦之表面而將調平劑添加於透光性功能層的情形，調平劑亦不易滲出於表面，又，即使調平劑滲出於表面，亦會呈海島狀，因此，無法得到表面均一且平面之透光性功能層。相對於此，當透光性功能層23表面23B之1μm見方及5μm見方之區域內的算術平均粗糙度（Ra）分別為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）分別為4nm以上20nm以下，最大峰高（Rp）分別為2nm以上15nm以下的情形時，可得到表面23B均一且平坦之保護膜20。藉此，可使透光性功能層23表面23B對水之接觸角降低。

＜＜＜影像顯示裝置＞＞＞ 保護膜20或偏光板40例如可裝入影像顯示裝置使用。圖6為本實施形態之影像顯示裝置的概略構成圖。如圖6所示，影像顯示裝置50主要具備有用以顯示影像之顯示面板60、配置於較顯示面板60靠近觀察者側之觸控面板70及介於顯示面板60與觸控面板70之間的接著劑80。於本實施形態中，由於顯示面板60為使用有機發光二極體之顯示面板，因此，影像顯示裝置50不具備背光裝置，但亦可根據顯示面板（顯示元件）之種類具備背光裝置。

＜＜顯示面板＞＞ 顯示面板60如圖6所示，具備有顯示元件61、配置於較顯示元件61靠近觀察者側之偏光板40及介於顯示元件61與偏光板40之間的接著劑62。

顯示元件61具備有機發光二極體（OLED）。惟，顯示元件61並不限於使用有機發光二極體之顯示元件，例如亦可為液晶、無機發光二極體及／或量子點發光二極體（QLED）。

保護膜20配置於較顯示元件61靠近觀察者側，且配置成位於較偏光元件41靠近觀察者側。保護膜20之觀察者側的表面20B（透光性功能層23之表面23B）與接著劑80接觸。

＜＜觸控面板＞＞ 觸控面板70具備有感測器部90、配置於較感測器部90靠近觀察者側之蓋玻璃100及用以固定感測器部90與蓋玻璃100之透明黏著層101。觸控面板70具備感測器部90即可，可不具備蓋玻璃100、透明黏著層101。另，本實施形態之觸控面板雖配置於顯示元件61上（外嵌（on cell）式構造），但觸控面板亦可存在於顯示元件61中（內嵌（in cell）式構造）。

＜感測器部＞ 感測器部90為作為觸控面板70之感測器用的部分。感測器部90並無特別限定，例如可舉使用於投影型靜電容方式之感測器。圖6所示之感測器部90為設置有經圖案化之導電層92的基材膜91與設置有經圖案化之導電層93的基材膜91隔著透明黏著層94積層的構造。

＜基材膜＞ 圖6所示之基材膜91具備有透光性基材95、設置於透光性基材95之一面上的硬塗層96、設置於硬塗層96上之高折射率層97、設置於高折射率層97上之低折射率層98及積層於透光性基材95之另一面上的硬塗層99。

亦可使用具備有透光性基材、設置於透光性基材之一面上的硬塗層、設置於硬塗層上之高折射率層、設置於高折射率層上之低折射率層、設置於透光性基材之另一面上的硬塗層、設置於硬塗層上之高折射率層及積層於此高折射率層上之低折射率層的基材膜來代替基材膜91。於此情形時，於存在基材膜兩面之低折射率層上分別設置經圖案化之導電層。

作為透光性基材95、硬塗層96,99、高折射率層97及低折射率層98，由於可使用通常之觸控面板之感測器部所使用的透光性基材、硬塗層、高折射率層及低折射率層，因此，此處省略説明。

＜導電層＞ 導電層92、93之形狀並無特別限定，例如可列舉：正方形或條狀。導電層92、93透過擷取圖案（extraction pattern）（未圖示）而連接於端子部（未圖示）。導電層92、93雖揭示由透明導電材料構成之例，但導電層可由網目狀導線構成。作為透明導電材料，可列舉：摻錫氧化銦（ITO）、摻銻氧化錫（ATO）、氧化鋅、氧化銦（In ₂O ₃）、摻鋁氧化鋅（AZO）、摻鎵氧化鋅（GZO）、氧化錫、氧化鋅－氧化錫系、氧化銦－氧化錫系、氧化鋅－氧化銦－氧化鎂系等之金屬氧化物等。作為導線之材料，可列舉：銀、銅、鋁或此等之合金等具有遮光性之金屬材料。

導電層92、93之膜厚，可根據電阻之規格等作適當設定，較佳例如為10nm以上50nm以下。

導電層92、93之形成方法並無特別限定，可使用濺鍍法、真空蒸鍍法、離子鍍法（ion plating method）、CVD法、塗布法、印刷法等。作為將導電層圖案化之方法，例如可舉光蝕刻法（photolithography）。

當導電層由網目狀導線構成之情形時，導線之寬度較佳為1μm以上20μm以下，更佳為2μm以上15μm以下。藉此，可將導線對觀察者目視辨認之影像造成的影響降低至可忽視之程度。

當導電層由網目狀導線構成之情形時，導電層具有由導線形成之例如矩形之開口部。導電層之開口率可根據自顯示裝置投放之影像光線的特性等作適當設定，例如在80％以上90％以下之範圍內。又，開口部之配置間距可根據所要求之開口率或導線之寬度值，在100μm以上1000μm以下之範圍內作適當設定。

＜＜接著劑＞＞ 接著劑80介於顯示面板60與觸控面板70之間，且接著於顯示面板60與觸控面板70之兩者。藉此，將顯示面板60與觸控面板70固定。接著劑62、80係由含有游離輻射聚合性化合物之硬化性接著組成物（例如，光學透明樹脂（OCR：optically clear resin））的硬化物構成。

[第2實施形態] 以下，一邊參照圖式，一邊說明本發明之第2實施形態的光學膜、積層體、偏光板及影像顯示裝置。圖7為本實施形態之光學膜的概略構成圖，圖8（A）～圖8（C）及圖9（A）～圖9（C）為示意地表示本實施形態之光學膜製造步驟之圖。

＜＜＜光學膜及積層體＞＞＞ 圖7所示之積層體110具備有光學膜120與積層於光學膜120之脫模膜130。

＜＜光學膜＞＞ 光學膜120不具備基材，亦即為無基材之光學膜。另，脫模膜130由於最後會自光學膜120剝離，因此並非是構成光學膜120之一部份者。

光學膜120具備有核心層121與設置於核心層121之一面121A的滲出抑制層122。光學膜120亦可進一步具備有設置於核心層121之另一面121B的透光性功能層123。

從光學膜120之薄型化的觀點，光學膜120之厚度未達40μm。光學膜120之厚度可藉由與保護膜20相同之方法測量。光學膜120之厚度，從光學膜120之薄型化的觀點，較佳未達21μm，更佳未達15μm，最佳未達10μm。

圖7所示之光學膜120為透光性功能層123、核心層121、滲出抑制層122之3層構造，各層間之介面可無須明確。當各層間之介面不明確的情形時，可藉由對各層之成分進行分析，來判斷為透光性功能層、核心層及滲出抑制層。

光學膜120之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。光學膜120之拉伸斷裂強度的測量，係依據JIS　K7161－1：2014，使用TENSILON萬能測試機，於寬度25mm、夾頭間距離80mm以測試速度300mm／min將光學膜拉伸，藉此來進行，將光學膜斷裂時施加於光學膜之應力作為拉伸斷裂強度。使拉伸斷裂強度為測量3次而得到之值的算術平均值。另，使光學膜120之拉伸斷裂強度為於經剝離脫模膜130之狀態下所測量者。光學膜120之拉伸斷裂強度較佳為40N／mm ²以上。

光學膜120之透濕度較佳為100g／（m ²・24h）以上600g／（m ²・24h）以下。若光學膜之透濕度未達100g／（m ²・24h），則當塗布水系接著劑時，由於水分難以從光學膜脫離，因此容易產生皺紋，又，若超過600g／（m ²・24h），則當使用有機發光二極體作為顯示元件之情形時，會有有機發光二極體因水分而劣化之虞。使透濕度為測量3次而得到之值的算術平均值。另，使光學膜120之透濕度為於經剝離脫模膜30之狀態下所測量者。光學膜120之透濕度的下限更佳為200g／（m ²・24h）以上，上限更佳為500g／（m ²・24h）以下。

光學膜120之波長380nm之光的透射率較佳在7％以下。藉由使光學膜120之此波長區域之光的透射率在7％以下，而可在將光學膜120使用於智慧型手機或平板終端之類的行動載具之情形時，抑制偏光元件受到紫外線之曝曬而劣化。光學膜之波長380nm之光的透射率上限更佳為5％。透光率可使用分光光度計（製品名「UV－2450」，島津製作所製）測量。使上述透射率為測量3次而得到之值的算術平均值。

光學膜120之霧度值（總霧度值）較佳未達1％。藉由使光學膜120之霧度值未達1％，可在將光學膜120使用於行動載具之情形時，抑制畫面之白化。光學膜120之霧度值的上限更佳為未達0.5％，再更佳為0.4％以下，再更佳為0.3％以下，最佳為0.2％以下。此處之霧度值，係指後述之耐濕熱性測試前之光學膜的霧度值，但耐濕熱性測試後之光學膜的霧度值亦較佳為未達1％。耐濕熱性測試後之光學膜120的霧度值更佳為未達0.5％，最佳為0.3％以下。霧度值可依據JIS　K7136：2000，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製）求得。使霧度值為測量3次而得到之值的算術平均值。光學膜120之透光率及霧度值，例如可藉由調整核心層121等中之紫外線吸收劑的添加量等來達成。

光學膜120亦可被切成想要之大小，但亦可為捲筒狀。當光學膜120被切成想要之大小的情形時，光學膜之大小並無特別限制，例如可根據智慧型手機、平板終端、個人電腦（PC）、穿戴式終端、數位標示、電視等影像顯示裝置之顯示面的大小而適當地決定。具體而言，光學膜120之大小，例如可在1吋以上500吋以下。

＜＜核心層＞＞ 核心層121含有由硬化物構成之黏合劑樹脂與分散於黏合劑樹脂中之紫外線吸收劑（UVA）。核心層121之添加劑或膜厚由於與核心層21相同，故此處省略説明。

＜黏合劑樹脂＞ 黏合劑樹脂如上述，為由硬化物構成之樹脂。樹脂由於與第1實施形態之欄所説明之構成核心層21的樹脂相同，故此處省略説明。

＜紫外線吸收劑＞ 紫外線吸收劑由於與第1實施形態之欄所説明之紫外線吸收劑相同，故此處省略説明。

核心層121亦可含有調平劑。核心層121另外亦可視需要而例如含有潤滑劑、塑化劑、填充劑、填料、抗靜電劑、防黏劑、交聯劑、光穩定劑、染料、顏料等著色劑等之其他成分。

＜調平劑＞ 調平劑由於與第1實施形態之欄所説明之調平劑相同，故此處省略説明。

＜＜滲出抑制層＞＞ 滲出抑制層122為用以抑制紫外線吸收劑滲出之層。滲出抑制層122若為可抑制紫外線吸收劑滲出之層，則無特別限定。此處，是否為滲出抑制層，可藉由下述方式判斷：對於光學膜，進行將光學膜於80℃、相對濕度90％之環境下放置24小時之耐濕熱性測試，耐濕熱性測試後之光學膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之光學膜的霧度值之比是否在10以下。亦即，於核心層上存在某些層之情形，當耐濕熱性測試後之光學膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之光學膜的霧度值之比在10以下的情形時，判斷為核心層上之某些層為滲出抑制層。霧度值可依據JIS　K7136：2000，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製）來求得。使霧度值為測量3次而得到之值的算術平均值。耐濕熱性測試後之光學膜120的霧度值相對於耐濕熱性測試前之光學膜120的霧度值之比，較佳為5以下，更佳為3以下。

於滲出抑制層122之表面122A，由於會塗布後述之水系接著劑等，因此，皂化處理後之滲出抑制層122其表面122A對水的接觸角較佳為80°以下。皂化處理係藉由使光學膜或積層體浸漬於2當量濃度、溫度55℃之氫氧化鈉水溶液3分鐘來進行。滲出抑制層122之表面122A對水的接觸角可依據JIS　R3257－1999記載之躺滴法，使用顯微鏡式接觸角計（製品名「CA－QI series」，協和界面科學股份有限公司製）來測量。滲出抑制層122之表面122A對水的接觸角更佳為70°以下。

滲出抑制層122之膜厚較佳為100nm以上且未達800nm。若滲出抑制層122之膜厚未達100nm，則會有無法抑制紫外線吸收劑滲出之虞，又，若滲出抑制層122之膜厚為800nm以上，則會有硬化收縮變大，與核心層之密接性變差之虞。滲出抑制層122之膜厚可藉由與核心層21之膜厚測量方法相同的測量方法測量。滲出抑制層122之膜厚的下限更佳為150nm以上。滲出抑制層122之膜厚的上限更佳為600nm以下，最佳為500nm以下。

滲出抑制層122較佳含有由多官能游離輻射聚合性化合物之硬化物（聚合物）構成之樹脂。滲出抑制層可為僅由樹脂構成之層，滲出抑制層除了樹脂之外，從提升與接著劑之接著性的觀點，較佳還含有矽烷偶合劑。當滲出抑制層122含有矽烷偶合劑之情形時，樹脂係作為黏合劑樹脂用。

＜樹脂＞ 樹脂如上述，較佳由多官能游離輻射聚合性化合物之硬化物構成，所謂「多官能游離輻射聚合性化合物」，係指在分子內具有2個以上之游離輻射聚合性官能基的化合物。作為多官能游離輻射聚合性化合物，可列舉：多官能游離輻射聚合性單體、多官能游離輻射聚合性寡聚物、多官能游離輻射聚合性預聚合物或此等之混合物。多官能游離輻射聚合性化合物更佳在分子內具有3個以上之游離輻射聚合性官能基。多官能游離輻射聚合性單體之重量平均分子量較佳未達1000，多官能游離輻射聚合性寡聚物或多官能游離輻射聚合性預聚合物之重量平均分子量較佳為1000以上20000以下。

作為多官能游離輻射聚合性化合物，可列舉：多元醇與（甲基）丙烯酸之酯化合物、多官能雜環式（甲基）丙烯酸酯、多官能胺酯（甲基）丙烯酸酯、多官能聚酯（甲基）丙烯酸酯、多官能環氧（甲基）丙烯酸酯及此等之混合物等。

＜矽烷偶合劑＞ 矽烷偶合劑由於與第1實施形態之欄所説明的矽烷偶合劑相同，故此處省略説明。

＜＜透光性功能層＞＞ 透光性功能層123的核心層121側之面123A的相反側之面123B（以下，將此面稱為「透光性功能層之表面」。）形成光學膜120之另一表面120B。於透光性功能層123之表面123B的1μm見方（1μm×1μm）及5μm見方（5μm×5μm）之區域內，較佳為，算術平均粗糙度（Ra）各自為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）各自為4nm以上20nm以下，最大峰高（Rp）各自為2nm以上15nm以下。另，除了上述以外，由於透光性功能層123亦與第1實施形態之欄所説明的透光性功能層23相同，故此處省略説明。

＜＜脫模膜＞＞ 脫模膜130係用以自光學膜120剝離而藉此將光學膜120轉印於後述之偏光板者。脫模膜130由於與脫模膜30相同，故此處省略説明。

＜＜＜光學膜及積層體之製造方法＞＞＞ 積層體110及光學膜120例如可以下述方式製作。首先，將透光性功能層用組成物塗布於脫模膜130之一面130A，並使之乾燥，如圖8（A）所示，形成透光性功能層用組成物之塗膜124。透光性功能層用組成物由於與第1實施形態之欄所説明的透光性功能層用組成物相同，故此處省略説明。

接著，如圖8（B）所示，對塗膜124照射紫外線等游離輻射，使游離輻射聚合性化合物聚合（交聯），藉此使塗膜124半硬化（half cure）。

於使塗膜124半硬化後，如圖8（C）所示，將核心層用組成物塗布於塗膜124的脫模膜130側之面的相反側之面，並使之乾燥，形成核心層用組成物之塗膜125。核心層用組成物如上述含有游離輻射聚合性化合物及紫外線吸收劑，但另外亦可視需要而含有上述調平劑、溶劑、聚合起始劑。核心層用組成物所含之溶劑或聚合起始劑由於與第1實施形態之透光性功能層用組成物之欄所記載的溶劑或聚合起始劑相同，故此處省略説明。

接著，如圖9（A）所示，對塗膜125照射紫外線等之游離輻射，使塗膜125半硬化（half cure）。於使塗膜125半硬化後，如圖9（B）所示，將滲出抑制層用組成物塗布於塗膜125的塗膜124側之面的相反側之面，並使之乾燥，形成滲出抑制層用組成物之塗膜126。滲出抑制層用組成物如上述含有多官能游離輻射聚合性化合物及矽烷偶合劑，但另外亦可視需要而含有溶劑、聚合起始劑。滲出抑制層用組成物所含之溶劑或聚合起始劑由於與透光性功能層用組成物之欄所記載的溶劑或聚合起始劑相同，故此處省略説明。

接著，如圖9（C）所示，對塗膜124～126照射紫外線等游離輻射，使塗膜124～126完全硬化（full cure）。藉此，形成透光性功能層123、核心層121、滲出抑制層122，得到圖7所示之光學膜120及積層體110。另，於本實施形態中，雖然是使塗膜124～126半硬化，最後再使塗膜124～126完全硬化，但亦可不使之半硬化，而於各層使之完全硬化。

＜＜＜偏光板＞＞＞ 光學膜120例如可裝入偏光板使用。圖10為裝入有本實施形態之光學膜的偏光板之概略構成圖。如圖10所示，偏光板140具備有偏光元件141、透過接著劑142貼合在偏光元件141之一面的光學膜120及透過接著劑143貼合在偏光元件141之另一面的保護膜144。

＜＜偏光元件＞＞ 偏光元件141由於與第1實施形態之欄所説明之偏光元件41相同，故此處省略説明。

＜＜接著劑＞＞ 作為用以將偏光元件141與光學膜120，及偏光元件141與保護膜144貼合之接著劑142、143，可列舉水系接著劑或游離輻射硬化性接著劑。

＜＜保護膜＞＞ 保護膜144由於與第1實施形態之欄所説明之保護膜44相同，故此處省略説明。

＜＜＜偏光板之製造方法＞＞＞ 偏光板140例如可以下述方式製作。圖11（A）～圖11（C）為示意地表示本實施形態之偏光板的製造步驟之圖。首先，如圖11（A）所示，以接著劑142接觸積層體110之滲出抑制層122的方式，透過接著劑142將積層體110與偏光元件141之一面積層。另一方面，透過接著劑143將偏光元件141之另一面與保護膜144積層。此處，在透過接著劑142將積層體110與偏光元件141之一面積層前，較佳預先對積層體110施加皂化處理。若將調平劑添加於核心層121或透光性功能層123，則有調平劑移動而存在於滲出抑制層122之表面122A附近，使與接著劑142之接著性降低之虞，但若對積層體110施加皂化處理，則由於可去除存在於滲出抑制層122之表面122A附近的調平劑，因此，可更加提升接著性。

接著，如圖11（B）所示，使接著劑142、143乾燥。當使用水系接著劑作為接著劑之情形時，藉由此乾燥，可將積層體110與偏光元件141及保護膜144與偏光元件141貼合。又，當使用游離輻射硬化性接著劑作為接著劑之情形時，於此乾燥後，可藉由對積層體照射游離輻射，將積層體與偏光元件及保護膜與偏光元件貼合。

透過接著劑142、143將積層體110與偏光元件141，及保護膜144與偏光元件141貼合後，如圖11（C）所示，從光學膜120將脫模膜130剝離。藉此，可得到圖10所示之偏光板140。

若根據本實施形態，由於在核心層121上設置有滲出抑制層122，因此，可抑制紫外線吸收劑滲出於滲出抑制層122之表面122A。尤其當滲出抑制層122含有由多官能游離輻射聚合性化合物之硬化物構成的樹脂之情形時，相較於含有由單官能游離輻射聚合性化合物之硬化物構成的樹脂之情形，由於會形成交聯密度高之層，因此，即使紫外線吸收劑到達核心層121之一面121A，亦會被滲出抑制層122阻擋。藉此，可更加抑制紫外線吸收劑滲出。

若根據本實施形態，由於光學膜120之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上，因此，可得到具有優異之韌性的光學膜120。此處，若使用含有多官能游離輻射化合物與矽烷偶合劑之硬化性組成物來形成核心層，則核心層會過度變硬，而無法得到拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上之光學膜。相對於此，若根據本實施形態，則由於將核心層121與滲出抑制層122分開，因此，可得到拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上之光學膜120。

若根據本實施形態，由於可藉由滲出抑制層122抑制紫外線吸收劑滲出，因此，與接著劑之接著性不會受到紫外線吸收劑妨礙，藉此，可得到光學膜120與接著劑之接著性良好的偏光板140。

若根據本實施形態，當滲出抑制層122含有矽烷偶合劑之情形時，可更加提升與接著劑142之接著性。亦即，滲出抑制層122中之矽烷偶合劑在皂化處理時或在與接著劑接觸時水解性基會水解，而產生矽烷醇基。此矽烷醇基與接著劑之羥基會形成氫鍵，因乾燥步驟而會進行脫水縮合反應，形成共價鍵。藉此，可更加提升與接著劑142之接著性。

於直接接合方式之影像顯示裝置中，由於會在透光性功能層之表面塗布親水性接著組成物，故對水之接觸角宜低。此處，為了得到對水之接觸角低的透光性功能層，透光性功能層之表面較佳為均一且平坦，但即使是為了得到均一且平坦之表面而在透光性功能層添加調平劑的情形，調平劑亦難以滲出於表面，且即使調平劑滲出於表面，亦會變成海島狀，因此，無法得到表面均一且平面之透光性功能層。相對於此，當透光性功能層123表面123B之1μm見方及5μm見方區域內中的算術平均粗糙度（Ra）分別為0.5nm以上1.5nm以下，最大高度（Rz）分別為4nm以上20nm以下，最大峰高（Rp）分別為2nm以上15nm以下的情形時，可得到表面123B均一且平坦之光學膜120。藉此，可降低透光性功能層123之表面123B對水的接觸角。

＜＜＜影像顯示裝置＞＞＞ 光學膜120或偏光板140例如可裝入影像顯示裝置使用。圖12為本實施形態之影像顯示裝置的概略構成圖。如圖12所示，影像顯示裝置150主要具備有用以顯示影像之顯示面板160、配置於較顯示面板160靠近觀察者側之觸控面板70及介於顯示面板160與觸控面板70之間的接著劑80。於本實施形態中，由於顯示面板160為使用有機發光二極體之顯示面板，因此，影像顯示裝置150並不具備有背光裝置，但亦可根據顯示面板（顯示元件）之種類具備背光裝置。另，於圖12中，賦予與圖6相同符號之構件由於與圖6所示之構件相同，因此，省略説明。

＜＜顯示面板＞＞ 顯示面板160如圖12所示，具備有顯示元件61、配置於較顯示元件61靠近觀察者側之偏光板140及介於顯示元件61與偏光板140之間的接著劑62。

光學膜120配置於較顯示元件61靠近觀察者側，且配置成較偏光元件141更位於觀察者側。光學膜120之觀察者側的表面120B（透光性功能層123之表面123B）與接著劑80接觸。 [實施例]

為了詳細說明本發明，以下舉實施例來説明，但本發明並不限定於此等記載。另，下述「固形物成分100％換算值」，係指使溶劑稀釋物中之固形物成分為100％時之值。

＜接著性提升層用組成物＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，得到接著性提升層用組成物。 （接著性提升層用組成物1） ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

（接著性提升層用組成物2） ・異三聚氰酸EO改質二及三丙烯酸酯（製品名「M313」，東亞合成公司製，2及3官能混合物）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

（接著性提升層用組成物3） ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「G0210」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

＜滲出抑制層用組成物＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，而得到滲出抑制層用組成物。 （滲出抑制層用組成物1） ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

（滲出抑制層用組成物2） ・異三聚氰酸EO改質二及三丙烯酸酯（製品名「M313」，東亞合成公司製，2及3官能混合物）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

（滲出抑制層用組成物3） ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「G0210」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

＜塗層（coat layer）用組成物＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，而得到塗層用組成物。 （塗層用組成物1） ・2－乙基己基EO改質丙烯酸酯（製品名「M－120」，東亞合成公司製，單官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

（塗層用組成物2） ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

（塗層用組成物3） ・甲氧基聚乙二醇♯1000甲基丙烯酸酯（製品名「M－230G」，新中村化學工業公司製，單官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：0.2質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：70質量份 ・環己酮：25質量份

＜核心層用組成物＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，而得到核心層用組成物1。 （核心層用組成物1） ・胺酯丙烯酸酯（游離輻射聚合性寡聚物，製品名「UV－3310B」，日本合成化學公司製，重量平均分子量5000，雙官能）：40質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・紫外線吸收劑（製品名「TINUVIN400」，BASF日本公司製）：3質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：60質量份

（核心層用組成物2） ・胺酯丙烯酸酯（游離輻射聚合性寡聚物，製品名「UA－4400」，新中村化學工業公司製，重量平均分子量3000，雙官能）：40質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・紫外線吸收劑（製品名「TINUVIN400」，BASF日本公司製）：3質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：60質量份

（核心層用組成物3） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「UV－3310B」，日本合成化學公司製，重量平均分子量5000，雙官能）：32質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：8質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・紫外線吸收劑（製品名「TINUVIN400」，BASF日本公司製）：3質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：60質量份

（核心層用組成物4） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「UV－3310B」，日本合成化學公司製，重量平均分子量5000，雙官能）：32質量份 ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：4質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・紫外線吸收劑（製品名「TINUVIN400」，BASF日本公司製）：3質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：60質量份

（核心層用組成物5） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「UV－3310B」，日本合成化學公司製，重量平均分子量5000，雙官能）：40質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・紫外線吸收劑（製品名「TINUVIN479」，BASF日本公司製）：3質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：60質量份

（核心層用組成物6） ・胺酯丙烯酸酯（製品名「UV－3310B」，日本合成化學公司製，重量平均分子量5000，雙官能）：40質量份 ・聚酯丙烯酸酯（製品名「M7100」，東亞合成公司製，多官能）：4質量份 ・矽烷偶合劑（製品名「A1597」，東京化成工業公司製，反應性官能基：丙烯醯基，水解性基：甲氧基）：1質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・紫外線吸收劑（製品名「TINUVIN400」，BASF日本公司製）：3質量份 ・甲基異丁基酮（MIBK）：60質量份

＜硬塗層用組成物＞ 以成為下述所示之組成的方式摻合各成分，而得到硬塗層用組成物。 （硬塗層用組成物1） ・反應性異形二氧化矽（無機粒子，製品名「ELCOM　V8803」，日揮觸媒化成公司製）：30質量份 ・氧化乙烯改質雙酚A二丙烯酸酯（製品名「BPE－20」，第一工業製藥公司製，雙官能）：56質量份 ・胺酯丙烯酸酯預聚合物（製品名「UN－350」，根上工業公司製，重量平均分子量12500，雙官能）：14質量份 ・聚合起始劑（製品名「Irgacure 184」，BASF日本公司製）：4質量份 ・調平劑（製品名「F568」，迪愛生公司製）：0.1質量份（固形物成分100％換算值） ・甲基異丁基酮（MIBK）：150質量份

＜實施例A1＞ 首先，準備作為脫模膜之厚度100μm的單面經易接著處理的聚對酞酸乙二酯膜（製品名「cosmoshine A4100」，東洋紡公司製），在聚對酞酸乙二酯膜之未處理側面，塗布硬塗層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為200mJ／cm ²之方式照射紫外線，使塗膜半硬化。

使硬塗層用組成物1之塗膜半硬化後，於硬塗層用組成物1之塗膜上，塗布上述核心層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為300mJ／cm ²之方式照射紫外線，使塗膜半硬化。

使核心層用組成物1之塗膜半硬化後，於核心層用組成物1之塗膜上，塗布上述接著性提升層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為500mJ／cm ²之方式照射紫外線，使全部的塗膜完全硬化，形成依序具備硬塗層（膜厚為10μm）、核心層（膜厚為25μm）及接著性提升層（膜厚為500nm）的厚度為35.5μm之保護膜及脫模膜與保護膜構成的積層體。關於保護膜之厚度，係使用掃描型電子顯微鏡（SEM），拍攝保護膜之剖面，於其剖面之影像中測量20個部位之保護膜的厚度，使保護膜之厚度為該20個部位之厚度的平均值。

接著，將積層體浸漬於2當量濃度、溫度55℃之氫氧化鈉水溶液3分鐘，藉此對積層體進行皂化處理。另一方面，使聚乙烯醇系膜吸附碘，然後，進行單軸延伸使之配向，藉此製作偏光元件，又，將聚乙烯醇系接著劑（以純水將聚乙烯醇樹脂（製品名「PVA－117」，可樂麗公司製）稀釋成固形物成分5％而得到之聚乙烯醇水溶液）塗布於偏光元件之兩面。

將保護膜、偏光元件、TAC基材配置成使保護膜之接著性提升層接觸偏光元件之一面，且經皂化處理之厚度80μm的三乙醯基纖維素基材（TAC基材）接觸偏光元件之另一面。於此狀態下，以100℃乾燥10分鐘，而得到保護膜與偏光元件及TAC基材與偏光元件以聚乙烯醇系接著劑貼合之偏光板。

最後，將聚對酞酸乙二酯膜從硬塗層之表面剝離，而得到露出硬塗層表面之偏光板。

＜實施例A2＞ 於實施例A2中，除了使用接著性提升層用組成物2代替接著性提升層用組成物1以外，其餘皆以與實施例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜實施例A3＞ 於實施例A3中，除了使用接著性提升層用組成物3代替接著性提升層用組成物1以外，其餘皆以與實施例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜實施例A4＞ 於實施例A4中，除了使用核心層用組成物2代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與實施例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜實施例A5＞ 於實施例A5中，除了使用核心層用組成物3代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與實施例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜比較例A1＞ 於比較例A1中，除了不形成接著性提升層以外，其餘皆以與實施例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。另，比較例A1之保護膜由硬塗層及核心層構成，於偏光板中，核心層與偏光元件以聚乙烯醇系接著劑貼合。

＜比較例A2＞ 於比較例A2中，除了使用核心層用組成物2代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜比較例A3＞ 於比較例A3中，除了使用核心層用組成物3代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜比較例A4＞ 於比較例A4中，除了使用核心層用組成物4代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜比較例A5＞ 於比較例A5中，除了使用塗層用組成物1代替接著性提升層用組成物1，且於核心層上形成膜厚500nm之塗層代替接著性提升層以外，其餘皆以與實施例1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜比較例A6＞ 於比較例A6中，除了使用塗層用組成物2代替接著性提升層用組成物1，且於核心層上形成膜厚500nm之塗層代替接著性提升層以外，其餘皆以與實施例A1同樣方式得到保護膜及偏光板。

＜比較例A7＞ 於比較例A7中，準備厚度80μm之TAC基材（製品名「TD80UL　M」，富士膜公司製），於TAC基材之一面，塗布硬塗層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為200mJ／cm ²之方式照射紫外線，使塗膜硬化。藉此，得到依序具備TAC基材與膜厚10μm之硬塗層的具有基材之保護膜。

接著，將保護膜浸漬於2當量濃度、溫度55℃之氫氧化鈉水溶液3分鐘，藉此對保護膜進行皂化處理。另一方面，使聚乙烯醇系膜吸附碘，然後，進行單軸延伸使之配向，製作偏光元件，又，將聚乙烯醇系接著劑（以純水將聚乙烯醇樹脂（製品名「PVA－117」，可樂麗公司製）稀釋成固形物成分5％而得到之聚乙烯醇水溶液）塗布於偏光元件之兩面。

將保護膜、偏光元件、TAC基材配置成使保護膜之TAC基材接觸偏光元件之一面，且經皂化處理之厚度80μm之另外的TAC基材接觸偏光元件之另一面。於此狀態下，以100℃乾燥10分鐘，而得到保護膜與偏光元件及TAC基材與偏光元件以聚乙烯醇系接著劑貼合的偏光板。

＜實施例B1＞ 首先，準備作為脫模膜之未經處理且厚度為100μm的聚對酞酸乙二酯膜（製品名「cosmoshine A4100」，東洋紡公司製），於聚對酞酸乙二酯膜之單面，塗布硬塗層組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為200mJ／cm ²之方式照射紫外線，使塗膜半硬化。

使硬塗層用組成物1之塗膜半硬化後，於硬塗層用組成物1之塗膜上，塗布上述核心層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為300mJ／cm ²之方式照射紫外線，使塗膜半硬化。

使核心層用組成物1之塗膜半硬化後，於核心層用組成物1之塗膜上，塗布上述滲出抑制層用組成物1，形成塗膜。接著，對形成之塗膜，以0.5m／s之流速流通50℃之乾燥空氣15秒鐘後，進一步以10m／s之流速流通70℃之乾燥空氣30秒鐘使之乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，以累計光量成為500mJ／cm ²之方式照射紫外線，使全部之塗膜完全硬化，形成依序具備硬塗層（膜厚為10μm）、核心層（膜厚為25μm）及滲出抑制層（膜厚為500nm）的厚度為35.5μm之光學膜及脫模膜與光學膜構成的積層體。

接著，將積層體浸漬於2當量濃度、溫度55℃之氫氧化鈉水溶液2分鐘，藉此對積層體進行皂化處理。另一方面，使聚乙烯醇系膜吸附碘，然後，進行單軸延伸使之配向，藉此製作偏光元件，又，將聚乙烯醇系接著劑（以純水將聚乙烯醇樹脂（製品名「PVA－117」，可樂麗公司製）稀釋成固形物成分5％而得到之聚乙烯醇水溶液）塗布於偏光元件之兩面。

將光學膜、偏光元件、TAC基材配置成使光學膜之滲出抑制層接觸偏光元件之一面，且厚度80μm之三乙醯基纖維素基材（TAC基材）接觸偏光元件之另一面。於此狀態下，以100℃乾燥10分鐘，而得到光學膜與偏光元件及TAC基材與偏光元件以聚乙烯醇系接著劑貼合之偏光板。

最後，將聚對酞酸乙二酯膜從硬塗層之表面剝離，而得到露出硬塗層表面之偏光板。

＜實施例B2＞ 於實施例B2中，除了使用滲出抑制層用組成物2代替滲出抑制層用組成物1以外，其餘皆以與實施例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜實施例B3＞ 於實施例B3中，除了使用滲出抑制層用組成物3代替滲出抑制層用組成物1以外，其餘皆以與實施例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜實施例B4＞ 於實施例B4中，除了使用核心層用組成物5代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與實施例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B1＞ 於比較例B1中，除了不形成滲出抑制層以外，其餘皆以與實施例1同樣方式得到光學膜及偏光板。另，比較例B1之光學膜由硬塗層及核心層構成，於偏光板中，核心層與偏光元件以聚乙烯醇系接著劑貼合。

＜比較例B2＞ 於比較例B2中，除了使用核心層用組成物5代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B3＞ 於比較例B3中，除了使用核心層用組成物6代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B4＞ 於比較例B4中，除了使用塗層用組成物1代替滲出抑制層用組成物1，並於核心層上形成膜厚500nm之塗層以外，其餘皆以與實施例1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B5＞ 於比較例B5中，除了使用核心層用組成物5代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例B4同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B6＞ 於比較例B6中，除了使用塗層用組成物3代替滲出抑制層用組成物1，並於核心層上形成膜厚500nm之塗層以外，其餘皆以與實施例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B7＞ 於比較例B7中，除了使用核心層用組成物5代替核心層用組成物1以外，其餘皆以與比較例B6同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B8＞ 於比較例B8中，除了使用厚度80μm之纖維素三乙酸酯膜（製品名「TD80UL　M」，富士膜公司製）代替未經處理之聚對酞酸乙二酯膜，且未將纖維素三乙酸酯膜剝離以外，其餘皆以與比較例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜比較例B9＞ 於比較例B9中，除了使用經以非聚矽氧系脫模劑進行表面處理過之厚度為50μm的聚對酞酸乙二酯膜（製品名「TN100」，東洋紡公司製）代替纖維素三乙酸酯膜以外，其餘皆以與比較例B1同樣方式得到光學膜及偏光板。

＜剝離測試＞ 為了對實施例A1～A5、B1～B4及比較例A1～A6、B1～B9之偏光板評價接著性，而進行了180度剝離測試。具體而言，首先將偏光板之保護膜或光學膜側之面藉由寺岡製作所製的雙面帶「751B」，以偏光板超出玻璃板之方式將偏光板貼在玻璃板。將超出玻璃板之偏光板以夾頭夾住，以180度之角度，用300mm／min之速度進行拉伸測試，測量此時接著劑與接著性提升層或光學膜之介面的剝離強度。將行程量（拉伸長度）100mm～200mm之間經平均化之強度作為剝離強度。另，比較例A7之偏光板由於未使用無基材之保護膜，因此，不作為剝離測試之對象。

＜拉伸斷裂強度測量＞ 為了對實施例A1～A5及比較例A1～A6之保護膜以及實施例B1～B4及比較例B1～B7、B9之光學膜評價韌性，而測量了拉伸斷裂強度。具體而言，依據JIS　K7161－1：2014，使用TENSILON萬能測試機，以寬度25mm、夾頭間距離80mm，用測試速度300mm／min拉伸保護膜或光學膜，測量當保護膜或光學膜斷裂時施加於保護膜或光學膜之應力，將此應力作為拉伸斷裂強度。另，保護膜及光學膜之拉伸斷裂強度係在將脫模膜剝離，形成為保護膜單體及光學膜單體之狀態下測量。又，比較例A7之保護膜由於未使用無基材之保護膜，因此，不作為拉伸斷裂強度測量之對象。使拉伸斷裂強度為測量3次而得到之值的算術平均值。

＜霧度測量＞ 對實施例A1～A5及比較例A1～A6之保護膜以及實施例B1～B4及比較例B1～B9之光學膜進行80℃、相對濕度90％之環境下放置24小時之耐濕熱性測試，分別測量保護膜及光學膜在耐濕熱性測試前後之霧度值（總霧度值）。霧度值係依據JIS　K7136：2000，使用霧度計（製品名「HM－150」，村上色彩技術研究所製）求得。又，對實施例B1～B4及比較例B1～B9之光學膜，求出耐濕熱性測試後之光學膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之光學膜的霧度值的比。另，耐熱性測試係於脫模膜貼在保護膜及光學膜而成之積層體的狀態下進行，當測量霧度時，從積層體將脫模膜剝離，於形成為保護膜單體及光學膜單體之狀態下測量霧度。又，比較例A7之保護膜由於未使用無基材之保護膜，因此，不作為霧度測量之對象。使霧度值為測量3次而得到之值的算術平均值。

＜Ra、Rz、Rp測量＞ 於實施例A1～A5、B1～B4及比較例A1～A7、B9得到之偏光板中的硬塗層表面以及比較例B8之偏光板中的纖維素三乙酸酯膜表面，使用原子力顯微鏡（製品名「WET－9400」，島津製作所製），在測量區域1μm見方及5μm見方，分別觀察表面形狀，從觀察之表面形狀的數據測量Ra、Rz、Rp。Ra、Rz及Rp之定義係依據JIS　B0601：2001。具體而言，首先於各偏光板，隨機選出3處至少在目視下沒有異常之部位（沒有大的異物或擦傷等之部位），切成5mm見方，而分別得到3個樣品。另一方面，準備複數片直徑15mm及厚度1mm之平坦圓形的金屬板，將日新EM股份有限公司製之碳雙面帶貼在各金屬板。將1個樣品以樣品之表面（光學膜或偏光膜之表面）成為上側的方式分別貼在該帶上。然後，為了確實將帶與樣品接著，而於乾燥器中將附有樣品之金屬板放置一晩。放置一晩後，以磁鐵將附有樣品之金屬板固定於原子力顯微鏡（製品名「WET－9400」，島津製作所製）之測量台上，以間歇接觸模式，於測量區域1μm見方及5μm見方，藉由原子力顯微鏡觀察表面形狀。然後，使用原子力顯微鏡內裝之面解析軟體，從觀察到之數據算出Ra、Rz、Rp。另，使面解析時之縱向尺度為20nm。觀察係於室溫進行，使用NanoWorld公司製之NCHR－20作為懸臂。又，於觀察時，對1個樣品隨機選擇5個部位，對3個樣品×5個部位（合計15處）分別觀察表面形狀。然後，對於得到之15處的全部數據，使用原子力顯微鏡內裝之面解析軟體算出Ra、Rz、Rp，使15處之算術平均值為各個樣品之Ra、Rz、Rp。

＜對水之接觸角測量（1）＞ 於實施例A1～A5得到之皂化處理後之保護膜中的接著性提升層表面；比較例A1～A4得到之皂化處理後之保護膜中的核心層表面；比較例A5、A6得到之皂化處理後之保護膜中的塗層表面；實施例B1～B4之光學膜中的皂化處理後之滲出抑制層表面；比較例B1～B3、B8、B9之光學膜中的皂化處理後之核心層表面；依據JIS　R3257：1999記載之躺滴法，使用顯微鏡式接觸角計（製品名「CA－QI series」，協和界面科學股份有限公司製），測量於25℃之對水的接觸角。使對水的接觸角為測量3次而得到之值的算術平均值。另，比較例A7之偏光板由於未使用無基材之保護膜，因此，不作為接觸角測量之對象。

＜對水之接觸角測量（2）＞ 於實施例A1～A5；B1～B4及比較例A1～A7、B1～B7、B9得到之偏光板中的硬塗層表面以及比較例B8之偏光板的纖維素三乙酸酯膜，依據JIS　R3257：1999記載之躺滴法，使用顯微鏡式接觸角計（製品名「CA－QI series」，協和界面科學股份有限公司製）測量於25℃之對水的接觸角。使對水的接觸角為測量3次而得到之值的算術平均值。

＜外觀評價＞ 使用原子力顯微鏡（製品名「WET－9400」，島津製作所製）觀察實施例A1～A5及比較例A1～A7得到之偏光板中的硬塗層表面，並進行了評價。評價基準如下。 ○：表面均一且平坦。 ×：於表面稍微確認到凹凸，或於表面上凹凸顯著。

＜鉛筆硬度測量＞ 對實施例A1～A5及比較例A1～A7得到之偏光板中的硬塗層表面其鉛筆硬度進行了測量。具體而言，對偏光板以溫度25℃、相對濕度60％之條件進行濕度控制2小時後，使用JIS　S6006規定之測試用鉛筆，於偏光板中的硬塗層之表面進行了JIS　K5600－5－4：1999規定之鉛筆硬度測試。當進行鉛筆硬度測量時，將750g之負重施加於鉛筆，且同時以速度1mm／秒移動鉛筆。使鉛筆硬度為於鉛筆硬度測試中硬塗層表面沒有損傷之最高的硬度。另，當進行鉛筆硬度測量時，使用複數根硬度不同之鉛筆進行，每一根鉛筆進行5次鉛筆硬度測試，當5次中有4次以上在螢光燈下對偏光板表面進行透射觀察時於偏光板表面未目視辨認到損傷之情形時，判斷為在此硬度之鉛筆下偏光板表面沒有損傷。

以下，將結果示於表1～表4。 [表1]

	剝離強度 (N)	拉伸 斷裂強度 (N/mm 2)	霧度值 (%)	水接觸角（ ° ）	鉛筆硬度
耐濕熱性 測試前	耐濕熱性 測試後	（ 1 ）	（ 2 ）
實施例 A1	12	45	0.1	0.2	51	48	3H
實施例 A2	10	44	0.1	0.3	51	49	3H
實施例 A3	11	45	0.1	0.2	51	50	3H
實施例 A4	12	45	0.1	0.3	51	50	3H
實施例 A5	11	45	0.1	0.2	51	49	3H
比較例 A1	0.1 以下	43	0.1	4.5	83	49	3H
比較例 A2	0.1 以下	45	0.1	5.0	82	49	2H
比較例 A3	0.1 以下	44	0.1	4.5	85	49	2H
比較例 A4	4	10	0.1	0.5	85	49	H
比較例 A5	無法測量	41	0.1	6.0	51	49	3H
比較例 A6	0.1 以下	40	0.1	0.1	85	49	3H
比較例 A7	－	－	－	－	－	85	2H

[表2]

	1μm 見方	5μm 見方	外觀評價
R a （ nm ）	R z （ nm ）	R p （ nm ）	Ra （ nm ）	Rz （ nm ）	Rp （ nm ）
實施例 A1	0.785	9.820	5.879	0.813	13.456	9.165	○
實施例 A2	0.729	9.773	5.851	0.841	13.667	9.044	○
實施例 A3	0.714	9.467	5.156	0.857	13.858	9.223	○
實施例 A4	0.702	9.698	5.696	0.890	13.012	9.397	○
實施例 A5	0.765	9.114	5.378	0.836	13.224	9.390	○
比較例 A1	0.734	9.801	5.123	0.846	13.643	9.224	○
比較例 A2	0.722	9.541	5.871	0.825	13.840	9.119	○
比較例 A3	0.708	9.849	5.471	0.855	13.842	9.117	○
比較例 A4	0.727	9.642	5.368	0.892	13.548	9.243	○
比較例 A5	0.737	9.624	5.587	0.864	13.112	9.443	○
比較例 A6	0.716	9.846	5.333	0.864	13.555	9.321	○
比較例 A7	1.707	11.951	6.813	0.924	12.368	8.534	×

[表3]

	霧度值 (%)	拉伸 斷裂強度 (N/mm 2)	剝離強度 (N)
耐濕熱性 測試前	耐濕熱性 測試後	測試後／測試前
實施例 B1	0.1	0.2	2	45	12
實施例 B2	0.1	0.3	3	44	10
實施例 B3	0.1	0.2	2	48	11
實施例 B4	0.1	0.3	3	43	12
比較例 B1	0.1	4.5	45	44	0.1 以下
比較例 B2	0.1	5.0	50	46	0.1 以下
比較例 B3	0.1	0.7	4	13	4
比較例 B4	0.1	5.0	50	44	0.3
比較例 B5	0.1	5.1	51	47	0.3
比較例 B6	0.1	6.2	62	40	0.2
比較例 B7	0.1	6.1	61	41	0.2
比較例 B8	0.1	4.7	47	－	0.1 以下
比較例 B9	0.1	4.6	46	43	0.1 以下

[表4]

	1μm 見方	5μm 見方	水接觸角（ ° ）
R a （ nm ）	R z （ nm ）	R p （ nm ）	Ra （ nm ）	Rz （ nm ）	Rp （ nm ）	（ 1 ）	（ 2 ）
實施例 B1	0.785	9.820	5.879	0.813	13.456	9.165	51	49
實施例 B2	0.784	9.810	5.812	0.802	13.220	9.154	52	48
實施例 B3	0.799	9.799	5.854	0.820	13.141	9.203	52	50
實施例 B4	0.785	9.820	5.879	0.812	13.600	9.271	51	49
比較例 B1	－	－	－	－	－	－	84	49
比較例 B2	－	－	－	－	－	－	83	50
比較例 B3	－	－	－	－	－	－	70	47
比較例 B4	－	－	－	－	－	－	－	52
比較例 B5	－	－	－	－	－	－	－	50
比較例 B6	－	－	－	－	－	－	－	50
比較例 B7	－	－	－	－	－	－	－	51
比較例 B8	1.707	11.951	6.813	0.924	12.368	8.534	86	92
比較例 B9	2.780	20.365	9.414	3.598	90.225	46.140	87	93

如表1所示，比較例A1～A3、A5之偏光板，由於保護膜與接著劑之接著性差，故保護膜與偏光元件容易剝離。又，比較例A4之偏光板，由於在塗層與核心層之介面容易剝離，因此，無法測量剝離強度。相對於此，實施例A1～A5之偏光板，由於保護膜與接著劑之接著性良好，故保護膜與偏光元件沒有剝離。藉此，可確認若將接著性提升層形成於核心層上，則可提升與接著劑之接著性。

又，比較例A4之保護膜由於核心層過度變硬，故拉伸斷裂強度小。相對於此，實施例A1～A5之保護膜由於分成核心層與接著性提升層，故核心層沒有過度變硬，拉伸斷裂強度大。藉此，可確認藉由將接著性提升層形成在核心層上，可得到具有優異韌性之保護膜。

又，實施例A1～A5之保護膜相較於比較例A1～A3、A5之保護膜，耐濕熱性測試後之霧度值低。此被認為原因如下：比較例A1～A3、A5之保護膜，因耐濕熱性測試使得分散於核心層之紫外線吸收劑滲出於核心層表面或塗層表面，相對於此，實施例A1～A5之保護膜由於在核心層上形成有接著性提升層，故可藉由接著性提升層抑制紫外線吸收劑滲出。另，採集滲出於比較例A1～A3、A5之保護膜表面的物質，以紅外線光譜法加以分析後，結果確認此滲出之物質為紫外線吸收劑。

如表3所示，比較例B1、B2、B4～B9之光學膜，耐濕熱性測試後之光學膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之光學膜的霧度值的比超過10。此被認為是由於耐濕熱性測試使得分散於核心層之紫外線吸收劑滲出於核心層表面或塗層表面的緣故。另，採集比較例B1、B2、B4～B9之光學膜的核心層表面或塗層表面滲出之物質，以紅外線光譜法加以分析後，結果確認此物質為紫外線吸收劑。相對於此，實施例B1～B4之光學膜由於在核心層上形成有滲出抑制層，故耐濕熱性測試後之光學膜的霧度值相對於耐濕熱性測試前之光學膜的霧度值的比為10以下。因此，可確認當在核心層上形成有滲出抑制層之情形時，可抑制紫外線吸收劑滲出。

又，比較例B3之光學膜由於核心層過度變硬，故拉伸斷裂強度未達30N／mm ²。相對於此，實施例B1～B4之光學膜由於分成核心層與滲出抑制層，故核心層沒有過度變硬，拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。藉此，可確認藉由將滲出抑制層形成在核心層上，可得到具有優異韌性之光學膜。

又，比較例B1、B2、B4～B9之偏光板由於紫外線吸收劑滲出於光學膜中的核心層表面或塗層表面，故剝離強度低，與接著劑之接著性差。相對於此，實施例B1～B4之偏光板由於藉由滲出抑制層抑制紫外線吸收劑滲出，故剝離強度高，與接著劑之接著性良好。

上述實施例中，雖使用聚乙烯醇系接著劑作為接著劑，但即使是使用紫外線硬化性接著劑作為接著劑之情形時，亦可得到與上述實施例同樣之結果。

10，110:積層體 20:保護膜 20A，20B，120A，120B:表面 21，121:核心層 22:接著性提升層 23，123:透光性功能層 30，130:脫模膜 40，140:偏光板 41，141:偏光元件 44，144:保護膜 50，150:影像顯示裝置 60:顯示面板 61:顯示元件 70:觸控面板 120:光學膜 122:滲出抑制層

[圖1]為第1實施形態之積層體的概略構成圖。 [圖2（A）～圖2（C）]為示意性地表示第1實施形態之積層體的製造步驟之圖。 [圖3（A）～圖3（C）]為示意性地表示第1實施形態之積層體的製造步驟之圖。 [圖4]為第1實施形態之偏光板的概略構成圖。 [圖5（A）～圖5（C）]為示意性地表示第1實施形態之偏光板的製造步驟之圖。 [圖6]為第1實施形態之影像顯示裝置的概略構成圖。 [圖7]為第2實施形態之積層體的概略構成圖。 [圖8（A）～圖8（C）]為示意性地表示第2實施形態之積層體的製造步驟之圖。 [圖9（A）～圖9（C）]為示意性地表示第2實施形態之積層體的製造步驟之圖。 [圖10為第2實施形態之偏光板的概略構成圖。 [圖11（A）～圖11（C）]為示意性地表示第2實施形態之偏光板的製造步驟之圖。 [圖12]為第2實施形態之影像顯示裝置的概略構成圖。

10:積層體

20:保護膜

20A:表面

20B:保護膜之另一表面

21:核心層

21A:核心層21之一面

21B:核心層21之另一面

22:接著性提升層

22A:接著性提升層之表面

23:透光性功能層

23A:透光性功能層中之核心層側的面

23B:透光性功能層中之核心層側的面相反側的面

30:脫模膜

30A:脫模膜之一面

Claims (8)

1. 一種光學膜，為無基材之光學膜，具備核心層與滲出抑制層，該核心層含有由游離輻射聚合性化合物之硬化物構成之黏合劑樹脂及分散於該黏合劑樹脂中之紫外線吸收劑，該滲出抑制層設置於該核心層之一面且抑制該紫外線吸收劑滲出， 該滲出抑制層含有由多官能游離輻射聚合性化合物之硬化物構成之樹脂， 該滲出抑制層之膜厚為100nm以上且未達800nm， 該光學膜之厚度未達40μm， 依據JIS　K7161－1：2014以拉伸速度300mm／min之條件測得的該光學膜之拉伸斷裂強度在30N／mm ²以上。
2. 如請求項1之光學膜，其中，該滲出抑制層進一步含有矽烷偶合劑。
3. 如請求項1之光學膜，其進一步具備設置於該核心層之該一面的相反側另一面的透光性功能層。
4. 一種積層體，具備請求項1之光學膜與設置於該光學膜之滲出抑制層側表面的相反側表面的脫模膜。
5. 一種偏光板，具備請求項1之光學膜與透過接著劑貼在該光學膜之該滲出抑制層的偏光元件。
6. 一種影像顯示裝置，具備顯示面板，該顯示面板具備顯示元件與配置於較該顯示元件靠近觀察者側之請求項1之光學膜或請求項5之偏光板。
7. 一種偏光板之製造方法，具備下述步驟： 以接著劑接觸請求項4之積層體之該滲出抑制層的方式，透過該接著劑將該積層體與偏光元件貼合之步驟，與 將該積層體與該偏光元件貼合後，將該脫模膜剝離之步驟。
8. 如請求項7之偏光板之製造方法，其中，於將該積層體與該偏光元件貼合之前，進一步具備對該積層體實施皂化處理之步驟。