JP2008282020A

JP2008282020A - 光学補償板、それを用いた光学補償層付偏光板、前記光学補償板の製造方法、および、それらを用いた液晶表示装置

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Publication number: JP2008282020A
Application number: JP2008124863A
Authority: JP
Inventors: Masaki Hayashi; 政毅林; Hiroyuki Yoshimi; 裕之吉見; Yuichi Nishikoji; 祐一西小路; Nao Murakami; 菜穗村上
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2008-05-12
Filing date: 2008-05-12
Publication date: 2008-11-20

Abstract

【課題】量産性に優れ安価に製造できるとともに、光学補償層のみを他の材料に転写させることが可能で、光学補償層自体の薄層化のみならず、偏光板や液晶表示装置等に積層した際に積層一体品としての薄層化を図ることができる光学補償板、前記の光学補償層を積層してなる光学補償板付偏光板、それを用いた液晶表示装置の提供。
【解決手段】ポリマー溶液をプラスチック基材２に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理してなる厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層１の上に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層４を設け、光学補償板とする。また、光学補償層１の上に形成した前記感圧性接着剤層あるいは接着剤層４を介して、前記光学補償層１を偏光板３に積層することにより、光学補償層付偏光板１１を作製する。
【選択図】図２

Description

本発明は、液晶セルのコントラスト比及び視野角特性の改善に必要とされる光学補償板、光学補償層付偏光板および液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、様々な情報処理機器の表示装置として広く使われている。しかしながら、現在最も普及している薄膜トランジスタにより駆動するねじれネマティック（ＴＮ）型液晶表示装置は、斜め方向から見た場合にコントラスト比が低下したり、黒表示部での階調表示で明るさが逆転したりする等、視野角特性上の問題がある。この特性を改善するために、支持体上に配向膜を形成し、その上にディスコティックネマティック相を傾斜配向させ、架橋により固定化したフィルムが報告されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。

また、視野角特性を改善する方式として、垂直配向型液晶（ＶＡモード）表示装置が提案されている。これは、垂直配向の液晶を光学的に視野角補償するための光学補償板（位相差板）を適用したものであり、広い視野角特性を発現することが知られている。また、ＶＡモード液晶表示装置に正の複屈折異方性を有する位相差板と負の複屈折異方性を有する位相差板を２枚適用する方法を開示したものもある（例えば、特許文献３、特許文献４、及び特許文献５参照）。

また、ノーマリーホワイト型ねじれネマティック（ＴＮ）液晶表示装置の視野角特性を改善する方法として、無機化合物に塗工して、一軸性の負の複屈折性を持つ位相差フィルムを作製し、ポリイミド層をガラス、光学的等方性ポリマー層、異方性ポリマー層又は異方性セラミック層へ積層することで位相差フィルムを作製し、負の複屈折層を呈する広角化層を得る方法を開示したものもある（例えば、特許文献６及び特許文献７参照）。

特許第２６９２０３５号公報特許第２８０２７１９号公報特許第３０２７８０５号公報特開平１０−１５３８０２号公報特開平１１−９５２０８号公報米国特許第５，３４４，９１６号明細書米国特許第６，０７４，７０９号明細書

しかしながら、前記特許文献１や前記特許文献２に記載されている光学フィルムは、厚さ１００μｍ程度のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムが使用されており、これがＴＮ液晶の垂直配向成分を光学的に補償するのに重要な役割を果たしている。従って、偏光層との一体品の薄型化が困難であるという問題点がある。

また、延伸配向することにより作製される光学フィルムは、複数枚の高分子フィルムが光学補償板として必要となるため、偏光層との一体品の薄型化が困難であるという問題点がある。さらに、厚み精度の高いフィルムが必要であり、原反として溶媒キャスト法で成膜された高価なフィルムが必要であるため、生産コストが上昇するという問題もある。

また、延伸によって作製される光学フィルムは、延伸方向に内部応力が存在し、温度や湿度等の外部環境の変化によって寸法変化が生じるため、位相差ムラが起こりやすく、液晶表示装置に使用した場合には、周辺ムラや、光漏れ等の表示品位に悪影響を及ぼす可能性がある。

さらに、光学補償板と偏光板とを貼り合わせて成る光学補償板付き偏光板においては、光学フィルムに生じる寸法変化が、カールを発生させる可能性がある。

本発明は、ポリマー溶液をプラスチック基材上に塗工することで、量産性に優れ安価に製造できるとともに、光学補償層のみを他の材料に転写させることが可能で、光学補償層自体の薄層化のみならず、偏光板や液晶表示装置等に積層した際に、積層一体品としての薄層化を図ることができる光学補償板を提供することを目的とする。また本発明は、前記の光学補償層を積層してなる光学補償板付偏光板とその製造方法、それを用いた液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明は、従来の厚い基材（例えば、１００μｍ厚の透明フィルム）に液晶材料を接着固定したものや、厚み４０μｍの高分子延伸フィルムからなる光学補償層と偏光層とを、感圧性接着剤を介して一体化することにより作製された光学補償層付偏光板に代わり、ポリイミド等からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマーをプラスチック基材に塗布し、乾燥した後（場合によっては乾燥過程において）、プラスチック基材及びプラスチック基材とポリイミド等との積層体の少なくとも一方を、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせることで配向処理を行い、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ（ただし、ｎｘ及びｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚方向の屈折率である）を満足させる厚さ０．１〜２０μｍの二軸性光学補償層を作製し、これを、感圧性接着剤等を介して偏光層と一体化した光学補償層付偏光板に適用したものである。

すなわち、本発明は、ポリマー溶液をプラスチック基材に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理してなる厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層の上に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けたことを特徴とする光学補償板を提供するものである。

前記本発明の光学補償板においては、前記感圧性接着剤がアクリル系重合体であり、そのガラス転移温度が０℃以下であることが好ましい。また、前記光学補償層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリ（エーテルケトン）、ポリ（アミド−イミド）及びポリ（エステル−イミド）からなる群から選択される少なくとも１種のポリマーからなることが好ましい。

また本発明は、前記の光学補償板を、前記の感圧性接着剤層あるいは接着剤層を介して偏光板に積層したことを特徴とする光学補償層付偏光板を提供するものである。前記の光学補償層付偏光板は、積層された光学補償層の外面に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けてなるものであってもよい。

また本発明は、前記の光学補償層付偏光板の製造方法を提供するものであり、本発明の光学補償層付偏光板の製造方法は、ポリマー溶液をプラスチック基材に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理して厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層を形成した後、その上に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層を形成し、それを介して前記光学補償層を偏光板に転写することを特徴とする。

さらに、本発明は、前記の光学補償層付偏光板を、液晶表示パネルの少なくとも片側に配置したことを特徴とする液晶表示装置を提供するものである。

本発明の光学補償板は、ポリマー溶液をプラスチック基材に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理してなる厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層の上に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けたものである。プラスチック基材上にポリマー溶液を塗工することにより、量産性に優れた薄型の光学補償層を安価に得ることができ、しかも、光学補償層上に感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けることにより、光学補償層のみを他の光学部材に転写積層することが可能となるため、偏光板や液晶表示装置等に積層した場合に積層一体品としての薄型化を図ることができる。また、感圧性接着剤層等を設けることにより歪み緩和効果が発現するため、液晶表示装置に実装した際の液晶画面の面内均一性が向上する。

形成された光学補償層の光学特性としては、広視野角化を図る観点より、その複屈折率（Δｎ）が０．０００５〜０．５の範囲にあり、かつｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚ（ただし、ｎｘ及びｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚方向の屈折率であり、Δｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚである。）を満足することが好ましい。光学補償層の複屈折率が小さすぎる場合は、位相差が発現しないため位相差板として機能し得ず、０．５を越える場合は薄型の位相差板となり位相差制御が困難となるからである。複屈折率が小さくなる程位相差板が厚型化すること及び生産性を考慮すると、複屈折率はより好ましくは０．００１〜０．２、さらに好ましくは０．００２〜０．１５の範囲であるのがよい。また、液晶セルの視野角特性改善を考慮すると、光学補償層は、（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ≧３ｎｍと、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）＞１の関係を満たすことが好ましい。ｄは、厚みを表す。

複屈折光学補償層の厚みは、０．１〜２０μｍの範囲が良いが、光学補償及び薄層化の双方を満たす点より、好ましくは０．５〜１５μｍ、より好ましくは０．７〜１０μｍである。

本発明による光学補償層を形成するポリマー材料としては、本発明の光学補償板の光学特性を満足しうるものであれば、従来公知のポリマー材料を適宜使用でき、単独で又は任意の組合せで用いることができる。これらのポリマーの分子量は特に限定はないが、重量平均分子量（Ｍｗ）として１，０００〜１，０００，０００の範囲が好ましく、さらに好ましくは２，０００〜５００，０００の範囲が望ましい。分子量が小さい場合は強度が低下してフィルム化した場合に、伸縮、歪等クラックが生じやすい。分子量が大きい場合は、ポリマーがゲル化しやすく、用材に対する溶解性が著しく低下する。

前記ポリマー材料の中でも、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリ（エーテルケトン）、ポリ（アミド−イミド）、ポリ（エステル−イミド）等のポリマーが好ましく用いられる。これらのポリマーは、耐熱性、耐薬品性に優れ、剛性に富み、透明性に優れる等の理由から、位相差板の材料として適している。

前記ポリ（エーテルケトン）としては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載されたポリアリールエーテルケトン等があげられる。

前記ポリアリールエーテルケトンとしては、例えば、下記一般式（１）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。

上記（１）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられる。これらの中でも、フッ素原子が好ましい。
前記低級アルキル基としては、例えば、炭素原子数１〜６の直鎖または分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルキル基がより好ましい。これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、および、ｔｅｒｔ−ブチル基が、さらにより好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。
前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。
前記低級アルコキシ基としては、例えば、炭素原子数１〜６の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数１〜４の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基がより好ましい。これらの中でも、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、および、ｔｅｒｔ−ブトキシ基が、さらにより好ましく、特に好ましくは、メトキシ基およびエトキシ基である。
前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。

前記ｑは、０から４までの整数である。上記式（１）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテル酸素とが互いにパラ位に存在することが好ましい。

また、上記（１）中、Ｒ¹は、下記式（２）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。

上記（２）中、Ｘ’は、置換基を表し、ｑ’は、その置換数を表す。Ｘ’は、例えば、前記Ｘがとりうる前記範囲のものであり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ’は、０から４までの整数であり、ｑ’＝０であるのが好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。

また、上記（２）中、Ｒ²は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合する水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ²としては、下記式（３）〜（９）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

前記Ｒ¹としては、好ましくは、下記式（１０）で表される基である。下記式（１０）中、Ｒ²およびｐは上記（２）と同義である。

さらに、上記（１）中、ｎは、重合度を表す。ｎの値は、具体的には、例えば、２〜５０００であって、好ましくは、５〜５００である。また、その重合は、同一の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、その繰り返し単位は、ブロック状であってもよく、ランダム状であってもよい。

さらに、上記（１）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ−テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましい。すなわち、上記（１）で表されるポリアリールエーテルケトンは、好ましくは、下記一般式（１１）で表される重合体である。なお、ｎは、前記定義の重合度を表す。

本発明におけるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１２）〜（１５）で表されるものがあげられる。なお、ｎは、前記定義の重合度を表す。

前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドまたはポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、下記一般式（１６）で表すことができる。

上記（１６）中、Ｙは、ＯまたはＮＨであり、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ₂アルキレン基、ハロゲン化Ｃ²アルキレン基、ＣＨ₂基、Ｃ（ＣＸ₃）₂基（ここで、Ｘは、ハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｒ）₂基（ここで、Ｒは、Ｃ_1-3アルキル基およびＣ_1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類である。）、および、Ｎ（Ｒ）基（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）からなる群から選ばれる。さらに、前記Ｅは、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。

また、上記（１６）中、ＡおよびＢは、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。

前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ_1-9アルコキシカルボニル基、Ｃ_1-9アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ_1-12アリールオキシカルボニル基、Ｃ_1-12アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ_1-12アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ_1-12アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
前記Ｂは、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。
前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。

さらに、上記（１６）で表されるポリイミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（１７）で表されるものが好ましい。

上記（１７）中、Ａ、ＢおよびＹは、上記（１６）で定義したものであり、ｖは、０から３、好ましくは、０から２までの整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。

これらのポリアミドまたはポリエステルの分子量は、特に限定されないが、重量平均分子量（Ｍｗ）として、２０，０００〜５００，０００の範囲が好ましく、より好ましくは、５０，０００〜２００，０００の範囲である。重量平均分子量が、これらの範囲内であれば、十分な強度が得られ、光学フィルム化した場合に、伸縮、歪み等で、クラックが生じにくく、また、ポリアミドまたはポリエステルがゲル化することなく、溶剤に対する良好な溶解性が得られる。

前記ポリイミドとしては、例えば、特表２０００−５１１２９６号公報に記載されたポリイミドがあげられ、９，９−ビス（アミノアリール）フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記一般式（１８）に対応する繰り返し単位を１つ以上含むポリマーを任意に使用できる。

上記（１８）中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、および炭素原子数１〜１０のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ³〜Ｒ⁶は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子または炭素原子数１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル基、および、炭素原子数１〜１０のアルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。

また、上記（１８）中、Ｄは、例えば、炭素原子数６〜２０の４価芳香族基である。好ましくは、Ｄは、ピロメット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記一般式（１９）で表される基である。

上記（１９）中、Ｊは、例えば、共有結合、Ｃ（Ｒ⁷）₂基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（Ｃ₂Ｈ₅）₂基、または、ＮＲ⁸基であって、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｗは、１から１０までの整数を表し、Ｒ⁷は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ⁹）₃である。Ｒ⁸は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、または炭素原子数６〜２０のアリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ⁹は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。
また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、炭素原子数１〜１０のアルキル基およびそのフッ素化誘導体、ならびにＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つで置換される前記多環式芳香族基があげられる。

さら、前記ポリイミドとしては、例えば、特表平８−５１１８１２号公報に記載されたポリイミドがあげられる。具体的には、繰り返し単位が一般式（２０）または（２１）で示されるホモポリマー、および繰り返し単位が一般式（２２）で示されるポリイミドがあげられる。なお、式（２２）は式（２０）の好ましい形態である。

上記（２０）〜（２２）中、ＧおよびＦは、例えば、共有結合、ＣＨ₂基、Ｃ（ＣＨ₃）₂基、Ｃ（ＣＦ₃）₂基、Ｃ（ＣＸ₃）₂基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ₂基、Ｓｉ（ＣＨ₂ＣＨ₃）₂基、および、Ｎ（ＣＨ₃）基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表す。

上記（２０）および（２２）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。
Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。
ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。

上記（２０）〜（２２）中、Ｑは、置換基であり、ｆは、その置換数を表す。
Ｑは、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。
ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。

上記（２１）中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に、選択される基である。その中でも、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

上記（２２）中、Ｍ¹およびＭ²は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基のとしては、例えば、ハロゲン、Ｃ_1-3アルキル基、Ｃ_1-3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。

このようなポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（２３）で表されるものがあげられる。

また、さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前記骨格以外の酸二無水物やジアミンを適宜共重合させたコポリマーがあげられる。

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。この芳香族テトラカルボン酸二無水物の例として、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２，２−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。

前記ピロメリト酸二無水物の例として、ピロメリト酸二無水物、３，６−ジフェニルピロメリト酸二無水物、３，６−ビス（トリフルオロメチル）ピロメリト酸二無水物、３，６−ジブロモピロメリト酸無水物、３，６−ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。
前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物の例として、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
前記ナフタレンテトラカルボン酸無水物の例として、２，３，６，７−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン−テトラカルボン酸二無水物、２，６−ジクロロ−ナフタレン−１，４，５，８−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。
前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物の例として、チオフェン−２，３，４，５−テトラカルボン酸二無水物、ピラジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物等があげられる。
前記２，２−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の例として、２，２’−ジブロモ−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’−ジクロロ−４，４’−５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例として、３，３’４，４’−ビフェニルカルボン酸二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，５，６−トリフルオロ−３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物（４，４’−オキシジフタル酸無水物）、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物（３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物）、４，４’−〔４，４’−イソプロピリデン−ジ（ｐ−フェニレンオキシ）〕ビス（フタル酸無水物）、Ｎ，Ｎ−（３，４−ジカルボキシフェニル）−Ｎ−メチルアミン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジエチルシラン二無水物等があげられる。

前記の中でも、芳香族テトラカルボン酸二無水物として、２，２’−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２，２’−ビス（トリハロメチル）−４，４’，５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらにより好ましくは、２，２−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−５，５’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、芳香族ジアミンがあげられる。この芳香族ジアミンの例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。

前記ベンゼンジアミンの例としては、ｏ−、ｍ−およびｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、１，４−ジアミノ−２−メトキシベンゼン、１，４−ジアミノ−２−フェニルベンゼンおよび１，３−ジアミノ−４−クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。
前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２，２’−ジアミノベンゾフェノン、および３，３’−ジアミノベンゾフェノン等があげられる。
前記ナフタレンジアミンの例としては、１，８−ジアミノナフタレン、および１，５−ジアミノナフタレン等があげられる。
前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２，６−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリジン、および２，４−ジアミノ−Ｓ−トリアジン等があげられる。

また、前記芳香族ジアミンのその他の例としては、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス（４−〔４−アミノフェノキシ〕フェニル）プロパン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルチオエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。

本発明に用いられるポリマー材料としては、前記のポリアリールエーテルケトン、ポリアミド、ポリエステル、ポリイミド等を単独で用いても良いし、例えば、ポリアリールエーテルケトンとポリアミドの混合物のように異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。

光学補償層の製造条件、プロセスに関しては、本発明の光学補償板の特性を満足しうる方法であればよく、特に限定はない。ポリマーを樹脂フィルム又はシート等に塗工する場合は、加熱溶融方法によってもよく、また溶媒に溶解させて溶液として塗布することもできる。製造効率及び光学異方性制御の観点からはポリマー溶液を塗工する方法が好ましい。ポリマー溶液として用いる場合は、粘度の点より、溶媒１００重量部に対して、本発明のポリマーを５〜５０重量部、好ましくは１０〜４０重量部を混合して用いるのがよい。

前記の溶媒としては、本発明で用いるポリマーを溶解可能なものであれよく、特に限定されない。例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；あるいは二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等を単独あるいは混合して使用できる。

また、塗工処理は、スピンコート法やロールコート法、フローコート法やプリント法、ディップコート法や流延成膜法、バーコート法やグラビア印刷法等の適宜な方法で行うことができる。

塗工後は、自然乾燥（風乾）または４０℃〜２００℃で加熱乾燥することにより、前記樹脂フィルムまたはシート上に前記ポリマーを固定化して、樹脂フィルム又はシート上にポリマー層を形成する。得られた複屈折性光学フィルムは、プラスチック基材と一体品として積層体の形態で用いることができるが、優れた光学特性を得る観点より、ポリマー層（すなわち光学補償層）のみを樹脂フィルムまたはシートから剥離して、光学補償板等の光学フィルムとして用いることが好ましい。なお、ポリマー層の形成に際しては、安定剤や可塑剤や金属類等からなる種々の添加剤を必要に応じて配合できる。

前記のプラスチック基材としては、例えば、トリアセチルセルロースの如きアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とニトリル基を有する熱可塑性樹脂との混合物、液晶ポリマー系等があげられる。プラスチック基材は、偏光板の保護フィルムや偏光子等であってもよい。

Ｒｔｈ（＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ）の大きな光学補償層を、薄層でかつ簡素な工程にて効率よく製造できる点より、ポリマー溶液を樹脂フィルム又はシート等のプラスチック基材上に塗工し、所望の光学特性に応じて伸張及び収縮の少なくとも一方の処理を行うのがよい。伸張又は収縮の処理条件は、本発明の光学補償板の特性を満足しうるものであれば特に限定はない。伸張方法としては一般的に延伸法がある。自由端一軸延伸、固定端一軸延伸が好ましいが、逐次二軸延伸、同時二軸延伸も利用できる。

また、収縮によってΔｎｄを発現させることも可能である。例えば、溶剤を含むフィルムの相対する２辺を金属枠に固定して加熱すると、残存溶剤が揮発することで固定方向に引っ張り応力を生じさせる方法も利用できる。また、塗工基材であるポリマーフィルムの寸法変化を利用して収縮させたり、積極的の基材に収縮性能をもたせたものを用いることもできる。この際には、延伸機等を利用して収縮率を制御することが望ましい。

本発明において、感圧性接着剤層や接着剤層を形成する感圧性接着剤（粘着剤）や接着剤としては、光学補償層付偏光板の薄型化が可能で、歪み緩和性を発揮し液晶画面の面内均一性を向上させうるものであれば、特に限定されない。接着剤としては、例えば、ＵＶ硬化型、エマルジョン型、一液硬化型、二液硬化型等の各種接着剤をあげることができ、それぞれ公知の接着剤を任意に組み合わせて使用できる。なかでも、歪み緩和性に優れて液晶表示画面の面内均一性を向上できる点より、感圧性接着剤（粘着剤）が好適に用いられる。感圧性接着剤層や接着剤層の厚さは、使用目的に応じて適宜に決定でき、１ｍｍを超える厚さとすることもできるが、一般には光学特性や付設加工性等の点より３〜５００μｍ、とりわけ５〜１００μｍ、特に１０〜３０μｍとされる。

感圧性接着剤層の形成には適宜な粘着剤を用いることができ、その種類について特に限定はない。ちなみにその粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等があげられる。

なかでも、アクリルモノマーを重合してなるアクリル系粘着剤が、透明性や耐候性や耐熱性等に優れる点より好ましく、そのガラス転移温度が０℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が０℃よりも高い場合は、接着性が低下するので好ましくない。ガラス転移温度は接着性の点より、好ましくは−８℃〜−５℃、さらに好ましくは−６０℃〜−１０℃の範囲である。なお、重畳層を形成する粘着剤層は、同種又は異種の適宜な組合せとすることができる。

前記のアクリル系粘着剤としては、公知の物を全て用いうる。とりわけ、粘着特性等の点よりは、ｎ−ブチル基やｔ−ブチル基、イソブチル基やアミル基、イソアミル基やヘキシル基、ヘプチル基やシクロヘキシル基、２−エチルヘキシル基やオクチル基、イソオクチル基やノニル基、イソノニル基やデシル基、ウンデシル基やラウリル基、トリデシル基やテトラデシル基、ステアリル基やオクタデシル基等の炭素数が４〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基を有するアクリル酸やメタクリル酸のエステルからなるアクリル酸系アルキルエステルの１種又は２種以上を用いたアクリル系重合体をベースポリマーとするものが好ましい。

前記のアクリル系重合体としては、粘着特性等の点より重量平均分子量が３０万以上、特に３０万〜１５０万のものが好ましい。アクリル系重合体は、必要に応じて官能基や極性基の導入による接着性の改良、生成共重合体のガラス転移温度の制御による凝集力や耐熱性の改良、架橋反応性の付与による分子量の増大等の粘着特性の改質等を目的に、前記したアクリル酸系アルキルエステル以外の改質目的に応じた適宜なモノマー成分の１種又は２種以上を共重合したものであってもよい。従って用いる共重合用のモノマー成分については特に限定はなく、前記アクリル酸系アルキルエステルと共重合可能なものであればよく、その使用量はモノマー全体の５０重量％以下、特に４０重量％以下が好ましい。

前記のモノマー成分の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー、あるいは無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物モノマーがあげられる。その使用量は、粘着特性等の点より当該アクリル酸系アルキルエステル１００重量部あたり２０重量部以下が好ましい。

また、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリル、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレート等のヒドロキシル基含有モノマー、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート等の燐酸基含有モノマー等も改質目的のモノマー成分の例としてあげられる。

さらに、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）アミド系モノマー、（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル等の（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル等の（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド系モノマー、Ｎ−メチルイタコンイミド、Ｎ−エチルイタコンイミド、Ｎ−ブチルイタコンイミド、Ｎ−オクチルイタコンイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルイタコンイミド、Ｎ−シクロヘキシルイタコンイミド、Ｎ−ラウリルイタコンイミド等のイタコンイミド系モノマー、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマー等も改質目的のモノマー成分の例としてあげられる。

加えて、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基等の低級アルキル基を有するアルキル系アクリルエステルモノマー、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のビニル系モノマー、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノアクリレート系モノマー、（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有アクリル系モノマー、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系アクリルエステルモノマー、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート、２−メトキシエチルアクリレート等のアクリル酸エステル系モノマー等も改質目的のモノマー成分の例としてあげられる。前記した改質目的のモノマー成分の使用量は、粘着特性等の点より当該アクリル酸系アルキルエステル１００重量部あたり５０重量部以下が好ましい。

一方、多官能アクリレート系モノマー等も必要に応じて共重合用のモノマー成分として用いうる。かかる多官能アクリレート系モノマーの使用は、例えば、電子線等の放射線の照射による後架橋操作等で架橋剤無添加にて架橋処理すること等を可能にする。多官能アクリレート系モノマーの例としては、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート等があげられる。多官能アクリレート系モノマーも１種又は２種以上を用いることができ、その使用量は、粘着特性やアクリル系重合体の特性の維持等の点より全モノマーの３０重量％以下が好ましい。

アクリル系重合体の調製は、例えば、１種又は２種以上の各モノマーの混合物に、溶液重合方式や乳化重合方式、塊状重合方式や懸濁重合方式等の適宜な方式を適用して行うことができる。塊状重合方式の場合には、紫外線照射による重合方式が好ましく適用しうる。本発明において好ましく用いうるアクリル系重合体は、耐熱性、耐湿性等の点より重量平均分子量が１０万以上、好ましくは２０万以上、特に４０万〜２００万のものである。

前記アクリル系共重合体の調製に際しては、必要に応じて重合開始剤を用いうる。その使用量は、適宜に決定しうるが一般には、単量体全量の０．００１〜５重量％とされる。重合開始剤としては、ラジカル重合等のその重合方式に応じて熱重合開始剤や光重合開始剤等の適宜なものを用いうる。

ちなみに熱重合開始剤の例としては、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等の有機過酸化物があげられる。

また、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］等のアゾ系化合物等も熱重合開始剤としてあげられる。

一方、光重合開始剤の例としては、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−ヒドロキシ−α，α’−ジメチルアセトフェノン、メトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］−２−モルホリノプロパン−１等のアセトフェノン系開始剤、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系開始剤があげられる。

また、２−メチル−２−ヒドロキシプロピオフェノン等のα−ケトール系化合物、ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物、２−ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物、１−フェノン−１，１−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム等の光活性オキシム系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、チオキサンソン、２−クロロチオキサンソン、２−メチルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、２，４−ジクロロチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物、その他、カンファーキノンやハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシドやアシルホスフォナート等も光重合開始剤の例としてあげられる。

その他の重合開始剤としては、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等、あるいはそれらと還元剤を併用したレドックス系開始剤等があげられる。

上記したように本発明において粘着剤層は、内部架橋方式や外部架橋方式等の適宜な方式で架橋処理することもできる。内部架橋したアクリル系重合体の調製は、例えば、上記した多官能モノマー成分を用いて熱重合開始剤によるラジカル重合方式や、光重合開始剤による放射線重合方式等を適用して行うことができる。一方、外部架橋は、粘着剤に分子間架橋剤を配合する方式や粘着剤層に放射線を照射する方式等により行うことができる。外部架橋方式の場合にも、多官能モノマー成分をアクリル系重合体中に共重合させて架橋効率の向上をはかることもできる。

前記の分子間架橋剤としては、分子間架橋に関与するアクリル系重合体等のベースポリマーにおける官能基の種類等に応じて適宜なものを用いることができ、特に限定はない。従って公知物のいずれも用いうる。その例としては、トリレンジイソシアネート、トリメチロールプロパントリレンジイソシアネート、ジフェニルメタントリイソシアネート等の多官能イソシアネート系架橋剤、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル等のエポキシ系架橋剤、メラミン樹脂系架橋剤や金属塩系架橋剤、金属キレート系架橋剤やアミノ樹脂系架橋剤、過酸化物系架橋剤等があげられる。

分子間架橋剤の使用量は、架橋効率や粘着特性等に応じて適宜に決定することができ、特に限定はない。一般にはベースポリマーの２０重量％以下、好ましくは１５重量％以下、特に０．５〜１０重量％が用いられる。

粘着剤層や接着剤層には、必要に応じて、例えば、天然や合成の樹脂類、粘着付与剤、可塑剤、軟化剤、ガラス繊維やガラスビーズ、金属粉や炭酸カルシウム、クレーやその他の無機粉末等からなる充填剤、顔料、着色剤、老化防止剤等の、粘着剤に使用されることのある各種の添加剤を配合できる。また、微粒子を含有させて光拡散性を示す粘着剤層や接着剤層とすることもできる。ちなみに前記の粘着付与剤は、接着力を向上させる場合に有用である。その粘着付与剤としては、適宜なものを用いてよく公知物のいずれも用いうる。

前記した室温での接着力維持や低温接着力の向上等を目的とする場合には、可塑剤や軟化剤の使用も有用である。可塑剤や軟化剤としては、適宜なものを用いてよく、公知物のいずれも用いうる。とりわけ、保存安定性等の点より揮散の少ない高沸点物が好ましく用いられる。可塑剤や軟化剤の例としては、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジブチルベンジル、フタル酸ジオクチル、ブチルフタリルブチルグリコレート等のフタル酸系化合物、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリ−２−エチルヘキシル、トリメリット酸トリｎ−オクチル、トリメリット酸トリイソデシル等のトリメリット酸系化合物があげられる。

また、フマル酸ジブチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジ−２−エチルヘキシル、アジピン酸ジイソブチル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジブトキシエチル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−２−エチルヘキシル等の脂肪族二塩基酸エステル系化合物、リン酸トリエチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリキシレニル、リン酸クレジルフェニル等のリン酸エステル系化合物、ジイソデシル−４，５−エポキシテトラヒドロフタレート等のエポキシ系化合物、その他、オレイン酸ブチルや塩素化パラフィン、ポリブテンやポリイソブチレン等も可塑剤または軟化剤の例としてあげられる。

光学補償層（光学補償フィルム）への感圧性接着剤層や接着剤層の付設は、適宜な方式で行うことができる。その例としては、例えば、トルエンや酢酸エチル等の適宜な有機溶剤による溶液や、水による分散液ないしエマルジョンとした固形分が１０〜４０重量％程度の粘着剤液を調製し、それを流延方式や塗工方式等の適宜な展開方式で光学補償フィルムに直接付設する方式、あるいはモノマー成分等の混合物等とした粘着剤を光学補償フィルム上に塗工して放射線照射処理する方式、さらには前記に準じてセパレータ上に形成した粘着剤層を光学補償フィルム上に移着する方式等があげられる。従って粘着剤層の重畳層も、重ね塗り方式や移着重ね合せ方式等の適宜な方式で形成できる。

前記において粘着剤の塗工層を放射線の照射により重合処理する場合には、例えば、窒素ガス等の不活性ガスによる置換雰囲気や光透過性のフィルムによる被覆状態等の空気遮断状態で行うことが、目的とする粘着特性の発現性等の点より好ましい。またモノマーを予備重合処理して、又はモノマー成分と光重合開始剤の混合物にヒュームドシリカの如きチキソトロープ剤を加えて粘度を５００〜５０００センチポイズ程度のコーティング可能なシロップ状とし、それを光学フィルム素材やセパレータ等に塗工して再度放射線を照射して目的とする粘着剤層の状態とすることもできる。その場合、光重合開始剤は２回以上に分けて配合することもできる。

なお紫外線照射による場合、波長範囲が１８０〜４６０ｎｍの電磁放射光が処理効率等の点より好ましく、その発生源としては、例えば、水銀アーク、炭素アーク、（低、中、高圧）水銀ランプ、メタルハライドランプ等の適宜な照射装置を用いうる。照射量は、重合状況等に応じて適宜に決定しうるが、通例４００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²程度とされる。

粘着剤層における応力緩和時間の制御は、例えば、ガラス転移温度の調節や分子量の調節、架橋剤使用量の多少による架橋密度の調節等の適宜な方式で行うことができる。なお重畳の粘着剤層を光学補償フィルムの両面に設ける場合、光学補償フィルムの表裏において異なる組成又は種類等の粘着剤層とすることができる。粘着剤層が表面に露出する場合には、実用に供するまでの間その表面をセパレータ等で保護しておくことが好ましい。粘着剤層の付設に際しては、密着力の向上等を目的に光学補償フィルムに下塗層を設けることもできる。

次に、本発明の光学補償板と偏光板とを積層してなる光学補償層付偏光板について説明する。

本発明で用いる偏光板は、特に限定されず、偏光フィルムそのものであってもよいし、二色性物質含有のポリビニルアルコール系偏光フィルム等からなる偏光子の片側又は両側に、適宜の接着剤層、例えば、ビニルアルコール系ポリマー等からなる接着剤層を介して、保護層となる透明保護フィルムを接着したもの等であってもよい。

偏光子（偏光フィルム）としては、例えば、ポリビニルアルコールや部分ホルマール化ポリビニルアルコール等のビニルアルコール系ポリマーよりなるフィルムに、ヨウ素や二色性染料等よりなる二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適宜な処理を適宜な順序や方式で施してなり、自然光を入射させると直線偏光を透過する適宜なものを用いることができる。ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物の如きポリエン配向フィルム等からなる偏光フィルム等でもよい。中でも、ヨウ素又は二色性染料を吸着配向させたポリビニルアルコール系フィルムが好ましい。特に、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。偏光フィルムの厚さは、１〜８０μｍが一般的であるが、これに限定されない。

偏光子（偏光フィルム）の片側又は両側に設ける透明保護層となる保護フィルム素材としては、適宜な透明フィルムを用いることができる。中でも、透明性や機械的強度、熱安定性や水分遮蔽性等に優れるポリマーからなるフィルム等が好ましく用いられる。そのポリマーの例としては、トリアセチルセルロースの如きアセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリノルボルネン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等があげられるが、これに限定されるものではない。

また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に、置換および非置換イミド基の少なくとも一方を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に、置換および非置換フェニル基の少なくとも一方ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂とを含有する樹脂組成物があげられる。この樹脂組成物の具体例としては、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アルリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物等があげられる。フィルムは、樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。

偏光特性や耐久性等の点より、特に好ましく用いることができる透明保護フィルムは、表面をアルカリ等でケン化処理したトリアセチルセルロースフィルムである。透明保護フィルムの厚さは、任意であるが一般には偏光板の薄型化等を目的に５００μｍ以下、好ましくは５〜３００μｍ、特に好ましくは５〜１５０μｍとされる。なお、偏光フィルムの両側に透明保護フィルムを設ける場合、その表裏で異なるポリマー等からなる透明保護フィルムとすることもできる。

また、前記透明保護フィルムは、色付がないことが好ましい。したがって、フィルム厚み方向の位相差値Ｒｔｈ（＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ；ｎｘおよびｎｙは、フィルム平面内の主屈折率、ｎｚは、フィルム厚方向の屈折率、ｄは、フィルム厚である。）が、−９０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦７５ｎｍの範囲内であることが好ましい。前記透明保護フィルムの厚み方向位相差値Ｒｔｈが前記範囲内ならば、この透明保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消できる。前記Ｒｔｈの範囲として、より好ましくは、−８０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦６０ｎｍであって、さらにより好ましくは、−７０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦４５ｎｍの範囲である。

保護層に用いられる透明保護フィルムは、本発明の目的を損なわない限り、ハードコート処理や反射防止処理、スティッキングの防止や拡散ないしアンチグレア等を目的とした処理等を施したものであってもよい。ハードコート処理は、偏光板表面の傷付き防止等を目的に施されるものであり、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り性等に優れる硬化皮フィルムを、透明保護フィルムの表面に付加する方式等にて形成できる。

一方、反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止フィルム等の形成により達成できる。また、スティッキング防止は隣接層との密着防止を目的に、アンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式等による粗面化方式や透明微粒子の配合方式等、適宜な方式にて透明保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成できる。

前記の透明微粒子には、例えば、平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカやアルミナ、チタニアやジルコニア、酸化錫や酸化インジウム、酸化カドミウムや酸化アンチモン等があげられ、導電性を有する無機系微粒子を用いてもよく、また、架橋又は未架橋のポリマー粒状物等からなる有機系微粒子等を用いることもできる。透明微粒子の使用量は、透明樹脂１００重量部あたり２〜７０重量部、とくに５〜５０重量部が一般的である。

透明微粒子配合のアンチグレア層は、透明保護フィルムそのものとして、あるいは透明保護フィルム表面への塗工層等として設けることができる。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視角補償機能等）を兼ねるものであってもよい。なお、上記の反射防止層やスティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、それらの層を設けたシート等からなる光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。

偏光子と保護層である透明保護フィルムとの接着処理は、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーからなる接着剤、あるいは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤等を介して行うことができる。これにより、湿度や熱の影響で剥がれにくく、光透過率や偏光度に優れるものとすることができる。かかる接着剤層は、水溶液の塗工乾燥層等として形成されるものであるが、その水溶液の調製に際しては必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合できる。

光学補償板と偏光板とを一体化する場合は、１)本発明の光学補償板を、接着剤層又は粘着剤層を介して偏光板（図１参照）又は偏光子（図２参照）に転写・積層する方法、２)プラスチック基材に形成した基材付き複屈折性フィルム（光学補償層）を、そのまま偏光子の保護層として利用し、接着剤層又は粘着剤層を介して積層する方法、３)プラスチック基材を偏光子として、直接偏光子に本発明の複屈折性フィルム（光学補償層）を形成する方法、４)光学補償層の正面と反対面に感圧性接着剤層を形成することにより、光学補償層を感圧性接着剤層で挟持させる方法等をあげることができる。

図例を説明すると、図１の光学補償層付偏光板（１１）は、偏光子（１）の両面に保護フィルム（２）が貼り合わされた偏光板の片側の保護フィルム面に、接着剤層又は粘着剤層（４）を介して光学補償層（３）が積層されている。図２では、片面に保護フィルム（２）が貼り合わされた偏光子（１）に、接着剤層又は粘着剤層（４）を介して光学補償層（３）が積層されている。図１及び図２の例において、光学補償層（３）の外面（外側）には、他の光学部材との積層一体化を容易にするための感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けてもよい。

なお、光学補償層付偏光板の外側の感圧性接着剤には、離型フィルムが積層されていても構わない。透明性等の観点より、ポリエステルフィルムの表面にシリコーン等の離型処理されたものを用いる場合が一般的であるが、これに限定されるものではない。また、本発明の光学補償層付偏光板の形成に際して、保護フィルム等の各種のフィルム素材の積層には、上記した光学補償層付偏光板に付設する粘着剤層に準じたものを使用することが、耐湿熱性等の点より好ましい。

本発明の光学補償板は、上記したように偏光板と組み合わせることが出来る他、各種位相差板、拡散制御フィルム、輝度向上フィルム等と組み合せて各種光学部材として用いることもできる。ワイヤーグリッド型偏光子との組合せ等であってもよい。

位相差板としては、ポリマーを一軸延伸したもの、二軸延伸したもの、Ｚ軸配向処理したもの、液晶性高分子を塗布したもの等があげられる。

拡散制御フィルムとしては、視野角を制御するための拡散、散乱、屈折を利用したフィルムや、解像度に関わるギラツキ、散乱光等を制御する拡散、散乱、屈折を利用したフィルム等を用いることができる。

輝度向上フィルムとしては、コレステリック液晶の選択反射とλ／４板を用いた輝度向上フィルムや、偏光方向による異方性散乱を利用した散乱フィルム等を用いることができる。例えば、誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの（３Ｍ社製商品名「Ｄ−ＢＥＦ」等）、コレステリック液晶層、とりわけコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの（日東電工社製商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」）の如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すもの等の適宜なものを用いることができる。

本発明による光学補償層付偏光板は、各種液晶表示装置の形成等に好ましく用いることができるが、その適用に際しては、必要に応じ上記の接着剤層や粘着剤層を介して、偏光板や反射板、半透過反射板、位相差板等の他の光学層の１層又は２層以上を積層できる。

前記の反射板は、それを偏光板に設けて反射型偏光板を形成するためのものである。反射型偏光板は、通常液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等を形成する。反射型偏光板は、バックライト等の光源の内蔵を省略でき、液晶表示装置の薄型化を図りやすい等の利点を有する。反射型偏光板の形成は、偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式等、適宜な方式にて行うことができる。その具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したもの等があげられる。

また、微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした上記の透明保護フィルムの上に、その微細凹凸構造を反映させた反射層を有する反射型偏光板等もあげられる。表面微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点を有する。この透明保護フィルムは、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、適宜な方式にて金属を透明保護フィルムの表面に直接付設する方法等により形成できる。

半透過型偏光板は、上記の反射型偏光板において、半透過型の反射層としたものであり、反射層で光を反射しかつ透過するハーフミラー等があげられる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等を形成する。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。

前記の２層又は３層以上の光学層を積層した光学部材は、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成できるものであるが、予め積層して光学部材としたものは、品質の安定性や組立作業性等に優れて液晶表示装置等の製造効率を向上させることができる利点がある。なお、積層には、上記の粘着剤等の適宜な接着手段を用いることができる。

また、光学部材には、他の光学層や液晶セル等の他部材と接着するための粘着剤層もしくは接着剤層を設けることもできる。その粘着剤層もしくは接着剤層は、アクリル系等の従来公知の粘着剤等を用いて適宜形成できる。中でも、吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着剤層であることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着剤層等とすることもできる。粘着剤層もしくは接着剤層は必要に応じて必要な面に設ければよい。粘着剤層もしくは接着剤層が表面に露出する場合には、その粘着剤層等を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的にセパレータにて仮着カバーすることが好ましい。セパレータは、上記の透明保護フィルム等に準じた適宜な薄葉体に、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤による剥離コートを設ける方式等により形成できる。

また、上記の偏光板や光学部材を形成する偏光フィルムや透明保護フィルム、光学層や粘着剤層もしくは接着剤層等の各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式等の適宜な方式により紫外線吸収能を持たせたもの等であってもよい。

本発明による光学補償層付偏光板や光学部材は、液晶表示装置等の各種装置の形成等に好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、本発明による光学補償層付偏光板をその粘着剤層を介して液晶セルの片側又は両側に貼着することにより行うことができる。その貼着に際しては、偏光板や位相差板等が所定の配置位置となるように行われ、その配置位置は従来に準じることができる。ガラス板使用の液晶セルに対して本発明の光学補償層付偏光板は特に好ましく用いられる。

また、液晶セルの両側に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置できる。

図３は、本発明の光学補償層付偏光板を液晶表示装置の片側に接着実装した一例であるが、従来に比して液晶表示装置全体が薄型化が可能となる。液晶セル（２１）のバックライト側に、光学補償層付偏光板（３）が配置されると共に、光学補償層付偏光板（３）と偏光子（１）は接着剤層または粘着剤層（４）を介して積層されている。これにより、正面と斜視の広い視角範囲で優れた表示品位が実現可能となる。偏光子（１）の他方の片面には、保護フィルム（２）が貼り合わされている。

本発明による光学補償層付偏光板や光学部材は、例えば、反射型、半透過型、透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。液晶表示装置を形成する液晶セルは任意であり、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等の適宜なタイプの液晶セルを用いたものであってよい。なかでも、透過型液晶ディスプレイ及び垂直配向モードの反射型液晶ディスプレイを視角補償する目的で、最も好適に用いることができる。

また、本発明の光学補償層付偏光板は、有機ＥＬディスプレイ、ＰＤＰ、ＦＥＤ等の自発光型表示装置にも、液晶表示装置と同様にして用いることができる。自発光型フラットディスプレイに設ける場合は、Δｎｄ＝λ／４にすることで、円偏光を得ることができ、反射防止フィルターとして利用できる。

以下、実施例及び比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。

（参考例１：粘着剤１の製造例）
冷却管、窒素導入管、温度計及び攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９５部（重量部、以下同じ）、アクリル酸５部、及び２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．３部を酢酸エチル１２０部と共に加えて窒素ガス気流下、６０℃で４時間、次いで８０℃で２時間反応させた後、その反応液に酢酸エチルを加えて、固形分濃度４０重量％のアクリル系共重合体１００部あたり０．５部のトリメチロールプロパントリレンジイソシアネートを配合してアクリル系粘着剤を得て、それをシリコーン系剥離剤で表面処理したポリエステルフィルムからなるセパレータに塗工し１５０℃で５分間加熱処理して粘着剤層を得た。
（参考例２：粘着剤２の製造例）
トリメチロールプロパントリレンジイソシアネートの配合量を２．０部としたほかは参考例１に準じてアクリル系粘着剤を得て、セパレータ上に粘着剤層を形成した。
（参考例３）
アクリル酸ブチル５７部、アクリル酸−２−エチルヘキシル４０部、及びアクリル酸３部を用いて参考例１に準じ固形分濃度４０重量％のアクリル系共重合体（重合率９９％、重量平均分子量４０万）の溶液を得、それにアクリル系共重合体１００部あたり１．０部のトリメチロールプロパントリレンジイソシアネートを配合してセパレータ上に粘着剤層を形成した。

（実施例１）
２，２’−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン）≒６ＦＤＡ及び、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル）≒ＰＦＭＢから合成された下記構造式（２３）で示されるポリイミドを、メチルイソブチルケトン溶媒に溶解し、１５ｗｔ％溶液を調製した。この溶液を、厚さ約８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に塗布し、１３０℃で１分間加熱乾燥した。その後、ＴＡＣ上に形成された複屈折フィルムを基材ごと１５０℃で自由端一軸延伸にて５％延伸した。得られた複屈折フィルムをアクリル系粘着剤により偏光板に転写し、積層偏光板を作製した。

なお上記において、光学補償層と偏光板との一体品を作製する場合は、光学補償層と偏光板（日東電工社製商品名ＨＥＧ５４２５ＤＵ）を、厚さ１０μｍでガラス転移温度が−３０℃のアクリル系粘着剤（粘着剤１）を介してロール圧着し、更に、この一体品の光学補償層側と離型フィルム（日東電工社製商品名ＲＴ−３８Ｇ）を、厚さ２５μｍでガラス転移温度が−４０℃のアクリル系粘着剤（粘着剤２）を介してロール圧着することにより作製した。以下同様にして実験した。

（実施例２）
４，４’−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエ−テル（ＢＰＤＥ）及び、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン（６ＦＢＡ）から得られる下記構造式（１２）で示される含フッ素アリールエーテルケトン重合体を、メチルイソブチルケトン溶媒に溶解し、１５ｗｔ％溶液を調製した。この溶液を、厚さ約８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に塗布し、１３０℃で１分間加熱乾燥した。その後、ＴＡＣ上に形成された複屈折フィルムを基材ごと１５０℃で自由端一軸延伸にて１０％延伸した。得られた複屈折フィルムは、アクリル系粘着剤により偏光板に転写し、積層偏光板を作製した。

（実施例３）
４，４’−ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゾイル）ジフェニルエーテル（ＢＰＤＥ）及び、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＨＦ）から得られる下記構造式（１３）で示される含フッ素アリールエーテルケトン重合体を、メチルイソブチルケトン溶媒に溶解し、１５ｗｔ％溶液を調製した。この溶液を、厚み約８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に塗布し、１３０℃で１分間加熱乾燥した。その後、ＴＡＣ上に形成された複屈折フィルムを基材ごと１５０℃で自由端一軸延伸にて１０％延伸した。得られた複屈折フィルムは、アクリル系粘着剤により偏光板に転写し、積層偏光板を作製した。

（比較例１）
Δｎが約０．００２のポリノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ（株）製、商品名ＡＲＴＯＮフィルム）を、１７５℃で固定端横延伸にて１．３倍に延伸し、厚み８０μｍ、（ｎｘ−ｎｙ）・ｄ＝９１ｎｍ、［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ＝１８２ｎｍの位相差を持つ複屈折フィルムを得た。得られた複屈折フィルムをアクリル系粘着剤により偏光板に転写し、積層偏光板を作製した。

（比較例２）
実施例１と同様の塗工液を、厚さ約８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材上に塗布し、１３０℃で１分間加熱乾燥した。その後、ＴＡＣ上に形成された複屈折フィルムを基材ごと１５０℃で自由端一軸延伸にて５％延伸した。ＴＡＣ基材に形成した基材付き複屈折フィルムは、そのまま偏光子層の保護層として利用し、積層偏光板を作製した。

実施例、比較例で得た偏光板を、以下の方法にてその特性を評価した。その結果を表１に示す。

（位相差測定方法）
フィルム面内の位相差（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ値および厚み方向位相差［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ値は、自動複屈折計（王子計測機器製商品名ＫＯＢＲＡ）により、５９０ｎｍでの位相差を測定した。

（カール量測定方法）
作製した光学補償層付偏光板を、水平な面の上に置いたときの四辺の高さの平均値を求め、偏光板長辺の長さに対する割合で評価した。

（周辺ムラ測定方法）
図４に示すように、１５０×１８０ｍｍサイズのガラス板（５）の片側に光学補償層付偏光板（６）、もう片側に通常の偏光板（日東電工製商品名ＨＥＧ５４２５ＤＵ）を、アクリル系粘着剤を介して、互いの吸収軸が直交するように貼合わせ、周辺ムラ用サンプルを作製した。周辺ムラ値は、面内の９つの測定点（７）の透過率を８０℃、１２時間の試験後に測定し、下式に示した各測定点の平均値から求めた。

周辺ムラ値＝[（(2)＋(4)＋(5)＋(6)＋(8)）／５]−[（(1)＋(3)＋(7)＋(9)）／４]

（透過率測定）
ＴＯＰＣＯＮ社製、商品名ＢＭ−５ＡＬＵＭＩＮＡＮＣＥＣＯＬＯＲＩＭＥＴＥＲにて行った。

（表１）
実施例１実施例２実施例３比較例１比較例２
複屈折フィルムの厚み(μm) 6 10 10 80 6
複屈折率(nx-ny) 0.04 0.004 0.003 − 0.04
(nx-ny)d 135 43 30 91 135
[(nx+ny)/2-nz]d 270 93 54 182 270
(nx-nz)/(nx-ny) 2 2 2 2 2
カール量長辺× 長辺× 長辺× 長辺× 長辺×
±１０％ ±１０％ ±１０％ ±１０％ ±５０％
周辺ムラ値 0.005 0.003 0.003 0.033 0.030

表１の結果より、本実施例の光学補償層付偏光板は、光学補償層が薄層であり、かつ偏光板のカール量や周辺ムラも少ないことがわかる。これに対して、基材上に形成された光学補償層と基材を一体品として偏光板に積層した場合（比較例２）は、偏光板のカール量が大きく周辺ムラが生じ、表示の均一性に欠けるものであった。また、延伸により作製した光学補償層を積層した場合（比較例１）は、カール量や周辺ムラは良好であるが、厚型の偏光板となることがわかる。

また、本実施例の位相差板は、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの特性を有し、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄの値が３ｎｍ以上であり、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）の値が１より大きい、薄型の二軸性位相差板であることがわかる。なお、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄの値が３ｎｍ以下であれば、負の一軸性位相差板となる。

［発明の効果］
以上説明した通り、本発明によれば、ポリマー溶液をプラスチック基材に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理することにより、量産性に優れた薄型の光学補償層を安価に得ることができ、しかも、光学補償層上に感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けているため、光学補償層のみを他の光学部材に転写することが可能となり、偏光板や液晶表示装置等に積層した場合に積層一体品としての薄型化を図ることができる。また、３ｎｍ≦（ｎｘ−ｎｙ）・ｄと（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）＞１の関係とを満足する二軸位相差板を容易に得ることができる。得られた光学補償層（二軸性位相差板）は薄層であり、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚの特性を持つ、均一・透明で極めて優れた光学的性質を有する位相差板となり得る。よって、本発明の光学補償層付偏光板を液晶セルの少なくとも片側に配置することにより、正面と斜視の広い視角範囲で表示品位に優れ、かつ薄型の液晶表示装置が得られる。

本発明の光学補償層付偏光板の一例を示す断面模式図である。本発明の光学補償層付偏光板の他の一例を示す断面模式図である。本発明の液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。周辺ムラ測定方法の説明図である。

符号の説明

１偏光子
２保護フィルム
３光学補償層
４接着剤層または粘着剤層
５ガラス板
６光学補償層付偏光板
７測定点
１１光学補償層付偏光板
２１液晶セル

Claims

ポリマー溶液をプラスチック基材に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理してなる厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層の上に、感圧性接着剤層あるいは接着剤層を設けたことを特徴とする光学補償板。
前記感圧性接着剤がアクリル系重合体であり、そのガラス転移温度が０℃以下である請求項１に記載の光学補償板。
前記光学補償層が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリ（エーテルケトン）、ポリ（アミド−イミド）及びポリ（エステル−イミド）からなる群から選択される少なくとも１種のポリマーからなる請求項１又は２に記載の光学補償板。
請求項１から３のいずれかに記載の光学補償板を、前記感圧性接着剤層又は接着剤層を介して偏光板に積層したことを特徴とする光学補償層付偏光板。
前記積層された光学補償層の外面に、感圧性接着剤層又は接着剤層を設けてなる請求項４に記載の光学補償層付偏光板。
ポリマー溶液をプラスチック基材に塗布し、乾燥した後、伸張及び収縮の少なくとも一方をさせるか、又は前記の乾燥工程で伸張及び収縮の少なくとも一方をさせて配向処理して、厚さ０．１〜２０μｍの光学補償層を形成した後、その上に、感圧性接着剤層又は接着剤層を形成し、それを介して前記光学補償層を偏光板に転写することを特徴とする請求項４又は５に記載の光学補償層付偏光板の製造方法。
請求項４又は５に記載の光学補償層付偏光板を、液晶セルの少なくとも片側に配置したことを特徴とする液晶表示装置。