JP6135134B2 - 光学積層体及び画像表示装置 - Google Patents
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本発明は、光学積層体及び画像表示装置に関する。
陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル等の画像表示装置の最表面には、反射防止性、ハード性や透明性等の種々の機能を有する機能層からなる光学積層体が設けられている。
これらの機能層の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等が使用されている。しかし、このような機能層の基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。
これらの機能層の基材としては、透明性や硬度性に優れるアクリル樹脂等が使用されている。しかし、このような機能層の基材は、絶縁特性が高いため帯電しやすく、埃等の付着による汚れが生じ、使用する場合のみならずディスプレイ製造工程においても、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題があった。
このような帯電を防止するために、光学積層体の一部に導電性の帯電防止剤を含有した帯電防止層を設けることが従来から行われている（例えば、特許文献１、２参照）。
帯電防止層に添加する帯電防止剤の帯電防止機能を発現するタイプとしては、従来、電子がソリトンやポーラロンといったキャリアを介して移動する電子伝導タイプと、イオン自体が系内を移動するイオン伝導タイプの２種類に分類される。
電子伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、各種金属酸化物や導電性ポリマー等が知られており、一方、イオン伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩や、リチウム塩等が知られている。
なかでも、帯電防止層に添加する帯電防止剤としては、カチオン界面活性剤である第４級アンモニウム塩が好ましく用いられていた。
帯電防止層に添加する帯電防止剤の帯電防止機能を発現するタイプとしては、従来、電子がソリトンやポーラロンといったキャリアを介して移動する電子伝導タイプと、イオン自体が系内を移動するイオン伝導タイプの２種類に分類される。
電子伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、各種金属酸化物や導電性ポリマー等が知られており、一方、イオン伝導タイプの帯電防止剤としては、例えば、第４級アンモニウム塩や、リチウム塩等が知られている。
なかでも、帯電防止層に添加する帯電防止剤としては、カチオン界面活性剤である第４級アンモニウム塩が好ましく用いられていた。
しかしながら、帯電防止剤として第４級アンモニウム塩を用いてなる帯電防止層を供えた光学積層体は、帯電防止層を形成する際の塗工環境によって表面抵抗値が安定しないという問題があった。また、近年、光学積層体には極めて高度な耐久性能（耐光性能及び耐熱性能）が要求されるようになってきているが、帯電防止層を形成する際の表面抵抗値の安定性は、帯電防止層を備えた光学積層体の表面抵抗値の安定性とリンクしているため、第４級アンモニウム塩を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体は、耐久性試験の前後でも表面抵抗値が安定しないという問題があった。具体的には、帯電防止層を備えた光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いる場合、耐久性試験後における光学積層体の表面抵抗値が低くなり過ぎると、タッチセンサーが充分に感知できなくなる問題が生じ、耐久性試験後の光学積層体の表面抵抗値が高くなり過ぎると、タッチ部分で電荷が一時的に集中して液晶分子に影響を及ぼす結果、表示画面に白濁現象が生じることがあった。
また、帯電防止層に添加する帯電防止剤として、導電性ポリマーや導電性微粒子を用いることも従来から知られているが、このような帯電防止剤を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体も、耐久性試験により表面抵抗値が悪化するという問題があった。
また、帯電防止層に添加する帯電防止剤として、導電性ポリマーや導電性微粒子を用いることも従来から知られているが、このような帯電防止剤を用いてなる帯電防止層を備えた光学積層体も、耐久性試験により表面抵抗値が悪化するという問題があった。
また、従来、帯電防止層等は光透過性基材上に積層されて光学積層体を構成しており、この光透過性基材としては、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルは、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない（面内にほとんど複屈折を有さない）ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、液晶表示装置の表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、光学積層体を用いてなる偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、また、耐湿、耐熱性が充分でなく、光学積層体を偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、コスト的には不利な素材であり、また、耐湿、耐熱性が充分でなく、光学積層体を偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。
このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、透明性、耐熱性、機械強度に優れ、かつ、セルロースエステルフィルムに比べて安価で市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを光学積層体の光透過性基材として用いることが望まれており、例えば、セルロースエステル代替フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている（例えば、特許文献３参照）。
ところが、ポリエステルフィルムは、分子鎖中に分極率の大きい芳香族環を持つため固有複屈折が極めて大きく、優れた透明性、耐熱性、機械強度を付与させるための延伸処理による分子鎖の配向に伴って複屈折が発現しやすいという性質を有する。
このようなポリエステルフィルム等の面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を画像表示装置の表面に設置した場合、該画像表示装置の表示画面を、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認すると、色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が生じてしまうという問題があった。
また、このような面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を設置した画像表示装置が、スマートフォンやタブレット端末のような場合、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認しつつ、該画像表示装置を表示画面の外周方向に回転させた場合、表示画像に色味変化が生じるという問題もあった。
このようなポリエステルフィルム等の面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を画像表示装置の表面に設置した場合、該画像表示装置の表示画面を、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認すると、色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が生じてしまうという問題があった。
また、このような面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いた光学積層体を設置した画像表示装置が、スマートフォンやタブレット端末のような場合、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認しつつ、該画像表示装置を表示画面の外周方向に回転させた場合、表示画像に色味変化が生じるという問題もあった。
本発明は、上記現状に鑑み、帯電防止性能の安定性が極めて高く、耐久性試験前後においても表面抵抗値の変化が少なく、偏光特性を有するサングラスをかけた状態で視認した場合であっても、ニジムラの発生及び色味変化が抑制された光学積層体、該光学積層体を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、上記溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有し、上記光透過性基材は、リタデーションが５０００ｎｍ以上であり、上記導電性微粒子は、鎖状又は針状であることを特徴とする光学積層体である。
本発明の光学積層体において、上記樹脂成分は、重量平均分子量が２万〜２０万であり、ガラス転移温度が８０〜１２０℃であることが好ましい。
また、上記樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
また、上記導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）であり、樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルであることが好ましい。
また、上記樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
また、上記導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）であり、樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルであることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記帯電防止層の光透過性基材側と反対側の面上にハードコート層を有することが好ましい。
また、本発明は、本発明の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明者らは、従来の光学積層体が、耐久性試験（耐光性試験及び耐熱性試験）を行った後に表面抵抗値が安定しないことについて、鋭意検討した結果、従来の光学積層体は、耐久性試験の前後において帯電防止層に含まれる帯電防止剤が動き、その位置が変化してしまうことに起因することを見出した。そして、このような問題を解決するため、更に検討した結果、帯電防止層を特定の材料の組み合わせによって構成することで、耐久性試験（耐光性試験及び耐熱性試験）の前後において表面抵抗値の変化が小さいことを見出した。更に、面内に複屈折率を有する光透過性基材として、所定のリタデーション値を有するものとすることで、偏光特性を有するサングラス越しに視認してもニジムラ及び色味変化の発生を好適に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体である。
本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。すなわち、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、層中にモノマー成分を含有するものではない。
ここで、上記モノマー成分とは、光学積層体の耐久性試験、例えば、８０℃の高温試験、カーボンアークのフェードメーター、キセノンランプを用いたキセノンウェザーメーターを用いた耐久性試験を行った時に反応し、帯電防止層に硬化収縮を起こさせる成分を意味する。
本発明の光学積層体は、このようなモノマー成分を帯電防止層に含有しないため、耐久性試験後に帯電防止層に硬化収縮が起きず、耐久性試験の前後において表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
具体的には、本発明の光学積層体は、８０℃環境で５００時間保持する耐久性試験（１）及びキセノンアークを３００時間照射する耐久性試験（２）の前後における表面抵抗値の変化率｛（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）｝が、いずれも０．５〜２．０であることが好ましい。
０．５未満であると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が低く、導電性が高くなるため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷が拡散してしまい、センサーが感知できずタッチセンサーが作動しないことがある。一方、２．０を超えると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が高く、導電性が低下するため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷を充分に拡散できず、一時的に高い電荷が集中してしまい、結果として、液晶分子に影響を及ぼし、表示画面が白濁する現象が発生する恐れがある。
なお、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層がモノマー成分を含有しないとは、該帯電防止層中にモノマー成分を全く含有しない場合のほか、耐久性試験後において表面抵抗値の差が上記範囲内に収まる範囲で含まれている場合も含む意味である。
更に、上記帯電防止層は、紫外線によって分解等してしまう樹脂を含有しないことが好ましい。上記紫外線によって分解等してしまう樹脂としては、例えば、分極の大きい官能基を有する樹脂や、主鎖に不飽和結合を有する樹脂等が挙げられる。
本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。すなわち、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層は、層中にモノマー成分を含有するものではない。
ここで、上記モノマー成分とは、光学積層体の耐久性試験、例えば、８０℃の高温試験、カーボンアークのフェードメーター、キセノンランプを用いたキセノンウェザーメーターを用いた耐久性試験を行った時に反応し、帯電防止層に硬化収縮を起こさせる成分を意味する。
本発明の光学積層体は、このようなモノマー成分を帯電防止層に含有しないため、耐久性試験後に帯電防止層に硬化収縮が起きず、耐久性試験の前後において表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
具体的には、本発明の光学積層体は、８０℃環境で５００時間保持する耐久性試験（１）及びキセノンアークを３００時間照射する耐久性試験（２）の前後における表面抵抗値の変化率｛（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）｝が、いずれも０．５〜２．０であることが好ましい。
０．５未満であると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が低く、導電性が高くなるため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷が拡散してしまい、センサーが感知できずタッチセンサーが作動しないことがある。一方、２．０を超えると、耐久性試験後における本発明の光学積層体の表面抵抗値が高く、導電性が低下するため、本発明の光学積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いた場合、指で触れた際の表面の電荷を充分に拡散できず、一時的に高い電荷が集中してしまい、結果として、液晶分子に影響を及ぼし、表示画面が白濁する現象が発生する恐れがある。
なお、本発明の光学積層体において、上記帯電防止層がモノマー成分を含有しないとは、該帯電防止層中にモノマー成分を全く含有しない場合のほか、耐久性試験後において表面抵抗値の差が上記範囲内に収まる範囲で含まれている場合も含む意味である。
更に、上記帯電防止層は、紫外線によって分解等してしまう樹脂を含有しないことが好ましい。上記紫外線によって分解等してしまう樹脂としては、例えば、分極の大きい官能基を有する樹脂や、主鎖に不飽和結合を有する樹脂等が挙げられる。
上記導電性微粒子は、本発明の光学積層体の帯電防止性能を担保する材料である。
このような導電性微粒子としては特に限定されず、例えば、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボンナノチューブ、コーティング微粒子等、従来公知の材料を用いることができる。なかでも、耐光性、耐熱性、環境依存性が良好なことから、金属酸化物微粒子が好適に用いられる。
このような導電性微粒子としては特に限定されず、例えば、金属微粒子、金属酸化物微粒子、カーボンナノチューブ、コーティング微粒子等、従来公知の材料を用いることができる。なかでも、耐光性、耐熱性、環境依存性が良好なことから、金属酸化物微粒子が好適に用いられる。
上記金属微粒子を構成する金属としては特に限定されず、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ等が挙げられる。
また、上記金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯ等が挙げられる。
ここで、本発明における「金属酸化物」とは、異種金属がドープされた金属酸化物をも含む概念である。
また、上記金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物としては特に限定されず、例えば、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯ等が挙げられる。
ここで、本発明における「金属酸化物」とは、異種金属がドープされた金属酸化物をも含む概念である。
また、上記コーティング微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層が形成された構成の従来公知の微粒子が挙げられる。
上記コア微粒子としては特に限定されず、例えば、シリカ微粒子、ガラス微粒子等の無機微粒子；フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子；有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、上記導電性被覆層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物等が挙げられる。
上記コア微粒子としては特に限定されず、例えば、シリカ微粒子、ガラス微粒子等の無機微粒子；フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子；有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、上記導電性被覆層を構成する材料としては特に限定されず、例えば、上述した金属又はこれらの合金や、上述した金属酸化物等が挙げられる。
上記導電性微粒子は、平均一次平均粒子径が６〜４０ｎｍであることが好ましい。６ｎｍ未満であると、本発明の光学積層体に充分な帯電防止性能を付与するために添加量を多くする必要があり、透明性やその他の層との間の密着性に劣ることがあり、また、導電性微粒子の抵抗が急激に大きくなるため、上記帯電防止層の導電性能が悪くなることがある。４０ｎｍを超えると、導電性微粒子自体の抵抗は低いが、導電性微粒子が帯電防止層中で点在し、良好な抵抗を得られない恐れがある。上記導電性微粒子の平均一次粒子径のより好ましい下限は７ｎｍ、より好ましい上限は２０ｎｍである。
なお、上記導電性微粒子の平均粒子径とは、上記帯電防止層を形成するための帯電防止層用組成物中においては、日機装社製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣ粒度分析計を用いて測定した値を意味し、上記帯電防止増においては、該帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真や走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真により観察される導電性微粒子の１０個の粒子径の平均値を意味する。
なお、上記導電性微粒子の平均粒子径とは、上記帯電防止層を形成するための帯電防止層用組成物中においては、日機装社製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣ粒度分析計を用いて測定した値を意味し、上記帯電防止増においては、該帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真や走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真により観察される導電性微粒子の１０個の粒子径の平均値を意味する。
本発明の光学積層体において、上記導電性微粒子は、鎖状又は針状であることが好ましい。このような形状の導電性微粒子は、帯電防止層中で動き難いものであり、耐久性試験時に帯電防止層に硬化収縮が多少生じた場合であっても、光学積層体の表面抵抗値を殆ど変化させることなく安定して帯電防止層中に含有させることができる。
また、上記帯電防止層において隣接する鎖状又は針状の導電性微粒子の接触が生じやすく、少量の添加量で充分な導電性能を有する帯電防止層とすることもできる。
ここで、上記帯電防止層中の導電性微粒子が単粒子状であると、帯電防止層中で隣接する導電性微粒子同士の接触が取りづらく、充分な帯電防止性能を発揮させるためには添加量を多くする必要がある。その結果、上記帯電防止層と他の層との密着性の低下、及び、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。
なお、上記鎖状又は針状とは、２個以上の上記導電性微粒子が直線状又は分岐状で連結された形態を意味する。
以下、鎖状又は針状の導電性微粒子を、「鎖状導電性微粒子」と称して説明する。
また、上記帯電防止層において隣接する鎖状又は針状の導電性微粒子の接触が生じやすく、少量の添加量で充分な導電性能を有する帯電防止層とすることもできる。
ここで、上記帯電防止層中の導電性微粒子が単粒子状であると、帯電防止層中で隣接する導電性微粒子同士の接触が取りづらく、充分な帯電防止性能を発揮させるためには添加量を多くする必要がある。その結果、上記帯電防止層と他の層との密着性の低下、及び、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。
なお、上記鎖状又は針状とは、２個以上の上記導電性微粒子が直線状又は分岐状で連結された形態を意味する。
以下、鎖状又は針状の導電性微粒子を、「鎖状導電性微粒子」と称して説明する。
上記鎖状導電性微粒子とは、上記導電性微粒子の一次粒子が単に粒子間引力によって凝集したものとは相違し、導電性微粒子同士が結合していることが好ましく、このような導電性微粒子は、直線状であっても折れ線上であってもよく、また湾曲状となっていてもよい。
上記鎖状導電性微粒子は、上記導電性微粒子が２個以上の連結された形態を有していれば特に限定されないが、上記導電性微粒子が直鎖状に２〜５０個連結していることが好ましい。
上記導電性微粒子の連結個数が２個未満であると、表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、上記導電性微粒子の連結個数が５０個を超えると、帯電防止層の光透過率が低下し、ヘイズが上昇してしまうことがある。
上記鎖状導電性微粒子を構成する導電性微粒子の連結数のより好ましい下限は３個、より好ましい上限は３０個である。
上記導電性微粒子の連結個数が２個未満であると、表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、上記導電性微粒子の連結個数が５０個を超えると、帯電防止層の光透過率が低下し、ヘイズが上昇してしまうことがある。
上記鎖状導電性微粒子を構成する導電性微粒子の連結数のより好ましい下限は３個、より好ましい上限は３０個である。
上記鎖状導電性微粒子の平均長さは、１２〜５００ｎｍであることが好ましい。１２ｎｍ未満であると、接触抵抗が増加し、上記帯電防止層の表面抵抗値を有効に低下させることができないことがあり、５００ｎｍを超えると、上記帯電防止層の透明性が得られないおそれがあるからである。上記鎖状導電性微粒子の平均長さのより好ましい下限は２０ｎｍ、より好ましい上限は３００ｎｍである。
なお、「鎖状導電性微粒子の平均長さ」とは、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真や走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真により観察される鎖状導電性微粒子の１０個の長さの平均値を意味する。
具体的には、例えば、導電性微粒子が２個以上連結している鎖状導電性微粒子の１個の大きさが確認できる倍率（例えば２０万倍以上）で撮影した、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真等において、鎖状導電性微粒子１０個選択し、選んだ鎖状導電性微粒子の最も長い部分の長さをそれぞれ測定し、その平均値を求めることにより、帯電防止層中における鎖状導電性微粒子の平均長さを求めることができる。
なお、鎖状導電性微粒子は、曲線状など多様な形状で存在しているが、その長さ測定においては、最も離れた２点間の長さを測定する。
なお、「鎖状導電性微粒子の平均長さ」とは、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真や走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）写真により観察される鎖状導電性微粒子の１０個の長さの平均値を意味する。
具体的には、例えば、導電性微粒子が２個以上連結している鎖状導電性微粒子の１個の大きさが確認できる倍率（例えば２０万倍以上）で撮影した、帯電防止層断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真等において、鎖状導電性微粒子１０個選択し、選んだ鎖状導電性微粒子の最も長い部分の長さをそれぞれ測定し、その平均値を求めることにより、帯電防止層中における鎖状導電性微粒子の平均長さを求めることができる。
なお、鎖状導電性微粒子は、曲線状など多様な形状で存在しているが、その長さ測定においては、最も離れた２点間の長さを測定する。
上記鎖状導電性微粒子は、例えば、以下の方法により得ることができる。
まず、金属塩又は金属アルコキシドが０．１〜５質量％の濃度で含まれるアルコール溶液を加熱して、該金属塩又は金属アルコキシドを加水分解させ、平均一次粒子径が１〜１００ｎｍの導電性微粒子のゲル分散液を調製する。
このとき必要に応じて温水やアルカリを加えてもよい。
次いで、得られたゲル分散液を濾別、洗浄し、空気中、２００〜８００℃の温度で焼成して導電性微粒子（金属酸化物微粒子）を調製する。
次いで、この焼成した導電性微粒子の粉末を、酸性又はアルカリ性の水、及び、アルコール溶媒の少なくとも一方に分散させて濃度１０〜５０質量％の分散液とし、必要に応じて有機安定剤の存在下でこの分散液をメカニカル分散処理する。
なお、上記有機安定剤として具体的には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸等の多価カルボン酸及びその塩、複素環化合物あるいはこれらの混合物等が挙げられる。
このメカニカル分散処理によって、生成ゲルが解膠し、鎖状導電性微粒子が分散したゾルが得られる。
上記メカニカル分散処理としては、例えば、サンドミル法、衝撃分散法等が挙げられ、特に、衝撃分散法が好ましく使用される。
こうして得られた鎖状導電性微粒子は、通常、遠心分離等の方法によって生成後の分散液から取り出され、必要に応じて酸等で洗浄される。
また、得られた鎖状導電性微粒子を含む分散液は、そのまま帯電防止層の形成に使用することもできる。
まず、金属塩又は金属アルコキシドが０．１〜５質量％の濃度で含まれるアルコール溶液を加熱して、該金属塩又は金属アルコキシドを加水分解させ、平均一次粒子径が１〜１００ｎｍの導電性微粒子のゲル分散液を調製する。
このとき必要に応じて温水やアルカリを加えてもよい。
次いで、得られたゲル分散液を濾別、洗浄し、空気中、２００〜８００℃の温度で焼成して導電性微粒子（金属酸化物微粒子）を調製する。
次いで、この焼成した導電性微粒子の粉末を、酸性又はアルカリ性の水、及び、アルコール溶媒の少なくとも一方に分散させて濃度１０〜５０質量％の分散液とし、必要に応じて有機安定剤の存在下でこの分散液をメカニカル分散処理する。
なお、上記有機安定剤として具体的には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸等の多価カルボン酸及びその塩、複素環化合物あるいはこれらの混合物等が挙げられる。
このメカニカル分散処理によって、生成ゲルが解膠し、鎖状導電性微粒子が分散したゾルが得られる。
上記メカニカル分散処理としては、例えば、サンドミル法、衝撃分散法等が挙げられ、特に、衝撃分散法が好ましく使用される。
こうして得られた鎖状導電性微粒子は、通常、遠心分離等の方法によって生成後の分散液から取り出され、必要に応じて酸等で洗浄される。
また、得られた鎖状導電性微粒子を含む分散液は、そのまま帯電防止層の形成に使用することもできる。
上記鎖状導電性微粒子を含む分散液の市販品としては、例えば、日揮触媒化成社製のＥＬＣＯＭ−Ｖ３５６０、ＤＰ１１９７、ＤＰ１２０３、ＤＰ１２０４、ＤＰ１２０７、ＤＰ１２０８等が挙げられる。
上記帯電防止層における導電性微粒子の含有量としては、使用する導電性微粒子の種類、形状及び大きさ等に応じて適宜調整されるが、例えば、後述する樹脂成分１００質量部に対して、１００〜３００質量部であることが好ましい。１００質量部未満であると、本発明の光学積層体体の帯電防止性能が不充分となることがあり、３００質量部を超えると、上記帯電防止層の他の層との密着性が劣ることがあり、また、導電性の経時変化での影響を受ける確率が上がるといった問題が生じることがある。上記導電性微粒子の含有量のより好ましい下限は１５０質量部、より好ましい上限は２５０質量部である。この範囲にあることで、安定した抵抗値を得ながら、光透過性基材への密着性を確保できる。
上記樹脂成分は、ポリマーであって、上記帯電防止層のバインダー成分としての役割を果たす材料であり、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、後述する溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有するものである。
上記帯電防止層がバインダー成分として、ポリマーである樹脂成分を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後において帯電防止層に硬化収縮が起きず、表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
このため、上記樹脂成分としては、分子中に反応性官能基を有さないものである。上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有さないことにより、該樹脂成分の二次的な反応が無く、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層の性能を維持することができる。上記樹脂成分が分子中に反応性基を有するものである場合、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層中で、暗反応により徐々に上記樹脂成分が反応を進めてしまうことがあり、長期的に徐々に上記樹脂成分の反応が進むと、該反応により樹脂成分の結合が生じることとなり、樹脂成分が形成していた物理的距離が収縮することがある。その結果として帯電防止層中での導電性微粒子の物理的距離も縮まってしまい、導電パスを増大させ帯電防止層の導電性が向上し抵抗値が下がってしまうという問題が生じる。
また、上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有すると、耐久性試験により該反応性官能基が反応して帯電防止層に硬化収縮が生じ、表面抵抗値が変化してしまう。
なお、上記反応性官能基としては、耐久性試験において反応することがある官能基を意味し、例えば、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。
なお、これらの反応性官能基は、上記樹脂成分中に全く含まれないことが好ましいが、耐久性試験後において、帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度であれば含まれていてもよい。
上記帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度とは、耐久性試験後における表面抵抗率の変化率が上述した範囲にある場合を意味する。
上記帯電防止層がバインダー成分として、ポリマーである樹脂成分を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後において帯電防止層に硬化収縮が起きず、表面抵抗値が変化しない安定したものとなる。
このため、上記樹脂成分としては、分子中に反応性官能基を有さないものである。上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有さないことにより、該樹脂成分の二次的な反応が無く、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層の性能を維持することができる。上記樹脂成分が分子中に反応性基を有するものである場合、帯電防止層用組成物を塗布及び乾燥した後に形成される帯電防止層中で、暗反応により徐々に上記樹脂成分が反応を進めてしまうことがあり、長期的に徐々に上記樹脂成分の反応が進むと、該反応により樹脂成分の結合が生じることとなり、樹脂成分が形成していた物理的距離が収縮することがある。その結果として帯電防止層中での導電性微粒子の物理的距離も縮まってしまい、導電パスを増大させ帯電防止層の導電性が向上し抵抗値が下がってしまうという問題が生じる。
また、上記樹脂成分が分子中に反応性官能基を有すると、耐久性試験により該反応性官能基が反応して帯電防止層に硬化収縮が生じ、表面抵抗値が変化してしまう。
なお、上記反応性官能基としては、耐久性試験において反応することがある官能基を意味し、例えば、アクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合を有する官能基、エポキシ環、オキセタン環等の環状エーテル基、ラクトン環等の開環重合基、ウレタンを形成するイソシアネート基等が挙げられる。
なお、これらの反応性官能基は、上記樹脂成分中に全く含まれないことが好ましいが、耐久性試験後において、帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度であれば含まれていてもよい。
上記帯電防止層に硬化収縮を起こさせない程度とは、耐久性試験後における表面抵抗率の変化率が上述した範囲にある場合を意味する。
また、上記樹脂成分は、後述する溶剤に対する溶解性と上記導電性微粒子に対する相溶性とを有する。
このような樹脂成分を含有する帯電防止層用組成物を用いてなる帯電防止層は、導電性微粒子の分散性に優れるとともに、経時での表面抵抗値の安定性に優れたものとなる。
なお、本明細書において、「溶解性を有する」とは、上記樹脂成分を後述する溶剤に溶解させた樹脂溶液において、ゲル成分を生じることがなく、かつ、当該樹脂溶液における溶剤比率の増大に応じて粘度が低下する特性を有することを意味する。
また、「相溶性を有する」とは、上記樹脂溶液と上記導電性微粒子とを混合した帯電防止層用組成物において、樹脂成分１００質量部に対して、上記導電性微粒子が少なくとも１００〜３００質量部の範囲において任意の比率で混合しても、ゲル化物を生ずることなく均一分散しており、上記帯電防止層用組成物をムラなく塗工して塗膜を形成することができ、該塗膜を乾燥させてなる帯電防止層にヘイズの上昇等の外観悪化が生じないことを意味する。
このような樹脂成分を含有する帯電防止層用組成物を用いてなる帯電防止層は、導電性微粒子の分散性に優れるとともに、経時での表面抵抗値の安定性に優れたものとなる。
なお、本明細書において、「溶解性を有する」とは、上記樹脂成分を後述する溶剤に溶解させた樹脂溶液において、ゲル成分を生じることがなく、かつ、当該樹脂溶液における溶剤比率の増大に応じて粘度が低下する特性を有することを意味する。
また、「相溶性を有する」とは、上記樹脂溶液と上記導電性微粒子とを混合した帯電防止層用組成物において、樹脂成分１００質量部に対して、上記導電性微粒子が少なくとも１００〜３００質量部の範囲において任意の比率で混合しても、ゲル化物を生ずることなく均一分散しており、上記帯電防止層用組成物をムラなく塗工して塗膜を形成することができ、該塗膜を乾燥させてなる帯電防止層にヘイズの上昇等の外観悪化が生じないことを意味する。
また、上記樹脂成分は、側鎖を有するものであることが好ましい。
上記側鎖を有する樹脂成分は、該側鎖が立体障害となって帯電防止層中で動き難くなり、本発明の光学積層体をより好適に表面抵抗値の安定性に優れたものとすることができる。
上記側鎖を有する樹脂成分は、該側鎖が立体障害となって帯電防止層中で動き難くなり、本発明の光学積層体をより好適に表面抵抗値の安定性に優れたものとすることができる。
上記樹脂成分は、重量平均分子量が２万〜２０万であることが好ましい。２万未満であると、帯電防止層に充分な硬さが得られず、耐久性試験の前後で表面抵抗値が不安定となることがある。一方、２０万を超えると、後述する帯電防止層用組成物の粘度が高くなりすぎ塗布できないことがある。上記重量平均分子量のより好ましい下限は５万、より好ましい上限は１０万である。
なお、上記重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算により求めることができる。ＧＰＣ移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０１、ＧＰＣ ＫＦ−８０２、ＧＰＣ ＫＦ−８０３、ＧＰＣ ＫＦ−８０４、ＧＰＣ ＫＦ−８０５、ＧＰＣ ＫＦ−８００Ｄ（いずれも、商品名、昭和電工社製）等を挙げることができる。検出器には、ＲＩ（示差屈折率）検出器及びＵＶ検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１（昭和電工社製）等のＧＰＣシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。
なお、上記重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算により求めることができる。ＧＰＣ移動相の溶剤には、テトラヒドロフランやクロロホルムを使用することができる。測定用カラムは、テトラヒドロフラン用又はクロロホルム用のカラムの市販品カラムを組み合わせて使用するとよい。上記市販品カラムとしては、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ ＫＦ−８０１、ＧＰＣ ＫＦ−８０２、ＧＰＣ ＫＦ−８０３、ＧＰＣ ＫＦ−８０４、ＧＰＣ ＫＦ−８０５、ＧＰＣ ＫＦ−８００Ｄ（いずれも、商品名、昭和電工社製）等を挙げることができる。検出器には、ＲＩ（示差屈折率）検出器及びＵＶ検出器を使用するとよい。このような溶剤、カラム、検出器を使用して、例えば、Ｓｈｏｄｅｘ ＧＰＣ−１０１（昭和電工社製）等のＧＰＣシステムにより、上記重量平均分子量を適宜測定することができる。
また、上記樹脂成分は、ガラス転移温度が８０〜１２０℃であることが好ましい。８０℃未満であると、樹脂成分が柔らかくなり、抵抗値が不安定となることがあり、一方、１２０℃を超えると、樹脂成分が硬くなり、光透過性基材への密着性が低下する恐れがある。上記ガラス転移温度のより好ましい下限は９０℃、より好ましい上限は１１０℃である。この範囲にあることで、安定した抵抗値を得ながら、光透過性基材への密着性を確保できる。
上記樹脂成分としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。
また、上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。
また、上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
本発明の光学積層体における上記樹脂成分としては、熱可塑性樹脂であることが好ましく、なかでも、上記導電性微粒子のブリードアウトを防止しやすく、相溶性に優れることから、ポリメチルメタクリレートが好適に用いられる。
上記アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
また、上記セルロース系樹脂としては、例えば、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等が挙げられる。
また、上記ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン樹脂等が挙げられる。
また、上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
また、上記ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
また、上記ポリオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられる。
本発明の光学積層体における上記樹脂成分としては、熱可塑性樹脂であることが好ましく、なかでも、上記導電性微粒子のブリードアウトを防止しやすく、相溶性に優れることから、ポリメチルメタクリレートが好適に用いられる。
上記帯電防止層は、厚みが０．１〜１．０μｍであることが好ましい。０．１μｍ未満であると、充分な抵抗値を得ることができない恐れがあり、１．０μｍを超えると、光透過性基材に対する密着性に劣り、導電性微粒子の材料によっては、全光線透過率が低下することがある。上記帯電防止層の厚みのより好ましい下限は０．２μｍ、より好ましい上限は０．５μｍである。
なお、上記帯電防止層の厚みは、帯電防止層断面を電子顕微鏡（例えば、ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等）を用いて観測し、測定した値である。
なお、上記帯電防止層の厚みは、帯電防止層断面を電子顕微鏡（例えば、ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等）を用いて観測し、測定した値である。
上記溶剤としては、上記樹脂成分が上述した溶解性を示す有機溶剤が好適に用いられ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が挙げられ、これらの混合溶剤であってもよい。
ここで、上記導電性微粒子が上述した鎖状導電性微粒子である場合、該鎖状導電性微粒子は、上述したように水やアルコールを用いて調製される。このため、上記鎖状導電性微粒子を用いる場合、上記帯電防止層用組成物の溶剤としてはアルコールが最も好ましい。これは、極性基の少ない溶剤、特に水酸基を持たない溶剤を用いた場合、上記鎖状導電性微粒子を分散させる分散剤を追加する必要がある。そうすると、上記鎖状導電性微粒子の粒子間距離が遠くなる方向に向かい、結果として得られる帯電防止層の表面抵抗値が上昇することになるからである。
一方、上記樹脂成分がポリメチルメタクリレートである場合、該ポリメチルメタクリレートは、一般的にアルコールに不溶もしくは溶けにくく、水酸基が無く、極性基の少ない溶剤には溶けやすい傾向がある。具体的には、上記ポリメチルメタクリレートは、ケトン類、脂肪族、炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類に溶けやすい傾向がある。よって、これらの溶剤を選択することで、ポリメチルメタクリレート溶液を調製することができ、該溶液を用いることで、上記帯電防止層用組成物の調製を容易にすることができる。
上記帯電防止層用組成物では、上記導電性微粒子（鎖状導電性微粒子）と樹脂成分（ポリメチルメタクリレート）とを安定に存在させる必要がある。すなわち、上記溶剤として、極性基が少ない溶剤を多く加えすぎると、上記鎖状導電性微粒子が安定に存在できなくなり、凝集、ゲル化、沈降等の問題が発生する。一方で、アルコール等の極性の高い溶剤を多く加えすぎると、樹脂成分であるポリメチルメタクリレートが安定に存在できなくなり、析出、ゲル化等の問題が発生する。この結果として、上記帯電防止層用組成物として用いることができず、本発明の目的を達成することができなくなる。
このため、上記帯電防止層用組成物は、上記樹脂成分としてポリメチルメタクリレートを用いる場合、例えば、上記溶剤としてメチルイソブチルケトンを用い、上記鎖状導電性微粒子を含有するアルコール分散液と混合する際に、上記ポリメチルメタクリレートと鎖状導電性微粒子とを更に安定的に存在させるため、溶剤としてメチルイソブチルケトンとアルコールとの中間的性質を持ち、かつ、蒸発速度が遅いグリコールエステル類を追加で混合させることが好ましい。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルを追加で混合させることがより好ましい。これにより、上記帯電防止層用組成物の乾燥中であっても蒸発速度の遅いプロピレングリコールモノメチルエーテルが最後に残り、ポリメチルメタクリレートのゲル化や鎖状導電性微粒子の凝集等、乾燥中に悪影響を及ぼすことが無くなり、得られる帯電防止層が安定的に目的とする耐久性能を得ることができる。
一方、上記樹脂成分がポリメチルメタクリレートである場合、該ポリメチルメタクリレートは、一般的にアルコールに不溶もしくは溶けにくく、水酸基が無く、極性基の少ない溶剤には溶けやすい傾向がある。具体的には、上記ポリメチルメタクリレートは、ケトン類、脂肪族、炭化水素類、脂環式炭化水素類、芳香族炭化水素類、エステル類に溶けやすい傾向がある。よって、これらの溶剤を選択することで、ポリメチルメタクリレート溶液を調製することができ、該溶液を用いることで、上記帯電防止層用組成物の調製を容易にすることができる。
上記帯電防止層用組成物では、上記導電性微粒子（鎖状導電性微粒子）と樹脂成分（ポリメチルメタクリレート）とを安定に存在させる必要がある。すなわち、上記溶剤として、極性基が少ない溶剤を多く加えすぎると、上記鎖状導電性微粒子が安定に存在できなくなり、凝集、ゲル化、沈降等の問題が発生する。一方で、アルコール等の極性の高い溶剤を多く加えすぎると、樹脂成分であるポリメチルメタクリレートが安定に存在できなくなり、析出、ゲル化等の問題が発生する。この結果として、上記帯電防止層用組成物として用いることができず、本発明の目的を達成することができなくなる。
このため、上記帯電防止層用組成物は、上記樹脂成分としてポリメチルメタクリレートを用いる場合、例えば、上記溶剤としてメチルイソブチルケトンを用い、上記鎖状導電性微粒子を含有するアルコール分散液と混合する際に、上記ポリメチルメタクリレートと鎖状導電性微粒子とを更に安定的に存在させるため、溶剤としてメチルイソブチルケトンとアルコールとの中間的性質を持ち、かつ、蒸発速度が遅いグリコールエステル類を追加で混合させることが好ましい。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルを追加で混合させることがより好ましい。これにより、上記帯電防止層用組成物の乾燥中であっても蒸発速度の遅いプロピレングリコールモノメチルエーテルが最後に残り、ポリメチルメタクリレートのゲル化や鎖状導電性微粒子の凝集等、乾燥中に悪影響を及ぼすことが無くなり、得られる帯電防止層が安定的に目的とする耐久性能を得ることができる。
このような材料を含有する帯電防止層用組成物は、上述したモノマー成分を含有しないことが好ましいが、上述したように、形成する帯電防止層が耐久性試験後において硬化収縮を起こさない範囲であれば、モノマー成分を含有していてもよい。
上記帯電防止層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
上記帯電防止層用組成物を光透過性基材上に塗布し、塗膜を形成した後、該塗膜を乾燥させることで、上記帯電防止層を形成することができる。
上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
上記塗布の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
本発明の光学積層体は面内に複屈折率を有する光透過性基材を有する。
上記面内に複屈折率を有する光透過性基材としては特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。なお、以下の説明では、面内に複屈折率を有する光透過性基材をポリエステル基材として説明する。
上記面内に複屈折率を有する光透過性基材としては特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。なお、以下の説明では、面内に複屈折率を有する光透過性基材をポリエステル基材として説明する。
上記ポリエステル基材は、リタデーションが５０００ｎｍ以上である。５０００ｎｍ未満であると、上述した画像表示装置の表示画像を、偏光特性を有するサングラス越しに視認したときに、ニジムラ及び色味変化の発生を抑制できなくなる。また、このような低リタデーションのポリエステル基材は、透明性、耐熱性及び機械強度に劣ることがある。一方、上記ポリエステル基材のリタデーションの上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記ポリエステル基材のリタデーションは、薄膜化の観点から、６５００〜２５０００ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲は、９０００〜２万ｎｍである。
上記ポリエステル基材のリタデーションは、薄膜化の観点から、６５００〜２５０００ｎｍであることが好ましい。より好ましい範囲は、９０００〜２万ｎｍである。
なお、上記リタデーションとは、ポリエステル基材の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、ポリエステル基材の厚み（ｄ）とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ，ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。フィルム厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）の積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することもできるし、分光光度計（島津製作所社製 ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めてもよい。
帯電防止層を含む光学機能層の平均反射率（Ｒ）は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから各硬化膜の平均反射率を測定した。ポリエステル基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２
また、光学積層体となった後に光学機能層の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体又は粒状の透明材料用）に従ったベッケ法を用いることができる。なお、上記ベッケ法とは、屈折率が既知のカーギル試薬を用い、上記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法である。
ポリエステル基材の場合は、方向によって屈折率が異なるので、ベッケ法ではなく、光学機能層の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求めることができる。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、フィルムの配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ，ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。フィルム厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、フィルムの厚みｄ（ｎｍ）の積より、リタデーションを計算することもできる。
なお、屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することもできるし、分光光度計（島津製作所社製 ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの平均反射率（Ｒ）を測定し、得られた平均反射率（Ｒ）から、以下の式を用い、屈折率（ｎ）の値を求めてもよい。
帯電防止層を含む光学機能層の平均反射率（Ｒ）は、易接着処理のない５０μｍＰＥＴ上にそれぞれの原料組成物を塗布し、１〜３μｍの厚さの硬化膜にし、ＰＥＴの塗布しなかった面（裏面）に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮＯ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから各硬化膜の平均反射率を測定した。ポリエステル基材の屈折率は、測定面とは反対面に同様に黒ビニールテープを貼ってから測定を行った。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２
また、光学積層体となった後に光学機能層の屈折率を測定する方法としては、各層の硬化膜をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体又は粒状の透明材料用）に従ったベッケ法を用いることができる。なお、上記ベッケ法とは、屈折率が既知のカーギル試薬を用い、上記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線；ベッケ線が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法である。
ポリエステル基材の場合は、方向によって屈折率が異なるので、ベッケ法ではなく、光学機能層の処理面に上記黒ビニールテープを貼ることで、平均反射率を測定し求めることができる。
なお、本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。一方、上記Δｎは、０．２５以下であることが好ましい。０．２５を超えると、ポリエステル基材として、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２０である。Δｎが０．０７よりも小さいと、上述した充分なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得にくくなるためである。なお、上記Δｎが０．２０を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１５である。
なお、上記（ｎｘ）としては、１．６６〜１．７８であることが好ましく、より好ましい下限は１．６８、より好ましい上限は１．７３である。また、上記（ｎｙ）としては、１．５５〜１．６５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．６２である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、好適なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得ることができる。
上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２０である。Δｎが０．０７よりも小さいと、上述した充分なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得にくくなるためである。なお、上記Δｎが０．２０を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１５である。
なお、上記（ｎｘ）としては、１．６６〜１．７８であることが好ましく、より好ましい下限は１．６８、より好ましい上限は１．７３である。また、上記（ｎｙ）としては、１．５５〜１．６５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．６２である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、好適なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得ることができる。
なお、上記ポリエステル基材が後述するポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を原料とするＰＥＮ基材である場合、上記Δｎの範囲としては、好ましい下限が０．０５以上であり、好ましい上限が０．３０である。上記Δｎが０．０５未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。一方、上記Δｎが０．３０を超えると、ＰＥＮ基材として、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。上記ＰＥＮ基材である場合のΔｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２７である。Δｎが０．０７よりも小さいと、上述した充分なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得にくくなるためである。なお、上記Δｎが０．２７を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。また、耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記ＰＥＮ基材である場合のΔｎの更に好ましい上限は０．２５である。
なお、上記ＰＥＮ基材である場合の（ｎｘ）としては、１．７０〜１．９０であることが好ましく、より好ましい下限は１．７２、より好ましい上限は１．８８である。また、上記ＰＥＮ基材である場合の（ｎｙ）としては、１．５５〜１．７５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．７３である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、上記ＰＥＮ基材を用いて好適なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得ることができる。
なお、上記ＰＥＮ基材である場合の（ｎｘ）としては、１．７０〜１．９０であることが好ましく、より好ましい下限は１．７２、より好ましい上限は１．８８である。また、上記ＰＥＮ基材である場合の（ｎｙ）としては、１．５５〜１．７５であることが好ましく、より好ましい下限は１．５７、より好ましい上限は１．７３である。
上記ｎｘ及びｎｙが上記範囲にあり、かつ、上述したΔｎの関係を満たすことで、上記ＰＥＮ基材を用いて好適なニジムラ及び色味変化の抑制効果を得ることができる。
ここで、上述したニジムラの発生のみを抑制する場合、上記光透過性基材のリタデーションは３０００ｎｍ以上程度であればよいが、このようなリタデーションの光透過性基材では、色味変化を抑制することができない。しかしながら、本発明の光学積層体は、上記光透過性基材のリタデーションが５０００ｎｍ以上であるため、ニジムラの発生と色味変化とを好適に抑制することができる。
なお、本発明の光学積層体は、画像表示装置に設置した際、偏光サングラス越しに表示画面を観察しても色味変化が抑制されるが、具体的には、以下の方法で測定した色差Δｕ’ｖ’が、０．０３以下であることが好ましく、より好ましい上限は０．０１である。
すなわち、まず、液晶表示装置等の画像表示装置の偏光板の吸収軸に対して、本発明の光学積層体を、光透過性基材の遅相軸が４５°となるように設置する。
次に、偏光サングラスの吸収軸と上記偏光板の吸収軸とのなす角度が０°（パラレルニコル）となるときと９０°（クロスニコル）となるときの正面色味を、輝度計にて測定し、色差Δｕ’ｖ’を算出する。
なお、本発明の光学積層体は、画像表示装置に設置した際、偏光サングラス越しに表示画面を観察しても色味変化が抑制されるが、具体的には、以下の方法で測定した色差Δｕ’ｖ’が、０．０３以下であることが好ましく、より好ましい上限は０．０１である。
すなわち、まず、液晶表示装置等の画像表示装置の偏光板の吸収軸に対して、本発明の光学積層体を、光透過性基材の遅相軸が４５°となるように設置する。
次に、偏光サングラスの吸収軸と上記偏光板の吸収軸とのなす角度が０°（パラレルニコル）となるときと９０°（クロスニコル）となるときの正面色味を、輝度計にて測定し、色差Δｕ’ｖ’を算出する。
上記ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したリタデーションを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリエチレン−１，４−ナフタレート、ポリエチレン−１，５−ナフタレート、ポリエチレン−２，７−ナフタレート、ポリエチレン−２，３−ナフタレート）を例示することができる。
また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い液晶表示装置を作製することが可能な、光学積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
また、本発明において、上記ポリエステル基材に用いられるポリエステルとしては、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）も好適に用いられる。これは、ＰＥＮは、上記ＰＥＴと比較してΔｎが大きな材料であるため、ＰＥＮを原料としてなるポリエステル基材は、上記ＰＥＴを用いてなるポリエステル基材と比較して、厚みを約半分としてもニジムラの発生を好適に防止することができる。このため、ＰＥＮ基材と帯電防止層とを有する本発明の光学積層体は、近年薄膜化の進んでいるモバイル用途、特に偏光子の保護フィルムとして好適なものとなる。
また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い液晶表示装置を作製することが可能な、光学積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
また、本発明において、上記ポリエステル基材に用いられるポリエステルとしては、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）も好適に用いられる。これは、ＰＥＮは、上記ＰＥＴと比較してΔｎが大きな材料であるため、ＰＥＮを原料としてなるポリエステル基材は、上記ＰＥＴを用いてなるポリエステル基材と比較して、厚みを約半分としてもニジムラの発生を好適に防止することができる。このため、ＰＥＮ基材と帯電防止層とを有する本発明の光学積層体は、近年薄膜化の進んでいるモバイル用途、特に偏光子の保護フィルムとして好適なものとなる。
上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを５０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなり、リタデーションを５０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
上述した方法で作製したポリエステル基材のリタデーションを５０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステル基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。
上記ポリエステル基材の厚みとしては、４０〜５００μｍの範囲内であることが好ましい。４０μｍ未満であると、上記ポリエステル基材のリタデーションを５０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、５００μｍを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は５０μｍ、より好ましい上限は４００μｍであり、更に好ましい上限は３００μｍである。
ただし、上記ポリエステル基材がポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）基材の場合、その厚みとしては、１０〜４００μｍの範囲内であることが好ましい。１０μｍ未満であると、上記ＰＥＮ基材のリタデーションを５０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、４００μｍを超えると、ＰＥＮ基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ＰＥＮ基材の厚さのより好ましい下限は１５μｍ、より好ましい上限は２５０μｍであり、更に好ましい上限は１５０μｍである。本発明の光学積層体の薄膜化の観点から、上記ＰＥＮ基材の厚みのより好ましい範囲は、２０〜５０μｍである。
ただし、上記ポリエステル基材がポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）基材の場合、その厚みとしては、１０〜４００μｍの範囲内であることが好ましい。１０μｍ未満であると、上記ＰＥＮ基材のリタデーションを５０００ｎｍ以上にできず、また、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、４００μｍを超えると、ＰＥＮ基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ＰＥＮ基材の厚さのより好ましい下限は１５μｍ、より好ましい上限は２５０μｍであり、更に好ましい上限は１５０μｍである。本発明の光学積層体の薄膜化の観点から、上記ＰＥＮ基材の厚みのより好ましい範囲は、２０〜５０μｍである。
また、上記ポリエステル基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
また、本発明において、上記ポリエステル基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。
本発明の光学積層体は、ポリエステル基材と帯電防止層との間にプライマー層を有してもよい。
上記プライマー層は、ポリエステル基材と帯電防止層の密着性向上を第一目的として設ける層である。その他の目的としては、屈折率を調整し、干渉縞を低減させることもできる。
上記プライマー層の材料としては特に限定されず、例えば、従来公知のものを適宜選択して用いてよいが、具体的には、熱硬化性又は熱可塑性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、これらの変性体等が挙げられる。また、上記プライマー層の屈折率を調整するために、高屈折率微粒子、キレート化合物等を添加することができる。
上記プライマー層は、ポリエステル基材と帯電防止層の密着性向上を第一目的として設ける層である。その他の目的としては、屈折率を調整し、干渉縞を低減させることもできる。
上記プライマー層の材料としては特に限定されず、例えば、従来公知のものを適宜選択して用いてよいが、具体的には、熱硬化性又は熱可塑性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、これらの変性体等が挙げられる。また、上記プライマー層の屈折率を調整するために、高屈折率微粒子、キレート化合物等を添加することができる。
上記ポリエステル樹脂としては、例えば、下記の多塩基酸成分とジオール成分とから得られるポリエステルを用いることができる。
上記多価塩基成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。
上記多価塩基成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸を例示することができる。
また、上記ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコールを例示することができる。
また、上記アクリル樹脂としては、例えば、以下に例示されるモノマーを共重合することで得られるものが挙げられる。
上記モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー；メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンである。
上記モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー；メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエンである。
また、上記ウレタン樹脂としては、例えば、ポリオール、ポリイソシアネート、鎖延長剤、架橋剤等で構成されるものが挙げられる。
上記ポリオールとしては、例えば、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエーテル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン等を含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カーボネート結合を有するポリカーボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。
上記ポリオールとしては、例えば、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエーテル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン等を含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カーボネート結合を有するポリカーボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。
また、上記ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
また、上記鎖延長剤あるいは架橋剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、水等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が１．６０〜２．８０の金属酸化物微粒子等が好適に用いられる。
上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径が１００ｎｍを超えると、上記プライマー層に光学散乱が発生し、透明性が悪くなることがあり、５ｎｍ未満であると微粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなって光学散乱が発生し、上記プライマー層の透明性が悪くなることがある。
これらの高屈折率微粒子の屈折率は、例えば、屈折率がわかっている熱可塑性の樹脂と、質量を測定した金属酸化物とを混合した後、適当な厚さの透明なペレットに成型し、このペレットの屈折率測定を行い、上記屈折率既知の樹脂との配合比から高屈折率微粒子の屈折率を算出できる。上記屈折率測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ａ法に従ったベッケ法によりアッベ屈折計により求めることができ、例えば、アタゴ社製ＤＲ−Ｍ４を用いることができる。なお、屈折率を測定する波長は５８９ｎｍとする。
また、上記平均１次粒子径は、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡観察による画像解析によって粒子２０個分の粒径の平均値として求めることができる。
上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径が１００ｎｍを超えると、上記プライマー層に光学散乱が発生し、透明性が悪くなることがあり、５ｎｍ未満であると微粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなって光学散乱が発生し、上記プライマー層の透明性が悪くなることがある。
これらの高屈折率微粒子の屈折率は、例えば、屈折率がわかっている熱可塑性の樹脂と、質量を測定した金属酸化物とを混合した後、適当な厚さの透明なペレットに成型し、このペレットの屈折率測定を行い、上記屈折率既知の樹脂との配合比から高屈折率微粒子の屈折率を算出できる。上記屈折率測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ａ法に従ったベッケ法によりアッベ屈折計により求めることができ、例えば、アタゴ社製ＤＲ−Ｍ４を用いることができる。なお、屈折率を測定する波長は５８９ｎｍとする。
また、上記平均１次粒子径は、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡観察による画像解析によって粒子２０個分の粒径の平均値として求めることができる。
また、上記キレート化合物としては、例えば、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物及び水溶性のジルコニウム化合物等が挙げられる。
上記水溶性のチタンキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジイソプロポキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。
また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、例えば、オキソチタンビス（モノアンモニウムオキサレート）等が挙げられる。
また、水溶性のジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。
上記水溶性のチタンキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジイソプロポキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。
また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、例えば、オキソチタンビス（モノアンモニウムオキサレート）等が挙げられる。
また、水溶性のジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。
上記プライマー層の厚さとしては、要求される性能に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、例えば、１０〜１０００ｎｍとすることができる。上記プライマー層の最大厚さは、５００ｎｍ以下であると本発明の光学積層体の鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に従う）が向上できるので好ましく、特に３００ｎｍ以下であると、例えば厚さ８００ｎｍのときにＨであったものが２Ｈになるなど、鉛筆硬度が明確に向上するので更に好ましい。
なお、上記プライマー層の厚みは、例えば、上記プライマー層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより、任意の１０点を測定して得られた平均値（ｎｍ）である。非常に薄い厚みの場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定する。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を２等分した中心部分を境界線として測定する。
なお、上記プライマー層の厚みは、例えば、上記プライマー層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより、任意の１０点を測定して得られた平均値（ｎｍ）である。非常に薄い厚みの場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定する。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を２等分した中心部分を境界線として測定する。
上記プライマー層は、上述した材料と、必要に応じて光重合開始剤及び他の成分とを溶媒中に混合分散させて調製したプライマー層用組成物を用いて形成することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
上記溶媒としては、水が好ましく用いられ、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。また、多少の有機溶媒を含んでもよい。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル）等が挙げられる。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル）等が挙げられる。
上記その他の成分としては特に限定されず、例えば、レベリング剤、有機又は無機微粒子、光重合開始剤、熱重合開始剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。
上記プライマー層用組成物は、総固形分が３〜２０％であることが好ましい。３％未満であると、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。２０％を超えると、プライマー層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出たり、所望の膜厚が得られないおそれがある。上記固形分は、４〜１０％であることがより好ましい。
上記プライマー層用組成物の上記ポリエステル基材への塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステル基材の製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステル基材に塗布することが好ましい。
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記プライマー層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び／又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記プライマー層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはプライマー層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
ここで、結晶配向が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記プライマー層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び／又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記プライマー層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはプライマー層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
上記プライマー層用組成物の塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独又は組合せて用いることができる。なお、塗膜は必要に応じポリエステル基材の片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
本発明の光学積層体は、上記帯電防止層の光透過性基材側と反対側の面上にハードコート層を有することが好ましい。
上記帯電防止層が上記ハードコート層と上記光透過基材との間に存在することとなり、本発明の光学積層体を、ハードコート性能に優れたものとすることができ、更に、耐久性試験後における表面抵抗値がより安定したものとすることができる。
上記帯電防止層が上記ハードコート層と上記光透過基材との間に存在することとなり、本発明の光学積層体を、ハードコート性能に優れたものとすることができ、更に、耐久性試験後における表面抵抗値がより安定したものとすることができる。
上記ハードコート層としては、導通微粒子、モノマー成分、樹脂成分及び紫外線吸収剤を含有するハードコート層形成用組成物を用いて形成されたものであり、上記樹脂成分としては、上述した帯電防止層に含有される樹脂成分が挙げられるが、上記ハードコート層用組成物に含まれる樹脂成分は、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種であることが好ましい。上記帯電防止層と同種の樹脂成分を含有することで、帯電防止層とハードコート層との密着性が優れたものとなる。
なお、上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種のものと、異なる種類の樹脂成分とを含有していてもよい。ただし、この場合、上記ハードコート層用組成物における樹脂成分の主成分（すなわち、全樹脂成分における５０質量％以上）が、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分であることが好ましい。
なお、上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種のものと、異なる種類の樹脂成分とを含有していてもよい。ただし、この場合、上記ハードコート層用組成物における樹脂成分の主成分（すなわち、全樹脂成分における５０質量％以上）が、上記帯電防止層に含有される樹脂成分と同種の樹脂成分であることが好ましい。
上記モノマー成分としては、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等を挙げることができる。
なお、本明細書において、モノマー成分とは、硬化性樹脂の前駆体を含むものであり、いわゆるオリゴマーも含む。
なお、本明細書において、モノマー成分とは、硬化性樹脂の前駆体を含むものであり、いわゆるオリゴマーも含む。
上記ハードコート層用組成物は、上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記樹脂成分として使用することができる。
上記導通微粒子は、本発明の光学積層体の帯電防止性能を担保するための微粒子であり、上記ハードコート層の表面と帯電防止層との間の導通を取る役割を果たす。
このような導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。
上記コーティング微粒子を構成する材料としては、例えば、上述した帯電防止層における導電性微粒子において説明したものと同様の材料が挙げられる。
このような導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。
上記コーティング微粒子を構成する材料としては、例えば、上述した帯電防止層における導電性微粒子において説明したものと同様の材料が挙げられる。
上記導通微粒子の平均粒子径としては、３〜１０μｍであることが好ましい。３μｍ未満であると、形成するハードコート層の厚みが薄くなり過ぎて、ハードコート性能が不充分となることがあり、一方、１０μｍを超えると、ハードコート層が厚くなり過ぎて透明性に劣ったり、導通微粒子が脱落したりする問題が生じることがある。上記導通微粒子の平均粒子径のより好ましい下限は４μｍ、より好ましい上限は７μｍである。
なお、上記導通微粒子は、ハードコート層の厚みと同等か、超える大きさであることが好ましい。すなわち、上記導通微粒子は、ハードコート層の表面付近に存在しているか、該表面から突出していることが好ましい。上記導通微粒子がハードコート層の厚みに対して小さすぎる場合、本発明の光学積層体の表面抵抗値が高くなり、帯電防止性能が劣ることとなることがある。具体的には、上記導通微粒子の平均粒子径は、ハードコート層の厚みに対して、０．８〜１．５倍であることが好ましい。０．８倍未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、１．５倍を超えると、上記導通微粒子がハードコート層から脱落することがある。
なお、上記導通微粒子は、ハードコート層の厚みと同等か、超える大きさであることが好ましい。すなわち、上記導通微粒子は、ハードコート層の表面付近に存在しているか、該表面から突出していることが好ましい。上記導通微粒子がハードコート層の厚みに対して小さすぎる場合、本発明の光学積層体の表面抵抗値が高くなり、帯電防止性能が劣ることとなることがある。具体的には、上記導通微粒子の平均粒子径は、ハードコート層の厚みに対して、０．８〜１．５倍であることが好ましい。０．８倍未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、１．５倍を超えると、上記導通微粒子がハードコート層から脱落することがある。
上記導通微粒子の含有量としては、上記ハードコート層における樹脂成分１００質量部に対して、０．５〜２．０質量部であることが好ましい。０．５質量部未満であると、本発明の光学積層体の帯電防止性能が不充分となることがあり、２．０質量部を超えると、形成するハードコート層がヘイジーに（濁度が高く）なり、光学的特性に劣るといった問題が生じることがあり、また、ハードコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出るおそれがあり、更に、ハードコート層のハードコート性能に劣ることがある。上記導通微粒子の含有量のより好ましい上限は１．５質量部である。
上記紫外線吸収剤は、本発明の光学積層体の耐光性を担保する役割を果たす材料である。すなわち、上記紫外線吸収剤を含有することで、本発明の光学積層体は、耐久性試験後においても表面抵抗値の変化を抑制することができる。
すなわち、上記ハードコート層中の紫外線吸収剤が、上記耐久性試験時に照射される紫外線を吸収することで、上記帯電防止層を構成する樹脂成分の紫外線による分解等の劣化反応を抑制し、帯電防止層中に含まれる導電性微粒子間の距離を維持することができ、その結果、本発明の光学積層体の耐久性が向上する。
なお、このような効果を奏するために、上記紫外線吸収剤は、上記ハードコート層の帯電防止層を保護できる位置に含有される。
すなわち、上記ハードコート層中の紫外線吸収剤が、上記耐久性試験時に照射される紫外線を吸収することで、上記帯電防止層を構成する樹脂成分の紫外線による分解等の劣化反応を抑制し、帯電防止層中に含まれる導電性微粒子間の距離を維持することができ、その結果、本発明の光学積層体の耐久性が向上する。
なお、このような効果を奏するために、上記紫外線吸収剤は、上記ハードコート層の帯電防止層を保護できる位置に含有される。
上記紫外線吸収剤としては特に限定されず、有機系又は無機系の紫外線吸収剤を用いることができる。なかでも、透明性に優れる有機系の紫外線吸収剤が好適に用いられる。
このような紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等の２’−ヒドロキシフェニル−５−クロロベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等の２’−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等の２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン等の２−ヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サルチル酸フェニル、４−ｔ−ブチル−フェニル−サリシレート等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤が挙げられる。なかでも、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。
その他に、ベンゾトリアゾール骨格にアクリロイル基又はメタクリロイル基を導入した反応型紫外線吸収剤等も用いられる。或いは、高い透明度を要求されない場合は、無機系紫外線吸収剤を添加することもできる。無機系紫外線吸収剤としては、粒径０．２μｍ以下の酸化チタン、酸化セリウム、酸化鉄等が用いられる。
このような紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−アミル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−イソブチル−５’−プロピルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等の２’−ヒドロキシフェニル−５−クロロベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等の２’−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等の２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン等の２−ヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サルチル酸フェニル、４−ｔ−ブチル−フェニル−サリシレート等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤が挙げられる。なかでも、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい。
その他に、ベンゾトリアゾール骨格にアクリロイル基又はメタクリロイル基を導入した反応型紫外線吸収剤等も用いられる。或いは、高い透明度を要求されない場合は、無機系紫外線吸収剤を添加することもできる。無機系紫外線吸収剤としては、粒径０．２μｍ以下の酸化チタン、酸化セリウム、酸化鉄等が用いられる。
上記紫外線吸収剤は、紫外線透過率が３８０ｎｍの透過率で２〜４０％であることが好ましい。２％未満であると、上記ハードコート層の硬化性が不充分となりハードコート性能に劣ることがあり、４０％を超えると、本発明の光学積層体の耐光性の経時変化が大きくなることがあり、また、本発明の光学積層体における各層の密着性が劣ることがある。なお、上記紫外線透過率は、光透過性基材、帯電防止層及びハードコート層を含む本発明の光学積層体を用いて、分光器により波長３８０ｎｍの紫外線の透過率を測定したことにより測定された値である。
また、上記紫外線吸収剤の含有量としては、使用する紫外線吸収剤の紫外線吸収能により上記紫外線透過率の範囲になるよう適宜決定されるが、例えば、上記紫外線吸収剤としてヒドロキシフェニルトリアジンを用いる場合、好ましくは、上記ハードコート層中３〜１５質量％である。
上記ハードコート層用組成物は、上記樹脂成分として熱硬化性樹脂を含有していてもよい。上記熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
上記ハードコート層用組成物は、更に、光重合開始剤を含有することが好ましい。
上記光重合開始剤としては、公知のものであれば特に限定されず、例えば、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。なかでも、アセトフェノン類であることが好ましい。
上記光重合開始剤としては、公知のものであれば特に限定されず、例えば、アセトフェノン類（例えば、商品名イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製の１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製の２−メチル−１〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モリフォリノプロパン−１−オン）、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。なかでも、アセトフェノン類であることが好ましい。
上記光重合開始剤の含有量は、ハードコート層用組成物中のモノマー成分１００質量部に対して、１〜７質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、光重合開始剤の量が不足し、硬化不足となるおそれがある。７質量部を超えると、光重合開始剤が過剰となり、過剰であることによる光重合反応の違いが生じ、かえって硬度不足を引き起こす、溶け残りによる欠点が生じる、といったおそれがある。
上記光重合開始剤の含有量は、上記モノマー成分１００質量部に対して２〜５質量部であることがより好ましい。
上記光重合開始剤の含有量は、上記モノマー成分１００質量部に対して２〜５質量部であることがより好ましい。
上記ハードコート層用組成物は、上述した成分以外に、必要に応じて他の成分を更に含んでいてもよい。
上記他の成分としては、熱重合開始剤、光安定化剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤、拡散剤、賦型剤及び防眩剤等を挙げることができる。これらは公知のものを使用することができる。
上記他の成分としては、熱重合開始剤、光安定化剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤、拡散剤、賦型剤及び防眩剤等を挙げることができる。これらは公知のものを使用することができる。
上記ハードコート層用組成物は、総固形分が２０〜４５％であることが好ましい。２０％より低いと、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。４５％を超えると、ハードコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出るおそれがある。上記固形分は、２０〜３０％であることがより好ましい。
上記ハードコート層用組成物は、上述の導通微粒子、モノマー成分、樹脂成分及び紫外線吸収剤、並びに、光重合開始剤等他の成分を溶媒中に混合分散させて調製することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
上記溶媒としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）等を挙げることができる。なかでも、帯電防止層への影響が少なく、モノマー、熱可塑性樹脂に対する溶解性が高いことから、メチルイソブチルケトンが好ましい。また、理由は不明であるが、ハードコート層表面にムラ等の塗工不良がでにくいことから、イソプロパノールを含有することが好ましい。
上記ハードコート層用組成物を、上記帯電防止層上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて乾燥させた後、上記塗膜を硬化させることでハードコート層を形成することができる。
上記ハードコート層用組成物を塗布して塗膜を形成する方法としては、例えば、スリットリバース法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の公知の各種方法を挙げることができる。
また、塗布量は、３〜１５ｇ／ｍ２であることが好ましい。３ｇ／ｍ２未満であると、所望の硬度のハードコート層が得られないおそれがある。１５ｇ／ｍ２を超えると、カールやダメージの防止が不充分となるおそれがある。上記塗布量は、４〜１０ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
上記乾燥の方法としては特に限定されないが、一般的に乾燥温度３０〜１００℃で、乾燥時間３〜１２０秒で行うとよい。上記乾燥温度が３０℃未満であると、本発明の光学積層体の製造に長時間を要し、また、製造コストが高くなることがある。一方、上記乾燥温度が１００℃を超えると、光透過性基材の平面性やハードコート層表面の均一性が劣化する問題がある。上記乾燥温度のより好ましい上限は７０℃である。
また、上記乾燥時間が３秒未満であると、形成するハードコート層と帯電防止層との密着性が劣ることがある。一方、上記乾燥時間が１２０秒を超えると、上記塗膜の乾燥に長時間を要し、製造コストが高くなることがある。
また、上記乾燥時間が３秒未満であると、形成するハードコート層と帯電防止層との密着性が劣ることがある。一方、上記乾燥時間が１２０秒を超えると、上記塗膜の乾燥に長時間を要し、製造コストが高くなることがある。
上記塗膜を硬化させる方法としては、上記ハードコート層用組成物の内容等に応じて公知の方法を適宜選択すればよいが、例えば、上記塗膜に紫外線を照射することにより硬化させる方法が挙げられる。
上記紫外線を照射する場合は、紫外線照射量が３０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であることがより好ましく、８０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが更に好ましい。
上記紫外線を照射する場合は、紫外線照射量が３０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ２以上であることがより好ましく、８０ｍＪ／ｃｍ２以上であることが更に好ましい。
上記ハードコート層は、層厚みが３〜１５μｍであることが好ましい。
上記膜厚が３μｍ未満であると、上記ハードコート層の硬度が不充分となるおそれがある。一方、上記膜厚が１５μｍを超えると、上記ハードコート層に残留溶剤が残ったり、上記塗膜の密着性が低下したり、カールやダメージの防止性が不充分となるおそれがある。上記ハードコート層の層厚みは、下限が３〜１０μｍであることがより好ましい。
上記層厚みは、ハードコート層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより測定して得られた値である。
上記膜厚が３μｍ未満であると、上記ハードコート層の硬度が不充分となるおそれがある。一方、上記膜厚が１５μｍを超えると、上記ハードコート層に残留溶剤が残ったり、上記塗膜の密着性が低下したり、カールやダメージの防止性が不充分となるおそれがある。上記ハードコート層の層厚みは、下限が３〜１０μｍであることがより好ましい。
上記層厚みは、ハードコート層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより測定して得られた値である。
上記ハードコート層は、硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、２Ｂ以上であることが好ましく、Ｂ以上であることがより好ましい。
本発明の光学積層体は、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。８５％未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、８８％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１に準拠した方法により測定することができる。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１に準拠した方法により測定することができる。
また、本発明の光学積層体は、ヘイズが２％以下であることが好ましい。２％を超えると、所望の光学特性が得られず、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性が低下する。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠した方法により測定することができる。
本発明の光学積層体は、また、本発明の効果が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層（防眩層、他の帯電防止層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、帯電防止層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠した方法により測定することができる。
本発明の光学積層体は、また、本発明の効果が損なわれない範囲内で、必要に応じて他の層（防眩層、他の帯電防止層、低屈折率層、防汚層、接着剤層、他のハードコート層等）の１層又は２層以上を適宜形成することができる。なかでも、防眩層、帯電防止層、低屈折率層及び防汚層のうち少なくとも一層を有することが好ましい。これらの層は、公知の反射防止用積層体と同様のものを採用することもできる。
本発明の光学積層体は、画像表示装置に用いることができ、このような本発明の光学積層体を用いてなる画像表示装置もまた、本発明の１つである。
上記画像表示装置としては、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等が挙げられる。
上記画像表示装置としては、例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等が挙げられる。
上記ＬＣＤは、バックライト光源と、液晶セルと、液晶セルの視認側に配した偏光板とを少なくとも有するものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、上記偏光板の視認側に本発明の光学積層体が形成されてなるものである。
上記バックライト光源としては特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましい。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明室コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
上記バックライト光源としては特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましい。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明室コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
本発明が上記光学積層体を有するＬＣＤの場合、光源装置の光源は光学積層体の下側（基材側）から照射される。なお、ＴＮモード、ＶＡモード、ＩＰＳモードの液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
上記ＰＤＰは、表面ガラス基板と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又は、その前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した光学積層体を備えるものでもある。
その他の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質等の発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴ等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。
本発明の光学積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、タッチパネル、電子ペーパー等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
本発明の光学積層体は、帯電防止層が導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものである。このため、耐久性試験後における表面抵抗値の安定性が優れたものとなる。また、上記帯電防止層上に導通微粒子、モノマー成分、帯電防止層と同種の樹脂成分及び紫外線吸収剤を含有する組成物を用いてなるハードコート層を有することで、本発明の光学積層体にハードコート性能を付与することができるとともに、構成する各層間の密着性が優れたものとなり、耐久性試験前後における表面抵抗値の変化が少ないものとなる。
このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等に好適に使用することができる。
このため、本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等に好適に使用することができる。
以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。
（実施例１）
（帯電防止層の形成）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体を固形分で２８．０質量部と水７２．０質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、Δｎ＝０．１０の光透過性基材を作製した。
次いで、ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、固形分２５％、ＭＩＢＫ溶液、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）をプロピレングリコールモノメチルエーテル中に溶解させ、Ｖ３５６０（ＡＴＯ分散液：平均粒子径８ｎｍ、日揮触媒化成社製）を添加して攪拌し、最終固形分８％、熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：２００（質量比）となるよう調整し、帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を作製した光透過性基材の一方の面上に、スリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが０．３μｍとなるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させ帯電防止層を形成した。
（帯電防止層の形成）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。
この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率４．５倍に延伸した後、片側にポリエステル樹脂の水分散体を固形分で２８．０質量部と水７２．０質量部とからなるプライマー層用樹脂組成物を、ロールコーターにて均一に塗布した。
次いで、この塗布フィルムを９５℃で乾燥し、先の延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率１．５倍にて延伸を行い、リタデーション＝１００００ｎｍ、膜厚＝１００μｍ、Δｎ＝０．１０の光透過性基材を作製した。
次いで、ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、固形分２５％、ＭＩＢＫ溶液、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）をプロピレングリコールモノメチルエーテル中に溶解させ、Ｖ３５６０（ＡＴＯ分散液：平均粒子径８ｎｍ、日揮触媒化成社製）を添加して攪拌し、最終固形分８％、熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：２００（質量比）となるよう調整し、帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を作製した光透過性基材の一方の面上に、スリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが０．３μｍとなるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させ帯電防止層を形成した。
（ハードコート層の形成）
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）／イソプロパノール（ＩＰＡ）の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が２５質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）とＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂：ＤＮＰファインケミカル社製）を樹脂成分の質量比率で７０：３０となるよう添加し、レベリング剤として１０−３０１（ＴＬ）（大日精化工業社製）を樹脂成分１００質量部に対して０．２質量部となるよう添加し攪拌した。この溶液にブライト分散液（導電性微粒子分散液、ＤＮＰファインケミカル社製、平均粒子径４．６μｍ、固形分２５％）を最終組成物であるハードコート層用組成物１２ｋｇに対して１００ｇ添加して攪拌を行い、最後に紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩ４７７：ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂１００質量部に対して６質量部となるよう添加して攪拌し、総固形分２５％のハードコート層用組成物を得た。
このハードコート層用組成物を先に形成した帯電防止層の上にスリットリバースコートにより、乾燥塗布量６ｇ／ｍ２となるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量８０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を形成し光学積層体を得た。
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）／イソプロパノール（ＩＰＡ）の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が２５質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）とＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂：ＤＮＰファインケミカル社製）を樹脂成分の質量比率で７０：３０となるよう添加し、レベリング剤として１０−３０１（ＴＬ）（大日精化工業社製）を樹脂成分１００質量部に対して０．２質量部となるよう添加し攪拌した。この溶液にブライト分散液（導電性微粒子分散液、ＤＮＰファインケミカル社製、平均粒子径４．６μｍ、固形分２５％）を最終組成物であるハードコート層用組成物１２ｋｇに対して１００ｇ添加して攪拌を行い、最後に紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩ４７７：ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂１００質量部に対して６質量部となるよう添加して攪拌し、総固形分２５％のハードコート層用組成物を得た。
このハードコート層用組成物を先に形成した帯電防止層の上にスリットリバースコートにより、乾燥塗布量６ｇ／ｍ２となるように塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量８０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み５μｍのハードコート層を形成し光学積層体を得た。
（実施例２）
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を３質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を３質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例３）
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を１０質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を１０質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例４）
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を１５質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
ハードコート層用組成物における紫外線吸収剤の配合量を１５質量部とした以外は、実施例１と同様にして光学積層体を得た。
（実施例５）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量５万、ガラス転移温度１００℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量５万、ガラス転移温度１００℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例６）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量１０万、ガラス転移温度１００℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量１０万、ガラス転移温度１００℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例７）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度８０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度８０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例８）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１１０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１１０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例９）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：１５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：１５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例１０）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：２５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：２５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例１１）
厚みを０．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
厚みを０．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例１２）
厚みを０．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
厚みを０．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例１３）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを４μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを４μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例１４）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを７μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを７μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（実施例１５）
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝７２００ｎｍ、膜厚＝８０μｍ、Δｎ＝０．０９の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝７２００ｎｍ、膜厚＝８０μｍ、Δｎ＝０．０９の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
（実施例１６）
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝５４００ｎｍ、膜厚＝６０μｍ、Δｎ＝０．０９の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝５４００ｎｍ、膜厚＝６０μｍ、Δｎ＝０．０９の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
（実施例１７）
光透過性基材の材料として、ポリエチレンナフタレート材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝１０１００ｎｍ、膜厚＝４８μｍ、Δｎ＝０．２１の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
光透過性基材の材料として、ポリエチレンナフタレート材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝１０１００ｎｍ、膜厚＝４８μｍ、Δｎ＝０．２１の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
（実施例１８）
光透過性基材の材料として、ポリエチレンナフタレート材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝５５００ｎｍ、膜厚＝２６μｍ、Δｎ＝０．２１の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
光透過性基材の材料として、ポリエチレンナフタレート材料を用いた以外は、実施例１と同様にして、未延伸フィルムを作製した。得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝５５００ｎｍ、膜厚＝２６μｍ、Δｎ＝０．２１の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を得た。
（比較例１）
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が２５質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を添加し攪拌した。この溶液に硬化後のＰＥＴＡ：ＡＴＯが１００：２００となるようにＡＴＯを添加して攪拌し、総固形分２５％の帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を実施例１と同様にして作製した光透過性基材にスリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが０．３μｍとなるように塗布した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量８０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して塗膜を硬化させて帯電防止層を形成した。
その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が２５質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を添加し攪拌した。この溶液に硬化後のＰＥＴＡ：ＡＴＯが１００：２００となるようにＡＴＯを添加して攪拌し、総固形分２５％の帯電防止層用組成物を得た。
この帯電防止層用組成物を実施例１と同様にして作製した光透過性基材にスリットリバースコートにより、乾燥塗布厚みが０．３μｍとなるように塗布した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量８０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して塗膜を硬化させて帯電防止層を形成した。
その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（比較例２）
ＰＥＴＡに代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＰＥＴＡに代えて、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（比較例３）
ＰＥＴＡに代えて、１，６−ヘキサンジオール（ＨＤＤＡ）を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＰＥＴＡに代えて、１，６−ヘキサンジオール（ＨＤＤＡ）を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（比較例４）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、荒川化学社製）を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、ウレタンアクリレート（ＢＳ５７７、荒川化学社製）を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（比較例５）
ＰＥＴＡに代えて、ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫとＰＥＴＡとを樹脂比率１：１（質量比）で混合した樹脂を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＰＥＴＡに代えて、ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫとＰＥＴＡとを樹脂比率１：１（質量比）で混合した樹脂を用いた以外は比較例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（比較例６）
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝４０００ｎｍ、膜厚＝４０μｍ、Δｎ＝０．１０の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝４０００ｎｍ、膜厚＝４０μｍ、Δｎ＝０．１０の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。
（比較例７）
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝２７００ｎｍ、膜厚＝３０μｍ、Δｎ＝０．０９の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。
実施例１と同様にして得られた未延伸フィルムの延伸倍率を調整して、リタデーション＝２７００ｎｍ、膜厚＝３０μｍ、Δｎ＝０．０９の光透過性基材を得た。得られた光透過性基材を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。
（参考例１）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤を添加しなかった以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例２）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤の配合量を１６質量部とした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、紫外線吸収剤の配合量を１６質量部とした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例３）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量１万、ガラス転移温度１１０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量１万、ガラス転移温度１１０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例４）
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度７０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
ＨＲＡＧアクリル（２５）ＭＩＢＫ（熱可塑性樹脂、重量平均分子量７万、ガラス転移温度１００℃：ＤＮＰファインケミカル社製）に代えて、重量平均分子量７万、ガラス転移温度７０℃の熱可塑性樹脂を用いた以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例５）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例６）
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：３５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
熱可塑性樹脂：ＡＴＯの比率が１００：３５０（質量比）となるよう調整した以外は実施例１と同様にして帯電防止層を形成した。その後、総固形分２６％とした以外は実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例７）
厚みを０．０９μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
厚みを０．０９μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例８）
厚みを１．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
厚みを１．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例９）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを２μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを２μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
（参考例１０）
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを１２μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例１と同様にして帯電防止層を形成し、その後、厚みを１２μｍとした以外は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成して光学積層体を得た。
実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体について、以下の評価を行った。
各評価は、光学積層体の製造直後（初期性能）、耐久性試験（１）（８０℃環境で５００時間保持）後、及び、耐久性試験（２）（キセノンアーク３００時間照射）後にそれぞれ行った。なお、耐久性試験（１）及び（２）後の光学積層体の抵抗値については、製造直後（初期性能）に対する変化率（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）を算出した。実施例に係る結果を表１に示し、比較例及び参考例に係る結果を表２に示した。
各評価は、光学積層体の製造直後（初期性能）、耐久性試験（１）（８０℃環境で５００時間保持）後、及び、耐久性試験（２）（キセノンアーク３００時間照射）後にそれぞれ行った。なお、耐久性試験（１）及び（２）後の光学積層体の抵抗値については、製造直後（初期性能）に対する変化率（試験後の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値）を算出した。実施例に係る結果を表１に示し、比較例及び参考例に係る結果を表２に示した。
（全光線透過率、ヘイズ）
各光学積層体の透過率（全光線透過率）及びヘイズを、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１（全光線透過率）に準拠した方法により測定した。
各光学積層体の透過率（全光線透過率）及びヘイズを、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所社製、製品番号：ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１（全光線透過率）に準拠した方法により測定した。
（抵抗値）
各光学積層体の表面抵抗値を、ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０（三菱化学社製：Ｒプローブ、印加電圧５００Ｖ）を用いて測定した（単位Ω／□）。
各光学積層体の表面抵抗値を、ハイレスタＵＰ ＭＣＰ−ＨＴ４５０（三菱化学社製：Ｒプローブ、印加電圧５００Ｖ）を用いて測定した（単位Ω／□）。
（密着性）
各光学積層体にクロスカット碁盤目試験を行い、元のカット部数（１００）に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比について、下記の基準にて評価した。
○：９０／１００〜１００／１００
△：５０／１００〜８９／１００
×：０／１００〜４９／１００
各光学積層体にクロスカット碁盤目試験を行い、元のカット部数（１００）に対するテープを剥がした後に基材上に残存したカット部数の比について、下記の基準にて評価した。
○：９０／１００〜１００／１００
△：５０／１００〜８９／１００
×：０／１００〜４９／１００
（鉛筆硬度）
各光学積層体を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ６００６に規定する試験用鉛筆（硬度２Ｂ〜３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。
各光学積層体を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ６００６に規定する試験用鉛筆（硬度２Ｂ〜３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定する鉛筆硬度評価方法に従い、４．９Ｎの荷重にて、ハードコート層が形成された表面の鉛筆硬度を測定した。
また、実施例、比較例及び参考例で得られた光学積層体について、更に、以下の評価を行った。
（ニジムラ評価）
各光学積層体を、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光板上に粘着をかいして配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
図１に、使用した液晶モニターのバックライト光源の発光スペクトルを示す。
◎：ニジムラが観測されない
○：ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
×：ニジムラが強く観測される
（ニジムラ評価）
各光学積層体を、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光板上に粘着をかいして配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から目視及び偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。偏光サングラス越しの観察は、目視よりも非常に厳しい評価法である。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。
図１に、使用した液晶モニターのバックライト光源の発光スペクトルを示す。
◎：ニジムラが観測されない
○：ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
×：ニジムラが強く観測される
（色味変化評価）
各光学積層体を、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光板上に粘着を介して配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所にて、液晶モニターを白表示とし、偏光サングラス吸収軸と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が０度（パラレルニコル）となる時と、９０度（クロスニコル）となる時の正面色味を、輝度計ＢＭ−５（トプコン社製）にて測定し、色差Δｕ’ｖ’を算出した。同時に、１０人で観察を行い、下記の基準に従い、評価した。最多数の評価を観察結果としている。
◎：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がない。
色差Δｕ’ｖ ’＜０．０１
○：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差が少しあるが、実使用上問題ない。
０．０１≦色差Δｕ’ｖ ’≦０．０３
×：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がある。
色差Δｕ’ｖ ’＞０．０３
各光学積層体を、液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光板上に粘着を介して配置し、液晶表示装置を作製した。なお、ポリエステル基材の遅相軸と液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所にて、液晶モニターを白表示とし、偏光サングラス吸収軸と液晶モニターの観測者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が０度（パラレルニコル）となる時と、９０度（クロスニコル）となる時の正面色味を、輝度計ＢＭ−５（トプコン社製）にて測定し、色差Δｕ’ｖ’を算出した。同時に、１０人で観察を行い、下記の基準に従い、評価した。最多数の評価を観察結果としている。
◎：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がない。
色差Δｕ’ｖ ’＜０．０１
○：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差が少しあるが、実使用上問題ない。
０．０１≦色差Δｕ’ｖ ’≦０．０３
×：パラレルニコル時とクロスニコル時の色差がある。
色差Δｕ’ｖ ’＞０．０３
表１に示したように、実施例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率は小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものであった。また、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価にも優れるものであった。更に、ニジムラ及び色味変化の評価にも優れるものであった。
これに対し、表２に示したように、比較例に係る光学積層体は、耐久性試験（２）の前後で表面抵抗値の変化率が大きく、帯電防止性能の安定性に劣るものであった。また、比較例６、７に係る光学積層体は、ニジムラ及び色味変化の評価に劣るものであった。
また、帯電防止層における導電性微粒子の配合量の少なかった参考例５に係る光学積層体、帯電防止層の厚みが薄すぎた参考例７に係る光学積層体、及び、ハードコート層の厚みが厚すぎた参考例１０に係る光学積層体は、表面抵抗値が高すぎて帯電防止性が不充分であった。また、その他の参考例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率が小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものの、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価のいずれもが優れるものはなかった。
これに対し、表２に示したように、比較例に係る光学積層体は、耐久性試験（２）の前後で表面抵抗値の変化率が大きく、帯電防止性能の安定性に劣るものであった。また、比較例６、７に係る光学積層体は、ニジムラ及び色味変化の評価に劣るものであった。
また、帯電防止層における導電性微粒子の配合量の少なかった参考例５に係る光学積層体、帯電防止層の厚みが薄すぎた参考例７に係る光学積層体、及び、ハードコート層の厚みが厚すぎた参考例１０に係る光学積層体は、表面抵抗値が高すぎて帯電防止性が不充分であった。また、その他の参考例に係る光学積層体は、耐久性試験の前後で表面抵抗値の変化率が小さく、帯電防止性能の安定性が極めて高いものの、ヘイズ、全光線透過率、密着性及び鉛筆硬度の各評価のいずれもが優れるものはなかった。
本発明の光学積層体は、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、電子ペーパー、タブレットＰＣ等に好適に使用することができる。
Claims (6)
- 面内に複屈折率を有する光透過性基材の一方の面上に帯電防止層を有する光学積層体であって、
前記帯電防止層は、導電性微粒子と樹脂成分と溶剤とを含有する帯電防止層用組成物を用いて形成されたものであり、
前記樹脂成分は、分子中に反応性官能基を有さず、かつ、前記溶剤に対する溶解性と前記導電性微粒子に対する相溶性とを有し、
前記光透過性基材は、リタデーションが５０００ｎｍ以上であり、
前記導電性微粒子は、鎖状又は針状である
ことを特徴とする光学積層体。 - 樹脂成分は、重量平均分子量が２万〜２０万であり、ガラス転移温度が８０〜１２０℃である請求項１記載の光学積層体。
- 樹脂成分は、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン及びＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種である請求項１又は２記載の光学積層体。
- 導電性微粒子は、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）であり、樹脂成分は、ポリメチルメタクリレートであり、溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルである請求項１、２又は３記載の光学積層体。
- 帯電防止層の光透過性基材側と反対側の面上にハードコート層を有する請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
- 請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013002768A JP6135134B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-01-10 | 光学積層体及び画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012127447 | 2012-06-04 | ||
| JP2012127447 | 2012-06-04 | ||
| JP2013002768A JP6135134B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-01-10 | 光学積層体及び画像表示装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017088076A Division JP2017194687A (ja) | 2012-06-04 | 2017-04-27 | 光学積層体及び画像表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014013367A JP2014013367A (ja) | 2014-01-23 |
| JP6135134B2 true JP6135134B2 (ja) | 2017-05-31 |
Family
ID=50109069
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013002768A Active JP6135134B2 (ja) | 2012-06-04 | 2013-01-10 | 光学積層体及び画像表示装置 |
| JP2017088076A Pending JP2017194687A (ja) | 2012-06-04 | 2017-04-27 | 光学積層体及び画像表示装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017088076A Pending JP2017194687A (ja) | 2012-06-04 | 2017-04-27 | 光学積層体及び画像表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP6135134B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4888853B2 (ja) | 2009-11-12 | 2012-02-29 | 学校法人慶應義塾 | 液晶表示装置の視認性改善方法、及びそれを用いた液晶表示装置 |
| CN107656332B (zh) | 2010-06-22 | 2021-10-15 | 东洋纺株式会社 | 液晶显示装置、偏振板及偏振片保护膜 |
| JP6180113B2 (ja) | 2011-05-18 | 2017-08-16 | 東洋紡株式会社 | 三次元画像表示対応液晶表示装置に適した偏光板及び液晶表示装置 |
| US10180597B2 (en) | 2011-05-18 | 2019-01-15 | Toyobo Co., Ltd. | Liquid crystal display device, polarizing plate, and polarizer protection film |
| JP6197360B2 (ja) * | 2013-05-16 | 2017-09-20 | 東洋紡株式会社 | 画像表示装置 |
| JP6645005B2 (ja) * | 2014-08-11 | 2020-02-12 | 東洋紡株式会社 | 偏光子保護フィルム、偏光板、それを用いた液晶表示装置 |
| WO2019004160A1 (ja) * | 2017-06-26 | 2019-01-03 | 大日本印刷株式会社 | 調光部材、サンバイザ及び移動体 |
| CN110033799A (zh) | 2018-01-12 | 2019-07-19 | 三星电子株式会社 | 基于屏障命令按顺序存储数据的存储设备 |
| JP7082021B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2022-06-07 | 住友化学株式会社 | 偏光フィルム及びその製造方法 |
| CN116917126A (zh) * | 2021-03-11 | 2023-10-20 | 大日本印刷株式会社 | 显示装置用层积体和显示装置 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5427835A (en) * | 1992-06-04 | 1995-06-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Sulfopolymer/vanadium oxide antistatic compositions |
| JP3518677B2 (ja) * | 1999-01-27 | 2004-04-12 | 東洋紡績株式会社 | 表面保護フィルム |
| JP2000352620A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-12-19 | Konica Corp | 光学フィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
| JP4081964B2 (ja) * | 1999-07-08 | 2008-04-30 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法 |
| JP4190337B2 (ja) * | 2003-04-15 | 2008-12-03 | 大日本印刷株式会社 | 低反射フィルム |
| JP4810155B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2011-11-09 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法並びに偏光板及び画像表示装置 |
| JP2006308880A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Konica Minolta Opto Inc | 透明帯電防止フィルム、反射防止フィルム、偏光板及び表示装置 |
| TW200712579A (en) * | 2005-08-12 | 2007-04-01 | Dainippon Printing Co Ltd | Protective film for polarizing plate and polarizing plate |
| JP2008090067A (ja) * | 2006-10-03 | 2008-04-17 | Bridgestone Corp | 反射防止フィルム及びディスプレイ用フィルター並びにプラズマディスプレイパネル |
| JP5082456B2 (ja) * | 2007-01-16 | 2012-11-28 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
| US20080284950A1 (en) * | 2007-04-02 | 2008-11-20 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Composition, single layer, member or laminate for realizing an antistatic (and hardcoat) features |
| CN106932964B (zh) * | 2008-03-31 | 2020-09-29 | 3M创新有限公司 | 光学膜 |
| JP2010032655A (ja) * | 2008-07-26 | 2010-02-12 | Konica Minolta Opto Inc | 位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置および位相差フィルムの製造方法 |
| JP5476843B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-04-23 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板及び画像表示装置 |
| JP5380211B2 (ja) * | 2009-09-02 | 2014-01-08 | 富士フイルム株式会社 | 帯電防止層を有する光学フィルム、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置 |
| WO2013099658A1 (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-04 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体及び画像表示装置 |
-
2013
- 2013-01-10 JP JP2013002768A patent/JP6135134B2/ja active Active
-
2017
- 2017-04-27 JP JP2017088076A patent/JP2017194687A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014013367A (ja) | 2014-01-23 |
| JP2017194687A (ja) | 2017-10-26 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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