TWI514425B - Intermediate substrate film and touch panel sensor - Google Patents

Intermediate substrate film and touch panel sensor Download PDF

Info

Publication number
TWI514425B
TWI514425B TW103134006A TW103134006A TWI514425B TW I514425 B TWI514425 B TW I514425B TW 103134006 A TW103134006 A TW 103134006A TW 103134006 A TW103134006 A TW 103134006A TW I514425 B TWI514425 B TW I514425B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
refractive index
layer
film
less
index layer
Prior art date
Application number
TW103134006A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201517067A (zh
Inventor
Koujirou Ookawa
Takashi Kuroda
Original Assignee
Dainippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Printing Co Ltd filed Critical Dainippon Printing Co Ltd
Publication of TW201517067A publication Critical patent/TW201517067A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI514425B publication Critical patent/TWI514425B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24851—Intermediate layer is discontinuous or differential
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick

Description

中間基材薄膜及觸控面板感測器
本發明係關於中間基材薄膜及觸控面板感測器。
目前已廣泛使用觸控面板裝置作為輸入手段。觸控面板裝置具備觸控面板感測器、檢測出在觸控面板上之接觸位置之控制電路、配線及FPC(可撓性印刷基材)。觸控面板裝置大多數情況下與顯示裝置一起作為對於組裝有液晶顯示器或電漿顯示器等顯示裝置之各種裝置等(例如，售票機、ATM裝置、行動電話、遊戲機)之輸入手段。該裝置中，觸控面板感測器係配置於顯示裝置之顯示面上，因此，可對顯示裝置極為直接的輸入。
觸控面板裝置係基於檢測出觸控面板上之接觸位置(接近位置)之原理，而區分成各種形式。目前，基於光學上明亮、具有設計性、容易構造、功能亦優異等之理由，以靜電電容方式之觸控面板裝置較受矚目。靜電電容方式有表面型與投影型，但就適於對多點觸控之辨識(多點辨識)之對應而言，以投影型較受矚目。
作為投影型靜電電容方式之觸控面板所用之觸控面板感測器，有具備中間基材薄膜與形成於中間基材薄膜上之透明導電層者(參照例如日本特開2011-98563號公報)。
目前，觸控面板裝置已朝大面積化進展，但隨著觸控面板裝置之大面積化進展，由於畫面尺寸變大，故根據辨識觸控面板裝置之場所而有辨識角度大為不同之傾向。觸控面板裝置所用之觸控面板感測器之中間基材薄膜係以由正面辨識為前提而設計，但如此以自正面辨識為前提之設計思想會有因辨識角度而使色調偏差，故有無法對應於觸控面板裝置之大面積化之虞。
本發明係為解決上述課題而完成者。亦即，本發明之目的係提供一種自各種角度辨識時可抑制色調偏差之中間基材薄膜及觸控面板感測器。
依據本發明之一樣態係提供一種中間基材薄膜，其係支撐經圖型化之導電層用之中間基材薄膜，其具備：透明基材；層合於前述透明基材之一面上，折射率為1.47以上且1.57以下，且膜厚為1μm以上之第1透明層；層合於前述第1透明層上，折射率為1.62以上且 1.72以下，且膜厚為20nm以上且80nm以下之第1高折射率層；及層合於前述第1高折射率層上，折射率為1.44以上且1.54以下，且膜厚為3nm以上且45nm以下之第1低折射率層，將前述中間基材薄膜之表面之法線方向設為0°，在0°以上且75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度邊自前述第1低折射率層側對前述中間基材薄膜照射光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差異1.6以內。
上述中間基材薄膜亦可進一步具備：層合於前述透明基材之與前述一面相反側之面上，折射率為1.47以上且1.57以下，且膜厚為1μm以上之第2透明層；層合於前述第2透明層上，折射率為1.62以上且1.72以下，且膜厚為20nm以上且80nm以下之第2高折射率層；及層合於前述第2高折射率層上，折射率為1.44以上且1.54以下，且膜厚為3nm以上且45nm以下之第2低折射率層。
依據本發明之另一樣態，係提供一種觸控面板感測器，其具備上述中間基材薄膜，及層合於前述中間基材薄膜之前述第1低折射率層上且經圖型化之第1導電層。
依據本發明之另一樣態，係提供一種觸控面板感測器，其具備上述中間基材薄膜、層合於前述中間基材薄膜之前述第1低折射率層上且經圖型化之第1導電 層、及層合於前述中間基材薄膜之前述第2低折射率層上且經圖型化之第2導電層。
依據本發明之一樣態之中間基材薄膜及觸控面板感測器，可抑制自各角度辨識時之色調偏差。
10、60‧‧‧中間基材薄膜
11‧‧‧透明基材
11A；11B‧‧‧面
12‧‧‧第1透明層
13‧‧‧第1高折射率層
14‧‧‧第1低折射率層
15‧‧‧第2透明層
20、50、80‧‧‧觸控面板感測器
31、51、71‧‧‧第1導電層
41、52、72‧‧‧第2導電層
53‧‧‧透明黏著層
54‧‧‧玻璃板
61‧‧‧第2高折射率層
62‧‧‧第2低折射率層
32、73‧‧‧第1透明黏著層
42、74‧‧‧第2透明黏著層
100‧‧‧分光光度計
101‧‧‧光源
102‧‧‧檢測器
圖1係第1實施形態之中間基材薄膜之概略構成圖。
圖2係顯示使用分光光度計，測定中間基材薄膜之a*及b*之狀態之示意圖。
圖3係第1實施形態之觸控面板感測器之概略構成圖。
圖4係圖3所示之第1導電層之一部分之平面圖。
圖5係圖3所示之第2導電層之一部分之平面圖。
圖6係第1實施形態之其他觸控面板感測器之概略構成圖。
圖7係第2實施形態之中間基材薄膜之概略構成圖。
圖8係第2實施形態之觸控面板感測器之概略構成圖。
 (第1實施形態)
以下，針對本發明第1實施形態之中間基材薄膜及觸控面板感測器，邊參照圖式邊加以說明。圖1係本實施形態之中間基材薄膜之概略構成圖，圖2係顯示中間基材薄膜之以分光反射率測定器測定分光反射率之狀態之示意圖。又，本說明書中，「薄膜」、「薄片」、「板」等用語僅基於稱呼上之差別，彼此並沒有區別。因此，例如「薄膜」為亦包含可稱為薄片或板之構件之概念。作為一具體例，「中間基材薄膜」亦包含稱為「中間基材薄片」等之構件。
《中間基材薄膜》
中間基材薄膜係用以支撐經圖型化之導電層者。所謂「中間基材薄膜」意指例如組裝於觸控面板等裝置中使用時，並非用於觸控面板等裝置之最表面者，而是用於觸控面板等裝置之內部之基材薄膜。
圖1所示之中間基材薄膜10具備：透明基材11、形成於透明基材11之一面11A上之第1透明層12、形成於第1透明層12上之第1高折射率層13、形成於高折射率層13上之第1低折射率層14、及形成於透明基材11之與其一面11A相反側之面11B上之第2透明層15。
中間基材薄膜10具備第2透明層15，但亦可不具備第2透明層15。且，中間基材薄膜亦可於第2透明層上具備第2高折射率層或第2低折射率層。具體而 言，中間基材薄膜除圖1所示之中間基材薄膜10以外，亦可為在透明基材之一面上依序設置第1透明層、第1高折射率層及第1低折射率層，且於透明基材之另一面上未設置第2透明層之中間基材薄膜，於透明基材之一面上依序設置第1透明層、第1高折射率層及第1低折射率層，且於透明基材之另一面上依序設置第2透明層及第2高折射率層之中間基材薄膜，及於透明基材之一面上依序設置第1透明層、第1高折射率層、及第1低折射率層，且於透明基材之另一面上依序設置第2透明層、第2高折射率層、及第2低折射率層之中間基材薄膜之任一種。
中間基材薄膜10中，將中間基材薄膜10之表面之法線方向設為0°，在0°以上且75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度邊自第1低折射率層14側對中間基材薄膜10照射可見光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。「L*a*b*表色系」、「a*」、及「b*」係依據JIS Z8729者。
a*值及b*值係依據JIS Z8722測定者，具體而言，可使用例如習知之分光光度計求出。圖3所示之分光光度計100具備可在0°以上且75°以下之範圍內移動之光源101，與以可使正反射方向之反射光受光之方式與光源之移動同步移動之檢測器102。光源101之移動角度可將中間基材薄膜10之法線方向N設為0°。自光源101對中間基材薄膜10照射光，以檢測器102受光正反射方向之 反射光，藉由該檢測器102自受光之反射光求出a*值及b*值。又，利用分光光度計，不易求出入射角度0°時之a*值及b*值時，亦可利用模擬求出入射角度0°時之a*值及b*值。分光光度計列舉為日本分光股份有限公司製之絕對反射率測定裝置VAR-7010或紫外可見光近紅外分光光度計V-7100等。至於光源列舉為鎢鹵素(WI)燈單體、或氘(D2)燈與鎢鹵素(WI)燈之併用。且，該測定中，隨著入射角變大，s偏光與p偏光之反射率差變大，因此為了正確地進行測定，較好使用透過軸傾斜45°之偏光器。
a*值與b*值之偏差可利用上述分光光度計，求出各入射角度之a*值及b*值，藉由算出其最大值與最小值之差之絕對值而求出。a*值之偏差較好在0.4以內，且b*值之偏差較好在1.55以內。
求出上述a*值及b*值之某角度之反射光，與求出上述a*值及b*值之其他角度之反射光之色差△E*ab較好為5以下。「△E*ab」係依據JIS Z8730者。
〈透明基材〉
透明基材11只要具有光透過性即無特別限制，列舉為例如聚烯烴基材、聚碳酸酯基材、聚丙烯酸酯基材、聚酯基材、芳香族聚醚酮基材、聚醚碸基材、或聚醯胺基材。
聚醯烴基材列舉為以例如聚乙烯、聚丙烯、 環狀聚烯烴基材等之至少1種作為構成成分之基材。環狀聚烯烴基材列舉為例如具有降冰片烯骨架者。
聚碳酸酯基材列舉為例如以雙酚類(雙酚A等)作為基底之芳香族聚碳酸酯基材、二乙二醇雙烯丙基碳酸酯等脂肪族聚碳酸酯基材等。
聚丙烯酸酯基材列舉為例如聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯基材、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物基材等。
聚酯基材列舉為例如以聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚對苯二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)之至少1種作為構成成分之基材。
芳香族聚醚酮基材列舉為例如聚醚醚酮(PEEK)基材等。
透明基材11之厚度並無特別限制，可為5μm以上300μm以下，透明基材11之厚度下限，基於處理性等之觀點，較好為25μm以上，更好為50μm以上。透明基材11之厚度上限，基於薄膜化之觀點，較好為250μm以下。
透明基材11之表面，為了提高接著性，除電暈放電處理、氧化處理等物理處理以外，亦可預先進行稱為投錨劑或底塗之塗料塗佈。投錨劑或底塗劑可使用例如聚胺基甲酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚乙酸乙烯酯系樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙烯酸樹 脂、聚乙烯醇系樹脂、聚乙烯乙縮醛樹脂、乙烯與乙酸乙烯酯或丙烯酸等之共聚物、乙烯與苯乙烯及/或丁二烯等之共聚物、烯烴樹脂等之熱可塑性樹脂及/或其改質樹脂、光聚合性化合物之聚合物、及環氧樹脂等之熱硬化性樹脂等之至少任一種。
〈第1透明層及第2透明層〉
本實施形態中之第1透明層12及第2透明層15較好具有硬塗覆性。第1透明層12及第2透明層15具有硬塗覆性時，第1透明層12及第2透明層15於以JIS K5600-5-4(1999)規定之鉛筆硬度試驗(4.9N荷重)時具有「H」以上之硬度。藉由使鉛筆硬度成為「H」以上，可於第1低折射率層14之表面充分反映第1透明層12之硬度，可提高耐久性。又，基於與第1透明層12上形成之第1高折射率層13之密著性、韌性及捲曲防止之觀點，第1透明層12之表面鉛筆硬度之上限較好為4H左右之程度。觸控面板感測器由於要求重複押壓之高度密著性及韌性，故藉由將第1透明層12之鉛筆硬度上限設為4H，在將中間基材薄膜10組裝於觸控面板感測器中使用時可發揮顯著效果。此外，於第1低折射率層14上形成導電層時隨著對中間基材薄膜之加熱，有時會發生因該加熱使寡聚物自透明基材析出而使中間基材薄膜之濁度上升之課題，但第1透明層12及第2透明層15可作為抑制寡聚物析出之層發揮功能。
第1透明層12之折射率為1.47以上且1.57以下。第1透明層12之折射率下限較好為1.50以上，且第1透明層12之折射率上限較好為1.54以下。此外，第2透明層15之折射率較好亦與第1透明層12設為相同之範圍。但，第2透明層15之折射率並無必要一定與第1透明層12之折射率一致。
第1透明層12及第2折射率層15之折射率可在形成單獨之層後，使用阿倍(Abbe)折射率計(Atago公司製之NAR-4T)或橢圓偏光儀測定。又，在作成中間基材薄膜10後測定折射率之方法，可以切割刀分別切取第1透明層12及第2折射率層15，製作粉末狀態之樣品，可使用根據JIS K7142(2008)B法(粉體或粒狀之透明材料用)之貝克(Becke)法(使用折射率已知之Cargill試藥，將前述粉末狀態之樣品置於蓋玻片上，將試藥滴加於該樣品上，以試藥浸漬樣品。以顯微鏡觀察該樣態，因樣品與試藥之折射率不同而於樣品輪廓產生亮線；將以目視無法觀察貝克線之試藥之折射率作為樣品之折射率之方法)。
第1透明層12之膜厚設為1.0μm以上。第1透明層12之厚度若為1.0μm以上，則可獲得期望之硬度。第1透明層12之膜厚可利用剖面顯微鏡觀察進行測定。第1透明層12之厚度下限更好為1.5μm以上，上限更好為7.0μm以下，第1透明層12之厚度又更好為2.0μm以上且5.0μm以下。第2透明層15之膜厚較好與 第1透明層12之膜厚為相同範圍。但，第2透明層15之膜厚並無必要一定與第1透明層15之膜厚一致。
第1透明層12及第2透明層15可由例如樹脂構成。樹脂為含光聚合性化合物之聚合物(交聯物)者。樹脂除了光聚合性化合物之聚合物(交聯物)外，亦可含溶劑乾燥型樹脂或熱硬化性樹脂。光聚合性化合物係具有至少1個光聚合性官能基者。本說明書中，所謂「光聚合性官能基」係可藉光照射而聚合反應之官能基。光聚合性官能基列舉為例如(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基等乙烯性雙鍵。又，所謂「(甲基)丙烯醯基」意指包含「丙烯醯基」及「甲基丙烯醯基」兩者。又，使光聚合性化合物聚合時所照射之光列舉為可見光、以及紫外線、X射線、電子束、α射線、β射線、及γ射線之電離輻射線。
光聚合性化合物列舉為光聚合性單體、光聚合性寡聚物、或光聚合性聚合物，該等可經適當調整而使用。光聚合性化合物較好為光聚合性單體與光聚合性寡聚物或與光聚合性聚合物之組合。
光聚合性單體
光聚合性單體係重量平均分子量未達1000者。光聚合性單體較好為具有2個(亦即2官能)以上之光聚合性官能基的多官能單體。本說明書中，「重量平均分子量」係藉由溶解於四氫呋喃(THF)等溶劑中，藉以往習知之 凝膠滲透層析(GPC)法經聚苯乙烯換算所得之值。
2官能以上之單體列舉為三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸三(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、雙酚二(甲基)丙烯酸酯、二丙三醇四(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基二(甲基)丙烯酸酯、異冰片基二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、或以PO、EO等使該等改質而成者。
該等中就獲得硬度高之硬塗層之觀點而言，以季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等較佳。
光聚合性寡聚物
光聚合性寡聚物為重量平均分子量1000以上且未達 10000者。光聚合性寡聚物較好為2官能以上之多官能寡聚物。多官能寡聚物列舉為聚酯(甲基)丙烯酸酯、胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
光聚合性聚合物
光聚合性聚合物為重量平均分子量10000以上者，至於重量平均分子量較好為10000以上且80000以下，更好為10000以上且40000以下。重量平均分子量超過80000時，由於黏度高而使塗佈適性下降，會有所得光學薄膜之外觀惡化之虞。上述多官能聚合物列舉為胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯等。
光聚合性化合物聚合(交聯)時亦可使用聚合起始劑。聚合起始劑係藉由光照射而分解，產生自由基而起始或進行光聚合性化合物之聚合(交聯)的成分。
聚合起始劑只要是可藉由光照射釋出開始自由基聚合之物質即無特別限制。聚合起始劑並無特別限制，可使用習知者，具體例列舉為例如苯乙酮類、二苯甲酮類、米氏苯甲醯基苯甲酸酯(Michler-Benzoyl benzoate)、α-戊基肟酯、噻噸酮類、苯丙酮類、聯苯醯類、苯偶因類、醯基氧化膦類。且，較好混合使用光增感 劑，其具體例列舉為例如正丁基胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
上述聚合起始劑在上述黏結劑樹脂為具有自由基聚合性不飽和基之樹脂系時，較好單獨或混合使用苯乙酮類、二苯甲酮類、噻噸酮類、苯偶因、苯偶因甲基醚等。
溶劑乾燥型樹脂係熱可塑性樹脂等之僅藉由使用以調整塗佈時之固體成分而添加之溶劑乾燥即可成為被膜之樹脂。添加溶劑乾燥型樹脂之情況，於形成防眩層12時，可有效防止塗液之塗佈面之被膜缺陷。溶劑乾燥型樹脂並無特別限制，一般可使用熱可塑性樹脂。
至於熱可塑性樹脂可列舉為例如苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、乙烯醚系樹脂、含鹵素之樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、纖維素衍生物、聚矽氧系樹脂及橡膠或彈性體等。
熱可塑性樹脂較好為非結晶性，且可溶於有機溶劑(尤其是可溶解複數種聚合物或硬化性化合物之共通溶劑)。尤其，就透明性或耐候性之觀點而言，以苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、脂環式烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素衍生物(纖維素酯類等)等較佳。
熱硬化性樹脂並無特別限制，可列舉為例如酚樹脂、脲樹脂、苯二甲酸二烯丙酯樹脂、三聚氰胺樹脂、胍胺樹脂、不飽合聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、環 氧樹脂、胺基醇酸樹脂、三聚氰胺-脲共縮合樹脂、矽樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
第1透明層12及第2透明層15可藉由於透明基材11之表面塗佈含上述光聚合性化合物之透明層用組成物，經乾燥後，對塗膜狀之透明層用組成物照射紫外線等之光，使光聚合性化合物聚合(交聯)而形成。
透明層用組成物中，除上述光聚合性化合物外，亦可視需要添加溶劑、聚合起始劑。再者，透明層用組成物中，根據提高第1透明層之硬度、抑制硬化收縮、控制折射率等之目的，亦可添加過去習知之分散劑、界面活性劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、增黏劑、抗著色劑、著色劑(顏料、染料)、消泡劑、調平劑、難燃劑、紫外線吸收劑、接著賦予劑、聚合抑制劑、抗氧化劑、表面改質劑、易滑劑等。
塗佈透明層用組成物之方法列舉為旋轉塗佈法、浸漬法、噴霧法、滑動塗佈法、棒塗佈法、輥塗佈法、凹版塗佈法、模嘴塗佈法等習知塗佈方法。
使用紫外線作為使透明層用組成物硬化時之光時，可利用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、氙弧燈、金屬鹵素燈等發出之紫外線等。且，紫外線之波長可使用190~380nm之波長區域。電子束源之具體例列舉為科克羅夫-瓦爾頓(Cockcroft-Walton)型、凡得克雷夫(van de Graaff)型、共振變壓器型、絕緣芯變壓器型、或直線型、高頻高壓加速(Dynamitron)型 、高頻型等之各種電子束加速器。
〈第1高折射率層〉
第1高折射率層13係具有比第1透明層12之折射率高的折射率之層。具體而言，第1高折射率層13之折射率為1.62以上且1.72以下。第1高折射率層13之折射率下限較好為1.65以上，第1高折射率層13之折射率上限較好為1.69以下。第1高折射率層13之折射率可藉與上述第1透明層12之折射率相同之方法測定。第1透明層12與第1高折射率層13之折射率差，基於進一步抑制色調偏差之觀點，較好為0.05以上且0.15以下。
第1高折射率層13之膜厚為20nm以上且80nm以下。第1高折射率層13之膜厚下限較好為40nm以上，第1高折射率層13之折射率上限較好為60nm以下。
第1高折射率層13及第1低折射率層14可作為用於減小設有導電層之區域與未設導電層之區域之間之光透過率及反射率之差的折射率匹配層(index matching layer)而發揮功能。
第1高折射率層13只要為具有上述折射率及上述膜厚者即無特別限制，但第1高折射率層13可由例如高折射率粒子與黏結劑樹脂構成。
上述高折射率粒子列舉為金屬氧化物微粒子。金屬氧化物微粒子具體列舉為例如氧化鈦(TiO2 ，折 射率：2.3~2.7)、氧化鈮(Nb2 O5 ，折射率：2.33)、氧化鋯(ZrO2 ，折射率：2.10)、氧化銻(Sb2 O5 ，折射率：2.04)、氧化錫(SnO2 ，折射率：2.00)、摻雜錫之氧化銦(ITO，折射率：1.95~2.00)、氧化鈰(CeO2 ，折射率：1.95)、摻雜鋁之氧化鋅(AZO，折射率：1.90~2.00)、摻雜鎵之氧化鋅(GZO，折射率：1.90~2.00)、銻酸鋅(ZnSb2 O6 ，折射率：1.90~2.00)、氧化鋅(ZnO，折射率：1.90)、氧化釔(Y2 O3 ，折射率：1.87)、摻雜銻之氧化錫(ATO，折射率：1.75~1.85)、摻雜磷之氧化錫(PTO，折射率：1.75~1.85)等。該等中，基於高折射率化及成本之觀點，以氧化鋯較佳。
第1高折射率層13中所含之黏結劑樹脂並無特別限制，亦可使用熱可塑性樹脂，但基於提高表面硬度之觀點，較好為熱硬化性樹脂或光聚合性化合物等之聚合物(交聯物)者，其中更好為光聚合性化合物之聚合物者。
熱硬化性樹脂列舉為丙烯酸樹脂、胺基甲酸酯樹脂、酚樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等之樹脂等。使熱硬化性樹脂硬化時，亦可使用硬化劑。
至於光聚合性化合物並無特別限制，但可使用光聚合性單體、寡聚物、聚合物。作為單官能之光聚合性單體列舉為(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基 己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯啶酮等。且，2官能以上之光聚合性單體列舉為例如聚羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、該等化合物經環氧乙烷、聚環氧乙烷等改質之化合物等。
且，該等化合物亦可為導入芳香族環、氟以外之鹵原子、硫、氮、磷原子等，提高折射率進行調整者。再者，除上述化合物外，亦可使用具有不飽和雙鍵之較低分子量之聚酯樹脂、聚醚樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、胺基甲酸酯樹脂、醇酸樹脂、螺乙縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂等。使光聚合性化合物聚合(交聯)時，亦可使用第1透明層及第2透明層之欄中說明之聚合起始劑。
第1高折射率層13可藉由例如與第1透明層12之形成方法相同之方法形成。具體而言，首先，於第1透明層12之表面塗佈至少含高折射率微粒子與光聚合性化合物之第1高折射率層用組成物。接著，使塗膜狀之第1高折射率層用組成物乾燥。隨後，對塗膜狀之透明層用組成物照射紫外線等之光，使光聚合性化合物聚合(交聯)，藉此可形成第1高折射率層13。
〈第1低折射率層〉
第1低折射率層14係具有比第1高折射率層13之折射率低的折射率之層。第1低折射率層只要具有比第1高折射率層之折射率低的折射率即可，未必具有比第1透明層之折射率低的折射率。具體而言，第1低折射率層14之折射率為1.44以上且1.54以下。第1低折射率層14之折射率下限較好為1.47以上，第1低折射率層14之折射率上限較好為1.51以下。第1低折射率層14之折射率可藉與上述第1透明層12之折射率相同之方法測定。第1高折射率層13與第1低折射率層14之折射率差，基於進一步抑制色調偏差之觀點，較好為0.10以上且0.22以下。
第1低折射率層14之膜厚為3nm以上且45nm以下。第1低折射率層14之膜厚下限較好為5nm以上，第1低折射率層14之膜厚上限較好為25nm以下。
第1低折射率層14只要具有上述折射率及上述膜厚者則無特別限制，但第1低折射率層14可由例如低折射率粒子與黏結劑樹脂構成、或由低折射率樹脂構成。
低折射率粒子列舉為例如由二氧化矽或氟化鎂所成之實心或中空粒子等。該等中，以中空二氧化矽粒子較佳，該中空二氧化矽粒子可藉例如日本特開2005-099778號公報之實施例所記載之製造方法製作。
低折射率微粒子較好使用於二氧化矽表面具有反應性官能基之反應性二氧化矽微粒子。反應性官能基較好為光聚合性官能基。該反應性二氧化矽微粒子可藉由以矽烷偶合劑等表面處理二氧化矽微粒子而製備。以矽烷偶合劑處理二氧化矽微粒子表面之方法列舉為將矽烷偶合劑噴佈於二氧化矽微粒子上之乾式法，或使二氧化矽微粒子分散於溶劑中後添加矽烷偶合劑進行反應之濕式法等。
構成第1低折射率層14之黏結劑樹脂列舉為與構成第1高折射率層13之黏結劑樹脂相同者。但，亦可於黏結劑樹脂中混合導入有氟原子而成之樹脂、或有機聚矽氧烷等之折射率低的材料。
低折射率樹脂列舉為導入有氟原子之樹脂或有機聚矽氧烷等之折射率低的樹脂。
第1低折射率層14可藉由例如與第1透明層12之形成方法相同之方法形成。具體而言，首先，於第1高折射率層13之表面塗佈至少含低折射率微粒子與光聚合性化合物之第1低折射率層用組成物。接著，使塗膜狀之第1低折射率層用組成物乾燥。隨後，對塗膜狀之第1低折射率層用組成物照射紫外線等之光，使光聚合性化合物聚合(交聯)，藉此可形成第1低折射率層14。
過去，中間基材薄膜之低折射率層等之折射率或膜厚主要係基於使中間基材薄膜之反射率與層合於中間基材薄膜上之導電層之反射率之差(反射率差)減小之觀點而決定，關於自各種角度辨識中間基材薄膜時之色調 偏差並未受到任何關注。另一方面，人眼對於色調之變化比對於上述反射率差更容易感受，且為了使中間基材薄膜與導電層之反射率差減小而增大高折射率層與低折射率層之折射率差時，會有色調偏差變大之傾向。本發明人等重複積極研究後，發現若調整中間基材薄膜之a*值及b*值，則可抑制色調偏差。具體而言，係藉由下述實驗而發現：由將中間基材薄膜表面之法線方向設為0°，且在0°以上75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角，邊自第1折射率層側對中間基材薄膜照射光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，若a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內，則觀察者自各方向觀察中間基材薄膜時，均不會辨識到色調偏差。且，於透明基材上，依序層合折射率為1.47以上且1.57以下且膜厚為1μm以上之第1透明層、折射率為1.62以上且1.72以下且膜厚為20nm以上且80nm以下之第1高折射率層、及折射率為1.44以上且1.54以下且膜厚為3nm以上且45nm以下之第1低折射率層時，發現可使上述中間基材薄膜中之a*值之偏差落在1.0以內，且使b*值之偏差落在1.6以內。依據本實施形態，由於將中間基材薄膜10表面之法線方向設為0°，且在0°以上75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角，邊自第1折射率層14側對中間基材薄膜10照射光，且由各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內，故可抑制自各角 度辨識基材薄膜10時之色調偏差。含有具有上述折射率及膜厚之第1透明層12、具有上述折射率及膜厚之第1高折射率層13、與具有上述折射率及膜厚之第1低折射率層14之中間基材薄膜10中，與導電層之反射率差雖在容許範圍內，但相較於過去之中間基材薄膜，與導電層之反射率差變大，故如以往般，基於減小中間基材薄膜與導電層之反射率差之觀點，係不被決定採用者。因此，藉由使第1透明層12、第1高折射率層13及第1低折射率層14之折射率及膜厚設在上述範圍內，且藉由使a*值及b*值落在上述範圍內而發揮之上述效果，按照過去之中間基材薄膜之技術水準，可謂為超過可預測範圍之顯著效果。又，上述中，雖使用0°以上且75°以下之範圍作為入射角度之範圍，但在5°以上且75°以下之範圍亦可確認上述效果。亦即，在5°以上且75°以下之範圍內邊每5度改變入射角邊自第1低折射率層14側對中間基材薄膜10照射光，且由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，若a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內，則可確認可抑制自各種角度辨識基材薄膜10時之色調偏差。
《觸控面板感測器》
中間基材薄膜10可例如組裝於觸控面板感測器中使用。圖3係組裝本實施形態之中間基材薄膜之觸控面板感測器之概略構成圖，圖4係圖3所示之第1導電層之一部 分之平面圖，圖5係圖3所示之第2導電層之一部分之平面圖。圖6係組裝本實施形態之中間基材薄膜之另一觸控面板感測器之概略構成圖。
圖3所示之觸控面板感測器20具有層合第1導電性薄膜30與第2導電性薄膜40之構造。第1導電性薄膜30具備中間基材薄膜10、支撐於中間基材薄膜10之經圖型化之第1導電層31、與設於中間基材薄膜10及第1導電層31上之第1透明黏著層32。第2導電性薄膜40具備中間基材薄膜10、支撐於中間基材薄膜10之經圖型化之第2導電層41、與設於中間基材薄膜10及第2導電層41上之第2透明黏著層42。
第1導電層31及第2導電層41只要圖型化成期望之形狀且具有導電性者即無特別限制。第1導電層31及第2導電層41係透過取出圖型(未圖示)連接於端子部(未圖示)。第1導電層31及第2導電層41之形狀並無特別限制，但可列舉為正方形狀、菱形狀或條狀。第1導電層31及第2導電層41係如圖4及圖5所示般為正方形狀。
第1導電層31由於係發揮作為觸控面板感測器20之X方向之電極發揮功能者，故如圖4所示般構成第1導電層31之圖型形狀係於橫向電連接。第1導電層31係設於構成第1導電性薄膜30之中間基材薄膜10之第1低折射率層14上。
第2導電層41由於係發揮作為觸控面板感測 器20之Y方向之電極發揮功能者，故如圖5所示般構成第2導電層41之圖型形狀係於縱向電連接。第2導電層41係設置於構成第2導電性薄膜40之中間基材薄膜10之第1低折射率層14上。
第1導電層31係配置於比構成第1導電性薄膜30之中間基材薄膜10更靠近觀察者側，第2導電層41係配置於比構成第2導電性薄膜40之中間基材薄膜10更靠近觀察者側。亦即，第2導電層41係配置在構成第1導電性薄膜30之中間基材薄膜10與構成第2導電性薄膜40之中間基材薄膜10之間。第1導電性薄膜30與第2導電性薄膜40係藉由第2透明黏著層42貼合。
中間基材薄膜10亦可組裝於其他樣態之觸控面板感測器中。圖6所示之觸控面板感測器50具備中間基材薄膜10、支撐於中間基材薄膜10之經圖型化之第1導電層51及第2導電層52、與固定第1導電層51及第2導電層52之透明黏著層53。第2導電層51係形成於玻璃板54之一面上者，第2導電層51與玻璃板54一體化。
第1導電層51係作為觸控面板感測器30之X方向之電極發揮功能者，且成為與第1導電層31相同之圖型形狀。第2導電層52為作為觸控面板感測器30之Y方向之電極發揮功能者，且成為與第2導電層41相同之圖型形狀。第1導電層51及第2導電層52均設置在中間基材薄膜10之第1低折射率層14上。
〈第1導電層及第2導電層〉
第1導電層31、51及第2導電層41、52較好為例如由透明導電材料構成之透明導電層。透明導電材料列舉為摻雜錫之氧化銦(ITO)、摻雜銻之氧化錫(ATO)、氧化鋅、氧化銦(In2 O3 )、摻雜鋁之氧化鋅(AZO)、摻雜鎵之氧化鋅(GZO)、氧化錫、氧化鋅-氧化錫系、氧化銦-氧化錫系、氧化鋅-氧化銦-氧化鎂系等之金屬氧化物等。又，第1導電層31、51及第2導電層41、52並不限於透明導電層，亦可為例如經圖型化之金屬網層。金屬網層較好以鎳或氧化銅進行黑色被覆。藉由該黑色被覆，可抑制金屬網層之金屬反射。
第1導電層31、51及第2導電層41、52之形成方法並無特別限制，可使用濺鍍法、真空蒸鍍法、離子電鍍法、CVD法、塗佈法、印刷法等。使第1導電層31、51及第2導電層41、52圖型化之方法列舉為例如光微影法。
〈透明黏著層〉
第1透明黏著層32、第2透明黏著層42及黏著層53列舉為習知之感壓接著層或黏著薄片。
(第2實施形態)
以下，針對本發明之第2實施形態之中間基材薄膜及 觸控面板感測器，邊參照圖式加以說明。圖7係本實施形態之中間基材薄膜之概略構成圖。又，本實施形態中，附註與第1實施形態中說明之構件相同符號之構件係意指與第1實施形態中說明之構件相同之構件者，且與第1實施形態重複之內容只要沒有特別註明則省略。
圖7所示之中間基材薄膜60具備透明基材11、形成於透明基材11之一面11A上之第1透明層12、形成於第1透明層12上之第1高折射率層13、形成於第1高折射率層13上之第1低折射率層14、形成於透明基材11之與其一面11A相反側之面11B上之第2透明層15、形成於第2透明基材15上之第2高折射率層61、以及形成於第2高折射率層61上之第2低折射率層62。亦即，中間基材薄膜60係於中間基材薄膜10之第2透明層15上形成第2高折射率層61及第2低折射率層62者。
第2高折射率層61較好具有與第1高折射率層13相同之折射率及膜厚等。亦即，第2高折射率層61較好折射率為1.62以上且1.72以下，且膜厚為20nm以上且80nm以下。此外，第2高折射率層61可由與第1高折射率層13相同之材料構成。
第2低折射率層62較好具有與第1低折射率層14相同之折射率及膜厚等。亦即，第2低折射率層62較好折射率為1.44以上且1.54以下，且膜厚為3nm以上且45nm以下。此外，第2低折射率層62可由與第1低折射率層13相同之材料構成。
中間基材薄膜60中，將中間基材薄膜60之表面之法線方向設為0°，在0°以上且75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度邊自第1低折射率層14側對中間基材薄膜60照射可見光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。a*值之偏差較好為0.4以內，且b*值之偏差較好1.55以內。
依據本實施形態，由於於透明基材11上，依序層合折射率為1.47以上且1.57以下且膜厚為1μm以上之第1透明層12、折射率為1.62以上且1.72以下且膜厚為20nm以上且80nm以下之第1高折射率層13、及折射率為1.44以上且1.54以下且膜厚為3nm以上且45nm以下之第1低折射率層14，故將中間基材薄膜60表面之法線方向設為0°，且在0°以上75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角，邊自第1折射率層14側對中間基材薄膜60照射光，且由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，中間基材薄膜60之a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。藉此，可抑制自各種角度辨識時之色調偏差。
中間基材薄膜60中，中間基材薄膜60表面之法線方向設為0°，且在0°以上75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度，邊自第2折射率層62側對中間基材薄膜60照射可見光，且由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，較好a*值之偏差為 1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。更好a*值之偏差為0.4以內，且b*值之偏差為1.55以內。該情況下，基材薄膜60之兩面中，由於a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。故可抑制自各種角度辨識時之色調偏差。
《觸控面板感測器》
中間基材薄膜60可例如組裝於觸控面板感測器中使用。圖8為組裝本實施形態之中間基材薄膜之觸控面板感測器之概略構成圖。
圖8所示之觸控面板感測器70具備中間基材薄膜60、支撐於中間基材薄膜60之經圖型化之第1導電層71及第2導電層72、設於中間基材薄膜60及第1導電層71上之第1透明黏著層73、及設於中間基材薄膜60及第1導電層72上之第2透明黏著層74。
第1導電層71係作為觸控面板感測器70之X方向之電極發揮功能者，且成為與第1導電層31相同之圖型形狀。第1導電層71係設於中間基材薄膜60之第1低折射率層14上。第2導電層72係作為觸控面板感測器70之Y方向之電極發揮功能者，且成為與第2導電層41相同之圖型形狀。第2導電層72係設於中間基材薄膜60之第2低折射率層62上。
第1導電層71係配置於比中間基材薄膜10更靠近觀察者側，第2導電層72係配置於比中間基材薄 膜10更靠近光源側。
第1導電層71及第2導電層72較好與第1導電層31、51及第2導電層41、52相同之構成。且第1導電層71及第2導電層72係由與第1導電層31、51及第2導電層41、52相同之材料構成。
第1導電層71及第2導電層72由於形成於中間基材薄膜60之兩面上，故可藉光微影法進行圖型化，而且，該情況下，可提高第1導電層71及第2導電層72之位置精度。
[實施例]
為詳細說明本發明，而列舉以下實施例加以說明，但本發明並不受限於該等之記載。
〈透明層用組成物之調製〉
首先，如下述所示之組成般調配各成分，獲得透明層用組成物。
(透明層用組成物1)
．季戊四醇三丙基酸酯(PETA)：30質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 184」，日本BASF公司製)：1.5質量份
．甲基異丁基酮：70質量份
(透明層用組成物2)
．季戊四醇三丙基酸酯(PETA)：18質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：12質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 184」，日本BASF公司製)：1.5質量份
．甲基異丁基酮：70質量份
〈高折射率層用組成物之調製〉
如下述所示之組成般調配各成分，獲得高折射率層用組成物。
(高折射率層用組成物1)
．高折射率微粒子分散液(ZrO2 微粒子之甲基乙基酮分散液(固體成分：30質量%)，製品名「MZ-230X」，住友大阪CEMENT公司製)：58.8質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(製品名「KAYARAD PET-30」，日本化藥公司製)：11.8質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 184」，日本BASF公司製)：0.6質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：28.8質量份
(高折射率層用組成物2)
．高折射率微粒子分散液(ZrO2 微粒子之甲基乙基酮分散液(固體成分：30質量%)，製品名「MZ-230X」， 住友大阪CEMENT公司製)：59.5質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(製品名「KAYARAD PET-30」，日本化藥公司製)：11.1質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 184」，日本BASF公司製)：0.6質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：28.8質量份
(高折射率層用組成物3)
．高折射率微粒子分散液(ZrO2 微粒子之甲基乙基酮分散液(固體成分：30質量%)，製品名「MZ-230X」，住友大阪CEMENT公司製)：59.9質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(製品名「KAYARAD PET-30」，日本化藥公司製)：10.7質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 184」，日本BASF公司製)：0.6質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：28.8質量份
(高折射率層用組成物4)
．高折射率微粒子分散液(ZrO2 微粒子之甲基乙基酮分散液(固體成分：30質量%)，製品名「MZ-230X」，住友大阪CEMENT公司製)：62.0質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(製品名「KAYARAD PET-30」，日本化藥公司製)：8.6質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 184」，日本BASF 公司製)：0.6質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：28.8質量份
〈低折射率層用組成物之調製〉
如下述所示之組成般調配各成分，獲得低折射率層用組成物。
(低折射率層用組成物1)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之甲基異丁基酮分散液(固體成分：20質量%))：40質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名「PETIA」，Daicel Cytec公司製)：10質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 127」，日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(製品名「X22164E」，信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
(低折射率層用組成物2)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之甲基異丁基酮分散液(固體成分：20質量%))：40.5質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名「PETIA」，Daicel Cytec公司製)：9.5質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 127」，日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(製品名「X22164E」，信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
(低折射率層用組成物3)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之甲基異丁基酮分散液(固體成分：20質量%))：41質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名「PETIA」，Daicel Cytec公司製)：9質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 127」，日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(製品名「X22164E」，信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
(低折射率層用組成物4)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之甲基異丁基酮分散液(固體成分：20質量%))：38.4質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名「PETIA」，Daicel Cytec公司製)：8.4質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 127」，日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(製品名「X22164E」，信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
(低折射率層用組成物5)
．中空二氧化矽微粒子(中空二氧化矽微粒子之甲基異丁基酮分散液(固體成分：20質量%))：35.7質量份
．季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(製品名「PETIA」，Daicel Cytec公司製)：5.7質量份
．聚合起始劑(製品名「Irgacure 127」，日本BASF公司製)：0.35質量份
．改質聚矽氧油(製品名「X22164E」，信越化學工業公司製)：0.5質量份
．甲基異丁基酮(MIBK)：320質量份
．丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161質量份
〈實施例1〉
準備折射率為1.62及厚度為125μm之聚對苯二甲酸乙二酯基材(製品名「COSMOSHINE」，東洋紡績公司製)作為透明基材，且將透明層用組成物1塗佈於聚對苯二甲酸乙二酯基材之兩面上，形成塗膜。接著，對形成之 塗膜以0.2m/s之流速使50℃之乾燥空氣流通15秒後，再以10m/s之流速使70℃之乾燥空氣流通30秒進行乾燥，藉此使塗膜中之溶劑蒸發，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下以使累積光量成為100mJ/cm2 之方式照射紫外線，使塗膜硬化，藉此形成折射率為1.52及膜厚為4.5μm之透明層。接著，將高折射率層用組成物1塗佈於各透明層上，形成塗膜。隨後，使形成之塗膜在40℃乾燥1分鐘後，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量100mJ/cm2 進行紫外線照射予以硬化，形成折射率為1.67及膜厚為50nm之高折射率層。接著，在各高折射率層上塗佈低折射率層用組成物1，形成塗膜。接著，使形成之塗膜在40℃乾燥1分鐘後，在氮氣環境(氧濃度200ppm以下)下，以累積光量100mJ/cm2 進行紫外線照射予以硬化，形成折射率為1.49及膜厚為20nm之低折射率層，製作實施例1之中間基材薄膜。
〈實施例2〉
實施例2中，除使用高折射率層用組成物2、低折射率層用組成物2代替高折射率層用組成物1、低折射率層用組成物1以外，餘與實施例1同樣，製作中間基材薄膜。實施例2之基材薄膜之高折射率層之折射率為1.69，低折射率層之折射率為1.51。
〈實施例3〉
實施例3中，除使用透明層用組成物2、高折射率層用組成物3、低折射率層用組成物3代替透明層用組成物1、高折射率層用組成物1、低折射率層用組成物1，且使高折射率層之膜厚成為60nm以外，餘與實施例1同樣，製作中間基材薄膜。實施例3之基材薄膜之透明層之折射率為1.53，高折射率層之折射率為1.70，低折射率層之折射率為1.53。
〈比較例1〉
比較例1中，除使用透明層用組成物2、高折射率層用組成物4、低折射率層用組成物3代替透明層用組成物1、高折射率層用組成物1、低折射率層用組成物1，且使高折射率層之膜厚成為60nm以外，餘與實施例1同樣，製作中間基材薄膜。比較例1之基材薄膜之透明層折射率為1.53，高折射率層之折射率為1.76，低折射率層之折射率為1.53。
〈比較例2〉
比較例2中，除使用透明層用組成物2、高折射率層用組成物4、低折射率層用組成物4代替透明層用組成物1、高折射率層用組成物1、低折射率層用組成物1，使高折射率層之膜厚成為65nm，且使低折射率層之膜厚成為30nm以外，餘與實施例1同樣，製作中間基材薄膜。比較例2之基材薄膜之透明層折射率為1.53，高折射率層之 折射率為1.76，低折射率層之折射率為1.43。
〈比較例3〉
比較例3中，除使用高折射率層用組成物2、低折射率層用組成物5代替高折射率層用組成物1、低折射率層用組成物1，使高折射率層之膜厚成為65nm，且使低折射率層之膜厚成為30nm以外，餘與實施例1同樣，製作中間基材薄膜。比較例3之基材薄膜之高折射率層之折射率為1.76，低折射率層之折射率為1.33。
〈a*及b*之偏差〉
針對實施例及比較例所得之各中間基材薄膜，如下述般求出a*及b*之偏差。具體而言，使用日本分光股份有限公司製造之VAR-7010，在5°~75°之範圍內邊以每5°改變入射角邊自低折射率層側對各中間基材薄膜照射光，由對各自之正反射方向之反射光獲得a*值及b*值。測定條件如下。使用氘(D2)燈與鎢鹵素(WI)燈作為光源，且使用透過軸傾斜45°之偏光器，測定範圍設為380nm~780nm，數據收集間隔為1nm，使入射角度與檢測器之位置同步，以擷取正反射光之方式進行測定。且，自低折射率層側以入射角度0°對各中間基材薄膜照射光，藉由模擬由對各自之正反射方向之反射光求出a*值及b*值。具體而言，利用模擬之入射角度0°時之a*值及b*值係使用CIE1931所規定之2度視野等色函數，由各層之折 射率層與膜厚求出。接著，由所得各入射角度之a*值及b*值算出其最大值與最小值之差值之絕對值，求出a*值之偏差及b*值之偏差。
〈色調之偏差〉
評價自各種方向辨識實施例及比較例所得之各中間基材薄膜時各中間基材薄膜之色調是否有偏差。評價基準如下。
○：未確認到色調偏差。
×：確認到色調偏差。
以下，結果示於表1~表3。
如表3所示，比較例1~3之中間基材薄膜由於未滿足a*值之偏差在1.0以內，且b*值之偏差在1.6以內之要件，故無法抑制色調偏差。
相對於此，實施例1~3之中間基材薄膜由於滿足a*值之偏差在1.0以內，且b*值之偏差在1.6以內之要件，故可抑制色調偏差。
10‧‧‧中間基材薄膜
11‧‧‧透明基材
11A、11B‧‧‧面
12‧‧‧第1透明層
13‧‧‧第1高折射率層
14‧‧‧第1低折射率層
15‧‧‧第2透明層

Claims (9)

  1. 一種中間基材薄膜，其係支撐經圖型化之導電層用之中間基材薄膜，其具備透明基材，層合於前述透明基材之一面上，折射率為1.47以上且1.57以下，且膜厚為1μm以上之第1透明層，層合於前述第1透明層上，折射率為1.62以上且1.72以下，且膜厚為20nm以上且80nm以下之第1高折射率層，及層合於前述第1高折射率層上，折射率為1.44以上且1.54以下，且膜厚為3nm以上且45nm以下之第1低折射率層，將前述中間基材薄膜之表面之法線方向設為0°，在0°以上且75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度邊自前述第1低折射率層側對前述中間基材薄膜照射光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。
  2. 如請求項1之中間基材薄膜，其中前述第1高折射率層與前述第1低折射率層之折射率差為0.10以上且0.22以下。
  3. 如請求項1之中間基材薄膜，其中前述第1透明層與前述第1高折射率層之折射率差為0.05以上且0.15以下。
  4. 如請求項1之中間基材薄膜，其中前述透明基材為聚酯基材。
  5. 如請求項1之中間基材薄膜，其進一步具備：層合於與前述透明基材中之前述一面相反側之面上，折射率為1.47以上且1.57以下，且膜厚為1μm以上之第2透明層，層合於前述第2透明層上，折射率為1.62以上且1.72以下，且膜厚為20nm以上且80nm以下之第2高折射率層，及層合於前述第2高折射率層上，折射率為1.44以上且1.54以下，且膜厚為3nm以上且45nm以下之第2低折射率層。
  6. 一種觸控面板感測器，其具備：如請求項1之中間基材薄膜，及層合於前述中間基材薄膜之前述第1低折射率層上，且經圖型化之第1導電層。
  7. 一種觸控面板感測器，其具備：如請求項5之中間基材薄膜，層合於前述中間基材薄膜之前述第1低折射率層上，且經圖型化之第1導電層，及層合於前述中間基材薄膜之前述第2低折射率層上，且經圖型化之第2導電層。
  8. 一種中間基材薄膜之製造方法，其係支撐經圖型化之導電層用之中間基材薄膜之製造方法，其係於透明基材 之一面上，層合折射率為1.47以上、1.57以下，且膜厚為1μm以上的第1透明層，於前述第1透明層上，層合折射率為1.62以上、1.72以下，且膜厚為20nm以上、80nm以下的第1高折射率層，於前述第1高折射率層上，層合折射率為1.44以上、1.54以下，且膜厚為3nm以上、45nm以下的第1低折射率層，得到中間基材薄膜，將前述中間基材薄膜之表面之法線方向設為0°，在0°以上且75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度邊自前述第1低折射率層側對前述中間基材薄膜照射光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。
  9. 一種方法，其係抑制中間基材薄膜之色調之偏差的方法，將前述中間基材薄膜之表面之法線方向設為0°，在0°以上且75°以下之範圍內邊以每5度改變入射角度邊自表面側對前述中間基材薄膜照射光，由對各自之正反射方向之反射光求出L*a*b*表色系之a*值及b*值時，a*值之偏差為1.0以內，且b*值之偏差為1.6以內。
TW103134006A 2013-10-28 2014-09-30 Intermediate substrate film and touch panel sensor TWI514425B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013223486A JP5447728B1 (ja) 2013-10-28 2013-10-28 中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201517067A TW201517067A (zh) 2015-05-01
TWI514425B true TWI514425B (zh) 2015-12-21

Family

ID=50614422

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103134739A TWI514426B (zh) 2013-10-28 2014-09-30 Intermediate substrate film and touch panel sensor
TW103134006A TWI514425B (zh) 2013-10-28 2014-09-30 Intermediate substrate film and touch panel sensor

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103134739A TWI514426B (zh) 2013-10-28 2014-09-30 Intermediate substrate film and touch panel sensor

Country Status (5)

Country Link
US (3) US20150116264A1 (zh)
JP (1) JP5447728B1 (zh)
KR (3) KR101505787B1 (zh)
CN (3) CN104571690B (zh)
TW (2) TWI514426B (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK2909828T3 (da) * 2012-10-18 2019-07-29 Crea N V Forskydeligt informationssystem og fremgangsmåde til fremstilling og brug af informationsanordningen i systemet
JP5549966B1 (ja) 2014-03-18 2014-07-16 大日本印刷株式会社 導電性フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5637327B1 (ja) * 2014-03-18 2014-12-10 大日本印刷株式会社 中間基材フィルム、低屈折率層付き中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP2015230510A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ用基板、タッチパネルセンサおよび表示装置
JP6558007B2 (ja) * 2015-03-20 2019-08-14 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
KR101947604B1 (ko) * 2015-03-25 2019-02-14 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
US10486398B2 (en) 2015-05-20 2019-11-26 Fujikura Ltd. Conductor-layer-equipped structure and touch panel
CN104850266B (zh) * 2015-06-05 2018-06-15 京东方科技集团股份有限公司 触摸显示面板及其制造方法和显示装置
KR101926960B1 (ko) * 2017-02-10 2018-12-07 주식회사 케이씨씨 저반사 코팅 유리
CN107482039B (zh) * 2017-08-03 2020-07-24 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控母板及制备方法、柔性触控基板、触控面板
CN111984154B (zh) * 2020-09-22 2023-08-01 业成科技（成都）有限公司 触控模组及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201307881A (zh) * 2012-01-27 2013-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004152727A (ja) 2002-11-01 2004-05-27 Toyo Metallizing Co Ltd 透明導電膜
JP2009122416A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Toppan Printing Co Ltd 光学薄膜フィルム
JP5163231B2 (ja) * 2008-03-31 2013-03-13 日油株式会社 減反射材及びそれを備えた電子画像表示装置
KR101099031B1 (ko) * 2009-06-05 2011-12-26 한화엘앤씨 주식회사 터치 패널용 투명 도전성 필름 및 그 제조방법
JP2011076932A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルム及びタッチパネル
CN102034565B (zh) * 2009-10-06 2014-01-29 日油株式会社 透明导电性膜
CN102214498A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 联享光电股份有限公司 具可见光调整层的透明导电叠层体
KR20110125370A (ko) * 2010-05-13 2011-11-21 주식회사 엘지화학 다층구조의 투명 전도성 필름 및 이의 제조방법
JP5803062B2 (ja) * 2010-07-12 2015-11-04 Tdk株式会社 透明導電体及びこれを用いたタッチパネル
JP5739742B2 (ja) * 2010-11-04 2015-06-24 日東電工株式会社 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
CN103443748B (zh) * 2011-11-11 2015-01-21 株式会社钟化 带有透明电极的基板及其制造方法以及触摸面板
JP5956197B2 (ja) * 2012-03-05 2016-07-27 リンテック株式会社 透明導電膜積層用フィルム、その製造方法、及び透明導電性フィルム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201307881A (zh) * 2012-01-27 2013-02-16 Dainippon Printing Co Ltd 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置

Also Published As

Publication number Publication date
KR101505787B1 (ko) 2015-03-24
CN104571689B (zh) 2018-06-29
TWI514426B (zh) 2015-12-21
TW201517067A (zh) 2015-05-01
KR20150088220A (ko) 2015-07-31
US20150116264A1 (en) 2015-04-30
JP5447728B1 (ja) 2014-03-19
JP2015087814A (ja) 2015-05-07
CN107526122A (zh) 2017-12-29
TW201517068A (zh) 2015-05-01
CN107526122B (zh) 2022-04-26
US20160209549A1 (en) 2016-07-21
KR20150048644A (ko) 2015-05-07
CN104571689A (zh) 2015-04-29
CN104571690B (zh) 2018-08-07
CN104571690A (zh) 2015-04-29
US20150118455A1 (en) 2015-04-30
KR101831030B1 (ko) 2018-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI514425B (zh) Intermediate substrate film and touch panel sensor
TWI460742B (zh) 透明導電膜
JP5574253B1 (ja) 積層体、およびタッチパネルセンサ
JP6213804B2 (ja) 光学フィルム用基材、光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置
JP5549966B1 (ja) 導電性フィルム、およびタッチパネルセンサ
TWI567411B (zh) An optical film substrate, an optical film, a polarizing plate, a liquid crystal panel, and an image display device
JP6526380B2 (ja) タッチパネル付き表示装置
JP5549967B1 (ja) 導電性フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5637327B1 (ja) 中間基材フィルム、低屈折率層付き中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
CN104656974B (zh) 导电性膜、硬涂膜和触控面板传感器
JP6183700B2 (ja) タッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5494884B1 (ja) 中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5839305B1 (ja) 中間基材フィルム、導電性フィルムおよびタッチパネルセンサ
JP2015122060A (ja) タッチパネル付き表示装置
JP5907218B2 (ja) 中間基材フィルム、導電性フィルムおよびタッチパネルセンサ
JP2015179489A (ja) 導電性フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP2015036866A (ja) タッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサ
KR101565963B1 (ko) 터치스크린 패널용 투명 도전성 필름