CN104571690A - 中间基材膜和触控面板传感器 - Google Patents

中间基材膜和触控面板传感器 Download PDF

Info

Publication number
CN104571690A
CN104571690A CN201410643808.1A CN201410643808A CN104571690A CN 104571690 A CN104571690 A CN 104571690A CN 201410643808 A CN201410643808 A CN 201410643808A CN 104571690 A CN104571690 A CN 104571690A
Authority
CN
China
Prior art keywords
base material
refractive index
material film
layer
index layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201410643808.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104571690B (zh
Inventor
大川晃次郎
黑田刚志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Publication of CN104571690A publication Critical patent/CN104571690A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104571690B publication Critical patent/CN104571690B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/16—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements having an anti-static effect, e.g. electrically conducting coatings
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/12—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements by surface treatment, e.g. by irradiation
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24851—Intermediate layer is discontinuous or differential
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
    • Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
    • Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)

Abstract

本发明提供中间基材膜和触控面板传感器，所提供的中间基材膜是用于支撑经图案化后的导电层的中间基材膜(10)，具有透明基材(11)；形成于透明基材(11)的一个面11A上、折射率为1.47以上1.57以下、且膜厚为1μm以上的第1透明层(12)；形成于第1透明层(12)上、折射率为1.62以上1.72以下、且膜厚为20nm以上80nm以下的第1高折射率层(13)；和形成于第1高折射率层(13)上、折射率为1.44以上1.54以下、且膜厚为3nm以上45nm以下的第1低折射率层(14)，设中间基材膜(10)的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层(14)侧向中间基材膜(10)照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内。

Description

中间基材膜和触控面板传感器
本发明是分案申请，其原申请的申请号为201410588666.3，申请日为2014年10月28日，发明名称为“中间基材膜和触控面板传感器”。
【技术领域】
本发明涉及中间基材膜和触控面板传感器。
【背景技术】
如今，广泛使用触控面板装置作为输入手段。触控面板装置具备触控面板传感器、检测触控面板传感器上的接触位置的控制电路、配线和FPC(柔性印刷基材)。多数情况下，触控面板装置作为对安装至液晶显示屏、等离子体显示屏等显示装置中的各种装置等(例如售票机、ATM装置、移动电话、游戏机)的输入手段与显示装置一同使用。在这样的装置中，触控面板传感器配置于显示装置的显示面上，由此能够面对显示装置进行极其直接的输入。
根据检测触控面板传感器上的接触位置(接近位置)的原理，触控面板装置分为各种形式。目前，出于光学明亮、具备美观性、结构简单、功能优异等理由，静电容量方式的触控面板装置受到关注。静电容量方式中包括表面型和投影型，由于能够应对多点识别(多点触控)，投影型备受关注。
作为投影型静电容量方式的触控面板中使用的触控面板传感器，包括具备中间基材膜和形成于中间基材膜上的透明导电层的触控面板传感器(例如，参见日本特开2011-98563号公报)。
【发明内容】
【发明所要解决的课题】
现在，正在推进触控面板装置的大面积化，随着触控面板装置的大面积化的推进，画面尺寸变大，因而在某些观看触控面板装置的场所会存在观看角度明显不同的倾向。触控面板装置中使用的触控面板传感器的中间基材膜是以从正面观看为前提而设计的，在这种以从正面观看为前提的设计思想中，由于根据观看角度的不同会导致色调出现波动，因此担心无法应对触控面板装置的大面积化。
本发明是为了解决上述课题而提出的。即，本发明的目的是提供中间基材膜和触控面板传感器，其能够一直在以不同角度观看的情况下的色调的波动。
【解决课题的手段】
根据本发明的一个方式，提供一种中间基材膜，其用于支撑经图案化后的导电层，其中，该中间基材膜具备：透明基材；层积于所述透明基材的一侧、折射率为1.47以上1.57以下、且膜厚为1μm以上的第1透明层；层积于所述第1透明层上、折射率为1.62以上1.72以下、且膜厚为20nm以上80nm以下的第1高折射率层；层积于所述第1高折射率层上、折射率为1.44以上1.54以下、且膜厚为3nm以上45nm以下的第1低折射率层，设所述中间基材膜的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由所述第1低折射率层侧向所述中间基材膜照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内。
上述中间基材膜也可以进一步具备：层积于所述透明基材的与所述一侧相反侧的、折射率为1.47以上1.57以下、且膜厚为1μm以上的第2透明层；层积于所述第2透明层上、折射率为1.62以上1.72以下、且膜厚为20nm以上80nm以下的第2高折射率层；和层积于所述第2高折射率层上、折射率为1.44以上1.54以下、且膜厚为3nm以上45nm以下的第2低折射率层。
根据本发明的其他方式，提供一种触控面板传感器，其具备：上述中间基材膜；和层积于所述中间基材膜的所述第1低折射率层上且经图案化后的第1导电层。
根据本发明的其他方式，提供一种触控面板传感器，其具备：上述中间基材膜；层积于所述中间基材膜的所述第1低折射率层上且经图案化后的第1导电层；和层积于所述中间基材膜的所述第2低折射率层上且经图案化后的第2导电层。
【发明的效果】
根据本发明的一个方式的中间基材膜和触控面板传感器，能够抑制在以不同角度观看的情况下的色调的波动。
【附图说明】
图1是第1实施方式的中间基材膜的示意性构成图。
图2是显示使用分光光度计对中间基材膜的a*和b*进行测定的状态的示意图。
图3是第1实施方式的触控面板传感器的示意性构成图。
图4是图3所示的第1导电层的一部分的俯视图。
图5是图3所示的第2导电层的一部分的俯视图。
图6是第1实施方式的其他的触控面板传感器的示意性构成图。
图7是第2实施方式的中间基材膜的示意性构成图。
图8是第2实施方式的触控面板传感器的示意性构成图。
【具体实施方式】
(第1实施方式)
以下参照附图对本发明的第1实施方式的中间基材膜和触控面板传感器进行说明。图1是本实施方式的中间基材膜的示意性构成图，图2是显示使用分光反射率测定器对中间基材膜的分光反射率进行测定的状态的示意图。需要说明的是，本说明书中，“膜”、“片”、“板”等术语仅是称呼不同，而并非相互有区别。因此，例如“膜”的概念中也包括可被称作片或板的部件。作为一个具体例，“中间基材膜”中也包括被称作“中间基材片”等的部件。
《中间基材膜》
中间基材膜用于支撑经图案化后的导电层。所谓“中间基材膜”，例如安装于触控面板等装置进行使用的情况下，意味着并非用于触控面板等装置的最外表面而是用于触控面板等的装置内部的基材膜。
图1所示的中间基材膜10具备：透明基材11、形成于透明基材11的一个面11A上的第1透明层12、形成于第1透明层12上的第1高折射率层13、形成于高折射率层13上的第1低折射率层14、形成于透明基材11的与一个面11A相反侧的面11B上的第2透明层15。
中间基材膜10具备有第2透明层15，但也可以不具备第2透明层15。并且，中间基材膜也可以在第2透明层上具备第2高折射率层、第2低折射率层。具体地说，作为中间基材膜，除了图1所示的中间基材膜10外，可以是以下中间基材膜中的任意一种：在透明基材的一侧按叙述顺序设有第1透明层、第1高折射率层、和第1低折射率层且透明基材的另一侧未设有第2透明层的中间基材膜；在透明基材的一侧按叙述顺序设有第1透明层、第1高折射率层、和第1低折射率层且透明基材的另一侧按叙述顺序设有第2透明层和第2高折射率层的中间基材膜；和在透明基材的一侧按叙述顺序设有第1透明层、第1高折射率层、和第1低折射率层且透明基材的另一侧按叙述顺序设有第2透明层、第2高折射率层、和第2低折射率层的中间基材膜。
中间基材膜10中，设中间基材膜10的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层14侧向中间基材膜10照射可见光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内。“L*a*b*色度系统”、“a*”、和“b*”依据的是JIS Z8729。
a*值和b*值是依据JIS Z8722测定的，具体地说，例如可以使用公知的分光光度计来求出。图3所示的分光光度计100具备：可在0°以上75°以下的范围内移动的光源101、随着光源的移动同时移动从而能够接受正反射方向的反射光的检测器102。对于光源101的移动角度，将中间基材膜10的法线方向N设为0°。由光源101向中间基材膜10照射光，利用检测器102接受正反射方向的反射光，从而能够根据利用该检测器102接受到的反射光求出a*值和b*值。需要说明的是，利用分光光度计不易求出入射角度为0°时的a*值和b*值的情况下，也可以通过模拟来求出入射角度为0°时的a*值和b*值。作为分光光度计，可以举出日本分光株式会社制造的绝对反射率测定装置VAR-7010和紫外可见近红外分光光度计V-7100等。作为光源，可以举出钨卤素(WI)灯单独使用或重氢(D2)灯与钨卤素(WI)灯合用。并且，该测定中，由于随着入射角变大，s偏振光和p偏振光的反射率差会变大，因此为了进行准确的测定而优选使用透过轴倾斜45°的偏振元件。
对于a*值和b*值的波动，可以利用上述分光光度计求出各入射角度下的a*值和b*值，计算出其最大值与最小值的差的绝对值，由此求出a*值和b*值的波动。优选a*值的波动为0.4以内，并且优选b*值的波动为1.55以内。
对于求出上述a*值和b*值的某角度的反射光与求出上述a*值和b*值的其他角度的反射光的色差ΔE*ab，优选其为5以下。“ΔE*ab”依据的是JIS Z8730。
<透明基材>
对透明基材11没有特别限定，只要具有透光性即可，可以举出例如聚烯烃基材、聚碳酸酯基材、聚丙烯酸酯基材、聚酯基材、芳香族聚醚酮基材、聚醚砜基材、或聚酰胺基材。
作为聚烯烃基材，可以举出例如以聚乙烯、聚丙烯、环状聚烯烃基材等至少一种作为构成成分的基材。作为环状聚烯烃基材，可以举出例如具有降冰片烯骨架的物质。
作为聚碳酸酯基材，可以举出例如以双酚类(双酚A等)为基础的芳香族聚碳酸酯基材、二甘醇双烯丙基碳酸酯等脂肪族聚碳酸酯基材等。
作为聚丙烯酸酯基材，可以举出例如聚(甲基)丙烯酸甲酯基材、聚(甲基)丙烯酸乙酯基材、(甲基)丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸丁酯共聚物基材等。
作为聚酯基材，可以举出例如以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)的至少一种为构成成分的基材。
作为芳香族聚醚酮基材，可以举出例如聚醚醚酮(PEEK)基材等。
对透明基材11的厚度没有特别限定，可以为5μm以上300μm以下，从处理性等方面出发，透明基材11的厚度的下限优选为25μm以上，更优选为50μm以上。从薄膜化的方面出发，透明基材11的厚度的上限优选为250m以下。
为了提高粘接性，除了对透明基材11的表面进行电晕放电处理、氧化处理等物理处理外，也可以利用被称作锚定剂、底层涂料的涂料预先进行涂布。作为锚定剂、底层涂料剂，可以使用例如聚氨酯树脂、聚酯树脂、聚氯乙烯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯化乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、丙烯酸类树脂、聚乙烯醇系树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、乙烯与乙酸乙烯酯或丙烯酸等的共聚物、乙烯与苯乙烯和/或丁二烯等的共聚物、烯烃树脂等热塑性树脂和/或其改性树脂、光聚合性化合物的聚合物、和环氧树脂等热固性树脂等中的至少一种。
<第1透明层和第2透明层>
本实施方式的第1透明层12和第2透明层15优选具有硬涂性。第1透明层12和第2透明层15具有硬涂性的情况下，第1透明层12和第2透明层15在JISK5600-5-4(1999)规定的铅笔硬度试验(4.9N负荷)中具有“H”以上的硬度。通过使铅笔硬度为“H”以上，能够使第1透明层12的硬度充分地反映至第1低折射率层14的表面，能够提高耐久性。需要说明的是，从与形成于第1透明层12上的第1高折射率层13的密合性、韧性和防止翘曲的方面出发，第1透明层12的表面的铅笔硬度的上限优选为4H的程度。触控面板传感器会受到反复挤压，要求具有高度的密合性和韧性，因此，通过将第1透明层12的铅笔硬度的上限设为4H，能够在将中间基材膜10安装于触控面板传感器进行使用时发挥出显著的效果。并且，在第1低折射率层14上形成导电层时，会伴随有对中间基材膜的加热，受到该加热的影响，可能会出现由透明基材析出低聚物从而使中间基材膜的雾度上升的问题，但第1透明层12和第2透明层15能够作为抑制低聚物析出的层发挥作用。
第1透明层12的折射率为1.47以上1.57以下。第1透明层12的折射率的下限优选为1.50以上，第1透明层12的折射率的上限优选为1.54以下。并且，第2透明层15的折射率也优选为与第1透明层12同样的范围。不过，第2透明层15的折射率不必一定与第1透明层12的折射率一致。
第1透明层12和第2折射率层15的折射率可以在形成单独的层后利用Abbe折射率计(Atago社制造NAR-4T)、椭圆计进行测定。并且，作为形成为中间基材膜10后测定折射率的方法，可以分别利用切割器等削下第1透明层12和第2折射率层15，制成粉末状的样品，然后利用基于JIS K7142(2008)B法(粉体或粒状的透明材料用)的贝克法(其是以下方法：使用折射率已知的Cargille试剂，将所述粉末状的样品置于载玻片等上，在该样品上滴加试剂，将样品浸渍于试剂中。利用显微镜观察其状态，通过目视对由于样品与试剂的折射率不同而在样品轮廓出现的明线；将贝克线无法观察到时的试剂的折射率作为样品的折射率)。
第1透明层12的膜厚为1.0μm以上。第1透明层12的厚度为1.0μm以上时能够得到所期望的硬度。第1透明层12的膜厚可以通过截面显微镜观察来测定。第1透明层的厚度的下限更优选为1.5μm以上，上限更优选为7.0μm以下，第1透明层12的厚度更优选为2.0μm以上5.0μm以下。第2透明层15的膜厚优选与第1透明层12的膜厚为同样的范围。不过，第2透明层15的膜厚不必一定与第1透明层15的膜厚一致。
第1透明层12和第2透明层15可以由例如树脂构成。树脂含有光聚合性化合物的聚合物(交联物)。树脂中，除光聚合性化合物的聚合物(交联物)外也可以含有溶剂干燥型树脂、热固性树脂。光聚合性化合物至少具有一个光聚合性官能团。本说明书中的“光聚合性官能团”是可通过光照射发生聚合反应的官能团。作为光聚合性官能团可以举出例如(甲基)丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等烯键式双键。需要说明的是，“(甲基)丙烯酰基”的含义中包括“丙烯酰基”和“甲基丙烯酰基”这两者。并且，作为将光聚合性化合物聚合时照射的光，可以举出可见光线、以及紫外线、X射线、电子射线、α射线、β射线、和γ射线之类的电离射线。
作为光聚合性化合物，可以举出光聚合性单体、光聚合性低聚物、或光聚合性聚合物，可以对这些进行适宜调整后使用。作为光聚合性化合物，优选光聚合性单体与光聚合性低聚物或光聚合性单体与光聚合性聚合物的组合。
光聚合性单体
光聚合性单体的重均分子量小于1000。作为光聚合性单体，优选具有2个(即2官能)以上的光聚合性官能团的多官能单体。本说明书中，“重均分子量”是溶解于四氢呋喃(THF)等溶剂中后利用现有公知的凝胶渗透色谱法(GPC)法基于聚苯乙烯换算所得到的值。
作为2官能以上的单体，可以举出例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、一缩二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四季戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸二(甲基)丙烯酸酯、聚酯三(甲基)丙烯酸酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯、双酚二(甲基)丙烯酸酯、双甘油四(甲基)丙烯酸酯、金刚烷基二(甲基)丙烯酸酯、异冰片基二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯；或它们经PO、EO等改性后的物质。
这些之中，从获得硬度高的硬涂层的方面考虑，优选季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)等。
光聚合性低聚物
光聚合性低聚物的重均分子量为1000以上小于10000。作为光聚合性低聚物，优选2官能以上的多官能低聚物。作为多官能低聚物，可以举出聚酯(甲基)丙烯酸酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、三聚氰胺(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。
光聚合性聚合物
光聚合性聚合物的重均分子量为10000以上，重均分子量优选为10000以上80000以下，更优选为10000以上40000以下。重均分子量超过80000的情况下，由于粘度高而导致涂布适性降低，所得到的光学膜的外观可能会恶化。作为上述多官能聚合物，可以举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯-氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯等。
对光聚合性化合物进行聚合(交联)时可以使用聚合引发剂等。聚合引发剂是受到光照射而分解产生自由基从而引发光聚合性化合物的聚合(交联)或使光聚合性化合物进行聚合(交联)的成分。
对聚合引发剂没有特别限定，只要受到光照射后能释放出引发自由基聚合的物质即可。对聚合引发剂没有特别限定，可以使用公知的聚合引发剂，作为具体例可以举出例如苯乙酮类、二苯甲酮类、米氏苯甲酰苯甲酸酯、α-戊肟酯(amyloxim ester)、噻吨酮类、苯丙酮类、苯偶姻类、苯偶姻类、酰基氧化膦类。并且优选混合光敏剂进行使用，作为其具体例，可以举出例如正丁胺、三乙胺、聚正丁基膦等。
作为上述聚合引发剂，上述粘合剂树脂为具有自由基聚合性不饱和基的树脂系的情况下，优选将苯乙酮类、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲醚等单独使用或混合使用。
溶剂干燥型树脂是指热塑性树脂等仅通过对为了调整涂布时的固体成分而添加的溶剂进行干燥就形成覆膜的树脂。添加溶剂干燥型树脂的情况下，形成防眩层12时，能够有效地防止涂液的涂布面的覆膜缺陷。对溶剂干燥型树脂没有特别限定，一般可以使用热塑性树脂。
作为热塑性树脂，可以举出例如苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、乙烯基醚系树脂、含卤素的树脂、脂环式烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、纤维素衍生物、有机硅系树脂和橡胶或弹性体等。
热塑性树脂优选为非晶性且可溶于有机溶剂(特别是能够溶解2个以上的聚合物和固化性化合物的通用溶剂)。特别是从透明性和耐候性的方面考虑，优选苯乙烯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、脂环式烯烃系树脂、聚酯系树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。
对热固性树脂没有特别限定，可以举出例如酚树脂、脲树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-脲醛共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树脂等。
第1透明层12和第2透明层15可以如下形成：将含有上述光聚合性化合物的透明层用组合物涂布于透明基材11的表面，干燥后，对涂膜状的透明层用组合物照射紫外线等光，使光聚合性化合物聚合(交联)，由此形成第1透明层12和第2透明层15。
除上述光聚合性化合物外，透明层用组合物中可以根据需要添加溶剂、聚合引发剂。并且，在透明层用组合物中，可以根据提高第1透明层的硬度、抑制固化收缩、控制折射率等目的来添加现有公知的分散剂、表面活性剂、抗静电剂、硅烷偶联剂、增稠剂、防着色剂、着色剂(颜料、染料)、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、粘接赋予剂、阻聚剂、抗氧化剂、表面改性剂、润滑剂等。
作为涂布透明层用组合物的方法，可以举出旋涂、浸渍法、喷雾法、滑动涂布法、棒涂法、辊涂法、凹板印刷法、模涂法等公知的涂布方法。
作为使透明层用组合物固化时的光，使用紫外线的情况下，可以利用超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧、氙弧、金属卤化物灯等发出的紫外线等。并且，作为紫外线的波长，可以使用190～380nm的波段。作为电子射线源的具体例，可以举出考克罗夫特-瓦尔顿(Cockcroft-Walton)型、范德格拉夫型、共振变压器型、绝缘芯变压器型、或者直线型、Dynamitron型、高频型等各种电子射线加速器。
<第1高折射率层>
第1高折射率层13是具有高于第1透明层12的折射率的折射率的层。具体地说，第1高折射率层13的折射率为1.62以上1.72以下。第1高折射率层13的折射率的下限优选为1.65以上，第1高折射率层13的折射率的上限优选为1.69以下。第1高折射率层13的折射率可以利用与上述第1透明层12的折射率相同的方法来测定。从抑制色调的波动的方面考虑，第1透明层12与第1高折射率层13的折射率差优选为0.05以上0.15以下。
第1高折射率层13的膜厚为20nm以上80nm以下。第1高折射率层13的膜厚的下限优选为40nm以上，第1高折射率层13的膜厚的上限优选为60nm以下。
第1高折射率层13和第1低折射率层14可以作为用于使设有导电层的区域和不设有导电层的区域之间的光透过率和反射率之差变小的折射率匹配性层发挥作用。
对第1高折射率层13没有特别限定，只要具有上述折射率和上述膜厚即可，第1高折射率层13可以由例如高折射率颗粒与粘合剂树脂构成。
作为上述高折射率颗粒，可以举出金属氧化物微粒。作为金属氧化物微粒，具体地可以举出例如二氧化钛(TiO2、折射率：2.3～2.7)、氧化铌(Nb2O5、折射率：2.33)、氧化锆(ZrO2、折射率：2.10)、氧化锑(Sb2O5、折射率：2.04)、氧化锡(SnO2、折射率：2.00)、锡掺杂氧化铟(ITO、折射率：1.95～2.00)、氧化铈(CeO2、折射率：1.95)、铝掺杂氧化锌(AZO、折射率：1.90～2.00)、镓掺杂氧化锌(GZO、折射率：1.90～2.00)、锑酸锌(ZnSb2O6、折射率：1.90～2.00)、氧化锌(ZnO、折射率：1.90)、氧化钇(Y2O3、折射率：1.87)、锑掺杂氧化锡(ATO、折射率：1.75～1.85)、磷掺杂氧化锡(PTO、折射率：1.75～1.85)等。这些之中，从高折射率化和成本的方面出发优选氧化锆。
对第1高折射率层13所含有的粘合剂树脂没有特别限制，可以使用热塑性树脂，但从提高表面硬度的方面考虑优选为热固性树脂或光聚合性化合物等的聚合物(交联物)，其中更优选为光聚合性化合物的聚合物。
作为热固性树脂，可以举出丙烯酸类树脂、氨基甲酸酯树脂、酚树脂、脲三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、有机硅树脂等树脂等。使热固性树脂固化时，可以使用固化剂。
对光聚合性化合物没有特别限定，可以使用光聚合性单体、低聚物、聚合物。作为1官能的光聚合性单体，可以举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯基吡咯烷酮等。并且，作为2官能以上的光聚合性单体，可以举出例如多羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯；这些化合物经环氧乙烷、聚环氧乙烷等改性后的化合物等。
并且，这些化合物也可以是通过导入芳香环、氟以外的卤原子、硫、氮、磷原子等而将折射率调高后的化合物。此外，除上述化合物外，也可以使用具有不饱和双键的分子量较低的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、多硫醇-多烯树脂等。使光聚合性化合物聚合(交联)时，可以使用在第1透明层和第2透明层的项中说明过的聚合引发剂。
第1高折射率层13可以通过例如与第1透明层12的形成方法相同的方法来形成。具体地说，首先在第1透明层12的表面涂布至少含有高折射率微粒和光聚合性化合物的第1高折射率层用组合物。接下来，使涂膜状的第1高折射率层用组合物干燥。其后，对涂膜状的透明层用组合物照射紫外线等光，使光聚合性化合物聚合(交联)，由此能够形成第1高折射率层13。
<第1低折射率层>
第1低折射率层14是具有低于第1高折射率层13的折射率的折射率的层。第1低折射率层只要具有低于第1高折射率层的折射率的折射率即可，可以不必具有低于第1透明层的折射率的折射率。具体地说，第1低折射率层14的折射率为1.44以上1.54以下。第1低折射率层14的折射率的下限优选为1.47以上，第1低折射率层14的折射率的上限优选为1.51以下。第1低折射率层14的折射率可以利用与上述第1透明层12的折射率相同的方法来测定。从进一步抑制色调的波动的方面考虑，第1高折射率层13与第1低折射率层14的折射率差优选为0.10以上0.22以下。
第1低折射率层14的膜厚为3nm以上45nm以下。第1低折射率层14的膜厚的下限优选为5nm以上，第1低折射率层14的膜厚的上限优选为25nm以下。
对第1低折射率层14没有特别限定，只要具有上述折射率和上述膜厚即可，第1低折射率层14可以由例如低折射率颗粒与粘合剂树脂构成或由低折射率树脂构成。
作为低折射率微粒，可以举出例如由二氧化硅、或氟化镁构成的实心颗粒或中空颗粒等。这些之中，优选中空二氧化硅颗粒，这样的中空二氧化硅颗粒可以通过例如日本特开2005-099778号公报的实施例中记载的制造方法来制作。
作为低折射率微粒，优选使用在二氧化硅表面具有反应性官能团的反应性二氧化硅微粒。作为反应性官能团，优选光聚合性官能团。这样的反应性二氧化硅微粒可以通过利用硅烷偶联剂等对二氧化硅微粒进行表面处理来制作。作为利用硅烷偶联剂对二氧化硅微粒的表面进行处理的方法，可以举出向二氧化硅微粒喷雾硅烷偶联剂的干式法、将二氧化硅微粒分散在溶剂中后添加硅烷偶联剂进行反应的湿式法等。
作为构成第1低折射率层14的粘合剂树脂，可以举出与构成第1高折射率层13的粘合剂树脂同样的粘合剂树脂。其中，也可以在粘合剂树脂中混合导入有氟原子的树脂、有机聚硅氧烷等折射率低的材料。
作为低折射率树脂，可以举出导入有氟原子的树脂、有机聚硅氧烷等折射率低的树脂。
第1低折射率层14可以通过例如与第1透明层12的形成方法相同的方法来形成。具体地说，首先在第1高折射率层13的表面涂布至少含有低折射率微粒和光聚合性化合物的第1低折射率层用组合物。接下来，使涂膜状的第1低折射率层用组合物干燥。其后，对涂膜状的第1低折射率层用组合物照射紫外线等光，使光聚合性化合物聚合(交联)，由此能够形成第1低折射率层14。
现有技术中，中间基材膜的低折射率层等的折射率和膜厚主要是出于减小中间基材膜的反射率与层积于中间基材膜上的导电层的反射率之差(反射率差)的观点来确定的，至于以不同角度观看中间基材膜时色调的波动并未受到任何关注。另一方面，与上述反射率差相比，人眼更容易感受到色调的变化，并且，为了减小中间基材膜与导电层的反射率差而增大高折射率层与低折射率层的折射率差时，具有色调的波动变大的倾向。本发明人经过反复地深入研究发现，对中间基材膜的a*值和b*值进行调整时能够抑制色调的波动。具体地说，通过实验发现，设中间基材膜的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层侧向中间基材膜照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内的情况下，即使观察者以各种方向观看中间基材膜，也不会认为色调出现了波动。并且发现，透明基材上按叙述顺序层积有折射率为1.47以上1.57以下且膜厚为1μm以上的第1透明层、折射率为1.62以上1.72以下且膜厚为20nm以上80nm以下的第1高折射率层、折射率为1.44以上1.54以下且膜厚为3nm以上45nm以下的第1低折射率层的情况下，能够使上述中间基材膜中a*值的波动为1.0以内、且b*值的波动为1.6以内。根据本实施方式，设中间基材膜10的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层14侧向中间基材膜10照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内，因此能够抑制在以不同角度观看基材膜10的情况下色调的波动。在具备具有上述折射率和膜厚的第1透明层12、具有上述折射率和膜厚的第1高折射率层13、具有上述折射率和膜厚的第1低折射率层14的中间基材膜10中，虽然与导电层的反射率差在容许范围内，但与现有的中间基材膜相比，与导电层的反射率差会变大，因此，如现有技术那样从减小中间基材膜与导电层的反射率差的方面考虑是不会采用的技术方案。因此可以说，对照现有的中间基材膜的技术水平，通过将第1透明层12、第1高折射率层13、和第1低折射率层14的折射率和膜厚设于上述范围内并将a＊值和b＊值设于上述范围内所起到的上述效果是超出了所能预测的范围的显著的效果。需要说明的是，上述中作为入射角度的范围使用了0°以上75°以下的范围，但在5°以上75°以下的范围也能确认到上述效果。即，在5°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层14侧向中间基材膜10照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，只要a*值的波动为1.0以内、且b*值的波动为1.6以内，能够确认到在以各种角度观看基材膜10的情况下色调的波动受到了抑制。
《触控面板传感器》
中间基材膜10可以安装于例如触控面板传感器中进行使用。图3是安装有本实施方式的中间基材膜的触控面板传感器的示意性构成图，图4是图3所示的第1导电层的一部分的俯视图，图5是图3所示的第2导电层的一部分的俯视图。图6是安装有本实施方式的中间基材膜的其他的触控面板传感器的示意性构成图。
图3所示的触控面板传感器20具有第1导电性膜30与第2导电性膜40层积而成的结构。第1导电性膜30具备：中间基材膜10、受到中间基材膜10支撑的经图案化后的第1导电层31、和设于中间基材膜10和第1导电层31上的第1透明粘着层32。第2导电性膜40具备：中间基材膜10、受到中间基材膜10支撑的经图案化后的第2导电层41、和设于中间基材膜10和第2导电层41上的第2透明粘着层42。
对于第1导电层31和第2导电层41没有特别限定，只要按照所期望的形状进行了图案化且具有导电性即可。第1导电层31和第2导电层41借助取出图案(未图示)与端子部(未图示)连接。对第1导电层31和第2导电层41的形状没有特别限定，可以举出正方形状、菱形状、或条纹状。如图4和图5所示，第1导电层31和第2导电层41为正方形状。
第1导电层31作为触控面板传感器20中X方向上的电极发挥作用，因此如图4所示，构成第1导电层31的图案形状在横向方向上电连接。第1导电层31设于构成第1导电性膜30的中间基材膜10的第1低折射率层14上。
第2导电层41作为触控面板传感器20中Y方向上的电极发挥作用，因此如图5所示，构成第2导电层41的图案形状在纵向方向上电连接。第2导电层41设于构成第2导电性膜40的中间基材膜10的第1低折射率层14上。
第1导电层31配置在构成第1导电性膜30的中间基材膜10的观察者侧，第2导电层41配置在构成第2导电性膜40的中间基材膜10的观察者侧。即，第2导电层41配置在构成第1导电性膜30的中间基材膜10与构成第2导电性膜40的中间基材膜10之间。第1导电性膜30与第2导电性膜40通过第2透明粘着层42粘合。
中间基材膜10也可以安装于其他方式的触控面板传感器中。图6所示的触控面板传感器50具备：中间基材膜10、受到中间基材膜10的支撑的经图案化后的第1导电层51和第2导电层52、固定第1导电层51与第2导电层52的透明粘着层53。第2导电层51形成于玻璃板54的一个面上，第2导电层51与玻璃板54一体化。
第1导电层51作为触控面板传感器30中X方向上的电极发挥作用，形成为与第1导电层31同样的图案形状。第2导电层52作为触控面板传感器30中Y方向上的电极发挥作用，形成为与第2导电层41同样的图案形状。第1导电层51和第2导电层52均设于中间基材膜10的第1低折射率层14上。
<第1导电层和第2导电层>
第1导电层31、51和第2导电层41、52优选为例如由透明导电材料构成的透明导电层。作为透明导电材料，可以举出锡掺杂氧化铟(ITO)、锑掺杂氧化锡(ATO)、氧化锌、氧化铟(In2O3)、铝掺杂氧化锌(AZO)、镓掺杂氧化锌(GZO)、氧化锡、氧化锌-氧化锡系、氧化铟-氧化锡系、氧化锌-氧化铟-氧化镁系等金属氧化物等。需要说明的是，第1导电层31、51和第2导电层41、52不限于透明导电层，也可以是例如经图案化后的金属网层。金属网层优选通过镍、氧化铜进行黑色被覆。通过该黑色被覆，能够抑制金属网层的金属反射。
对于第1导电层31、51和第2导电层41、52的形成方法没有特别限定，可以使用溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、CVD法、涂布法、印刷法等。作为对第1导电层31、51和第2导电层41、52进行图案化的方法，可以举出例如照相平版印刷法。
<透明粘着层>
作为第1透明粘着层32、第2透明粘着层42、和粘着层53，可以举出公知的压敏粘接层、粘合片。
(第2实施方式)
以下参照附图对本发明的第2实施方式的中间基材膜和触控面板传感器进行说明。图7是本实施方式的中间基材膜的示意性构成图。需要说明的是，本实施方式中，赋予了与第1实施方式中说明过的部件相同符号的部件意味着是与第1实施方式中说明过的部件相同的部件，并且，针对与第1实施方式重复的内容，只要未作特殊记载则省略其说明。
图7所示的中间基材膜60具备：透明基材11、形成于透明基材11的一个面11A上的第1透明层12、形成于第1透明层12上的第1高折射率层13、形成于第1高折射率层13上的第1低折射率层14、形成于透明基材11的与一个面11A相反侧的面11B上的第2透明层15、形成于第2透明层15上的第2高折射率层61、和形成于第2高折射率层61上的第2低折射率层62。即，中间基材膜60是在中间基材膜10的第2透明层15上形成有第2高折射率层61和第2低折射率层62的膜。
第2高折射率层61优选具有与第1高折射率层13同样的折射率和膜厚等。即，第2高折射率层61优选折射率为1.62以上1.72以下、且膜厚为20nm以上80nm以下。并且，第2高折射率层61可以由与第1高折射率层13同样的材料构成。
第2低折射率层62优选具有与第1低折射率层14同样的折射率和膜厚等。即，第2低折射率层62优选折射率为1.44以上1.54以下、且膜厚为3nm以上45nm以下。并且，第2低折射率层62可以由与第1低折射率层13同样的材料构成。
中间基材膜60中，设中间基材膜60的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层14侧向中间基材膜60照射可见光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内。a*值的波动优选为0.4以内，并且b*值的波动优选为1.55以内。
根据本实施方式，在透明基材11上按叙述顺序层积有折射率为1.47以上1.57以下且膜厚为1μm以上的第1透明层12、折射率为1.62以上1.72以下且膜厚为20nm以上80nm以下的第1高折射率层13、折射率为1.44以上1.54以下且膜厚为3nm以上45nm以下的第1低折射率层14，因此，设中间基材膜60的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第1低折射率层14侧向中间基材膜60照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，能够使中间基材膜60中a*值的波动为1.0以内且b*值的波动为1.6以内。由此，能够抑制在以各种角度观看的情况下色调的波动。
中间基材膜60中，设中间基材膜60的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由第2低折射率层62侧向中间基材膜60照射可见光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，优选a*值的波动为1.0以内且b*值的波动为1.6以内。a*值的波动优选为0.4以内，并且优选b*值的波动为1.55以内。这种情况下，基材膜60的两面上，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内，因此，在基材膜60的两面上，能够抑制在以各种角度观看的情况下色调的波动。
《触控面板传感器》
中间基材膜60可以安装于例如触控面板传感器中进行使用。图8是安装有本实施方式的中间基材膜的触控面板传感器的示意性构成图。
图8所示的触控面板传感器70具备：中间基材膜60、受到中间基材膜60的制成的经图案化后的第1导电层71和第2导电层72、设于中间基材膜60和第1导电层71上的第1透明粘着层73、和设于中间基材膜60和第1导电层72上的第2透明粘着层74。
第1导电层71作为触控面板传感器70中X方向上的电极发挥作用，形成为与第1导电层31同样的图案形状。第1导电层71设于中间基材膜60的第1低折射率层14上。第2导电层72作为触控面板传感器70中Y方向上的电极发挥作用，形成为与第2导电层41同样的图案形状。第2导电层72设于中间基材膜60的第2低折射率层62上。
第1导电层71配置在中间基材膜10的观察者侧，第2导电层72配置于中间基材膜10的光源侧。
第1导电层71和第2导电层72优选为与第1导电层31、51和第2导电层41、52同样的构成。并且，第1导电层71和第2导电层72可以由与第1导电层31、51和第2导电层41、52同样的材料构成。
由于第1导电层71和第2导电层72形成于中间基材膜60的两面，因此能够利用照相平版印刷法进行图案化，并且，这种情况下，能够提高第1导电层71和第2导电层72的位置精度。
【实施例】
为了详细地说明本发明，以下举出实施例进行说明，但本发明不限于这些记载。
<透明层用组合物的制备>
首先，按如下所示的组成混配各成分，得到透明层用组合物。
(透明层用组合物1)
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)：30质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 184”、BASF Japan社制造)：1.5质量份
·甲基异丁基酮：70质量份
(透明层用组合物2)
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)：18质量份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：12质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 184”、BASF Japan社制造)：1.5质量份
·甲基异丁基酮：70质量份
<高折射率层用组合物的制备>
按如下所示的组成混配各成分，得到高折射率层用组合物。
(高折射率层用组合物1)
·高折射率微粒分散液(ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液(固体成分：30质量％)、产品名“MZ-230X”、住友大阪水泥社制造)：58.8质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(产品名“KAYARAD PET-30”、日本化药社制造)：11.8质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 184”、BASF Japan社制造)：0.6质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：28.8质量份
(高折射率层用组合物2)
·高折射率微粒分散液(ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液(固体成分：30质量％)、产品名“MZ-230X”、住友大阪水泥社制造)：59.5质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(产品名“KAYARAD PET-30”、日本化药社制造)：11.1质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 184”、BASF Japan社制造)：0.6质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：28.8质量份
(高折射率层用组合物3)
·高折射率微粒分散液(ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液(固体成分：30质量％)、产品名“MZ-230X”、住友大阪水泥社制造)：59.9质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(产品名“KAYARAD PET-30”、日本化药社制造)：10.7质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 184”、BASF Japan社制造)：0.6质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：28.8质量份
(高折射率层用组合物4)
·高折射率微粒分散液(ZrO2微粒的甲基乙基酮分散液(固体成分：30质量％)、产品名“MZ-230X”、住友大阪水泥社制造)：62.0质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(产品名“KAYARAD PET-30”、日本化药社制造)：8.6质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 184”、BASF Japan社制造)：0.6质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：28.8质量份
<低折射率层用组合物的制备>
按如下所示的组成混配各成分，得到低折射率层用组合物。
(低折射率层用组合物1)
·中空二氧化硅微粒(中空二氧化硅微粒的甲基异丁基酮分散液(固体成分：20质量％))：40质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(产品名“PETIA”、Daicel·SciTech社制造)：10质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 127”、BASF Japan社制造)：0.35质量份
·改性硅油(产品名“X22164E”、信越化学工业社制造)：0.5质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：320质量份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161质量份
(低折射率层用组合物2)
·中空二氧化硅微粒(中空二氧化硅微粒的甲基异丁基酮分散液(固体成分：20质量％))：40.5质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(产品名“PETIA”、Daicel·SciTech社制造)：9.5质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 127”、BASF Japan社制造)：0.35质量份
·改性硅油(产品名“X22164E”、信越化学工业社制造)：0.5质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：320质量份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161质量份
(低折射率层用组合物3)
·中空二氧化硅微粒(中空二氧化硅微粒的甲基异丁基酮分散液(固体成分：20质量％))：41质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(产品名“PETIA”、Daicel·SciTech社制造)：9质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 127”、BASF Japan社制造)：0.35质量份
·改性硅油(产品名“X22164E”、信越化学工业社制造)：0.5质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：320质量份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161质量份
(低折射率层用组合物4)
·中空二氧化硅微粒(中空二氧化硅微粒的甲基异丁基酮分散液(固体成分：20质量％))：38.4质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(产品名“PETIA”、Daicel·SciTech社制造)：8.4质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 127”、BASF Japan社制造)：0.35质量份
·改性硅油(产品名“X22164E”、信越化学工业社制造)：0.5质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：320质量份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161质量份
(低折射率层用组合物5)
·中空二氧化硅微粒(中空二氧化硅微粒的甲基异丁基酮分散液(固体成分：20质量％))：35.7质量份
·季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(产品名“PETIA”、Daicel·SciTech社制造)：5.7质量份
·聚合引发剂(产品名“Irgacure 127”、BASF Japan社制造)：0.35质量份
·改性硅油(产品名“X22164E”、信越化学工业社制造)：0.5质量份
·甲基异丁基酮(MIBK)：320质量份
·丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)：161质量份
<实施例1>
作为透明基材准备折射率为1.62和厚度为125μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯基材(产品名“Cosmoshine”、东洋纺纱社制造)，在聚对苯二甲酸乙二醇酯基材的两面上涂布透明层用组合物1，形成涂膜。接下来，对着所形成的涂膜以0.2m/s的流速流通50℃的干燥空气15秒后，进一步以10m/s的流速流通70℃的干燥空气30秒，使之干燥，由此使涂膜中的溶剂蒸发，在氮气气氛(氧浓度200ppm以下)下以累积光量为100mJ/cm2的方式照射紫外线，使涂膜固化，由此形成折射率为1.52和膜厚为4.5μm的透明层。接下来，在各透明层上涂布高折射率层用组合物1，形成涂膜。然后，将所形成的涂膜在40℃干燥1分钟后，于氮气气氛(氧浓度200ppm以下)下以100mJ/cm2的累积光量进行紫外线照射，使之固化，形成折射率为1.67和膜厚为50nm的高折射率层。接下来，在各高折射率层上涂布低折射率层用组合物1，形成涂膜。然后，将所形成的涂膜在40℃干燥1分钟后，于氮气气氛(氧浓度200ppm以下)下以100mJ/cm2的累积光量进行紫外线照射，使之固化，形成折射率为1.49和膜厚为20nm的低折射率层，由此制作出实施例1的中间基材膜。
<实施例2>
实施例2中，除了使用高折射率层用组合物2、低折射率层用组合物2代替高折射率层用组合物1、低折射率层用组合物1以外，与实施例1同样地操作，制作出中间基材膜。实施例2的基材膜的高折射率层的折射率为1.69，低折射率层的折射率为1.51。
<实施例3>
实施例3中，除了使用透明层用组合物2、高折射率层用组合物3、低折射率层用组合物3代替透明层用组合物1、高折射率层用组合物1、低折射率层用组合物1且使高折射率层的膜厚为60nm以外，与实施例1同样地操作，制作出中间基材膜。实施例3的基材膜的透明层的折射率为1.53，高折射率层的折射率为1.70，低折射率层的折射率为1.53。
<比较例1>
比较例1中，除了使用透明层用组合物2、高折射率层用组合物4、低折射率层用组合物3代替透明层用组合物1、高折射率层用组合物1、低折射率层用组合物1且使高折射率层的膜厚为60nm以外，与实施例1同样地操作，制作出中间基材膜。比较例1的基材膜的透明层的折射率为1.53，高折射率层的折射率为1.76，低折射率层的折射率为1.53。
<比较例2>
比较例2中，使用透明层用组合物2、高折射率层用组合物4、低折射率层用组合物4代替透明层用组合物1、高折射率层用组合物1、低折射率层用组合物1；使高折射率层的膜厚为65nm且使低折射率层的膜厚为30nm，除此以外，与实施例1同样地操作，制作出中间基材膜。比较例2的基材膜的透明层的折射率为1.53，高折射率层的折射率为1.76，低折射率层的折射率为1.43。
<比较例3>
比较例3中，使用高折射率层用组合物2、低折射率层用组合物5代替高折射率层用组合物1、低折射率层用组合物1；使高折射率层的膜厚为65nm且使低折射率层的膜厚为30nm，除此以外，与实施例1同样地操作，制作出中间基材膜。比较例3的基材膜的高折射率层的折射率为1.76，低折射率层的折射率为1.33。
<a*和b*的波动>
在实施例以及比较例所得到的各中间基材膜中，如下求出a*和b*的波动。具体地说，使用日本分光株式会社制造的VAR-7010，在5°～75°的范围内每5°地变换入射角度的同时由低折射率层侧向各中间基材膜照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光得到a*值和b*值。测定条件如下。光源使用重氢(D2)灯和钨卤素(WI)灯，并且使用透过轴倾斜45°的偏振元件，将测定范围设为380nm～780nm，将数据读取间隔设为1nm，进行测定时使入射角度与检测器的位置同步从而能够读入正反射光。并且，由低折射率层侧向各中间基材膜以0°的入射角度照射光，通过模拟，由各自的朝向正反射方向的反射光求出a*值和b*值。具体地说，对于基于模拟的入射角度为0°时的a*值和b*值，使用CIE1931所规定的2度视野颜色匹配函数，由各层的折射率层和膜厚来求出。然后，根据所得到的各入射角度下的a*值和b*值，计算出其最大值与最小值的差的绝对值，由此求出a*值的波动和b*值的波动。
<色调的波动>
针对以各种方向观看实施例以及比较例中得到的各中间基材膜时各中间基材膜的色调是否存在波动来进行评价。评价基准如下。
○：无法确认到色调的波动。
×：确认到色调的波动。
以下将结果列于表1～表3。
【表1】
【表2】
【表3】
a*值的波动 b*值的波动 色调的波动
实施例1 0.28 1.29 ○
实施例2 0.32 1.35 ○
实施例3 0.38 1.52 ○
比较例1 0.45 3.03 ×
比较例2 0.44 3.80 ×
比较例3 0.48 4.59 ×
如表3所示，比较例1～3的中间基材膜不满足a*值的波动为1.0以内且b*值的波动为1.6以内的条件，因此没能抑制色调的波动。
与此相对，实施例1～3的中间基材膜满足a*值的波动为1.0以内且b*值的波动为1.6以内的条件，因此能够抑制色调的变化。
【符号说明】
10、60…中间基材膜
11…透明基材
11A、11B…面
12…第1透明层
13…第1高折射率层
14…第1低折射率层
15…第2透明层
20、50、80…触控面板传感器
31、51、71…第1导电层
41、52、72…第2导电层
61…第2高折射率层
62…第2低折射率层

Claims (8)

1.一种中间基材膜，其用于支撑经图案化后的导电层，其中，该中间基材膜具备：
透明基材；
层积于所述透明基材的一侧的第1高折射率层；和
层积于所述第1高折射率层上且具有的折射率比所述第1高折射率层的折射率低的第1低折射率层，
设所述中间基材膜的表面的法线方向为0°，在0°以上75°以下的范围内每5度地变换入射角度的同时由所述第1低折射率层侧向所述中间基材膜照射光，由各自的朝向正反射方向的反射光求出L*a*b*色度系统的a*值和b*值时，a*值的波动为1.0以内，且b*值的波动为1.6以内。
2.如权利要求1所述的中间基材膜，其中，所述第1高折射率层与所述第1低折射率层的折射率差为0.10以上0.22以下。
3.如权利要求1所述的中间基材膜，其中，所述第1高折射率层的折射率为1.62以上1.72以下且膜厚为20nm以上80nm以下，并且所述第1低折射率层的折射率为1.44以上1.54以下且膜厚为3nm以上45nm以下。
4.如权利要求1所述的中间基材膜，其中，所述透明基材与所述第1高折射率层之间进一步具有折射率为1.47以上1.57以下的第1透明层。
5.如权利要求4所述的中间基材膜，其中，所述第1透明层具有1μm以上的膜厚。
6.如权利要求1所述的中间基材膜，其中，所述中间基材膜进一步具备：
层积于所述透明基材的与所述一侧相反侧的第2高折射率层；和
层积于所述第2高折射率层上且所具有的折射率比所述第2高折射率层的折射率低的第2低折射率层。
7.一种触控面板传感器，其具备：
权利要求1所述的中间基材膜；和
层积于所述中间基材膜的所述第1低折射率层上且经图案化后的第1导电层。
8.一种触控面板传感器，其具备：
权利要求6所述的中间基材膜；
层积于所述中间基材膜的所述第1低折射率层上且经图案化后的第1导电层；和
层积于所述中间基材膜的所述第2低折射率层上且经图案化后的第2导电层。
CN201410643808.1A 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器 Active CN104571690B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP2013-223486 2013-10-28
JP2013223486A JP5447728B1 (ja) 2013-10-28 2013-10-28 中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
CN201410588666.3A CN104571689B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410588666.3A Division CN104571689B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104571690A true CN104571690A (zh) 2015-04-29
CN104571690B CN104571690B (zh) 2018-08-07

Family

ID=50614422

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410643808.1A Active CN104571690B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器
CN201410588666.3A Active CN104571689B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器
CN201710761865.3A Active CN107526122B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410588666.3A Active CN104571689B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器
CN201710761865.3A Active CN107526122B (zh) 2013-10-28 2014-10-28 中间基材膜和触控面板传感器

Country Status (5)

Country Link
US (3) US20150116264A1 (zh)
JP (1) JP5447728B1 (zh)
KR (3) KR101505787B1 (zh)
CN (3) CN104571690B (zh)
TW (2) TWI514426B (zh)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK2909828T3 (da) * 2012-10-18 2019-07-29 Crea N V Forskydeligt informationssystem og fremgangsmåde til fremstilling og brug af informationsanordningen i systemet
JP5549966B1 (ja) 2014-03-18 2014-07-16 大日本印刷株式会社 導電性フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5637327B1 (ja) * 2014-03-18 2014-12-10 大日本印刷株式会社 中間基材フィルム、低屈折率層付き中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP2015230510A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ用基板、タッチパネルセンサおよび表示装置
JP6558007B2 (ja) * 2015-03-20 2019-08-14 大日本印刷株式会社 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた表示装置、及び反射防止フィルムの選択方法
KR101947604B1 (ko) * 2015-03-25 2019-02-14 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
US10486398B2 (en) 2015-05-20 2019-11-26 Fujikura Ltd. Conductor-layer-equipped structure and touch panel
CN104850266B (zh) * 2015-06-05 2018-06-15 京东方科技集团股份有限公司 触摸显示面板及其制造方法和显示装置
KR101926960B1 (ko) * 2017-02-10 2018-12-07 주식회사 케이씨씨 저반사 코팅 유리
CN107482039B (zh) * 2017-08-03 2020-07-24 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性触控母板及制备方法、柔性触控基板、触控面板
CN111984154B (zh) * 2020-09-22 2023-08-01 业成科技（成都）有限公司 触控模组及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102214498A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 联享光电股份有限公司 具可见光调整层的透明导电叠层体
JP2012020425A (ja) * 2010-07-12 2012-02-02 Tdk Corp 透明導電体及びこれを用いたタッチパネル
CN102543267A (zh) * 2010-11-04 2012-07-04 日东电工株式会社 透明导电性薄膜及触摸面板
CN102884588A (zh) * 2010-05-13 2013-01-16 Lg化学株式会社 多层结构透明导电膜及其制备方法
TW201333777A (zh) * 2011-11-11 2013-08-16 Kaneka Corp 附透明電極的基板、其製造方法以及觸控面板

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004152727A (ja) 2002-11-01 2004-05-27 Toyo Metallizing Co Ltd 透明導電膜
JP2009122416A (ja) * 2007-11-15 2009-06-04 Toppan Printing Co Ltd 光学薄膜フィルム
JP5163231B2 (ja) * 2008-03-31 2013-03-13 日油株式会社 減反射材及びそれを備えた電子画像表示装置
KR101099031B1 (ko) * 2009-06-05 2011-12-26 한화엘앤씨 주식회사 터치 패널용 투명 도전성 필름 및 그 제조방법
JP2011076932A (ja) * 2009-09-30 2011-04-14 Nitto Denko Corp 透明導電性フィルム及びタッチパネル
CN102034565B (zh) * 2009-10-06 2014-01-29 日油株式会社 透明导电性膜
JP5051328B1 (ja) * 2012-01-27 2012-10-17 大日本印刷株式会社 光学積層体、偏光板及び画像表示装置
JP5956197B2 (ja) * 2012-03-05 2016-07-27 リンテック株式会社 透明導電膜積層用フィルム、その製造方法、及び透明導電性フィルム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102214498A (zh) * 2010-04-06 2011-10-12 联享光电股份有限公司 具可见光调整层的透明导电叠层体
CN102884588A (zh) * 2010-05-13 2013-01-16 Lg化学株式会社 多层结构透明导电膜及其制备方法
JP2012020425A (ja) * 2010-07-12 2012-02-02 Tdk Corp 透明導電体及びこれを用いたタッチパネル
CN102543267A (zh) * 2010-11-04 2012-07-04 日东电工株式会社 透明导电性薄膜及触摸面板
TW201333777A (zh) * 2011-11-11 2013-08-16 Kaneka Corp 附透明電極的基板、其製造方法以及觸控面板

Also Published As

Publication number Publication date
KR101505787B1 (ko) 2015-03-24
TWI514425B (zh) 2015-12-21
CN104571689B (zh) 2018-06-29
TWI514426B (zh) 2015-12-21
TW201517067A (zh) 2015-05-01
KR20150088220A (ko) 2015-07-31
US20150116264A1 (en) 2015-04-30
JP5447728B1 (ja) 2014-03-19
JP2015087814A (ja) 2015-05-07
CN107526122A (zh) 2017-12-29
TW201517068A (zh) 2015-05-01
CN107526122B (zh) 2022-04-26
US20160209549A1 (en) 2016-07-21
KR20150048644A (ko) 2015-05-07
CN104571689A (zh) 2015-04-29
CN104571690B (zh) 2018-08-07
US20150118455A1 (en) 2015-04-30
KR101831030B1 (ko) 2018-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104571690A (zh) 中间基材膜和触控面板传感器
US9874987B2 (en) Double-sided transparent conductive film and touch panel
CN103308959A (zh) 光学膜、偏振片、液晶面板及图像显示装置
JP5574253B1 (ja) 積層体、およびタッチパネルセンサ
CN104932737A (zh) 导电性膜和触控面板传感器
KR20160045210A (ko) 광학 필름 코팅용 조성물 및 이를 포함하는 광학 필름
KR20170129146A (ko) 반사 방지 필름, 해당 반사 방지 필름을 사용한 표시 장치, 및 반사 방지 필름의 선택 방법
CN104656974B (zh) 导电性膜、硬涂膜和触控面板传感器
JP2015108862A (ja) タッチパネル付き表示装置
JP5637327B1 (ja) 中間基材フィルム、低屈折率層付き中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5494884B1 (ja) 中間基材フィルム、およびタッチパネルセンサ
JP5839305B1 (ja) 中間基材フィルム、導電性フィルムおよびタッチパネルセンサ
JP6365942B2 (ja) タッチパネル付き表示装置
JP5907218B2 (ja) 中間基材フィルム、導電性フィルムおよびタッチパネルセンサ
KR101989916B1 (ko) 인덱스매칭 필름
KR20140095863A (ko) 터치패널용 전자파쉴드 반사방지필름
JP2014048528A (ja) 積層体、偏光板、液晶パネル、タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および画像表示装置
JP2015036866A (ja) タッチパネル用中間基材フィルム、タッチパネル用積層フィルム、およびタッチパネルセンサ

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant