TW201213358A - Fluoro-based surfactant, coating composition using the same and resist composition - Google Patents
Fluoro-based surfactant, coating composition using the same and resist composition Download PDFInfo
- Publication number
- TW201213358A TW201213358A TW100123251A TW100123251A TW201213358A TW 201213358 A TW201213358 A TW 201213358A TW 100123251 A TW100123251 A TW 100123251A TW 100123251 A TW100123251 A TW 100123251A TW 201213358 A TW201213358 A TW 201213358A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- acrylate
- fluorine
- mass
- acid
- meth
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/20—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/18—Esters containing halogen
- C08F222/185—Esters containing halogen the ester chains containing seven or more carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/12—Esters of phenols or saturated alcohols
- C08F222/20—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F222/205—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen the ester chains containing seven or more carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
- C08F283/06—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals
- C08F283/065—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals on to unsaturated polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/04—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
- C08F290/06—Polymers provided for in subclass C08G
- C08F290/062—Polyethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F291/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00
- C08F291/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to macromolecular compounds according to more than one of the groups C08F251/00 - C08F289/00 on to halogen-containing macromolecules
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/02—Printing inks
- C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
- C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/47—Levelling agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
201213358 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 ::明係有關一種含氣系界面活性劑,其可作為謀 平滑性的各種塗料領域或者要求精密塗膜之塗布 :域的各種塗布材料、光阻材料之均染劑使用,且對環 士兄及生物體的積f性低,本發明進—步係有關—種塗布 組成物及光阻組成物,其使用該界面活性劑。 【先前技術】 先前’在各種塗布領域中,目的為了提高所得塗膜 之均質性及平滑性,而使用烴系、聚矽氧系、氟系等之 各式各樣稱為均染劑的界面活性劑。其中以氟系界面活 性劑的表面張力降低能力高、塗膜後之污染少,故被廣 此種氟系界面活性劑方面,有提案利用具有氫原子 之至少一個被氟原子取代之碳原子數2〇以下烷基之聚 合單位的聚合物之方法(參照例如專利文獻丨卜特別是利 用碳原子數8以上之全氟烷基的界面活性劑,雖顯示起 因於其表面張力的降低能力’作為均染劑之優異的性能 ,但在具有碳原子數6以下之全氟烷基的界面活性劑則 難以維持其性能,而隨著碳原子數變少,則進一步有表 面張力降低能力變低的問題。 但是,料來因具有破原子& 8之全氟院基的化合 物會因分解產生對環境及生物體之積蓄性高的全氟辛烷 確酸(以下簡稱為r PF〇s」)或全氟辛酸(以下簡稱為「 PFOA」)已極為明確。又,具有碳原子數較8更多的全 201213358 氟烷基的化合物會進一步產生對環境及生物體積蓄性更 高的化合物’此亦不爭的事實。因此,市場上尋求結構 不產生對%丨兄及生物體之積蓄性高的PF〇s或pf〇a之 石反原子數6以下,且儘可能短鏈長之氟化烷基的結構, 例如碳原子數4以下之物或氟化烧基以外之結構的材料 ,但如前述,隨著變成短鏈長,有難以維持作為界面活 性劑之性能的問題。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]曰本特開平10_230 1 54號公報 【發明内容】 [發明欲解決課題] 本發明欲解決課題’係提供一種氟系界面活性劑, 在其結構上為不會產生對環境及生物體之積蓄性高的 PFOS或PFOA之界面活性劑’且即使較具有碳原子數δ 以上之氟化烷基之界面活性劑氟含有率更低,亦具有同 等以上之高表面張力降低能力,可使用作為均染劑。又 ’本發明提供一種塗布組成物及光阻組成物,其係使用 該氟系界面活性劑。 [解決課題之手段] 本發明人等經戮力研究’結果首先發現將聚(全I伸 烧喊)鏈與其兩末端具有(甲基)丙稀醢基等之聚合性不飽 和基的聚合性單體、及具有氡伸烷基及聚合性不飽和基 的聚合性單體予以共聚的屬共聚物之氟系界面活性劑, 顯示與具有碳原子數8以上之氟化烷基的聚合性單體及 201213358 非氟^系聚合性單 面張力降低能力 風險更低的氟系 〇 亦即,本發 為將作為必須單 聚合性不飽和基 合性不飽和基的 又,本發明 其含有上述氟系 [發明效果] 本發明之氣 及氧伸烷基,故 時因不具有碳原 PFOS 或 PFOA, 品。又,即使相 界面活性劑,氟 降低能力,少量 因此,可適 均染劑,再者因 亦具有無損於基 之氟系界面活性 組成物中,則在 布、刀塗布、縫 式各樣的塗膜方 體之通常的無規共聚物有同等以上的表 ’在對環境或生物體的積蓄性中,作為 界面活性劑更為有效,於是完成本發明 明係有關一種氟系界面活性劑,其特徵 體的聚(全氟伸烷醚)鏈與其兩末端具有 的聚合性單體(A)、及具有氧伸烷基及聚 聚合性單體(B)予以共聚的共聚物。 係有關一種塗布組成物及光阻組成物, 界面活性劑。 系界面活性劑因具有聚(全氟伸烷醚)鏈 可充刀發揮作為界面活性劑之性能,同 子數8以上之氟化烷基,故不會產生 為對環扰及生物體之積蓄性低的安全製 :於具有碳原子數8以上之氟化烷基的 3有率更低,^^有更優異的表面張力 添加就可發揮優異的均染性。 &使用作為塗亦 6日士、t上、 曰 布,,且成物或光阻組成物的 少量添加即可顧5目山 貝現出充分的均染性,故 質樹脂之物性的崎里 丨王旳政果。又,若將本發明 劑作為均毕杳丨丨、夭 添加於塗布組成物或光阻 旋轉塗布、軺涂古 堂布、浸潰塗布、噴灑塗 隙塗布、|塗布、凹版印刷塗布等之各 法中,可實現高度的表面平滑性。 201213358 【實施方式】 [實施發明之形態] 本發明之氟系界面活性劑’其係將作為必須單體 聚(全/伸烷醚)鏈與其兩末端具有聚合性不飽和基的 。=單體(A)、及具有氧伸烷基及聚合性不飽和基的聚 性單體(B)予以共聚之共聚物。 "亥聚σ I·生單體(A)係具有聚(全氟伸烷醚)鏈,其兩 端具有聚合性不飽和基的化合物。 的 聚 合 末 该聚(全氟伸烷醚)鏈方面,可例舉具有碳原子數 ^ 3之二(氟化碳基及氧原子為交替鍵聯的結構之物 ::子數】至3之二元氟化碳基可為一種,亦可混告 數種;具體言t,可例舉下述結構式(ai)所示之物。 •X—O-j-X— (a1) 複 社述結構式(al)中’ X為下述結構式(al-1)至(a ’ '、、。構式(al)中全# X可為相同結構之物又,⑹ 結構亦可以無規或嵌段狀存在。又,η表示重複單4 之1以上的整數)。 5) 之 數 —cf2— (a1-1) """"CFgCFa— (a1-2) 一 cf2cf2cf2— (a1-3) CF, —cf2cf— (a1-4) ?p3 —cfcf2— (a1-5) 201213358 省等中,以添加本發明之氟系界面活性劑的塗布* 成物之均染性良好’而就可獲得平滑的塗膜的觀點,: 以該結構式所示全氟亞甲基結構及該 :
(二2)所不全氟伸乙基結構為共存之物最佳。在: :式广)所示全氣亞甲基結構及:結 =乙基結構之存在比率,就均染性之觀點,較 莫:比率:[結構⑷-"/結構(al_2)]為m。至 J 特:二結構式(al)中之°值較佳為3至心Ϊ 特佳為6至7〇之範圍。 祀圍, 及塗U =全鼠伸烧醚)鏈’就塗布組成物之均染性 較佳為聚(全…:材::溶解性可並存的觀點, 18至_個之範圍,更佳:條中所含的敦原子之合計為 +丄' 、 又性為25至150個之範圍。 成為該聚合性輩㈣, 性不飽和基前的化c原料的兩末端導入聚合 (a2-6)。此外,下述各,士 可例舉以下通式(a2-1)至 的聚(全氣伸㈣)鏈 式中的「·ΡΡΡΕ-」則表示上述 201213358 H〇-CH2—PFPE—CH2—OH (a2-1) H〇-CH2CH2—PFPE—CH2CH2—OH (a2-2)
O O HO-C-PFPE—C—OH (a2-3)
O O HO—C-CH2—PFPE-CH2—C—OH (a2-4) (a2-5)
OCN—PFPE—NCO H2C—CH—CH2-〇-CH2—PFPE—CH2—O—CH2—CH-CH2 (a2-6) o 、〇〆 在該聚合性單體(A)之聚(全氟伸烷醚)鏈兩末端具 有的聚合性不飽和基,可例舉例如具有下述結構式U-1 至U-5所示之聚合性不飽和基之物。 ΟII —Ο—C—CH—CH2 U-1 ΟII —NH—C——CH 二 CH2 U-3 οII —Ο—C—C^^CH2 ch3
o II o一C—C 二 CH 2 U-2 U-4
CH2一C_OH
II o U-5 —0—CH2 I ch=ch2 在該等聚合性不飽和基中,尤其是由聚合性單體(A) 本身取得或製造之容易性,或者與後述聚合性單體(B) 201213358 之共聚容易性而言, 交佳為結構式u -1所示之丙婦酿氧
化合物,使(曱基)丙烯酸氯進行脫鹽酸反應而獲得的方 法;使(曱基)丙烯酸脫水反應而獲得的方法;使異氰酸 2-(甲基)丙烯醯氧乙酯進行胺基曱酸酯化反應而獲得的 方法;使伊康酸酐進行酯化反應而獲得的方法;與具有 氯甲基的苯乙烯在鹼存在下使其反應而獲得的方法;相 對於在全氟伸烧醚)鏈兩末端各自具有一個叛基的化 合物’使4 ·羥丁基丙烯酸環氧丙醚進行酯化反應而獲得 的方法,使(曱基)丙烯酸環氧丙酯進行酯化反應而獲得 的方法,相對於在聚(全氟伸烧醚)鏈之兩末端各自具有 一個異氰酸酿基的化合物’使(甲基)丙稀酸2 -經乙醋反 應’再導入的方法;使2-羥乙基(甲基)丙烯醯胺反應的 方法°該等中’相對於在聚(全氟伸烷醚)鏈之兩末端各 自具有一個羥基的化合物,使(曱基)丙烯酸氣進行脫鹽 酸反應而獲得的方法;及使異氰酸2-(甲基)丙稀醯氧乙 酯進行胺基甲酸酯化反應而獲得的方法,在合成上易於 獲得,就此點特佳。 此外’在本發明中,「(曱基)丙烯醯基」係指曱基 丙烯醢基及内烯醯基之其一或兩者,「(甲基)丙烯酸酯 」係指甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯之其一或兩者,「(甲基 )丙烯酸」係指曱基丙烯酸及丙烯酸之其一或兩者。 -10- 201213358 該聚合性單體(A)之具體例方面,可例舉下述結構式 (A-1)至(A-13)所示之物。此外,下述各結構式中的「 -PFPE-」表示聚(全氟伸烷醚)鏈。 (A-1) CH2=CH—C-0—CH2—PFPE—CH2-〇-C-CH=CH2 i? CH2=C一C一O—CH2一PFPE一CH2一O~C一C=CH2 ch3 CH2=CH—H—o_ch2ch2-pfpe,ch2ch2-o - H-ch=ch2 (A-2) (A-3) (A-4) CH2=9—ϋ—o-ch2ch2—pfpe—ch2ch2-o-C-c=ch2 o i? n ---—------ C' * — - ~ ch2=ch-c—och2ch2-nhco-ch2-pfpe-ch2-ocnh-ch2ch2o-c—ch=ch2 (A-5) CH2=C-C-〇CH2CH2-NhI1〇-CH2-PFPE-CH2H ch3
(A-6) ch2=ch-丨 〇 O 0 0 C-OCH2CH2-NHCOCH2CH2-PFPE-CH2CH2-〇CNH-CH2CH2〇-C-i CH=CH2 (A-7) o
CH2=C-(!-OCH2CH2^NHc!〇-CH2CH2-PFPE-CH2CH2-〇ilNH-CH2CH2〇-S-C=CH2 (A-8) CH3 ch3 0 0 0 〇 CH2=CH-i!〇CH2CH2CH2CH2_OCH2CHCH2〇-li-PFPE-li-〇CH2CHCH2〇-CH2CH2CH2CH2〇ii-CH=CH2 (A-9) 〇H d)H 0 0 0 CH2=<p-l!-〇CH2CHCH2-〇-^—PFPE-il - 〇-CH2CHCH: ch3 d)H Ah 丨2〇_(!-?=CH2 ch3o (A-10)
CH2=CH-(!-〇CH2CHCH2—o—ch2—PFPE—ch2—o—ch2chch2o-S-ch=ch2 (!)H i)H -ϋ-c 2J- c CH2=C-C-OCH2CHCH2—0—CH2—PFPE—CH2—0—CH2CHCH2〇-C-C=CH2 ch3 <!>h bn in3 (A-12) -CH=CHj (A-13) CH2=CH-^~~^—CH2—〇-CH2—PFPE—CH2—0-CH2- 該等中,就聚合性單體(A)之工業製造上容易的觀點 較佳為該結構式(A-1)、(A-2)、(A-5)、(A-6)所示之物 201213358 就可更加提高作為均染劑的性能而言’更佳為在該結 構式(A-1)所示之聚(全氟伸烷醚)鏈之兩末端具有丙烯醯 基之物。 S亥聚合性單體(B)係具有氧伸烷基及聚合性不飽和 基的聚合性單體。聚合性單體(B)具有的聚合性不飽和基 方面’可例舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、馬來醯亞胺基 等’由與該聚合性單體(A)之共聚容易性而言,較佳為( 甲基)丙烯醯基。 又,该聚合性單體(B)之具體例方面,可例舉下述通 式(B1)所示之單體。 Ο OH — 〇^x〇)r(Yc^z〇)^R2 (B1) (式中,R 之伸烧基;p、 及r之合計為 至6之炫基)。 為氫原子或甲基;X、γ及Z為各自獨立 q及r各自為〇或1以上之整數;且p、q 1以上之整數;R2為氫原子或碳原子數1 上述通式(B1)中之父、丫及z為伸烷基而在該伸 烧基中亦含具有取代基之物。办(x〇)p_(Y〇)q_(z〇)r部 :之具體例方面」可例舉:重複單位數p為】且q及r 為0’且X為乙稀的乙二醇殘美·舌〜 及4 " X為伸丙某之:1後單位數P為1且q U且…為。,且χ:τΓ殘基;重複單位數。 位數Ρ為2以上之整數且〜醇殘基;重複單 乙二醇殘㈣複單位數…:二且^ ,且X為卜甲基伸乙基(伸丙基 q r為〇 ;幻♦丙二醇殘基;重複 -12- 201213358 單位數P&q均為1以上之整數且r為0,J_X或Y為 _ w马1 -曱基伸乙基(伸丙基)的環氧乙烷與環
氧丙院之/、♦物之殘基;重複單位數p、q及r均為1以 上之整韋全,日 V x及Z為乙烯’且丫為甲基伸乙基(伸 丙基)之環氧乙烷與環氧丙烷之共聚物之殘基等之聚伸 烷基二醇之殘基。 °玄聚伸烷基二醇之聚合度,亦即通式(B1)中p、q及 Γ之合計,較4去先1 至為I至80之物’更佳為3至50之物。此 卜3 X之重複單位、含Y之重複單位及含2;之重複單 位以無規狀配置或以嵌段狀配置均無妨。 2上,通式(Bl)中之R2係氫或碳原子數I至ό之烷基 °/2為氫之情形’聚合性單體(Β)則為聚乙二醇、聚丙二 醇聚丁一醇等之伸烷基二醇之單(甲基)丙烯酸酯,R2 為反原子數I至6之情形,非為伸烷基二醇之單(曱基) 丙烯敲S曰之(甲基)丙烯酸酯末端則被碳原子數^至6之 烷基所封端。 。亥單體(B I)之更具體的例子方面,可例舉例如聚丙 二醇單(甲基)丙烯酸醋、聚乙二醇單(甲基)丙烯酸醋、聚 (甲基)丙嫦酸伸丁二醇醋、聚(乙二醇•丙二醇)單(甲基) 丙稀酸S旨、聚乙二醇•聚丙二醇單(甲基)丙㈣醋、聚( 乙一醇•伸丁 一醇)單(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇•聚伸 丁二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚(丙二醇.伸丁二醇)單(甲 基)丙烯酸酯、聚丙二醇·聚伸丁二醇單(甲基)丙烯酸酯 、聚(丙二醇•丙二醇)單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇•聚 丁二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇.丁二醇)單(甲基) -13- 201213358 丙烯酸酯、聚乙二醇·雙丁 _龄田#、工β _ 畔 ♦丁 —私单(甲基)丙烯酸酯、聚( 伸丁-醇· 丁二醇)單(甲基)丙烯酸酯、聚伸丁二醇·聚 丁二醇單(甲基)丙烯酸酿、聚丁二醇單(甲基)丙烯酸:、 聚(乙一醇•二亞甲基二醇)單(曱基)丙烯酸酯、聚乙二醇 來二亞甲基二醇單(曱基)丙烯酸酯、聚(丙二醇•三亞 曱基二醇)單(曱基)丙烯酸酯、聚丙二醇·聚三亞曱基二 醇單(甲基)丙烯酸醋、聚(三亞曱基二醇.伸丁二醇)單( 曱基)丙烯酸酯、聚三亞甲基二醇·聚伸丁二醇單(曱基) 丙烯酸醋、聚(丁二醇•三亞甲基二醇)單(曱基)丙稀酸^旨 、聚丁二醇•聚三亞甲基二醇單(曱基)丙烯酸酯等。此 外,「聚(乙二醇·丙二醇)」表示乙二醇與丙二醇之無 規共聚合物,「聚乙二醇.聚丙二醇」表示乙二醇與丙 二醇之嵌段共聚合物之意。其他之物亦同。該等單體(B t) 中’就與本發明之塗布組成物中其他成分互溶性良好而 5 ’較佳為聚丙一醇早(甲基)丙稀酸醋、聚乙二醇單(甲 基)丙烯酸酯、聚乙二醇.聚丙二醇單(曱基)丙烯酸酯。 又,該單體(B 1)之市售品方面,可例舉新中村化學 工業股份有限公司製「NK酯M-20G」、「NK酯M-40G 」、「NK 酯 M-90G」、「NK 酯 M-230G」、「NK 酯 AM-90G」、「NK 酯 AMP-10G」、「NK 酯 AMP-20G」 、「NK醋AMP-60G」;日油股份有限公司製「Bremmer PE-90」、「Bremmer PE-200」、「Bremmer PE-3 50」、 「Bremmer PME-100」、「Bremmer PME-200」、「Bremmer PME-400」、「Bremmer PME-4000」、「Bremmer PP-1 000 」、「Bremmer PP-500」、「Bremmer PP-800」、「Bremmer -14· 201213358 7 0PEP-350B」 50POEP-800B NKH-5050 I - 「Bremmer 55PET-800」、「Bremmer 、B r e m m e r 1 0 P P B - 5 0 0 B」、「Bremmer Bremmer AP-400」、「Bremmer AE-3 5 〇 等。該等單體(B 1)可單獨使用,亦可併用二種以上。 本發明之氟系界面活性劑的原料方面,係以該聚合 性單體(A)及聚合性單體(B)為必須成分,但該等以外之 聚合性單體方面,即使併用(曱基)丙烯酸烷酯(c)作為原 料亦無妨。該(甲基)丙烯酸烷酯(c)之具體例方面,可例 舉下述通式(C1)所示之物。 0 CH2=C—C—Ο—R4 (C1) R3 (式中’ R3為氫原子或曱基;r4為具有碳原子數1 至1 8之直鏈狀、分支狀或環結構的烷基)。 此外’上述通式(C丨)中之R4為具有碳原子數1至1 8 之直鏈狀、分支狀或環結構的烷基,但該烷基中亦含有 具有脂肪族或芳香族之烴基、羥基等之取代基之物。該( 曱基)丙烯酸烷酯(C)之更具體的例子方面’可例舉(曱基) 丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、( 甲基)丙稀酸丁酯、(曱基)丙烯酸辛酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己醋、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二酯、( 甲基)丙烯酸硬脂醯酯等之(曱基)丙烯酸之碳原子數為i 至18之烧醋;(甲基)丙烯酸二環戊烷氧乙酯、(甲基)丙 烯酸異莰基氧乙酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(曱基)丙烯酸 金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二甲基金剛烷酯、(曱基)丙烯酸 二環戍酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯等之(甲基)丙烯酸之 -15- 201213358 碳原子數1至1 8之交聯環狀烷酯等。該等聚合性單體(C) 可單獨使用,亦可併用二種以上。 又,本發明之氟系界面活性劑之原料方面,在該聚 合性單體(A)、(B)及(C)以外之聚合性單體方面,亦可使 用苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對曱基苯乙烯、對甲氧基苯 乙烯等之芳香族乙烯化合物;順丁烯二醯亞胺、甲基順 丁烯二醯亞胺、乙基順丁烯二醯亞胺、丙基順丁烯二醯 亞胺、丁基順丁烯二醯亞胺、己基順丁烯二醯亞胺、辛 基順丁烯二醯亞胺、十二基順丁烯二醯亞胺、硬脂醯基 順丁烯二醯亞胺、苯基順丁烯二醯亞胺、環己基順丁烯 二醯亞胺等之順丁烯二醯亞胺化合物等。再者,使用具 有碳原子數1至6之氟化烷基的聚合性單體等亦無妨。 在製造本發明之氟系界面活性劑的方法方面,並無 特別限制,可例舉使用自由基聚合引發劑,將聚合性單 體(Α)及聚合性單體(Β)、依照需要使用之該等以外的聚 合性單體,在有機溶劑中聚合的方法。在此使用的有機 溶劑方面,較佳為酮類、酯類、醯胺類、亞砜類、醚類 、烴類,具體言之,可例舉丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮 、環己酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單曱醚乙酸酯 、二曱基曱醯胺、二曱基乙醯胺、Ν -曱基吡咯酮、二曱 基亞砜、二乙醚、二異丙醚、四氫呋喃、二氧六圜、曱 苯、二甲苯等。該等可考量沸點、互溶性、聚合性而適 宜選擇。自由基聚合引發劑方面,可例示過氧化苄醯基 等之過氧化物、偶氮雙異丁腈等之偶氮化合物等。再者 ,可依照需要使用月桂基硫醇、2-巯乙醇、硫甘油、乙 基硫乙醇酸、辛基硫乙醇酸等之鏈轉移劑。 -16- 201213358 本發明之氟系界面活性劑的數量平均分子量(Μη)及 重量平均分子量(Mw),在添加於塗布組成物等之樹脂組 成物時,與其他調配成公 ,^ 从分互溶性良好’由於可實現高度 均米性,故數置平均分子量(Mn)較佳& 5〇〇至2〇,剛之 fc圍’更佳為1,500至1〇,〇〇〇之範圍。又,重量平均分 子1 (Mw)較佳為2,000纟1〇〇 〇〇〇之範圍更佳為3 〇〇〇 至5〇,_之範圍。此外,數量平均分子量(Μη)及重量平 均分子量(Mw)係根據凝膠滲透層析(以下簡㈣「Gpc」 )測定之換算聚苯乙稀之值^外,Gpc之測定條件如下 〇 [GPC測定條件] 測定裝置:東曹股份有限公司製「HLC_822〇 gpc」, 官柱·東曹股份有限公司製保護管柱(guard c〇lumn) HHR-H」(6.0mmI.D.x4cm) +東曹股份有限公司製「TSK_GEL GMHHR-N」 (7-8mmI.D.x3〇cm) +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7.8mmI.D.x30cm) +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7.8mmI.D.x30cm) +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7-8mmI.D.x3〇cm) 檢測器:ELSD(Ortec 製「ELSD2000」) 數據處理:東曹股份有限公司製「GPC-8020模型II 數據解析版本4.3 0」 -17- 201213358 測定條件:管柱溫度 40°C 展開溶劑 四氫呋喃(THF) 流速 1.0 m 1 /分 試料:換算樹脂固體成分係將1.0質量%之四氫呋喃 溶液以微慮器過渡之物(5 μ 1)。 標準試料:依照該「GPC-8020模型II數據解析版 本4.30」之測定手冊,使用分子量為既知之下述單分散 聚苯乙烯。 (單分散聚苯乙烯) 東曹股份有限公司製「Α-500」 東曹股份有限公司製「Α-1 000」 東曹股份有限公司製「Α-2500」 東曹股份有限公司製「Α-5000」 東曹股份有限公司製「F-1」 東曹股份有限公司製「F-2」 東曹股份有限公司製「F-4」 東曹股份有限公司製「F-10」 東曹股份有限公司製「F-20」 東曹股份有限公司製「F-40」 東曹股份有限公司製「F-80」 東曹股份有限公司製「F-1 28」 東曹股份有限公司製「F-288」 東曹股份有限公司製「F-550」 又,使用作為本發明之氟系界面活性劑的原料的該 聚合性單體(Α)、聚合性單體(Β)及可依照需要使用之該 -18- 201213358 等以外 成物或 成物或 較佳為 圍,再 係相對 合性單 本 性劑作 之添加 而異, 較佳為 聚σ丨生單體合計中的氟含有率,由於可使塗專解 光阻組成物之均染性為充分之物,且成為爹車·姐 光阻組成物中與其他成分之互溶性良好之物’玫 至40貝量%之範圍,更佳為5至3〇質量%之耙 佳為10至25質量%之範圍。此外,該氟含有率 於使用作為本發明之氟系界面活性劑之原科的1 體之合古4* I + °里’來計算出氟原子的質量比率。 發明之塗布組成物係將上述本發明之氟系界面活 為添加劑使用。塗布組成物中該氟系界面活性劑 量因塗布樹脂之種類、塗膜方法、目的之膜厚等 但相對於100質量份固體成分,塗布組成物中, 〇.0001至10質量份,更佳為0.001至5質量份, 再佳為0.0 1 i 2質量份。氟系界面活性劑只要是在該範 圍之添加量’即可充分降低表面張力,獲得目的的均染 性,並可抑制塗膜時起泡等不良影響的發生。 塗布組成物之添加劑方面,藉由使用本發明之氟系 界面活性劑’相較於先前具有碳原子數8以上之全氟烷 基的1系界面活性劑,對環境及生物體的蓄積性低,且 相較於先前之具有碳原子數8以上之全氟烷基的氟系界 面活性劑’即使以更低的氟原子濃度,亦可提供具有同 專以上均染性的塗布組成物。此種塗布組成物方面,可 例舉各種塗料用組成物或感光性樹脂組成物。 上述塗料用組成物方面,可例舉使用石油樹脂塗料 、蟲膠(s h e 11 a c)塗料、松香(r 〇 s i η)系塗料、纖維素系塗料 、橡膠系塗料、漆塗料、腰果(cashew)樹脂塗料、油性 -19- 201213358 媒液塗料等之天然樹脂的塗料;使用苯酚樹脂塗料、醇 酸(alkyd)樹脂塗料、不飽和聚酯樹脂塗料、胺基樹脂塗 料、環氧樹脂塗料、乙烯樹脂塗料、丙烯酸樹脂塗料、 聚胺基曱酸酯樹脂塗料、聚矽氧(silic〇ne)樹脂塗料、氟 樹脂塗料等之合成樹脂的塗料等。 又’除了上述例示的塗料用組成物以外,在活性能 量線硬化型組成物中,亦可使用本發明之氟系界面活性 劑。該活性能量線硬化型組成物的主成分方面係含有 活性能S線硬化型樹脂或活性能量線硬化性單體。此外 ,該活性能量線硬化型樹脂及活性能量線硬化性單體係 指可各自單獨使用之物,但併用亦無妨。 該活性能量線硬化型樹脂可例舉胺基甲酸酯(甲基) 丙烯酸酯樹脂、不飽和聚酯樹脂、(甲基)丙烯酸環氧酯 樹脂、聚酯(甲基)丙烯酸酯樹脂、丙烯酸(曱基)丙烯酸酯 樹脂、含有順丁烯二醯亞胺基的樹脂等,但本發明中, 就透明性或低收縮性等之觀點,較佳為胺基甲酸酯(甲基 )丙稀酸酯樹脂。 在此使用的胺基曱酸酯(曱基)丙烯酸酯樹脂,可例 舉將脂肪族聚異氰酸酯化合物或芳香族聚異氰酸酯化合 物及具有羥基的(甲基)丙烯酸酯化合物反應所得的具有 胺基甲酸醋鍵及(甲基)丙烯醯基的樹脂。 該脂肪族聚異氰酸酯化合物方面,可例舉例如二異 氰酸四亞甲酯、二異氰酸五亞甲酯、二異氰酸六亞曱酯 、二異氰酸七亞甲酯、二異氰酸八亞甲酯、二異氰酸十 亞甲酯、二異氰酸2-甲基-丨,5-戊酯、二異氰酸3_曱基-丨5_ -20- 201213358 2'甲基五亞甲酯 異氰酸2,4,4-三曱 戊酯、二異氰酸十二亞曱酯、二異氰酸 、二異氰酸2,2,4-三甲基六亞甲酯、 基六亞曱酯、二異氰酸異佛酮酯、二s —秀氰酸去曱伯酯、 氫化二苯基曱基二異鼠酸酷、氫化甲仙— T 1申本基二異氰酸酯 、氮化苯二曱基·一異亂酸商旨、氣化四田诗 ^基苯二曱基二異 氰酸酯、二異氰酸環己酯等’又,芳禾_ 合物方面,可例舉二異氰酸甲伸苯酉旨、_ 苯基曱酉旨、二異氰酸苯二甲酿、二異 異氰酸聯曱苯胺(t〇lidine)S$ ...„ ^ 方香知聚異氰酸酯化 異氰酸4,4 ’ -二 氛酸1,5-萘酯、二 異氰釀對伸苯酯等。 一方面,具有羥基的丙烯酸酯化人& 0物方面,可例舉 例如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙 ^内烯酸2-羥丙酯、( 曱基)丙烯酸2-羥丁酯、(曱基)丙烯酸4 ,, 1 % 4-羥丁酯、丨,5_戊 二醇單(甲基)丙稀酸醋、1,6-己二醇單(甲基)丙烤酸醋、 新戊二醇單(曱基)丙烯酸醋、羥三甲基乙酸新戊二醇單( 曱基)丙烯酸酯等之二元醇之單(曱基)两烯酸酯;二(甲基 )丙烯酸三羥甲基丙_、乙氧化三羥曱基丙烷(甲基)丙烯 酸酯、丙氧化三羥甲基丙炫二(曱基)丙烯酸酯、甘油二( 曱基)丙烯酸酯、異三聚氰酸雙(2-(甲基)丙烯醯氧乙基〕 羥乙酯等三元醇之單或二(曱基)丙烯酸酯,或者將該等 醇性經基之一部分以ε -己内酯改性之含經基的單及_ < 甲基)丙烯酸酯;三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、三(甲基、 丙稀酸二-三經曱基丙酯、五(甲基)丙烯酸二新戊四醇酷 等之具有1官能羥基及3官能以上(曱基)丙烯醯基的化 合物’或者將該化合物再以ε-己内酯改性的含羥基的多 官能(甲基)丙晞酸酯;單(甲基)丙烯酸二丙二醇酯、單( -21 - 201213358 只土)_丙烯g文—乙二醇酯、聚丙二醇單(曱基)丙烯酸酯、 " 醇單(甲基)丙烯酸酯等之具有氧伸烷鏈的(曱基) 丙2駄§曰化合物;聚乙二醇-聚丙二醇單(曱基)丙烯酸酯 Λ 申丁基·聚氧化丙稀基單(曱基)丙烯酸酯等之具有 嵌奴、’°構之氧伸烷鏈的(曱基)丙烯酸酯化合物;聚(乙二 醇-伸丁二醇)單(甲基)丙烯酸酯 '聚(丙二醇-伸丁二醇) 單(甲基)丙烯酸酯等之具有無規結構之氧伸烷鏈的(曱基 )丙細酸@旨化合物等。 胺、二丁胺等 桂酸二丁錫、 、辛酸錫等之 物。 之胺類;三苯 三月桂酸辛錫 有機錫化合物 上述脂肪族聚異氰酸酯 化合物與具有羥基的丙烯酸 甲酸酯化觸媒之存在下,以 的胺基甲酸酯化觸媒,具體 三乙胺、二乙 之膦類;二月 、二乙酸丁錫 有機金屬化合 化合物或芳香族聚異氰酸酯 酯化合物之反應,可在胺基 通常方法進行。在此可使用 言之’可例舉°比咬、。比η各、 膦、三乙膦等 、二乙酸辛錫 :辛酸鋅等之 5亥等胺基甲酸酯丙烯酸酯樹脂中,就硬化塗膜之透 明性優異、且對活性能量線感度良好且硬化性優異的觀 點,特佳為將脂肪族聚異氰酸龜化合物與具有羥基的( 曱基)丙烯酸酯化合物反應所得之物。 接著,不飽和聚酯樹脂為藉由α,β_*飽和二元酸或 其酸酐、芳香族飽和二元酸或其酸酐、及二醇類之縮擎 而獲得的硬化性樹脂,α,Ρ_不飽和二元酸或其酸軒方面 ,可例舉順丁烯二酸 康酸、檸康酸、氣順 、順丁烯二酸酐、反丁烯二酸、伊 丁烯二酸及該等酯等。芳香族飽和 -22- 201213358 二元酸或其酸針方面’可例舉酜酸、賦酸針、異酿酸、 對酞酸、硝基酞酸、四氫酞酸酐、橋聯亞曱基四氫駄酸 酐、鹵素化敝酸針及5亥等之自旨等。脂肪族或者脂環族飽 和二元酸方面,可例舉草酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸 、癸一酸、壬二酸、戍一酸、六鼠献酸肝及該等g旨等。 二醇類方面,可例舉乙二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙 二醇、1,3-丁 二醇、1,4-丁 二醇、2-甲基丙烷- i,3_ 二醇、 新戊二醇、三乙二醇、伸丁二醇、1,5-戊二醇、丨,6•己二 醇、雙酚A、氫化雙酚A、碳酸乙二醇酯、2,2-二- (4-經 丙氧基二苯基)丙烧等,此外,亦可同樣使用環氧乙烧、 環氧丙烷等之氧化物。 接者,壞氧乙稀醋樹脂方面,可例舉在雙紛A型環 氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、曱 酚酚醛清漆型環氧樹脂等之環氧樹脂之環氧基中使(甲 基)丙婦酸反應所得之物。 又,含順丁烯二醯亞胺基的樹脂方面,可例舉:將 N-羥乙基順丁烯二醯亞胺與二異氰酸異彿_酿進行胺基 甲酸酯化所得的二官能順丁烯二醯亞胺胺基甲酸g旨化合 物;將順丁烯二醯亞胺乙酸與聚伸丁二醇進行醋化所得 的二官能順丁烯二醯亞胺酯化合物;將順丁稀二酿亞胺 己酸與新戊四醇之四環氧乙烷加成物進行酯化所得的四 官能順丁烯二醯亞胺酯化合物;將順丁烯二醯亞胺乙酸 與多元醇化合物酯化所得的多官能順丁烯二醯亞胺雖化 合物等。該等活性能量線硬化型樹脂可單獨使用,亦可 併用二種以上。 -23- 201213358 該活性能量線硬化性單體方面,可例舉例如二(甲基 )丙烯酸乙二醇@旨、二(甲基)丙烯酸二乙二醇|旨、二(甲基 )丙稀酸三乙二醇自旨;數量平均分子量在15〇至1〇〇〇範 圍的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(曱基)丙烯酸丙二醇 酯、二(甲基)丙烯酸二丙二醇酯、二(曱基)丙婦酸三丙二 醇醋,數量平均分子量在150至1〇〇〇之範圍的聚丙二醇 二(曱基)丙稀酸酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇醋、二(甲 基)丙烯酸1,3-丁二醇酯、二(曱基)丙烯酸丨,4_丁二醇酉旨 、一(甲基)丙烯酸1,6 -己二醇S旨、經三甲基乙酸_新戊 二醇二(曱基)丙烯酸酯、二(曱基)丙烯酸雙酚A醋、三( 曱基)丙稀酸三經曱基丙酯、三(曱基)丙烯酸新戊四醇醋 、六(曱基)丙烯酸二新戊四醇酯、四(曱基)丙烯酸新戊四 醇酯、二(甲基)丙烯酸三羥曱基丙酯、五(甲基)丙稀酸二 新戊四醇酯、(曱基)丙烯酸二環戊烯酯、(曱基)丙烯酸曱 酯、(曱基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙稀 酸二級丁酯、(曱基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙浠酸辛 酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(曱基)丙烯酸異癸酯、(曱基)丙 烯酸月桂酯、(曱基)丙烯酸硬脂醯酯、(曱基)丙烯酸異硬 脂醯酯等之脂肪族(甲基)丙烯酸烷酯;(曱基)丙烯酸甘油 酯、(曱基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-氣-2-羥丙 酯、(曱基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(曱 基)丙烯酸2-丁氧乙酯、(曱基)丙烯酸2-(二乙基胺基)乙 酯 ' (曱基)丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯、γ_(甲基)丙稀醯 氧丙基三甲氧基矽烷、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(曱 基)丙烯酸甲氧基二乙二醇酯、(曱基)丙烯酸曱氧基二丙 -24- 201213358 二醇酯、壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基笨 氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、 (曱基)丙烯酸苯氧二丙二醇酯、苯氧基聚丙二醇(曱基) 丙烯酸酯、聚(曱基)丙烯酸丁二烯酯、聚乙二醇-聚丙二 醇(曱基)丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丁二醇(曱基)丙烯酸酯 、聚(甲基)丙烯酸苯乙烯基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、( 甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙 烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、甲氧基化環十 三碳烯(曱基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯酯;順丁烯二醯 亞胺、N-曱基順丁烯二醯亞胺、N_乙基順丁烯二醯亞胺 、N-丙基順丁烯二醯亞胺、Ν_τ基順丁烯二醯亞胺、Ν· 己基順丁烯二醯亞胺、Ν -辛基順丁浠二醯亞胺、ν -十二 基順丁烯二醯亞胺、Ν_硬脂醯基順丁烯二醢亞胺、Ν_苯 基順丁烯二醯亞胺、Ν -環己基順丁稀二醯亞胺、2 -順丁 烯二醯亞胺乙基-乙基碳酸酯、2 -順丁烯二醯亞胺乙基_ 丙基碳酸酯、Ν -乙基_(2 -順丁烯二醯亞胺乙基)氨基甲酸 酯、Ν,Ν-六亞曱基雙順丁烯二醯亞胺、聚丙二醇-雙(3_ 順丁稀一醯亞胺丙基)喊、雙(2 -順丁浠二醢亞胺乙基)碳 酸酯、1,4 -二順丁烯二醯亞胺環己烷等之順丁烯二醯亞 胺類等。 該等中’由硬化塗膜之硬度優異的觀點,特佳為三( 曱基)丙烯酸三羥曱基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇 酯、六(曱基)丙稀酸二新戍四醇酯、四(曱基)丙浠酸新戊 四醇酯等之三官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯。該等活 性能量線硬化性單體可單獨使用,亦可併用二種以上。 -25- 201213358 該活性能量線硬化型組成物可在塗布於基材後,藉 由照射活性能量線而成為硬化塗膜。該活性能量線係^ 紫外線、電子束、α線、p線、γ線般的離子化射線。活 性能量線方面,在照射紫外線成為硬化塗膜的情形時, 較佳為在該含氟硬化性樹脂或活性能量線硬化型組成物 中添加光聚合引發劑,並提高硬化性。又,若有必要, 亦可進一步添加光增感劑’並提高硬化性。一方面,在 使用電子束、α線、β線、γ線般的離子化射線的情形時 ’因即使不使用光聚合引發劑或光增感劑,亦可快速硬 化故不特別需要添加光聚合引發劑或光增感劑。 該光聚合引發劑方面,可例舉分子内裂開型光聚合 引發齊丨及虱摘取型(hydr〇geil abstracting type)光聚合引 發劑。分子内裂開型光聚合引發劑方面,可例舉例如二 乙氧基苯乙酮、2-羥基_2_曱基-i_苯基丙烷-卜酮、苄基二 甲基縮酮、丨-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、 4-(2-經乙氧基)苯基_(2羥基_2丙基)酮、卜羥環己基苯 基嗣2甲基-2 -嗎琳基(morphoiino)”-硫代甲基苯基)丙 燒-1-銅、2-苄基-2_二甲基胺基_丨_(心嗎啉苯基)_ 丁酮等之 笨乙酮系化合物;安息香、安息香曱醚、安息香異丙鍵 等之安息香類;氧化2,4,6-三曱基安息香二苯膦、氧化 雙(2,4,6-三甲基苯曱醯基苯膦等之氧化醯基膦系化合 物;节基、甲基苯基乙醛酯等。 一方面’氫摘取型光聚合引發劑方面,巧例舉二苯 基酮、鄰笨甲醯基苯甲酸曱基-4-苯基二苯基酮、4,4,_二 氣二苯基網、羥二苯基酮、4-苯曱醯基-4,-甲基-二苯基 -26- 201213358 硫化物、丙烯酸化二苯基酮' 3,3 ’,4,4,-四(三級丁基過氧 羰基)二苯基酮、3,3’-二甲基-4-甲氧基二苯基酮等 _ 苯基酮系化合物;2 -異丙基9 -氧硫咄嗟、2,4 -二曱基9 氧硫4嗟、2,4-二乙基9-氧硫4嗟、2,4-二氣9-氧硫。山唱 等之9 -氧硫4噔系化合物;米希勒_、4,4 ’ -二乙基胺展 二苯基酮等之胺基二苯基酮系化合物;10_ 丁基_2_氣。丫。定 酮(3^^〇116)、2-乙基蒽醌、9,1〇-菲醌、樟腦醌等。 上述光聚合引發劑中’就與活性能量線硬化型塗料 組成物中該活性能量線硬化性樹脂及活性能量線硬化性 單體之互溶性優異的觀點,較佳為丨_羥環己基苯基酮、 及二苯基酮、特佳為1 -羥環己基笨基酮。該等光聚合引 發劑可單獨使用,亦可併用二種以上。 又’該光增感劑方面,可例舉脂肪族胺、芳香族胺 等之胺類、鄰曱苯基硫脲等之脲類、二乙基二硫代磷酸 納、s-苄基異硫脲(thiouronium)·對曱苯磺酸鹽等之硫化 合物等。 相對於活性能量線硬化型組成物中之丨〇〇質量份不 揮發成分,該等光聚合引發劑及光增感劑之使用量各自 以0.01至20質量份為佳,更佳為〇丨至15質量%,進 而更佳為0.3至7質量份。 又’在上述塗料用組成 有機溶劑;顏料、染料、碳 化鈦、氧化鋅、氧化鋁、氧 無機粉末;高級脂肪酸、丙 樹脂、聚笨乙烯樹脂、胺基 物中,可依照需要適宜添加 等之著色劑;二氧化矽、氧 化鍅' 氧化鈣、碳酸鈣等之 烯酸樹脂、笨酚樹脂、聚酯 甲酸酯樹脂、脲樹脂、三聚 -27- 201213358 氰胺樹脂、醇酸樹脂、環氧樹脂、聚醯胺樹脂、聚碳酸 酿樹脂、石油樹脂、氟樹脂(PTFE(聚四氟乙烯)等)、聚 乙烯、聚丙烯等各種樹脂微粉末;抗靜電劑、消泡劑、 黏度。周鲞劑、财光穩定劑、财氣候穩定劑、耐熱穩定劑 、抗氧化劑、除銹劑、滑動劑、蠟、光澤調整劑、脫模 劑、互溶化劑、導電調整劑、分散劑、分散穩定劑、增 黏劑、抗沈澱劑、聚矽氧(silicone)系或烴系界面活性劑 專各種添加劑。 °玄有機溶劑可有效地將上述塗料組成物之溶液黏度 適當調整’特別是在進行薄膜塗布時,可使膜厚之調整 較為容易。在此可使用的有機溶劑方面,可例舉甲苯、 二曱苯等之芳香族烴;曱醇、乙醇、異丙醇 '三級丁醇 等之醇類;乙酸乙酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等之醋類; 甲乙酮、曱異丁酮、環己酮等之酮類等。該等溶劑可單 獨使用,亦可併用二種以上。 又’上述塗料組成物之塗膜方法因用途而異,不過 可例舉使用凹版印刷塗布機、輥塗布機、切角塗布機 (comma coater)、刀塗布機、氣刀塗布機、簾塗布機、接 觸輥塗布機(kiss coater)、沖洗塗布機、惠勒塗布機 (wheeler coater)、旋轉塗布機、浸潰、網版印刷、嘴麗 、塗布機(applicator)、棒塗布機、靜電坌裝等的塗布方 法,或者使用到各種鑄模的成形方法等。 上述感光性樹脂組成物係藉由照射可視光、紫外光 等之光,而使樹脂之溶解性、黏度、透明度、折射率、 導電度、離子透過性等之物性變化。該感光性樹脂組成 -28- 201213358 物之十’光阻組成物(光阻組成物、濾色片用彩色光阻組 成物寺)必須有咼度的均染性。通常,在有關半導體戍液 晶的光微影法中,一般係將光阻組成物以旋轉塗布塗布 於經蒸鍵矽晶圓或各種金屬的玻璃基板上,使厚度變成 1至2μιη左右。此時,塗布膜厚之溢流(run_〇ut)會產生 半導體或液晶元件品質降低或缺陷,但藉由使用本發明 之氟系界面活性劑作為該感光性樹脂組成物之添加劑, 因其高均染性’而可形成均勻的塗膜,故可提高半導體 、液晶元件之生產性,可為高功能化等。 通常,光阻組成物係包含界面活性劑與光阻劑,該 光阻劑包含(1)鹼可溶性樹脂、(2)放射線感應性物質(感 光性物質)、(3)溶劑、又可依照需要(4)其他之添加劑。 本發明之光阻組成物所使用之(1)鹼可溶性樹脂方 面’可例舉相對於光阻圖案化時使用之顯影液的鹼性溶 液為可溶的樹脂。上述驗可溶性樹脂之例子方面,可例 舉:選自苯酚、甲酚、二曱笨酚、間苯二酚、氟甘胺醇、 氫酿·等之芳香族經化合物及該等之烧基取代或_素取代 芳香族化合物之至少一種;及曱醛、乙醛、笨甲醛等之 駿化合物縮合所得的酚醛樹脂、鄰乙烯苯酚、間乙烯苯 齡、對乙烯苯酚、α_甲基乙烯苯酚等之乙烯苯酚化合物 及該等ii素取代化合物之聚合物或共聚物、丙烯酸、甲 基丙烯酸 '(曱基)丙烯酸羥乙酯等之丙烯酸系或甲基丙 烯酸系聚合物或者共聚物、聚乙稀醇,進一步經由上述 各種樹脂之羥基一部分導入醌二疊氮基、萘醌二疊氮基 、芳香族疊氮基、芳香族肉桂醯基等之放射性線感應性 -29- 201213358 基的改性樹脂等。該等鹼可溶性樹脂可單獨使用,或併 用二種以上。 再者’驗可溶性樹脂方面,可使用分子中含綾g变或 磺酸等酸性基的胺基曱酸酯樹脂,又亦可將該胺基甲醆 酯樹脂與上述鹼可溶型樹脂併用。 本發明之光阻組成物所使用之(2)放射性感應性物 質(感光性物質)方面’只要是藉由與上述鹼可溶性樹脂 混合,並照射紫外線、遠紫外線、準分子雷射光、X線、 電子束、離子線、分子線、γ線等,而相對於鹼可溶性樹 脂之顯影液,使溶解性產生變化的物質即可使用。 上述放射線感應性物質方面,可例舉醌二疊氮系化 合物、重氮系化合物、二疊氮系化合物、鑌鹽化合物、 函化有機化合物、齒化有機化合物與有機金屬化合物之 滿合物、有機酸酯化合物、有機酸醯胺化合物、有機酸 醯亞胺化合物、又日本特開昭59-1 52號公報記載之聚( 烯烴颯)化合物等。 上述醌二疊氮系化合物方面,可例舉1,2-苯醌疊ι _ 4 -續酸醋、1,2_萘酿二叠氮_ 4 -續酸酯、1,2 -萘酿二疊氮 • 5- ί黃酸酿、2,1-萘酿二疊氮-續酸目旨、2,1-萘酿二疊氮 _5-橫酸醋、其他1,2_苯酿疊氮-4 -績酸班i、1,2 -萘職二叠 氮_4-橫酸氣、1,2 -萘酿^二疊氬續酸氣、2,1-萘g昆二叠 氣_4-橫酸氯、2,1-萘酿;二疊氮-5 -項酸氣等之酿二疊氮衍 生物之橫酸氯等。 上述重氮化合物方面’有對重氮二苯基胺與甲酸·或 乙醛之縮合物之鹽,叮例舉例如六氟填酸鹽、四氟硼酸 -30- 201213358 鹽、屬過氯酸鹽或過峨酸鹽及上述1®合物的反應性產物 的重氮樹脂無機鹽,如USP3,300,309號說明書記載之屬 上述縮合物與績酸類之反應產物的重氮樹脂有機鹽等。 上述疊氮化合物及二疊氮化合物方面,可例舉日本 特開昭 58_2〇3438 號公報記載之疊氮查_酸 (azidochalcone acid)、二疊氮苯亞曱基曱基環己酮類及 疊氮亞桂皮基苯乙酮類、日本化學會誌N〇12、
Pl 708- 17 14(1 983年)記載之芳香族疊氮化合物或芳香族 二疊氮化合物等。 上述鹵素化有機化合物方面,只要是有機化合物之 ώ素化物則可使用,但具體例方自,可例舉含 噚二 唑系化合物、含鹵素三啩系化人 人^ 化合物、含鹵素笨乙酮系化 合物、含齒素二苯基酮系化合 .t ± 物、含鹵素亞砜系化合物 、3鹵素石風系化合物、含鹵辛 …合物、㈣素三嗤系V:系化合物、含… (pyrone)系化合物、含鹵素脂:物、含鹵* 2-吡喃酮 香族烴系化合物、其他含鹵、煌系化合物、含函素芳 醯基函系化合物等之各種化 '入雜環狀化合物、苯基次磺 (2,3-二溴丙基)磷酸酯、參(2,3\物、,進一步亦可例舉參 氯四溴甲烷、六氣苯、六溴笨 ''溴-3 -氣丙基)磷酸酯、 苯、三溴苯基烯丙醚、四負 ,、溴裱十二烷、六溴聯 乙基醚)四溴雙酚A、雙(氯乙 A、四溴雙酚A、雙(溴 二溴丙基)異三聚氰酸酯、2 四氯雙酚A、參(2,3- 丙烷、2,2-雙(4-羥乙氧基_3,5一& (4_經基_3,5-二溴苯基) 為鹵素系難燃劑的化合物、使’臭苯基)丙烷等之使用作 等之有機氯系農藥的化合物等用作為二氯苯基三氣乙烷 • 31 . 201213358 酸酯等磺 上述有機酸醋方面,可例舉例如缓酸、。, , . 月欠 又,上述有機酸醯胺方面,可例舉例如羧0文 酸醯胺等。再者,上述有機酸醯亞胺方面,可例舉例如 緩酸醯亞胺、磺酸醯亞胺等。該等放射線感應性物質可 οα 早獨使用,亦可併用二種以上。 本發明之光阻組成物中,相對於100質量份驗可、六 樹脂,放射線感應性物質之調配比率較佳為i 份之範圍’更佳為3至50質量份之範圍。 100質量 本發明之光阻組成物所使用之(3)溶劑方面 例如丙酮、甲乙酮、環己酮、環戊酮、環,可例舉 、 酉同、) 、曱基異丁 、丁内酯等之酮類;曱醇、乙 < '庚西同 醇、 、異丙醇、正丁醇、異丁醇、四級丁醇、 辛醇、壬醇、癸醇等之醇類;乙二醇二曱轉、 乙喊、二氧六園等之醚類;乙二醇單甲麵、己一 戊醇、 庚醇、 醇二 乙二醇單丙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單醇單乙 二醇單丙醚等之醇醚類;甲酸乙酯、甲峻内妒己喊、丙 知、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酿、乙酸 甲賤丁 ψ 久丙蝠、 甲蜡、丙酸乙酯、丙酸丙酯、丙酸丁酯、卞… 丙峻 酸乙 s旨、丁酸丁酯、丁酸丙酯、乳酸乙輻 之崎類;2-羥基丙酸甲酯、2_羥基丙酸乙唣、 丙略、2 -經基丙酸丁酯、2 _甲氧基丙酸甲醋 酉久乙酯、2-曱氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙 β甲^、 、钆賤 峻 丁唣等 2,基巧釀 、2'甲氣 酯類;赛珞蘇乙酸酯、曱基赛珞蘇乙駿崎、 鞛等 珞蘇乙酸酯、丙基賽珞蘇乙酸酯、丁基赛 之赛路蘇酯類;丙二醇、丙二醇單甲醚、 之單 乙基赛 賤唣等 醇單 甲麵 -32- 201213358 乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸酯等 之丙二醇類;二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙 二醇二甲醚、二乙二醇二乙ϋ、二乙二醇曱乙ϋ等之二 乙二醇類;三氯乙烯、氟碳溶劑、HCFC、HFC等之鹵化 烴類;全氟辛烷般的完全氟化溶劑類、曱苯、二曱苯等 之芳香族類;二曱基乙醯胺、二曱基甲醯胺、Ν-甲基乙 醯胺、Ν-甲基吡咯酮等之極性溶劑等之記載於書籍「溶 劑口袋書」(有機合成化學協會編、0 h m s h a公司)之溶劑 。該等溶劑可單獨使用,亦可併用二種以上。 本發明之光阻組成物的塗布方法方面,可例舉旋轉 塗布、輥塗布、浸潰塗布、喷灑塗布、刀塗布、縫隙塗 布、簾塗布、凹版印刷塗布等之方法,可在塗布前以過 濾器過濾光阻組成物,去除固形之雜質。 如上述,本發明之氟系界面活性劑可有效作為塗布 組成物(塗料用組成物、感光性樹脂組成物等)之添加劑 。本發明之氟系界面活性劑的應用例方面,可例舉液晶 顯示器(以下簡稱「LCD」)、電漿顯示器(以下簡稱「PDP 」)、有機EL顯示器(以下簡稱「OELD」)等之各種顯示 器畫面用硬塗覆材、防眩(AG :防眩)塗覆材或抗反射(LR) 塗覆材;用以形成LCD等之濾色片(以下簡稱「CF」)之 RGB之各像素的彩色光阻、喷墨墨水、印刷油墨或塗料 :用以形成LCD等之CF的黑色矩陣之黑色光阻、喷墨 墨水、印刷油墨或塗料;保護LCD等之CF所使用之CF 表面的透明保護膜用塗料;OELD等之像素隔壁用樹脂 組成物;半導體製造所使用之光阻;CD、DVD、藍光光 -33- 201213358 碟等之光學記錄介質用硬塗覆材’·㈣電話外殼用 或硬塗覆材;行動電話之畫面用臂塗覆 ' ' 土復材,欣入模 、簡用轉印薄膜用硬塗覆材;家電外殼等之各種塑膠 f形品用塗料或塗覆材化妝板等之各種建材用印刷油墨 或塗料,住宅之窗戶玻璃用塗覆材; 料;人工•合成皮革用塗覆材; 、、 工用。 材;平版印刷版(ps版)用感光 4用塗料或塗覆 嗔墨油墨;其他編刻加版印刷用油墨、 oo 上(photofabrication)步驟等 之早層或者多層塗布組成铷每 成物專。藉由在該等塗布組成物 ::加本發明之敗系界面活性劑,則可顯現出針孔、橘 反狀(orange peel)、塗布不白 優異平滑性。 、小凹洞(⑽mg)等均無之 於 纟發Θ1系界兩活性劑’若調配於含氟樹 塗布材中’則因聚(全罐曙之作用, 而可提尚該氟樹脂之分散 Λ翁 # ’不僅均染性,亦可期待作 马鼠祕脂之分散劑的功能。 [實施例] 。又以:例舉實施例及比較例,進-步詳細說明本發明 分子曰(M述實施例中,重量平均分子量(Mw)及數量平均 咖,,係在下述條件下以GPC測定而求得。 APC測定條件] 、'裝置·東曹股份有限公司製「hlc-8220 GPC」 (東曹月又份有限公司製保護管柱「HHR-H」 (.〇mmI.D.x4cm) -34- 201213358 +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7.8mmI.D.x3〇cm) +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7.8mmI.D.x3〇cm) +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7.8mmI.D.x3〇cm) +東曹股份有限公司製「TSK-GEL GMHHR-N」 (7.8mmI.D.x30cm) 檢測器:ELSD(Ortec 製「ELSD2000」) 數據處理··東曹股份有限公司製「GPC-8020模型II 數據解析版本4.30」 測定條件:管柱溫度 4CTC 展開溶劑 四氫呋喃(THF) 流速 1.0ml/分 試料:以換算樹脂固體成分,將1 .〇質量%之四氫呋 喃溶液以微過濾器過濾之物(5 μ1)。 標準試料:依照該「GPC-8020模型II數據解析版 本4.30」之測定手冊,使用分子量已知的下述單分散聚 苯乙烯。 (單分散聚苯乙烯) 東曹股份有限公司製「Α-500」 東曹股份有限公司製「Α-1000」 東曹股份有限公司製「Α-2500」 東曹股份有限公司製「Α-5000」 東曹股份有限公司製「F-1」 -35- 201213358 東曹股份有限公司製「F-2」 東曹股份有限公司製「F-4」 東曹股份有限公司製「F-1 〇 ^ 東曹股份有限公司製「F-2(^ 東曹股份有限公司製「F-4〇 ^ 東曹股份有限公司製「F-8〇 ^ 東曹股份有限公司製「F-l28 東曹股份有限公司製「F-288 東曹股份有限公司製「F-55〇 (合成例1) 在具備擾拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裂置的玻 璃燒瓶中,裝入下述式(a2·1·1)所示兩末端具有經基的 20質量份全默聚鱗化合物、作為溶劑之2〇質量份二異 丙醚、作為聚合抑制㈣0.02質量份對甲氧基笨酚及作 為中和劑# f量份三乙胺,在空氣氣流下開始授摔 ,一面將燒瓶内保持於抓,-面以i小時的時間滴 2.7質量份丙稀酸氣…滴下完成後,在i〇t:下搜拌i】 時,予以升溫’並3(rc下檀#1小時後,藉由升溫至;: C,並攪拌10小時,而進行反庫 4丁久應’以虱體層析術測宏 確認丙烯酸氣之消失。接荽,、έ 4仏上 又’ 接者追加作為溶劑的40質 二異丙醚後,混合8〇 h 要^ , . v 貝切離子又換水,並攪拌之後% 置’使水層分離並去除的方、本糾從^ 月?· ι云除的方法所致洗淨予以重複二^ 接著’藉由添加作為聚合抑顯〇 ;:。 苯酚、作為脫水劑的8質旦 貝里伤對甲氣基 γ別的8貝里份硫酸鎂, 完全脫水後,濾出脫水劑。 靜置 而予 -36- 201213358 HO—CH24-X—0-)-X—CH2—OH (32-1-1) (式中,X為全氟亞甲基及全氟伸乙基,每1分子存 在的全氟亞曱基平均7個、全氟伸乙基平均8個,氟原 子之數目平均46個。又,GPC之數量平均分子量為1,500) 〇 接著,藉由在減壓下餾除溶劑,獲得下述式(A-1 -1) 所示之聚(全氟伸烷醚)鏈與其兩末端具有丙烯醯基的聚 合性單體。 Ο 〇Η-〇Η-ί1-〇-〇Η24χ \ II _ —Οτ"Χ—CH2—Ο一C一CH—CH2 (A-1-1) (式中,x為全氟亞曱基及全氟伸乙基,每i分子存 在的全氟亞甲基平均7個、全氟伸乙基平均8個,氟原 子之數目平均46個)。 (合成例2) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中,裝入下述式(ΒΓ-1)所示之環氧乙烷與環氧丙 烷之3 0質量份嵌段共聚物、2.8質量份丙烯酸、作為溶 劑的64質量份甲苯、作為聚合抑制劑的0.03質量份啡 ^^(Phenothiazine)及作為觸媒的0.6質量份曱烧石黃酸, 在空氣氣流下開始攪拌,加熱至120°C,進行回流脫水 。確認0.6 3質量份之脫水後,冷卻至6 5 °C,並以三乙胺 中和。中和後,升溫至8 5 °C,添加離子交換水2.3質量 份,進行分液、下層萃取。測定下層的pH,重複實施洗 淨操作至pH成為7以上止。冷卻至30°C後,以甲苯稀 -37- 201213358 釋’獲得含下述式(Bl-i)袖-今职人t ^ )所不之聚合性單辦e 曱苯溶液。 暇55質量%的
HO-fc2H40^-fc3H60^C2H4〇^_H Ο CH2 丁“如4〇tiC办妙气Η (實施例1) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管 璃燒槪中,裝入作為溶_ 297.5 f量份滴下裝置的玻 在氮氣流下一面攪拌,—面升溫至1〇5^甲基異丁酮, 成例1所得之59·5質量份聚合性單體;將。接著’將合 丙二醇單甲基丙稀酸M日油股份有限公、=質量份聚 ΡΙΜ000」,氧化丙烯單位之重複數:平均製「Bremmer 質量份甲基異丁酮的單體溶液;及 )容解於154.4 發劑的44.6 f量份三級丁基過氧乙義自由基聚合引 10“質量份甲基異丁酮的聚合引發、:己酸略溶解於 液各自設置於滴下敦置上,-面將燒;瓦Π;三種滴下 ’:面經2小時的時間滴下。滴下完成後,:1〇;= 授拌1 G小時後,II由減壓下餾除溶劑,獲得為 活性劑的氟系共聚物⑴。將該氟系共聚物(1)之分;丄 GPC(換算聚苯乙稀分子量)測定的結果,數量平均分= 為2,5 00、重里平均分子量為。又使 體中的氟含有率為U質量%。 枓早 38- 201213358 (實施例2) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中’裝入作為溶劑的U 2.4質量份甲基異丁酮, 在虱氣流下—面攪拌,一面升溫至105。(:。接著,將合 成例1所得之5 9.5質量份聚合性單體;將2 3 8質量份聚 丙一醇單甲基丙稀酸酯(日油股份有限公司製「Bremmer Γ量1Γ二氧化丙烯單位之重複數:平均6)溶解於i67·5 貝2:切f基異丁酮的單體溶液,·及將作為 發劑的44.6質量份三級丁基過氧_2•乙 7併旦X ^ ®欠醋溶解於 • /貝里伤f基異丁胴的聚合引發劑溶液之三種滴 各自設置於滴下裝置上,一面將燒瓶内保持於液 :面經2小時的時間滴下。滴下完成後,在i 〇5它下攪 拌10小時後,藉由在減壓下餾除溶劑,而獲得氟系界 活性劑的氟系共聚物(2)。該氟系共聚物(2)之分^量以 GPC(換算聚苯乙烯分子量)測定的結果,數量平八旦 為3,〇〇〇,重量平均分子量為丨 的2里 體中氣含有率為U質量%。 又使用的原料單 (實施例3) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、 ^ . - λ .. . ^ 胃下裝置的玻 璃燒瓶中,裝入作為溶劑的1〇〇 3質量份甲基異 在氣氣流下一面擾掉,-面升溫i 1。5。(:。接著,“ 成例1所得之2〇質量份聚合性單體;混合合成例二: 之145.5質量份聚合性單體溶液 j Z所侍 狀、作為早體之8〇皙旦、 的單體溶液;及將屬自由基聚人引 、里刀) 丁基過氧-2-乙基己酸醋溶解於 知二級 貝置f刀f基異丁酮的 -39- 201213358 聚合引發劑溶液之三種滴下液各自設置於滴下裝置上, 一面將燒瓶内保持於1051,一面經2小時的時間滴下 。滴下完成後,在1 〇5。(:下攪拌10小時後,藉由在減壓 下鶴除溶劑,而獲得屬氟系界面活性劑的氟系共聚物(3) 。該氟系共聚物(3)之分子量以GPC(換算聚苯乙烯分子 量)測定,結果數量平均分子量為5,5 0 〇、重量平均分子 量為25,000。又,使用的原料單體中氟含有率為u質量 (實施例4) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的破 璃燒瓶中’裝入作為溶劑的143.4質量份甲基異丁 _, 在氮氣流下,一面攪拌一面升溫至105t。接著,將合 成例1所得之6 8 .1質量份聚合性單體;將5 7 · 9質量份聚 丙二醇單甲基丙烯酸酯(日油股份有限公司製「Bremmer Pp-iooo」、氧化丙烯單位之重複數:平均6)溶解於68 5 質量份曱基異丁酮的單體溶液;及將作為自由基聚合引 發劑的1 8.9質量份三級丁基過氧_2_乙基己酸酯溶解於 2 1 · 9質量份曱基異丁酮的聚合引發劑溶液之三種滴下液 各自設置於滴下裝置上,一面將燒瓶内保持於1〇5^, :面經2小時的時間滴下。滴下完成後,在i 〇5它下攪 拌1 0小時後,藉由在減壓下餾除溶劑,而獲得氟系界面 活性劑的氟系共聚物(4)。該氟系共聚物(4)之分子量以 GPC(換算聚苯乙烯分子量)測定,結果數量平均分子量為 ,600重里平均分子罝為7,〇〇〇。\,使用的原料單體 中氟含有率為30質量%。 -40- 201213358 (實施例5) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、 , 滴下裝置的玻 璃燒瓶中’裝入作為溶劑的1 4 1.3質量份田 w f i異丁酮,
一面於氮氣流下攪拌,一面升溫至丨〇5V L。接著,將合 成例1所得之68.5質量份聚合性單體;將 π Μ. 4質量份聚 乙二醇單曱基丙烯酸酯(日油股份有限公 J 表 ΰremmer PE-350」’氧化乙料位之重複數:平均8)溶解於μ 質量份甲基異丁酮的單體溶液;及將作為自由基聚合引 發劑的1 9質量份三級丁基過氧_2_乙基己 口 土已酸·酯溶解於22 質量份甲基異丁酮的聚合引發劑溶液之二 一檀肩下液各自 設置於滴下裝置上,一面將燒瓶内保持於i 〇5艺,一面 經2小時的時間滴下。滴下完成後,在1〇5它下攪拌μ 小時後,藉由在減壓下餾除溶劑,而獲得氟系界面活性 劑的氟系共聚物(5)。該氟系共聚物(5)之分子量以Gpc( 換算聚苯乙烯分子量)測定,結果數量平均分子量為 1,800,重量平均分子量為2〇,5〇〇。又’使用的原料單體 中氟含有率為30質量%。 (實施例6) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中,裝入作為溶劑的丨48 _3質量份甲基異丁酮, 一面於氮氣流下攪拌,一面升溫至105 °c。接著,將合 成例1所得之70質量份聚合性單體;將59 6質量份聚 乙二醇單甲基丙烯酸酯(日油股份有限公司製「Bremmer PE-200」,氧化乙烯單位之重複數:平均4 5)溶解於 質量份甲基異丁酮的單體溶液;及將作為自由基聚合引 -41 - 201213358 發劑:」9:4 f量份三級丁基過氧_2_乙基己酸醋溶解於 21.3負夏份甲基異丁酮的聚合引發劑溶 各自設置於滴下農置上,一面將燒瓶内保持;液 一面經2小時的時間滴下。滴下完成後,在1G5t下攪 拌!〇小時後’藉由在減壓下餾除溶劑, 活性劑的氣系共聚物⑹。該氣系共 := GPC(換算聚苯乙稀分子量)測定,結果數 1800’重量平均分子量為115〇〇。 ::為 中氟含有率為3。質量%。 吏用的原料早體 (實施例7) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中,褒入作為溶劑的152.7質量份甲基里=玻 -面於氮氣流下授拌,—面升溫至1Q5t。接著 成例!所得之70質量份聚合性單體;將質量份二 二一二早甲,基丙稀酸醋(曰油股份有限公司製「B-_r 曰、」’氧化丙稀單位之重複數:平均i3)溶解於Μ.5 質罝伤甲基異丁 _的單體溶液;及將作為 =的…量份三級丁基過…基己酸醋溶解: •、里伤甲基異丁酮的聚合引發劑溶液之三種滴下液 各自設置於滴下裳置上’ -面將燒瓶内保持於1〇rc, 一面經2小時的時間滴下。滴下完成後,在1〇rc下搜 拌1〇小時後,藉由在減壓下館除溶劑,而獲得屬氣系界 面活性劑的氟系共聚物⑺。該敗系共聚物之 GPC(換算聚苯乙烯分子量)測定,結果數量平均分 2,綱’重量平均分子量為4,2〇〇…使用的原料單體 中氟含有率為30質量%。 -42- 201213358 (實施例8) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中,裝入作為溶劑的146 6質量份曱基異丁酮, 一面於氮氣流下攪拌,一面升溫至1 〇 5 °c。接著,將合 成例1所得之6 9 · 9質量份聚合性單體;將4 5.9質量份甲 氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限 么司‘ NK西曰M-230G」、氧化丙稀單位之重複數:平 均23) ’與1 3 _7質量份丙烯酸二環戊酯(日立化成股份有 限公司製「Fancryl FA-513A」)溶解於72.2質量份甲基 異丁酮的單體溶液;及將作為自由基聚合引發劑的丨9 4 質笙伤二級丁基過氡-2-乙基己酸酯溶解於2ΐ·6質量份 曱基異丁酮的聚合引發劑溶液之三種滴下液各自設置於 滴下裝置上’ 一面將燒瓶内保持於l〇5t,一面經2小 時的時間滴下。滴下完成後,在1〇5t:下攪拌1〇小時後 ,藉由在減壓下餾除溶劑,而獲得屬氟系界面活性劑的 氟系共聚物(8)。該氟系共聚物(8)之分子量以Gpc(換算 聚苯乙烯分子1 )測定,結果數量平均分子量為3,3〇〇, 重量平均分子1為8,800。又,使用的原料單體中氟含有 率為3 0質量%。 (比較例1) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中,裝入作為溶劑的134質量份曱基異丁酮,在 氮氣流下一面攪拌’一面升溫至11(rc。接著,將3〇 2 質量份丙烯酸全氟辛基乙酯(以下簡稱「PFOEa」)與7〇 4 質量份聚丙二醇單曱基丙烯酸酯(曰油股份有限公司製 -43- 201213358
Bremmer PP- 1000」,氧化丙烯單位之重複數:平均 6)溶解於50.3質量份甲基異丁酮的單體溶液;及將作為 自由基聚合引發劑的7.5質量份三級丁棊過氧-2-乙基己 酸酿溶解於50.3質量份甲基異丁酮的聚合引發劑溶液之 一種滴下液各自設置於滴下裝置上,一面將燒瓶内保持 1 1 0 C ’ 一面經2小時的時間滴下。滴下完成後,在u 〇 C下授拌1 0小時,獲得氟系共聚物(9)。該氟系共聚物(9) 之分子量以GPC(換算聚苯乙烯分子量)測定’結果數量 平均分子量為2,400 ’重量平均分子量為4,〇〇〇。又,使 用的原料單體中氟含有率為19質量%β (比較例2) 在具備攪拌裝置、溫度計、冷卻管、滴下裝置的玻 璃燒瓶中’裝入作為溶劑的126 3質量份甲基異丁_, 一面於氮氣流下攪拌’—面升溫至1 1 〇。〇。接著,將5 〇 5 質量份PFOEA及50.5質量份聚丙二醇單曱基丙烯酸酯( 曰油股份有限公司製r Bremmer ΡΡ-1000」,氧化丙稀單 位之重複數:平均6)溶解於12.6質量份甲基異丁酮的單 體溶液;及將作為自由基聚合引發劑的5.丨質量份三級 丁基過氧-2-乙基己酸酯溶解於12.6質量份曱基異丁酮 的聚合引發劑溶液之二種滴下液各自設置於滴下裝置上 ,一面將燒瓶内保持於1 10 °C,一面經2小時的時間滴 下。滴下完成後’在n 〇 °c下攪拌1 0小時’獲得氟系共 聚物(10)。將該氟系共聚物(10)之分子量以GPC(換算聚 苯乙烯分子量)測定,結果數量平均分子量為3,50〇,重 1平均分子量為6,5〇〇。又,使用的原料單體中氟含有率 為3 1質量% 。 -44- 201213358 有關上述實施例1至8及比較例1、2所得之氟系共 聚物(1)至(10)之原料的聚合性單體之種類、原料中氟含 有率、數量平均分子量(Μη)、重量平均分子量(Mw)及生 物體積蓄安全性,均匯總於表1。此外,生物體積蓄安 全性係以下述的判斷基準進行評價。 [生物體積蓄安全性之評價] 以下列判斷基準,評價各氟系界面活性劑之生物體 積蓄安全性。 Y:不含碳原子數8以上之全氟烷基,蓄積於生物 體的可能性低,安全性高。 N:含有碳原子數8以上之全氟烷基,蓄積於生物 體的可能性高,安全性低。 [表1]
實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 實施例7 實施例8 比較例1 比較例2 氟系共聚物 (氟系界面活 性劑)的種類 (1) (2) (3) (4) (5) ⑹ ⑺ ⑻ ⑼ (10) 氟系聚合性單 體種類 PFPE PFPE PFPE PFPE PFPE PFPE PFPE PFPE PFOHA PFOEA 具有氧伸烷基 的聚合性單體 種類 PO (n=6) PO (n=6) HO/PO/EO (n=l 1/22/1 1) PO (n=6) EO (n=8) EO (n=4.5) PO (n=13) PO (n=23) PO (n=6) PO (n=6) 氟系共聚物之 原料中氟含有 率(質量%) Π 11 11 30 30 30 30 30 19 31 數量平均分子 量(Μη) 2500 3000 5500 2600 1800 1800 2200 3300 2400 3500 重量平均分子 量(Mw) 6000 12000 25000 7000 20500 11500 4200 8800 4000 6500 生物體蓄積安 全性 Υ Y Y Y Y Y Y Y N N 此外,表1中的「PFPE」表示合成例1所得之(全氟 伸烷醚)鏈與其兩末端具有丙烯醯基的聚合性單體。又, 有關具有氧伸烷基的聚合性單體之種類,則僅記載氧伸 烷基的部分,「PO」表示氧化丙烯基、「EO」表示氧化 乙烯基,括號内表示其重複數(平均)。 -45 - 201213358 (實施例4至6及比較例3至5) 將上述眚& , J 至8及比較例1、2所得之氟系丘聚 物(1)至(1〇)作A盖 氟系八在 馬軋系界面活性劑使用,進行下述的測定 及坪彳貝。 [靜‘%表面張力之測定] 使用自動平衡#電子表面張力言十(協矛口科學股份有 限公司製「ESB-IV型」),相對於在光阻組成物中一般 所使用之屬溶劑的丙二醇單甲醚乙酸酯(以下簡稱「 P、GMEA」),來調製溶液’以使氟系界面活性劑的固體成 分成為(M質量% ’有關其溶液則以抑下使用鉑板的 威爾米(Wilhelmy)法測定靜態表面張力。此外,僅用 PGMEA之靜態表面張力為6mN/m2(參考例)。 [評價用塗料組成物之基質組成物之調製] 在紫外線硬化型塗料組成物方面,係將5官能無變 兴歪50質量伤胺基曱酸酯丙烯酸酯、5〇質量份六丙烯 酸二新戊四醇醋、25質量份乙酸丁酿、5質量份光聚合 引發劑(曰本BASF股份有限公司製「Irgacure 184」;卜 羥基環己基苯基酮)、作為溶劑的54質量份曱苯、28質 量份2-丙醇、28質量份乙酸乙酯及28質量份丙二醇單 曱醚予以均勻混合,獲得評價用塗料組成物的基質組成 物0 [評價用塗料組成物之調製] 在上述所得的268質量份基質組成物中,個別添加 屬實施例1至3及比較例1、2所得之氟系共聚物(1)至 的五種氟系界面活性劑各丨質量份’並予以均勻混合後 -46- 201213358 ’以0·1μηι之聚四氟乙烯(PTFE)製過濾器進行精密過據 獲得s平價用塗料組成物。又,甚麼都不添加,僅準備 基資組成物一種,作為比較例5。 [塗布性之評價] 將上述所得的評價用塗料組成物,以旋轉速率 500rpm $疋轉塗布於i〇crnxl〇cm之鉻處理玻璃基板上後 ’以60。(:加熱乾燥5分鐘,獲得具有塗膜的玻璃基板。 就所得的塗膜表面’藉由使用鈉燈的目視觀察’而塗布 ί1生#價係以下列基準評價塗膜表面有無發生凹凸(塗布 不勻)。 (塗布性:塗布不勻) ΑΑ:無觀察到塗布不勻。 Α :觀察到稍微的塗布不勻(呈塗布不勻的面積小於 全體之10%)。 B:觀察到一部分塗布不句(呈塗布不勻的面積為全 體之1 0%以上小於3 0%)。 C:觀察到許多塗布不勻(呈塗布不勻的面積為全體 之3 0 %以上)。 上述所得的測定及評價結果如表2所示 [表2]
-47- 201213358 由表2所示之實施例4至1 1的結果玎知’將本發明 之實施例1至8的氟系界面活性劑以〇. 1質量%之濃度添 加於為溶劑的PGM EA中的溶液,其靜態表面張力為18.8 至22.8mN/m2,單獨 PGMEA之靜態表面張力從 27.6mN/m2大幅降低,而均染性提高。又’可知使用到 本發明之實施例1至3之氟系界面活性劑的光阻組成物 ’其塗布性良好,且亦可抑制塗布不勻的發生。 一方面’比較例1之氟系界面活性劑,係將具有碳 原子數8之全氟烷基的單體作為原料的例子。該氟系界 面活性劑因具有碳原子數8的全氟烷基,故會有蓄積於 生物體的可能性高,安全性低的問題。又,可知儘管氟 含有率為1 9質量%時,相較於使用本發明之氟含有率為 1 1質量%之氟系共聚物(1)至之物(實施例4至6)更高 ’但靜態表面張力的降低量為低。 比較例2之氟系界面活性劑,係將具有碳原子數8 之全氣院基的單體作為原料,使氟含有率設在3 1質量% 的例子。該氟系界面活性劑因具有碳原子數8的全氟烷 基’故蓄積於生物體的可能性高,有安全性低的問題。 又’可知相較於使用為相同程度之氟含有率之本發明的 氣系共聚物(4)至(8)之物(實施例7至1 1),靜態表面張力 降低小,有產生塗布不勻的問題。 可知比較例3是不用氟系界面活性劑之例子,但均 柒丨生低,產生嚴重的塗布不勻。 -48 - 201213358 【圖式簡單說明】 第1圖係以實施例1合成之氟系共聚物(1)的GPC圖 表。 第2圖係以實施例2製造之氟系共聚物(2)的GPC圖 表。 【主要元件符號說明】 無0 -49-
Claims (1)
- 201213358 七、申請專利範圍: 1 · 一種氟系界面活性劑,其特徵係將作為必須單體的聚 (全氟伸烷醚)鏈與其兩末端具有聚合性不飽和基的聚 合性單體(A);及具有氧伸烷基及聚合性不飽和基的聚 合性單體(B)予以共聚的共聚物。 2.如申請專利範圍第1項之氟系界面活性劑,其中該聚 合性單體(B)為下述通式(B1)所示之聚合性單體, Ο (Z0)rR2 (B1) ch2—c—c一〇—(·χ〇·)—(ύ〇")~ R1 (式中,R1為氫原子或曱基;X、Y及Z為各自獨 立之伸烷基;p、q及r各自為0或1以上之整數;且 p、q及r之合計為1以上之整數;R2為氫原子或碳原 子數1至6之烷基)。 3. —種塗布組成物,其為含有如申請專利範圍第1或2 項之氟系界面活性劑。 4. 一種光阻組成物,其含有如申請專利範圍第1或2項 之氟系界面活性劑。 -50-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010151983 | 2010-07-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201213358A true TW201213358A (en) | 2012-04-01 |
TWI492957B TWI492957B (zh) | 2015-07-21 |
Family
ID=45402068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100123251A TWI492957B (zh) | 2010-07-02 | 2011-07-01 | 氟系界面活性劑、使用其之塗布組成物及光阻組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130172476A1 (zh) |
EP (1) | EP2589636A4 (zh) |
JP (1) | JP4973966B2 (zh) |
KR (2) | KR20130119853A (zh) |
CN (1) | CN102971391B (zh) |
TW (1) | TWI492957B (zh) |
WO (1) | WO2012002361A1 (zh) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013127611A (ja) * | 2011-11-14 | 2013-06-27 | Dic Corp | カラーレジスト組成物、カラーフィルター、液晶表示装置および有機el表示装置 |
JP2013173837A (ja) * | 2012-02-24 | 2013-09-05 | Dic Corp | フッ素樹脂粒子の水分散体及びフッ素樹脂塗料 |
US11635688B2 (en) * | 2012-03-08 | 2023-04-25 | Kayaku Advanced Materials, Inc. | Photoimageable compositions and processes for fabrication of relief patterns on low surface energy substrates |
US8715904B2 (en) | 2012-04-27 | 2014-05-06 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable composition |
JP2014065865A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-17 | Dic Corp | 重合性樹脂、カラーフィルター画素形成用組成物、カラーフィルター、液晶表示装置及び有機el表示装置。 |
JP6011215B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-10-19 | 日立化成株式会社 | 半導体基板パッシベーション膜形成用組成物、パッシベーション膜付半導体基板及びその製造方法、並びに太陽電池素子 |
US9126889B2 (en) | 2013-09-04 | 2015-09-08 | Honeywell International Inc. | Fluorosurfactants having improved biodegradability |
EP3072911B1 (en) * | 2013-11-20 | 2019-09-11 | DIC Corporation | Polymerizable liquid crystal composition, and anisotropic optical body, phase difference film, antireflective film, and liquid crystal display element fabricated using composition |
JP6198058B2 (ja) * | 2013-12-19 | 2017-09-20 | Dic株式会社 | 界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物 |
CN103805004B (zh) * | 2014-03-10 | 2016-07-06 | 北京中为三丰科技有限责任公司 | 一种超长耐候、耐盐雾的防腐防锈氟碳涂料 |
JP5835535B1 (ja) * | 2014-03-26 | 2015-12-24 | Dic株式会社 | 手袋 |
US20170066208A1 (en) | 2015-09-08 | 2017-03-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
US10488753B2 (en) | 2015-09-08 | 2019-11-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate pretreatment and etch uniformity in nanoimprint lithography |
US10134588B2 (en) | 2016-03-31 | 2018-11-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint resist and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
US10620539B2 (en) | 2016-03-31 | 2020-04-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Curing substrate pretreatment compositions in nanoimprint lithography |
US10095106B2 (en) | 2016-03-31 | 2018-10-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Removing substrate pretreatment compositions in nanoimprint lithography |
CN105807563B (zh) * | 2016-05-16 | 2020-01-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光刻胶组合物及其制备方法和构图方法 |
US10509313B2 (en) | 2016-06-28 | 2019-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint resist with fluorinated photoinitiator and substrate pretreatment for reducing fill time in nanoimprint lithography |
WO2018070438A1 (ja) * | 2016-10-12 | 2018-04-19 | 日産化学工業株式会社 | 耐光性ハードコート材 |
US10317793B2 (en) | 2017-03-03 | 2019-06-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate pretreatment compositions for nanoimprint lithography |
CN107145037B (zh) * | 2017-07-07 | 2020-05-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种光刻胶组合物及制备方法 |
JP6908193B2 (ja) | 2018-06-27 | 2021-07-21 | Dic株式会社 | フッ素系共重合体、滑水性表面改質剤、硬化性樹脂組成物、及び滑水性塗膜 |
WO2022025175A1 (ja) * | 2020-07-30 | 2022-02-03 | 中国塗料株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、硬化被膜、および硬化被膜付き成形品 |
WO2022176885A1 (ja) * | 2021-02-17 | 2022-08-25 | セントラル硝子株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化物、含フッ素樹脂硬化膜及びディスプレイ |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL128965C (zh) | 1963-09-06 | |||
US4440918A (en) * | 1982-01-18 | 1984-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Contact lens containing a fluorinated telechelic polyether |
US4818801A (en) * | 1982-01-18 | 1989-04-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Ophthalmic device comprising a polymer of a telechelic perfluoropolyether |
JPS58203438A (ja) | 1982-05-24 | 1983-11-26 | Hitachi Ltd | 微細パタ−ン形成方法 |
JPS59152A (ja) | 1982-06-25 | 1984-01-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 画像形成性樹脂組成物 |
US4569962A (en) * | 1983-09-19 | 1986-02-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Perfluoropolyether compositions which are soluble in non-fluorinated solvents |
JP4055217B2 (ja) | 1997-02-18 | 2008-03-05 | 大日本インキ化学工業株式会社 | フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物 |
JP3963169B2 (ja) * | 2001-06-27 | 2007-08-22 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤組成物 |
JP4232632B2 (ja) * | 2001-10-03 | 2009-03-04 | ダイキン工業株式会社 | 新規な含フッ素重合体およびそれを用いたレジスト組成物ならびに新規な含フッ素単量体 |
JP4544996B2 (ja) * | 2002-08-22 | 2010-09-15 | Agcセイミケミカル株式会社 | フッ素系界面活性剤 |
GB2432836A (en) * | 2005-12-01 | 2007-06-06 | 3M Innovative Properties Co | Fluorinated surfactant |
JP5047570B2 (ja) * | 2005-12-13 | 2012-10-10 | Agcセイミケミカル株式会社 | 界面活性剤および表面張力低下方法 |
JPWO2007069593A1 (ja) * | 2005-12-16 | 2009-05-21 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用隔壁の製造方法、カラーフィルタ用隔壁付基板、表示素子用カラーフィルタ、及び表示装置 |
JP5024591B2 (ja) * | 2006-03-29 | 2012-09-12 | Dic株式会社 | コーティング組成物 |
US20080000373A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Maria Petrucci-Samija | Printing form precursor and process for preparing a stamp from the precursor |
KR101176081B1 (ko) * | 2008-04-30 | 2012-08-23 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 활성 에너지선 경화형 도료 조성물, 그 경화물, 및 신규 경화성 수지 |
CN102378794A (zh) * | 2009-03-31 | 2012-03-14 | Dic株式会社 | 有机半导体墨组合物和使用其的有机半导体图案形成方法 |
WO2011122391A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Dic株式会社 | 含フッ素硬化性樹脂及びそれを用いた活性エネルギー線硬化性組成物 |
-
2011
- 2011-06-28 EP EP11800825.9A patent/EP2589636A4/en not_active Withdrawn
- 2011-06-28 KR KR1020127034030A patent/KR20130119853A/ko active Application Filing
- 2011-06-28 KR KR1020177033364A patent/KR102050884B1/ko active IP Right Grant
- 2011-06-28 JP JP2011544527A patent/JP4973966B2/ja active Active
- 2011-06-28 CN CN201180033318.4A patent/CN102971391B/zh active Active
- 2011-06-28 WO PCT/JP2011/064755 patent/WO2012002361A1/ja active Application Filing
- 2011-06-28 US US13/807,477 patent/US20130172476A1/en not_active Abandoned
- 2011-07-01 TW TW100123251A patent/TWI492957B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102971391A (zh) | 2013-03-13 |
EP2589636A4 (en) | 2015-03-18 |
WO2012002361A1 (ja) | 2012-01-05 |
TWI492957B (zh) | 2015-07-21 |
JPWO2012002361A1 (ja) | 2013-08-22 |
JP4973966B2 (ja) | 2012-07-11 |
KR102050884B1 (ko) | 2019-12-02 |
KR20130119853A (ko) | 2013-11-01 |
EP2589636A1 (en) | 2013-05-08 |
KR20170129973A (ko) | 2017-11-27 |
US20130172476A1 (en) | 2013-07-04 |
CN102971391B (zh) | 2014-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW201213358A (en) | Fluoro-based surfactant, coating composition using the same and resist composition | |
TWI422656B (zh) | 活性能量線硬化型塗料組成物、其硬化物及新穎硬化性樹脂 | |
TW201141891A (en) | Fluorine-containing curable resin and active energy ray curable composition using the same | |
TWI464224B (zh) | A fluoropolymerizable polymer and an active energy ray hardening type composition using the same | |
TW201233690A (en) | Fluorine-containing polymerizable resin, active energy ray-curable composition using the same and cured product thereof | |
JP2013050712A (ja) | 感光性樹脂組成物、硬化物及びスペーサー | |
JP2016006149A (ja) | 表面処理組成物 | |
CN103502306B (zh) | 含氟固化性树脂、活性能量射线固化性组合物及其固化物 | |
TW200900475A (en) | Galvanized fingerprint resistant light-cured combination, galvanized fingerprint resistant film and optical display device | |
JP5737553B2 (ja) | フッ素系界面活性剤、それを用いたコーティング組成物及びレジスト組成物 | |
TW201441363A (zh) | 消泡劑、界面活性劑組成物、塗料組成物及光阻組成物 | |
JP4403355B2 (ja) | カラーレジスト組成物 | |
JP4055217B2 (ja) | フッ素系界面活性剤及びそれを使用した組成物 | |
TWI830749B (zh) | 活性能量線硬化性組成物、其硬化膜及抗反射薄膜 | |
TWI609042B (zh) | 聚合性樹脂、活性能量線硬化性組成物、物品及聚合性樹脂之製造方法 | |
TW201732426A (zh) | 螢光分析生物晶片用感光性組成物、螢光分析生物晶片之製造方法及螢光分析生物晶片 | |
JP2014108974A (ja) | 感光性組成物 | |
JP3753151B2 (ja) | コーティング用樹脂組成物 | |
JP2007327018A (ja) | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 | |
JP2000102727A5 (zh) | ||
JP6210295B2 (ja) | 界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物 | |
JP2016204463A (ja) | 表面処理組成物 | |
TW201408705A (zh) | 表面活性劑、塗料組成物和抗蝕劑組成物 | |
KR101099399B1 (ko) | 코팅용 수지 조성물 | |
JP2001269564A (ja) | フッ素系界面活性剤及びその組成物 |